JPH11119107A - 干渉顕微鏡装置 - Google Patents

干渉顕微鏡装置

Info

Publication number
JPH11119107A
JPH11119107A JP28379097A JP28379097A JPH11119107A JP H11119107 A JPH11119107 A JP H11119107A JP 28379097 A JP28379097 A JP 28379097A JP 28379097 A JP28379097 A JP 28379097A JP H11119107 A JPH11119107 A JP H11119107A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
light
phase
observation object
image
polarization
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn
Application number
JP28379097A
Other languages
English (en)
Inventor
Yukio Eda
幸夫 江田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Olympus Corp
Original Assignee
Olympus Optical Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Olympus Optical Co Ltd filed Critical Olympus Optical Co Ltd
Priority to JP28379097A priority Critical patent/JPH11119107A/ja
Publication of JPH11119107A publication Critical patent/JPH11119107A/ja
Withdrawn legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Instruments For Measurement Of Length By Optical Means (AREA)
  • Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
  • Microscoopes, Condenser (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 観察物体面の凹凸等を高分解能で測定するこ
とができる干渉顕微鏡装置を提供する。 【解決手段】 レーザ光源1と、このレーザ光源1から
の光の偏光の位相を変化させるセナルモンコンペンセー
タ3と、位相を変化させた前記光を互いに直交した偏光
状態となる物体光と参照光とに分割するノマルスキープ
リズム5と、この物体光と参照光とを観察物体面に照射
し、その反射光を基に観察物体情報を得るCCD撮像素
子10と、光路に対して出入可能に配置され、前記物体
光と参照光の干渉光を発生させる検光素子8と、検光素
子8が光路にある場合と無い場合のCCD撮像素子10
へ入射する光の強度差に基づく差分情報を演算する差分
画像演算手段14と、前記偏光の複数の位相状態に対応
する差分画像演算手段14で演算された複数の差分情報
から位相像情報を演算する位相像演算手段15とを有す
るものである。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、光学系を用いて観
察物体の凹凸を画像化する干渉顕微鏡装置に関する。
【0002】
【従来の技術】従来、物体光と参照光を干渉させ、その
光の位相差を利用して観察物体の凹凸を観察する位相干
渉顕微鏡装置として、図11に示すようにコヒーレント
な一定の波長の平面波を発生するレーザー発信器221
と、レーザー発信器221から発生したレーザー光を物
体光と参照光の2つに分割するハーフミラー222とを
具備している。
【0003】前記ハーフミラー222で反射された物体
光の光路上には,第1のレンズ223が配置され、物体
光は第1のレンズ223を通って観察物体224に入射
するようになっている。また、前記観察物体224に入
射した物体光は観察物体224の表面で反射し、再び第
1のレンズ223を通った反射光が光検出器225に入
射する。
【0004】一方、前記ハーフミラー222を透過した
参照光の光路上には、第2のレンズ226が配置され、
参照光は第2のレンズ226を通って基準平面ミラー2
27に入射する。そして、前記基準平面ミラー227で
反射した参照光は、再び第2のレンズ226を通ってハ
ーフミラー222で反射され、光検出器225に入射す
る。
【0005】前記光検出器225は、図示していないが
レンズ及びCCD素子を用いて構成され、観察物体22
4の反射光である物体光と基準平面ミラー227からの
反射光である参照光とが干渉した信号を検出する。光検
出器225にはメモリ228が接続され、光検出器22
5の検出出力を保存する。更に、メモリ228には、コ
ンピュータ229が接続されており、コンピュータ22
9はメモリ228の干渉強度から位相像を求めるように
なっている(V.R.Tychinsky,I.N.M
asalov.V.L.Pankov and D.
V.Ublinsky:OPTICS Comm.,V
ol.74,(1989),pp.37−40参照:第
1の従来例)。
【0006】前記レーザー発信器221の発生するレー
ザー光の波長をλ、位相の分解能をm(度)とすれば、
観察物体224の表面の凹凸に関する分解能Dは、D=
m・λ/(4π)の演算により求められる。
【0007】ここで、波長λ=633nm、位相の分解能
m=5度とすれば、凹凸の分解能D=4nmとなり、凹凸
の分解能は非常に高くなる。いま、観察物体224の表
面に垂直な方向をZ軸、観察物体224の表面に対して
平行にX,Y軸をとると、この方法ではZ方向の分解能
は非常に高くなるが、X,Y方向の分解能は通常の光学
顕微鏡と同じくレーザー光の波長λ程度の分解能とな
る。
【0008】X,Y方向の分解能を高めるために、上述
したV.R.Tychinsky,OPTICS Co
mm.,Vol.74,(1989),pp.41−4
5に記載されているような位相を使った方法(第2の従
来例)や、V.R.Tychinsky,OPTICS
Comm.,Vol.74,(1989),pp.1
31−137にに記載されているように偏光を使った方
法(第3の従来例)も考案されている。
【0009】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述し
た従来の位相顕微鏡には以下のような課題があった。第
1の従来例の干渉顕微鏡と第2の従来例の干渉顕微鏡で
は、参照光を基準ミラー227で反射させて、その位相
を基準として観察物体224の位相を測定する。この位
相を得るためには基準平面ミラー227を波長の1/2
の距離内を4乃至5分割した距離分を動かし、複数枚の
干渉画像を得て、観察物体224の凹凸を位相像として
算出する。
【0010】次に、このような計算の最も基本的な方法
の概略を述べる。前記光検出器225の例としてCCD
からなる撮像素子を考える。CCD上のある1つの画素
は、観察物体上のある点(x,y)に対応している。基
準平面ミラー227の移動による参照光の位相変化をα
とし、観察物体224で反射した光の位相をθとする。
観察物体224のCCDの各画素における干渉光の強度
Iは、参照光の強度Ir、物体光の強度Imとして下記
数1で表せる。ここに、数1においてγは定数で0≦γ
≦1の定数である。
【0011】
【数1】
【0012】例えば、前記基準平面ミラー227を移動
させて、α=0度、90度、180度、270度の位相
変化を与えたとする。この時の各位相変化に対する干渉
光の強度I(α)は、下記数2乃至数5で表せる。
【0013】
【数2】
【0014】
【数3】
【0015】
【数4】
【0016】
【数5】
【0017】ここで、cos成分として(数2−数
4)、sin成分として(数5−数3)の演算を行う
と、下記数6、数7で表せる。
【0018】
【数6】
【0019】
【数7】
【0020】数6、数7の両式と、前記数2乃至数5の
各式との関係から、下記数8が得られる。
【0021】
【数8】
【0022】数8の式から、観察物体224の凹凸を反
映した各CCDの画素ごとの位相θが得られることとな
り、これは2次元で考えれば観察物体224の凹凸を反
映した位相像が得られたことにほかならない。
【0023】ただし、数8が成り立つ条件として、0
度、90度、180度、270度の位相変化を発生させ
たときに、物体光と参照光の強度ImとIrは一定であ
ることが必要である。
【0024】しかし、レーザー光の波長は通常0.5μ
m程度であり、従って1回の画像ごとの基準平面ミラー
227の移動距離は0.05μmとなる。正確には位相
像を取るためには基準平面ミラー227をこの微小な距
離分正確に移動させる必要があるが、非常に微少な距離
であるため実際上は極めて困難であるという問題があ
る。
【0025】上記の問題を解決する方法として偏光干渉
を利用することが考えられ、前記第3の従来例は偏光干
渉を利用している。
【0026】第3の従来例の偏光を使う方法としては、
通常ノマルスキー法を使用する。ノマルスキー法は、例
えばセナルモンコンペンセータの回転により偏光の位相
変化を発生させ、これを照明光として利用する。セナル
モンコンペンセータは、偏光板と1/4波長板から構成
され、偏光板がα/2回転することで偏光の位相がα変
化する。
【0027】これは第1、第2の従来例において基準平
面ミラー227を移動させたことに相当する。しかし、
例えばセナルモンコンペンセータの偏光板がくさび状に
なっていたり、前記偏光板が光軸に対して傾いていたり
すると、観察物体224上では図4に示すように照明光
の照明領域が移動してしまう。照明領域内は図5に示す
ように光の強度分布があるため、セナルモンコンペンセ
ータの回転により、観察物体上のある点(X,Y)に対
応するCCD上の画素に入射する光の強度は変化する事
となる。
【0028】これは前記数8の条件であった物体光と参
照光の強度Im、Irは一定であるという条件を崩すこ
ととなり、正確な位相像の測定ができない事となる。実
際上、偏光板のくさびや、光軸に対する偏光板の傾きを
精度良く抑えるのは困難であり、実現するにしてもコス
ト上問題がある。
【0029】本発明は、上記の従来技術の問題点を解決
するためになされたもので、物体光と参照光との位相差
を利用し、かつ、検光素子の光路に対する出入に伴う光
強度の差を利用して、観察物体面の凹凸等の観察物体情
報を高分解能で測定することができる干渉顕微鏡装置を
提供することを目的とする。
【0030】
【課題を解決するための手段】請求項1記載の発明に係
る干渉顕微鏡装置は、一定の波長でコヒーレントな光を
発生する光源と、前記光源から発生した光の偏光の位相
状態を変化させる位相変化手段と、前記位相変化手段を
通った光を互いに直交した偏光状態となる物体光と参照
光とに2分割する手段と、前記物体光及び参照光を観察
物体面に照射する手段と、前記観察物体面で反射した物
体光と参照光を検出して観察物体情報を得る光検出手段
と、前記光検出手段と前記観察物体との間の光路中に出
し入れ可能であり前記物体面で反射した物体光と参照光
の干渉光を発生させ得る検光素子と、前記検光素子が前
記光路にある場合と無い場合の前記光検出手段で得られ
る前記観察物体情報の差分情報を演算する画像演算手段
と、前記位相変化手段で発生した偏光の複数の位相状態
に対応する前記画像演算手段で演算された複数の差分情
報から観察物体の位相像を演算する位相像演算手段とを
具備したことを特徴とするものである。
【0031】この発明によれば、観察物体に対して、位
相が変化されかつ互いに直交した偏光状態となる物体光
と参照光とを入射し、観察物体面で反射した物体光と参
照光を検光素子により干渉させ光検出手段により検出し
て観察物体の観察物体情報を得るとともに、検光素子が
光路にある場合と無い場合の前記光検出手段へ入射する
光の強度差に基づく差分情報を演算し、演算された複数
の差分情報から前記観察物体についての位相誤差が除去
された位相像を得るものであるから、物体光と参照光と
の位相差を利用し、かつ、検光素子の光路に対する出入
に伴う光強度の差を利用して、観察物体面の凹凸等の観
察物体情報を高分解能で測定することが可能となる。
【0032】請求項2記載の発明に係る干渉顕微鏡装置
は、一定の波長でコヒーレントな光を発生するレーザ光
源と、前記光源から発生した光の偏光の位相状態を変化
させる位相変化手段と、前記位相変化手段を通った光を
互いに直交した偏光状態となる物体光と参照光とに2分
割する偏光ビームスプリッタと、前記物体光を観察物体
面に照射する手段と、前記観察物体面と前記偏光ビーム
スプリッタの間に設置され偏光の位相をπ/2変化させ
る第1の位相板と、前記参照光を反射する基準ミラー
と、前記基準ミラーと前記偏光ビームスプリッタの間に
設置され偏光の位相をπ/2変化させる第2の位相板
と、前記観察物体面で反射した物体光と前記基準ミラー
で反射した参照光を検出して観察物体情報を得る光検出
手段と、前記光検出手段と前記観察物体との間の光路中
に出し入れ可能であり前記物体面で反射した物体光と参
照光の干渉光を発生させ得る検光素子と、前記検光素子
が前記光路中にある場合と無い場合の前記光検出手段で
得られる前記観察物体情報の差分情報を演算する演算手
段と、前記位相変化手段で発生した偏光の複数の位相状
態に対応する前記演算手段で演算された複数の差分情報
から観察物体の位相像を演算する位相像演算手段とを具
備したことを特徴とするものである。
【0033】この発明によれば、請求項1記載の干渉顕
微鏡装置と同様な作用を発揮するとともに、前記ノマル
スキー型のプリズムを使用せず、位相板を使用して物体
光、参照光の偏光状態を確保するとともに、基準ミラー
使用して参照光の光路差を確保するマイケルソン型に構
成しているので、効率良く光検出手段に干渉像を結像さ
せて、観察物体の位相像を直接測定することが可能とな
る。
【0034】請求項3記載の発明に係る干渉顕微鏡装置
は、請求項1又は2記載の干渉顕微鏡装置における前記
位相変化手段による前記偏光の位相状態の変化動作及び
前記検光素子の光路中に出入動作を自動的に実行させる
制御手段を付加したことを特徴とするものである。
【0035】この発明によれば、前記位相変化手段によ
る前記偏光の位相状態の変化動作及び前記検光素子の光
路中に出入動作が自動的に実行されるので、自動操作で
観察物体の位相像を測定することが可能となる。
【0036】
【発明の実施の形態】以下に本発明の実施の形態を詳細
に説明する。 (実施の形態1)本発明の実施の形態1を図1に基づい
て説明する。図1は本実施の形態1の干渉顕微鏡装置に
備えた位相干渉光学系を示すブロック図である。
【0037】本実施の形態1の干渉顕微鏡装置におい
て、コヒーレントな一定の波長を発生するレーザー光源
1から発生したレーザー光が、円偏光板2を通過して円
偏光となる。円偏光となったレーザー光は偏光の位相変
化手段であるセナルモンコンペンセータ3を通過する。
セナルモンコンペンセータ3は、偏光板と1/4波長板
とからなり、偏光板がレーザー光源1に近い側で1/4
波長板がレーザー光源1に遠い側にある構成となってい
る。
【0038】このセナルモンコンペンセータの偏光板が
α/2回転すると(これ以降、セナルモンコンペンセー
タが回転すると表現する)、偏光の位相は図6に示すよ
うにα変化する。セナルモンコンペンセータ3を通過し
たレーザー光はビームスプリッタ4で反射され、ノマル
スキープリズム5を通過して、互いに偏光方向が直交し
た2つのレーザー光に分けられ、対物レンズ6を介して
観察物体7に照射される。この偏光方向が直交した2つ
の光を物体光と参照光と呼ぶ事にする。
【0039】観察物体7で反射された物体光と参照光は
再び対物レンズ6、ノマルスキープリズム5を通過する
事により、同じ波面形状を持つ物体光と参照光は光軸に
対して直角方向に横ずれ(シャー)することになる。
【0040】ただし、このシャー量は非常に小さい値で
あり、例えば対物レンズが100倍の場合、数10nm
から数100nm程度である。ノマルスキープリズム5
を通過した物体光と参照光は、再びビームスプリッタ4
を通過し、検光素子8、結像レンズ系9を介して光検出
素子としてのCCD撮像素子10で検出される。これに
より、物体光と参照光は横ずれしているため、観察物体
7の凹凸の横方向の微分干渉像が得られる。
【0041】ここで、セナルモンコンペンセータ3を回
転させて、観察物体7に照明される物体光と参照光の位
相を変化させると、微分干渉像の位相が変化する。従っ
て、CCD撮像素子10の各画素ごとに前記数8を適用
すると、観察物体7の凹凸を反映した微分位相像が得ら
れることになる。
【0042】ところで、前記数8の適用される条件とし
て、セナルモンコンペンセータ3で物体光と参照光のC
CD撮像素子10の各画素での受光強度Ir、Imは一
定である事が必要である。しかし、セナルモンコンペン
セータ3の回転によって、図4に示すように観察物体7
上での照明領域が移動すると、前記の条件が崩れてく
る。
【0043】即ち、照明領域の光強度分布は、図5に示
すようにガウス分布となっており、特にガウス分布の最
大強度の50%前後のところで照明された観察物体7の
領域に対応するCCD撮像素子10の画素に入射する光
強度の変化は大きくなってしまう。従って、前記の条件
は大きく崩れてしまう。
【0044】次に、この光強度の変化の影響による位相
θの位相計測精度に対する影響を説明する。セナルモン
コンペンセータ3により位相変化αを0度、90度、1
80度、270度与えた場合を考えてみると、各位相α
において数2、数3、数4、数5の光強度Ir、Imと
は異なるとして、新たに、Irα、Imαとすると下記
数9乃至数12のように表せる。ここで、例えば、α=
0のとき、下記数13とした。
【0045】
【数9】
【0046】
【数10】
【0047】
【数11】
【0048】
【数12】
【0049】
【数13】
【0050】次に、cos成分として(数9−数1
1)、sin成分として(数12−数10)の演算を行
うと、下記数14、至数15で表せる。
【0051】
【数14】
【0052】
【数15】
【0053】既述した理想的な数6、数7の式と、本実
施の形態の前記数14、数15の式とを、横軸にcos
成分、縦軸にsin成分をとって比較した結果を、それ
ぞれ図7と図8に示す。
【0054】図7のcos成分とsin成分のリサージ
ュ図形は、オフセットもなく正円であるため、CCD各
画素で正確な位相θが計測ができる。これに対して、図
8では、真の位相θに対して、得られる位相はθ´とな
る。
【0055】従って、本実施の形態の場合には、真の位
相θに対して大きな位相計測誤差を発生する可能性があ
る。図8において得られる位相θ´の分布は殆どがco
s成分、sin成分からなる座標軸の第1象限となって
しまっている。図8に示す例は説明を明瞭にするために
極端な場合を示しているが、一般に位相計測誤差の最大
の要因はリサージュが楕円であることよりも、オフセッ
トを持っている事である。
【0056】例えばオフセットを持っていなければ、リ
サージュ図形が楕円であっても、図9に示すように位相
計測誤差を小さく抑える事ができる。従って、図8のよ
うなオフセットを補正して、図9に示すようにリサージ
ュ図形が楕円であっても、cos成分、sin成分から
なる座標軸の各象限に分布するような状態を達成できれ
ば、位相計測誤差を抑える事ができることとなり、本発
明の目的はこの点にある。
【0057】上述した目的を達成するために、本実施の
形態1では、前記検光素子8を入れた状態で、図1のセ
ナルモンコンペンセータ3が初期角度の時にCCD撮像
素子10で得られた画像データをA/D変換部11でデ
ジタル画像データとし、画像メモリ13に記憶する。
【0058】ここで、前記検光素子8は、物体光(又は
参照光)の偏光方向に対して45度の偏光軸を持ってい
る。そして、セナルモンコンペンセータ3を所定の角度
回転させて再び画像データを画像メモリ13に取り込
む。これを所定の回数だけ繰り返して、2次元の微分干
渉像を画像メモリ13に複数枚記憶する。
【0059】次に、検光素子8を光路から外した状態と
し、前述と同じセナルモンコンペンセータ3の角度ごと
に画像データを画像メモリ13に取り込む。検光素子8
を外すと、物体光と参照光は偏光方向が直交しているた
め干渉は発生せず、CCD撮像素子10の各画素には物
体光と参照光との強度の和の光が入射する。ただし、こ
の場合物体光、参照光は検光素子8が有るときに比べ
て、それぞれ2倍の光量となってCCD撮像素子10に
入射する。
【0060】そして、セナルモンコンペンセータ3の角
度が同じ(位相差αが同じ)の時の検光素子8が有る場
合の画像データから、検光素子8が無い場合の画像デー
タを1/2倍した値を各画素ごとに引き算する演算を図
1に示す本実施の形態における演算手段としての差分画
像演算手段14で実行する。この差分画像演算手段14
による演算の意味するところは、セナルモンコンペンセ
ータ3の角度(偏光の位相α)が同じであれば、観察物
体7上での照明領域は、図4に示すように同じであるた
め、数9乃至数12の各オフセット項をキャンセルでき
ることを意味する。
【0061】これを数式で説明すると、検光素子8が有
る時のCCD撮像素子10の各画素の受光強度をI1
(α)、検光素子8が無いの時の受光強度をI0 (α)
とすると、α=0度の場合下記数16、数17のように
なる。
【0062】
【数16】
【0063】
【数17】
【0064】ここで、差分画像演算手段14により下記
数18の演算を実行し、cos成分B0 ・cos(θ)
を求める。
【0065】
【数18】
【0066】ここで、新たに、I´(0)=B0 ・co
s(θ)と表すことにすると、位相αが90度、180
度、270度でも同様な計算が可能で下記数19乃至数
22が成立する。
【0067】
【数19】
【0068】
【数20】
【0069】
【数21】
【0070】
【数22】
【0071】これら数19乃至数22を基にcos成
分、sin成分を位相差演算手段により演算すると、下
記数23、数24となる。
【0072】
【数23】
【0073】
【数24】
【0074】数23、数24はリサージュ図形における
オフセットがキャンセルされた式であり、これを図示す
ると図9に示すリサージュ図形に対応することは明らか
である。このリサージュ図形から位相θを求める。
【0075】このようにして、前記検光素子8が有る場
合と無い場合の画像データを基にして、より精度をアッ
プした位相θ、即ち位相像を求める事ができる。この位
相像を表示部16に表示する。または、位相像を図1に
は図示しない外部通信手段を介して外部記憶装置に記憶
保存する。
【0076】(実施の形態2)次に、本発明の実施の形
態2を図2を参照して説明する。本実施の形態2におい
て、図1に示す実施の形態1と同一の機能を有する要素
には同一の符号を付して示す。本実施の形態2と実施の
形態1との相違いは、図2に示すように、レーザー光源
1からのレーザー光が円偏光板2、セナルモンコンペン
セータ3を通過した後に偏光ビームスプリッタ104で
物体光と参照光に2分割され、物体光は観察物体7に入
射し、参照光は基準ミラー105に入射する構成とした
事、即ち、いわゆるマイケルソンタイプの干渉計の構成
とした事である。
【0077】この実施の形態2の構成によれば、実施の
形態1のノマルスキータイプと比較して安定性では劣る
が、ノマルスキータイプでは観察物体の微分位相像を測
定していたのに対して、実施の形態2は観察物体の位相
像を直接測定することが可能である。
【0078】実施の形態2において、観察物体7と基準
ミラー105で各々反射された物体光と参照光は、各々
1/4波長板201と1/4波長板200を経て再び偏
光ビームスプリッタ104に入射する時に、偏光方向が
90度回った互いに直交した偏光状態になっている。
【0079】従って、物体光と参照光は、非常に効率良
く検光素子8、結像レンズ系9を介してCCD撮像素子
10に入射する。このようにしてCCD撮像素子10に
は物体光と参照光の干渉像ができる。そして、検光素子
8が有る場合と無い場合の複数枚の画像データをCCD
撮像素子10から差分画像演算手段14、位相像演算手
段15に送出し、実施の形態1の場合と同様な演算を実
行して、CCD撮像素子10の各画素に入射する光の光
強度の変化の影響を低減する。
【0080】(実施の形態3)図3に本発明の実施の形
態3を示す。基本的な構成は図1に示す実施の形態1と
同じであるが、CCD撮像素子10と画像メモリ13と
の間にコンピュータ12を接続し、このコンピュータ1
2によりセナルモンコンペンセータ3の駆動制御と検光
素子8を光路に出入させる検光素子駆動手段28の制御
を行い、検光素子8が有る場合と無い場合の画像データ
をCCD撮像素子10に取り込む構成としている。
【0081】このような構成により、自動で観察物体7
の凹凸に対応した位相像を測定する事ができるようにな
り、測定の効率が向上する。尚、位相像の計算方法は既
述した実施の形態1で述べた場合と同様である。
【0082】また、図3に示すような自動測定のための
実施の形態3の構成は、もちろん実施の形態2の場合に
も適用可能であり、この場合にも同じように測定の効率
の向上が達成できることは言うまでもない。
【0083】(実施の形態4)次に、実施の形態4につ
いて図10を参照して説明する。上述した実施の形態1
から実施の形態3では、偏光の位相変化手段として、セ
ナルモンコンペンセータ3を使用した例を述べてきた。
セナルモンコンペンセータ3と同じ機能を達成する光学
素子として電気光学変調器(EOM)100がある。電
気光学変調器100は例えばLiTaO3 等の1軸性の
異方性結晶から製作され、電界を加えると屈折率が変化
する電気光学効果を利用して、偏光の位相を高速で変化
させる事ができる。
【0084】図10に電気光学変調器100の概略図を
示す。この電気光学変調器100に電界Eをかけると、
X,Y方向の屈折率差Δnが変化する。ここで、電気光
学変調器100の光軸方向の長さをLとするとX,Y方
向の位相変化αは、α=(2π/λ)・Δn・Lと表せ
る。屈折率差Δnは電界に対して高速で応答するので、
入射光の偏光状態を高速で変化させることができる。
【0085】電気光学変調器100は、セナルモンコン
ペンセータ3と異なり、機械的な回転運動が無いため、
図4に示すような観察物体7上での照明領域の移動は発
生しにくい。
【0086】従って、電気光学変調器100をセナルモ
ンコンペンセータ3の代わりに実施の形態1乃至3で各
々使用した場合、観察物体7の正確な位相像を得る事が
できるようになる。しかし、電気光学変調器100の均
質性に問題がある場合、電界変化により照明領域内の光
強度分布が不規則に変化することがあるため、観察物体
7上で照明領域内の光強度分布が変化してしまうこと点
を考慮する必要がある。
【0087】前記電気光学変調器100を使用した実施
の形態4は、実施の形態1乃至3のセナルモンコンペン
セータ3を図10に示す電気光学変調器100に置き換
えるだけで良いので、図10に示す実施の形態4におい
ては電気光学変調器100以外の要素についての説明は
は省略する。
【0088】尚、例えば、図1に示すビームスプリッタ
4に偏光特性があり、レーザー光源1からセナルモンコ
ンペンセータ3等の位相変化手段を通過してきた光の偏
光状態によって、前記ビームスプリッタ4の反射率や透
過率が変化することにより、観察物体7への照明領域の
光強度が変化するような場合においても、前記反射率や
透過率の変化の周期に応じて照明領域の光強度も変化す
るため本発明は有効である。
【0089】このように、CCD撮像素子10に入射す
る光強度の変化が、位相変化手段による位相変化に対し
て再現性のある現象であれば、本発明は大きな効果を発
揮することはその原理上明白である。
【0090】本発明によれば、下記の構成を付記するこ
とができる。 (1)観察物体に照射する光を発する光源と、この光源
からの光の偏光の位相状態を変化させる位相変化手段
と、この位相変化手段により位相を変化させた前記光を
互いに直交した偏光状態となる物体光と参照光とに分割
する手段と、この物体光と参照光とを観察物体面に照射
し、観察物体面で反射した物体光と参照光を光検出手段
により検出して観察物体の画像情報を得る観察光学系
と、前記光検出手段の前段の光路に対して出入可能に配
置され、前記物体面で反射した物体光と参照光の干渉光
を発生させる検光素子と、この検光素子が光路にある場
合と無い場合の前記光検出手段へ入射する光の強度差に
基づく差分画像情報を演算する差分画像演算手段と、前
記位相変化手段により発する偏光の複数の位相状態に対
応する前記差分画像演算手段で演算された複数の差分画
像情報から前記光の強度差に基づく誤差が除去された位
相像情報を演算する位相像演算手段とを有することを特
徴とする干渉顕微鏡装置。この構成によれば、前記物体
光と参照光との位相差を利用し、かつ、検光素子の光路
に対する出入に伴う光強度の差を利用して、観察物体面
の凹凸等の観察物体情報を高分解能で測定することが可
能となる。
【0091】(2)前記位相変化手段により光の偏光の
位相状態を変化させた光を物体光と参照光とに分割する
手段は、ノマルスキー型のプリズムであることを特徴と
する付記1記載の干渉顕微鏡装置。この構成によれば、
前記光を物体光と参照光とに分割する手段を、ノマルス
キー型のプリズムにより構成しているので、単一のプリ
ズムにより物体光と参照光とを容易に得ることができ、
観察光学系を含む光学配置を簡略化することができる。
【0092】(3)一定の波長でコヒーレントな光を発
生するレーザ光源と、前記光源から発生した光の偏光の
位相状態を変化させる位相変化手段と、前記位相変化手
段を通った光を互いに直交した偏光状態となる物体光と
参照光とに2分割する偏光ビームスプリッタと、前記物
体光を観察物体面に照射する手段と、前記観察物体面と
前記偏光ビームスプリッタの間に設置され偏光の位相を
π/2変化させる第1の位相板と、前記参照光を反射す
る基準ミラーと、前記基準ミラーと前記偏光ビームスプ
リッタの間に設置され偏光の位相をπ/2変化させる第
2の位相板と、前記観察物体面で反射した物体光と前記
基準ミラーで反射した参照光を検出して観察物体の画像
情報を得る光検出手段と、この光検出手段の前段の光路
中に出入可能に配置され、前記物体面で反射した物体光
と参照光との干渉光を発生させ得る検光素子と、この検
光素子がある場合と無い場合の前記光検出手段へ入射す
る光の強度差に基づく差分画像を演算する差分画像演算
手段と、前記位相変化手段により発する偏光の複数の位
相状態に対応する前記差分画像演算手段で演算された複
数の差分画像情報から前記光の強度差に基づく誤差が除
去された位相像情報を演算する位相像演算手段とを有す
ることを特徴とする干渉顕微鏡装置。この構成によれ
ば、自動操作で観察物体の位相像を測定することが可能
となる。この構成によれば、マイケルソン型の構成で、
効率良く光検出手段に干渉像を結像させて観察物体の位
相像を直接測定することが可能となる。
【0093】
【発明の効果】請求項1記載の発明によれば、物体光と
参照光との位相差を利用し、かつ、検光素子の光路に対
する出入に伴う光強度の差を利用して、観察物体面の凹
凸等の観察物体情報を高分解能で測定することが可能な
干渉顕微鏡装置を提供することができる。
【0094】請求2記載の発明によれば、請求項1記載
の干渉顕微鏡装置と同様な効果を奏するとともに、効率
良く光検出手段に干渉像を結像させて観察物体の位相像
を直接測定することが可能な干渉顕微鏡装置を提供する
ことができる。
【0095】請求3記載の発明によれば、自動操作で観
察物体の位相像を測定することが可能な干渉顕微鏡装置
を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施の形態1の干渉顕微鏡装置の構成
を示すブロック図である。
【図2】本発明の実施の形態2の干渉顕微鏡装置の構成
を示すブロック図である。
【図3】本発明の実施の形態3の干渉顕微鏡装置の構成
を示すブロック図である。
【図4】本発明の実施の形態1における観察物体上での
照明領域の動きを示す説明図である。
【図5】本発明の実施の形態1における照明光の強度分
布を示す説明図である。
【図6】本発明の実施の形態1におけるセナルモンコン
ペンセータの回転による偏光状態の変化を示す説明図で
ある。
【図7】本発明の実施の形態1におけるcos成分、s
in成分による位相変化の状態を示す説明図である。
【図8】本発明の実施の形態1におけるcos成分、s
in成分による位相変化の状態を示す説明図である。
【図9】本発明の実施の形態1におけるcos成分、s
in成分による位相変化の状態を示す説明図である。
【図10】本発明の実施の形態3の電気光学変調器の偏
光状態を示す説明図である。
【図11】従来の干渉顕微鏡装置の構成を示すブロック
図である。
【符号の説明】
1 レーザー光源 2 円偏光板 3 セナルモンコンペンセータ 4 ビームスプリッタ 5 ノマルスキープリズム 6 対物レンズ 7 観察物体 8 検光素子 9 結像レンズ系 10 CCD撮像素子 12 コンピュータ 13 画像メモリ 14 差分画像演算手段 15 位相像演算手段 16 表示部 105 基準ミラー

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 一定の波長でコヒーレントな光を発生す
    る光源と、前記光源から発生した光の偏光の位相状態を
    変化させる位相変化手段と、前記位相変化手段を通った
    光を互いに直交した偏光状態となる物体光と参照光とに
    2分割する手段と、前記物体光及び参照光を観察物体面
    に照射する手段と、前記観察物体面で反射した物体光と
    参照光を検出して観察物体情報を得る光検出手段と、前
    記光検出手段と前記観察物体との間の光路中に出し入れ
    可能であり前記物体面で反射した物体光と参照光の干渉
    光を発生させ得る検光素子と、前記検光素子が前記光路
    にある場合と無い場合の前記光検出手段で得られる前記
    観察物体情報の差分情報を演算する画像演算手段と、前
    記位相変化手段で発生した偏光の複数の位相状態に対応
    する前記画像演算手段で演算された複数の差分情報から
    観察物体の位相像を演算する位相像演算手段とを具備し
    たことを特徴とする干渉顕微鏡装置。
  2. 【請求項2】 一定の波長でコヒーレントな光を発生す
    るレーザ光源と、前記光源から発生した光の偏光の位相
    状態を変化させる位相変化手段と、前記位相変化手段を
    通った光を互いに直交した偏光状態となる物体光と参照
    光とに2分割する偏光ビームスプリッタと、前記物体光
    を観察物体面に照射する手段と、前記観察物体面と前記
    偏光ビームスプリッタの間に設置され偏光の位相をπ/
    2変化させる第1の位相板と、前記参照光を反射する基
    準ミラーと、前記基準ミラーと前記偏光ビームスプリッ
    タの間に設置され偏光の位相をπ/2変化させる第2の
    位相板と、前記観察物体面で反射した物体光と前記基準
    ミラーで反射した参照光を検出して観察物体情報を得る
    光検出手段と、前記光検出手段と前記観察物体との間の
    光路中に出し入れ可能であり前記物体面で反射した物体
    光と参照光の干渉光を発生させ得る検光素子と、前記検
    光素子が前記光路中にある場合と無い場合の前記光検出
    手段で得られる前記観察物体情報の差分情報を演算する
    演算手段と、前記位相変化手段で発生した偏光の複数の
    位相状態に対応する前記演算手段で演算された複数の差
    分情報から観察物体の位相像を演算する位相像演算手段
    とを具備したことを特徴とする干渉顕微鏡装置。
  3. 【請求項3】 前記位相変化手段による前記偏光の位相
    状態の変化動作及び前記検光素子の光路中に出入動作を
    自動的に実行させる制御手段を付加したことを特徴とす
    る請求項1又は2記載の干渉顕微鏡装置。
JP28379097A 1997-10-16 1997-10-16 干渉顕微鏡装置 Withdrawn JPH11119107A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP28379097A JPH11119107A (ja) 1997-10-16 1997-10-16 干渉顕微鏡装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP28379097A JPH11119107A (ja) 1997-10-16 1997-10-16 干渉顕微鏡装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH11119107A true JPH11119107A (ja) 1999-04-30

Family

ID=17670182

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP28379097A Withdrawn JPH11119107A (ja) 1997-10-16 1997-10-16 干渉顕微鏡装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH11119107A (ja)

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100936861B1 (ko) * 2008-01-07 2010-01-14 조선대학교산학협력단 광간섭법을 이용한 측정결과의 향상방법
WO2012117139A1 (es) * 2011-02-28 2012-09-07 Universidad De Murcia Procedimiento y sistema para la obtención de imágenes cuantitativas en microscopía óptica de fase
CN103322940A (zh) * 2013-07-09 2013-09-25 河北工程大学 一种获取三维形貌显微图像的方法
CN103323938A (zh) * 2013-07-09 2013-09-25 河北工程大学 一种获取立体显微图像的方法
KR102215493B1 (ko) * 2019-09-25 2021-02-15 세종대학교 산학협력단 인라인 디지털 홀로그래피 시스템
JP2021060311A (ja) * 2019-10-08 2021-04-15 株式会社ミツトヨ 解析装置、解析方法、干渉測定システム、およびプログラム
WO2024051857A1 (zh) * 2022-09-22 2024-03-14 南京理工大学 一种基于平移差分的微结构线宽显微无损测量方法

Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100936861B1 (ko) * 2008-01-07 2010-01-14 조선대학교산학협력단 광간섭법을 이용한 측정결과의 향상방법
WO2012117139A1 (es) * 2011-02-28 2012-09-07 Universidad De Murcia Procedimiento y sistema para la obtención de imágenes cuantitativas en microscopía óptica de fase
ES2387491A1 (es) * 2011-02-28 2012-09-24 Universidad De Murcia Procedimiento y sistema para la obtención de imágenes cuantitativas en microscopía óptica de fase.
CN103322940A (zh) * 2013-07-09 2013-09-25 河北工程大学 一种获取三维形貌显微图像的方法
CN103323938A (zh) * 2013-07-09 2013-09-25 河北工程大学 一种获取立体显微图像的方法
KR102215493B1 (ko) * 2019-09-25 2021-02-15 세종대학교 산학협력단 인라인 디지털 홀로그래피 시스템
JP2021060311A (ja) * 2019-10-08 2021-04-15 株式会社ミツトヨ 解析装置、解析方法、干渉測定システム、およびプログラム
WO2024051857A1 (zh) * 2022-09-22 2024-03-14 南京理工大学 一种基于平移差分的微结构线宽显微无损测量方法

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TWI269022B (en) Phase-shifting interferometry method and system
KR100917912B1 (ko) 단일 편광자 초점 타원계측기
CN111121644B (zh) 一种基于涡旋光与球面波干涉的微位移测量方法及装置
US5257092A (en) Apparatus for measuring polarization and birefringence
EP0831295B1 (en) Optical differential profile measurement apparatus and process
KR101424665B1 (ko) 거리 측정 장치
EP3798608A1 (en) Normal incidence ellipsometer and method for measuring optical properties of sample by using same
Sánchez et al. LED source interferometer for microscopic fringe projection profilometry using a Gates’ interferometer configuration
JP2002107119A (ja) 被測定物の厚さ測定方法及びその装置
US20210239452A1 (en) Method and Apparatus for Detecting Changes in Direction of a Light Beam
EP3899420A1 (en) Full-field heterodyne interferometer for inspecting an optical surface
JPH11119107A (ja) 干渉顕微鏡装置
JP2002013907A (ja) 位相シフト干渉縞同時撮像装置における平面形状計測方法
JP2004508577A (ja) 表面の微細構造を定量的に光学的に測定するための顕微鏡および方法
KR102139995B1 (ko) 수직입사 및 경사입사 결합형 타원계측기 및 이를 이용한 시편의 광물성 측정 방법
GB2433317A (en) Phase shifting imaging module for handheld interferometer
JP2821685B2 (ja) 2次元情報取得装置
JPH11194011A (ja) 干渉装置
US20050134864A1 (en) Method and apparatus for absolute figure metrology
JPH11337321A (ja) 位相シフト干渉縞の同時計測方法及び装置
JPH10268200A (ja) 干渉顕微鏡装置
JPH05149719A (ja) 性状測定装置
KR101005161B1 (ko) Off-axis 방식의 디지털 홀로그래피를 이용한 복굴절 측정 방법 및 장치
JPS6024401B2 (ja) 被測定物の物理定数を測定する方法
CN111033228A (zh) 检测设备和检测方法

Legal Events

Date Code Title Description
A300 Withdrawal of application because of no request for examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300

Effective date: 20050104