JPH11131095A - 洗浄用組成物 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 プリント基板の銅等と接触した状態で加熱さ
れても、酸化劣化の少ない洗浄剤組成物の開発 【解決手段】 炭素数５〜２０の炭化水素及び炭素数５
〜２０の極性基を有する有機化合物を主成分とする有機
溶媒系洗浄剤に、フェノール系酸化防止剤と、アミン系
酸化防止剤及びリン系酸化防止剤から選ばれる１種以上
とを洗浄剤に添加する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、各種金属部品の脱
脂洗浄等に使用される洗浄剤組成物に関する。詳しく
は、電機、電子、機械、精密加工部品類に付着する工作
油、グリース、ワックス等の油類に対する脱脂、さらに
これら部品のハンダ付け後のフラックス及びフラックス
残渣の除去に使用される洗浄剤組成物に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来、工作油、グリース、ワックス等の
油類の脱脂洗浄剤は、非水系と水系に大別され非水系洗
浄剤としては１，１，１−トリクロロエタン、フロン１
１３、トリクロロエチレン、テトラクロロエチレン、メ
チレンクロライド等のハロゲン系溶剤、ガソリン、灯油
等の石油系溶剤、メチルアルコール、イソプロピルアル
コール等のアルコール系溶剤が用いられ、対して水系洗
浄剤は酸、アルカリ、界面活性剤等が配合されたものが
用いられてきた。また、電子機器、電気機器、機械部品
等のハンダ付けされた電気回路に用いられている、フラ
ックスやフラックス残渣も、回路の電気特性等の悪化や
腐食の問題があるため同様の脱脂洗浄剤が用いられてき
た。

【０００３】この洗浄剤としては、引火点がなく、化学
的にも変化し難い塩素系或いはフロン系の溶剤が使用さ
れてきた。しかし、これらはオゾン層破壊の原因物質で
あるため、今後は使用が制限されていくものである。こ
のため、塩素系或いはフロン系の溶剤に代る洗浄剤とし
て、これまで多くの水系又は溶媒系の洗浄剤が提案され
てきた。また、近年、環境汚染が少なくフラックス除去
性の高い洗浄剤として、リモネン、ピネン、ジペンテン
等のテルペン類を用いた例が、米国特許第４５１１４８
８号明細書、特表昭６３−５０１９０８号公報（米国特
許第４６４０７１９号明細書及び同第４７４０２４７号
明細書）等に提案されている。

【０００４】しかし、これらの洗浄剤は、低環境汚染
性、低劣化性、低腐食性、低引火性、低毒性及び高フラ
ックス除去性という、洗浄剤組成物に要求される条件を
十分満たすようなものではなかった。すなわち、塩素及
びフロン系の溶剤を用いる洗浄剤は、安全性、毒性、環
境汚染性等に大きな問題を有しており、水系洗浄剤は、
溶剤系洗浄剤に比較して危険性と毒性が低い点では好ま
しいが、錆の発生、乾燥滲み（ウォータマーク）の付
着、乾燥性の低下、排水処理等問題がある。炭化水素系
以外のものを主成分とする溶媒系洗浄剤は、フラックス
除去性に優れるものの、一般工作油に対する洗浄性が劣
り、毒性や使用時に劣化しやすく耐久性に乏しい等の問
題がある。また、リモネンに代表されるテルペン類は、
フラックス除去性に優れるものの、引火点が低い、使用
時に劣化しやすく耐久性に乏しい等の問題があるばかり
でなく、天然物由来のため安定品質のものが得難く、高
価でかつ供給量に限界がある。

【０００５】炭化水素系の洗浄剤を単独で使用した場合
は、環境汚染性が低いものの、フラックス除去性に問題
がある。このため、炭化水素溶剤にアルコール、エーテ
ル、ケトン等の極性物質を添加しフラックス除去性、部
品洗浄性を向上させた洗浄剤が特開平３−１４６５９７
号公報及び特表平７−５０３０３２号公報に提案されて
いる。さらに、特開平３−１４６５９７号公報明細書中
には、金属表面の腐食を防止する目的で、ベンゾトリア
ゾール等を添加できることが記載されている。

【０００６】このような洗浄剤は、コスト削減及び環境
への影響を軽減するため、通常、蒸留再生して繰り返し
使用する。しかし、この蒸留再生時や洗浄時に極性物質
が分解すると、洗浄剤が劣化したり爆発性の過酸化物が
生成することがある。これを防止するため、２，６−ジ
−ｔｅｒｔ−ブチル−ｐ−クレゾール（ＢＨＴ）等の酸
化防止剤を添加した例が、特開平７−２６８３９１号公
報に開示されている。また、極性物質よりも安定である
ものの、飽和脂肪族炭化水素も液の加熱や蒸留再生時に
酸化を受けることが知られており、この酸化を防止する
ためＢＨＴ等のフェノール系の酸化防止剤を添加した例
が、特開平６−２９３８９８号公報に開示されている。

【０００７】上記のようにＢＨＴなどのフェノール系酸
化防止剤を添加した洗浄剤は、酸化分解に対する安定性
が幾分改善される。しかし、銅などの金属と接触する条
件において高温状態に晒される条件では、酸化分解抑制
効果が不十分であることが明らかになった。銅などの金
属は、プリント配線板などに用いられており、洗浄剤と
直接接触する状態で使用される。このため、銅等の金属
と接触する状態で使用しても洗浄剤の酸化劣化の少ない
添加剤が求められていた。

【０００８】

【発明が解決しようとする課題】本発明は、炭化水素系
溶剤及び／又は極性物質からなる洗浄剤を金属と接触す
る状態で使用しても、長期に渡って酸化劣化を防止でき
る洗浄剤組成物を提供することを目的とする。

【０００９】

【課題を解決するための手段】上記の課題を解決するた
め、本発明者等が鋭意研究を行なった結果、アミン系酸
化防止剤及びリン系酸化防止剤から選ばれる１種以上
と、フェノール系酸化防止剤とを混合して用いることで
金属共存下で加熱されることによる有機溶媒の酸化劣化
を抑制できることを見出した。そして、かかる混合系
は、アミン系酸化防止剤及びリン系酸化防止剤から選ば
れる１種以上だけを添加する場合、また、フェノール系
酸化防止剤だけを添加する場合に比べて有機溶媒の酸化
劣化防止効果をより一層向上することができることを確
認した。すなわち、アミン系酸化防止剤及びリン系酸化
防止剤から選ばれる１種以上と、フェノール系酸化防止
剤とを混合して用いることで、金属存在下における溶剤
の酸化劣化防止が可能となる。

【００１０】本発明の洗浄剤組成物は、上記特定の添加
剤を含むことにより、金属と接触する状態で使用される
洗浄剤の酸化劣化を著しく低減させることが可能であ
り、特に銅を多用する電子部品、電気部品、機械部品等
を洗浄するための洗浄剤組成物として好適である。

【００１１】本発明で使用される有機溶媒系洗浄剤は、
市販の溶媒系ものが使用でき、特に制限はないが、環境
汚染の少ないものを選択するのが望ましい。炭化水素系
の洗浄剤で、このような目的に適合するものとしては、
炭素数が５〜２０、好ましくは炭素数７〜１６、特に好
ましくは炭素数９〜１５の飽和脂肪族炭化水素を挙げる
ことができる。飽和脂肪族炭化水素の中でも、ノルマル
パラフィンは純物質の入手が容易であること、生分解性
に優れることなどの長所を有しており、洗浄用溶剤とし
て適していると言える。炭素数が５未満のものは洗浄作
業中に火災や爆発の危険が大きく安全面で問題がある。
また２０を超えると、沸点が高いために蒸留再生に多く
のエネルギーを要するばかりでなく、蒸留再生時にフラ
ックス成分を多く回収してしまい、洗浄剤の性質が変化
する等の問題がある。

【００１２】また、炭化水素系溶媒のみを使用して、フ
ラックスが十分洗浄できないときは、炭素数が５〜２０
の極性基を有する有機化合物を添加して使用する。この
ような極性基を有する有機化合物としては、アルコー
ル、ケトン、エーテル、エステル等が挙げられる。これ
らは、炭素数が５〜２０のものであることが必要であ
る。炭素数が５以下のものは操業上火災や爆発の危険が
大きく安全面で問題がある。また２０を超えるとフラッ
クス除去性が低下し、さらに、沸点が高いために蒸留再
生に多くのエネルギーを要するばかりでなく、蒸留再生
時にフラックス成分を多く回収してしまい、洗浄剤の性
質が変化する等の問題がある。その中でも炭素数６〜１
７、特には炭素数７〜１５のものが好適に使用できる。

【００１３】極性基を有する有機化合物としてアルコー
ルを用いる場合は、アルコールの水酸基数が１又は２個
のものを選択する。水酸基数が３個以上になると、フラ
ックス除去性が不十分となるばかりでなく、炭化水素に
対する溶解性が低下するため好ましくない。アルコール
類の具体例としては、例えば２−エチル−１−ヘキサノ
ール、ヘキシルアルコール、１−オクタノール、２−オ
クタノール、ラウリルアルコール、オレイルアルコー
ル、Ｃ20のゲルベアルコール、２−シクロ−２−プロパ
ノール、１，２−ドデカンジオール、１，２−オクタデ
カンジオール等の天然あるいは合成アルコールが挙げら
れる。

【００１４】また、エーテル化合物としては、上記アル
コールの水酸基の水素原子を炭素数１〜４の炭化水素
基、例えばメチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−
プロピル基、ｎ−ブチル基、ｉ−ブチル基、ｔ−ブチル
基で置換したものであって、分子内の炭素数が５〜２０
のものが使用できる。これらは、例えば上記アルコール
類に対応するハロゲン化炭化水素を反応させることによ
って得られる。また、５員環以上の環状エーテルも使用
可能である。エーテル化合物としては水酸基を有する場
合は、アルコールと同様に水酸基が０〜２個のものを選
択することが好ましい。これらのエーテル化合物は、優
れたフラックス除去性を有する。これらの中でも、フラ
ックス除去性の点で、一端がメチル基或いはエチル基を
有するエーテルが好ましい。エーテル化合物の具体例と
しては、ジブチルエーテル、プロピレングリコールモノ
ブチルエーテル、１，２−ジエトキシエタン、ジエチレ
ングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコール
ジブチルエーテル、ジプロピレングリコールメチルエー
テル、アニソール、ジヘキシルエーテル等を挙げること
ができる。

【００１５】ケトン化合物としては、炭素数１〜４の炭
化水素基、例えばメチル基、エチル基、ｎ−プロピル
基、ｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｉ−ブチル基、ｔ
−ブチル基と、炭素数１〜１５の炭化水素基を有するも
のであって、分子内の炭素数が５〜２０のものが使用で
きる。これらは、対応する２級アルコールの酸化或いは
接触的脱水素反応で合成できる。ケトン化合物も、エー
テル化合物と同様に、優れたフラックス除去性を有す
る。これらの中でも、フラックス除去性の点で、一端が
メチル基或いはエチル基を有するものが好適に使用でき
る。

【００１６】同様に、エステル化合物も炭素数１〜４の
炭化水素基、例えばメチル基、エチル基、ｎ−プロピル
基、ｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｉ−ブチル基、ｔ
−ブチル基と、炭素数１〜１５の炭化水素基を有するも
のであって、分子内の炭素数が５〜２０のものが使用で
きる。これらは、酸とアルコールを直接反応させて合成
できる。エステル化合物も、エーテル化合物やケトン化
合物と同様に、優れたフラックス除去性を有する。これ
らの中でも、フラックス除去性の点で、一端がメチル基
或いはエチル基を有するものが好適に使用できる。エス
テル化合物の具体例としては、酢酸ブチル、酢酸イソペ
ンチル、酢酸３−メトキシブチル、プロピオン酸ブチ
ル、酪酸ブチル、イソ吉草酸イソペンチル、安息香酸メ
チル、マロン酸ジエチル、エチレングリコールモノアセ
テート等を挙げることができる。

【００１７】これらの極性基を有する有機化合物は、単
独又は２種以上を組合わせて配合することができる。そ
の配合量は、フラックス除去性が確保できる量であれば
よく、通常は、３〜５０％、好ましくは５〜３０％、よ
り好ましくは１０〜２５％程度である。

【００１８】本発明に使用されるフェノール系酸化防止
剤としては、たとえば２，６−ジ−ｔ−ブチルフェノー
ル、２−ｔ−ブチル−４−メトキシフェノール、２，４
−ジメチル−６−ｔ−ブチルフェノール、２，４−ジエ
チル−６−ｔ−ブチルフェノール、２，６−ジ−ｔ−ブ
チル−ｐ−クレゾール、２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−
エチルフェノール、２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒド
ロキシメチルフェノール、２，６−ジ−ｔ−ブチル−４
−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノメチル）フェノール、ｎ−
オクタデシル−β−（４’−ヒドロキシ３’，５−ジ―
ｔ−ブチルフェニル）プロピオネート、２，４−（ｎ−
オクチルチオ）−６−（４−ヒドロキシ３’，５’−ジ
−ｔ−ブチルアニリノ）−１，３，５−トリアジン、ス
チレン化フェノール、スチレン化クレゾール、トコフェ
ノール、２−ｔ−ブチル−６−（３’−ｔ−ブチル−
５’−メチル−２’−ヒドロキシベンジル）−４−メチ
ルフェニルアクリレート、２，２’−メチレンビス（４
−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、２，２’−メ
チレンビス（４−エチル−６−ｔ−ブチルフェノー
ル）、２，２’−メチレンビス（４−メチル−６−シク
ロヘキシルフェノール）、２，２’−ジヒドロキシ−
３，３’−ジ（α−メチルシクロヘキシル）−５，５’
−ジメチルジフェニルメタン、２，２’−エチリデン−
ビス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェノール）、２，２’
−ブチリデン−ビス（４−メチル−６−ｔ−ブチルフェ
ノール）、４，４’−メチレンビス（２，６−ジ−ｔ−
ブチルフェノール）、４，４’−ブチリデンビス（３−
メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、１，６−ヘキサ
ンジオールビス［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−
ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、トリエチレン
グリコール−ビス−３−（−ｔ−ブチル−４−ヒドロキ
シ−５−メチルフェニル）プロピオネート、Ｎ，Ｎ’−
ビス−［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキ
シフェニル）プロピオニル］ヒドラジン、Ｎ，Ｎ’−ヘ
キサメチレンビス−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒ
ドロキシ）ヒドロシンナミド、２，２’−チオビス（４
−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、４，４’−チ
オビス（３−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、
２，２−チオジエチレンビス−［３（３，５−ジ−ｔ−
ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、
ビス［２−ｔ−ブチル−４−メチル−６−（３−ｔ−ブ
チル−５−メチル−２−ヒドロキシベンジル）フェニ
ル］テレフタレート、１，１，３−トリス（２−メチル
−４−ヒドロキシ−５−ｔ−ブチルフェニル）ブタン、
１，３，５−トリメチル−２，４，６−トリス（３，５
−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）ベンゼ
ン、トリス（３，５−ジ−ｔ−４−ヒドロキシベンジ
ル）イソシアヌレート、１，３，５−トリス（４−ｔ−
ブチル−３−ヒドロキシ−２，６−ジメチルベンジル）
イソシアヌレート、テトラキス［メチレン−３−
（３’，５’−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニ
ル）プロピオネート］メタン、カルシウム（３，５−ジ
−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジルモノエチルホス
フォネート）、没食子酸プロピル、没食子酸オクチル、
没食子酸ラウリル、２，４，６−トリ−ｔ−ブチルフェ
ノール、２，５−ジ−ｔ−ブチルヒドロキノン、２，５
−ジ−ｔ−アミルヒドロキノン、１，１，３−トリス−
（２−メチル−４−ヒドロキシ−５−ｔ−ブチルフェニ
ル）ブタン、１，３，５−トリメチル−２，４，６−ト
リス−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベン
ジル）ベンゼン、３，９−ビス［２−｛３−（３−ｔ−
ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）プロピ
オニルオキシ｝−１，１−ジメチルエチル］−２，８，
１０−テトラオキサスピロ［５，５］ウンデカン等を挙
げることができ、これらの１種或いは２種以上が使用で
きる。フェノール系酸化防止剤の濃度は３〜１０００ｐ
ｐｍ、好ましくは５〜２００ｐｐｍ、より好ましくは１
０〜１００ｐｐｍである。３ｐｐｍを切ると効果が見ら
れなくなる場合があり、また１０００ｐｐｍを超えると
被洗浄部品の絶縁性能等が低下することがある。

【００１９】本発明に使用されるアミン系酸化防止剤と
しては、たとえばｐ，ｐ’−ジオクチルジフェニルアミ
ン、Ｎ−フェニル−Ｎ’−イソプロピル−ｐ−フェニレ
ンジアミン、ポリ２，２，４−トリメチル−１，２−ジ
ヒドロキノリン、６−エトキシ−２，２，４−トリメチ
ル−１，２−ジヒドロキノリン、チオジフェニルアミ
ン、４−アミノ−ｐ−ジフェニルアミン、等を挙げるこ
とができ、これらの１種或いは２種以上が使用できる。
アミン系酸化防止剤の濃度は３〜１０００ｐｐｍ、好ま
しくは５〜２００ｐｐｍ、より好ましくは１０〜１００
ｐｐｍである。３ｐｐｍを切ると効果が見られなくなる
場合があり、また１０００ｐｐｍを超えると被洗浄部品
の絶縁性能等が低下することがある。

【００２０】一方、本発明に使用されるリン系酸化防止
剤としては、ビス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）
ペンタエリスリトールジホスファイト、フェニルジイソ
デシルホスフィト、ジフェニルジイソオクチルホスファ
イト、ジフェニルジイソデシルホスファイト、トリフェ
ニルホスファイト、トリスノニルフェニルホスファイ
ト、トリス−ジ−ノニルフェニルホスファイト、トリス
−（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ホスファイト、
ジステアリル−ペンタエリスリトールジホスファイト、
ビス（ノニルフェニル）ペンタエリスリトールジホスフ
ァイト、４，４’−イソプロピリデンジフェノールアル
キルホスファイト、４，４’−ブチリデンビス（３−メ
チル−６−ｔ−ブチルフェニルジ−トリデシルホスファ
イト）、１，１，３−トリス（２−メチル−４−ジ−ト
リデシルホスファイト−５−ｔ−ブチルフェニル）ブタ
ン、テトラキス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）−
４，４’−ビスフェニレンジホスファイト、３，４，
５，６−ジベンゾ−１，２−オキサホスファン−２−オ
キシド、トリラウリルトリチオホスファイト、トリス
（イソデシル）フォスファイト、トリス（トリデシル）
フォスファイト、フェニルジ（トリデシル）フォスファ
イト、ジフェニルトリデシルフォスファイト、フェニル
−ビスフェノールＡペンタエリスリトールジフォスファ
イト、３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジ
ルフォスフォン酸ジエチルエステル等を挙げることがで
き、これらの１種或いは２種以上が使用できる。リン系
酸化防止剤の濃度は３〜１０００ｐｐｍ、好ましくは５
〜２００ｐｐｍ、より好ましくは１０〜１００ｐｐｍで
ある。３ｐｐｍを切ると効果が見られなくなる場合があ
り、１０００ｐｐｍを超えると被洗浄部品の絶縁性能等
が低下することがある。

【００２１】本発明の洗浄剤組成物は、前記のフェノー
ル系酸化防止剤と、アミン系酸化防止剤及びリン系酸化
防止剤から選ばれる１種以上を混合して用いる。また、
洗浄剤組成物は、被洗浄物からの汚れが蓄積するため蒸
留再生するが、フェノール系酸化防止剤、アミン系酸化
防止剤及びリン系酸化防止剤は、残留物中に多く存在す
る。従って、蒸留再生した液に所定濃度のフェノール系
酸化防止剤と、アミン系酸化防止剤及びリン系酸化防止
剤から選ばれる１種以上の混合物を新たに添加すればよ
い。

【００２２】フェノール系酸化防止剤と、アミン系及び
リン系から選ばれる１種以上の酸化防止剤の濃度比であ
るが、フェノール系酸化防止剤の濃度を１とした場合
に、アミン系及びリン系から選ばれる１種以上の酸化防
止剤の濃度は０．３〜３の範囲で好適に使用できる。こ
れが、０．３を切っても、３を超えても有機溶媒系洗浄
剤の酸化劣化防止効果が低下する。

【００２３】その他必要に応じて、他の添加成分を含む
ことができる。このような他の添加剤として硫黄系酸化
防止剤、界面活性剤、防錆剤等を使用することもでき
る。硫黄系酸化防止剤としては、ジラウリル−３，３’
−チオジプロピオン酸エステル、ジミリスチル−３，
３’−チオジプロピオン酸エステル、ジステアリル−
３，３’−チオジプロピオン酸エステル、ジトリデシル
−３，３’−チオジプロピオン酸エステル、ラウリルス
テアリル−３，３’−チオジプロピオン酸エステル、ビ
ス［２−メチル−４−（３−ｎ−アルキルチオプロピオ
ニルオキシ）−５−ｔ−ブチルフェニル］スルフィド、
ペンタエリスリトールテトラ（β−ラウリル−チオプロ
ピオネート）エステル、２−メルカプトベンズイミダゾ
ール、２−メルカプト−６−メチルベンズイミダゾール
等を挙げることができる。界面活性剤としては、アニオ
ン性活性剤、カチオン性活性剤、両イオン性活性剤等の
いずれも使用することができるが、洗浄面への影響が少
ないという点で非イオン系界面活性剤が最もよい。例え
ばポリオキシアルキレンアルキルエーテル、ポリオキシ
アルキレンアルキルフェノールエーテル、ポリオキシア
ルキレンアルキル脂肪酸エステル、ポリオキシアルキレ
ンアリルフェノールエーテル、ポリオキシアルキレンソ
ルビタン脂肪酸エステル、ポリオキシアルキレンアルキ
ルアミン、ソルビタン脂肪酸エステル、ポリオキシアル
キレン等が好適に使用できる。また、

【００２４】防錆剤としては、たとえばベンゾトリアゾ
ール、トリルトリアゾール、炭素数２〜１０の炭化水素
基を有するベンゾトリアゾール誘導体、ベンゾイミダゾ
ール、炭素数２〜２０炭化水素基を有するイミダゾール
誘導体、炭素数２〜２０炭化水素基を有するチアゾール
誘導体、２−メルカプトベンゾチアゾール等を挙げるこ
とができ、これらの１種或いは２種以上を用いることが
できる。これらの中でも、配線材料に用いられている銅
に対する防錆効果が大きく、広く用いられているベンゾ
トリアゾール、トリルトリアゾール、２−メルカプトベ
ンゾチアゾール、炭素数２〜２０炭化水素基を有するイ
ミダゾール誘導体等が特に好適に使用できる。含窒素有
機防錆剤の濃度は０．０１〜２質量％、好ましくは０．
０３〜１質量％である。０．０１質量％を切ると効果が
見られなくなる場合があり、２質量％を超えると被洗浄
部品の絶縁性能等が低下することがある。

【００２５】本発明の洗浄剤組成物は、浸漬法、超音波
洗浄法、揺動法、スプレー法等の各種の洗浄方法におい
て使用でき、かつ好ましい結果を得ることができる。

【００２６】本発明の洗浄剤を、フラックスの付着した
プリント基板の洗浄工程に用いる場合、例えば、まず本
発明洗浄剤組成物をいれた超音波洗浄槽で超音波洗浄
し、次いで本発明の洗浄剤組成物でリンスする等の方法
を連続的に行うことにより、効率的に洗浄することがで
きる。

【００２７】

【発明の実施の形態】以下、実施例を挙げて更に詳細に
説明するが、本発明はこれらに限定されるものではな
い。

【００２８】（試験方法）炭化水素系洗浄剤が金属と接
触した状態で使用されることを想定し、１００ｍｌナス
型フラスコに炭化水素系洗浄剤を７０ｍｌ、１２．５ｍ
ｍ×７５ｍｍで厚さ３．０ｍｍの銅板を１枚入れ、これ
を大気雰囲気下、オイルバスで１８０℃、５時間加熱し
た。加熱後の液の一部をガスクロマトグラフに注入し、
酸化分解で生成するケトンの濃度を測定した。

【００２９】（実施例１）炭素数１０のノルマルパラフ
ィン（日鉱石油化学株式会社製ＮＳ−クリーン１００）
にフェノール系酸化防止剤として２，６−ジ−ｔ−ブチ
ル−ｐ−クレゾール（ＢＨＴ）を５０ｐｐｍ、アミン系
酸化防止剤としてｐ，ｐ’−ジオクチルジフェニルアミ
ン（ＤＯＰＰＡ）を５０ｐｐｍ添加し、試験を行なっ
た。その結果、酸化分解で生成するケトン濃度は測定下
限以下であった。

【００３０】（実施例２）実施例１のＤＯＰＰＡをビス
（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ペンタエリスリト
ールジホスファイト（ＰＥＰ）に変えた以外は同様に試
験した。試験後に生成したケトンの濃度は、測定下限以
下であった。

【００３１】（実施例３）実施例１のＢＨＴを２５ｐｐ
ｍ、ＤＯＰＰＡを２５ｐｐｍ添加し、試験を行なった。
その結果、酸化分解で生成するケトン濃度は０．０３質
量％であった。

【００３２】（比較例１）酸化防止剤を添加しない炭素
数１０のノルマルパラフィンについて、実施例１と同様
にして試験した。試験後に生成したケトンの濃度は、
０．３２質量％であった。

【００３３】（比較例２、３）実施例１の酸化防止剤と
して、ＢＨＴのみを２５ｐｐｍ及び５０ｐｐｍ添加した
以外は、実施例１と同様にして試験した。試験後に生成
したケトンの濃度は、それぞれ０．１２質量％、０．１
１質量％であった。

【００３４】（比較例４）実施例１の酸化防止剤とし
て、ＤＯＰＰＡのみを５０ｐｐｍ添加した以外は、実施
例１と同様にして試験した。試験後に生成したケトンの
濃度は、０．４１質量％であった。

【００３５】（比較例５）実施例１の酸化防止剤とし
て、ＰＥＰのみを５０ｐｐｍ添加した以外は、実施例１
と同様にして試験した。試験後に生成したケトンの濃度
は、０．２９質量％であった。

【００３６】

【発明の効果】本発明の洗浄剤組成物は、プリント基板
の銅と接触した状態で加熱されても洗浄剤の酸化劣化が
極めて少ない。このため、電子部品、電気部品、機械部
品等の洗浄を加熱した状態で長期に渡って使用できる。

Claims (4)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 アミン系酸化防止剤及びリン系酸化防止
   剤から選ばれる１種以上と、フェノール系酸化防止剤と
   を含むことを特徴とする有機溶媒系洗浄用組成物。
2. 【請求項２】 前記有機溶媒が、炭素数５〜２０の炭化
   水素及び／又は炭素数５〜２０の極性基を有する有機化
   合物を主成分とするものであることを特徴とする請求項
   １に記載の有機溶媒系洗浄用組成物。
3. 【請求項３】 前記炭素数５〜２０の炭化水素が、分岐
   状及び／又は直鎖状の飽和脂肪族炭化水素であることを
   特徴とする請求項１、２いずれか一つの請求項に記載の
   有機溶媒系洗浄用組成物。
4. 【請求項４】 金属を含む部品用洗浄用組成物である請
   求項１〜３のいずれか一つの請求項に記載の有機溶媒系
   洗浄用組成物。