JPH11130404A - 部分酸化法による合成ガスの製造方法 - Google Patents
部分酸化法による合成ガスの製造方法Info
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- JPH11130404A JPH11130404A JP10117822A JP11782298A JPH11130404A JP H11130404 A JPH11130404 A JP H11130404A JP 10117822 A JP10117822 A JP 10117822A JP 11782298 A JP11782298 A JP 11782298A JP H11130404 A JPH11130404 A JP H11130404A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 含炭素有機化合物を酸素と反応させて合成ガ
スを製造する方法において、炭素析出の問題の解決され
た合成ガスの製造方法を提供する。 【解決手段】 含炭素有機化合物と酸素とを触媒の存在
下で反応させて合成ガスを製造する方法において、該触
媒として、金属酸化物からなる担体に第８族金属の中か
ら選ばれる少なくとも１種の触媒金属を担持させた触媒
であって、（ｉ）該担体金属酸化物中の金属イオンの電
気陰性度が１３．０以下であり、（ii）該触媒の比表面
積が２５ｍ2／ｇ以下であり、（iii）該触媒金属の担持
量が該担体金属酸化物に対して０．０００５〜０．１モ
ル％である触媒を用いることを特徴とする合成ガスの製
造方法。
スを製造する方法において、炭素析出の問題の解決され
た合成ガスの製造方法を提供する。 【解決手段】 含炭素有機化合物と酸素とを触媒の存在
下で反応させて合成ガスを製造する方法において、該触
媒として、金属酸化物からなる担体に第８族金属の中か
ら選ばれる少なくとも１種の触媒金属を担持させた触媒
であって、（ｉ）該担体金属酸化物中の金属イオンの電
気陰性度が１３．０以下であり、（ii）該触媒の比表面
積が２５ｍ2／ｇ以下であり、（iii）該触媒金属の担持
量が該担体金属酸化物に対して０．０００５〜０．１モ
ル％である触媒を用いることを特徴とする合成ガスの製
造方法。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、部分酸化法による
合成ガスの製造方法に関するものである。
合成ガスの製造方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】合成ガスは、水素と一酸化炭素からなる
混合ガスで、アンモニア、メタノール、酢酸等の工業製
品の合成原料として広く利用されている。このような合
成ガスを製造する方法として、含炭素有機化合物と酸素
とを触媒の存在下で反応させる部分酸化法が知られてい
る。この方法は、エネルギー的には有利な方法である
が、その副反応として、炭素析出反応が起って炭素が析
出し、この析出炭素によって触媒被毒が生じるという問
題がある。この方法の工業化においては、前記炭素析出
による触媒被毒の問題を解決することが急務であるが、
これまでには、その有効な方法は未だ提案されていな
い。特開平５−２０８８０１号公報には、第８族金属
を、高純度超微粉単結晶酸化マグネシウムに担持した二
酸化炭素リフォーミング触媒が、又特開平６−２７９０
０３号公報にはアルカリ土類金属酸化物類の少なくとも
１種以上の化合物と酸化アルミニウムからなる担体上に
ルテニウム化合物を担持させた二酸化炭素リフォーミン
グ触媒が開示されている。更に、特開平９−１６８７４
０号公報には、第２族〜第４族の金属酸化物又はランタ
ノイド金属酸化物からなる担体又はその金属酸化物を含
有するアルミナの複合体からなる担体にロジウムを担持
した二酸化炭素リフォーミング触媒が開示されている。
しかしながら、これらの触媒の反応試験は常圧下で実施
されており、工業的に意味のある高圧下では、その炭素
析出活性が大きく、工業触媒としては未だ満足すべきも
のではなかった。
混合ガスで、アンモニア、メタノール、酢酸等の工業製
品の合成原料として広く利用されている。このような合
成ガスを製造する方法として、含炭素有機化合物と酸素
とを触媒の存在下で反応させる部分酸化法が知られてい
る。この方法は、エネルギー的には有利な方法である
が、その副反応として、炭素析出反応が起って炭素が析
出し、この析出炭素によって触媒被毒が生じるという問
題がある。この方法の工業化においては、前記炭素析出
による触媒被毒の問題を解決することが急務であるが、
これまでには、その有効な方法は未だ提案されていな
い。特開平５−２０８８０１号公報には、第８族金属
を、高純度超微粉単結晶酸化マグネシウムに担持した二
酸化炭素リフォーミング触媒が、又特開平６−２７９０
０３号公報にはアルカリ土類金属酸化物類の少なくとも
１種以上の化合物と酸化アルミニウムからなる担体上に
ルテニウム化合物を担持させた二酸化炭素リフォーミン
グ触媒が開示されている。更に、特開平９−１６８７４
０号公報には、第２族〜第４族の金属酸化物又はランタ
ノイド金属酸化物からなる担体又はその金属酸化物を含
有するアルミナの複合体からなる担体にロジウムを担持
した二酸化炭素リフォーミング触媒が開示されている。
しかしながら、これらの触媒の反応試験は常圧下で実施
されており、工業的に意味のある高圧下では、その炭素
析出活性が大きく、工業触媒としては未だ満足すべきも
のではなかった。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、含炭素有機
化合物を酸素と反応させて合成ガスを製造する方法にお
いて、炭素析出の問題の解決された合成ガスの製造方法
を提供することをその課題とする。
化合物を酸素と反応させて合成ガスを製造する方法にお
いて、炭素析出の問題の解決された合成ガスの製造方法
を提供することをその課題とする。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、前記課題
を解決すべく鋭意研究を重ねた結果、本発明を完成する
に至った。即ち、本発明によれば、含炭素有機化合物と
酸素とを触媒の存在下で反応させて合成ガスを製造する
方法において、該触媒として、金属酸化物からなる担体
に第８族金属の中から選ばれる少なくとも１種の触媒金
属を担持させた触媒であって、（ｉ）該担体金属酸化物
中の金属イオンの電気陰性度が１３．０以下であり、
（ii）該触媒の比表面積が２５ｍ2／ｇ以下であり、（i
ii）該触媒金属の担持量が該担体金属酸化物に対して
０．０００５〜０．１モル％である触媒を用いることを
特徴とする合成ガスの製造方法が提供される。
を解決すべく鋭意研究を重ねた結果、本発明を完成する
に至った。即ち、本発明によれば、含炭素有機化合物と
酸素とを触媒の存在下で反応させて合成ガスを製造する
方法において、該触媒として、金属酸化物からなる担体
に第８族金属の中から選ばれる少なくとも１種の触媒金
属を担持させた触媒であって、（ｉ）該担体金属酸化物
中の金属イオンの電気陰性度が１３．０以下であり、
（ii）該触媒の比表面積が２５ｍ2／ｇ以下であり、（i
ii）該触媒金属の担持量が該担体金属酸化物に対して
０．０００５〜０．１モル％である触媒を用いることを
特徴とする合成ガスの製造方法が提供される。
【０００５】
【発明の実施の形態】本発明で用いる触媒は、含炭素有
機化合物と酸素とを反応させて合成ガスを製造する方法
（部分酸化法）に用いる触媒である。本発明で用いる触
媒は、特定性状の担体金属酸化物に、第８族金属の中か
ら選ばれる少なくとも１種の触媒金属を担持させた触媒
である。この場合、触媒金属は、金属状態で担持されて
いてもよいし、酸化物等の金属化合物の状態で担持され
ていてもよい。第８族金属としては、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎ
ｉ、Ｒｕ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ｏｓ、Ｉｒ、Ｐｔが挙げられる
が、好ましくは、ロジウム及び／又はルテニウムであ
る。本発明で用いる触媒は、含炭素有機化合物の合成ガ
ス化反応に必要な活性は保有するものの、その副反応で
ある炭素析出反応はこれを著しく抑制する作用を有する
ことを特徴とする。本発明で用いる炭素析出反応を著し
く抑制する触媒は、（ｉ）該担体金属酸化物中の金属イ
オンの電気陰性度が１３．０以下であること、（ii）該
触媒の比表面積が２５ｍ2／ｇ以下であること、(iii）
該触媒金属の担持量が該担体金属酸化物に対して０．０
００５〜０．１モル％であること、を特徴とする触媒で
ある。このような炭素析出活性の著しく抑制された触媒
は、本発明者らによって初めて見出されたものである。
機化合物と酸素とを反応させて合成ガスを製造する方法
（部分酸化法）に用いる触媒である。本発明で用いる触
媒は、特定性状の担体金属酸化物に、第８族金属の中か
ら選ばれる少なくとも１種の触媒金属を担持させた触媒
である。この場合、触媒金属は、金属状態で担持されて
いてもよいし、酸化物等の金属化合物の状態で担持され
ていてもよい。第８族金属としては、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎ
ｉ、Ｒｕ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ｏｓ、Ｉｒ、Ｐｔが挙げられる
が、好ましくは、ロジウム及び／又はルテニウムであ
る。本発明で用いる触媒は、含炭素有機化合物の合成ガ
ス化反応に必要な活性は保有するものの、その副反応で
ある炭素析出反応はこれを著しく抑制する作用を有する
ことを特徴とする。本発明で用いる炭素析出反応を著し
く抑制する触媒は、（ｉ）該担体金属酸化物中の金属イ
オンの電気陰性度が１３．０以下であること、（ii）該
触媒の比表面積が２５ｍ2／ｇ以下であること、(iii）
該触媒金属の担持量が該担体金属酸化物に対して０．０
００５〜０．１モル％であること、を特徴とする触媒で
ある。このような炭素析出活性の著しく抑制された触媒
は、本発明者らによって初めて見出されたものである。
【０００６】担体として用いる金属酸化物には、単一金
属酸化物の他、複合金属酸化物が包含される。本発明に
おいては、この担体用金属酸化物中の金属イオンの電気
陰性度を、１３以下、好ましくは１２以下、より好まし
くは１０以下に規定する。その下限値は、４程度であ
る。本発明で用いる担体用金属酸化物の金属イオンの電
気陰性度は４〜１３、好ましくは４〜１２である。この
金属酸化物中の金属イオンの電気陰性度が１３を超える
ようになると、その触媒の使用に際し、炭素析出が著し
くなるので好ましくない。
属酸化物の他、複合金属酸化物が包含される。本発明に
おいては、この担体用金属酸化物中の金属イオンの電気
陰性度を、１３以下、好ましくは１２以下、より好まし
くは１０以下に規定する。その下限値は、４程度であ
る。本発明で用いる担体用金属酸化物の金属イオンの電
気陰性度は４〜１３、好ましくは４〜１２である。この
金属酸化物中の金属イオンの電気陰性度が１３を超える
ようになると、その触媒の使用に際し、炭素析出が著し
くなるので好ましくない。
【０００７】なお、前記金属酸化物中の金属イオンの電
気陰性度は、次式により定義されるものである。 Ｘｉ＝（１＋２ｉ）Ｘｏ Ｘｉ：金属イオンの電気陰性度 Ｘｏ：金属の電気陰性度 ｉ：金属イオンの荷電子数 金属酸化物が複合金属酸化物の場合は、平均の金属イオ
ン電気陰性度を用い、その値は、その複合金属酸化物中
に含まれる各金属イオンの電気陰性度に複合酸化物中の
各酸化物のモル分率を掛けた値の合計値とする。金属の
電気陰性度（Ｘ0）はＰａｕｌｉｎｇの電気陰性度を用
いる。Ｐａｕｌｉｎｇの電気陰性度は、「藤代亮一訳、
ムーア物理化学（下）（第４版）、東京化学同人，Ｐ７
０７（１９７４）」の表１５．４記載の値を用いる。な
お、金属酸化物中の金属イオンの電気陰性度について
は、例えば、「触媒学会編、触媒講座、第２巻、Ｐ１４
５（１９８５）」に詳述されている。前記金属酸化物に
は、Ｍｇ、Ｃａ、Ｂａ、Ｚｎ、Ａｌ、Ｚｒ、Ｌａ等の金
属を１種又は２種以上含む金属酸化物が包含される。こ
のような金属酸化物としては、マグネシア（ＭｇＯ）、
酸化カルシウム（ＣａＯ）、酸化バリウム（ＢａＯ）、
酸化亜鉛（ＺｎＯ）、アルミナ（Ａｌ2Ｏ3）、ジルコニ
ア（ＺｒＯ2）、酸化ランタン（Ｌａ2Ｏ3）等の単一金
属酸化物の他、ＭｇＯ／ＣａＯ、ＭｇＯ／ＢａＯ、Ｍｇ
Ｏ／ＺｎＯ、ＭｇＯ／Ａｌ2Ｏ3、ＭｇＯ／ＺｒＯ2、Ｃ
ａＯ／ＢａＯ、ＣａＯ／ＺｎＯ、ＣａＯ／Ａｌ2Ｏ3、Ｃ
ａＯ／ＺｒＯ2、ＢａＯ／ＺｎＯ、ＢａＯ／Ａｌ2Ｏ3、
ＢａＯ／ＺｒＯ2、ＺｎＯ／Ａｌ2Ｏ3、ＺｎＯ／Ｚｒ
Ｏ2、Ａｌ2Ｏ3／ＺｒＯ2、Ｌａ2Ｏ3／ＭｇＯ、Ｌａ2Ｏ3
／Ａｌ2Ｏ3、Ｌａ2Ｏ3／ＣａＯ等の複合金属酸化物が挙
げられる。
気陰性度は、次式により定義されるものである。 Ｘｉ＝（１＋２ｉ）Ｘｏ Ｘｉ：金属イオンの電気陰性度 Ｘｏ：金属の電気陰性度 ｉ：金属イオンの荷電子数 金属酸化物が複合金属酸化物の場合は、平均の金属イオ
ン電気陰性度を用い、その値は、その複合金属酸化物中
に含まれる各金属イオンの電気陰性度に複合酸化物中の
各酸化物のモル分率を掛けた値の合計値とする。金属の
電気陰性度（Ｘ0）はＰａｕｌｉｎｇの電気陰性度を用
いる。Ｐａｕｌｉｎｇの電気陰性度は、「藤代亮一訳、
ムーア物理化学（下）（第４版）、東京化学同人，Ｐ７
０７（１９７４）」の表１５．４記載の値を用いる。な
お、金属酸化物中の金属イオンの電気陰性度について
は、例えば、「触媒学会編、触媒講座、第２巻、Ｐ１４
５（１９８５）」に詳述されている。前記金属酸化物に
は、Ｍｇ、Ｃａ、Ｂａ、Ｚｎ、Ａｌ、Ｚｒ、Ｌａ等の金
属を１種又は２種以上含む金属酸化物が包含される。こ
のような金属酸化物としては、マグネシア（ＭｇＯ）、
酸化カルシウム（ＣａＯ）、酸化バリウム（ＢａＯ）、
酸化亜鉛（ＺｎＯ）、アルミナ（Ａｌ2Ｏ3）、ジルコニ
ア（ＺｒＯ2）、酸化ランタン（Ｌａ2Ｏ3）等の単一金
属酸化物の他、ＭｇＯ／ＣａＯ、ＭｇＯ／ＢａＯ、Ｍｇ
Ｏ／ＺｎＯ、ＭｇＯ／Ａｌ2Ｏ3、ＭｇＯ／ＺｒＯ2、Ｃ
ａＯ／ＢａＯ、ＣａＯ／ＺｎＯ、ＣａＯ／Ａｌ2Ｏ3、Ｃ
ａＯ／ＺｒＯ2、ＢａＯ／ＺｎＯ、ＢａＯ／Ａｌ2Ｏ3、
ＢａＯ／ＺｒＯ2、ＺｎＯ／Ａｌ2Ｏ3、ＺｎＯ／Ｚｒ
Ｏ2、Ａｌ2Ｏ3／ＺｒＯ2、Ｌａ2Ｏ3／ＭｇＯ、Ｌａ2Ｏ3
／Ａｌ2Ｏ3、Ｌａ2Ｏ3／ＣａＯ等の複合金属酸化物が挙
げられる。
【０００８】本発明で用いる比表面積が２５ｍ2／ｇ以
下の触媒は、触媒金属の担持前に担体金属酸化物を３０
０〜１３００℃、好ましくは６５０〜１２００℃で焼成
し、触媒金属担持後更に得られた触媒金属担持生成物を
６００〜１３００℃、好ましくは６５０〜１２００℃で
焼成することによって得ることができる。また、担体金
属酸化物に触媒金属を担持後、得られた触媒金属担持物
を、６００〜１３００℃、好ましくは６５０℃〜１２０
０℃で焼成することにより得ることができる。焼成温度
の上限値は特に規定されないが、通常、１５００℃以
下、好ましくは１３００℃以下である。この場合、その
焼成温度と焼成時間によって、得られる触媒又は担体金
属酸化物の比表面積をコントロールすることができる。
本発明触媒又は本発明で用いる担体金属酸化物の好まし
い比表面積は、２０ｍ2／ｇ以下、より好ましくは１５
ｍ2／ｇ以下、さらに好ましくは１０ｍ2／ｇ以下であ
る。その下限値は、０．０１ｍ2／ｇ程度である。金属
イオンの電気陰性度が１３以下の担体金属酸化物の比表
面積又は触媒の比表面積をこのような範囲に規定するこ
とにより、触媒の炭素析出活性を著しく抑制することが
できる。担体金属酸化物に対する触媒金属の担持量は、
金属換算量で、担体金属酸化物に対し、０．０００５モ
ル％以上、好ましくは０．００１モル％以上、より好ま
しくは０．００２モル％以上である。その上限値は、通
常、０．１モル％、好ましくは０．０９モル％である。
本発明の場合、その触媒金属担持量は０．０００５〜
０．１モル％、好ましくは０．００１〜０．１モル％の
範囲に規定するのがよい。本発明の触媒において、その
触媒の比表面積と担体金属酸化物の比表面積とは実質的
にはほぼ同じであり、本明細書中では、その触媒の比表
面積と担体金属酸化物の比表面積とは同義として用い
た。なお、本明細書中で触媒又は担体金属酸化物に関し
て言う比表面積は、「ＢＥＴ」法により、温度１５℃で
測定されたものであり、その測定装置としては、柴田科
学社製の「ＳＡ−１００」が用いられた。
下の触媒は、触媒金属の担持前に担体金属酸化物を３０
０〜１３００℃、好ましくは６５０〜１２００℃で焼成
し、触媒金属担持後更に得られた触媒金属担持生成物を
６００〜１３００℃、好ましくは６５０〜１２００℃で
焼成することによって得ることができる。また、担体金
属酸化物に触媒金属を担持後、得られた触媒金属担持物
を、６００〜１３００℃、好ましくは６５０℃〜１２０
０℃で焼成することにより得ることができる。焼成温度
の上限値は特に規定されないが、通常、１５００℃以
下、好ましくは１３００℃以下である。この場合、その
焼成温度と焼成時間によって、得られる触媒又は担体金
属酸化物の比表面積をコントロールすることができる。
本発明触媒又は本発明で用いる担体金属酸化物の好まし
い比表面積は、２０ｍ2／ｇ以下、より好ましくは１５
ｍ2／ｇ以下、さらに好ましくは１０ｍ2／ｇ以下であ
る。その下限値は、０．０１ｍ2／ｇ程度である。金属
イオンの電気陰性度が１３以下の担体金属酸化物の比表
面積又は触媒の比表面積をこのような範囲に規定するこ
とにより、触媒の炭素析出活性を著しく抑制することが
できる。担体金属酸化物に対する触媒金属の担持量は、
金属換算量で、担体金属酸化物に対し、０．０００５モ
ル％以上、好ましくは０．００１モル％以上、より好ま
しくは０．００２モル％以上である。その上限値は、通
常、０．１モル％、好ましくは０．０９モル％である。
本発明の場合、その触媒金属担持量は０．０００５〜
０．１モル％、好ましくは０．００１〜０．１モル％の
範囲に規定するのがよい。本発明の触媒において、その
触媒の比表面積と担体金属酸化物の比表面積とは実質的
にはほぼ同じであり、本明細書中では、その触媒の比表
面積と担体金属酸化物の比表面積とは同義として用い
た。なお、本明細書中で触媒又は担体金属酸化物に関し
て言う比表面積は、「ＢＥＴ」法により、温度１５℃で
測定されたものであり、その測定装置としては、柴田科
学社製の「ＳＡ−１００」が用いられた。
【０００９】本発明で用いるこのような触媒は、その触
媒比表面積が小さく、かつその触媒金属の担持量が非常
に少量であるため、炭素析出活性の著しく抑制されたも
のであるが、一方、原料含炭素有機化合物に対する充分
な合成ガス化活性を有するものである。
媒比表面積が小さく、かつその触媒金属の担持量が非常
に少量であるため、炭素析出活性の著しく抑制されたも
のであるが、一方、原料含炭素有機化合物に対する充分
な合成ガス化活性を有するものである。
【００１０】本発明で用いる触媒は、常法に従って調製
することができる。本発明触媒の１つの好ましい調製法
は、含浸法である。この含浸法により本発明触媒を調製
するには、水中に分散させた担体金属酸化物に触媒金属
塩又はその水溶液を添加、混合した後、その担体金属酸
化物を水溶液から分離し、次いで乾燥し、焼成する。ま
た、担体金属酸化物を排気後、細孔容積分の金属塩溶液
を少量ずつ加え、担体表面を均一に濡れた状態にした
後、乾燥、焼成する方法（ｉｎｃｉｐｉｅｎｔ−ｗｅｔ
ｎｅｓｓ法）も有効である。これらの方法の場合、その
触媒金属塩としては、水溶性塩が用いられる。このよう
な水溶性塩には、硝酸塩、塩化物等の無機酸塩や、酢酸
塩、シュウ酸塩等の有機酸塩が包含される。また、金属
のアセチルアセトナト塩等をアセトン等の有機溶媒に溶
解し、担体金属酸化物に含浸させてもよい。触媒金属塩
を水溶液として含浸させた金属金属酸化物の乾燥温度は
１００〜２００℃、好ましくは１００〜１５０℃であ
り、又、有機溶媒を用いて含浸した場合は、その溶媒の
沸点より５０〜１００℃高温で乾燥する。乾燥物の焼成
温度及び焼成時間は、得られる担体金属酸化物又は触媒
の比表面積（触媒の比表面）に応じて適宜選定するが、
一般的には、５００〜１１００℃の範囲の焼成温度が用
いられる。
することができる。本発明触媒の１つの好ましい調製法
は、含浸法である。この含浸法により本発明触媒を調製
するには、水中に分散させた担体金属酸化物に触媒金属
塩又はその水溶液を添加、混合した後、その担体金属酸
化物を水溶液から分離し、次いで乾燥し、焼成する。ま
た、担体金属酸化物を排気後、細孔容積分の金属塩溶液
を少量ずつ加え、担体表面を均一に濡れた状態にした
後、乾燥、焼成する方法（ｉｎｃｉｐｉｅｎｔ−ｗｅｔ
ｎｅｓｓ法）も有効である。これらの方法の場合、その
触媒金属塩としては、水溶性塩が用いられる。このよう
な水溶性塩には、硝酸塩、塩化物等の無機酸塩や、酢酸
塩、シュウ酸塩等の有機酸塩が包含される。また、金属
のアセチルアセトナト塩等をアセトン等の有機溶媒に溶
解し、担体金属酸化物に含浸させてもよい。触媒金属塩
を水溶液として含浸させた金属金属酸化物の乾燥温度は
１００〜２００℃、好ましくは１００〜１５０℃であ
り、又、有機溶媒を用いて含浸した場合は、その溶媒の
沸点より５０〜１００℃高温で乾燥する。乾燥物の焼成
温度及び焼成時間は、得られる担体金属酸化物又は触媒
の比表面積（触媒の比表面）に応じて適宜選定するが、
一般的には、５００〜１１００℃の範囲の焼成温度が用
いられる。
【００１１】本発明触媒を調製する場合、その担体であ
る金属酸化物は、市販の金属酸化物や、市販の金属水酸
化物を焼成して得られる金属酸化物であることができ
る。この金属酸化物の純度は９８重量％以上、好ましく
は９９重量％以上であるが、炭素析出活性を高める成分
や高温、還元ガス雰囲気下で分解する成分、例えば鉄、
ニッケル等の金属や二酸化ケイ素（ＳｉＯ2）等の混入
は好ましくなく、それらの不純物は、金属酸化物中、１
重量％以下、好ましくは０．１重量％以下にするのがよ
い。
る金属酸化物は、市販の金属酸化物や、市販の金属水酸
化物を焼成して得られる金属酸化物であることができ
る。この金属酸化物の純度は９８重量％以上、好ましく
は９９重量％以上であるが、炭素析出活性を高める成分
や高温、還元ガス雰囲気下で分解する成分、例えば鉄、
ニッケル等の金属や二酸化ケイ素（ＳｉＯ2）等の混入
は好ましくなく、それらの不純物は、金属酸化物中、１
重量％以下、好ましくは０．１重量％以下にするのがよ
い。
【００１２】本発明触媒は、粉末状、顆粒状、球形状、
円柱状、円筒状等の各種の形状で用いられ、その形状は
使用される触媒床の方式に応じて適宜選定される。
円柱状、円筒状等の各種の形状で用いられ、その形状は
使用される触媒床の方式に応じて適宜選定される。
【００１３】本発明により合成ガスを製造するには、前
記触媒の存在下において、含炭素有機化合物とスチーム
及び／又は二酸化炭素（ＣＯ2）とを反応させればよ
い。含炭素有機化合物としては、メタン、エタン、プロ
パン、ブタン、ナフサ等の低級炭化水素や、メタノー
ル、ジメチルエーテル等の非炭化水素系化合物が用いら
れるが、好ましくはメタンである。本発明においては、
炭酸ガスを含む天然ガス（メタンガス）を反応原料とし
て有利に用いることができる。
記触媒の存在下において、含炭素有機化合物とスチーム
及び／又は二酸化炭素（ＣＯ2）とを反応させればよ
い。含炭素有機化合物としては、メタン、エタン、プロ
パン、ブタン、ナフサ等の低級炭化水素や、メタノー
ル、ジメチルエーテル等の非炭化水素系化合物が用いら
れるが、好ましくはメタンである。本発明においては、
炭酸ガスを含む天然ガス（メタンガス）を反応原料とし
て有利に用いることができる。
【００１４】本発明により含炭素有機化合物と酸素とを
反応させる場合、その含炭素有機化合物としては、前記
した如き炭化水素系及び非炭化水素系の有機化合物が用
いられるが、好ましくはメタンである。酸素源として
は、酸素や、空気、富酸素化空気が用いられる。本発明
においては、炭酸ガスを含む天然ガス（メタンガス）を
反応原料として有利に用いることができる。
反応させる場合、その含炭素有機化合物としては、前記
した如き炭化水素系及び非炭化水素系の有機化合物が用
いられるが、好ましくはメタンである。酸素源として
は、酸素や、空気、富酸素化空気が用いられる。本発明
においては、炭酸ガスを含む天然ガス（メタンガス）を
反応原料として有利に用いることができる。
【００１５】メタンと酸素とを反応させる場合、その反
応は次式で示される。
応は次式で示される。
【化１】
【００１６】この含炭素有機化合物の部分酸化におい
て、その反応温度は５００〜１５００℃、好ましくは７
００〜１２００℃であり、その反応圧力は加圧であり、
５〜５０ｋｇ/ｃｍ2Ｇ、好ましくは１０〜４０ｋｇ/ｃ
ｍ2Ｇである。また、この反応を固定床方式で行う場
合、そのガス空間速度（ＧＨＳＶ）は１，０００〜５
０，０００ｈｒ-1、好ましくは２，０００〜２０，００
０ｈｒ-1である。原料含炭素有機化合物と酸素の使用割
合を示すと、原料含炭素有機化合物中の炭素のモル数と
酸素分子のモル数との比Ｃ／Ｏ2で、４〜０．１、好ま
しくは２〜０．５である。また、この部分酸化法は、大
きな発熱反応であるため、水蒸気や炭酸ガスを原料に添
加して、オートサーミック式の反応方式を採用すること
もできる。
て、その反応温度は５００〜１５００℃、好ましくは７
００〜１２００℃であり、その反応圧力は加圧であり、
５〜５０ｋｇ/ｃｍ2Ｇ、好ましくは１０〜４０ｋｇ/ｃ
ｍ2Ｇである。また、この反応を固定床方式で行う場
合、そのガス空間速度（ＧＨＳＶ）は１，０００〜５
０，０００ｈｒ-1、好ましくは２，０００〜２０，００
０ｈｒ-1である。原料含炭素有機化合物と酸素の使用割
合を示すと、原料含炭素有機化合物中の炭素のモル数と
酸素分子のモル数との比Ｃ／Ｏ2で、４〜０．１、好ま
しくは２〜０．５である。また、この部分酸化法は、大
きな発熱反応であるため、水蒸気や炭酸ガスを原料に添
加して、オートサーミック式の反応方式を採用すること
もできる。
【００１７】本発明の方法は、固定床方式、流動床方
式、懸濁床方式、移動床方式等の各種の触媒方式で実施
されるが、好ましくは固定床方式で実施される。
式、懸濁床方式、移動床方式等の各種の触媒方式で実施
されるが、好ましくは固定床方式で実施される。
【００１８】
【実施例】次に本発明を実施例によりさらに詳細に説明
する。
する。
【００１９】触媒調製例１ 空気中に於いて６５０℃にて１．５ｈ（時間）焼成した
酸化アルミニウムを０．２７〜０．７５ｍｍに整粒後、
含浸法（ｉｎｃｉｐｉｅｎｔ−ｗｅｔｎｅｓｓ法）でＲ
ｕを担持し、更に空気中に於いて１０００℃で焼成する
ことによりＲｕ担持Ａｌ2Ｏ3触媒（ＲｕはＡｌ2Ｏ3 １
ｇに対して３．０×１０-4ｇ担持されており、ｍｏｌ換
算の担持量は０．０３ｍｏｌ％）を得た。この含浸体は
焼成Ａｌ2Ｏ3にルテニウム（III）クロライド水溶液を
極めて少量ずつ滴下、滴下毎に混振することにより得ら
れる。滴下したルテニウム(III）クロライド水溶液中の
Ｒｕ濃度はは、０．０５ｗｔ％である。この含浸体を空
気中に於いて１２０℃にて２．５ｈ乾燥、同雰囲気中１
０００℃にて１．５ｈ焼成し、Ｒｕ担持Ａｌ2Ｏ3触媒
（表面積１８．６ｍ2／ｇ）とした。Ａｌ2Ｏ3のＡｌ3+
の電気陰性度Ｘｉは１１．３である。
酸化アルミニウムを０．２７〜０．７５ｍｍに整粒後、
含浸法（ｉｎｃｉｐｉｅｎｔ−ｗｅｔｎｅｓｓ法）でＲ
ｕを担持し、更に空気中に於いて１０００℃で焼成する
ことによりＲｕ担持Ａｌ2Ｏ3触媒（ＲｕはＡｌ2Ｏ3 １
ｇに対して３．０×１０-4ｇ担持されており、ｍｏｌ換
算の担持量は０．０３ｍｏｌ％）を得た。この含浸体は
焼成Ａｌ2Ｏ3にルテニウム（III）クロライド水溶液を
極めて少量ずつ滴下、滴下毎に混振することにより得ら
れる。滴下したルテニウム(III）クロライド水溶液中の
Ｒｕ濃度はは、０．０５ｗｔ％である。この含浸体を空
気中に於いて１２０℃にて２．５ｈ乾燥、同雰囲気中１
０００℃にて１．５ｈ焼成し、Ｒｕ担持Ａｌ2Ｏ3触媒
（表面積１８．６ｍ2／ｇ）とした。Ａｌ2Ｏ3のＡｌ3+
の電気陰性度Ｘｉは１１．３である。
【００２０】触媒調製例２ 空気中に於いて６００℃にて２ｈ焼成した酸化ジルコニ
ウムを０．２７〜０．７５ｍｍに整粒後、含浸法でＲｈ
を担持し、更に空気中に於いて９７０℃で焼成すること
によりＲｈ担持ＺｒＯ2触媒（ＲｈはＺｒＯ2１ｇに対し
て８．４×１０-6ｇ担持されており、ｍｏｌ換算の担持
量は０．００１ｍｏｌ％）を得た。この含浸体は焼成Ｚ
ｒＯ2にロジウム（III）アセテート水溶液を極めて少量
ずつ滴下、滴下毎に混振することにより得られる。滴下
したロジウム(III）アセテート水溶液中のＲｈ濃度は、
０．００６５ｗｔ％である。この含浸体を空気中に於い
て１２０℃にて２．５ｈ乾燥、同雰囲気中９７０℃にて
２ｈ焼成し、Ｒｈ担持ＺｒＯ2触媒（表面積８．６ｍ2／
ｇ）とした。ＺｒＯ2のＺｒ4+の電気陰性度Ｘｉは１
２．０である。
ウムを０．２７〜０．７５ｍｍに整粒後、含浸法でＲｈ
を担持し、更に空気中に於いて９７０℃で焼成すること
によりＲｈ担持ＺｒＯ2触媒（ＲｈはＺｒＯ2１ｇに対し
て８．４×１０-6ｇ担持されており、ｍｏｌ換算の担持
量は０．００１ｍｏｌ％）を得た。この含浸体は焼成Ｚ
ｒＯ2にロジウム（III）アセテート水溶液を極めて少量
ずつ滴下、滴下毎に混振することにより得られる。滴下
したロジウム(III）アセテート水溶液中のＲｈ濃度は、
０．００６５ｗｔ％である。この含浸体を空気中に於い
て１２０℃にて２．５ｈ乾燥、同雰囲気中９７０℃にて
２ｈ焼成し、Ｒｈ担持ＺｒＯ2触媒（表面積８．６ｍ2／
ｇ）とした。ＺｒＯ2のＺｒ4+の電気陰性度Ｘｉは１
２．０である。
【００２１】触媒調製例３ 空気中に於いて６００℃にて２ｈ焼成した酸化マグネシ
ウム（マグネシア）を０．２７〜０．７５ｍｍに整粒
後、含浸法でＲｈを担持し、更に空気中に於いて１１０
０℃で焼成することによりＲｈ担持ＭｇＯ触媒（Ｒｈは
ＭｇＯ １ｇに対して２．６×１０-3ｇ担持されてお
り、ｍｏｌ換算の担持量は０．１ｍｏｌ％）を得た。こ
の含浸体は焼成ＭｇＯにロジウム（III）アセテート水
溶液を極めて少量ずつ滴下、滴下毎に混振することによ
り得られる。滴下したロジウム（III）アセテート水溶
液中のＲｈ濃度は、１．７ｗｔ％である。この含浸体を
空気中に於いて１２０℃にて２．５ｈ乾燥、同雰囲気中
１１００℃にて２ｈ焼成し、Ｒｈ担持ＭｇＯ触媒（表面
積０．６ｍ2／ｇ）とした。ＭｇＯのＭｇ2+の電気陰性
度Ｘｉは６．６である。
ウム（マグネシア）を０．２７〜０．７５ｍｍに整粒
後、含浸法でＲｈを担持し、更に空気中に於いて１１０
０℃で焼成することによりＲｈ担持ＭｇＯ触媒（Ｒｈは
ＭｇＯ １ｇに対して２．６×１０-3ｇ担持されてお
り、ｍｏｌ換算の担持量は０．１ｍｏｌ％）を得た。こ
の含浸体は焼成ＭｇＯにロジウム（III）アセテート水
溶液を極めて少量ずつ滴下、滴下毎に混振することによ
り得られる。滴下したロジウム（III）アセテート水溶
液中のＲｈ濃度は、１．７ｗｔ％である。この含浸体を
空気中に於いて１２０℃にて２．５ｈ乾燥、同雰囲気中
１１００℃にて２ｈ焼成し、Ｒｈ担持ＭｇＯ触媒（表面
積０．６ｍ2／ｇ）とした。ＭｇＯのＭｇ2+の電気陰性
度Ｘｉは６．６である。
【００２２】触媒調製例４ 空気中に於いて１１００℃にて３ｈ焼成した１／８イン
チペレット状の酸化マグネシウムに、含浸法でＲｈを担
持し、更に空気中に於いて４００℃で焼成することによ
りＲｈ担持ＭｇＯ触媒（ＲｈはＭｇＯ １ｇに対して
１．５×１０-3ｇ担持されており、ｍｏｌ換算の担持量
は０．０６ｍｏｌ％）を得た。この含浸体は、焼成Ｍｇ
ＯペレットをＲｈ濃度１．０ｗｔ％のロジウム（III）
アセテート水溶液中に約３時間浸した後、空気中に於い
て１２０℃にて２．５ｈ乾燥、同雰囲気中４００℃にて
３ｈ焼成し、Ｒｈ担持ＭｇＯ触媒（表面積０．７ｍ2／
ｇ）とした。ＭｇＯのＭｇ2+の電気陰性度Ｘｉは６．６
である。
チペレット状の酸化マグネシウムに、含浸法でＲｈを担
持し、更に空気中に於いて４００℃で焼成することによ
りＲｈ担持ＭｇＯ触媒（ＲｈはＭｇＯ １ｇに対して
１．５×１０-3ｇ担持されており、ｍｏｌ換算の担持量
は０．０６ｍｏｌ％）を得た。この含浸体は、焼成Ｍｇ
ＯペレットをＲｈ濃度１．０ｗｔ％のロジウム（III）
アセテート水溶液中に約３時間浸した後、空気中に於い
て１２０℃にて２．５ｈ乾燥、同雰囲気中４００℃にて
３ｈ焼成し、Ｒｈ担持ＭｇＯ触媒（表面積０．７ｍ2／
ｇ）とした。ＭｇＯのＭｇ2+の電気陰性度Ｘｉは６．６
である。
【００２３】触媒調製例５ 空気中に於いて１１００℃にて３ｈ焼成した１／８イン
チペレット状の酸化マグネシウムに、含浸法でＲｈを担
持し、更に空気中に於いて１０００℃で焼成することに
よりＲｈ担持ＭｇＯ触媒(ＲｈはＭｇＯ １ｇに対して
２．６×１０-5ｇ担持されており、ｍｏｌ換算の担持量
は０．００１ｍｏｌ％）を得た。この含浸体は、焼成Ｍ
ｇＯペレットをＲｈ濃度０．０１７ｗｔ％のロジウム(I
II）アセチルアセトナト錯塩のアセトン溶液中に約３時
間浸した後、空気中に於いて１２０℃にて２．５ｈ乾
燥、同雰囲気中１０００℃にて３ｈ焼成し、Ｒｈ担持Ｍ
ｇＯ触媒（表面積０．６ｍ2/ｇ)とした。ＭｇＯのＭｇ
2+の電気陰性度Ｘｉは６．６である。
チペレット状の酸化マグネシウムに、含浸法でＲｈを担
持し、更に空気中に於いて１０００℃で焼成することに
よりＲｈ担持ＭｇＯ触媒(ＲｈはＭｇＯ １ｇに対して
２．６×１０-5ｇ担持されており、ｍｏｌ換算の担持量
は０．００１ｍｏｌ％）を得た。この含浸体は、焼成Ｍ
ｇＯペレットをＲｈ濃度０．０１７ｗｔ％のロジウム(I
II）アセチルアセトナト錯塩のアセトン溶液中に約３時
間浸した後、空気中に於いて１２０℃にて２．５ｈ乾
燥、同雰囲気中１０００℃にて３ｈ焼成し、Ｒｈ担持Ｍ
ｇＯ触媒（表面積０．６ｍ2/ｇ)とした。ＭｇＯのＭｇ
2+の電気陰性度Ｘｉは６．６である。
【００２４】触媒調製例６ 空気中に於いて１１００℃にて３ｈ焼成した１／８イン
チペレット状の５ｍｏｌ％酸化カルシウムを含む酸化マ
グネシウムに、含浸法でＲｈを担持し、更に空気中に於
いて９５０℃で焼成することによりＲｈ担持ＣａＯ／Ｍ
ｇＯ触媒（ＲｈはＣａＯ／ＭｇＯ １ｇに対して７．５
×１０-4ｇ担持されており、ｍｏｌ換算の担持量は０．
０３ｍｏｌ％）を得た。この含浸体は、焼成ＣａＯ／Ｍ
ｇＯペレットをＲｈ濃度０．５ｗｔ％のロジウム（II
I）アセテート水溶液中に約３時間浸した後、空気中に
於いて１２０℃にて２．５ｈ乾燥、同雰囲気中９５０℃
にて３ｈ焼成し、Ｒｈ担持ＣａＯ／ＭｇＯ触媒（表面積
０．８ｍ2／ｇ）とした。担体の平均の金属イオン電気
陰性度Ｘｉは６．５である。
チペレット状の５ｍｏｌ％酸化カルシウムを含む酸化マ
グネシウムに、含浸法でＲｈを担持し、更に空気中に於
いて９５０℃で焼成することによりＲｈ担持ＣａＯ／Ｍ
ｇＯ触媒（ＲｈはＣａＯ／ＭｇＯ １ｇに対して７．５
×１０-4ｇ担持されており、ｍｏｌ換算の担持量は０．
０３ｍｏｌ％）を得た。この含浸体は、焼成ＣａＯ／Ｍ
ｇＯペレットをＲｈ濃度０．５ｗｔ％のロジウム（II
I）アセテート水溶液中に約３時間浸した後、空気中に
於いて１２０℃にて２．５ｈ乾燥、同雰囲気中９５０℃
にて３ｈ焼成し、Ｒｈ担持ＣａＯ／ＭｇＯ触媒（表面積
０．８ｍ2／ｇ）とした。担体の平均の金属イオン電気
陰性度Ｘｉは６．５である。
【００２５】触媒調製例７ 空気中に於いて１１００℃にて３ｈ焼成した１／８イン
チペレット状の１０ｍｏｌ％酸化ランタンを含む酸化マ
グネシウムに、含浸法でＲｈを担持し、更に空気中に於
いて９５０℃で焼成することによりＲｈ担持Ｌａ2Ｏ3／
ＭｇＯ触媒（ＲｈはＬａ2Ｏ3／ＭｇＯ １ｇに対して
９．０×１０-5ｇ担持されており、ｍｏｌ換算の担持量
は０．００６ｍｏｌ％）を得た。この含浸体は、焼成Ｌ
ａ2Ｏ3／ＭｇＯペレットをＲｈ濃度０．１ｗｔ％のロジ
ウム（III）アセチルアセトナト錯体のアセトン溶液中
に約３時間浸した後、空気中に於いて１２０℃にて２．
５ｈ乾燥、同雰囲気中９５０℃にて３ｈ焼成し、Ｒｈ担
持Ｌａ2Ｏ3／ＭｇＯ触媒（表面積０．８ｍ2／ｇ）とし
た。担体の平均の金属イオン電気陰性度Ｘｉは６．７で
ある。
チペレット状の１０ｍｏｌ％酸化ランタンを含む酸化マ
グネシウムに、含浸法でＲｈを担持し、更に空気中に於
いて９５０℃で焼成することによりＲｈ担持Ｌａ2Ｏ3／
ＭｇＯ触媒（ＲｈはＬａ2Ｏ3／ＭｇＯ １ｇに対して
９．０×１０-5ｇ担持されており、ｍｏｌ換算の担持量
は０．００６ｍｏｌ％）を得た。この含浸体は、焼成Ｌ
ａ2Ｏ3／ＭｇＯペレットをＲｈ濃度０．１ｗｔ％のロジ
ウム（III）アセチルアセトナト錯体のアセトン溶液中
に約３時間浸した後、空気中に於いて１２０℃にて２．
５ｈ乾燥、同雰囲気中９５０℃にて３ｈ焼成し、Ｒｈ担
持Ｌａ2Ｏ3／ＭｇＯ触媒（表面積０．８ｍ2／ｇ）とし
た。担体の平均の金属イオン電気陰性度Ｘｉは６．７で
ある。
【００２６】触媒調製例８ 空気中に於いて１０００℃にて１．５ｈ焼成した酸化マ
グネシウムを０．２７〜０．７５ｍｍに整粒後、含浸法
でＲｈを担持し、更に空気中に於いて９５０℃で焼成す
ることによりＲｈ担持ＭｇＯ触媒（ＲｈはＭｇＯ １ｇ
に対して２．６×１０-4ｇ担持されており、ｍｏｌ換算
の担持量は０．０１ｍｏｌ％）を得た。Ｒｈ含浸体は、
焼成ＭｇＯにロジウム（III）アセテート水溶液を極め
て少量ずつ滴下し、かつ滴下毎に混振することにより得
られる。この場合に用いたロジウム（III）アセテート
水溶液は０．１７ｗｔ％のＲｈを含む水溶液である。こ
のＲｈ含浸体を空気中に於いて１２０℃にて２．５ｈ乾
燥、同雰囲気中９５０℃にて１．５ｈ焼成し、Ｒｈ担持
ＭｇＯ触媒（表面積５．８ｍ2／ｇ）とした。
グネシウムを０．２７〜０．７５ｍｍに整粒後、含浸法
でＲｈを担持し、更に空気中に於いて９５０℃で焼成す
ることによりＲｈ担持ＭｇＯ触媒（ＲｈはＭｇＯ １ｇ
に対して２．６×１０-4ｇ担持されており、ｍｏｌ換算
の担持量は０．０１ｍｏｌ％）を得た。Ｒｈ含浸体は、
焼成ＭｇＯにロジウム（III）アセテート水溶液を極め
て少量ずつ滴下し、かつ滴下毎に混振することにより得
られる。この場合に用いたロジウム（III）アセテート
水溶液は０．１７ｗｔ％のＲｈを含む水溶液である。こ
のＲｈ含浸体を空気中に於いて１２０℃にて２．５ｈ乾
燥、同雰囲気中９５０℃にて１．５ｈ焼成し、Ｒｈ担持
ＭｇＯ触媒（表面積５．８ｍ2／ｇ）とした。
【００２７】触媒調製例９ 空気中に於いて９２０℃にて２ｈ焼成した酸化マグネシ
ウムを０．２７〜０．７５ｍｍに整粒後、含浸法でＲｕ
を担持し、更に空気中に於いて９２０℃で焼成すること
によりＲｕ担持ＭｇＯ触媒（ＲｕはＭｇＯ １ｇに対し
て１．５×１０-3ｇ担持されており、ｍｏｌ換算の担持
量は０．０６ｍｏｌ％）を得た。このＲｕ含浸体は、焼
成ＭｇＯにルテニウム（III）クロライド水和物水溶液
を極めて少量ずつ滴下し、かつ滴下毎に混振することに
より得られる。この場合のルテニウム（III）クロライ
ド水溶液はＲｕを１．０ｗｔ％含む水溶液である。この
含浸体を空気中に於いて１２０℃にて２．５ｈ乾燥、同
雰囲気中９２０℃にて２ｈ焼成し、Ｒｕ担持ＭｇＯ触媒
（表面積９．６ｍ2／ｇ）とした。
ウムを０．２７〜０．７５ｍｍに整粒後、含浸法でＲｕ
を担持し、更に空気中に於いて９２０℃で焼成すること
によりＲｕ担持ＭｇＯ触媒（ＲｕはＭｇＯ １ｇに対し
て１．５×１０-3ｇ担持されており、ｍｏｌ換算の担持
量は０．０６ｍｏｌ％）を得た。このＲｕ含浸体は、焼
成ＭｇＯにルテニウム（III）クロライド水和物水溶液
を極めて少量ずつ滴下し、かつ滴下毎に混振することに
より得られる。この場合のルテニウム（III）クロライ
ド水溶液はＲｕを１．０ｗｔ％含む水溶液である。この
含浸体を空気中に於いて１２０℃にて２．５ｈ乾燥、同
雰囲気中９２０℃にて２ｈ焼成し、Ｒｕ担持ＭｇＯ触媒
（表面積９．６ｍ2／ｇ）とした。
【００２８】触媒調製例１０ 空気中に於いて３００℃にて３ｈ焼成した酸化マグネシ
ウムを０．２７〜０．７５ｍｍに整粒後、含浸法でＩｒ
を担持し、更に空気中に於いて６００℃で焼成すること
によりＩｒ担持ＭｇＯ触媒（ＩｒはＭｇＯ １ｇに対し
て４．８×１０-3ｇ担持されており、ｍｏｌ換算の担持
量は０．１０ｍｏｌ％）を得た。このＩｒ含浸体は、焼
成ＭｇＯにイリジウム（IV）クロライド水溶液を極めて
少量ずつ滴下し、かつ滴下毎に混振することにより得ら
れる。この場合のイリジウム（IV）クロライド水溶液は
Ｉｒを３．２ｗｔ％含む水溶液である。この含浸体を空
気中に於いて１２０℃にて２．５ｈ乾燥、同雰囲気中６
００℃にて３ｈ焼成し、Ｉｒ担持ＭｇＯ触媒（表面積２
４．８ｍ2／ｇ）とした。
ウムを０．２７〜０．７５ｍｍに整粒後、含浸法でＩｒ
を担持し、更に空気中に於いて６００℃で焼成すること
によりＩｒ担持ＭｇＯ触媒（ＩｒはＭｇＯ １ｇに対し
て４．８×１０-3ｇ担持されており、ｍｏｌ換算の担持
量は０．１０ｍｏｌ％）を得た。このＩｒ含浸体は、焼
成ＭｇＯにイリジウム（IV）クロライド水溶液を極めて
少量ずつ滴下し、かつ滴下毎に混振することにより得ら
れる。この場合のイリジウム（IV）クロライド水溶液は
Ｉｒを３．２ｗｔ％含む水溶液である。この含浸体を空
気中に於いて１２０℃にて２．５ｈ乾燥、同雰囲気中６
００℃にて３ｈ焼成し、Ｉｒ担持ＭｇＯ触媒（表面積２
４．８ｍ2／ｇ）とした。
【００２９】触媒調製例１１ 空気中に於いて５００℃にて３ｈ焼成した酸化マグネシ
ウムを０．２７〜０．７５ｍｍに整粒後、含浸法でＰｔ
を担持し、更に空気中に於いて７５０℃で焼成すること
によりＰｔ担持ＭｇＯ触媒（ＰｔはＭｇＯ １ｇに対し
て４．８×１０-3ｇ担持されており、ｍｏｌ換算の担持
量は０．１０ｍｏｌ％）を得た。含浸体は焼成ＭｇＯに
塩化白金酸（［Ｈ2ＰｔＣｌ6］）水溶液を極めて少量ず
つ滴下、滴下毎に混振することにより得られる。滴下し
た塩化白金酸水溶液中のＰｔ濃度は３．２ｗｔ％であ
る。この含浸体を空気中に於いて１２０℃にて２．５ｈ
乾燥、同雰囲気中７５０℃にて３ｈ焼成し、Ｐｔ担持Ｍ
ｇＯ触媒（表面積１８．４ｍ2／ｇ）とした。
ウムを０．２７〜０．７５ｍｍに整粒後、含浸法でＰｔ
を担持し、更に空気中に於いて７５０℃で焼成すること
によりＰｔ担持ＭｇＯ触媒（ＰｔはＭｇＯ １ｇに対し
て４．８×１０-3ｇ担持されており、ｍｏｌ換算の担持
量は０．１０ｍｏｌ％）を得た。含浸体は焼成ＭｇＯに
塩化白金酸（［Ｈ2ＰｔＣｌ6］）水溶液を極めて少量ず
つ滴下、滴下毎に混振することにより得られる。滴下し
た塩化白金酸水溶液中のＰｔ濃度は３．２ｗｔ％であ
る。この含浸体を空気中に於いて１２０℃にて２．５ｈ
乾燥、同雰囲気中７５０℃にて３ｈ焼成し、Ｐｔ担持Ｍ
ｇＯ触媒（表面積１８．４ｍ2／ｇ）とした。
【００３０】触媒調製例１２ 空気中に於いて３００℃にて３ｈ焼成した酸化マグネシ
ウムを１．０〜２．５ｍｍに整粒後、含浸法でＲｈを担
持し、更に空気中に於いて９５０℃で焼成することによ
りＲｈ担持ＭｇＯ触媒（ＲｈはＭｇＯ １ｇに対して
１．０×１０-3ｇ担持されており、ｍｏｌ換算の担持量
は０．０４ｍｏｌ％）を得た。この含浸体は焼成ＭｇＯ
にロジウム（III）アセテート水溶液を極めて少量ずつ
滴下、滴下毎に混振することにより得られる。滴下した
ロジウム（III）アセテート水溶液中のＲｈは０．６８
ｗｔ％である。この含浸体を空気中に於いて１２０℃に
て２．５ｈ乾燥、同雰囲気中９５０℃にて３ｈ焼成し、
Ｒｈ担持ＭｇＯ触媒（表面積６．０ｍ2／ｇ）とした。
ウムを１．０〜２．５ｍｍに整粒後、含浸法でＲｈを担
持し、更に空気中に於いて９５０℃で焼成することによ
りＲｈ担持ＭｇＯ触媒（ＲｈはＭｇＯ １ｇに対して
１．０×１０-3ｇ担持されており、ｍｏｌ換算の担持量
は０．０４ｍｏｌ％）を得た。この含浸体は焼成ＭｇＯ
にロジウム（III）アセテート水溶液を極めて少量ずつ
滴下、滴下毎に混振することにより得られる。滴下した
ロジウム（III）アセテート水溶液中のＲｈは０．６８
ｗｔ％である。この含浸体を空気中に於いて１２０℃に
て２．５ｈ乾燥、同雰囲気中９５０℃にて３ｈ焼成し、
Ｒｈ担持ＭｇＯ触媒（表面積６．０ｍ2／ｇ）とした。
【００３１】触媒調製例１３ 空気中に於いて９３０℃にて３ｈ焼成した酸化マグネシ
ウムを０．２７〜０．７５ｍｍに整粒後、含浸法でＲｕ
を担持し、更に空気中に於いて９７０℃で焼成すること
によりＲｕ担持ＭｇＯ触媒（ＲｕはＭｇＯ １ｇに対し
て７．５×１０-4ｇ担持されており、ｍｏｌ換算の担持
量は０．０３ｍｏｌ％）を得た。この含浸体は焼成Ｍｇ
Ｏにルテニウム(III)クロライド水溶液を極めて少量ず
つ滴下、滴下毎に混振することにより得られる。滴下し
たルテニウム（III）クロライド水溶液中のＲｕは０．
５０ｗｔ％である。この含浸体を空気中に於いて１２０
℃にて２．５ｈ乾燥、同雰囲気中９７０℃にて３ｈ焼成
し、Ｒｕ担持ＭｇＯ触媒（表面積５．２ｍ2／ｇ）とし
た。
ウムを０．２７〜０．７５ｍｍに整粒後、含浸法でＲｕ
を担持し、更に空気中に於いて９７０℃で焼成すること
によりＲｕ担持ＭｇＯ触媒（ＲｕはＭｇＯ １ｇに対し
て７．５×１０-4ｇ担持されており、ｍｏｌ換算の担持
量は０．０３ｍｏｌ％）を得た。この含浸体は焼成Ｍｇ
Ｏにルテニウム(III)クロライド水溶液を極めて少量ず
つ滴下、滴下毎に混振することにより得られる。滴下し
たルテニウム（III）クロライド水溶液中のＲｕは０．
５０ｗｔ％である。この含浸体を空気中に於いて１２０
℃にて２．５ｈ乾燥、同雰囲気中９７０℃にて３ｈ焼成
し、Ｒｕ担持ＭｇＯ触媒（表面積５．２ｍ2／ｇ）とし
た。
【００３２】触媒調製例１４ 空気中に於いて３５０℃にて３ｈ焼成した酸化マグネシ
ウムを０．２７〜０．７５ｍｍに整粒後、含浸法でＲｈ
を担持し、更に空気中に於いて１０５０℃で焼成するこ
とによりＲｈ担持ＭｇＯ触媒（ＲｈはＭｇ １ｇに対し
て２．０×１０-3ｇ担持されており、ｍｏｌ換算の担持
量は０．０８ｍｏｌ％）を得た。この含浸体は焼成Ｍｇ
Ｏにロジウム（III）アセテート水溶液を極めて少量ず
つ滴下、滴下毎に混振することにより得られる。滴下し
たロジウム（III）アセテート水溶液中のＲｈは１．３
ｗｔ％である。この含浸体を空気中に於いて１２０℃に
て２．５ｈ乾燥、同雰囲気中１０５０℃にて３ｈ焼成
し、Ｒｈ担持ＭｇＯ触媒（表面積１．５ｍ2／ｇ）とし
た。
ウムを０．２７〜０．７５ｍｍに整粒後、含浸法でＲｈ
を担持し、更に空気中に於いて１０５０℃で焼成するこ
とによりＲｈ担持ＭｇＯ触媒（ＲｈはＭｇ １ｇに対し
て２．０×１０-3ｇ担持されており、ｍｏｌ換算の担持
量は０．０８ｍｏｌ％）を得た。この含浸体は焼成Ｍｇ
Ｏにロジウム（III）アセテート水溶液を極めて少量ず
つ滴下、滴下毎に混振することにより得られる。滴下し
たロジウム（III）アセテート水溶液中のＲｈは１．３
ｗｔ％である。この含浸体を空気中に於いて１２０℃に
て２．５ｈ乾燥、同雰囲気中１０５０℃にて３ｈ焼成
し、Ｒｈ担持ＭｇＯ触媒（表面積１．５ｍ2／ｇ）とし
た。
【００３３】触媒調製例１５ 空気中に於いて９５０℃にて３ｈ焼成した酸化マグネシ
ウムを０．２７〜０．７５ｍｍに整粒後、含浸法でＲｕ
を担持し、更に空気中に於いて９５０℃で焼成すること
によりＲｕ担持ＭｇＯ触媒（ＲｕはＭｇＯ １ｇに対し
て２．５×１０-4ｇ担持されており、ｍｏｌ換算の担持
量は０．０１ｍｏｌ％）を得た。Ｒｕ含浸体は、焼成Ｍ
ｇＯにルテニウム（III）クロライドハイドレート水溶
液を極めて少量ずつ滴下し、かつ滴下毎に混振すること
により得られる。この場合のルテニウム（III）クロラ
イドハイドレート水溶液はＲｕを０．１７ｗｔ％含む水
溶液である。この含浸体を空気中に於いて１２０℃にて
２．５ｈ乾燥、同雰囲気中９５０℃にて３ｈ焼成し、Ｒ
ｕ担持ＭｇＯ触媒（表面積４．８ｍ2／ｇ）とした。こ
の場合、Ｒｕは酸化ルテニウムとして担持されていた。
ウムを０．２７〜０．７５ｍｍに整粒後、含浸法でＲｕ
を担持し、更に空気中に於いて９５０℃で焼成すること
によりＲｕ担持ＭｇＯ触媒（ＲｕはＭｇＯ １ｇに対し
て２．５×１０-4ｇ担持されており、ｍｏｌ換算の担持
量は０．０１ｍｏｌ％）を得た。Ｒｕ含浸体は、焼成Ｍ
ｇＯにルテニウム（III）クロライドハイドレート水溶
液を極めて少量ずつ滴下し、かつ滴下毎に混振すること
により得られる。この場合のルテニウム（III）クロラ
イドハイドレート水溶液はＲｕを０．１７ｗｔ％含む水
溶液である。この含浸体を空気中に於いて１２０℃にて
２．５ｈ乾燥、同雰囲気中９５０℃にて３ｈ焼成し、Ｒ
ｕ担持ＭｇＯ触媒（表面積４．８ｍ2／ｇ）とした。こ
の場合、Ｒｕは酸化ルテニウムとして担持されていた。
【００３４】触媒調製例１６ 空気中に於いて３００℃にて３ｈ焼成した酸化マグネシ
ウムを０．２７〜０．７５ｍｍに整粒後、含浸法でＲｈ
を担持し、更に空気中に於いて１０５０℃で焼成するこ
とによりＲｈ担持ＭｇＯ触媒（ＲｈはＭｇＯ１ｇに対し
て２．３×１０-3ｇ担持されており、ｍｏｌ換算の担持
量は０．０９ｍｏｌ％）を得た。このＲｈ含浸体は、焼
成ＭｇＯにロジウム（III）アセテート水溶液を極めて
少量ずつ滴下し、かつ滴下毎に混振することにより得ら
れる。この場合のロジウム（III）アセテート水溶液は
Ｒｕを１．５ｗｔ％含む水溶液である。この含浸体を空
気中に於いて１２０℃にて２．５ｈ乾燥、同雰囲気中１
０５０℃にて３ｈ焼成し、Ｒｈ担持ＭｇＯ触媒（表面積
２．０ｍ2／ｇ）とした。この場合、Ｒｈは酸化ロジウ
ムとして担持されていた。
ウムを０．２７〜０．７５ｍｍに整粒後、含浸法でＲｈ
を担持し、更に空気中に於いて１０５０℃で焼成するこ
とによりＲｈ担持ＭｇＯ触媒（ＲｈはＭｇＯ１ｇに対し
て２．３×１０-3ｇ担持されており、ｍｏｌ換算の担持
量は０．０９ｍｏｌ％）を得た。このＲｈ含浸体は、焼
成ＭｇＯにロジウム（III）アセテート水溶液を極めて
少量ずつ滴下し、かつ滴下毎に混振することにより得ら
れる。この場合のロジウム（III）アセテート水溶液は
Ｒｕを１．５ｗｔ％含む水溶液である。この含浸体を空
気中に於いて１２０℃にて２．５ｈ乾燥、同雰囲気中１
０５０℃にて３ｈ焼成し、Ｒｈ担持ＭｇＯ触媒（表面積
２．０ｍ2／ｇ）とした。この場合、Ｒｈは酸化ロジウ
ムとして担持されていた。
【００３５】触媒調製例１７ 空気中に於いて１０００℃にて３ｈ焼成した酸化マグネ
シウムを０．２７〜０．７５ｍｍに整粒後、含浸法でＲ
ｈを担持し、更に空気中に於いて９５０℃で焼成するこ
とによりＲｈ担持ＭｇＯ触媒（ＲｈはＭｇＯ １ｇに対
して１．５×１０-4ｇ担持されており、ｍｏｌ換算の担
持量は０．００６ｍｏｌ％）を得た。Ｒｈ含浸体は、焼
成ＭｇＯにロジウム（III）アセテート水溶液を極めて
少量ずつ滴下し、かつ滴下毎に混振することにより得ら
れる。この場合に用いたロジウム（III）アセテート水
溶液は０．１ｗｔ％のＲｈを含む水溶液である。このＲ
ｈ含浸体を空気中に於いて１２０℃にて２．５ｈ乾燥、
同雰囲気中９５０℃にて３ｈ焼成し、Ｒｈ担持ＭｇＯ触
媒(表面積５．６ｍ2／ｇ)とした。
シウムを０．２７〜０．７５ｍｍに整粒後、含浸法でＲ
ｈを担持し、更に空気中に於いて９５０℃で焼成するこ
とによりＲｈ担持ＭｇＯ触媒（ＲｈはＭｇＯ １ｇに対
して１．５×１０-4ｇ担持されており、ｍｏｌ換算の担
持量は０．００６ｍｏｌ％）を得た。Ｒｈ含浸体は、焼
成ＭｇＯにロジウム（III）アセテート水溶液を極めて
少量ずつ滴下し、かつ滴下毎に混振することにより得ら
れる。この場合に用いたロジウム（III）アセテート水
溶液は０．１ｗｔ％のＲｈを含む水溶液である。このＲ
ｈ含浸体を空気中に於いて１２０℃にて２．５ｈ乾燥、
同雰囲気中９５０℃にて３ｈ焼成し、Ｒｈ担持ＭｇＯ触
媒(表面積５．６ｍ2／ｇ)とした。
【００３６】触媒調製例１８ 空気中に於いて５００℃にて３ｈ焼成した酸化マグネシ
ウムを０．２７〜０．７５ｍｍに整粒後、含浸法でＲｈ
とＰｔを担持し、更に空気中に於いて１０５０℃で焼成
することによりＲｈとＰｔ担持ＭｇＯ触媒（ＲｈとＰｔ
の担持量はＭｇＯ １ｇに対してそれぞれ１．８×１０
-3ｇ、４．８×１０-4ｇ担持されており、ｍｏｌ換算の
担持量はそれぞれ０．０７ｍｏｌ％と０．０１ｍｏｌ
％）を得た。このＲｈとＰｔ含浸体は、焼成ＭｇＯにロ
ジウム（III）アセテートと塩化白金酸（〔Ｈ2ＰｔＣｌ
6〕）の水溶液を極めて少量ずつ滴下し、かつ滴下毎に
混振することにより得られる。この場合、滴下した混合
水溶液はＲｈとＰｔをそれぞれ１．２ｗｔ％と０．３２
ｗｔ％含む水溶液である。この含浸体を空気中に於いて
１２０℃にて２．５ｈ乾燥、同雰囲気中１０５０℃にて
３ｈ焼成し、ＲｈとＰｔ担持ＭｇＯ触媒(表面積１．４
ｍ2/ｇ)とした。
ウムを０．２７〜０．７５ｍｍに整粒後、含浸法でＲｈ
とＰｔを担持し、更に空気中に於いて１０５０℃で焼成
することによりＲｈとＰｔ担持ＭｇＯ触媒（ＲｈとＰｔ
の担持量はＭｇＯ １ｇに対してそれぞれ１．８×１０
-3ｇ、４．８×１０-4ｇ担持されており、ｍｏｌ換算の
担持量はそれぞれ０．０７ｍｏｌ％と０．０１ｍｏｌ
％）を得た。このＲｈとＰｔ含浸体は、焼成ＭｇＯにロ
ジウム（III）アセテートと塩化白金酸（〔Ｈ2ＰｔＣｌ
6〕）の水溶液を極めて少量ずつ滴下し、かつ滴下毎に
混振することにより得られる。この場合、滴下した混合
水溶液はＲｈとＰｔをそれぞれ１．２ｗｔ％と０．３２
ｗｔ％含む水溶液である。この含浸体を空気中に於いて
１２０℃にて２．５ｈ乾燥、同雰囲気中１０５０℃にて
３ｈ焼成し、ＲｈとＰｔ担持ＭｇＯ触媒(表面積１．４
ｍ2/ｇ)とした。
【００３７】比較触媒調製例１ 空気中に於いて３７０℃にて３ｈ焼成した酸化マグネシ
ウムを０．２７〜０．７５ｍｍに整粒後、含浸法でＲｈ
を担持し、更に空気中に於いて３７０℃で焼成すること
によりＲｈ担持ＭｇＯ触媒（ＲｈはＭｇ １ｇに対して
２．６×１０-3ｇ担持されており、ｍｏｌ換算の担持量
は０．１０ｍｏｌ％）を得た。この含浸体は焼成ＭｇＯ
にロジウム（III）アセテート水溶液を極めて少量ずつ
滴下、滴下毎に混振することにより得られる。滴下した
ロジウム（III）アセテート水溶液中のＲｈ濃度は１．
７ｗｔ％である。この含浸体を空気中に於いて１２０℃
にて２．５ｈ乾燥、同雰囲気中３７０℃にて３ｈ焼成
し、Ｒｈ担持ＭｇＯ触媒（表面積９８ｍ2／ｇ）とし
た。
ウムを０．２７〜０．７５ｍｍに整粒後、含浸法でＲｈ
を担持し、更に空気中に於いて３７０℃で焼成すること
によりＲｈ担持ＭｇＯ触媒（ＲｈはＭｇ １ｇに対して
２．６×１０-3ｇ担持されており、ｍｏｌ換算の担持量
は０．１０ｍｏｌ％）を得た。この含浸体は焼成ＭｇＯ
にロジウム（III）アセテート水溶液を極めて少量ずつ
滴下、滴下毎に混振することにより得られる。滴下した
ロジウム（III）アセテート水溶液中のＲｈ濃度は１．
７ｗｔ％である。この含浸体を空気中に於いて１２０℃
にて２．５ｈ乾燥、同雰囲気中３７０℃にて３ｈ焼成
し、Ｒｈ担持ＭｇＯ触媒（表面積９８ｍ2／ｇ）とし
た。
【００３８】反応例１ 触媒調製例１２で調製した触媒５ｃｃを反応器に充填
し、メタンの部分酸化試験を実施した。触媒は、予めＨ
2気流中８５０℃で１ｈ還元処理を行った後、ＣＨ4：Ｏ
2モル比＝１：０．５の原料ガスを圧力２０Ｋｇ／ｃｍ2
Ｇ、温度８００℃、メタン基準のＧＨＳＶ＝５０００ｈ
ｒ-1の条件で処理した。反応開始から５ｈ経過後のＣＨ
4転化率は５５％（実験条件下のＣＨ4の平衡転化率＝５
６％）であり、また反応開始から２００ｈ経過後のＣＨ
4の転化率は、５３％であった。
し、メタンの部分酸化試験を実施した。触媒は、予めＨ
2気流中８５０℃で１ｈ還元処理を行った後、ＣＨ4：Ｏ
2モル比＝１：０．５の原料ガスを圧力２０Ｋｇ／ｃｍ2
Ｇ、温度８００℃、メタン基準のＧＨＳＶ＝５０００ｈ
ｒ-1の条件で処理した。反応開始から５ｈ経過後のＣＨ
4転化率は５５％（実験条件下のＣＨ4の平衡転化率＝５
６％）であり、また反応開始から２００ｈ経過後のＣＨ
4の転化率は、５３％であった。
【００３９】反応例２ 触媒調製例１３で調製した触媒５ｃｃを反応器に充填
し、メタンの部分酸化試験を実施した。触媒は、予めＨ
2気流中８００℃で１ｈ還元処理を行った後、ＣＨ4：Ｏ
2モル比＝１：０．５の原料ガスを圧力１５Ｋｇ／ｃｍ2
Ｇ、温度７５０℃、メタン基準のＧＨＳＶ＝４０００ｈ
ｒ-1の条件で処理した。反応開始から５ｈ経過後のＣＨ
4転化率は５２％（実験条件下のＣＨ4の平衡転化率＝５
２％）であり、また反応開始から１５０ｈ経過後のＣＨ
4の転化率は、５０％であった。
し、メタンの部分酸化試験を実施した。触媒は、予めＨ
2気流中８００℃で１ｈ還元処理を行った後、ＣＨ4：Ｏ
2モル比＝１：０．５の原料ガスを圧力１５Ｋｇ／ｃｍ2
Ｇ、温度７５０℃、メタン基準のＧＨＳＶ＝４０００ｈ
ｒ-1の条件で処理した。反応開始から５ｈ経過後のＣＨ
4転化率は５２％（実験条件下のＣＨ4の平衡転化率＝５
２％）であり、また反応開始から１５０ｈ経過後のＣＨ
4の転化率は、５０％であった。
【００４０】反応例３ 触媒調製例１４で調製した触媒５ｃｃを反応器に充填
し、メタンの部分酸化試験を実施した。触媒は、予めＨ
2気流中１１００℃で１ｈ還元処理を行った後、ＣＨ4：
Ｏ2：Ｈ2Ｏモル比＝１：０．５：０．５の原料ガスを圧
力２０Ｋｇ／ｃｍ2Ｇ、温度１０００℃、メタン基準の
ＧＨＳＶ＝５０００ｈｒ-1の条件で処理した。反応開始
から５ｈ経過後のＣＨ4転化率は９３％（実験条件下の
ＣＨ4の平衡転化率＝９４％）であり、また反応開始か
ら１００ｈ経過後のＣＨ4の転化率は、９３％であっ
た。
し、メタンの部分酸化試験を実施した。触媒は、予めＨ
2気流中１１００℃で１ｈ還元処理を行った後、ＣＨ4：
Ｏ2：Ｈ2Ｏモル比＝１：０．５：０．５の原料ガスを圧
力２０Ｋｇ／ｃｍ2Ｇ、温度１０００℃、メタン基準の
ＧＨＳＶ＝５０００ｈｒ-1の条件で処理した。反応開始
から５ｈ経過後のＣＨ4転化率は９３％（実験条件下の
ＣＨ4の平衡転化率＝９４％）であり、また反応開始か
ら１００ｈ経過後のＣＨ4の転化率は、９３％であっ
た。
【００４１】比較反応例１ 反応例１において、触媒として、比較触媒調製例１で得
た触媒を用いた以外は同様にして反応実験を行った。こ
の場合、反応開始から５ｈ経過後のＣＨ4転化率は１３
％であり、また、反応開始から４０ｈ経過後のＣＨ4転
化率は９％であった。
た触媒を用いた以外は同様にして反応実験を行った。こ
の場合、反応開始から５ｈ経過後のＣＨ4転化率は１３
％であり、また、反応開始から４０ｈ経過後のＣＨ4転
化率は９％であった。
【００４２】
【発明の効果】本発明で用いる触媒は、炭素析出活性の
著しく抑制されたものであるが、含炭素有機化合物の合
成ガス化に必要な活性はこれを保持する。従って、本発
明によれば、長時間にわたって、炭素の析出を抑制し、
合成ガスを連続的に収率よく製造することができる。し
かも、本発明触媒を用いるときには、加圧条件下におい
ても炭素析出を効果的に抑制し得ることから、合成ガス
の製造装置は小型のもので済み、装置コストの低減化が
達成される。
著しく抑制されたものであるが、含炭素有機化合物の合
成ガス化に必要な活性はこれを保持する。従って、本発
明によれば、長時間にわたって、炭素の析出を抑制し、
合成ガスを連続的に収率よく製造することができる。し
かも、本発明触媒を用いるときには、加圧条件下におい
ても炭素析出を効果的に抑制し得ることから、合成ガス
の製造装置は小型のもので済み、装置コストの低減化が
達成される。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 和田 幸隆 神奈川県横浜市鶴見区鶴見中央二丁目12番 １号 千代田化工建設株式会社内 (72)発明者 志村 光則 神奈川県横浜市鶴見区鶴見中央二丁目12番 １号 千代田化工建設株式会社内 (72)発明者 浅岡 佐知夫 神奈川県横浜市鶴見区鶴見中央二丁目12番 １号 千代田化工建設株式会社内 (72)発明者 若松 周平 神奈川県横浜市鶴見区鶴見中央二丁目12番 １号 千代田化工建設株式会社内
Claims (7)
- 【請求項１】 含炭素有機化合物と酸素とを触媒の存在
下で反応させて合成ガスを製造する方法において、該触
媒として、金属酸化物からなる担体に第８族金属の中か
ら選ばれる少なくとも１種の触媒金属を担持させた触媒
であって、（ｉ）該担体金属酸化物中の金属イオンの電
気陰性度が１３．０以下であり、（ii）該触媒の比表面
積が２５ｍ2／ｇ以下であり、（iii）該触媒金属の担持
量が該担体金属酸化物に対して０．０００５〜０．１モ
ル％である触媒を用いることを特徴とする合成ガスの製
造方法。 - 【請求項２】 該触媒金属が、ロジウム及び／又はルテ
ニウムである請求項１の方法。 - 【請求項３】 該担体金属酸化物中の金属イオンの電気
陰性度が４〜１２である請求項１又は２の方法。 - 【請求項４】 該触媒の比表面積が０．０１〜１０ｍ2
／ｇである請求項１〜３のいずれかの方法。 - 【請求項５】 該担体金属酸化物がマグネシアである請
求項１〜４のいずれかの方法。 - 【請求項６】 該含炭素有機化合物中の炭素１モル当
り、該酸素のモル数が２〜０．１モルである請求項１〜
５のいずれかの方法。 - 【請求項７】 反応温度が７００〜１２００℃である請
求項１〜６のいずれかの方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11782298A JP4226684B2 (ja) | 1997-04-11 | 1998-04-13 | 部分酸化法による合成ガスの製造方法 |
Applications Claiming Priority (7)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9-110436 | 1997-04-11 | ||
| JP11043697 | 1997-04-11 | ||
| JP12630497 | 1997-04-30 | ||
| JP9-126304 | 1997-04-30 | ||
| JP9-250062 | 1997-08-29 | ||
| JP25006297 | 1997-08-29 | ||
| JP11782298A JP4226684B2 (ja) | 1997-04-11 | 1998-04-13 | 部分酸化法による合成ガスの製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11130404A true JPH11130404A (ja) | 1999-05-18 |
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ID=27469825
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| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11782298A Expired - Fee Related JP4226684B2 (ja) | 1997-04-11 | 1998-04-13 | 部分酸化法による合成ガスの製造方法 |
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|---|---|
| JP (1) | JP4226684B2 (ja) |
Cited By (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001080907A (ja) * | 1999-08-19 | 2001-03-27 | Haldor Topsoe As | 酸素含有ガスの予備改質方法 |
| JP2002173303A (ja) * | 2000-12-06 | 2002-06-21 | Japan National Oil Corp | 合成ガスの製法 |
| JP2002173304A (ja) * | 2000-12-06 | 2002-06-21 | Japan Petroleum Exploration Co Ltd | オートサーマルリホーミングによる合成ガスの製法 |
| JP2005089436A (ja) * | 2003-09-18 | 2005-04-07 | Electric Power Dev Co Ltd | 芳香族化合物のハイブリッド製造方法 |
| JP2007117798A (ja) * | 2005-10-25 | 2007-05-17 | Ishikawajima Harima Heavy Ind Co Ltd | 改質触媒、改質方法、運転方法及び改質触媒の構造 |
| JP2008505047A (ja) * | 2004-07-09 | 2008-02-21 | アセテクス（キプロス）リミテッド | メタノールフィードストックの部分酸化による酢酸合成のための合成ガスの調製 |
| JP2008136907A (ja) * | 2006-11-30 | 2008-06-19 | Tanaka Kikinzoku Kogyo Kk | 合成ガス製造用の触媒 |
| JP2012223769A (ja) * | 2012-08-20 | 2012-11-15 | Nippon Shokubai Co Ltd | アンモニア分解触媒の製造方法 |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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-
1998
- 1998-04-13 JP JP11782298A patent/JP4226684B2/ja not_active Expired - Fee Related
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|---|---|---|---|---|
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| JP2008505047A (ja) * | 2004-07-09 | 2008-02-21 | アセテクス（キプロス）リミテッド | メタノールフィードストックの部分酸化による酢酸合成のための合成ガスの調製 |
| JP2007117798A (ja) * | 2005-10-25 | 2007-05-17 | Ishikawajima Harima Heavy Ind Co Ltd | 改質触媒、改質方法、運転方法及び改質触媒の構造 |
| JP2008136907A (ja) * | 2006-11-30 | 2008-06-19 | Tanaka Kikinzoku Kogyo Kk | 合成ガス製造用の触媒 |
| JP2012223769A (ja) * | 2012-08-20 | 2012-11-15 | Nippon Shokubai Co Ltd | アンモニア分解触媒の製造方法 |
| US11192791B2 (en) | 2018-04-11 | 2021-12-07 | National University Corporation Hokkaido University | Light hydrocarbon partial oxidation catalyst and carbon monoxide production method using same |
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|---|---|
| JP4226684B2 (ja) | 2009-02-18 |
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