JPH11125910A

JPH11125910A - 露光装置

Info

Publication number: JPH11125910A
Application number: JP9289626A
Authority: JP
Inventors: Eiichi Miyake; 栄一三宅
Original assignee: San Ei Giken Inc
Current assignee: San Ei Giken Inc
Priority date: 1997-10-22
Filing date: 1997-10-22
Publication date: 1999-05-11

Abstract

(57)【要約】【課題】基板に対して高精度で迅速な分割露光処理を
行う。【解決手段】露光装置は、複数のフォトマスク１が取
り付けられる枠部材２と、基板３を保持する基板ホルダ
４とを備える。基板３上には、感光レジスト材料の層を
備えた露光領域５が設けられている。フォトマスク１を
通して光源からの光線を露光領域５に照射することによ
り、フォトマスク１に描かれたパターンが基板３の表面
に転写される。枠部材２と基板ホルダ４との間の相対移
動を可能にするため、露光装置は移動手段１５、１６、
１８、１９、２１、２３、２４、２５を備えている。こ
の移動手段により、複数のフォトマスク１のうちの選択
されたものを露光領域５のうちの選択された分割露光領
域に対向させて位置づけ、分割露光処理を行う。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、感光レジスト材料
の層を備えた露光領域を表面に有する基板に接触または
近接するようにして配置されたフォトマスクを通して、
光源からの光線を基板表面に照射することにより、前記
フォトマスクに描かれたパターンを基板表面に転写する
ための露光装置に関する。本発明は特に、より高精度な
露光処理を行うための上記形式の露光装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】プリント回路基板に用いられるプラスチ
ック基板や、液晶ディスプレイ等に用いられるガラス基
板に形成されるパターンは、年々、高密度化および高精
度化が進んでいる。一方、生産性の向上を図るべく、一
枚の基板から出来るだけ多くの数の製品を生産できるよ
う、基板サイズの大型化も進んでいる。

【０００３】基板とこれに対応するフォトマスクとの位
置合わせを行うときの精度は、基板およびフォトマスク
の伸縮や寸法精度によって影響されるが、一般的には、
基板およびフォトマスクが大きくなるほど、位置合わせ
精度は低下する。

【０００４】また、前述したように、生産性向上のため
に大きな基板を使用する場合、必要な位置合わせ精度が
満たされることを条件に、該基板に対応する一枚の大き
なフォトマスクを用いようとしても、そのような大きな
面積のフォトマスクを製作することは非常に困難である
か、または可能であっても非常に高価なものとなる場合
が多い。

【０００５】したがって、大型の基板を使用する場合で
あっても、複数のパターンを有する一枚の大きなフォト
マスクと基板とを位置合わせして基板の露光領域全体を
一度に露光処理する形式をとるよりも、基板に比べて小
さな一枚のフォトマスクを使用してこれに対応する面積
の分割露光領域ごとに位置合わせを行い且つ露光処理を
する形式をとる方が得策となる。

【０００６】しかしながら、このような分割露光処理形
式をとる場合においても、転写すべきパターンが分割露
光領域ごとに異なるときには、違うパターンを転写する
たびにフォトマスクを交換しなければならず、大きなタ
イムロスが生じていた。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】そこで本発明は、生産
性の向上を図るべく大型の基板を使用することを可能と
し、且つ、小さなフォトマスクを用いた高精度の分割露
光処理形式を利用しながらも、上述したようなフォトマ
スク交換に伴うタイムロスを無くすことにより更なる生
産性の向上を実現することを課題とする。

【０００８】

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するた
め、本発明によれば、感光レジスト材料の層を備えた露
光領域を表面に有する基板に接触または近接するように
して配置されたフォトマスクを通して、光源からの光線
を前記露光領域に照射することにより、前記フォトマス
クに描かれたパターンを基板表面に転写するための露光
装置において、複数のフォトマスクが取り付けられる枠
部材と、前記基板を保持する基板ホルダと、前記複数の
フォトマスクのうちの選択されたフォトマスクを前記露
光領域のうちの選択された分割露光領域に対向させて位
置づけるべく、前記枠部材と前記基板ホルダとの間の相
対移動を可能とする移動手段と、を備えることを特徴と
する露光装置が提供される。

【０００９】前記移動手段は、前記枠部材に連結された
枠部材移動機構を含むことができる。

【００１０】また、前記移動手段は、前記基板ホルダに
連結された基板ホルダ移動機構を含むものであってもよ
い。

【００１１】前記移動手段は、前記枠部材と前記基板ホ
ルダとの間の相対的なＸ、Ｙ、Ｚ方向移動および回転移
動を可能としているものとすることができる。

【００１２】前記枠部材は、外周縁部分と、該外周縁部
分の互いに対向する部分間に延びる内側梁部分とからな
るものとし、前記外周縁部分が、前記フォトマスクの縁
部を該外周縁部分上に取り付けるための機械的固着保持
手段または真空吸着保持手段を有し、前記内側梁部分
が、前記フォトマスクの縁部を該内側梁部分に取り付け
るための真空吸着保持手段を有し、前記内側梁部分上で
は隣接するフォトマスクの縁部どうしが互いに近接して
位置づけられるようにすることもできる。

【００１３】前記選択されたフォトマスク上のパターン
のみをこれに対向する前記選択された分割露光領域に転
写するときに、該選択された分割露光領域への前記光線
の照射を許容するとともに他の分割露光領域を覆うべく
選択的に作動可能なシャッタ装置、をさらに備えるよう
にしてもよい。

【００１４】前記シャッタ装置は前記フォトマスクの光
源側に配置することができる。

【００１５】前記枠部材は、前記フォトマスクとの接続
部分にて該フォトマスクの隣接面と鈍角をなす傾斜面を
有するものとし、該隣接面と傾斜面とにまたがって密封
用のテープを貼付可能とすることができる。

【００１６】

【発明の実施の形態】本発明による露光装置の一実施例
の断面は図１に示す。露光装置は、フォトマスク１が取
り付けられる枠部材２を備えている。露光装置はさら
に、基板３を保持する基板ホルダ４を備えている。基板
３の表面は、感光レジスト材料の層を備えた露光領域５
を有している。

【００１７】図１の左側に位置する光源（図示せず）か
ら、基板３に接触または近接するようにして配置された
フォトマスク１を通して基板３の露光領域５に光線（例
えば紫外線ＵＶ）を照射することにより、フォトマスク
１上に描かれたパターンを基板表面に転写する原理は従
来のものと変わらない。

【００１８】本発明における枠部材２は、フォトマスク
１を複数枚、取り付けるようになされている。大型基板
の露光領域全体に対応する大型のフォトマスクを想定し
た場合、該大型フォトマスクを複数の小型のフォトマス
クに分割して枠部材２に取り付けるようにしたと考えて
もよい。

【００１９】かかる枠部材２とフォトマスク１とを図２
に示す。なお、図２においては複数のフォトマスクを
ないしで表現する。図２の（イ）は２枚のフォトマス
クを取り付けるための枠部材２を示し、（ロ）にはこれ
ら２枚のフォトマスクおよびを枠部材２に取り付け
た状態が示されている。同様に、（ハ）には４枚のフォ
トマスクを取り付けるための枠部材２が示され、（ニ）
は、この枠部材２に４枚のフォトマスクないしを取
り付けた状態を示している。

【００２０】枠部材２は、外周縁部分６と、内側梁部分
７とからなる。外周縁部分６は、枠部材２の外側部分を
形成しており、内側梁部分７は、外周縁部分６の互いに
対向する部分間に延びている。外周縁部分と内側梁部分
７とでは、フォトマスクないしの取り付け方が異な
る。すなわち、外周縁部分６ではフォトマスクの縁部を
機械的固着手段である止め金具で取り付けているのに対
し、内側梁部分７ではフォトマスクの縁部を真空吸着保
持手段である吸着孔９からの真空吸引力で取り付けてい
る。内側梁部分７の随所に設けられた位置決めピン１０
が、フォトマスクの位置決めを容易にしている。止め金
具８は、外側縁部分６に形成されたネジ穴１１を利用し
てネジ止めされる。なお、外周縁部分６における止め金
具８を利用した機械的固着手段を、内側梁部分７におけ
るような、吸着孔９と同様の吸着孔を利用した真空吸着
手段に代えてもよい。

【００２１】図３および図４には、フォトマスク１の縁
部が枠部材２に取り付けられている態様が詳細に示され
ている。特に図４から理解できるように、内側梁部分７
の内部には吸入ヘッダ１２が形成されており、該吸入ヘ
ッダ１２に連通する吸着孔９が内側梁部分７の表面に開
口している。図２ないし図４に示すように、吸着孔９は
内側梁部分７の長手方向に沿って２列設けられており、
それにより、内側梁部分７上では、隣接するフォトマス
クの縁部どうしが互いに近接して位置付けられている。
内側梁部分７上におけるフォトマスクの縁部の取り付け
を、止め金具８を用いて行うとすると、止め金具８の爪
がフォトマスクの厚さを越えて突出し、基板３とフォト
マスク１とを密着させようとするときに該爪が妨げとな
る。しかし、本実施例のように内側梁部分７上でのフォ
トマスクの縁部の取り付けを真空吸着手段で行うことに
より、基板３とフォトマスクとの密着が可能となる。

【００２２】本発明による露光装置は、図２に示した複
数のフォトマスクおよびまたはないしのうちの
選択されたフォトマスクを、基板３上の露光領域５のう
ちの選択された分割露光領域に対向させて位置付けるた
めに、枠部材２と基板ホルダ４との間に相対移動を生じ
させる移動手段を備えている。この移動手段は、枠部材
２と基板ホルダ４との間に相対的なＸ方向、Ｙ方向およ
びＺ方向の移動ならびに相対的な回転移動をもたらすも
のとされる。かかる移動手段は、枠部材２または基板ホ
ルダ４のいずれか一方に連結させて設けてもよい。ある
いはまた、枠部材２および基板ホルダ４の双方にこのよ
うな移動手段が一つずつ連結されるようにしてもよい。
さらに、枠部材２および基板ホルダ４にはそれぞれ個別
の移動機構が連結されており、これらの移動機構の機能
を組み合わせることにより、前述したようなＸ、Ｙ、Ｚ
方向移動および回転移動が可能な移動手段が構成される
ようにしてもよい。

【００２３】図１の実施例について、まず、枠部材２に
連結された移動手段である枠部材移動機構について説明
する。フォトマスク１を取り付けた枠部材２は、金具１
３によって第１のベース１４に固定されている。この第
１のベース１４は、Ｘ方向（図１の紙面に垂直な方向）
に移動可能なように、ボールネジおよびモータ１５、リ
ニアベアリング１６を利用したＸ方向移動機構を介して
第２のベース１７に取り付けられている。また、該第２
のベース１７は、Ｙ方向（図１で上下方向）に移動可能
なように、ボールネジおよびモータ１８、リニアベアリ
ング１９を利用したＹ方向移動機構を介して第３のベー
ス２０に取り付けられている。したがって、これらＸ方
向移動機構およびＹ方向移動機構からなる枠部材移動機
構は、枠部材２がＸ方向およびＹ方向に任意に移動する
ことを可能にする。なお、枠部材移動機構がさらに、枠
部材２をＺ方向に移動させるためのＺ方向移動機構およ
び枠部材２をその面内で回転移動させるための回転移動
機構のいずれか一方または双方を備えるようにしてもよ
い。

【００２４】次に、基板ホルダ４に連結された基板ホル
ダ移動機構について説明する。基板ホルダ４は、フォト
マスク１側の表面にて基板３を真空吸着保持するように
なされている。該基板ホルダ４は、ＸＹθ方向移動機構
２１を介してブロック２２に取り付けられており、その
結果、基板３は、Ｘ方向およびＹ方向に移動可能である
とともに、その面内で回転角度位置を変えることができ
る。さらに、ブロック２２は、ボールネジおよびモータ
２３、リニアベアリング２４を利用したＺ方向移動機構
により、Ｚ方向（図１において左右方向）に移動可能な
ようにレール２５上に取り付けられている。したがっ
て、基板３は、フォトマスク１に対して近接または離反
するように移動可能となっている。これらＸＹθ方向移
動機構２１およびＺ方向移動機構からなる基板ホルダ移
動機構は、基板ホルダ４がＸ方向、Ｙ方向、Ｚ方向およ
びθ方向に任意に移動することを可能にする。

【００２５】本発明の露光装置によって、図２の（ロ）
（ニ）に示した２枚または４枚のフォトマスクおよび
またはないしのうちの選択されたフォトマスク上
のパターンのみを、基板３の露光領域５のうちの選択さ
れた分割露光領域に転写するときに、本実施例では図１
および図５に示すようなシャッタ装置２６が用いられ
る。図１に示すように、シャッタ装置２６はフォトマス
ク１の光源側（図１で左側）にて第１のベース１４に取
り付けられている。図５に示すように、シャッタ装置２
６は、駆動装置２７（詳細は図示せず）と、該駆動装置
２７によってＸ方向（図５において左右方向）にスライ
ド可能なように取り付けられた４枚のシャッタ部材２８
（それぞれ符号ないしが付されている）とを備えて
いる。４枚のシャッタ部材２８は、駆動装置２７によっ
て個別に選択的に作動可能とされている。（イ）には、
ないしの４枚のシャッタ部材２８がすべて閉じられ
て基板３の露光領域５全体を覆っている状態が示されて
いる。（ロ）では、のシャッタ部材２８のみがＸ方向
にスライドして開かれ、基板３の露光領域５のうち４分
の１の面積の分割露光領域のみが光源からの光線の照射
を受けることができるようになされている。（ハ）にお
いては、およびの２枚のシャッタ部材２８がＸ方向
に移動し、露光領域５のうち２分の１の面積の分割露光
領域が光線の照射を受けるようになされている。

【００２６】図５では、シャッタ装置２６を、図２
（ハ）（ニ）に示したようなフォトマスクを４枚取り付
け可能な枠部材２とともに使用した例を図示したが、図
２（イ）（ロ）に示したようなフォトマスクを２枚取り
付け可能な枠部材２とともに用いることも可能である。
この場合、２枚のフォトマスクに対応する大きさの２枚
のシャッタ部材２８を備えるようにしてもよい。

【００２７】以上のような構成の露光装置によって行わ
れる分割露光処理方法を説明する。まず、露光装置から
外された状態の枠部材２に複数（例えば２枚または４
枚）のフォトマスク１が止め金具８によって固定され
る。次に、枠部材２は手動または自動で第１のベース１
４に金具１３によって固定される。

【００２８】例えば枠部材２に２枚のフォトマスクが取
り付けられ、基板３の露光領域５を２つの分割露光領域
ごとに露光処理する場合には、まず、前述した枠部材移
動機構および基板ホルダ移動機構のいずれか一方または
双方を用いて、図２（ロ）のフォトマスク上のパター
ンの位置に、基板３上の所定の分割露光領域（露光領域
５全体の２分の１の面積）がほぼ対応するようにしてお
く。また、基板ホルダ移動機構のＺ方向移動機構によ
り、基板３をフォトマスクに対して所定の距離になる
ようにしておく。

【００２９】次に、第３のベース２０に設けたＣＣＤカ
メラ（図示せず）によって、フォトマスクとこれに対
応する基板３上の分割露光領域との双方の周縁にそれぞ
れ形成された位置合わせマーク（図示せず）を読み取
り、そのデータを演算処理して、双方の位置合わせマー
ク間の「位置ずれ量」を算出し、その結果に基づいて、
基板ホルダ４と枠部材２との間に、必要な相対的ＸＹＺ
θ方向移動を生じさせることにより、フォトマスクと
基板３上の分割露光領域との双方における位置合わせマ
ーク間の整合を行う。かかる整合作業は、枠部材移動機
構および基板ホルダ移動機構のいずれか一方または双方
を用いて行うことができる。

【００３０】なお、この位置合わせマーク間の整合作業
の間、少なくともフォトマスクおよびこれに対応する
基板３の分割露光領域を覆うためのシャッタ部材２８
は、Ｘ方向外方に移動され、ＣＣＤカメラによる位置合
わせマークの読み取りを可能にしている。

【００３１】次に、光源からの紫外線ＵＶにより、基板
３上の上記分割露光領域の露光処理が行われるが、この
ときのシャッタ装置２６は、図５（ハ）におけるよう
に、２枚のシャッタ部材およびがＸ方向外方に移動
して所定の分割露光領域への紫外線ＵＶの照射を許容
し、一方、残りの２枚のシャッタ部材およびは残り
の分割露光領域を覆う位置とされ、該残りの分割露光領
域に紫外線ＵＶが照射されないようにする。

【００３２】次に、フォトマスクがこれに対応する未
処理（未露光）の分割露光領域に対応するよう、前述し
た枠部材移動機構および基板ホルダ移動機構のいずれか
一方または双方により、フォトマスクと未処理分割露
光領域との間の相対的な位置決め作業が行われる。フォ
トマスクに近接して配置されているフォトマスク
と、処理済みの分割露光領域に隣接する未処理分割露光
領域との間の相対的な位置決めを行うための相対移動量
は、わずかなものであるので、多くの時間は要しない。
フォトマスクと未処理分割露光領域との間における位
置合わせマーク間の整合作業および紫外線ＵＶの照射に
よる露光処理は、前述した方法と同様である。露光処理
時のシャッタ部材２８の位置は、図５（ハ）の状態とは
逆で、シャッタ部材およびがＸ方向外方に移動して
紫外線ＵＶの通過を許容し、シャッタ部材およびが
Ｘ方向内方に移動して既処理分割露光領域を覆うように
なされている。

【００３３】図２（ハ）（ニ）に示すように、枠部材２
が４枚のフォトマスクないしを取り付けるようにな
され、基板３上の露光領域５を４つの分割露光領域ごと
に露光処理する場合には、選択されたフォトマスクと選
択された分割露光領域との概略的な相対的位置決め、双
方の位置合わせマークどうしの整合作業、そして紫外線
ＵＶによる露光処理は、各フォトマスクないしと、
露光領域５全体の４分の１の面積を有する分割露光領域
との間で、上述した２分割露光方式と同様にしてそれぞ
れ行われる。紫外線ＵＶによる露光処理時のシャッタ部
材２８は、処理すべき分割露光領域に対応するシャッタ
部材のみがＸ方向外方に移動して紫外線ＵＶの通過を許
容し、他の領域に対応するシャッタ部材はすべてＸ方向
内方に移動されて該他の領域を覆うようにされる。

【００３４】図６および図７には、フォトマスク１との
気密性保持を図るのに適した枠部材２の変形例を示す。

【００３５】基板３とフォトマスク１とを真空吸引によ
り密着させる必要がある場合、フォトマスク１と枠部材
との間の気密性を保持しなければならない。もし、フォ
トマスク１と枠部材２との間にゴム等の弾性封止部材を
挿入して用いるとすれば、該弾性封止部材の変形により
フォトマスク１に曲げ力が加わり、フォトマスクの平面
性が維持できなくなる。その結果、位置合わせマークの
整合作業時および紫外線ＵＶによる露光時にフォトマス
ク１と基板３との距離が一定に保てなくなってしまう。

【００３６】図６および図７に示す枠部材２は、こうし
た欠点が解消できる構成を有している。この枠部材２
は、その外周縁にて、対向する基板ホルダ４に向かって
突出する封止部材２９を有している。該封止部材２９
は、基板ホルダ４の対向面に当接することにより、枠部
材２と基板ホルダ４との間の気密性を保つことができ
る。一方、枠部材２とフォトマスク１との間の気密性
は、フォトマスク１を取り付けた枠部材２の面とは反対
側の面から、枠部材２とフォトマスク１との間を粘着性
のテープ３０で封止することにより行われる。図３およ
び図４に示す実施例の枠部材２のように、枠部材２とフ
ォトマスク１との間が直角をなしていると、両者間にテ
ープ３０を密着させて貼ることは難しい。このテープ３
０の貼付を行いやすくするため、図６および図７の実施
例では、枠部材２の、フォトマスク１との接続部分が、
フォトマスク１の隣接面３１と鈍角をなす傾斜面３２と
されている。これによって、隣接面３１と傾斜面３２と
にまたがってテープ３０を密着させて貼ることが容易に
なる。また、フォトマスク１に不要な力が加わって変形
することもない。

【００３７】

【発明の効果】本発明の露光装置によれば、生産性の向
上を図るべく大型の基板を使用した場合において、これ
に対応する一枚の大きなフォトマスクを用いる代わり
に、小さなフォトマスクを複数用いてこれらを単一の枠
部材に取り付け、一体的に相対移動させながら、選択さ
れたフォトマスクおよびこれに対応するように基板上で
選択された分割露光領域ごとに露光処理を順次行うこと
ができる。小さなフォトマスクは、大きなフォトマスク
に比べて安価かつ容易に製作でき、しかも位置合わせ精
度も高い。

【００３８】小さなフォトマスクを一枚だけ用いるので
はなく、複数枚用いるので、選択されたフォトマスクと
これに対応する分割露光領域との位置決めもわずかな相
対移動量で行うことができる。また、分割露光領域ごと
にフォトマスクを交換する必要もないので、大きなタイ
ムロスを無くすことができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明による露光装置の一実施例の断面図であ
り、光源が配置されている部分を省略してある。

【図２】枠部材とこれに取り付けられたフォトマスクと
を示す正面図であり、（イ）はマスク２枚用の枠部材、
（ロ）はこれに２枚のマスクを取り付けた状態、（ハ）
はマスク４枚用の枠部材、（ニ）はこれに４枚のマスク
を取り付けた状態をそれぞれ示している。（ロ）および
（ニ）は図１におけるＣ−Ｃ矢視図に相当する。

【図３】枠部材にフォトマスクが取り付けられた状態を
示す断面図であり、図２におけるＡ−Ａ断面図に相当す
る。

【図４】枠部材の内側梁部分において互いに隣接する２
枚のフォトマスクの縁部が真空吸着保持される状態を示
す断面図であり、図３における円Ｂで囲んだ部分の拡大
図に相当する。

【図５】シャッタ装置を示す背面図であり、図１におけ
るＢ−Ｂ矢視図に相当する。（イ）は４枚のシャッタ部
材がすべて閉じられた状態、（ロ）は１枚のシャッタ部
材のみが開かれた状態、（ハ）は２枚のシャッタ部材の
みが開かれた状態をそれぞれ示す。

【図６】枠部材にフォトマスクが取り付けられた状態を
示す断面図であり、図３と同様、図２におけるＡ−Ａ断
面図に相当するが、この実施例の枠部材は密封用の構成
を有している。

【図７】図６のうち、密封用の構成を有する部分を拡大
した断片図である。

【符号の説明】

１フォトマスク、２枠部材、３基板、４基板ホ
ルダ、５露光領域、６外周縁部分、７内側梁部分、
８止め金具、９吸着孔、１０位置決めピン、１１
ねじ穴、１２吸入ヘッダ、１３金具、１４第１
のベース、１５ボールネジおよびモータ、１６リニア
ベアリング、１７第２のベース、１８ボールネジお
よびモータ、１９リニアベアリング、２０第３のベ
ース、２１ＸＹθ方向移動機構、２２ブロック、２
３ボールネジおよびモータ、２４リニアベアリン
グ、２５レール、２６シャッタ装置、２７駆動装
置、２８シャッタ部材、２９封止部材、３０テー
プ、３１フォトマスクの隣接面、３２枠部材の傾斜
面。

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】感光レジスト材料の層を備えた露光領域
を表面に有する基板に接触または近接するようにして配
置されたフォトマスクを通して、光源からの光線を前記
露光領域に照射することにより、前記フォトマスクに描
かれたパターンを基板表面に転写するための露光装置に
おいて、複数のフォトマスクが取り付けられる枠部材と、前記基板を保持する基板ホルダと、前記複数のフォトマスクのうちの選択されたフォトマス
クを前記露光領域のうちの選択された分割露光領域に対
向させて位置づけるべく、前記枠部材と前記基板ホルダ
との間の相対移動を可能とする移動手段と、を備えることを特徴とする露光装置。
【請求項２】請求項１に記載の露光装置において、前記移動手段が、前記枠部材に連結された枠部材移動機
構を含むことを特徴とする露光装置。
【請求項３】請求項１または２に記載の露光装置にお
いて、前記移動手段が、前記基板ホルダに連結された基板ホル
ダ移動機構を含むことを特徴とする露光装置。
【請求項４】請求項１ないし３のいずれかに記載の露
光装置において、前記移動手段が、前記枠部材と前記基板ホルダとの間の
相対的なＸ、Ｙ、Ｚ方向移動および回転移動を可能とし
ていることを特徴とする露光装置。
【請求項５】請求項１ないし４のいずれかに記載の露
光装置において、前記枠部材が、外周縁部分と、該外周縁部分の互いに対
向する部分間に延びる内側梁部分とからなり、前記外周縁部分が、前記フォトマスクの縁部を該外周縁
部分上に取り付けるための機械的固着保持手段を有して
おり、前記内側梁部分が、前記フォトマスクの縁部を該
内側梁部分に取り付けるための真空吸着保持手段を有し
ており、前記内側梁部分上では隣接するフォトマスクの縁部どう
しが互いに近接して位置づけられるようになされてい
る、ことを特徴とする露光装置。
【請求項６】請求項１ないし４のいずれかに記載の露
光装置において、前記枠部材が、外周縁部分と、該外周縁部分の互いに対
向する部分間に延びる内側梁部分とからなり、前記外周縁部分が、前記フォトマスクの縁部を該外周縁
部分上に取り付けるための真空吸着保持手段を有してお
り、前記内側梁部分が、前記フォトマスクの縁部を該内
側梁部分に取り付けるための真空吸着保持手段を有して
おり、前記内側梁部分上では隣接するフォトマスクの縁部どう
しが互いに近接して位置づけられるようになされてい
る、ことを特徴とする露光装置。
【請求項７】請求項１ないし６のいずれかに記載の露
光装置において、前記選択されたフォトマスク上のパターンのみをこれに
対向する前記選択された分割露光領域に転写するとき
に、該選択された分割露光領域への前記光線の照射を許
容するとともに他の分割露光領域を覆うべく選択的に作
動可能なシャッタ装置、をさらに備えることを特徴とす
る露光装置。
【請求項８】請求項７に記載の露光装置において、前記シャッタ装置が前記フォトマスクの光源側に配置さ
れていることを特徴とする露光装置。
【請求項９】請求項１ないし８のいずれかに記載の露
光装置において、前記枠部材が、前記フォトマスクとの接続部分にて該フ
ォトマスクの隣接面と鈍角をなす傾斜面を有しており、
該隣接面と傾斜面とにまたがって密封用のテープを貼付
可能となされていることを特徴とする露光装置。