JPH11119020A - Radiation sensitive composition for color filter - Google Patents

Radiation sensitive composition for color filter

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JPH11119020A
JPH11119020A JP29795697A JP29795697A JPH11119020A JP H11119020 A JPH11119020 A JP H11119020A JP 29795697 A JP29795697 A JP 29795697A JP 29795697 A JP29795697 A JP 29795697A JP H11119020 A JPH11119020 A JP H11119020A
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JP
Japan
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pigment
radiation
acid
meth
weight
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Application number
JP29795697A
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Japanese (ja)
Inventor
Takashi Itano
考史 板野
Shigeru Abe
慈 阿部
Hiroaki Nemoto
宏明 根本
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JSR Corp
Original Assignee
JSR Corp
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Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To eliminate an electrically harmful effect due to the electric conductivity of a pigment and to form a black matrix having high light shielding property by using a specified radiation sensitive compsn. for a color filter. SOLUTION: The radiation sensitive compsn. contains a pigment, a resin binder, a multifunctional monomer, a radiation polymn. initiator and a solvent. The surfaces of particles of at least one pigment in the pigment have been coated with an alkali-soluble resin. The pigment used is, e.g. C.I. Pigment Yellow 1 or C.I. Pigment Yellow 3. The alkali-soluble resin is, e.g. a polyester or polyamide contg. one acidic group such as a carboxyl or sulfone group. The resin binder may be the same resin as a carboxyl group-contg. copolymer exampled as the alkali-soluble resin. The radiation polymn. initiator is, e.g. a compd. having an imidazole ring, a compd. having a benzoin bond or other radiation radical generator.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、カラー液晶表示装
置、カラー撮像管素子等に用いられるカラーフィルタ用
感放射線性組成物に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a radiation-sensitive composition for a color filter used in a color liquid crystal display device, a color image pickup tube element and the like.

【0002】[0002]

【従来の技術】携帯用のパソコン等にはカラー液晶表示
装置が搭載されているが、近年におけるカラー液晶表示
装置の用途や需要の拡大に伴い、その低コスト化が望ま
れている。特に、カラー液晶表示装置の必須部品である
カラーフィルターは、従来、クロム薄膜をフォトリソグ
ラフィ法によりエッチング処理してパターンを形成した
ブラックマトリクスを用いたものが主流となっていた。
しかし、このようなカラーフィルタは、製造コストが極
めて高く、また製造時に生じるクロム廃液の環境への影
響も社会的に問題視されている。そこで、近年、ブラッ
クマトリクスの形成に、黒色の着色剤を含有する感放射
線性組成物を用いる方法が注目されている。このような
ブラックマトリクスを形成する感放射線性樹脂組成物に
使用する主な着色剤として、カーボンブラック、金属酸
化物、彩色顔料の混合系等が挙げられ、中でも、その大
きな遮光性に着目して、カーボンブラックを用いた感放
射線性組成物が主に検討されている。しかし、カーボン
ブラックを用いたブラックマトリクスの場合、カーボン
ブラックの電気抵抗値が低いため、カラー液晶表示装置
が電気的に悪影響を受け、点灯不良を引き起しやすいと
いう問題がある。しかも、このブラックマトリクスは、
現像時に画素パターンの欠損、欠落を引き起しやすく、
また放射線未照射部の基板上あるいは画素上に残さや地
汚れを生じやすいという問題もあった。一方、カーボン
ブラックの導電性に起因する問題を解決するため、カー
ボンブラックの表面を樹脂で被覆して導電性を抑える方
法が提案されており(特開平9−26571号公報、特
開平9−166869号公報)、それらのカーボンブラ
ック被覆用樹脂としては、ポリ塩化ビニル、ポリ酢酸ビ
ニル、ポリスチレン、ポリエチレン、ポリプロピレン、
ポリメチル(メタ)アクリレート、フッ素系樹脂、ケイ
素系樹脂、シリコーンアクリル系樹脂、ポリイミド、ポ
リイミドアミド、ポリジフェニルエーテル等の熱可塑性
樹脂、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、キシレン樹脂、
メラミン樹脂、アルキド樹脂等の熱硬化性樹脂や、カー
ボンブラック表面に存在する官能基(カルボキシル基、
ヒドロキシル基、カルボニル基)と反応しうる(チオ)
エポキシ基、オキサゾリン基、アジリジン基あるいはヒ
ドロキシアルキルアミド基を有するモノマーから得られ
る樹脂が開示されている。しかし、これらの樹脂で被覆
されたカーボンブラックを用いたブラックマトリックス
は、特に、現像時の画素パターンの欠損もしくは欠落
や、放射線未照射部の基板上あるいは画素上の残さや地
汚れの面では、依然として十分とはいえない。また、カ
ラーフィルタ本体の各画素を形成する着色剤には、顔料
のほか染料も用いられるが、近年、耐熱性、耐光性およ
び耐薬品性に優れている顔料を用いる方法が主流になり
つつある。しかし、顔料を含有する感放射線性組成物を
用いてフォトリソグラフィ法により画素を形成する場合
も、現像時に画素パターンの欠損、欠落を引き起しやす
く、また放射線未照射部の基板上あるいは画素上に残さ
や地汚れを生じやすいという問題があった。
2. Description of the Related Art A portable personal computer or the like is equipped with a color liquid crystal display device. However, with the recent expansion of applications and demands of the color liquid crystal display device, cost reduction is desired. In particular, a color filter, which is an essential component of a color liquid crystal display device, mainly uses a black matrix in which a pattern is formed by etching a chromium thin film by a photolithography method.
However, such a color filter has an extremely high manufacturing cost, and the environmental impact of the chromium waste liquid generated at the time of manufacturing is regarded as a social problem. Therefore, in recent years, a method of using a radiation-sensitive composition containing a black colorant for forming a black matrix has attracted attention. As a main colorant used in the radiation-sensitive resin composition forming such a black matrix, carbon black, a metal oxide, a mixed system of coloring pigments and the like, among which, focusing on its large light-shielding properties Radiation-sensitive compositions using carbon black have been mainly studied. However, in the case of a black matrix using carbon black, there is a problem that the electric resistance of the carbon black is low, so that the color liquid crystal display device is electrically adversely affected, and lighting failure is likely to occur. Moreover, this black matrix
It is easy to cause loss or omission of pixel pattern during development,
In addition, there is a problem that residue or background contamination is easily generated on the substrate or the pixel in the non-irradiated portion. On the other hand, in order to solve the problem caused by the conductivity of carbon black, a method of suppressing the conductivity by coating the surface of carbon black with a resin has been proposed (JP-A-9-26571, JP-A-9-166869). Publications), those resins for coating carbon black include polyvinyl chloride, polyvinyl acetate, polystyrene, polyethylene, polypropylene,
Thermoplastic resin such as polymethyl (meth) acrylate, fluorine resin, silicon resin, silicone acrylic resin, polyimide, polyimide amide, polydiphenyl ether, epoxy resin, phenol resin, xylene resin,
Thermosetting resins such as melamine resin and alkyd resin, and functional groups (carboxyl group,
Hydroxyl group, carbonyl group) (thio)
A resin obtained from a monomer having an epoxy group, an oxazoline group, an aziridine group or a hydroxyalkylamide group is disclosed. However, black matrices using carbon black coated with these resins are particularly defective or missing in the pixel pattern during development, and residue or background contamination on the substrate or pixels in the non-radiated area, Still not enough. In addition, a dye other than a pigment is used as a coloring agent for forming each pixel of the color filter body. In recent years, a method using a pigment having excellent heat resistance, light resistance, and chemical resistance is becoming mainstream. . However, even when pixels are formed by a photolithography method using a radiation-sensitive composition containing a pigment, the pixel pattern is likely to be defective or missing at the time of development. However, there is a problem that the toner is easily left and soiled.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】本発明の課題は、顔料
の導電性に起因する電気的な悪影響を与えることがな
く、かつ遮光性の大きなブラックマトリクスを作製しう
るとともに、画素パターンの欠損および欠落を生じるこ
とがなく、かつ放射線未照射部の基板上および画素上に
残さおよび地汚れを生じることがないブラックマトリク
スおよびカラーフィルタ本体を作製しうるカラーフィル
タ用感放射線性樹脂組成物を提供することにある。
SUMMARY OF THE INVENTION It is an object of the present invention to provide a black matrix having a large light-shielding property without adversely affecting the electrical properties due to the conductivity of the pigment. Provided is a radiation-sensitive resin composition for a color filter capable of producing a black matrix and a color filter main body that do not cause chipping and do not cause residue and background contamination on a substrate and a pixel in an unirradiated portion. It is in.

【0004】[0004]

【課題を解決するための手段】本発明は、(A)顔料、
(B)バインダー樹脂、(C)多官能性モノマー、
(D)放射線重合開始剤、および(E)溶剤を含有する
カラーフィルタ用感放射線性樹脂組成物であって、
(A)顔料中の少なくとも1種の顔料の粒子表面がアル
カリ可溶性樹脂で被覆されていることを特徴とするカラ
ーフィルタ用感放射線性組成物、からなる。
The present invention provides (A) a pigment,
(B) a binder resin, (C) a polyfunctional monomer,
A radiation-sensitive resin composition for a color filter comprising (D) a radiation polymerization initiator, and (E) a solvent,
(A) a radiation-sensitive composition for a color filter, wherein the particle surface of at least one pigment in the pigment is coated with an alkali-soluble resin.

【0005】以下、本発明のカラーフィルタ用感放射性
樹脂組成物について詳細に説明する。(A)顔料 本発明における顔料は、それに含有される少なくとも1
種の顔料の粒子表面がアルカリ可溶性樹脂で被覆されて
いるものからなる。本発明における顔料は、色調が特に
限定されるものではなく、カラーフィルタの用途に応じ
て適宜選定され、また有機顔料でも無機顔料あるいは体
質顔料と呼ばれる無機塩でもよい。前記有機顔料として
は、例えば、カラーインデックス(C.I.;The Society
ofDyers and Colourists 社発行) においてピグメント
(Pigment)に分類されている化合物、具体的には、下
記のようなカラーインデックス(C.I.)番号が付されて
いるものを挙げることができる。C.I.ピグメントイエロ
ー1、C.I.ピグメントイエロー3、C.I.ピグメントイエ
ロー12、C.I.ピグメントイエロー13、C.I.ピグメン
トイエロー14、C.I.ピグメントイエロー16、C.I.ピ
グメントイエロー17、C.I.ピグメントイエロー20、
C.I.ピグメントイエロー24、C.I.ピグメントイエロー
31、C.I.ピグメントイエロー55、C.I.ピグメントイ
エロー60、C.I.ピグメントイエロー65、C.I.ピグメ
ントイエロー73、C.I.ピグメントイエロー74、C.I.
ピグメントイエロー81、C.I.ピグメントイエロー8
3、C.I.ピグメントイエロー93、C.I.ピグメントイエ
ロー95、C.I.ピグメントイエロー97、C.I.ピグメン
トイエロー98、C.I.ピグメントイエロー100、C.I.
ピグメントイエロー101、C.I.ピグメントイエロー1
04、C.I.ピグメントイエロー106、C.I.ピグメント
イエロー108、C.I.ピグメントイエロー109、C.I.
ピグメントイエロー110、C.I.ピグメントイエロー1
13、C.I.ピグメントイエロー114、C.I.ピグメント
イエロー116、C.I.ピグメントイエロー117、C.I.
ピグメントイエロー119、C.I.ピグメントイエロー1
20、C.I.ピグメントイエロー126、C.I.ピグメント
イエロー127、C.I.ピグメントイエロー128、C.I.
ピグメントイエロー129、C.I.ピグメントイエロー1
38、C.I.ピグメントイエロー139、C.I.ピグメント
イエロー150、C.I.ピグメントイエロー151、C.I.
ピグメントイエロー152、C.I.ピグメントイエロー1
53、C.I.ピグメントイエロー154、C.I.ピグメント
イエロー155、C.I.ピグメントイエロー156、C.I.
ピグメントイエロー166、C.I.ピグメントイエロー1
68、C.I.ピグメントイエロー175;C.I.ピグメント
オレンジ36、C.I.ピグメントオレンジ43、C.I.ピグ
メントオレンジ51、C.I.ピグメントオレンジ61、C.
I.ピグメントオレンジ71、C.I.ピグメントオレンジ7
3;C.I.ピグメントレッド9、C.I.ピグメントレッド8
8、C.I.ピグメントレッド97、C.I.ピグメントレッド
122、C.I.ピグメントレッド123、C.I.ピグメント
レッド149、C.I.ピグメントレッド168、C.I.ピグ
メントレッド176、C.I.ピグメントレッド177、C.
I.ピグメントレッド180、C.I.ピグメントレッド20
9、C.I.ピグメントレッド215、C.I.ピグメントレッ
ド224、C.I.ピグメントレッド242、C.I.ピグメン
トレッド254、C.I.ピグメントレッド255、C.I.ピ
グメントレッド265;C.I.ピグメントバイオレット1
9、C.I.ピグメントバイオレット23、C.I.ピグメント
バイオレット29;C.I.ピグメントブルー15、C.I.ピ
グメントブルー15:3、C.I.ピグメントブルー15:
4、C.I.ピグメントブルー15:6、C.I.ピグメントブ
ルー60;C.I.ピグメントグリーン7、C.I.ピグメント
グリーン36;C.I.ピグメントブラウン23、C.I.ピグ
メントブラウン25;C.I.ピグメントブラック1、ピグ
メントブラック7。
Hereinafter, the radiation-sensitive resin composition for a color filter of the present invention will be described in detail. (A) Pigment The pigment of the present invention comprises at least one pigment contained therein.
The particle surface of the pigment is coated with an alkali-soluble resin. The color tone of the pigment in the present invention is not particularly limited, and is appropriately selected depending on the use of the color filter, and may be an organic pigment, an inorganic pigment, or an inorganic salt called an extender pigment. Examples of the organic pigment include a color index (CI; The Society)
Compounds which are classified as Pigment (of of Dyers and Colorists), specifically those having a color index (CI) number as shown below. CI Pigment Yellow 1, CI Pigment Yellow 3, CI Pigment Yellow 12, CI Pigment Yellow 13, CI Pigment Yellow 14, CI Pigment Yellow 16, CI Pigment Yellow 17, CI Pigment Yellow 20,
CI Pigment Yellow 24, CI Pigment Yellow 31, CI Pigment Yellow 55, CI Pigment Yellow 60, CI Pigment Yellow 65, CI Pigment Yellow 73, CI Pigment Yellow 74, CI
Pigment Yellow 81, CI Pigment Yellow 8
3, CI Pigment Yellow 93, CI Pigment Yellow 95, CI Pigment Yellow 97, CI Pigment Yellow 98, CI Pigment Yellow 100, CI
Pigment Yellow 101, CI Pigment Yellow 1
04, CI Pigment Yellow 106, CI Pigment Yellow 108, CI Pigment Yellow 109, CI
Pigment Yellow 110, CI Pigment Yellow 1
13, CI Pigment Yellow 114, CI Pigment Yellow 116, CI Pigment Yellow 117, CI
Pigment Yellow 119, CI Pigment Yellow 1
20, CI Pigment Yellow 126, CI Pigment Yellow 127, CI Pigment Yellow 128, CI
Pigment Yellow 129, CI Pigment Yellow 1
38, CI Pigment Yellow 139, CI Pigment Yellow 150, CI Pigment Yellow 151, CI
Pigment Yellow 152, CI Pigment Yellow 1
53, CI Pigment Yellow 154, CI Pigment Yellow 155, CI Pigment Yellow 156, CI
Pigment Yellow 166, CI Pigment Yellow 1
CI Pigment Yellow 175; CI Pigment Orange 36, CI Pigment Orange 43, CI Pigment Orange 51, CI Pigment Orange 61, C.I.
I. Pigment Orange 71, CI Pigment Orange 7
3: CI Pigment Red 9, CI Pigment Red 8
8, CI Pigment Red 97, CI Pigment Red 122, CI Pigment Red 123, CI Pigment Red 149, CI Pigment Red 168, CI Pigment Red 176, CI Pigment Red 177, C.I.
I. Pigment Red 180, CI Pigment Red 20
9, CI Pigment Red 215, CI Pigment Red 224, CI Pigment Red 242, CI Pigment Red 254, CI Pigment Red 255, CI Pigment Red 265; CI Pigment Violet 1
9, CI Pigment Violet 23, CI Pigment Violet 29; CI Pigment Blue 15, CI Pigment Blue 15: 3, CI Pigment Blue 15:
CI Pigment Blue 15: 6, CI Pigment Blue 60; CI Pigment Green 7, CI Pigment Green 36; CI Pigment Brown 23, CI Pigment Brown 25; CI Pigment Black 1, Pigment Black 7.

【0006】また、前記無機顔料あるいは体質顔料とし
ては、例えば、酸化チタン、硫酸バリウム、炭酸カルシ
ウム、亜鉛華、硫酸鉛、黄色鉛、亜鉛黄、べんがら(赤
色酸化鉄(III))、カドミウム赤、群青、紺青、酸化クロ
ム緑、コバルト緑、アンバー、チタンブラック、合成鉄
黒、カーボンブラック等を挙げることができる。前記有
機顔料、無機顔料および体質顔料の平均一次粒径は、通
常、500nm以下、好ましくは200nm以下、さら
に好ましくは100nm以下である。本発明における顔
料としては、ブラックマトリックスの形成にはカーボン
ブラックが好ましく、またカラーフィルタ本体の形成に
は有機顔料が好ましい。本発明において、顔料は、1種
単独でまたは2種以上を混合して使用することができ
る。
The inorganic or extender pigments include, for example, titanium oxide, barium sulfate, calcium carbonate, zinc white, lead sulfate, yellow lead, zinc yellow, red iron oxide (red iron (III) oxide), cadmium red, Ultramarine, navy blue, chromium oxide green, cobalt green, amber, titanium black, synthetic iron black, carbon black and the like can be mentioned. The average primary particle diameter of the organic pigment, the inorganic pigment and the extender is usually 500 nm or less, preferably 200 nm or less, more preferably 100 nm or less. As the pigment in the present invention, carbon black is preferable for forming a black matrix, and an organic pigment is preferable for forming a color filter body. In the present invention, the pigments can be used alone or in combination of two or more.

【0007】顔料の粒子表面を被覆するアルカリ可溶性
樹脂としては、カラーフィルタ製造時の現像工程におい
て用いられるアルカリ現像液に可溶である限り、適宜の
樹脂を使用することができる。このようなアルカリ可溶
性樹脂としては、例えば、カルボキシル基、スルホン
基、フェノール性水酸基等の酸性基を1種以上含有する
ポリエステル、ポリアミド、ポリエーテル、ポリウレタ
ン、ポリカーボネート、アルキド樹脂、フェノール樹
脂、メラミン樹脂、エポキシ樹脂、ノボラック樹脂、ビ
ニル系樹脂等を挙げることができ、特に1個以上のカル
ボキシル基を有するビニル系樹脂(以下、「カルボキシ
ル基含有ビニル系樹脂」という。)が好ましい。カルボ
キシル基含有ビニル系樹脂としては、1個以上のカルボ
キシル基を有するエチレン性不飽和化合物(以下、単に
「カルボキシル基含有不飽和化合物」という。)と他の
共重合可能なエチレン性不飽和化合物(以下、単に「他
の不飽和化合物」という。)との共重合体(以下、単に
「カルボキシル基含有共重合体」という。)が好まし
い。前記カルボキシル基含有不飽和化合物としては、例
えば、(メタ)アクリル酸、クロトン酸、α−クロルア
クリル酸、けい皮酸等の不飽和モノカルボン酸類;マレ
イン酸、無水マレイン酸、フマル酸、イタコン酸、無水
イタコン酸、シトラコン酸、無水シトラコン酸、メサコ
ン酸等の不飽和ジカルボン酸(無水物)類;3価以上の
不飽和多価カルボン酸(無水物)類;こはく酸モノ〔2
−(メタ)アクリロイロキシエチル〕、フタル酸モノ
〔2−(メタ)アクリロイロキシエチル〕等の2価以上
の多価カルボン酸のモノ〔(メタ)アクリロイロキシア
ルキル〕エステル類;ω−カルボキシ−ポリカプロラク
トンモノ(メタ)アクリレート等の両末端カルボキシポ
リマーのモノ(メタ)アクリレート類等を挙げることが
できる。これらのカルボキシル基含有不飽和化合物は、
単独でまたは2種以上を混合して使用することができ
る。
As the alkali-soluble resin for coating the pigment particle surface, any suitable resin can be used as long as it is soluble in an alkali developing solution used in a developing step in the production of a color filter. Examples of such alkali-soluble resins include, for example, polyesters, polyamides, polyethers, polyurethanes, polycarbonates, alkyd resins, phenolic resins, melamine resins, which contain one or more acid groups such as carboxyl groups, sulfone groups, and phenolic hydroxyl groups. Examples thereof include an epoxy resin, a novolak resin, and a vinyl-based resin. Particularly, a vinyl-based resin having one or more carboxyl groups (hereinafter, referred to as a “carboxyl-containing vinyl-based resin”) is preferable. As the carboxyl group-containing vinyl resin, an ethylenically unsaturated compound having one or more carboxyl groups (hereinafter, simply referred to as “carboxyl group-containing unsaturated compound”) and another copolymerizable ethylenically unsaturated compound ( Hereinafter, a copolymer (hereinafter simply referred to as a “carboxyl group-containing copolymer”) with an “other unsaturated compound” is preferred. Examples of the carboxyl group-containing unsaturated compound include unsaturated monocarboxylic acids such as (meth) acrylic acid, crotonic acid, α-chloroacrylic acid, and cinnamic acid; maleic acid, maleic anhydride, fumaric acid, itaconic acid Unsaturated dicarboxylic acids (anhydrides) such as itaconic anhydride, citraconic acid, citraconic anhydride, and mesaconic acid; trivalent or higher unsaturated polycarboxylic acids (anhydrides); succinic acid mono [2
Mono [(meth) acryloyloxyalkyl] esters of divalent or higher carboxylic acids such as mono (meth) acryloyloxyethyl] and mono [2- (meth) acryloyloxyethyl] phthalate; ω- Mono- (meth) acrylates of a carboxy polymer at both ends such as carboxy-polycaprolactone mono (meth) acrylate can be exemplified. These carboxyl group-containing unsaturated compounds,
They can be used alone or in combination of two or more.

【0008】また、前記他の不飽和化合物としては、例
えば、スチレン、α−メチルスチレン、o−ビニルトル
エン、m−ビニルトルエン、p−ビニルトルエン、o−
クロルスチレン、m−クロルスチレン、p−クロルスチ
レン、o−メトキシスチレン、m−メトキシスチレン、
p−メトキシスチレン、o−ビニルベンジルメチルエー
テル、m−ビニルベンジルメチルエーテル、p−ビニル
ベンジルメチルエーテル、o−ビニルベンジルグリシジ
ルエーテル、m−ビニルベンジルグリシジルエーテル、
p−ビニルベンジルグリシジルエーテル、インデン等の
芳香族ビニル化合物;メチル(メタ)アクリレート、エ
チル(メタ)アクリレート、n−プロピル(メタ)アク
リレート、i−プロピル(メタ)アクリレート、n−ブ
チル(メタ)アクリレート、i−ブチル(メタ)アクリ
レート、sec−ブチル(メタ)アクリレート、t−ブ
チル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシエチル(メ
タ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)ア
クリレート、3−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレ
ート、2−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、3
−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、4−ヒドロ
キシブチル(メタ)アクリレート、アリル(メタ)アク
リレート、ベンジル(メタ)アクリレート、シクロヘキ
シル(メタ)アクリレート、フェニル(メタ)アクリレ
ート、2−メトキシエチル(メタ)アクリレート、2−
フェノキシエチル(メタ)アクリレート、メトキシジエ
チレングルコール(メタ)アクリレート、メトキシトリ
エチレングルコール(メタ)アクリレート、メトキシプ
ロピレングルコール(メタ)アクリレート、メトキシジ
プロピレングルコール(メタ)アクリレート、イソボル
ニル(メタ)アクリレート、ジシクロペンタジエニル
(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシ−3−フェノキ
シプロピル(メタ)アクリレート等の不飽和カルボン酸
エステル類;2−アミノエチル(メタ)アクリレート、
2−ジメチルアミノエチル(メタ)アクリレート、2−
アミノプロピル(メタ)アクリレート、2−ジメチルア
ミノプロピル(メタ)アクリレート、3−アミノプロピ
ル(メタ)アクリレート、3−ジメチルアミノプロピル
(メタ)アクリレート等の不飽和カルボン酸アミノアル
キルエステル類;グリシジル(メタ)アクリレート等の
不飽和カルボン酸グリシジルエステル類;酢酸ビニル、
プロピオン酸ビニル、酪酸ビニル、安息香酸ビニル等の
カルボン酸ビニルエステル類;ビニルメチルエーテル、
ビニルエチルエーテル、アリルグリシジルエーテル、メ
タリルグリシジルエーテル等の不飽和エーテル類;(メ
タ)アクリロニトリル、α−クロロアクリロニトリル、
シアン化ビニリデン等のシアン化ビニル化合物;(メ
タ)アクリルアミド、α−クロロアクリルアミド、N−
(2−ヒドロキシエチル)(メタ)アクリルアミド等の
不飽和アミド;マレイミド、N−シクロヘキシルマレイ
ミド、N−フェニルマレイミド等の不飽和イミド類;
1,3−ブタジエン、イソプレン、クロロプレン等の脂
肪族共役ジエン類;ポリスチレン、ポリメチル(メタ)
アクリレート、ポリn−ブチル(メタ)アクリレート、
ポリシリコーン等の重合体分子鎖の末端にモノアクリロ
イル基あるいはモノメタクリロイル基を有するマクロモ
ノマー類等を挙げることができる。これらの他の不飽和
化合物は、単独でまたは2種以上を混合して使用するこ
とができる。
The other unsaturated compounds include, for example, styrene, α-methylstyrene, o-vinyltoluene, m-vinyltoluene, p-vinyltoluene and o-vinyltoluene.
Chlorostyrene, m-chlorostyrene, p-chlorostyrene, o-methoxystyrene, m-methoxystyrene,
p-methoxystyrene, o-vinylbenzyl methyl ether, m-vinylbenzyl methyl ether, p-vinylbenzyl methyl ether, o-vinylbenzyl glycidyl ether, m-vinylbenzyl glycidyl ether,
aromatic vinyl compounds such as p-vinylbenzyl glycidyl ether and indene; methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, n-propyl (meth) acrylate, i-propyl (meth) acrylate, n-butyl (meth) acrylate , I-butyl (meth) acrylate, sec-butyl (meth) acrylate, t-butyl (meth) acrylate, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 3-hydroxypropyl (meth) Acrylate, 2-hydroxybutyl (meth) acrylate, 3
-Hydroxybutyl (meth) acrylate, 4-hydroxybutyl (meth) acrylate, allyl (meth) acrylate, benzyl (meth) acrylate, cyclohexyl (meth) acrylate, phenyl (meth) acrylate, 2-methoxyethyl (meth) acrylate, 2-
Phenoxyethyl (meth) acrylate, methoxydiethylene glycol (meth) acrylate, methoxytriethylene glycol (meth) acrylate, methoxypropylene glycol (meth) acrylate, methoxydipropylene glycol (meth) acrylate, isobornyl (meth) acrylate Unsaturated carboxylic esters such as dicyclopentadienyl (meth) acrylate and 2-hydroxy-3-phenoxypropyl (meth) acrylate; 2-aminoethyl (meth) acrylate;
2-dimethylaminoethyl (meth) acrylate, 2-
Unsaturated carboxylic acid aminoalkyl esters such as aminopropyl (meth) acrylate, 2-dimethylaminopropyl (meth) acrylate, 3-aminopropyl (meth) acrylate, and 3-dimethylaminopropyl (meth) acrylate; glycidyl (meth) Glycidyl esters of unsaturated carboxylic acids such as acrylates; vinyl acetate,
Carboxylic acid vinyl esters such as vinyl propionate, vinyl butyrate, and vinyl benzoate; vinyl methyl ether,
Unsaturated ethers such as vinyl ethyl ether, allyl glycidyl ether and methallyl glycidyl ether; (meth) acrylonitrile, α-chloroacrylonitrile,
Vinyl cyanide compounds such as vinylidene cyanide; (meth) acrylamide, α-chloroacrylamide, N-
Unsaturated amides such as (2-hydroxyethyl) (meth) acrylamide; unsaturated imides such as maleimide, N-cyclohexylmaleimide, N-phenylmaleimide;
Aliphatic conjugated dienes such as 1,3-butadiene, isoprene, chloroprene; polystyrene, polymethyl (meth)
Acrylate, poly n-butyl (meth) acrylate,
Macromonomers having a monoacryloyl group or a monomethacryloyl group at the terminal of a polymer molecular chain such as polysilicone can be mentioned. These other unsaturated compounds can be used alone or in combination of two or more.

【0009】カルボキシル基含有共重合体としては、
(メタ)アクリル酸と、スチレン、メチル(メタ)ア
クリレート、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレー
ト、ベンジル(メタ)アクリレート、N−フェニルマレ
イミド、ポリスチレンマクロモノマーおよびポリメチル
メタクリレートマクロモノマーの群から選ばれる少なく
とも1種との共重合体が好ましく、特に(メタ)アクリ
ル酸とベンジル(メタ)アクリレートとを含む単量体混
合物の共重合体が好ましい。
As the carboxyl group-containing copolymer,
(Meth) acrylic acid and at least one selected from the group consisting of styrene, methyl (meth) acrylate, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, benzyl (meth) acrylate, N-phenylmaleimide, polystyrene macromonomer and polymethyl methacrylate macromonomer A copolymer with one kind is preferable, and a copolymer of a monomer mixture containing (meth) acrylic acid and benzyl (meth) acrylate is particularly preferable.

【0010】好ましいカルボキシル基含有共重合体の具
体例としては、(メタ)アクリル酸/ベンジル(メタ)
アクリレート共重合体、(メタ)アクリル酸/スチレン
/ベンジル(メタ)アクリレート共重合体、(メタ)ア
クリル酸/ベンジル(メタ)アクリレート/ポリスチレ
ンマクロモノマー共重合体、(メタ)アクリル酸/ベン
ジル(メタ)アクリレート/ポリメチルメタクリレート
マクロモノマー共重合体、(メタ)アクリル酸/2−ヒ
ドロキシエチル(メタ)アクリレート/ベンジル(メ
タ)アクリレート/ポリスチレンマクロモノマー共重合
体、(メタ)アクリル酸/2−ヒドロキシエチル(メ
タ)アクリレート/ベンジル(メタ)アクリレート/ポ
リメチルメタクリレートマクロモノマー共重合体、(メ
タ)アクリル酸/スチレン/ベンジル(メタ)アクリレ
ート/N−フェニルマレイミド共重合体、(メタ)アク
リル酸/スチレン/ベンジル(メタ)アクリレート/N
−フェニルマレイミド/ポリスチレンマクロモノマー共
重合体、(メタ)アクリル酸/スチレン/ベンジル(メ
タ)アクリレート/N−フェニルマレイミド/ポリメチ
ルメタクリレートマクロモノマー共重合体、(メタ)ア
クリル酸/スチレン/2−ヒドロキシエチル(メタ)ア
クリレート/ベンジル(メタ)アクリレート/N−フェ
ニルマレイミド/ポリスチレンマクロモノマー共重合
体、(メタ)アクリル酸/スチレン/2−ヒドロキシエ
チル(メタ)アクリレート/ベンジル(メタ)アクリレ
ート/N−フェニルマレイミド/ポリメチルメタクリレ
ートマクロモノマー共重合体等を挙げることができる。
Specific examples of preferred copolymers containing a carboxyl group include (meth) acrylic acid / benzyl (meth)
Acrylate copolymer, (meth) acrylic acid / styrene / benzyl (meth) acrylate copolymer, (meth) acrylic acid / benzyl (meth) acrylate / polystyrene macromonomer copolymer, (meth) acrylic acid / benzyl (meth) ) Acrylate / polymethyl methacrylate macromonomer copolymer, (meth) acrylic acid / 2-hydroxyethyl (meth) acrylate / benzyl (meth) acrylate / polystyrene macromonomer copolymer, (meth) acrylic acid / 2-hydroxyethyl (Meth) acrylate / benzyl (meth) acrylate / polymethyl methacrylate macromonomer copolymer, (meth) acrylic acid / styrene / benzyl (meth) acrylate / N-phenylmaleimide copolymer, (meth) acrylic acid / styrene / Be Jill (meth) acrylate / N
-Phenylmaleimide / polystyrene macromonomer copolymer, (meth) acrylic acid / styrene / benzyl (meth) acrylate / N-phenylmaleimide / polymethylmethacrylate macromonomer copolymer, (meth) acrylic acid / styrene / 2-hydroxy Ethyl (meth) acrylate / benzyl (meth) acrylate / N-phenylmaleimide / polystyrene macromonomer copolymer, (meth) acrylic acid / styrene / 2-hydroxyethyl (meth) acrylate / benzyl (meth) acrylate / N-phenyl Maleimide / polymethyl methacrylate macromonomer copolymer and the like can be mentioned.

【0011】カルボキシル基含有共重合体におけるカル
ボキシル基含有不飽和モノマーの共重合割合は、通常、
5〜50重量%、好ましくは10〜40重量%である。
この場合、カルボキシル基含有不飽和モノマーの共重合
割合が5重量%未満では、得られる感放射線性樹脂組成
物のアルカリ現像液に対する溶解性が低下する傾向があ
り、また50重量%を超えると、アルカリ現像液による
現像時に、形成された画素の基板からの脱落や画素表面
の膜荒れを来たしやすくなる傾向がある。カルボキシル
基含有共重合体のゲルパーミエーションクロマトグラフ
ィ(GPC;溶出溶媒テトラヒドロフラン)で測定した
ポリスチレン換算重量平均分子量(以下、単に「重量平
均分子量」という。)は、好ましくは3,000〜30
0,000、特に好ましくは5,000〜100,00
0である。
The copolymerization ratio of the carboxyl group-containing unsaturated monomer in the carboxyl group-containing copolymer is usually
It is 5 to 50% by weight, preferably 10 to 40% by weight.
In this case, when the copolymerization ratio of the carboxyl group-containing unsaturated monomer is less than 5% by weight, the solubility of the obtained radiation-sensitive resin composition in an alkali developing solution tends to decrease, and when it exceeds 50% by weight, At the time of development with an alkali developing solution, the formed pixels tend to easily fall off the substrate and the pixel surface becomes rough. The weight average molecular weight in terms of polystyrene (hereinafter, simply referred to as “weight average molecular weight”) of the carboxyl group-containing copolymer measured by gel permeation chromatography (GPC; elution solvent: tetrahydrofuran) is preferably 3,000 to 30.
000, particularly preferably 5,000 to 100,00
0.

【0012】アルカリ可溶性樹脂による顔料の粒子表面
の被覆方法としては、特に限定されるものではないが、
例えば、 アルカリ可溶性樹脂溶液と顔料粒子とを混合したの
ち、アルカリ可溶性樹脂溶液で被覆された顔料粒子を、
ろ過、遠心分離等により分離して、被覆された顔料粒子
から溶剤を除去する方法、 アルカリ可溶性樹脂溶液と顔料粒子の水性懸濁液とを
混合したのち、アルカリ可溶性樹脂溶液で被覆された顔
料粒子を、ろ過、遠心分離等により分離して、被覆され
た顔料粒子を乾燥する方法、 溶融したアルカリ可溶性樹脂と顔料粒子とを加熱下で
混合したのち、冷却し、その後混合物を粉砕して、アル
カリ可溶性樹脂粒子とアルカリ可溶性樹脂で被覆された
顔料粒子との混合物を得る方法、 アルカリ可溶性樹脂粒子と顔料粒子とを、両粒子間に
機械的衝撃を与えつつ混合して、アルカリ可溶性樹脂を
溶融させて顔料の粒子表面に付着させる方法、 顔料粒子に、アルカリ可溶性樹脂を構成するモノマー
を吸着させたのち重合して、顔料の粒子表面にアルカリ
可溶性樹脂からなる被覆層を形成する方法等を挙げるこ
とができる。 前記の方法により得られるアルカリ可溶性樹脂粒子と
被覆された顔料粒子との混合物は、予めアルカリ可溶性
樹脂粒子を分離し、被覆された顔料粒子のみをカラーフ
ィルタ用感放射線性組成物の調製に使用しても、混合物
のままカラーフィルタ用感放射線性組成物の調製に使用
してもよい。また前記の方法でも、場合によりアルカ
リ可溶性樹脂粒子と被覆された顔料粒子との混合物が得
られるが、この場合も、予めアルカリ可溶性樹脂粒子を
分離し、被覆された顔料粒子のみをカラーフィルタ用感
放射線性組成物の調製に使用しても、混合物のままカラ
ーフィルタ用感放射線性組成物の調製に使用してもよ
い。
The method for coating the surface of the pigment particles with the alkali-soluble resin is not particularly limited.
For example, after mixing the alkali-soluble resin solution and the pigment particles, the pigment particles coated with the alkali-soluble resin solution,
A method of removing the solvent from the coated pigment particles by separating by filtration, centrifugation, etc., mixing the alkali-soluble resin solution and the aqueous suspension of the pigment particles, and then coating the pigment particles with the alkali-soluble resin solution Is separated by filtration, centrifugation, etc., and the coated pigment particles are dried.The molten alkali-soluble resin and the pigment particles are mixed under heating, then cooled, and then the mixture is pulverized, A method of obtaining a mixture of soluble resin particles and pigment particles coated with an alkali-soluble resin, mixing the alkali-soluble resin particles and the pigment particles while applying a mechanical impact between the two particles to melt the alkali-soluble resin A method of adhering the monomer constituting the alkali-soluble resin to the pigment particles, polymerizing the pigment particles, and causing the pigment particles to adhere to the surface of the pigment particles. A method of forming a coating layer made of a soluble resin can be used. The mixture of the alkali-soluble resin particles obtained by the above method and the coated pigment particles, the alkali-soluble resin particles are separated in advance, and only the coated pigment particles are used for preparing a radiation-sensitive composition for a color filter. Alternatively, the mixture may be used as it is in the preparation of the radiation-sensitive composition for a color filter. In the above method, a mixture of the alkali-soluble resin particles and the coated pigment particles may be obtained in some cases. In this case, too, the alkali-soluble resin particles are separated in advance, and only the coated pigment particles are used as a color filter. It may be used for the preparation of the radiation-sensitive composition or the mixture as it is for the preparation of the radiation-sensitive composition for color filters.

【0013】本発明において、顔料の粒子表面を被覆す
るアルカリ可溶性樹脂は、単独でまたは2種以上を組み
合わせて使用することができ、またアルカリ可溶性樹脂
以外の樹脂と組み合わせて使用することもできる。顔料
の粒子表面をアルカリ可溶性樹脂を含む2種以上の樹脂
を組み合わせて被覆する際には、2種以上の樹脂を混合
して被覆しても、あるいは2種以上の樹脂を順次積層し
て被覆してもよい。本発明における顔料の粒子表面をア
ルカリ可溶性樹脂を含む樹脂で被覆する際の樹脂量は、
顔料100重量部に対して、通常、0.1〜500重量
部、好ましくは1〜100重量部、さらに好ましくは5
〜50重量部である。本発明においては、少なくとも1
種の顔料の粒子表面をアルカリ可溶性樹脂で被覆するこ
とにより、顔料の導電性に起因する電気的な悪影響を与
えることがなく、かつ遮光性の大きなブラックマトリク
スを作製しうるとともに、画素パターンの欠損および欠
落を生じることがなく、かつ放射線未照射部の基板上お
よび画素上に残さおよび地汚れを生じることがないブラ
ックマトリクスおよびカラーフィルタ本体を作製しうる
カラーフィルタ用感放射線性樹脂組成物を提供すること
ができる。
In the present invention, the alkali-soluble resin that coats the surface of the pigment particles can be used alone or in combination of two or more, and can also be used in combination with a resin other than the alkali-soluble resin. When coating the pigment particle surface with a combination of two or more resins including an alkali-soluble resin, two or more resins may be mixed and coated, or two or more resins may be sequentially laminated and coated. May be. The resin amount when coating the particle surface of the pigment in the present invention with a resin containing an alkali-soluble resin,
Usually, 0.1 to 500 parts by weight, preferably 1 to 100 parts by weight, more preferably 5 to 100 parts by weight, based on 100 parts by weight of the pigment.
5050 parts by weight. In the present invention, at least one
By coating the particle surface of the kind pigment with an alkali-soluble resin, it is possible to produce a black matrix having a large light-shielding property without giving an adverse electric effect due to the conductivity of the pigment, and also to provide a defective pixel pattern. And a radiation-sensitive resin composition for a color filter capable of producing a black matrix and a color filter main body, which does not cause chipping and does not cause residue and background contamination on a substrate and a pixel in an unirradiated portion. can do.

【0014】本発明において、前記のようにして被覆さ
れた顔料は、単独でまたは2種以上を混合して使用する
ことができ、また被覆されていない顔料の1種以上と混
合して使用することができる。被覆された顔料と被覆さ
れていない顔料とを混合して使用する場合、被覆された
顔料の使用割合は、被覆される前の顔料重量で、通常、
5重量%以上、好ましくは20重量%以上である。本発
明における顔料は、所望により、分散剤あるいは分散助
剤と共に使用することができる。このような分散剤ある
いは分散助剤としては、例えば、カチオン系、アニオン
系、ノニオン系、両性、シリコーン系、フッ素系等の界
面活性剤を挙げることができる。前記界面活性剤として
は、例えば、ポリオキシエチレンラウリルエーテル、ポ
リオキシエチレンステアリルエーテル、ポリオキシエチ
レンオレイルエーテル等のポリオキシエチレンアルキル
エーテル類;ポリオキシエチレンオクチルフェニルエー
テル、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル等の
ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル類;ポリ
エチレングリコールジラウレート、ポリエチレングリコ
ールジステアレート等のポリエチレングリコールジエス
テル類;ソルビタン脂肪酸エステル類;脂肪酸変性ポリ
エステル類;3級アミン変性ポリウレタン類;ポリエチ
レンイミン類を挙げることができ、また商品名では、例
えば、KP(信越化学工業製)、ポリフロー(共栄社油
脂化学工業製)、エフトップ(トーケムプロダクツ
製)、メガファック(大日本インキ化学工業製)、フロ
ラード(住友スリーエム製)、アサヒガード、サーフロ
ン(以上、旭硝子製)等を挙げることができる。これら
の界面活性剤は、単独でまたは2種以上を混合して使用
することができる。界面活性剤の使用量は、被覆される
前の全顔料100重量部に対して、通常、50重量部以
下、好ましくは10〜40重量部である。
In the present invention, the pigments coated as described above can be used alone or in admixture of two or more, and used in admixture with one or more uncoated pigments. be able to. When a mixture of a coated pigment and an uncoated pigment is used, the proportion of the coated pigment used is usually the weight of the pigment before being coated,
It is at least 5% by weight, preferably at least 20% by weight. The pigment in the present invention can be used together with a dispersant or a dispersing aid, if desired. Examples of such a dispersing agent or dispersing aid include cationic, anionic, nonionic, amphoteric, silicone-based, and fluorine-based surfactants. Examples of the surfactant include polyoxyethylene alkyl ethers such as polyoxyethylene lauryl ether, polyoxyethylene stearyl ether, and polyoxyethylene oleyl ether; and polyoxyethylene octyl phenyl ether and polyoxyethylene nonyl phenyl ether. Polyoxyethylene alkyl phenyl ethers; polyethylene glycol diesters such as polyethylene glycol dilaurate and polyethylene glycol distearate; sorbitan fatty acid esters; fatty acid-modified polyesters; tertiary amine-modified polyurethanes; In the trade name, for example, KP (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), Polyflow (manufactured by Kyoeisha Yushi Kagaku Kogyo), F-Top (Tochem Products) ), Megafac (produced by Dainippon Ink and Chemicals, Inc.), Fluorad (Sumitomo 3M), Asahi Guard, Surflon (above, mention may be made of Asahi Glass Co., Ltd.) and the like. These surfactants can be used alone or in combination of two or more. The amount of the surfactant to be used is generally 50 parts by weight or less, preferably 10 to 40 parts by weight, based on 100 parts by weight of the total pigment before coating.

【0015】(B)バインダー樹脂 本発明におけるバインダー樹脂としては、前記(A)顔
料に対してバインダーとして作用し、かつカラーフィル
タ製造時の現像処理工程において用いられるアルカリ現
像液に可溶性である限り、適宜の樹脂を使用することが
できる。本発明における好ましいバインダー樹脂は、
(A)顔料の粒子表面を被覆するアルカリ可溶性樹脂と
して挙げたカルボキシル基含有共重合体と同様の樹脂で
あり、特に、(A)顔料の粒子表面を被覆するアルカリ
可溶性樹脂とバインダー樹脂とが同一の樹脂であること
が好ましい。バインダー樹脂として用いるカルボキシル
基含有共重合体におけるカルボキシル基含有不飽和化合
物の共重合割合は、通常、5〜50重量%、好ましくは
10〜40重量%である。この場合、カルボキシル基含
有不飽和化合物の共重合割合が5重量%未満では、得ら
れる感放射線性樹脂組成物のアルカリ現像液に対する溶
解性が低下する傾向があり、また50重量%を超える
と、アルカリ現像液による現像時に、形成された画素の
基板からの脱落や画素表面の膜荒れを来たしやすくなる
傾向がある。特にカルボキシル基含有不飽和モノマーを
前記特定の共重合割合で含有するカルボキシル基含有共
重合体は、アルカリ現像液に対して優れた溶解性を有す
るものであり、当該共重合体をバインダーとして用いた
感放射線性組成物は、アルカリ現像液による現像後に未
溶解物が残存することが極めて少なく、基板上の画素を
形成する部分以外の領域における地汚れ、膜残り等が発
生し難く、しかも該組成物から得られる画素は、アルカ
リ現像液に過剰に溶解することがなく、基板に対して、
優れた密着性を有し、基板から脱落するおそれもないも
のとなる。バインダー樹脂のゲルパーミエーションクロ
マトグラフィ(GPC;溶出溶媒テトラヒドロフラン)
で測定したポリスチレン換算重量平均分子量(以下、単
に「重量平均分子量」という。)は、通常、3,000
〜300,000、特に好ましくは5,000〜10
0,000である。このような特定の重量平均分子量を
有するバインダー樹脂を使用することにより、現像性に
優れた感放射性樹脂組成物が得られ、それによりシャー
プなパターンエッジを有する画素アレイを形成すること
ができるとともに、放射線未照射部の基板上あるいは画
素上における残さ、地汚れ等が発生し難くなる。本発明
において、バインダー樹脂は、単独でまたは2種以上を
混合して使用することができる。本発明におけるバイン
ダー樹脂の使用量は、アルカリ可溶性樹脂で被覆する前
の全顔料100重量部に対して、通常、10〜1000
重量部、好ましくは20〜500重量部である。この場
合、バインダー樹脂の使用量が10重量部未満では、例
えば、アルカリ現像性が低下したり、放射線未照射部の
基板上あるいは画素上における残さ、地汚れ等が発生し
やすくなり、一方1000重量部を超えると、相対的に
顔料濃度が低下するため、薄膜として目的とする色濃度
を達成することが困難となる場合がある。
(B) Binder Resin As the binder resin in the present invention, as long as it acts as a binder with respect to the (A) pigment and is soluble in an alkali developing solution used in a developing step in the production of a color filter, An appropriate resin can be used. Preferred binder resin in the present invention,
(A) A resin similar to the carboxyl group-containing copolymer mentioned as the alkali-soluble resin for coating the pigment particle surface, and in particular, (A) the alkali-soluble resin and the binder resin for coating the pigment particle surface are the same. Is preferred. The copolymerization ratio of the carboxyl group-containing unsaturated compound in the carboxyl group-containing copolymer used as the binder resin is usually 5 to 50% by weight, preferably 10 to 40% by weight. In this case, if the copolymerization ratio of the carboxyl group-containing unsaturated compound is less than 5% by weight, the solubility of the obtained radiation-sensitive resin composition in an alkali developing solution tends to decrease, and if it exceeds 50% by weight, At the time of development with an alkali developing solution, the formed pixels tend to easily fall off the substrate and the pixel surface becomes rough. In particular, a carboxyl group-containing copolymer containing a carboxyl group-containing unsaturated monomer at the specific copolymerization ratio is one having excellent solubility in an alkali developer, and the copolymer was used as a binder. The radiation-sensitive composition has very little undissolved material remaining after development with an alkali developing solution, and is unlikely to cause background fouling, film residue, and the like in a region other than a portion on which a pixel is formed on a substrate. The pixels obtained from the product do not dissolve excessively in the alkaline developer,
It has excellent adhesion and does not have a risk of falling off the substrate. Gel permeation chromatography of binder resin (GPC; elution solvent: tetrahydrofuran)
The polystyrene-equivalent weight average molecular weight (hereinafter, simply referred to as “weight average molecular weight”) measured in the above is usually 3,000.
~ 300,000, particularly preferably 5,000 ~ 10
It is 0000. By using a binder resin having such a specific weight average molecular weight, a radiation-sensitive resin composition having excellent developability can be obtained, whereby a pixel array having a sharp pattern edge can be formed, Residues on the substrate or pixels of the non-irradiated portion, background contamination, and the like hardly occur. In the present invention, the binder resins can be used alone or in combination of two or more. The amount of the binder resin used in the present invention is generally 10 to 1000 parts by weight based on 100 parts by weight of the total pigment before coating with the alkali-soluble resin.
Parts by weight, preferably 20 to 500 parts by weight. In this case, when the amount of the binder resin used is less than 10 parts by weight, for example, alkali developability is reduced, residues on the substrate or pixels of the non-irradiated portion are easily generated, and background stains and the like are easily generated. If the amount exceeds the above range, the pigment concentration relatively decreases, so that it may be difficult to achieve the target color density as a thin film.

【0016】(C)多官能性モノマー 本発明における多官能性モノマーとしては、例えば、エ
チレングリコール、プロピレングリコール等のアルキレ
ングリコールのジ(メタ)アクリレート類;ポリエチレ
ングリコール、ポリプロピレングリコール等のポリアル
キレングリコールのジ(メタ)アクリレート類;グリセ
リン、トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトー
ル、ジペンタエリスリトール等の3価以上の多価アルコ
ールのポリ(メタ)アクリレート類;ポリエステル、エ
ポキシ樹脂、ウレタン樹脂、アルキド樹脂、シリコーン
樹脂、スピラン樹脂等のオリゴ(メタ)アクリレート
類;両末端ヒドロキシポリ−1,3−ブタジエン、両末
端ヒドロキシポリイソプレン、両末端ヒドロキシポリカ
プロラクトン等の両末端ヒドロキシル化重合体のジ(メ
タ)アクリレート類や、トリス〔2−(メタ)アクリロ
イルオキシエチル〕フォスフェート等を挙げることがで
きる。
(C) Polyfunctional Monomer The polyfunctional monomer in the present invention includes, for example, di (meth) acrylates of alkylene glycols such as ethylene glycol and propylene glycol; and polyalkylene glycols such as polyethylene glycol and polypropylene glycol. Di (meth) acrylates; poly (meth) acrylates of trihydric or higher polyhydric alcohols such as glycerin, trimethylolpropane, pentaerythritol and dipentaerythritol; polyesters, epoxy resins, urethane resins, alkyd resins, silicone resins, Oligo (meth) acrylates such as spirane resin; hydroxyl-terminated at both ends such as hydroxy-poly-1,3-butadiene at both ends, hydroxy-polyisoprene at both ends and hydroxy-polycaprolactone at both ends Examples thereof include polymer di (meth) acrylates and tris [2- (meth) acryloyloxyethyl] phosphate.

【0017】これらの多官能性モノマーのうち、3価以
上の多価アルコールのポリ(メタ)アクリレート類が好
ましく、具体的には、トリメチロールプロパントリ(メ
タ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)
アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)ア
クリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)ア
クリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)ア
クリレート、ジカルボン酸変性ペンタエリスリトールト
リ(メタ)アクリレート等を挙げることができ、特に、
トリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタエリ
スリトールトリアクリレート、ジペンタエリスリトール
ヘキサアクリレート、下記式(1)で表される化合物
が、画素強度が高く、画素表面の平滑性に優れ、かつ放
射線未照射部の基板上あるいは画素上における残さ、地
汚れ等を発生し難い点で好ましい。
Of these polyfunctional monomers, poly (meth) acrylates of trihydric or higher polyhydric alcohols are preferred. Specifically, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate
Acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, dicarboxylic acid-modified pentaerythritol tri (meth) acrylate, and the like,
Trimethylolpropane triacrylate, pentaerythritol triacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, and the compound represented by the following formula (1) have high pixel strength, excellent smoothness of the pixel surface, and are not exposed to radiation on the substrate. Alternatively, it is preferable in that a residue on a pixel, a background stain, and the like hardly occur.

【0018】[0018]

【化1】 Embedded image

【0019】本発明において、多官能性モノマーは、単
独でまたは2種以上を混合して使用することができる。
本発明において使用される多官能性モノマーは、その一
部を単官能性モノマーに置き換えることもできる。この
ような単官能性モノマーとしては、例えば、前記(A)
顔料の粒子表面の被覆に使用されるアルカリ可溶性樹脂
の構成モノマーとして例示したカルボキシル基含有不飽
和化合物や他の不飽和化合物と同様の化合物を挙げるこ
とができる。これらの単官能性モノマーは、単独でまた
は2種以上を混合して使用することができる。前記単官
能性モノマーの使用割合は、多官能性モノマーと単官能
性モノマーの合計に対して、0〜90重量%、好ましく
は0〜50重量%である。本発明における多官能性モノ
マーの使用量は、前記(B)バインダー樹脂100重量
部に対して、通常、5〜500重量部、好ましくは20
〜300重量部である。この場合、多官能性モノマーの
使用量が5重量部未満では、画素強度あるいは画素表面
の平滑性が低下する傾向があり、一方500重量部を超
えると、例えば、アルカリ現像性が低下したり、放射線
未照射部の基板上あるいは画素上における残さ、地汚れ
等が発生しやすくなる傾向がある。
In the present invention, the polyfunctional monomers can be used alone or in combination of two or more.
A part of the polyfunctional monomer used in the present invention can be replaced with a monofunctional monomer. Examples of such a monofunctional monomer include, for example, the aforementioned (A)
As the constituent monomer of the alkali-soluble resin used for coating the surface of the pigment particle, there may be mentioned the same compounds as the carboxyl group-containing unsaturated compounds and other unsaturated compounds exemplified above. These monofunctional monomers can be used alone or in combination of two or more. The usage ratio of the monofunctional monomer is 0 to 90% by weight, preferably 0 to 50% by weight, based on the total of the polyfunctional monomer and the monofunctional monomer. The amount of the polyfunctional monomer used in the present invention is usually 5 to 500 parts by weight, preferably 20 to 100 parts by weight of the binder resin (B).
300300 parts by weight. In this case, if the amount of the polyfunctional monomer used is less than 5 parts by weight, the pixel strength or the smoothness of the pixel surface tends to decrease, while if it exceeds 500 parts by weight, for example, alkali developability decreases, There is a tendency that residues, non-irradiated portions on the substrate or pixels, background contamination, and the like are likely to occur.

【0020】(D)放射線重合開始剤 本発明における放射線重合開始剤とは、可視光線、紫外
線、遠紫外線、電子線、X線等の放射線の照射(以下、
「露光」という。)により分解または結合の解裂を生
じ、ラジカル種、カチオン種、アニオン種等の前記
(C)多官能性モノマーの重合を開始することができる
活性種を発生する化合物を意味する。このような放射線
重合開始剤としては、イミダゾール環を有する化合物、
ベンゾイン結合を有する化合物、他の放射線ラジカル発
生剤、トリハロメチル基を有する化合物等を挙げること
ができる。前記イミダゾール環を有する化合物として
は、特開平8−259876号公報に記載されたビイミ
ダゾール化合物が好ましい。これらのビイミダゾール化
合物のうち、特に、2,2’−ビス(2−クロルフェニ
ル)−4,4’,5,5’−テトラキス(4−エトキシ
カルボニルフェニル)−1,2’−ビイミダゾール、
2,2’−ビス(2−ブロモフェニル)−4,4’,
5,5’−テトラキス(4−エトキシカルボニルフェニ
ル)−1,2’−ビイミダゾール、2,2’−ビス
(2,4−ジクロロフェニル)−4,4’,5,5’−
テトラフェニル−1,2’−ビイミダゾール、2,2’
−ビス(2,4−ジブロモフェニル)−4,4’,5,
5’−テトラフェニル−1,2’−ビイミダゾール、
2,2’−ビス(2,4,6−トリクロロフェニル)−
4,4’,5,5’−テトラフェニル−1,2’−ビイ
ミダゾールおよび2,2’−ビス(2,4,6−トリブ
ロモフェニル)−4,4’,5,5’−テトラフェニル
−1,2’−ビイミダゾールが好ましい。
(D) Radiation polymerization initiator The radiation polymerization initiator in the present invention refers to irradiation of radiation such as visible light, ultraviolet light, far ultraviolet light, electron beam, X-ray (hereinafter, referred to as “ radiation polymerization initiator”) .
This is called "exposure". ) Means a compound which generates an active species capable of initiating polymerization of the (C) polyfunctional monomer such as a radical species, a cationic species, an anionic species, etc. As such a radiation polymerization initiator, a compound having an imidazole ring,
Examples thereof include a compound having a benzoin bond, another radiation radical generator, a compound having a trihalomethyl group, and the like. As the compound having an imidazole ring, a biimidazole compound described in JP-A-8-259876 is preferable. Among these biimidazole compounds, in particular, 2,2′-bis (2-chlorophenyl) -4,4 ′, 5,5′-tetrakis (4-ethoxycarbonylphenyl) -1,2′-biimidazole,
2,2′-bis (2-bromophenyl) -4,4 ′,
5,5'-tetrakis (4-ethoxycarbonylphenyl) -1,2'-biimidazole, 2,2'-bis (2,4-dichlorophenyl) -4,4 ', 5,5'-
Tetraphenyl-1,2'-biimidazole, 2,2 '
-Bis (2,4-dibromophenyl) -4,4 ', 5
5′-tetraphenyl-1,2′-biimidazole,
2,2'-bis (2,4,6-trichlorophenyl)-
4,4 ', 5,5'-tetraphenyl-1,2'-biimidazole and 2,2'-bis (2,4,6-tribromophenyl) -4,4', 5,5'-tetra Phenyl-1,2'-biimidazole is preferred.

【0021】また、ベンゾイン結合を有する化合物およ
び他の放射線ラジカル発生剤としては、例えば、2−ヒ
ドロキシ−2−メチル−1−フェニルプロパン−1−オ
ン、1−(4−i−プロピルフェニル)−2−ヒドロキ
シ−2−メチルプロパン−1−オン、4−(2−ヒドロ
キシエトキシ)フェニル−(2−ヒドロキシ−2−プロ
ピル)ケトン、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニル
ケトン、2,2−ジメトキシ−2−フェニルアセトフェ
ノン、2−メチル−(4−メチルチオフェニル)−2−
モルフォリノ−1−プロパン−1−オン、2−ベンジル
−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルフォリノフェニ
ル)ブタン−1−オン、ベンゾフェノン、3,3−ジメ
チル−4−メトキシベンゾフェノン、2,4−ジエチル
チオキサントン、4−アジドベンズアルデヒド、4−ア
ジドアセトフェノン、4−アジドベンザルアセトフェノ
ン、アジドピレン、4−ジアゾジフェニルアミン、4−
ジアゾ−4’−メトキシジフェニルアミン、4−ジアゾ
−3−メトキシジフェニルアミン、ビス(2,4,6−
トリメチルベンゾイル)フェニルフォスフィンオキサイ
ド、ビス(2,6−ジメトキシベンゾイル)−2,4,
4−トリメチルペンチルフォスフィンオキサイド、ジベ
ンゾイル、ベンゾインイソブチルエーテル、N−フェニ
ルチオアクリドン、トリフェニルピリリウムパークロレ
ート等を挙げることができ、また商品名では、イルガキ
ュア、ダロキュア(以上、チバガイギー製)等のシリー
ズを挙げることができる。これらのベンゾイン結合を有
する化合物および他の放射線ラジカル発生剤のうち、特
に、2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モ
ルフォリノフェニル)ブタン−1−オン、2−ヒドロキ
シ−2−メチル−1−フェニルプロパン−1−オン、ビ
ス(2,6−ジメトキシベンゾイル)−2,4,4−ト
リメチルペンチルフォスフィンオキサイド等が好まし
い。
Examples of the compound having a benzoin bond and other radiation radical generators include 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one and 1- (4-i-propylphenyl)- 2-hydroxy-2-methylpropan-1-one, 4- (2-hydroxyethoxy) phenyl- (2-hydroxy-2-propyl) ketone, 1-hydroxycyclohexylphenylketone, 2,2-dimethoxy-2-phenyl Acetophenone, 2-methyl- (4-methylthiophenyl) -2-
Morpholino-1-propan-1-one, 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) butan-1-one, benzophenone, 3,3-dimethyl-4-methoxybenzophenone, 2,4 -Diethylthioxanthone, 4-azidobenzaldehyde, 4-azidoacetophenone, 4-azidobenzalacetophenone, azidopyrene, 4-diazodiphenylamine, 4-
Diazo-4'-methoxydiphenylamine, 4-diazo-3-methoxydiphenylamine, bis (2,4,6-
Trimethylbenzoyl) phenylphosphine oxide, bis (2,6-dimethoxybenzoyl) -2,4
Examples thereof include 4-trimethylpentylphosphine oxide, dibenzoyl, benzoin isobutyl ether, N-phenylthioacridone, triphenylpyrylium perchlorate, and the like, and trade names such as Irgacure and Darocure (all manufactured by Ciba Geigy). A series can be mentioned. Among these compounds having a benzoin bond and other radiation radical generators, in particular, 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) butan-1-one, 2-hydroxy-2-methyl Preferred are -1-phenylpropan-1-one, bis (2,6-dimethoxybenzoyl) -2,4,4-trimethylpentylphosphine oxide and the like.

【0022】また、前記トリハロメチル基を有する化合
物としては、例えば、1,3,5−トリス(トリクロロ
メチル)トリアジン、2−(2’−フリルエチリデン)
−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジ
ン、2−(3’,4’−ジメトキシスチリル)−4,6
−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−
(4’−メトキシナフチル)−4,6−ビス(トリクロ
ロメチル)−s−トリアジン、2−(2’−ブロモ−
4’−メチルフェニル)−4,6−ビス(トリク15メ
チル)−s−トリアジン、2−(2’−チオフェニルエ
チリデン)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−
トリアジン等を挙げることができる。さらに、前記以外
の放射線重合開始剤として、4−アジドベンズアルデヒ
ド、アジドピレン、ビス(2,6−ジメトキシベンゾイ
ル)−2,4,4−トリメチルペンチルフォスフィンオ
キサイド、N−フェニルチオアクリドン、トリフェニル
ピリリウムパークロレート等を使用することもできる。
本発明において、放射線重合開始剤は、単独でまたは2
種以上を混合して使用することができる。
Examples of the compound having a trihalomethyl group include 1,3,5-tris (trichloromethyl) triazine and 2- (2′-furylethylidene)
-4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- (3 ', 4'-dimethoxystyryl) -4,6
-Bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2-
(4'-methoxynaphthyl) -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- (2'-bromo-
4'-methylphenyl) -4,6-bis (tric15methyl) -s-triazine, 2- (2'-thiophenylethylidene) -4,6-bis (trichloromethyl) -s-
Triazine and the like can be mentioned. Further, as radiation polymerization initiators other than the above, 4-azidobenzaldehyde, azidopyrene, bis (2,6-dimethoxybenzoyl) -2,4,4-trimethylpentylphosphine oxide, N-phenylthioacridone, triphenylpyridone Lium perchlorate can also be used.
In the present invention, the radiation polymerization initiator may be used alone or
A mixture of more than one species can be used.

【0023】本発明においては、前記放射線重合開始剤
と共に、増感剤、硬化促進剤、あるいは高分子化合物か
らなる放射線架橋剤あるいは放射線増感剤(以下、「高
分子放射線架橋・増感剤」という。)の1種以上を併用
することもできる。前記増感剤としては、例えば、4,
4’−ビス(ジメチルアミノ)ベンゾフェノン、4,
4’−ビス(ジエチルアミノ)ベンゾフェノン、4−ジ
エチルアミノアセトフェノン、4−ジメチルアミノプロ
ピオフェノン、エチル−4−ジメチルアミノベンゾエー
ト、2−エチルヘキシル−1,4−ジメチルアミノベン
ゾエート、2,5−ビス(4’−ジエチルアミノベンザ
ル)シクロヘキサノン、7−ジエチルアミノ−3−(4
−ジエチルアミノベンゾイル)クマリン、4−(ジエチ
ルアミノ)カルコン等を挙げることができる。これらの
増感剤は、単独でまたは2種以上を混合して使用するこ
とができる。また、前記硬化促進剤としては、例えば、
2−メルカプトベンゾイミダゾール、2−メルカプトベ
ンゾチアゾール、2−メルカプトベンゾオキサゾール、
2,5−ジメルカプト−1,3,4−チアジアゾール、
2−メルカプト−4,6−ジメチルアミノピリジン、1
−フェニル−5−メルカプト−1H−テトラゾール、3
−メルカプト−4−メチル−4H−1,2,4−トリア
ゾール等を挙げることができる。これらの硬化促進剤
は、単独でまたは2種以上を混合して使用することがで
きる。さらに、前記高分子放射線架橋・増感剤は、放射
線架橋剤および/または放射線増感剤として機能しうる
官能基を主鎖および/または側鎖中に有する高分子化合
物であり、その例としては、4−アジドベンズアルデヒ
ドとポリビニルアルコールとの縮合物、4−アジドベン
ズアルデヒドとフェノールノボラック樹脂との縮合物、
4−アクリロイルフェニルシンナモイルエステルの単独
重合体あるいは共重合体、1,4−ポリブタジエン、
1,2−ポリブタジエン等を挙げることができる。これ
らの高分子放射線架橋・増感剤は、単独でまたは2種以
上を混合して使用することができる。本発明において
は、放射線重合開始剤として、前記ベンゾイン結合を有
する化合物を使用するか、あるいは該化合物を前記増感
剤および/または前記硬化促進剤と組み合せて使用する
ことが好ましく、特に、2−ヒドロキシ−2−メチル−
1−フェニルプロパン−1−オン、2−メチル−(4−
メチルチオフェニル)−2−モルフォリノ−1−プロパ
ン−1−オンおよび2−ベンジル−2−ジメチルアミノ
−1−(4−モルフォリノフェニル)ブタン−1−オン
の群から選ばれる1種以上、あるいはこれらの化合物の
群から選ばれる1種以上と4,4’−ビス(ジメチルア
ミノ)ベンゾフェノン、4,4’−ビス(ジエチルアミ
ノ)ベンゾフェノンおよび2−メルカプトベンゾチアゾ
ールの群から選ばれる1種以上との組み合せを使用する
ことが、形成された画素が現像時に基板から脱落し難
く、画素強度および感度も高い点で好ましい。
In the present invention, together with the radiation polymerization initiator, a sensitizer, a curing accelerator, or a radiation cross-linking agent or a radiation sensitizer comprising a polymer compound (hereinafter referred to as a “polymer radiation cross-linking / sensitizer”) ) May be used in combination. Examples of the sensitizer include 4,
4'-bis (dimethylamino) benzophenone, 4,
4′-bis (diethylamino) benzophenone, 4-diethylaminoacetophenone, 4-dimethylaminopropiophenone, ethyl-4-dimethylaminobenzoate, 2-ethylhexyl-1,4-dimethylaminobenzoate, 2,5-bis (4 ′ -Diethylaminobenzal) cyclohexanone, 7-diethylamino-3- (4
-Diethylaminobenzoyl) coumarin, 4- (diethylamino) chalcone and the like. These sensitizers can be used alone or in combination of two or more. Further, as the curing accelerator, for example,
2-mercaptobenzimidazole, 2-mercaptobenzothiazole, 2-mercaptobenzoxazole,
2,5-dimercapto-1,3,4-thiadiazole,
2-mercapto-4,6-dimethylaminopyridine, 1
-Phenyl-5-mercapto-1H-tetrazole, 3
-Mercapto-4-methyl-4H-1,2,4-triazole and the like. These curing accelerators can be used alone or in combination of two or more. Further, the polymer radiation crosslinking / sensitizer is a polymer compound having a functional group capable of functioning as a radiation crosslinking agent and / or a radiation sensitizer in a main chain and / or a side chain. Condensates of 4-azidobenzaldehyde and polyvinyl alcohol, condensates of 4-azidobenzaldehyde and phenol novolak resin,
A homopolymer or a copolymer of 4-acryloylphenylcinnamoyl ester, 1,4-polybutadiene,
Examples thereof include 1,2-polybutadiene. These polymer radiation crosslinking / sensitizers can be used alone or in combination of two or more. In the present invention, as the radiation polymerization initiator, it is preferable to use the compound having a benzoin bond, or to use the compound in combination with the sensitizer and / or the curing accelerator. Hydroxy-2-methyl-
1-phenylpropan-1-one, 2-methyl- (4-
At least one selected from the group consisting of methylthiophenyl) -2-morpholino-1-propan-1-one and 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) butan-1-one, or Combination of at least one member selected from the group consisting of compounds of formula (I) with at least one member selected from the group consisting of 4,4'-bis (dimethylamino) benzophenone, 4,4'-bis (diethylamino) benzophenone and 2-mercaptobenzothiazole Is preferred because formed pixels are less likely to fall off the substrate during development and have higher pixel strength and sensitivity.

【0024】本発明における放射線重合開始剤の使用量
は、(C)多官能性モノマー100重量部に対して、通
常、0.01〜200重量部、好ましくは1〜120重
量部、さらに好ましくは1〜50重量部である。この場
合、放射線重合開始剤の使用量が0.01重量部未満で
は、露光による硬化が不十分となり、パターンに欠落、
欠損やアンダーカットを生じるおそれがあり、一方20
0重量部を超えると、形成されたパターンが現像時に基
板から脱落しやすく、また未露光部の基板上あるいは画
素上における残さ、地汚れ等を生じやすくなる傾向があ
る。また、本発明における増感剤および/または硬化促
進剤の使用量は、放射線重合開始剤と増感剤および/ま
たは硬化促進剤との合計量の80重量%以下であること
が好ましい。
The amount of the radiation polymerization initiator used in the present invention is usually 0.01 to 200 parts by weight, preferably 1 to 120 parts by weight, more preferably 100 to 100 parts by weight of the polyfunctional monomer (C). 1 to 50 parts by weight. In this case, if the amount of the radiation polymerization initiator is less than 0.01 part by weight, curing by exposure becomes insufficient, and the pattern is missing,
There is a risk of causing breakage or undercut.
If the amount is more than 0 parts by weight, the formed pattern tends to fall off the substrate during development, and the unexposed portion tends to be left on the substrate or the pixel, to cause background stain, and the like. The amount of the sensitizer and / or the curing accelerator used in the present invention is preferably 80% by weight or less of the total amount of the radiation polymerization initiator and the sensitizer and / or the curing accelerator.

【0025】(E)溶剤 本発明における溶剤としては、前記(A)〜(D)成分
や、後述する添加剤成分を溶解または分散し、かつこれ
らの成分と反応せず、適度の揮発性を有するものである
限り、適宜に選択して使用することができる。このよう
な溶剤としては、例えば、エチレングリコールモノメチ
ルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、
エチレングリコールモノ−n−プロピルエーテル、エチ
レングリコールモノ−n−ブチルエーテル等のエチレン
グリコールモノアルキルエーテル類;ジエチレングリコ
ールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエ
チルエーテル、ジエチレングリコールモノ−n−プロピ
ルエーテル、ジエチレングリコールモノ−n−ブチルエ
ーテル、トリエチレングリコールモノメチルエーテル、
トリエチレングリコールモノエチルエーテル等のポリエ
チレングリコールモノアルキルエーテル類;プロピレン
グリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコール
モノエチルエーテル、プロピレングリコールモノ−n−
プロピルエーテル、プロピレングリコールモノ−n−ブ
チルエーテル等のプロピレングリコールモノアルキルエ
ーテル類;ジプロピレングリコールモノメチルエーテ
ル、ジプロピレングリコールモノエチルエーテル、ジプ
ロピレングリコールモノ−n−プロピルエーテル、ジプ
ロピレングリコールモノ−n−ブチルエーテル、トリプ
ロピレングリコールモノメチルエーテル、トリプロピレ
ングリコールモノエチルエーテル等のポリプロピレング
リコールモノアルキルエーテル類;エチレングリコール
モノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールモ
ノエチルエーテルアセテート等のエチレングリコールモ
ノアルキルエーテルアセテート類;プロピレングリコー
ルモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコー
ルモノエチルエーテルアセテート等のプロピレングリコ
ールモノアルキルエーテルアセテート類;ジエチレング
リコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールメチ
ルエチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエー
テル、テトラヒドロフラン等の他のエーテル類;メチル
エチルケトン、シクロヘキサノン、2−ヘプタノン、3
−ヘプタノン等のケトン類;2−ヒドロキシプロピオン
酸メチル、2−ヒドロキシプロピオン酸エチル等の乳酸
アルキルエステル類;2−ヒドロキシ−2−メチルプロ
ピオン酸エチル、3−メトキシプロピオン酸メチル、3
−メトキシプロピオン酸エチル、3−エトキシプロピオ
ン酸メチル、3−エトキシプロピオン酸エチル、エトキ
シ酢酸エチル、ヒドロキシ酢酸エチル、2−ヒドロキシ
−3−メチルブタン酸メチル、3−メチル−3−メトキ
シブチルアセテート、3−メチル−3−メトキシブチル
プロピオネート、酢酸エチル、酢酸n−ブチル、酢酸i
−ブチル、ぎ酸n−アミル、酢酸i−アミル、プロピオ
ン酸n−ブチル、酪酸エチル、酪酸i−プロピル、酪酸
n−ブチル、ピルビン酸メチル、ピルビン酸エチル、ピ
ルビン酸n−プロピル、アセト酢酸メチル、アセト酢酸
エチル、2−オキソブタン酸エチル等の他のエステル
類;トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類;N−メ
チルピロリドン、N,N−ジメチルホルムアミド、N,
N−ジメチルアセトアミド等のアミド類等を挙げること
ができる。これらの溶剤は、単独でまたは2種以上を混
合して使用することができる。
(E) Solvent The solvent in the present invention dissolves or disperses the above-mentioned components (A) to (D) and additive components described below, and does not react with these components, and has an appropriate volatility. As long as it has, it can be appropriately selected and used. Such solvents include, for example, ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether,
Ethylene glycol monoalkyl ethers such as ethylene glycol mono-n-propyl ether and ethylene glycol mono-n-butyl ether; diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol mono-n-propyl ether, diethylene glycol mono-n-butyl ether, triethylene glycol Ethylene glycol monomethyl ether,
Polyethylene glycol monoalkyl ethers such as triethylene glycol monoethyl ether; propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monoethyl ether, propylene glycol mono-n-
Propylene glycol monoalkyl ethers such as propyl ether and propylene glycol mono-n-butyl ether; dipropylene glycol monomethyl ether, dipropylene glycol monoethyl ether, dipropylene glycol mono-n-propyl ether, dipropylene glycol mono-n-butyl ether Propylene glycol monoalkyl ethers such as tripropylene glycol monomethyl ether and tripropylene glycol monoethyl ether; ethylene glycol monoalkyl ether acetates such as ethylene glycol monomethyl ether acetate and ethylene glycol monoethyl ether acetate; propylene glycol monomethyl ether acetate; Propylene glycol monoethyl ether Propylene glycol monoalkyl ether acetates such as acetate; diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol methyl ethyl ether, diethylene glycol diethyl ether, other ethers such as tetrahydrofuran; methylethylketone, cyclohexanone, 2-heptanone, 3
Ketones such as -heptanone; alkyl lactates such as methyl 2-hydroxypropionate and ethyl 2-hydroxypropionate; ethyl 2-hydroxy-2-methylpropionate; methyl 3-methoxypropionate;
-Ethyl methoxypropionate, methyl 3-ethoxypropionate, ethyl 3-ethoxypropionate, ethyl ethoxyacetate, ethyl hydroxyacetate, methyl 2-hydroxy-3-methylbutanoate, 3-methyl-3-methoxybutyl acetate, 3- Methyl-3-methoxybutyl propionate, ethyl acetate, n-butyl acetate, i-acetic acid
-Butyl, n-amyl formate, i-amyl acetate, n-butyl propionate, ethyl butyrate, i-propyl butyrate, n-butyl butyrate, methyl pyruvate, ethyl pyruvate, n-propyl pyruvate, methyl acetoacetate , Other esters such as ethyl acetoacetate and ethyl 2-oxobutanoate; aromatic hydrocarbons such as toluene and xylene; N-methylpyrrolidone; N, N-dimethylformamide;
Examples thereof include amides such as N-dimethylacetamide. These solvents can be used alone or in combination of two or more.

【0026】さらに、前記溶剤と共に、ベンジルエチル
エーテル、ジヘキシルエーテル、アセトニルアセトン、
イソホロン、カプロン酸、カプリル酸、1−オクタノー
ル、1−ノナノール、ベンジルアルコール、酢酸ベンジ
ル、安息香酸エチル、しゅう酸ジエチル、マレイン酸ジ
エチル、γ−ブチロラクトン、炭酸エチレン、炭酸プロ
ピレン、エチレングリコールモノフェニルエーテルアセ
テート等の高沸点溶剤を併用することもできる。これら
の高沸点溶剤は、単独でまたは2種以上を混合して使用
することができる。
Further, benzyl ethyl ether, dihexyl ether, acetonylacetone,
Isophorone, caproic acid, caprylic acid, 1-octanol, 1-nonanol, benzyl alcohol, benzyl acetate, ethyl benzoate, diethyl oxalate, diethyl maleate, γ-butyrolactone, ethylene carbonate, propylene carbonate, ethylene glycol monophenyl ether acetate , Etc., can be used in combination. These high-boiling solvents can be used alone or in combination of two or more.

【0027】これらの溶剤のうち、溶解性、顔料分散
性、塗布性等の観点から、プロピレングリコールモノメ
チルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテル
アセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテル
アセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテル
アセテート、ジエチレングリコールジメチルエーテル、
ジエチレングリコールメチルエチルエーテル、シクロヘ
キサノン、2−ヘプタノン、3−ヘプタノン、2−ヒド
ロキシプロピオン酸エチル、3−メチル−3−メトキシ
ブチルプロピオネート、3−メトキシプロピオン酸エチ
ル、3−エトキシプロピオン酸メチル、3−エトキシプ
ロピオン酸エチル、酢酸n−ブチル、酢酸i−ブチル、
ぎ酸n−アミル、酢酸i−アミル、プロピオン酸n−ブ
チル、酪酸エチル、酪酸i−プロピル、酪酸n−ブチ
ル、ピルビン酸エチル等が好まく、また高沸点溶剤とし
ては、γ−ブチロラクトン等が好ましい。本発明におけ
る溶剤の使用量は、特に限定されるものではないが、塗
布性、組成物の安定性等の観点から、前記(A)〜
(D)成分と後述する添加剤成分との合計濃度が5〜5
0重量%となる量、好ましくは10〜40重量%となる
量が望ましい。
Among these solvents, propylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol monoethyl ether acetate, diethylene glycol dimethyl ether, from the viewpoints of solubility, pigment dispersibility, coatability and the like.
Diethylene glycol methyl ethyl ether, cyclohexanone, 2-heptanone, 3-heptanone, ethyl 2-hydroxypropionate, 3-methyl-3-methoxybutylpropionate, ethyl 3-methoxypropionate, methyl 3-ethoxypropionate, 3- Ethyl ethoxypropionate, n-butyl acetate, i-butyl acetate,
Preferred are n-amyl formate, i-amyl acetate, n-butyl propionate, ethyl butyrate, i-propyl butyrate, n-butyl butyrate, ethyl pyruvate and the like, and as the high boiling solvent, γ-butyrolactone and the like preferable. The amount of the solvent used in the present invention is not particularly limited, but from the viewpoints of coatability, stability of the composition and the like, the above (A) to (A)
The total concentration of the component (D) and the additive component described below is 5 to 5
An amount of 0% by weight, preferably 10 to 40% by weight is desirable.

【0028】添加剤 本発明のカラーフィルタ用感放射線性組成物は、前記
(A)〜(E)成分を必須成分とするものであるが、該
組成物のアルカリ現像液に対する溶解性をより改善し、
かつ現像処理後の未溶解物の残存をより少なくするため
に、有機酸を含有するこもできる。このような有機酸と
しては、分子量が1,000以下である、脂肪族カルボ
ン酸あるいはフェニル基含有カルボン酸が好ましい。前
記脂肪族カルボン酸としては、例えば、ぎ酸、酢酸、プ
ロピオン酸、酪酸、吉草酸、ピバル酸、カプロン酸、ジ
エチル酢酸、エナント酸、カプリル酸等のモノカルボン
酸類;しゅう酸、マロン酸、こはく酸、グルタル酸、ア
ジピン酸、ピメリン酸、スベリン酸、アゼライン酸、セ
バシン酸、ブラシル酸、メチルマロン酸、エチルマロン
酸、ジメチルマロン酸、メチルこはく酸、テトラメチル
こはく酸、シクロヘキサンジカルボン酸、イタコン酸、
シトラコン酸、マレイン酸、フマル酸、メサコン酸等の
ジカルボン酸類;トリカルバリル酸、アコニット酸、カ
ンホロン酸等のトリカルボン酸類等を挙げることができ
る。また、前記フェニル基含有カルボン酸としては、例
えば、カルボキシル基が直接フェニル基に結合した芳香
族カルボン酸や、カルボキシル基が炭素鎖を介してフェ
ニル基に結合したカルボン酸等を挙げることができ、具
体的には、安息香酸、トルイル酸、クミン酸、ヘメリト
酸、メシチレン酸等の芳香族モノカルボン酸類;フタル
酸、イソフタル酸、テレフタル酸等の芳香族ジカルボン
酸類;トリメリット酸、トリメシン酸、メロファン酸、
ピロメリット酸等の3価以上の芳香族ポリカルボン酸類
や、フェニル酢酸、ヒドロアトロパ酸、ヒドロけい皮
酸、マンデル酸、フェニルこはく酸、アトロパ酸、けい
皮酸、シンナミリデン酸、クマル酸、ウンベル酸等を挙
げることができる。これらの有機酸のうち、マロン酸、
アジピン酸、イタコン酸、シトラコン酸、フマル酸、メ
サコン酸、フタル酸等の脂肪族ジカルボン酸類および芳
香族ジカルボン酸類が、アルカリ溶解性、(E)溶剤に
対する溶解性、未露光部の基板上あるいは画素上におけ
る残さ、地汚れの低減等の観点から好ましい。前記有機
酸は、単独でまたは2種以上を混合して使用することが
できる。本発明における有機酸の使用量は、感放射線性
組成物全体に対して、通常、10重量%以下、好ましく
は5重量%以下、さらに好ましくは1重量%以下であ
る。この場合、有機酸の使用量が10重量%を超える
と、形成された画素の基板に対する密着性が低下する傾
向がある。
Additives The radiation-sensitive composition for a color filter of the present invention contains the above-mentioned components (A) to (E) as essential components, and further improves the solubility of the composition in an alkali developing solution. And
In order to further reduce the remaining undissolved matter after the development processing, an organic acid may be contained. As such an organic acid, an aliphatic carboxylic acid or a phenyl group-containing carboxylic acid having a molecular weight of 1,000 or less is preferable. Examples of the aliphatic carboxylic acid include monocarboxylic acids such as formic acid, acetic acid, propionic acid, butyric acid, valeric acid, pivalic acid, caproic acid, diethylacetic acid, enanthic acid, caprylic acid; oxalic acid, malonic acid, and amber Acid, glutaric acid, adipic acid, pimelic acid, suberic acid, azelaic acid, sebacic acid, brassic acid, methylmalonic acid, ethylmalonic acid, dimethylmalonic acid, methylsuccinic acid, tetramethylsuccinic acid, cyclohexanedicarboxylic acid, itaconic acid ,
Examples thereof include dicarboxylic acids such as citraconic acid, maleic acid, fumaric acid, and mesaconic acid; and tricarboxylic acids such as tricarballylic acid, aconitic acid, and camphoronic acid. Examples of the phenyl group-containing carboxylic acid include, for example, an aromatic carboxylic acid in which a carboxyl group is directly bonded to a phenyl group, and a carboxylic acid in which a carboxyl group is bonded to a phenyl group via a carbon chain. Specifically, aromatic monocarboxylic acids such as benzoic acid, toluic acid, cumic acid, hemelitic acid, and mesitylene acid; aromatic dicarboxylic acids such as phthalic acid, isophthalic acid, and terephthalic acid; trimellitic acid, trimesic acid, and melophane acid,
Trivalent or higher aromatic polycarboxylic acids such as pyromellitic acid, phenylacetic acid, hydroatropic acid, hydrocinnamic acid, mandelic acid, phenylsuccinic acid, atropic acid, cinnamic acid, cinnamylidenic acid, coumaric acid, umbellic acid, etc. Can be mentioned. Of these organic acids, malonic acid,
Aliphatic dicarboxylic acids and aromatic dicarboxylic acids such as adipic acid, itaconic acid, citraconic acid, fumaric acid, mesaconic acid, and phthalic acid are alkali-soluble, (E) solvent-soluble, on unexposed portions of the substrate or pixels It is preferable from the viewpoint of reduction of the residue on the top and background dirt. The organic acids can be used alone or in combination of two or more. The amount of the organic acid used in the present invention is usually 10% by weight or less, preferably 5% by weight or less, more preferably 1% by weight or less, based on the whole radiation-sensitive composition. In this case, if the amount of the organic acid used exceeds 10% by weight, the adhesion of the formed pixel to the substrate tends to decrease.

【0029】さらに、本発明のカラーフィルタ用感放射
線性組成物は、必要に応じて、前記有機酸以外の種々の
添加剤を含有することもできる。このような添加剤とし
ては、例えば、銅フタロシアニン誘導体等の青色顔料誘
導体や黄色顔料誘導体等の分散助剤;ガラス、アルミナ
等の充填剤;ポリビニルアルコール、ポリエチレングリ
コールモノアルキルエーテル、ポリフロロアルキルアク
リレート等の高分子化合物;ノニオン系、カチオン系、
アニオン系等の界面活性剤;ビニルトリメトキシシラ
ン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリス(2−メ
トキシエトキシ)シラン、N−(2−アミノエチル)−
3−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、N−(2
−アミノエチル)−3−アミノプロピルトリメトキシシ
ラン、3−アミノプロピルトリエトキシシラン、3−グ
リシドキシプロピルトリメトキシシラン、3−グリシジ
ルプロピルトリメトキシシラン、3−グリシドキシプロ
ピルメチルジメトキシシラン、2−(3,4−エポキシ
シクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、3−クロ
ロプロピルメチルジメトキシシラン、3−クロロプロピ
ルトリメトキシシラン、3−メタクリロキシプロピルト
リメトキシシラン、3−メルカプトプロピルトリメトキ
シシラン等の密着促進剤;2,2−チオビス(4−メチ
ル−6−t−ブチルフェノール)、2,6−ジ−t−ブ
チルフェノール等の酸化防止剤;2−(3−t−ブチル
−5−メチル−2−ヒドロキシフェニル)−5−クロロ
ベンゾトリアゾール、アルコキシベンゾフェノン等の紫
外線吸収剤;ポリアクリル酸ナトリウム等の凝集防止
剤;エポキシ化合物、メラミン化合物、ビスアジド化合
物等の熱架橋剤等を挙げることができる。
Further, the radiation-sensitive composition for a color filter of the present invention may contain various additives other than the above-mentioned organic acids, if necessary. Examples of such additives include dispersing aids such as blue pigment derivatives and yellow pigment derivatives such as copper phthalocyanine derivatives; fillers such as glass and alumina; polyvinyl alcohol, polyethylene glycol monoalkyl ether, and polyfluoroalkyl acrylate. High molecular compounds; nonionic, cationic,
Surfactants such as anionic surfactants; vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, vinyltris (2-methoxyethoxy) silane, N- (2-aminoethyl)-
3-aminopropylmethyldimethoxysilane, N- (2
-Aminoethyl) -3-aminopropyltrimethoxysilane, 3-aminopropyltriethoxysilane, 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane, 3-glycidylpropyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropylmethyldimethoxysilane, 2 -Promotion of adhesion of (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, 3-chloropropylmethyldimethoxysilane, 3-chloropropyltrimethoxysilane, 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane, 3-mercaptopropyltrimethoxysilane, etc. Antioxidants such as 2,2-thiobis (4-methyl-6-t-butylphenol) and 2,6-di-t-butylphenol; 2- (3-t-butyl-5-methyl-2-hydroxy) Phenyl) -5-chlorobenzotriazoe Ultraviolet absorbers such as alkoxy benzophenone; aggregation inhibitor such as sodium polyacrylate, epoxy compounds, melamine compounds, mention may be made of thermal crosslinking agents such as bis-azido compounds.

【0030】カラーフィルタ本体およびブラックマトリ
ックスの形成方法 次に、本発明のカラーフィルタ用感放射線性組成物を用
いて、カラーフィルタ本体およびブラックマトリックス
を形成する方法について説明する。まず、透明基板の表
面上に、必要に応じて、画素パターンを形成する部分を
区画するように遮光層を形成し、この基板上に、例えば
赤色の顔料が分散された感放射線性組成物を塗布したの
ち、プリベークを行って溶剤を蒸発させ、塗膜を形成す
る。次いで、この塗膜にフォトマスクを介して露光した
のち、現像処理を行って、塗膜の未露光部を溶解除去
し、好ましくはその後ポストベークを行なって、赤色の
画素が所定のパターンで配置された画素アレイを形成す
る。その後、緑色または青色の顔料が分散された各感放
射線性組成物を用い、前記と同様にして、各組成物の塗
布、プリベーク、露光および現像処理を行い、好ましく
はその後ポストベークを行なって、緑色の画素アレイお
よび青色の画素アレイを同一基板上に順次形成すること
により、赤色、緑色および青色の三原色の画素アレイが
基板上に配置されたカラーフィルタ本体を得る。カラー
フィルタ本体を形成する際に使用される透明基板として
は、例えば、ガラス、シリコン、ポリカーボネート、ポ
リエステル、芳香族ポリアミド、ポリアミドイミド、ポ
リイミド等を挙げることができる。また、これらの透明
基板には、所望により、シランカップリング剤等による
薬品処理、プラズマ処理、イオンプレーティング、スパ
ッタリング、気相反応法、真空蒸着等の適宜の前処理を
施しておくこともできる。感放射線性組成物を透明基板
に塗布する際には、回転塗布、流延塗布、ロール塗布等
の適宜の塗布法を採用することができる。塗布厚さは、
乾燥後の膜厚として、通常、0.1〜10μm、好まし
くは0.2〜5.0μm、さらに好ましくは0.2〜
3.0μmである。カラーフィルタ本体を形成する際に
使用される放射線としては、可視光線、紫外線、遠紫外
線、電子線、X線等を使用することができるが、波長が
190〜450nmの範囲にある放射線が好ましい。放
射線の照射エネルギー量は、好ましくは1〜1000m
J/cm2 である。前記アルカリ現像液としては、例え
ば、炭酸ナトリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウ
ム、テトラメチルアンモニウムハイドロオキサイド、コ
リン、1,8−ジアザビシクロ−[5.4.0]−7−
ウンデセン、1,5−ジアザビシクロ−[4.3.0]
−5−ノネン等の水溶液が好ましい。また、前記アルカ
リ現像液には、例えばメタノール、エタノール等の水溶
性有機溶剤や界面活性剤等を適量添加することもでき
る。なお、アルカリ現像後は、通常、水洗する。現像処
理法としては、シャワー現像法、スプレー現像法、ディ
ップ(浸漬)現像法、パドル(液盛り)現像法等を適用
することができ、現像条件は、常温で5〜300秒が好
ましい。さらに、黒色の顔料を含有する本発明のカラー
フィルタ用感放射線性組成物を用いて、前記各画素アレ
イの場合と同様に処理することにより、ブラックマトリ
ックスを形成することができる。このようにして形成さ
れたカラーフィルタ本体およびブラックマトリックス
は、例えば、卓上計算機、腕時計、置時計、係数表示
板、ワードプロセッサ、パーソナルコンピューター、液
晶テレビ等のカラー液晶表示装置のほか、カラー撮像管
素子、カラーセンサー等に極めて有用である。
Color filter body and black matrix
Next, a method of forming a color filter body and a black matrix using the radiation-sensitive composition for a color filter of the present invention will be described. First, on the surface of a transparent substrate, if necessary, a light-shielding layer is formed so as to partition a portion where a pixel pattern is to be formed.On this substrate, for example, a radiation-sensitive composition in which a red pigment is dispersed is used. After application, pre-baking is performed to evaporate the solvent, thereby forming a coating film. Next, after this coating film is exposed through a photomask, it is subjected to a developing treatment to dissolve and remove the unexposed portions of the coating film, and is preferably post-baked, and red pixels are arranged in a predetermined pattern. To form a pixel array. Thereafter, using each radiation-sensitive composition in which the green or blue pigment is dispersed, in the same manner as described above, coating, pre-baking, exposure and development treatment of each composition, preferably post-baking afterwards, By sequentially forming a green pixel array and a blue pixel array on the same substrate, a color filter main body in which three primary color pixel arrays of red, green and blue are arranged on the substrate is obtained. Examples of the transparent substrate used when forming the color filter main body include glass, silicon, polycarbonate, polyester, aromatic polyamide, polyamide imide, and polyimide. In addition, these transparent substrates can be subjected to an appropriate pretreatment such as a chemical treatment with a silane coupling agent or the like, a plasma treatment, an ion plating, a sputtering, a gas phase reaction method, or a vacuum deposition, if desired. . When applying the radiation-sensitive composition to the transparent substrate, an appropriate coating method such as spin coating, casting coating, and roll coating can be employed. The coating thickness is
The film thickness after drying is usually 0.1 to 10 μm, preferably 0.2 to 5.0 μm, more preferably 0.2 to 5.0 μm.
3.0 μm. As the radiation used when forming the color filter main body, visible light, ultraviolet light, far ultraviolet light, an electron beam, X-ray, or the like can be used, and radiation having a wavelength in the range of 190 to 450 nm is preferable. The irradiation energy amount of the radiation is preferably 1 to 1000 m
J / cm 2 . Examples of the alkali developer include sodium carbonate, sodium hydroxide, potassium hydroxide, tetramethylammonium hydroxide, choline, and 1,8-diazabicyclo- [5.4.0] -7-.
Undecene, 1,5-diazabicyclo- [4.3.0]
An aqueous solution such as -5-nonene is preferred. Further, an appropriate amount of a water-soluble organic solvent such as methanol or ethanol, a surfactant or the like can be added to the alkali developer. After the alkali development, the film is usually washed with water. As the developing treatment method, a shower developing method, a spray developing method, a dip (immersion) developing method, a paddle (liquid puddle) developing method, or the like can be applied. The developing condition is preferably 5 to 300 seconds at room temperature. Furthermore, a black matrix can be formed by using the radiation-sensitive composition for a color filter of the present invention containing a black pigment in the same manner as in the case of each pixel array. The color filter main body and the black matrix formed in this manner are, for example, a desktop calculator, a wristwatch, a clock, a coefficient display board, a word processor, a personal computer, a color liquid crystal display device such as a liquid crystal television, a color image pickup tube element, a color Very useful for sensors and the like.

【0031】[0031]

【発明の実施の形態】ここで、本発明のカラーフィルタ
用感放射線性組成物の実施の形態をより具体的に例示す
ると、下記(イ)〜(ニ)のとおりである。 (イ)(A)顔料、(B)バインダー樹脂、(C)多官
能性モノマー、(D)放射線重合開始剤、および(E)
溶剤を含有するカラーフィルタ用感放射線性樹脂組成物
であって、(A)顔料中の少なくとも1種の顔料の粒子
表面が、カルボキシル基含有ビニル系樹脂で被覆されて
いるカラーフィルタ用感放射線性組成物。 (ロ)(A)顔料中の少なくとも1種の顔料の粒子表面
を被覆するカルボキシル基含有ビニル系樹脂が(メタ)
アクリル酸とベンジル(メタ)アクリレートとを含む単
量体混合物の共重合体である前記(イ)のカラーフィル
タ用感放射線性組成物。 (ハ)(A)顔料中の少なくとも1種の顔料の粒子表面
が、カルボキシル基含有ビニル系樹脂で被覆されてお
り、かつ該カルボキシル基含有ビニル系樹脂が(B)バ
インダー樹脂と同一である前記(イ)または(ロ)のカ
ラーフィルタ用感放射線性組成物。 (ニ)(A)顔料がカルボキシル基含有ビニル系樹脂で
被覆されたカーボンブラックを含有する前記(イ)、
(ロ)または(ハ)のカラーフィルタ用感放射線性組成
物。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Here, embodiments of the radiation-sensitive composition for a color filter of the present invention are more specifically exemplified as follows (a) to (d). (A) (A) pigment, (B) binder resin, (C) polyfunctional monomer, (D) radiation polymerization initiator, and (E)
A radiation-sensitive resin composition for a color filter containing a solvent, wherein (A) at least one pigment in the pigment has a particle surface coated with a carboxyl group-containing vinyl resin. Composition. (B) The (A) carboxyl group-containing vinyl resin coating the particle surface of at least one pigment in the pigment is (meth)
The radiation-sensitive composition for a color filter according to the above (a), which is a copolymer of a monomer mixture containing acrylic acid and benzyl (meth) acrylate. (C) the particle surface of at least one pigment in the pigment (A) is coated with a carboxyl group-containing vinyl resin, and the carboxyl group-containing vinyl resin is the same as the binder resin (B); The radiation-sensitive composition for a color filter according to (a) or (b). (D) (A) wherein the pigment contains carbon black coated with a carboxyl group-containing vinyl resin,
The radiation-sensitive composition for a color filter according to (b) or (c).

【0032】以下、実施例を挙げて、本発明の実施の形
態をさらに具体的に説明する。但し、本発明は、これら
の実施例に何ら限定されるものではない。 比較例1 (A)成分として、カーボンブラック120重量部を、
ポリエステル系分散剤を用いてプロピレングリコールモ
ノメチルエーテルアセテート中に分散させた顔料分散
液、(B)成分として、メタクリル酸/ベンジルメタク
リレート/ポリスチレンマクロモノマー共重合体(共重
合重量比=15/70/15)40重量部、(C)成分
として、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート3
0重量部、(D)成分として、2−ヒドロキシ−2−メ
チル−1−フェニルプロパン−1−オン25重量部、
(E)成分として、プロピレングリコールモノメチルエ
ーテルアセテート700重量部(顔料分散液の溶剤を含
む。)とシクロヘキサノン100重量部を混合して、感
放射線性組成物を調製した。次いで、表面にナトリウム
イオンの溶出を防止するシリカ(SiO2)膜が形成されたソ
ーダガラス製透明基板の表面上に、スピンコーターを用
いて前記感放射線性組成物を塗布したのち、80℃のホ
ットプレートで4分間プリベークを行なって、膜厚1.
4μmの塗膜を形成した。その後、基板を冷却したの
ち、高圧水銀ランプを用い、塗膜に波長365nm、4
05nmおよび436nmの光を含む400mJ/cm
2 の紫外線を露光した。次いで、220℃のクリーンオ
ーブンで30分間ポストベークを行い、膜厚1.0μm
の塗膜が形成された基板を作製した。得られた塗膜の表
面抵抗率を測定した結果、106 Ω/□であった。ま
た、表面にナトリウムイオンの溶出を防止するシリカ(S
iO2)膜が形成されたソーダガラス製透明基板の表面上
に、スピンコーターを用いて前記感放射線性樹脂組成物
を塗布したのち、80℃のホットプレートで4分間プリ
ベークを行なって、膜厚1.4μmの塗膜を形成した。
その後、基板を冷却したのち、高圧水銀ランプを用い、
フォトマスクを介して、塗膜に波長365nm、405
nmおよび436nmの光を含む400mJ/cm2
紫外線を露光した。次いで、基板を下記する条件で現像
および洗浄を行い、風乾したのち、さらに220℃のク
リーンオーブンで30分間ポストベークを行って、線幅
20μmの格子状のブラックマトリクスを作製した。 <現像条件> 現像液 :0.1重量%テトラメチルアンモニウム
ヒドロキシド水溶液 現像装置 :シャワー現像装置 現像温度 :23℃ シャワー圧力:1kg/cm2 現像時間 :1分間 <洗浄条件> 洗浄液 :超純水 シャワー圧力:2kg/cm2 洗浄時間 :1分間 その結果、得られたブラックマトリクス基板には、パタ
ーンの欠損、欠落が認められ、かつ未露光部の基板上お
よび画素上に残さおよび地汚れが観察された。また、得
られたブラックマトリクスを組み込んだカラー液晶表示
装置には、点灯不良が生じた。
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described more specifically with reference to examples. However, the present invention is not limited to these examples. Comparative Example 1 As a component (A), 120 parts by weight of carbon black was used.
A pigment dispersion liquid dispersed in propylene glycol monomethyl ether acetate using a polyester dispersant, and as a component (B), a methacrylic acid / benzyl methacrylate / polystyrene macromonomer copolymer (copolymerization weight ratio = 15/70/15) ) 40 parts by weight, dipentaerythritol pentaacrylate 3 as component (C)
0 parts by weight, as the component (D), 25 parts by weight of 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one,
As a component (E), 700 parts by weight of propylene glycol monomethyl ether acetate (including the solvent for the pigment dispersion) and 100 parts by weight of cyclohexanone were mixed to prepare a radiation-sensitive composition. Next, on a surface of a transparent substrate made of soda glass on which a silica (SiO 2 ) film for preventing elution of sodium ions was formed on the surface, the radiation-sensitive composition was applied using a spin coater, and then heated to 80 ° C. Pre-bake for 4 minutes on a hot plate to obtain a film thickness of 1.
A coating film of 4 μm was formed. Then, after cooling the substrate, a high-pressure mercury lamp was used to apply a wavelength of 365 nm to the coating film.
400 mJ / cm including light at 05 nm and 436 nm
2 were exposed to UV light. Next, post-baking was performed for 30 minutes in a clean oven at 220 ° C.
A substrate on which a coating film was formed was prepared. As a result of measuring the surface resistivity of the obtained coating film, it was found to be 10 6 Ω / □. In addition, silica (S
iO 2 ) The radiation-sensitive resin composition was applied using a spin coater on the surface of a transparent substrate made of soda glass on which the film was formed, and then prebaked on a hot plate at 80 ° C. for 4 minutes to obtain a film thickness. A coating film of 1.4 μm was formed.
Then, after cooling the substrate, using a high-pressure mercury lamp,
The wavelength of 365 nm, 405 is applied to the coating film through a photomask.
It was exposed to ultraviolet light of 400 mJ / cm 2 including light of nm and 436 nm. Next, the substrate was developed and washed under the following conditions, air-dried, and then post-baked in a clean oven at 220 ° C. for 30 minutes to produce a lattice-shaped black matrix having a line width of 20 μm. <Developing conditions> Developing solution: 0.1% by weight aqueous solution of tetramethylammonium hydroxide Developing device: Shower developing device Developing temperature: 23 ° C. Shower pressure: 1 kg / cm 2 Developing time: 1 minute <Washing condition> Washing solution: Ultrapure water Shower pressure: 2 kg / cm 2 Cleaning time: 1 minute As a result, pattern defects and omissions were observed on the obtained black matrix substrate, and residue and background stain were observed on the unexposed portion of the substrate and pixels. Was done. Further, lighting failure occurred in the color liquid crystal display device incorporating the obtained black matrix.

【0033】比較例2 (A)成分として、エポキシ樹脂12重量部で粒子表面
を被覆したカーボンブラック132重量部を、ポリエス
テル系分散剤を用いてプロピレングリコールモノメチル
エーテルアセテート中に分散させた顔料分散液、(B)
成分として、メタクリル酸/ベンジルメタクリレート/
ポリスチレンマクロモノマー共重合体(共重合重量比=
25/65/10)40重量部、(C)成分として、ジ
ペンタエリスリトールペンタアクリレート30重量部、
(D)成分として、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−
フェニルプロパン−1−オン25重量部、(E)成分と
して、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテ
ート700重量部(顔料分散液の溶剤を含む。)とシク
ロヘキサノン100重量部を混合して、感放射線性組成
物を調製した。前記感放射線性組成物を用い、比較例1
と同様にして、塗膜を形成したのち、表面抵抗率を測定
した結果、1011Ω/□であった。また、前記感放射線
性組成物を用い、比較例1と同様にして、ブラックマト
リクスを作製した。得られたブラックマトリクス基板に
は、パターンの欠損、欠落が認められ、かつ未露光部の
基板上および画素上に残さおよび地汚れが観察された。
Comparative Example 2 As a component (A), a pigment dispersion obtained by dispersing 132 parts by weight of carbon black whose particle surface was coated with 12 parts by weight of an epoxy resin in propylene glycol monomethyl ether acetate using a polyester dispersant. , (B)
Methacrylic acid / benzyl methacrylate /
Polystyrene macromonomer copolymer (copolymerization weight ratio =
25/65/10) 40 parts by weight, as component (C), 30 parts by weight of dipentaerythritol pentaacrylate,
(D) As component, 2-hydroxy-2-methyl-1-
25 parts by weight of phenylpropan-1-one, 700 parts by weight of propylene glycol monomethyl ether acetate (including the solvent for the pigment dispersion) and 100 parts by weight of cyclohexanone as the component (E) were mixed to prepare a radiation-sensitive composition. Prepared. Comparative Example 1 using the radiation-sensitive composition
After forming a coating film in the same manner as in the above, the surface resistivity was measured. As a result, it was 10 11 Ω / □. Further, a black matrix was prepared in the same manner as in Comparative Example 1 using the radiation-sensitive composition. In the obtained black matrix substrate, pattern defects and omissions were observed, and residues and background stains were observed on the unexposed portions of the substrate and on the pixels.

【0034】実施例1 (A)成分として、メタクリル酸/ベンジルメタクリレ
ート/ポリスチレンマクロモノマー共重合体(共重合重
量比=15/70/15)12重量部で粒子表面を被覆
したカーボンブラック132重量部を、ポリエステル系
分散剤を用いてプロピレングリコールモノメチルエーテ
ルアセテート中に分散させた顔料分散液、(B)成分と
して、メタクリル酸/ベンジルメタクリレート/ポリス
チレンマクロモノマー共重合体(共重合重量比=25/
65/10)40重量部、(C)成分として、ジペンタ
エリスリトールペンタアクリレート30重量部、(D)
成分として、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニ
ルプロパン−1−オン25重量部、(E)成分として、
プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート7
00重量部(顔料分散液の溶剤を含む。)とシクロヘキ
サノン100重量部を混合して、感放射線性組成物を調
製した。前記感放射線性組成物を用い、比較例1と同様
にして、塗膜を形成したのち、表面抵抗率を測定した結
果、1011Ω/□であった。また、前記感放射線性組成
物を用い、比較例1と同様にして、ブラックマトリクス
を作製した。得られたブラックマトリクス基板には、パ
ターンの欠損、欠落が認められず、かつ未露光部の基板
上および画素上に残さおよび地汚れが観察されなかっ
た。また、得られたブラックマトリクスを組み込んだカ
ラー液晶表示装置には、点灯不良が生じなかった。
Example 1 As component (A), 132 parts by weight of carbon black whose particle surface was coated with 12 parts by weight of a methacrylic acid / benzyl methacrylate / polystyrene macromonomer copolymer (copolymerization weight ratio = 15/70/15) Is dispersed in propylene glycol monomethyl ether acetate using a polyester-based dispersant, and as a component (B), a methacrylic acid / benzyl methacrylate / polystyrene macromonomer copolymer (copolymerization weight ratio = 25 /
65/10) 40 parts by weight, as component (C), 30 parts by weight of dipentaerythritol pentaacrylate, (D)
As a component, 25 parts by weight of 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one, as a component (E),
Propylene glycol monomethyl ether acetate 7
00 parts by weight (including the solvent for the pigment dispersion) and 100 parts by weight of cyclohexanone were mixed to prepare a radiation-sensitive composition. Using the radiation-sensitive composition, a coating film was formed in the same manner as in Comparative Example 1, and the surface resistivity was measured. The result was 10 11 Ω / □. Further, a black matrix was prepared in the same manner as in Comparative Example 1 using the radiation-sensitive composition. In the obtained black matrix substrate, no loss or omission of the pattern was observed, and no residue or background stain was observed on the unexposed portion of the substrate and on the pixels. In addition, no lighting failure occurred in the color liquid crystal display device incorporating the obtained black matrix.

【0035】比較例3 (A)成分として、赤色顔料(C.I.ピグメントレッ
ド177)120重量部を、ポリウレタン系分散剤を用
いてプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテー
ト中に分散させた顔料分散液、(B)成分として、メタ
クリル酸/ベンジルメタクリレート/ポリスチレンマク
ロモノマー共重合体(共重合重量比=15/70/1
5)40重量部、(C)成分として、ジペンタエリスリ
トールペンタアクリレート30重量部、(D)成分とし
て、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニルプロパ
ン−1−オン30重量部、(E)成分として、プロピレ
ングリコールモノメチルエーテルアセテート700重量
部(顔料分散液の溶媒を含む。)とシクロヘキサノン1
00重量部を混合して、感放射線性組成物を調製した。
表面にナトリウムイオンの溶出を防止するシリカ(SiO2)
膜が形成されたソーダガラス製透明基板の表面上に、予
め所望のパターンの遮光層を形成したのち、スピンコー
ターを用いて前記感放射線性樹脂組成物を塗布したの
ち、80℃のホットプレートで4分間プリベークを行な
って、膜厚2.0μmの塗膜を形成した。その後、基板
を冷却したのち、高圧水銀ランプを用い、フォトマスク
を介して、塗膜に波長365nm、405nmおよび4
36nmの光を含む100mJ/cm2 の紫外線を露光
した。次いで、基板を比較例1と同様の条件で現像およ
び洗浄を行い、風乾したのち、さらに220℃のクリー
ンオーブンで30分間ポストベークを行って、赤色の画
素アレイを作製した。得られた基板には、パターンの欠
損、欠落が認められ、かつ未露光部の基板上および画素
上に残さおよび地汚れが観察された。
Comparative Example 3 As a component (A), a pigment dispersion obtained by dispersing 120 parts by weight of a red pigment (CI Pigment Red 177) in propylene glycol monomethyl ether acetate using a polyurethane dispersant, As the component (B), a methacrylic acid / benzyl methacrylate / polystyrene macromonomer copolymer (copolymerization weight ratio = 15/70/1)
5) 40 parts by weight, 30 parts by weight of dipentaerythritol pentaacrylate as the component (C), 30 parts by weight of 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one as the component (D), (E) As components, 700 parts by weight of propylene glycol monomethyl ether acetate (including the solvent for the pigment dispersion) and cyclohexanone 1
Then, 00 parts by weight were mixed to prepare a radiation-sensitive composition.
Silica (SiO 2 ) that prevents sodium ions from eluting to the surface
After a light-shielding layer having a desired pattern is formed in advance on the surface of the soda glass transparent substrate on which the film is formed, the radiation-sensitive resin composition is applied using a spin coater, and then is applied on a hot plate at 80 ° C. Pre-baking was performed for 4 minutes to form a coating film having a thickness of 2.0 μm. Then, after cooling the substrate, the wavelength of 365 nm, 405 nm and 4
It was exposed to ultraviolet light of 100 mJ / cm 2 including light of 36 nm. Next, the substrate was developed and washed under the same conditions as in Comparative Example 1, air-dried, and further post-baked in a clean oven at 220 ° C. for 30 minutes to produce a red pixel array. In the obtained substrate, pattern defects and omissions were observed, and residues and background stains were observed on the unexposed portion of the substrate and on the pixels.

【0036】比較例4 (A)成分として、エポキシ樹脂12重量部で粒子表面
を被覆した赤色顔料(C.I.ピグメントレッド17
7)132重量部を、ポリウレタン系分散剤を用いてプ
ロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート中に
分散させた顔料分散液、(B)成分として、メタクリル
酸/ベンジルメタクリレート/ポリスチレンマクロモノ
マー共重合体(共重合重量比=15/70/15)40
重量部、(C)成分として、ジペンタエリスリトールペ
ンタアクリレート30重量部、(D)成分として、2−
ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニルプロパン−1−
オン30重量部、(E)成分として、プロピレングリコ
ールモノメチルエーテルアセテート700重量部(顔料
分散液の溶媒を含む。)とシクロヘキサノン100重量
部を混合して、感放射線性組成物を調製した。前記感放
射線性組成物を用い、比較例3と同様にして、赤色の画
素アレイを作製した。得られた基板には、パターンの欠
損、欠落が認められ、かつ未露光部の基板上および画素
上に残さおよび地汚れが観察された。
Comparative Example 4 As a component (A), a red pigment (CI Pigment Red 17) coated on the particle surface with 12 parts by weight of an epoxy resin was used.
7) 132 parts by weight of a pigment dispersion obtained by dispersing 132 parts by weight in propylene glycol monomethyl ether acetate using a polyurethane-based dispersant, and as a component (B), a methacrylic acid / benzyl methacrylate / polystyrene macromonomer copolymer (copolymer weight) Ratio = 15/70/15) 40
Parts by weight, as component (C), 30 parts by weight of dipentaerythritol pentaacrylate, and as component (D), 2-
Hydroxy-2-methyl-1-phenylpropane-1-
A radiation-sensitive composition was prepared by mixing 30 parts by weight of ON, 700 parts by weight of propylene glycol monomethyl ether acetate (including the solvent for the pigment dispersion) and 100 parts by weight of cyclohexanone as the component (E). A red pixel array was produced in the same manner as in Comparative Example 3 using the radiation-sensitive composition. In the obtained substrate, pattern defects and omissions were observed, and residues and background stains were observed on the unexposed portion of the substrate and on the pixels.

【0037】実施例2 (A)成分として、メタクリル酸/ベンジルメタクリレ
ート/ポリスチレンマクロモノマー共重合体(共重合重
量比=15/70/15)12重量部で粒子表面を被覆
した赤色顔料(C.I.ピグメントレッド177)13
2重量部を、ポリウレタン系分散剤を用いてプロピレン
グリコールモノメチルエーテルアセテート中に分散させ
た顔料分散液、(B)成分として、メタクリル酸/ベン
ジルメタクリレート/ポリスチレンマクロモノマー共重
合体(共重合重量比=15/70/15)40重量部、
(C)成分として、ジペンタエリスリトールペンタアク
リレート30重量部、(D)成分として、2−ヒドロキ
シ−2−メチル−1−フェニルプロパン−1−オン30
重量部、(E)成分として、プロピレングリコールモノ
メチルエーテルアセテート700重量部(顔料分散液の
溶剤を含む。)とシクロヘキサノン100重量部を混合
して、感放射線性組成物を調製した。前記感放射線性組
成物を用い、比較例3と同様にして、赤色の画素アレイ
を作製した。得られた基板には、パターンの欠損、欠落
が認められず、かつ未露光部の基板上および画素上に残
さおよび地汚れが観察されなかった。
Example 2 As a component (A), a red pigment (C.I.) coated with 12 parts by weight of a methacrylic acid / benzyl methacrylate / polystyrene macromonomer copolymer (copolymer weight ratio = 15/70/15) was used. I. Pigment Red 177) 13
2 parts by weight of a pigment dispersion obtained by dispersing 2 parts by weight in propylene glycol monomethyl ether acetate using a polyurethane-based dispersant, and as a component (B), a methacrylic acid / benzyl methacrylate / polystyrene macromonomer copolymer (copolymerization weight ratio = 15/70/15) 40 parts by weight,
As the component (C), 30 parts by weight of dipentaerythritol pentaacrylate, and as the component (D), 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one 30
The radiation-sensitive composition was prepared by mixing 700 parts by weight of propylene glycol monomethyl ether acetate (including the solvent for the pigment dispersion) and 100 parts by weight of cyclohexanone as the component (E). A red pixel array was produced in the same manner as in Comparative Example 3 using the radiation-sensitive composition. In the obtained substrate, no loss or omission of the pattern was observed, and no residue or background stain was observed on the unexposed portion of the substrate and on the pixels.

【0038】[0038]

【発明の効果】本発明のカラーフィルタ用感放射線性組
成物を用いることにより、顔料の導電性に起因する電気
的な悪影響を抑えることができるため、点灯不良を生じ
ることがなく、かつ遮光性の大きなブラックマトリクス
を作製することができるのみならず、パターンの欠損お
よび欠落がなく、かつ未露光部の基板上および画素上に
残さおよび地汚れを生じないブラックマトリクスおよび
カラーフィルタ本体を作製することができ、信頼性が高
く優れた特性を有するカラー液晶表示装置、カラー撮像
管素子、カラーセンサー等を製造することができる。
By using the radiation-sensitive composition for a color filter of the present invention, an adverse electrical effect due to the conductivity of the pigment can be suppressed. Not only can produce a black matrix having a large size, but also a black matrix and a color filter main body that do not have a pattern defect or omission and that do not cause residue or background stain on an unexposed portion of a substrate and pixels. Thus, a color liquid crystal display device, a color image pickup tube element, a color sensor, and the like having high reliability and excellent characteristics can be manufactured.

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 (A)顔料、(B)バインダー樹脂、
(C)多官能性モノマー、(D)放射線重合開始剤、お
よび(E)溶剤を含有するカラーフィルタ用感放射線性
樹脂組成物であって、(A)顔料中の少なくとも1種の
顔料の粒子表面がアルカリ可溶性樹脂で被覆されている
ことを特徴とするカラーフィルタ用感放射線性組成物。
(A) a pigment, (B) a binder resin,
A radiation-sensitive resin composition for a color filter containing (C) a polyfunctional monomer, (D) a radiation polymerization initiator, and (E) a solvent, wherein (A) at least one pigment particle in the pigment A radiation-sensitive composition for a color filter, the surface of which is coated with an alkali-soluble resin.
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006052368A (en) * 2003-08-27 2006-02-23 Asahi Glass Co Ltd Paste composition, fired product, resin for paste, resin solution composition for paste and method for producing front plate of plasma display panel
JP2009244401A (en) * 2008-03-28 2009-10-22 Fujifilm Corp Black photosensitive resin composition for solid state image sensor and method of forming image

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