JPH11117172A

JPH11117172A - エレクトレット体の製造方法及びその製造装置

Info

Publication number: JPH11117172A
Application number: JP29350197A
Authority: JP
Inventors: Masaaki Kawabe; 雅章川部
Original assignee: Japan Vilene Co Ltd
Current assignee: Japan Vilene Co Ltd
Priority date: 1997-10-09
Filing date: 1997-10-09
Publication date: 1999-04-27

Abstract

(57)【要約】【課題】（１）被処理体の形状に左右されることなく
エレクトレット化することができ、（２）スパーク放電
により被処理体を損傷することがなく、（３）帯電量を
多くすることができ、（４）オゾンの発生のほとんどな
い、エレクトレット体の製造方法及びその製造装置を提
供すること。【解決手段】本発明のエレクトレット体の製造方法
は、電離放射線によりイオンを発生させた後、発生させ
たイオンに電場を作用させることにより、このイオンを
被処理体に付着させる方法である。また、本発明のエレ
クトレット体の製造装置は、電離放射線発生装置と、こ
の電離放射線発生装置により発生させたイオンに電場を
作用させることのできる手段、とを備えている。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は空気などの気体フィ
ルタ、オイルや水などの液体フィルタ、マスク（成形マ
スクを含む）、ワイピング材、防塵衣料、マイクロホン
などの音響素子、或は電位計、電圧計、放射線量計、高
電圧の電源、静電発電機、交流発電機、静電的記憶装
置、湿度測定器などに利用できるエレクトレット体の製
造方法、及びその製造装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来、エレクトレット化する方法とし
て、例えば、直流コロナ放電による方法や沿面コロナ放
電による方法が知られていた。前者の直流コロナ放電に
よる方法は、放電極と対電極との間に、ある一定以上の
電圧を印加して、放電を発生させる方法である。この直
流コロナ放電の場合、次のような欠点があった。（１）被処理体は対電極に密着させた状態で処理する必
要があるため、シート状の被処理体しかエレクトレット
化することができなかった。つまり、ジグザグ状や波型
形状などの立体形状を有する被処理体をエレクトレット
化することができなかった。そのため、シート状の被処
理体をエレクトレット化した後、所望形状に成形する手
段が採られていた。しかしながら、この方法によると成
形する際に帯電量が低下するという問題があった。（２）コロナ放電を発生させるために高い電界強度を必
要とし、著しい不平等電界となるため、スパーク放電が
発生しやすく、被処理体を損傷しやすいという問題があ
った。（３）高い電界強度程、帯電量を多くすることができる
が、（２）に記載のように、電界強度を高くするとスパ
ーク放電が発生しやすいため、帯電量を多くすることが
できない、という問題があった。（４）コロナ放電を生じる際にオゾンが発生する、とい
う問題があった。

【０００３】他方、沿面コロナ放電による方法は、誘電
体を介して対向するように配置された誘導電極と放電極
との間に、ある値以上の交流電圧を印加して、放電を発
生させる方法である。この沿面コロナ放電の場合も直流
コロナ放電と同様に、（１）被処理体の形状がシート
状、又は比較的単純な成形形状のものでなければエレク
トレット化できない、（２）スパーク放電が発生する可
能性がある、（３）帯電量を多くすることができない、
（４）オゾンが多量に発生する、という問題を有してい
た。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】本発明は上記の問題点
を解決するためになされたものであり、（１）被処理体
の形状に左右されることなくエレクトレット化すること
ができ、（２）スパーク放電により被処理体を損傷する
ことがなく、（３）帯電量を多くすることができ、
（４）オゾンの発生のほとんどない、エレクトレット体
の製造方法及びその製造装置を提供することにある。

【０００５】

【課題を解決するための手段】本発明のエレクトレット
体の製造方法は、電離放射線によりイオンを発生させた
後、発生させたイオンに電場を作用させることにより、
このイオンを被処理体に付着させる方法である。このよ
うに、被処理体を電極に密着させる必要がないため、被
処理体の形状に左右されることなく被処理体をエレクト
レット化することができる。

【０００６】また、本発明においてはイオンの発生源が
電離放射線であり、イオンを発生させるために放電極を
使用する必要がないため、発生したイオンに対して電場
を作用させる際に、ほぼ完全な平等電界を作用させるこ
とができる。したがって、スパーク放電により被処理体
を損傷したり、オゾンが発生することがほとんどない。
また、高い電界強度としても、スパーク放電が生じにく
いため、被処理体の帯電量を多くすることができる。

【０００７】本発明のエレクトレット体の製造装置は、
電離放射線発生装置と、この電離放射線発生装置により
発生させたイオンに電場を作用させることのできる手
段、とを備えている。したがって、上述のエレクトレッ
ト体の製造方法を実施することができるため、（１）被
処理体の形状に左右されることなくエレクトレット化す
ることができ、（２）スパーク放電により被処理体を損
傷することがなく、（３）帯電量を多くすることがで
き、（４）オゾンの発生のほとんどない、エレクトレッ
ト体の製造装置である。

【０００８】

【発明の実施の形態】本発明においては、電離放射線に
よりイオンを発生させているため、コロナ放電を発生さ
せる際に必要な不平等電界を必要としない。したがっ
て、スパーク放電やオゾンの発生がほとんどない。この
電離放射線としては、例えば、Ｘ線、β線、α線などを
使用できる。これらの中でもＸ線はイオンを発生しやす
く、またオゾンを発生しないため、好適に使用できる。

【０００９】このＸ線の中でも、エネルギーが０．１ｋ
ｅＶ〜１００ｋｅＶのものが好ましい。エネルギーが
０．１ｋｅＶ未満であると、空気中における吸収が大き
過ぎて、広範囲にわたって空気をイオン化することが困
難になる傾向があり、他方、エネルギーが１００ｋｅＶ
を越えると、空気中における透過能力が高過ぎ、イオン
生成能が低い場合があったり、大掛かりな遮蔽手段が必
要となる場合があり、また、Ｘ線を発生させるために高
電圧が必要となり、装置が大型化する傾向があるため
で、より好ましくは１ｋｅＶ〜５０ｋｅＶである。

【００１０】次いで、電離放射線から発生したイオンに
電場を作用させることにより、イオンを移動させて被処
理体に付着させる。このように、コロナ放電によりエレ
クトレット化する場合のように、被処理体を電極に密着
させる必要がないため、被処理体の形状に左右されるこ
となく被処理体をエレクトレット化できる。したがっ
て、被処理体を成形した後にエレクトレット化すれば良
く、エレクトレット化した後に成形する必要がないの
で、成形による帯電量の低下がなく、帯電量を多くする
ことができる。なお、本発明においては、被処理体を電
極に密着させてエレクトレット化しても良い。

【００１１】また、発生したイオンに対して作用させる
電場は平等電場であることができるため、スパーク放電
が発生しにくい。そのため、従来のコロナ放電を発生さ
せる場合の電界強度よりも高い電界強度とすることがで
き、この点からも被処理体の帯電量を多くすることがで
きる。

【００１２】より具体的には、直流コロナ放電の場合、
安定して放電が生じるように、電極間の電界強度が２〜
５ｋＶ／ｃｍ程度の条件下でエレクトレット化を行なっ
ている。これに対して、本発明の方法によれば、０〜３
０ｋＶ／ｃｍ（０ｋＶ／ｃｍは除く）程度の電極間の電
界強度でエレクトレット化することができ、１〜２０ｋ
Ｖ／ｃｍ程度の電極間の電界強度であれば、より安定し
てエレクトレット化できる。また、本発明は前記のよう
な電界強度の広い範囲で被処理体をエレクトレット化で
きるため、帯電量を多くすることも少なくすることもで
き、自由に帯電量を設計できる。

【００１３】更に、電界強度を低くすることもできるた
め、電極間の距離を広くすることが可能となり、大きな
被処理体であってもエレクトレット化できるという効果
も奏する。

【００１４】なお、エレクトレット化の程度は電極間の
電界強度に依存するのではなく、被処理体の両端にかか
る電界強度に依存するため、電極間の電界強度は低くし
ておき、被処理体の両端にかかる電界強度のみを高くす
ることにより、安定してエレクトレット化でき、しかも
被処理体の帯電量を増やすことができる。例えば、被処
理体の電極と対向する表面を、イオンを透過させない物
質（例えば、フィルム）で被覆することによって、被処
理体の両端にかかる電界強度のみを高くすることができ
る。つまり、電極間における電界強度が低くても、時間
の経過とともにイオンを透過させない物質表面に透過す
ることのできないイオンが蓄積されるため、被処理体の
両端にかかる電界強度のみが高くなる。この場合、被処
理体の両端部にかかる電界強度が３０ｋＶ／ｃｍを越え
ても、安定してエレクトレット化できる。

【００１５】この電場を作用させる方法としては、例え
ば、一対の平板状電極、一対のロール状電極、平板状電
極とロール状電極を使用することができる。これらの中
でも、より高い電界強度を作用させることのできる一対
の平板状電極であるのが好ましい。この平板状電極を使
用する場合、平板状電極の周囲を曲面状としたり、ビニ
ールテープなどの誘電性のテープで平板状電極の周囲を
被覆して、スパーク放電が生じにくいようにするのが好
ましい。なお、これらの電極は直流電源に接続されてい
るか、接地されている。また、これらの電極は、例え
ば、表面に導電性塗料を塗布したり、金属層や導電性樹
脂層を形成することにより導電性をもたせたもの、或い
はアルミニウム、銅、ステンレススチール、タングステ
ンなどの金属から構成することができる。

【００１６】なお、この電極の配置によって電界構造を
自由に設計することができるため、様々なエレクトレッ
ト化状態の被処理体を製造することができる。例えば、
マイナスに印加した電極と接地電極とを、縦縞状に交互
に配置することにより、プラスにエレクトレット化され
た領域とマイナスにエレクトレット化された領域とを、
交互に縦縞状に有するエレクトレット体を製造できる。
また、マイナスに印加した電極と接地電極とを碁盤の目
状に配置することにより、プラスにエレクトレット化さ
れた領域とマイナスにエレクトレット化された領域と
を、交互に碁盤の目状に有するエレクトレット体を製造
できる。

【００１７】本発明の方法によりエレクトレット化でき
る被処理体としては、電場の作用により移動するイオン
と接触できる位置に配置することのできるものであれ
ば、どのような形状のものであってもエレクトレット化
することができる。例えば、繊維状、糸状、ネット状、
不織布状、織物状、編物状、フィルム状、発泡体状、樹
脂粉体状、樹脂成形物状、顔面に沿うように成形された
成形マスク形状、ジグザグ状に折り加工された形状、波
型形状に加工された形状、中空体形状のものをエレクト
レット化することができる。

【００１８】なお、被処理体が不織布からなる場合に
は、繊維油剤や接着剤の付着がほとんどなく、エレクト
レット化しやすい、メルトブロー不織布や水流絡合不織
布が好適である。

【００１９】また、被処理体を構成する樹脂成分として
は、ポリエチレンやポリプロピレンなどのポリオレフィ
ン系、ポリエステル系、ポリカーボネート系、ポリ塩化
ビニル系などの誘電性のものが適しており、長期間にわ
たり安定したエレクトレット体を製造できる、体積固有
抵抗が１０¹⁴Ω・ｃｍ以上のものが好ましい。

【００２０】なお、電離放射線が透過可能、かつ中空繊
維などのように内部に孔を有する中空体を、本発明の方
法によりエレクトレット化すると、中空体の外側表面が
エレクトレット化されるばかりでなく、中空体の孔内に
おける空気もイオン化されるため、中空体の孔の壁面も
エレクトレット化される。また、不織布などの多孔質体
を本発明の方法によりエレクトレット化した場合、多孔
質体の両表面近傍がエレクトレット化されるばかりでな
く、多孔質体の内部空隙における空気もイオン化される
ため、多孔質体の内部空隙の壁面もエレクトレット化さ
れる。更に、電離放射線が透過可能な中空体の集合体か
らなる多孔質体（例えば、中空繊維からなる不織布）
を、本発明の方法によりエレクトレット化した場合、多
孔質体の両表面近傍、多孔質体の内部空隙の壁面（中空
体の外側表面）、及び中空体の孔の内壁がそれぞれエレ
クトレット化される。

【００２１】以下、本発明のエレクトレット体の製造方
法及び製造装置について、図１〜図１１をもとに、より
具体的に説明する。

【００２２】図１は本発明のエレクトレット体製造装置
１の概念的な側面図である。このエレクトレット体製造
装置１は電離放射線発生装置２と、発生したイオンに対
して電場を作用させるためのメッシュ状電極３ａと平板
状電極３ｂとを備えている。図１においては、これら電
極３ａ、３ｂ間に電離放射線を透過させない被処理体４
を配置している。

【００２３】なお、エレクトレット体製造装置１は電離
放射線がエレクトレット体製造装置１の外へ透過しない
ように、エレクトレット体製造装置１の内壁（図示せ
ず）は鉛などの金属によって被覆されているのが好まし
い。なお、電離放射線が軟Ｘ線のように比較的低エネル
ギーの場合には、塩化ビニル板などの樹脂板で被覆され
ていても良い。

【００２４】この電離放射線発生装置２は電離放射線が
電場の作用する領域に到達できるのであれば、どのよう
に配置されていても良い。

【００２５】図１の態様においては、電離放射線が電場
の作用する領域に到達できるように、一方の電極（電離
放射線照射側の電極）としてメッシュ状電極３ａを使用
している。しかしながら、いずれの電極３ａ、３ｂも平
板状電極とし、平板状電極により妨害されない位置から
電離放射線を照射することもできる。つまり、図１の紙
面上、上側や下側、図１の紙面に対して上側や下側の、
少なくとも一方向から電離放射線を照射することによ
り、電極による妨害を避けることができる。このよう
に、電極３ａ、３ｂの組合わせは特に限定されない。

【００２６】図１における態様のように、一方の電極を
メッシュ状電極とすると、被処理体４に対して、直角に
電離放射線発生装置２を配置することができるため、被
処理体全体に均一にイオンを付着させることができる、
という効果を奏する。なお、このメッシュ状電極に代え
て、蒸着フィルムやアルミ箔などからなる電極を使用し
た場合においても、この電極を電離放射線が透過するこ
とができるため、メッシュ状電極の場合と同様の作用効
果を奏するばかりでなく、表面はメッシュ状電極よりも
均一であるため、より電界強度を高くすることができ
る、という効果も奏する。

【００２７】また、被処理体４はいずれかの電極３ａ、
３ｂと接触するように配置しても良いし、両方の電極３
ａ、３ｂと接触するように配置しても良いし、或はいず
れの電極３ａ、３ｂとも接触しないように配置しても良
く、被処理体４の材質や形状などによって適宜配置され
る。

【００２８】図１のエレクトレット体製造装置１は上述
のような構造を有するため、次のように作用する。ま
ず、電離放射線発生装置２から電離放射線を発生する
と、電離放射線が通過した全領域における空気がイオン
化される。次いで、この電離放射線が通過した領域（つ
まり、イオンの発生した領域）に電場をかけると、電場
に沿ってプラスイオンとマイナスイオンに分離し、電極
３ａ及び電極３ｂに引き寄せられる。そして、イオンが
電極３ａ、３ｂに引き寄せられて移動する際に、イオン
の移動経路に配置された被処理体４に付着して、被処理
体４をエレクトレット化する。

【００２９】なお、このエレクトレット化された状態は
被処理体４の種類によって異なる。例えば、被処理体４
が電離放射線を透過させないものである場合（図１の場
合）、被処理体４よりも電離放射線発生装置２側の領域
でのみイオンが発生することになるため、被処理体４は
電離放射線発生装置２側の表面近傍のみがプラスにエレ
クトレット化される。

【００３０】他方、被処理体４が電離放射線を透過させ
るものである場合には、被処理体４の電極３ｂ側の領域
においてもイオンが発生するため、被処理体４は電離放
射線発生装置２側の表面近傍がプラスにエレクトレット
化され、電極３ｂ側の表面近傍がマイナスにエレクトレ
ット化される。

【００３１】なお、被処理体４が電離放射線が透過可
能、かつ中空繊維などのように内部に孔を有する中空体
である場合には、電離放射線発生装置２側の表面がプラ
スにエレクトレット化され、電極３ｂ側の表面がマイナ
スにエレクトレット化されると同時に、中空体の孔内に
おいて発生したイオンにより、電離放射線発生装置２側
の孔の壁面がマイナスにエレクトレット化され、電極３
ｂ側の孔の壁面がプラスにエレクトレット化される。

【００３２】また、被処理体４が不織布などの多孔質体
である場合には、電離放射線発生装置２側の表面近傍が
プラスにエレクトレット化され、電極３ｂ側の表面近傍
がマイナスにエレクトレット化されると同時に、多孔質
体の内部空隙において発生したイオンにより、電離放射
線発生装置２側の内部空隙の壁面がマイナスにエレクト
レット化され、電極３ｂ側の内部空隙の壁面がプラスに
エレクトレット化される。

【００３３】更に、被処理体４が電離放射線が透過可能
な中空体の集合体からなる多孔質体（例えば、中空繊維
からなる不織布）である場合、多孔質体の電離放射線発
生装置２側の表面近傍がプラスにエレクトレット化さ
れ、電極３ｂ側の表面近傍がマイナスにエレクトレット
化され、電離放射線発生装置２側の内部空隙の壁面がマ
イナスにエレクトレット化され、電極３ｂ側の内部空隙
の壁面がプラスにエレクトレット化され、及び電離放射
線発生装置２側の孔の壁面がマイナスにエレクトレット
化され、電極３ｂ側の孔の壁面がプラスにエレクトレッ
ト化される。

【００３４】更に、被処理体４を電極３ａ又は電極３ｂ
と接触させてエレクトレット化する場合、例えば、電離
放射線発生装置２とは反対側の電極３ｂに被処理体４を
接触させてエレクトレット化した場合、電離放射線発生
装置２側表面近傍はプラスにエレクトレット化され、電
極３ｂ側表面近傍は逆電離によりマイナスにエレクトレ
ット化される。

【００３５】図２は本発明の別のエレクトレット体製造
装置１の概念的な側面図である。このエレクトレット体
製造装置１は、電極３ａ、３ｂ同士の対向方向に対して
直角に電離放射線発生装置２を配置し、両方の電極３
ａ、３ｂを平板状電極とした点のみが図１のエレクトレ
ット体製造装置１と相違するが、他の点については図１
のエレクトレット体製造装置１と全く同じである。この
ように、本発明のエレクトレット体製造装置１において
は、電離放射線が電場の作用する領域に到達できるよう
に配置されていれば、どのように、いくつ配置されてい
ても良い。

【００３６】図２のエレクトレット体製造装置１のよう
に、電極がいずれも平板状電極３ａ、３ｂからなると、
一方の電極３ａ（又は３ｂ）から他方の電極３ｂ（又は
３ａ）にわたって、ほぼ完全な平等電界を形成すること
ができる。したがって、スパーク放電を生じる電界強度
が高くなるため、従来よりも高い電界強度を作用させる
ことができる。したがって、従来よりも帯電量を多くす
ることができる、という効果を奏する。

【００３７】図２のエレクトレット体製造装置１は上記
のような構造を有するため、図１のエレクトレット体製
造装置１と同様に作用する。つまり、電離放射線発生装
置２から電離放射線を発生すると、電離放射線が通過し
た全領域において、空気がイオン化される。次いで、こ
の電離放射線が通過した領域（つまり、イオンの発生し
た領域）に電場をかけると、電場に沿ってプラスイオン
とマイナスイオンに分離し、電極３ａ及び電極３ｂに引
き寄せられる。そして、イオンが電極３ａ、３ｂに引き
寄せられて移動する際に、イオンの移動経路に配置され
た被処理体４に付着して、被処理体４をエレクトレット
化する。

【００３８】なお、図２の被処理体４は電離放射線の照
射方向と平行に配置されているため、被処理体４を電離
放射線が透過可能であるか不可能であるかに関係なく、
被処理体４の電極３ａ側表面近傍はプラスにエレクトレ
ット化され、電極３ｂ側表面近傍はマイナスにエレクト
レット化される。なお、被処理体４が電離放射線を透過
可能な中空体、多孔質体、或は中空体の集合体からなる
多孔質体の場合や、被処理体４を電極３ａ又は電極３ｂ
と接触させてエレクトレット化する場合は、図１の場合
と全く同様にエレクトレット化される。

【００３９】図３は本発明の更に別のエレクトレット体
製造装置１の概念的な側面図である。このエレクトレッ
ト体製造装置１はいずれの電極３ａ、３ｂもメッシュ状
電極からなること、及び電離放射線発生装置を電極３ａ
の外側及び電極３ｂの外側の計２つ配置したこと以外
は、図１のエレクトレット体製造装置１と全く同じであ
る。

【００４０】このように電離放射線発生装置を２つ配置
することにより、被処理体４が電離放射線を透過させな
いものであっても、被処理体４の両面をエレクトレット
化することができる。また、電離放射線発生装置２の数
が多ければ多い程、より発生するイオンの量が増加する
ため、それだけ早くエレクトレット化できたり、帯電量
を増やすことができる、という効果を奏する。

【００４１】なお、電離放射線発生装置は図１のように
１つ、又は図３のように２つである必要はなく、３つ以
上配置しても良い。また、２つ以上の電離放射線発生装
置を配置する場合、いずれの電離放射線も電場の作用す
る領域に到達できるのであれば、どのような位置関係で
電離放射線発生装置を配置しても良い。

【００４２】このエレクトレット体製造装置１は上述の
ような構造を有するため、次のように作用する。まず、
電離放射線発生装置２ａ、２ｂからそれぞれ電離放射線
を発生すると、電離放射線が通過したそれぞれの全領域
における空気がイオン化される。次いで、この電離放射
線が通過した領域（つまり、イオンの発生した領域）に
電場をかけると、電場に沿ってプラスイオンとマイナス
イオンに分離し、電極３ａ、３ｂに引き寄せられる。そ
して、イオンが電極３ａ、３ｂに引き寄せられて移動す
る際に、イオンの移動経路に配置された被処理体４に付
着して、被処理体４をエレクトレット化する。

【００４３】前述のように、図３のエレクトレット体製
造装置１においては、２つの電離放射線発生装置２ａ、
２ｂを備えているため、被処理体４が電離放射線を透過
可能であるか不可能であるかに関係なく、被処理体４の
電極３ａ側表面近傍はプラスにエレクトレット化され、
電極３ｂ側表面近傍はマイナスにエレクトレット化され
る。なお、被処理体４が電離放射線を透過可能な中空
体、多孔質体、或は中空体の集合体からなる多孔質体の
場合や、被処理体４を電極３ａ又は電極３ｂと接触させ
てエレクトレット化する場合は、図１のエレクトレット
体製造装置１の場合と全く同様にエレクトレット化され
る。

【００４４】図４は本発明の更に別のエレクトレット体
製造装置１の概念的な側面図である。このエレクトレッ
ト体製造装置１は電離放射線発生装置２側とは反対側の
電極３ｂとして、表面に凹凸のあるものを使用したこ
と、及びこの電極３ｂと密着させて被処理体４を配置し
たこと以外は図１のエレクトレット体製造装置１と全く
同じである。

【００４５】このように、電極３ａ、３ｂの表面形状は
特に限定されるものではない。しかしながら、電極３
ａ、３ｂ間を高い電界強度とし、帯電量を多くするよう
な場合には、スパーク放電がより生じにくいように、他
方の電極と対向する電極表面が平滑な平板状電極である
のが好ましく、電極の周囲を曲面状としたり、ビニール
テープなどの誘電性のテープで周囲を被覆した、よりス
パーク放電の生じにくい平板状電極であるのがより好ま
しい。

【００４６】このエレクトレット体製造装置１は上述の
ような構造を有するため、次のように作用する。まず、
電離放射線発生装置２から電離放射線を発生すると、電
離放射線が通過した全領域における空気がイオン化され
る。次いで、この電離放射線が通過した領域（つまり、
イオンの発生した領域）に電場をかけると、電場に沿っ
てプラスイオンとマイナスイオンに分離し、電極３ａ、
３ｂに引き寄せられる。そして、イオンが電極３ａ、３
ｂに引き寄せられて移動する際に、電極３ｂ上に配置さ
れた被処理体４に付着して、被処理体４をエレクトレッ
ト化する。

【００４７】図４の場合、被処理体４が電離放射線を透
過可能であるか不可能であるかに関係なく、被処理体４
の電極３ａ側表面近傍はプラスにエレクトレット化さ
れ、電極３ｂ側表面近傍は逆電離によりマイナスにエレ
クトレット化される。なお、被処理体４が電離放射線を
透過可能な中空体、多孔質体、或は中空体の集合体から
なる多孔質体の場合は、図１の場合と全く同様にエレク
トレット化される。

【００４８】図５は図１のエレクトレット体製造装置１
を用いて、電離放射線を透過可能な材料からなる中空の
被処理体４をエレクトレット化した状態を表す概念的な
側面図である。

【００４９】このように、被処理体４が電離放射線を透
過可能な中空体である場合、電離放射線は中空体の外壁
を透過し、中空体の孔内における空気もイオン化される
ため、中空体の孔内で発生したイオンも電場に沿って、
プラスイオンとマイナスイオンに分離し、電極３ａ及び
電極３ｂに引き寄せられる。そして、イオンが電極３
ａ、３ｂに引き寄せられて移動する際に、中空体の孔の
壁面にイオンが付着して、中空体の孔の壁面もエレクト
レット化される。

【００５０】つまり、被処理体４の電離放射線発生装置
２側の表面がプラスにエレクトレット化され、電極３ｂ
側の表面がマイナスにエレクトレット化されると同時
に、電離放射線発生装置２側の孔の壁面がマイナスにエ
レクトレット化され、電極３ｂ側の孔の壁面がプラスに
エレクトレット化される。

【００５１】なお、図５は１つの中空体のみを図示して
いるが、被処理体４が中空体の集合体（例えば、中空繊
維を含む不織布）からなる場合には、各々の中空体の孔
の壁面が上記と同様にエレクトレット化される。

【００５２】図６は本発明の更に別のエレクトレット体
製造装置１の概念的な側面図である。このエレクトレッ
ト体製造装置１は、電離放射線が外部に漏れず、かつ電
場の作用によりイオンが通過可能な開口部５ａ、５ｂを
有するイオン発生室５を設置していること、及びこの開
口部５ａ、５ｂの外側に２つの被処理体４ａ、４ｂを配
置したこと以外は図２のエレクトレット体製造装置１と
全く同じである。このようにイオン発生室５を設置する
と、このイオン発生室５内から同極性のイオンのみを引
き出すことができ、被処理体４を同極性に帯電すること
ができる。

【００５３】このようにイオン発生室５を設置する場
合、電離放射線発生装置２はイオン発生室５の外部に設
置しても良いが、イオン発生室５の外部に漏れないよう
に、イオン発生室５の中に設置するのが好ましい。ま
た、電離放射線発生装置２は電離放射線がイオン発生室
５の外部に漏れないのであれば、図６の紙面に対して直
角に配置するなど、どのように、何台設置しても良い。

【００５４】図６におけるイオン発生室５においては、
発生したイオンが電場の作用により通過可能な開口部を
２つ有する態様であるが、２つである必要はなく、１つ
でも３つ以上有していても良い。

【００５５】このイオン発生室５は電離放射線が透過し
ないように、その内壁は鉛などの金属によって被覆され
ているのが好ましい。なお、電離放射線が軟Ｘ線のよう
に比較的低エネルギーの場合には、塩化ビニル板などの
樹脂板で被覆されていても良い。

【００５６】また、イオン発生室５の形状は特に限定す
るものではないが、円柱状、円錐状、角柱状、角錐状な
どを例示できる。また、イオン発生室５の大きさは電離
放射線発生装置２の大きさやエレクトレット化処理の実
施規模などによって適宜設定される。

【００５７】図６においては、イオン発生室５の開口部
５ａの外側に接地電極３ａと、開口部５ｂの外側にマイ
ナスに印加した電極３ｂとを設置しているが、逆にイオ
ン発生室５の開口部５ａの外側にマイナスに印加した電
極と、開口部５ｂの外側に接地電極とを設置しても良
い。或いは、イオン発生室５の開口部５ａの外側にプラ
スに印加又は接地した電極と、開口部５ｂの外側に接地
又はプラスに印加した電極とを設置しても良い。更に
は、いずれの開口部５ａ、５ｂからも同極性のイオンの
みを引き出すことができるように、電極３ａと電極３ｂ
の電位を同程度の電位とし、イオン発生室５内に接地電
極を設けたり、逆に、電極３ａ及び電極３ｂを接地電極
とし、イオン発生室５内に印加電極を設置しても良い。
また、イオン発生室５内に接地電極を設置し、電極３ａ
と電極３ｂとの間に電位差を設けることによりイオンを
引き出すこともできる。

【００５８】図６のエレクトレット体製造装置１は上述
のような構造からなるため、次のように作用する。ま
ず、電離放射線発生装置２から電離放射線を発生する
と、イオン発生室５内における空気がイオン化される。
次いで、このイオン発生室５の開口部５ａ、５ｂの外側
に位置する電極間に電場をかけると、電場に沿ってプラ
スイオンとマイナスイオンに分離し、イオン発生室５の
開口部５ａ、５ｂを通過して同じ開口部からは同極性の
イオンのみが引き出される。図６の場合、開口部５ａを
通ってマイナスイオンのみが電極３ａ側に引き出され、
他方、開口部５ｂを通ってプラスイオンのみが電極３ｂ
側に引き出される。そして、イオンが電極３ａ、３ｂに
引き寄せられて移動する際に、イオンの移動経路に配置
された被処理体に付着して、被処理体をエレクトレット
化する。図６の場合、電極３ａ側に配置した被処理体４
ａはマイナスイオンによってのみエレクトレット化さ
れ、電極３ｂ側に配置した被処理体４ｂはプラスイオン
によってのみエレクトレット化される。

【００５９】なお、図６のエレクトレット体製造装置１
においては、イオン発生室５から同極性のイオンのみを
引き出しており、被処理体４ａ、４ｂに電離放射線が照
射されていないため、被処理体４ａ、４ｂが電離放射線
を透過可能であるか不可能であるかに関係なく、被処理
体４ａ、４ｂはプラス又はマイナスの同極性にエレクト
レット化される。

【００６０】また、被処理体４ａ、４ｂが電離放射線を
透過可能な中空体、多孔質体、又は中空体の集合体から
なる多孔質体であったとしても、この中空体又は多孔質
体には電離放射線が照射されていないため、被処理体４
の孔内及び／又は内部空隙においてイオンは発生しな
い。したがって、イオン発生室５の開口部５ａ、５ｂか
ら引き出された同極性のイオンの付着により、被処理体
４ａ、４ｂの表面近傍のみがプラス又はマイナスの同極
性にエレクトレット化される。

【００６１】更に、被処理体４ａ、４ｂをいずれかの電
極３ａ、３ｂと接触させてエレクトレット化する場合、
例えば、被処理体４ｂを電極３ｂと接触させて配置した
場合、イオン発生室５側表面近傍はプラスにエレクトレ
ット化され、電極３ｂ側表面近傍は逆電離によりマイナ
スにエレクトレット化される。

【００６２】なお、図６はイオン発生室５を設置した場
合であるが、イオン発生室５を設置せず、電離放射線が
被処理体に照射されないように電離放射線発生装置２、
及び被処理体を配置することにより、同様の効果を得る
ことができる。例えば、電極間距離を長くし、被処理体
をいずれか一方の電極と接触又は近傍に配置し、電離放
射線を被処理体に照射せず、他方の電極近傍に照射でき
るように電離放射線発生装置２を配置したエレクトレッ
ト体製造装置１は、同極性のみのイオンでエレクトレッ
ト化することができる。特に本発明においては、電極間
の距離を長くすることができるため、イオン発生室５を
設置しない場合であっても、同極性のみのイオンでエレ
クトレット化することができる。

【００６３】図７は本発明の更に別のエレクトレット体
製造装置１の概念的な側面図である。このエレクトレッ
ト体製造装置１は電離放射線発生装置２と、発生したイ
オンに対して電場を作用させるためのロール状接地電極
３１ａ、３２ａ、３３ａと、ロール状印加電極３１ｂ、
３２ｂ、３３ｂとを互いに交互に略直線状に配置してい
る。

【００６４】なお、図７におけるエレクトレット体製造
装置１においても、電離放射線がエレクトレット体製造
装置１の外部に透過しないように、エレクトレット体製
造装置１の内壁は鉛などの金属によって被覆されている
のが好ましい。なお、電離放射線が軟Ｘ線のように比較
的低エネルギーの場合には、塩化ビニル板などの樹脂板
で被覆されていても良い。

【００６５】図７において電離放射線発生装置２は、紙
面上、右側に配置されているが、電離放射線が電場の作
用する領域に到達できるように配置されていれば良く、
図７の紙面上、左側から、上側から、下側から、或いは
図７の紙面に対して上側から、下側から、の少なくとも
一方向から電離放射線を照射すれば良い。

【００６６】図７においては、隣接するロール状接地電
極３１ａ、３２ａ、３３ａと、ロール状印加電極３１
ｂ、３２ｂ、３３ｂとの間で電位差が生じるように、互
いに交互に略直線状に配置している。

【００６７】また、被処理体４はロール状接地電極３１
ａ、３２ａ、３３ａ、及びロール状印加電極３１ｂ、３
２ｂ、３３ｂと接触しないように波状に設置され、隣接
するロール状接地電極３１ａ、３２ａ、３３ａ及びロー
ル状印加電極３１ｂ、３２ｂ、３３ｂからの距離が連続
的に変化している。なお、被処理体４はロール状接地電
極３１ａ、３２ａ、３３ａ及びロール状印加電極３１
ｂ、３２ｂ、３３ｂの中の、少なくとも１つのロール状
電極と接触していても良い。

【００６８】図７のエレクトレット体の製造装置１は上
述のような構造を有するため、次のように作用する。ま
ず、電離放射線発生装置２から電離放射線を発生する
と、電離放射線が通過した全領域において、空気がイオ
ン化される。次いで、この電離放射線が通過した領域
（つまり、イオンが発生した領域）に電場をかけると、
電場に沿ってプラスイオンとマイナスイオンに分離し、
電極３１ａ、３２ａ、３３ａ及び３１ｂ、３２ｂ、３３
ｂに引き寄せられる。そして、イオンが電極３１ａ、３
２ａ、３３ａ及び３１ｂ、３２ｂ、３３ｂに引き寄せら
れて移動する際に、イオンの移動経路に配置された被処
理体４に付着して、被処理体４をエレクトレット化す
る。

【００６９】図７のエレクトレット体の製造装置１によ
り、不織布のような多孔性でイオン透過性の高い多孔質
体（被処理体４）をエレクトレット化する場合、例え
ば、接地電極３１ａと印加電極３２ｂとからの距離がほ
ぼ同じであるＭ部分は、これら電極間の電界強度が最も
強いため、このＭ部分近傍は最も強くエレクトレット化
される。一方、図７の紙面上、印加電極３２ｂの真上に
位置するＦ部分はこれら電極間の電界強度が最も弱いた
め、このＦ部分近傍は最も弱くエレクトレット化され
る。したがって、図７に示すエレクトレット体製造装置
１により製造されるエレクトレット体は、電荷量の多い
領域と少ない領域とを交互に縞状に有する。

【００７０】図７のエレクトレット体製造装置１におい
ては、被処理体４が電離放射線を透過させるものであっ
ても、透過させないものであっても、上述と同様にエレ
クトレット化できる。また、被処理体４がイオンを透過
しない場合には、被処理体４全体がほぼ同程度にエレク
トレット化される。更に、被処理体４が電離放射線を透
過可能な中空体の集合体からなる多孔質体からなる場合
には、多孔質体の表面近傍が電荷量の多い領域と少ない
領域とに、交互に縞状にエレクトレット化されるのと同
時に、表面の電荷量の多い領域と少ない領域とに対応し
て、電荷量の多い内部空隙の壁面及び孔の壁面と、電荷
量の少ない内部空隙の壁面及び孔の壁面とにエレクトレ
ット化される。

【００７１】図８は本発明の更に別のエレクトレット体
製造装置１の概念的な側面図である。このエレクトレッ
ト体製造装置１は電離放射線発生装置２と、発生したイ
オンに対して電場を作用させるための直方体状接地電極
３１ａ、３２ａ、３３ａ、３４ａと、直方体状印加電極
３１ｂ、３２ｂ、３３ｂ、３４ｂ、３５ｂとが互いに交
互に隣接するように設置したものである。図８において
は、これら電極３１ａ〜３４ａ及び電極３１ｂ〜３５ｂ
上に被処理体４を配置している。

【００７２】なお、図８におけるエレクトレット体製造
装置１においても、エレクトレット体製造装置１の外部
に電離放射線が透過しないように、装置１の内壁は鉛な
どの金属によって被覆されているのが好ましい。なお、
電離放射線が軟Ｘ線のように比較的低エネルギーの場合
には、塩化ビニル板などの樹脂板で被覆されていても良
い。

【００７３】図８において電離放射線発生装置２は、紙
面上、右側に配置されているが、電離放射線が電場の作
用する領域に到達できるように配置されていれば良く、
図８の紙面上、上側から、下側から、左側から、或いは
図８の紙面に対して上側から、下側から、の少なくとも
一方向から電離放射線を照射すれば良い。

【００７４】また、図８においては、被処理体４は電極
３１ａ〜３４ａ及び電極３１ｂ〜３５ｂと接触させて配
置しているが、電極３１ａ〜３４ａ及び電極３１ｂ〜３
５ｂの中の、少なくとも１つの電極と離間させて配置し
ても良い。

【００７５】本発明のエレクトレット体の製造装置１は
上述のような構造を有するため、次のように作用する。
まず、電離放射線発生装置２から電離放射線を発生する
と、電離放射線が通過した全領域において、空気がイオ
ン化される。次いで、この電離放射線が通過した領域
（つまり、イオンの発生した領域）に電場をかけると、
電場に沿ってプラスイオンとマイナスイオンに分離し、
マイナスイオンは接地電極３１ａ〜３４ａへ、他方、プ
ラスイオンは印加電極３１ｂ〜３５ｂへと、それぞれ引
き寄せられる。そして、イオンが電極３１ａ〜３４ａ及
び電極３１ｂ〜３５ｂに引き寄せられて移動する際に、
電極上の被処理体４に付着して、被処理体４をエレクト
レット化する。図８における態様においては、接地電極
３１ａ〜３４ａと印加電極３１ｂ〜３５ｂとを交互に配
置しているため、プラスにエレクトレット化された領域
とマイナスにエレクトレット化された領域とを交互に縞
状に有するエレクトレット体を製造できる。このエレク
トレット体の状態は被処理体４が電離放射線を透過させ
るものであっても、透過させないものであっても、同様
にエレクトレット化できる。

【００７６】このように、本発明においては、電極の配
置状態を適宜設定することにより、所望通りにエレクト
レット化することができる。例えば、マイナスに印加し
た電極と接地電極とを碁盤の目状に配置することによ
り、プラスにエレクトレット化した領域とマイナスにエ
レクトレット化した領域とを碁盤の目状に形成すること
ができる。

【００７７】図９は図２のエレクトレット体製造装置１
を用いて、断面が四角形の孔を有するハニカム状被処理
体４をエレクトレット化した状態を表す概念的な斜視図
である。このように、被処理体４がハニカム状である場
合、電離放射線発生装置２から発生した電離放射線はハ
ニカム状被処理体４の孔内における空気もイオン化し、
この発生したイオンは電場の作用によってプラスイオン
とマイナスイオンに分離し、電極３ａ、３ｂに引き寄せ
られる。そして、このイオンが電極３ａ、３ｂに引き寄
せられて移動する際に、ハニカム状被処理体４の孔の壁
面にイオンが付着して、ハニカム状被処理体４の孔の壁
面をエレクトレット化する。

【００７８】図９の場合、ハニカム状被処理体４の接地
電極３ａ側の孔の壁面が主としてマイナスにエレクトレ
ット化され、印加電極３ｂ側の孔の壁面が主としてプラ
スにエレクトレット化される。このように、成形後にエ
レクトレット化することができるため、成形時における
帯電量の低下がなく、帯電量の多い成形体を製造でき
る。

【００７９】図１０は本発明の更に別のエレクトレット
体製造装置１の概念的な斜視図である。このエレクトレ
ット体製造装置１はハニカム状の被処理体４をエレクト
レット化する装置であり、電離放射線発生装置２と、発
生したイオンに対して電場を作用させるためのロール状
接地電極３１ａ〜３６ａ及びロール状印加電極３１ｂ〜
３６ｂとを、ハニカム状被処理体４の各々の孔内に、互
いに隣接するように交互に挿入したものである。

【００８０】なお、図１０におけるエレクトレット体製
造装置１においても、電離放射線がエレクトレット体製
造装置１の外部に透過しないように、装置１の内壁は鉛
などの金属によって被覆されているのが好ましい。な
お、電離放射線が軟Ｘ線のように比較的低エネルギーの
場合には、塩化ビニル板などの樹脂板で被覆されていて
も良い。

【００８１】図１０において電離放射線発生装置２は、
紙面上、手前に配置されているが、電離放射線がハニカ
ム状被処理体４の各々の孔内に到達することができるの
であれば、どのように、何台設置されていても良い。

【００８２】本発明のエレクトレット体の製造装置１は
上述のような構造を有するため、次のように作用する。
まず、電離放射線発生装置２から発生した電離放射線は
ハニカム状被処理体４の孔内における空気もイオン化さ
れる。次いで、電場の作用によってプラスイオンとマイ
ナスイオンに分離し、電極３１ａ〜３６ａ及び電極３１
ｂ〜３６ｂに引き寄せられる。そして、イオンが電極３
１ａ〜３６ａ及び電極３１ｂ〜３６ｂに引き寄せられて
移動する際に、ハニカム状被処理体４の孔の壁面にイオ
ンが付着して、ハニカム状被処理体４の孔の壁面がエレ
クトレット化される。

【００８３】図１０の場合、接地電極３１ａ〜３６ａと
印加電極３１ｂ〜３６ｂとが、隣接する上下左右の孔に
おいて、互いに交互に設置されているため、壁面全体が
プラスに帯電される孔と、壁面全体がマイナスに帯電さ
れる孔とが、上下左右において交互に存在するようにエ
レクトレット化される。

【００８４】このように、成形後にエレクトレット化す
ることができるため、成形時における帯電量の低下がな
く、帯電量の多い成形体を製造できる。なお、接地電極
と印加電極の配置は上下左右に、互いに交互である必要
はなく、自由に配置することができる。

【００８５】図１１は図１のエレクトレット体製造装置
１を用いて、電離放射線透過性かつイオン不透過性物質
（以下、単に「イオン不透過性物質」という）６ａ、６
ｂで挟んだ、多孔質体（被処理体４）をエレクトレット
化した状態を表す概念的な側面図である。このように、
被処理体４をイオン不透過性物質６ａ、６ｂで挟むと、
電極間における電界強度が低くても、被処理体４の両端
にかかる電界強度のみを高くすることができるため、安
定してエレクトレット化でき、しかも帯電量を多くする
ことができる。つまり、電極間における電界強度が低く
ても、時間の経過とともにイオン不透過性物質６ａ、６
ｂの表面に、イオン不透過性物質６ａ、６ｂの外側で発
生したイオン不透過性物質６ａ、６ｂを透過することの
できないイオンが蓄積され、被処理体４の両端にかかる
電界強度のみが高くなるため、帯電量を多くすることが
できる。

【００８６】このイオン不透過性物質６ａ、６ｂは電離
放射線透過性かつイオン不透過性のものであれば良い。
例えば、体積固有抵抗値が１０⁹Ω・ｃｍ以上の絶縁性
のフィルムからなるのが好ましい。また、フィルムとし
ては１０μｍ〜２ｍｍ程度の厚さのものを使用できる。
このフィルムとしては、例えば、ポリエステルフィル
ム、ポリフェニレンサルファイドフィルム、ポリプロピ
レンフィルム、ポリエチレンフィルム、ポリ塩化ビニル
フィルム、アセテートフィルム、ポリスチレンフィル
ム、ポリカーボネートフィルム、ポリアミドフィルム、
ポリイミドフィルム、セロハン、ポリテトラフルオロエ
チレンフィルムなどを使用できる。

【００８７】なお、このようにイオン不透過性物質６
ａ、６ｂにより挟んだ被処理体４はどこに配置しても良
く、いずれの電極とも接触しないように配置しても良い
し、いずれか一方又は両方の電極と接触するように配置
しても良い。

【００８８】図１１のエレクトレット体製造装置１は上
述のような構成からなるため、次のように作用する。ま
ず、電離放射線発生装置２から電離放射線を発生する
と、図１１の紙面上、イオン不透過性物質６ａの右側、
多孔質体（被処理体４）の内部空隙、及びイオン不透過
性物質６ｂの左側において、空気がイオン化される。次
いで、電極３ａ、３ｂ間に電場をかけると、イオン不透
過性物質６ａの右側で発生したイオンのうち、プラスイ
オンは電極３ｂに引き寄せられて移動する際にイオン不
透過性物質６ａに付着し、マイナスイオンは電極３ａに
引き寄せられて移動する。また、イオン不透過性物質６
ｂの左側で発生したイオンのうち、プラスイオンは電極
３ｂに引き寄せられ、マイナスイオンは電極３ａに引き
寄せられて移動する際にイオン不透過性物質６ｂに付着
する。更に、多孔質体（被処理体４）の内部空隙で発生
したイオンのうち、プラスイオンは電極３ｂに引き寄せ
られ、マイナスイオンは電極３ａに引き寄せられて移動
する際に、多孔質体構成物（例えば、不織布の場合には
構成繊維）に付着する。したがって、電極３ａ側の内部
空隙の壁面がマイナスにエレクトレット化され、電極３
ｂ側の内部空隙の壁面がプラスにエレクトレット化され
る。このように被処理体４の両側に配置されたイオン不
透過性物質６ａ、６ｂに透過できないイオンが蓄積し
て、被処理体４の両端にかかる電界強度が高くなるた
め、被処理体４の内部空隙で発生したイオンの分離性が
高く、しかも電離も生じるため、被処理体４は高度にエ
レクトレット化される。

【００８９】なお、被処理体４が中空体からなる場合に
は、中空体の電極３ａ側の表面が逆電離によりプラスに
エレクトレット化され、電極３ｂ側の表面が逆電離によ
りマイナスにエレクトレット化されるばかりでなく、孔
内において発生したイオンにより、電極３ａ側の孔の壁
面がマイナスにエレクトレット化され、電極３ｂ側の孔
の壁面がプラスにエレクトレット化される。更に、被処
理体４が中空体の集合体からなる多孔質体（例えば、中
空繊維を含む不織布）の場合、被処理体４の電極３ａ側
の表面近傍が逆電離によりプラスにエレクトレット化さ
れ、電極３ｂ側の表面近傍が逆電離によりマイナスにエ
レクトレット化されるばかりでなく、内部空隙において
発生したイオンにより、電極３ａ側の内部空隙の壁面が
マイナスにエレクトレット化され、電極３ｂ側の内部空
隙の壁面がプラスにエレクトレット化され、更には、中
空体の孔内で発生したイオンにより、電極３ａ側の孔の
壁面がマイナスにエレクトレット化され、電極３ｂ側の
孔の壁面がプラスにエレクトレット化される。

【００９０】なお、イオン不透過性物質６ａ、６ｂは被
処理体４と接触している必要はなく、被処理体４と離し
て配置することもできる。また、被処理体４が独立気泡
の発泡体からなる場合には、イオン不透過性物質６ａ、
６ｂを特に使用しなくても、内部空隙の壁面を高度にエ
レクトレット化することができる。

【００９１】

【実施例】

（実施例１〜３）線径０．１５ｍｍのステンレスワイヤ
ーからなる目開き１ｍｍのメッシュ状電極３ａを接地電
極として使用し、ステンレス製平板状電極３ｂを印加電
極として使用し、互いに平行となるように配置した。次
いで、電離放射線発生装置２として、ＩＲＩＳＹＳ−Ｓ
Ｘ（高砂熱学工業（株）製）を、前記メッシュ状電極３
ａに対して直角、かつ前記メッシュ状電極３ａから平板
状電極３ｂとは反対方向に２ｃｍ離れた位置に配置し
た。これら電極３ａ、３ｂと電離放射線発生装置２とを
塩化ビニル樹脂板で覆い囲って、エレクトレット体製造
装置１（図１を参照）を作製した。

【００９２】他方、ポリプロピレン繊維からなるメルト
ブロー不織布シート（面密度２０ｇ／ｍ²）を用意し
た。次いで、このメルトブロー不織布シートをステンレ
ス製平板状電極３ｂ上に載置した状態で、最大エネルギ
ー９．５ｋｅＶの電離放射線を照射しながら、１分間、
表１に示すような各種電界強度により、メルトブロー不
織布シートをエレクトレット化した。

【００９３】次いで、このエレクトレット化したシート
のエレクトレット化の程度を比較するために、パーティ
クルカウンターＫＣ−１８（リオン（株）製）を用い
て、０．３〜０．５μｍの大気塵を１０ｃｍ／ｓｅｃの
条件で通気して、大気塵の捕集効率を３回測定した。こ
の捕集効率の平均値は表１に示す通りであった。この結
果から、電界強度が高いほど、高度にエレクトレット化
できることがわかる。

【００９４】

【表１】

【００９５】（実施例４）ポリプロピレン繊維８５ｍａ
ｓｓ％と、ポリエチレン樹脂を鞘成分とし、ポリプロピ
レン樹脂を芯成分とする芯鞘型複合繊維１５ｍａｓｓ％
とからなる、面密度１２０ｇ／ｍ²の水流絡合不織布を
用意した。また、ポリプロピレン繊維からなる、面密度
８０ｇ／ｍ²のメルトブロー不織布を用意した。更に、
ポリプロピレン繊維４０ｍａｓｓ％と、ポリエチレン樹
脂を鞘成分とし、ポリプロピレン樹脂を芯成分とする芯
鞘型複合繊維６０ｍａｓｓ％とからなる、面密度１２０
ｇ／ｍ²のニードルパンチ不織布を用意した。

【００９６】次いで、水流絡合不織布、メルトブロー不
織布、ニードルパンチ不織布の順に積層した後、加熱し
た金型によりプレスし、そのまま冷却して、水流絡合不
織布が内側（装着者側）となるように、顔の表面形状に
沿うお碗形状となるように成形すると同時に、その周囲
を熱接着した。この成形したものを被処理体４とした。

【００９７】次いで、電極間距離を１３ｃｍとしたこと
以外は実施例１と全く同じエレクトレット体製造装置１
を用いて、前記成形した被処理体４をエレクトレット化
した。なお、成形した被処理体４はいずれの電極とも接
触しないように配置し、最大エネルギー９．５ｋｅＶの
電離放射線を照射しながら、１分間、２０ｋＶの直流を
印加して行なった。

【００９８】このエレクトレット体のエレクトレット化
の程度をみるために、労働省告示第１９号（防塵マスク
の規格）に基づいて、捕集効率を４回測定した。この捕
集効率の平均値は９９．５５であった。この結果から、
成形されたエレクトレット体は高度にエレクトレット化
されていることがわかる。

【００９９】

【発明の効果】本発明のエレクトレット体の製造方法
は、電離放射線によりイオンを発生させた後、発生させ
たイオンに電場を作用させることにより、このイオンを
被処理体に付着させる方法である。このように、被処理
体を電極に密着させる必要がないため、被処理体の形状
に左右されることなく被処理体をエレクトレット化する
ことができる。

【０１００】また、本発明においてはイオンの発生源が
電離放射線であり、イオンを発生させるために放電極を
使用する必要がないため、発生したイオンに対して電場
を作用させる際に、ほぼ完全な平等電界を作用させるこ
とができる。したがって、スパーク放電により被処理体
を損傷したり、オゾンが発生することがほとんどない。
また、高い電界強度としても、スパーク放電が生じにく
いため、被処理体の帯電量を多くすることができる。

【０１０１】本発明のエレクトレット体の製造装置は、
電離放射線発生装置と、この電離放射線発生装置により
発生させたイオンに電場を作用させることのできる手
段、とを備えている。したがって、上述のエレクトレッ
ト体の製造方法を実施することができるため、（１）被
処理体の形状に左右されることなくエレクトレット化す
ることができ、（２）スパーク放電により被処理体を損
傷することがなく、（３）帯電量を多くすることがで
き、（４）オゾンの発生のほとんどない、エレクトレッ
ト体の製造装置である。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明のエレクトレット体製造装置の概念的
な側面図

【図２】本発明の別のエレクトレット体製造装置の概
念的な側面図

【図３】本発明の更に別のエレクトレット体製造装置
の概念的な側面図

【図４】本発明の更に別のエレクトレット体製造装置
の概念的な側面図

【図５】本発明の更に別のエレクトレット体製造装置
の概念的な側面図

【図６】本発明の更に別のエレクトレット体製造装置
の概念的な側面図

【図７】本発明の更に別のエレクトレット体製造装置
の概念的な側面図

【図８】本発明の更に別のエレクトレット体製造装置
の概念的な側面図

【図９】本発明の更に別のエレクトレット体製造装置
の概念的な斜視図

【図１０】本発明の更に別のエレクトレット体製造装
置の概念的な斜視図

【図１１】本発明の更に別のエレクトレット体製造装
置の概念的な側面図

【符号の説明】

１エレクトレット体製造装置２、２ａ、２ｂ電離放射線発生装置３ａ、３１ａ〜３６ａ、３ｂ、３１ｂ〜３６ｂ電極４、４ａ、４ｂ被処理体５イオン発生室５ａ、５ｂ開口部６ａ、６ｂ電離放射線透過性かつイオン不透過性物質

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】電離放射線によりイオンを発生させた
後、発生させたイオンに電場を作用させることにより、
該イオンを被処理体に付着させることを特徴とする、エ
レクトレット体の製造方法。
【請求項２】電離放射線発生装置と、該電離放射線発
生装置により発生させたイオンに電場を作用させること
のできる手段、とを備えてなることを特徴とする、エレ
クトレット体の製造装置。