JPH11116386A - 一方向凝固多結晶組織を有するシリコンインゴットの製造方法 - Google Patents

一方向凝固多結晶組織を有するシリコンインゴットの製造方法

Info

Publication number
JPH11116386A
JPH11116386A JP9278830A JP27883097A JPH11116386A JP H11116386 A JPH11116386 A JP H11116386A JP 9278830 A JP9278830 A JP 9278830A JP 27883097 A JP27883097 A JP 27883097A JP H11116386 A JPH11116386 A JP H11116386A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
silicon
crucible
seed crystal
raw material
chill plate
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn
Application number
JP9278830A
Other languages
English (en)
Inventor
Saburo Wakita
三郎 脇田
Akira Mihashi
章 三橋
Junichi Sasaki
順一 佐々木
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Materials Corp
Original Assignee
Mitsubishi Materials Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Mitsubishi Materials Corp filed Critical Mitsubishi Materials Corp
Priority to JP9278830A priority Critical patent/JPH11116386A/ja
Publication of JPH11116386A publication Critical patent/JPH11116386A/ja
Withdrawn legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02EREDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
    • Y02E10/00Energy generation through renewable energy sources
    • Y02E10/50Photovoltaic [PV] energy

Landscapes

  • Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)
  • Photovoltaic Devices (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 配向性の良い一方向凝固多結晶組織を有する
シリコンインゴットを製造する方法を提供する。 【解決手段】 ルツボ1の底部を貫通する底部貫通穴9
を設け、この底部貫通穴9にシリコン種結晶を貫通させ
た状態で固着し、このシリコン種結晶4の一端部をチル
プレート7に接触させた状態でルツボ1にシリコン原料
2を充填し加熱することによりシリコン原料2を溶解し
た後、エリベータシャフト11を降下させることにより
溶融シリコンをルツボ1の底部から凝固させる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】この発明は、太陽光発電用電
池のシリコン基板を製造するための配向性の良好な一方
向凝固多結晶組織を有するシリコンインゴットを製造す
る方法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】従来、太陽光発電用電池のシリコン基板
として、単結晶シリコンからなるシリコン基板、多結晶
シリコンからなるシリコン基板などが知られており、多
結晶シリコンからなるシリコン基板は一方向凝固多結晶
組織を有するシリコンインゴットをスライスして製造し
ている。太陽光発電用電池のシリコン基板は、単結晶シ
リコン基板の方が光電変換効率が高いが価格も高く、一
方、多結晶シリコン基板は光電変換効率が低いが価格も
安いと言われている。しかし、近年、太陽光発電用電池
のシリコン基板は、光電変換効率が高くかつ価格の安い
ものが求められており、かかる要求を満たすべく、価格
の安い太陽光発電用電池の多結晶シリコン基板の光電変
換効率を高める研究が頻繁に行われている。
【0003】従来の一方向凝固多結晶組織を有するシリ
コンインゴットを製造する方法の一つとして、シリコン
種結晶を使用する方法が知られている(特開平9−71
497号公報参照)。この方法は、断面説明図である図
3に示されるように、ルツボ1の底部にシリコン種結晶
4を配置し、次にシリコン原料2を充填し、誘導コイル
3によりルツボ1を加熱してシリコン原料2を溶解す
る。この時使用されるルツボ1は底の先端が先細となる
錐台状部を有し、この錐台状部の底にシリコン種結晶4
が配置されている。ルツボ1の底部とチルプレート7と
は直接接触しており、ルツボ1の錐台状部の底の部分を
チルプレート7で冷却してシリコン種結晶4がシリコン
原料2の溶解中に溶融消失しないようにしている。チル
プレート7は冷却水6で冷却されており、冷却水6の流
量でチルプレート7の冷却能力をコントロールしてい
る。ルツボ1の錐台状部の底を除く周辺部5の底部とチ
ルプレート7との間には断熱材8が挿入されているので
チルプレート7による周辺部5の熱の伝わりは低く、従
って、ルツボ1の内側周辺部5に接触しているシリコン
原料2の溶解を妨げることはない。この様にして溶解し
たルツボ1内の溶融シリコンの凝固は、チルプレート7
に供給される冷却水6の流量をコントロールすることに
より底部から上に向かって凝固させ、一方向凝固組織を
シリコン溶湯全域に亘って成長させ、一方向凝固多結晶
組織を有するシリコンインゴットを製造する。この時、
ルツボ1の錐台状部の底にシリコン種結晶4が存在する
と、このシリコン種結晶4から結晶が成長するので簡単
に配向性が良好で結晶粒径の大きな一方向凝固多結晶組
織を有するシリコンインゴットを製造することができ
る。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】しかし、図3に示され
るように、ルツボ1の錐台状部の底にシリコン種結晶4
を配置し、シリコン種結晶4を冷却しながらシリコン原
料2を溶解すると、溶融シリコンとシリコン種結晶4と
は常に接触状態にあるところから、溶融シリコンの加熱
保持温度が高過ぎたり、シリコン種結晶4の冷却が不十
分であると、シリコン種結晶4が溶融し消失して配向性
の良好な一方向凝固多結晶組織を有するシリコンインゴ
ットが得られないことがあり、シリコン種結晶4が溶融
しないようにシリコン原料2を溶解することは、シリコ
ン原料2の溶解温度およびシリコン種結晶4の冷却条件
を常に正確に制御しなければならず、かかる制御は極め
て難しく、また高価な制御設備を必要としていた。
【0005】
【課題を解決するための手段】そこで、本発明者等は、
シリコン原料の溶解中にシリコン種結晶が溶解すること
のないシリコン原料の簡単な溶解方法を開発すべく研究
を行った結果、図1に示されるように、ルツボ1の底部
に底部貫通穴9を明け、この底部貫通穴9にシリコン種
結晶4をルツボ1の内側底部から外側底部に貫通させた
状態で固着し、かかるルツボ1のシリコン種結晶4をチ
ルプレートに接触させた状態でルツボ1にシリコン原料
2を充填し加熱することによりシリコン原料2を溶解し
ても、シリコン種結晶4はチルプレートに直接接触して
いるところから常に冷却されており、シリコン原料2の
溶解条件およびチルプレートの冷却条件が変動してもシ
リコン原料2の溶解時にシリコン種結晶4が溶融し消滅
することはない、という研究結果が得られたのである。
【0006】すなわち、ルツボ1をチルプレート7の上
に載せ、ルツボ1内のシリコン原料2を溶解すると、溶
解温度が高過ぎてシリコン種結晶4のルツボ1内の底部
から突出している部分の一部が溶融しても、シリコン種
結晶4の他端部はチルプレート7により常に冷却されて
いるところから、シリコン種結晶4が完全に溶融し消滅
することは絶対にない、という研究結果が得られたので
ある。
【0007】この発明は、かかる研究結果に基づいて成
されたものであって、ルツボ1をチルプレート7上に載
置し、シリコン原料2を該ルツボ1に充填し加熱するこ
とによりシリコン原料2を溶解し、ついでルツボ1内の
溶融シリコンをルツボ1の底部から上部に向かって冷却
することにより一方向凝固多結晶組織を有するシリコン
インゴットを製造する方法において、前記ルツボ1の底
部を貫通する底部貫通穴9を設け、この底部貫通穴9に
シリコン種結晶を貫通させた状態で固着し、このシリコ
ン種結晶4の一端部をチルプレート7に接触させた状態
でルツボ1にシリコン原料2を充填し加熱することによ
りシリコン原料2を溶解する一方向凝固多結晶組織を有
するシリコンインゴットの製造方法、に特徴を有するも
のである。
【0008】さらに、図2に示されるように、ルツボ1
の外側底部に断熱材8を取り付け、ルツボ1の底部およ
び断熱材8を貫通する底部貫通穴9を設け、この底部貫
通穴9にシリコン種結晶4を貫通させた状態で固着し、
このシリコン種結晶4の一端部をチルプレート7に接触
させた状態でルツボ1にシリコン原料2を充填し加熱し
てシリコン原料2を溶解すると、シリコン種結晶4の一
端部は常にチルプレート7により冷却されているところ
から、シリコン種結晶4のルツボ1内の底部から突出し
ている部分の一部が溶融するだけで、ルツボ1内のシリ
コン原料2の溶解温度が高過ぎても、シリコン種結晶4
が完全に溶融消滅することは絶対になく、さらにルツボ
1の底部の冷却が断熱材8によって阻止されるため、溶
解熱効率が一層向上する、という研究結果が得られたの
である。
【0009】従って、この発明は、ルツボ1をチルプレ
ート7上に載置し、シリコン原料2を該ルツボ1に充填
し加熱することによりシリコン原料2を溶解し、ついで
ルツボ1の溶融シリコンをルツボの底部から上部に向か
って冷却することにより一方向凝固多結晶組織を有する
シリコンインゴットを製造する方法において、前記ルツ
ボ1の外側底部に断熱材8を取り付け、ルツボ1の底部
および断熱材8を貫通する底部貫通穴9を設け、この底
部貫通穴9にシリコン種結晶4を貫通させた状態で固着
し、このシリコン種結晶4の一端部をチルプレート7に
接触させた状態でルツボ1にシリコン原料2を充填し加
熱することによりシリコン原料2を溶解する一方向凝固
多結晶組織を有するシリコンインゴットの製造方法、に
特徴を有するものである。
【0010】この発明で、シリコン原料を溶解する時
に、図2に示されるように、ルツボ1とチルプレート7
の間に断熱材8を挿入するのは、溶解時にルツボ1の底
から熱が逃げないようにして効率よくルツボ1内のシリ
コン原料2を溶解するためであり、この断熱材8はアル
ミナからなるフェルトなど熱伝導の悪い断熱材で作製す
ることが好ましい。
【0011】シリコン原料の溶解終了後、溶融シリコン
の入ったルツボ1はチルプレート7とともに冷却リング
10の中を降下させ、ルツボ1の底部の溶融シリコンか
ら凝固させ、一方向凝固多結晶組織を成長させシリコン
インゴットを製造する。この時使用するルツボ1は、シ
リカ(SiO2 )、窒化珪素、黒鉛などのルツボが使用
される、この発明の方法によると、ルツボ1の底部にシ
リコン種結晶4が溶融せずに残っているので、シリコン
種結晶4を根として配向性の良好な一方向凝固多結晶組
織が成長する。溶融シリコンを凝固させる際のルツボ1
が冷却リング10の中を降下する速度は、溶融シリコン
の結晶成長速度と同期する速度で降下させ、冷却リング
10により溶融シリコンを冷却させながら一方向凝固組
織を成長させることが好ましい。
【0012】
【発明の実施の形態】
実施例1 内径:150mm、厚さ:10mm、高さ:200mm
の寸法を有するシリカ製ルツボを用意し、このシリカ製
ルツボ1の底に、図1に示されるように、直径:50m
mの底部貫通穴9を設け、この底部貫通穴9に直径:5
0mmのシリコン種結晶4を貫通させ固着した。底部貫
通穴9とシリコン種結晶4との間に隙間がある場合は、
この隙間にシリコン製充填材を充填して隙間を塞ぐよう
に固着した。このルツボ1の底部に設けたシリコン種結
晶4の一端部をチルプレート7に接触させるようにして
チルプレート7上に載置し、この状態でルツボ1にシリ
コン原料2を充填し、誘導コイル3によりシリカ製ルツ
ボ1を通常より高温の1650℃に加熱し、この温度に
1時間保持することによりシリコン原料2を完全に溶解
した。次にエレベータシャフト11を降下させることに
よりシリカ製ルツボ1が冷却リング10内を通過するよ
うに降下させ、冷却リング10によりシリカ製ルツボ1
の底部の溶融シリコンから凝固させ、一方向凝固多結晶
組織を有するシリコンインゴットを作製した。得られた
シリコンインゴットを分割したところ、底部にはまだシ
リコン種結晶4が溶融せずに存在しており、このシリコ
ンインゴットの一方向凝固多結晶組織は優れた配向性を
示し、このシリコンインゴットをスライスして太陽電池
に組み込み、光電変換効率を測定し、その結果を表1に
示した。
【0013】実施例2 実施例1で用意した底部貫通穴9を有するシリカ製ルツ
ボ1および直径:50mmの底部貫通穴9を有する断熱
材8を用意し、直径:50mmのシリコン種結晶4をシ
リカ製ルツボ1の底部貫通穴9および断熱材8の底部貫
通穴9を貫通させ、シリコン種結晶4の一端部をチルプ
レート7に接触させるようにしてシリカ製ルツボ1をチ
ルプレート7上に載置した。この状態でルツボ1にシリ
コン原料2を充填し、誘導コイル3によりシリカ製ルツ
ボ1を通常より高温の1650℃に加熱し、この温度に
1時間保持することによりシリコン原料2を完全に溶解
した。次にエレベータシャフト11を降下させることに
よりシリカ製ルツボ1が冷却リング10内を通過するよ
うに降下させ、冷却リング10によりシリカ製ルツボ1
の底部の溶融シリコンから凝固させ、一方向凝固多結晶
組織を有するシリコンインゴットを作製した。得られた
シリコンインゴットを分割したところ、ルツボ1の底部
にはまだシリコン種結晶4が溶融せずに存在しており、
このシリコンインゴットの一方向凝固多結晶組織は優れ
た配向性を示し、このシリコンインゴットをスライスし
て太陽電池に組み込み、光電変換効率を測定し、その結
果を表1に示した。
【0014】従来例1 図3に示されるようにシリコン原料をシリカ製ルツボ1
の底にシリコン種結晶4を配置し、誘導コイル3により
シリカ製ルツボ1を通常より高温の1650℃に加熱
し、この温度に1時間保持することによりシリコン原料
2を完全に溶解した。ついで、得られた溶融シリコンを
冷却水6を調整してシリカ製ルツボ1の底部から凝固さ
せることにより一方向凝固多結晶組織を有するシリコン
インゴットを作製した。得られた一方向凝固多結晶組織
を有するシリコンインゴットを分割してみたが、シリコ
ン種結晶はすでに溶融し消失しており、一方向凝固多結
晶組織には一部乱れが生じて配向性が良くなかった。こ
のシリコンインゴットをスライスして作製した多結晶シ
リコン基板を太陽電池に組み込み、光電変換効率を測定
し、その結果を表1に示した。
【0015】
【表1】
【0016】
【発明の効果】表1に示される結果から、通常より高温
でシリコン原料を溶解しても、実施例1および2で得ら
れたシリコンインゴットは従来例1で得られたシリコン
インゴットに比べて一方向凝固多結晶組織の配向性が良
好であり、実施例1および2で得られたシリコンインゴ
ットで作製した多結晶シリコン基板の光電変換効率は、
従来例1で得られたシリコンインゴットで作製した多結
晶シリコン基板の光電変換効率よりも優れているところ
から、この発明はシリコン原料の溶解温度の正確な制御
を行わなくても従来よりも優れた光電変換効率の太陽電
池のシリコン基板を製造できることが分かる。
【図面の簡単な説明】
【図1】この発明の一方向凝固多結晶組織を有するシリ
コンインゴットの製造方法におけるシリコン原料の溶解
方法を示す断面概略説明図である。
【図2】この発明の一方向凝固多結晶組織を有するシリ
コンインゴットの製造方法におけるシリコン原料の溶解
方法を示す断面概略説明図である。
【図3】従来の一方向凝固多結晶組織を有するシリコン
インゴットの製造方法におけるシリコン原料の溶解方法
を示す断面概略説明図である。
【符号の説明】
1 ルツボ 2 シリコン原料 3 誘導コイル 4 シリコン種結晶 5 内側周辺部 6 冷却水 7 チルプレート 8 断熱材 9 底部貫通穴 10 冷却リング 11 エレベータシャフト

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 ルツボをチルプレート上に載置し、シリ
    コン原料を該ルツボに充填し加熱することによりシリコ
    ン原料を溶解し、ついでルツボ内の溶融シリコンをルツ
    ボの底部から上部に向かって冷却することにより一方向
    凝固多結晶組織を有するシリコンインゴットを製造する
    方法において、 前記ルツボに底部を貫通する底部貫通穴を設け、この底
    部貫通穴にシリコン種結晶を貫通させた状態で固着し、
    このシリコン種結晶の一端部をチルプレートに接触させ
    た状態でルツボにシリコン原料を充填し加熱することに
    よりシリコン原料を溶解することを特徴とする一方向凝
    固多結晶組織を有するシリコンインゴットの製造方法。
  2. 【請求項2】 ルツボをチルプレート上に載置し、シリ
    コン原料を該ルツボに充填し加熱することによりシリコ
    ン原料を溶解し、ついでルツボの溶融シリコンをルツボ
    の底部から上部に向かって冷却することにより一方向凝
    固多結晶組織を有するシリコンインゴットを製造する方
    法において、 前記ルツボの外側底部に断熱材を取り付け、ルツボの底
    部および断熱材に貫通する底部貫通穴を設け、この底部
    貫通穴にシリコン種結晶を貫通させた状態で固着し、こ
    のシリコン種結晶の一端部をチルプレートに接触させた
    状態でルツボにシリコン原料を充填し加熱することによ
    りシリコン原料を溶解することを特徴とする一方向凝固
    多結晶組織を有するシリコンインゴットの製造方法。
JP9278830A 1997-10-13 1997-10-13 一方向凝固多結晶組織を有するシリコンインゴットの製造方法 Withdrawn JPH11116386A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP9278830A JPH11116386A (ja) 1997-10-13 1997-10-13 一方向凝固多結晶組織を有するシリコンインゴットの製造方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP9278830A JPH11116386A (ja) 1997-10-13 1997-10-13 一方向凝固多結晶組織を有するシリコンインゴットの製造方法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH11116386A true JPH11116386A (ja) 1999-04-27

Family

ID=17602756

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP9278830A Withdrawn JPH11116386A (ja) 1997-10-13 1997-10-13 一方向凝固多結晶組織を有するシリコンインゴットの製造方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH11116386A (ja)

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2003073441A1 (en) * 2002-02-28 2003-09-04 Canon Kabushiki Kaisha Process of producing multicrystalline silicon substrate and solar cell
EP1867759A1 (en) * 2006-06-13 2007-12-19 Young Sang Cho Manufacturing equipment for polysilicon ingot
WO2011156976A1 (zh) * 2010-06-19 2011-12-22 常州天合光能有限公司 多晶硅的铸锭方法
CN102605418A (zh) * 2012-01-16 2012-07-25 上澎太阳能科技(嘉兴)有限公司 太阳能电池基板、太阳能电池的制造方法及其使用的坩埚
WO2013031923A1 (ja) * 2011-08-30 2013-03-07 京セラ株式会社 半導体インゴットの製造方法
CN108486651A (zh) * 2018-06-28 2018-09-04 英利能源(中国)有限公司 多晶硅锭的制备方法及多晶硅锭

Cited By (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2003073441A1 (en) * 2002-02-28 2003-09-04 Canon Kabushiki Kaisha Process of producing multicrystalline silicon substrate and solar cell
US7175706B2 (en) 2002-02-28 2007-02-13 Canon Kabushiki Kaisha Process of producing multicrystalline silicon substrate and solar cell
CN1305763C (zh) * 2002-02-28 2007-03-21 佳能株式会社 多晶硅衬底和太阳能电池的制备方法
EP1867759A1 (en) * 2006-06-13 2007-12-19 Young Sang Cho Manufacturing equipment for polysilicon ingot
US8057598B2 (en) 2006-06-13 2011-11-15 Young Sang Cho Manufacturing equipment for polysilicon ingot
WO2011156976A1 (zh) * 2010-06-19 2011-12-22 常州天合光能有限公司 多晶硅的铸锭方法
WO2013031923A1 (ja) * 2011-08-30 2013-03-07 京セラ株式会社 半導体インゴットの製造方法
JP5312713B1 (ja) * 2011-08-30 2013-10-09 京セラ株式会社 半導体インゴットの製造方法
CN102605418A (zh) * 2012-01-16 2012-07-25 上澎太阳能科技(嘉兴)有限公司 太阳能电池基板、太阳能电池的制造方法及其使用的坩埚
CN108486651A (zh) * 2018-06-28 2018-09-04 英利能源(中国)有限公司 多晶硅锭的制备方法及多晶硅锭

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4203603B2 (ja) 半導体バルク多結晶の作製方法
US7601618B2 (en) Method for producing semi-conditioning material wafers by moulding and directional crystallization
WO2006106644A1 (ja) SiドープGaAs単結晶インゴットおよびその製造方法、並びに、当該SiドープGaAs単結晶インゴットから製造されたSiドープGaAs単結晶ウェハ
KR20100024675A (ko) 잉곳 제조 장치 및 제조 방법
JPH10194718A (ja) 太陽電池用多結晶シリコン・インゴットの製造方法
JPH11236291A (ja) 一方向凝固多結晶組織を有するシリコンインゴット製造用ルツボ
JP2007019209A (ja) 太陽電池用多結晶シリコンおよびその製造方法
JP2005132671A (ja) 高品質多結晶シリコンの製造方法
JPH11116386A (ja) 一方向凝固多結晶組織を有するシリコンインゴットの製造方法
JP4060106B2 (ja) 一方向凝固シリコンインゴット及びこの製造方法並びにシリコン板及び太陽電池用基板及びスパッタリング用ターゲット素材
JPH1192284A (ja) 一方向凝固多結晶組織を有するシリコンインゴットの製造方法
JPH0971497A (ja) 多結晶半導体の製造方法
JP3935747B2 (ja) シリコンインゴットの製造方法
JP2004196577A (ja) 多結晶シリコンの製造方法
JP4292300B2 (ja) 半導体バルク結晶の作製方法
US4561930A (en) Process for the production of coarsely crystalline silicon
JP3152971B2 (ja) 高純度銅単結晶鋳塊の製造方法
JP4726454B2 (ja) 多結晶シリコンインゴットの鋳造方法、これを用いた多結晶シリコンインゴット、多結晶シリコン基板、並びに太陽電池素子
JP4675550B2 (ja) 一方向凝固シリコンインゴット及びこの製造方法並びにシリコン板及び太陽電池用基板
JP2004284892A (ja) 多結晶シリコンの製造方法
JPS5899115A (ja) 多結晶シリコンインゴツトの鋳造方法
JPH11130579A (ja) 化合物半導体単結晶の製造方法及びその製造装置
JP4549111B2 (ja) GaAs多結晶の製造炉
JPH0725533B2 (ja) シリコン多結晶インゴツトの製造方法
JP2006273669A (ja) 半導体インゴットの製造方法

Legal Events

Date Code Title Description
A300 Application deemed to be withdrawn because no request for examination was validly filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300

Effective date: 20050104