JPH11116267A - Glass having high modulus of specific elasticity - Google Patents

Glass having high modulus of specific elasticity

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JPH11116267A
JPH11116267A JP9239823A JP23982397A JPH11116267A JP H11116267 A JPH11116267 A JP H11116267A JP 9239823 A JP9239823 A JP 9239823A JP 23982397 A JP23982397 A JP 23982397A JP H11116267 A JPH11116267 A JP H11116267A
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学禄 鄒
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To obtain a glass material having high strength, high shock resistance, a high modulus of specific elasticity, high heat resistance and high surface smoothness. SOLUTION: The glass has >=36×10<6> Nm/kg modulus of specific elasticity G, <=9 Å surface roughness Ra and >700 deg.C transition temp. or >=110 GPa Young's modulus, <=9 Å surface roughness Ra and >700 deg.C transition temp. It may have a compsn. contg., by mol, 25-52% SiO2 , 5-35% Al2 O3 , 15-45% MgO, 0-17% Y2 O3 0-25% TiO2 , 0-8% ZrO2 , 1-30% CaO (5%<=Y2 O3 +TiO2 +ZrO2 + CaO<=30%) and 0-5% B2 O3 +P2 O5 as glass forming oxides. The glass is useful as glass for the substrate of a magnetic disk.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION 【発明の属する技術分野】TECHNICAL FIELD OF THE INVENTION

【0001】本発明は、磁気ディスク、光ディスク等の
情報記録媒体用基板や次世代LCDとして期待される低
温多結晶シリコン液晶表示装置用耐熱性基板、或いは電
気、電子部品用の基板等に好適に用いられるガラスに関
する。特に、高い比弾性率及び/又はヤング率と、高い
耐熱性とを有し、かつ基板とした場合に高い表面平滑性
を有する情報記録媒体用基板等に好適なガラスに関す
る。
The present invention is suitable for a substrate for an information recording medium such as a magnetic disk and an optical disk, a heat-resistant substrate for a low-temperature polycrystalline silicon liquid crystal display expected as a next-generation LCD, or a substrate for electric and electronic parts. It relates to the glass used. In particular, the present invention relates to a glass which has a high specific elastic modulus and / or a Young's modulus, a high heat resistance, and has a high surface smoothness when used as a substrate and is suitable for a substrate for an information recording medium or the like.

【0002】[0002]

【従来の技術】コンピューターなどの磁気記憶装置の主
要構成要素は、磁気記録媒体と磁気記録再生用の磁気ヘ
ッドである。磁気記録媒体としてはフレキシブルディス
クとハードディスクとが知られている。このうちハード
ディスク(磁気ディスク)用の基板材料としては、例え
ば、アルミニウム基板、ガラス基板、セラミック基板、
カーボン基板等がある。しかし、実用的には、サイズや
用途に応じて、主に、アルミニウム基板とガラス基板と
が使用されている。最近、ノートパソコン用ハードディ
スクドライブの小型化や磁気記録の高密度化にともなっ
て磁気ヘッドの浮上量が顕著に減少してきている。これ
に伴い、磁気ディスク基板の表面平滑性について、きわ
めて高い精度が要求されてきている。しかし、アルミニ
ウム合金の場合には、硬度が低いことから高精度の研磨
材及び工作機器を使用して研磨加工を行っても、この研
磨面が塑性変形するので、ある程度以上の高精度の平坦
面を製造することは困難である。たとえアルミニウム合
金の表面にニッケル−リンめっきを施しても、表面粗さ
Raを20オングストローム以下にすることはできない。
さらに、ハードディスクドライブの小型化・薄型化が進
展するのにつれて、磁気ディスク用基板の厚みを小さく
することも強く要求されている。しかし、アルミニウム
合金は、強度、剛性が低いので、ハードディスクドライ
ブの仕様から要求される所定の強度を保持しつつ、ディ
スクを薄くすることは困難である。
2. Description of the Related Art The main components of a magnetic storage device such as a computer are a magnetic recording medium and a magnetic head for magnetic recording and reproduction. Flexible disks and hard disks are known as magnetic recording media. Among these, as a substrate material for a hard disk (magnetic disk), for example, an aluminum substrate, a glass substrate, a ceramic substrate,
There is a carbon substrate and the like. However, practically, an aluminum substrate and a glass substrate are mainly used depending on the size and use. Recently, the flying height of a magnetic head has been remarkably reduced with the miniaturization of hard disk drives for notebook personal computers and the densification of magnetic recording. Accordingly, extremely high accuracy has been required for the surface smoothness of the magnetic disk substrate. However, in the case of aluminum alloy, since the hardness is low, even if polishing is performed using a high-precision abrasive and a machine tool, the polished surface is plastically deformed. Is difficult to manufacture. Even if nickel-phosphorus plating is applied to the surface of aluminum alloy, surface roughness
Ra cannot be less than 20 angstroms.
Further, as hard disk drives have become smaller and thinner, there is a strong demand for reducing the thickness of the magnetic disk substrate. However, since aluminum alloy has low strength and rigidity, it is difficult to make the disk thin while maintaining a predetermined strength required by the specifications of the hard disk drive.

【0003】そこで、高強度、高剛性、高耐衝撃性、高
表面平滑性を有する磁気ディスク用ガラス基板が登場し
きた。ガラス基板は、表面の平滑性や機械的強度が優れ
ていることから、現在及び将来的な基板としても注目を
浴びている。ガラス基板としては、例えば、基板表面を
イオン交換法で強化した化学強化ガラス基板、結晶化処
理を施した結晶化ガラス基板、及び実質的にアルカリを
含まない無アルカリガラス基板などがよく知られてい
る。例えば、化学強化ガラス基板として、特開平1−2
39036号公報(以下先行技術1という)には、重量
%でSiO2を60〜70%、Al2O3 を0.5〜14%、R2
O (ただしRはアルカリ金属)を10〜32%、ZnO を
1〜15%、B2O3を1.1〜14%含むガラスをイオン
交換することにより強化した磁気記録媒体用ガラス基板
が開示されている。
Accordingly, a glass substrate for a magnetic disk having high strength, high rigidity, high impact resistance, and high surface smoothness has appeared. Glass substrates are attracting attention as current and future substrates because of their excellent surface smoothness and mechanical strength. As the glass substrate, for example, a chemically strengthened glass substrate whose substrate surface is strengthened by an ion exchange method, a crystallized glass substrate that has been subjected to a crystallization treatment, and an alkali-free glass substrate substantially free of alkali are well known. I have. For example, a chemically strengthened glass substrate is disclosed in
The 39,036 No. (hereinafter referred to as prior art 1), a SiO 2 60 to 70% by weight, the Al 2 O 3 0.5~14%, R 2
O (wherein R is an alkali metal) from 10 to 32% of the ZnO 1~15%, B 2 O 3 glass substrate disclosed a magnetic recording medium was enhanced by ion exchange glass containing 1.1 to 14% Have been.

【0004】結晶化ガラスとして、特開平7−1877
11号公報(以下先行技術2という)に、重量%で、Si
O2を50〜65%、CaO を18〜25%、Na2Oを6〜1
1%、K2O を6〜12%、Al2O3 を0〜2.5%、Fを
5〜9%含み、主結晶としてカナサイトを含む磁気記録
媒体用ガラス基板が開示されている。さらに、米国特許
5,391,522号公報(以下先行技術3という)には、SiO2
を65〜83%、Li2Oを8〜13%、K2O を0〜7%、
MgO を0.5〜5.5%、ZnO を0〜5%、PbO を0〜
5%、(但し、MgO +ZnO +PbO を0.5〜5%)、P2
O5を1〜4%、Al2O3 を0〜7%、As2O3 +Sb2O3 を0
〜2%含み、主結晶として微細なLi2O・2SiO2 結晶粒子
を含む磁気ディスク結晶化用ガラス基板が開示されてい
る。無アルカリガラス基板として、特開平8−1697
24号公報(以下先行技術4という)に、重量%で、Si
O2+Al2O3 を35〜55%、B2O3を0〜10%、CaO +
BaO を40〜60%、ただしCaO ≧5%、ZnO +SrO +
MgO を0〜10%、TiO2を0〜5%、ZrO2を0〜5%、
As2O3 および/またはSb2O3 を0〜1%を含有する組成
の磁気ディスク用ガラス基板が開示されている。
As crystallized glass, Japanese Patent Application Laid-Open No. 7-1877
No. 11 (hereinafter referred to as prior art 2) discloses that Si
O 2 50 to 65% of CaO 18 to 25% of Na 2 O 6 to 1
1% 6-12% of K 2 O, the Al 2 O 3 0 to 2.5% include F 5 to 9% glass substrate for a magnetic recording medium comprising a canasite is disclosed as the predominant crystal . In addition, US patents
No. 5,391,522 (hereinafter referred to as Prior Art 3) discloses SiO 2
The 65 to 83%, the Li 2 O 8 to 13 percent, K 2 O 0 to 7%
0.5 to 5.5% MgO, 0 to 5% ZnO, 0 to PbO
5% (provided that 0.5 to 5% of MgO + ZnO + PbO), P 2
O 5 is 1 to 4%, Al 2 O 3 is 0 to 7%, and As 2 O 3 + Sb 2 O 3 is 0.
A glass substrate for crystallization of a magnetic disk, which contains fine Li 2 O.2SiO 2 crystal particles as a main crystal, is disclosed. As an alkali-free glass substrate, JP-A-8-1697
No. 24 (hereinafter referred to as Prior Art 4) discloses that Si
The O 2 + Al 2 O 3 35~55 %, B 2 O 3 of 0%, CaO +
BaO is 40-60%, but CaO ≧ 5%, ZnO + SrO +
The MgO 0%, the TiO 2 0 to 5%, a ZrO 2 0 to 5%,
A glass substrate for a magnetic disk having a composition containing 0 to 1% of As 2 O 3 and / or Sb 2 O 3 is disclosed.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】ところで、最近のHD
D(Hard disk driver)は、パソコンの高性能化に対応
して記録容量を高めることが要求されており、さらに、
パソコンの小型化と高性能化に対応してディスク基板の
小型化、薄型化、磁気ヘッドの低浮上化及びディスクの
回転の高速化が提言されている。将来の直径2.5 インチ
のディスク基板の厚さは、現在の0.631 mmから0.43m
m、さらには0.381mm へと薄くなることが予想されてい
る。また、最近ではサーバー用3.5インチハードディス
ク記録の高密度化、データ処理の高速化によって基板材
料の剛性度に対する要求が一層厳しくなってきており、
従来のアルミ基板の限界が見え始めている。今後、ハー
ドディスクの高容量化及び小型化はさらに進められると
予想される。そこで、磁気記録媒体用基板材料に対して
は、薄型化、高強度化、高表面平坦性、高耐衝撃性など
がさらに強く要求される。
By the way, recent HD
D (Hard disk driver) is required to increase the recording capacity in response to the high performance of personal computers.
In accordance with the miniaturization and high performance of personal computers, miniaturization and thinning of a disk substrate, low flying of a magnetic head, and high-speed rotation of a disk have been proposed. Future 2.5 inch diameter disk substrate thickness will be 0.43m from the current 0.631mm
m, and even thinner to 0.381mm. Recently, the demand for rigidity of board material has become more severe due to the higher density of 3.5 inch hard disk recording for servers and the higher speed of data processing.
The limits of conventional aluminum substrates are beginning to appear. It is expected that the capacity and size of hard disks will be further advanced in the future. Therefore, magnetic recording medium substrate materials are required to be thinner, have higher strength, have higher surface flatness, and have higher impact resistance.

【0006】ところが、ディスク基板は薄くなればなる
ほど、たわみや反りが生じやすくなる。一方、記録の高
密度化に伴って、磁気ヘッドの低浮上化及び磁気ディス
クの高速回転化が進む一方であり、上記のような基板の
たわみや反りは、磁気ディスクの破損の原因となる。と
ころが、現在、ハードディスクに使用されているガラス
からなる基板を現在より薄くした場合、上記たわみや反
りによる問題が顕在化し、薄型化に対応できない。ディ
スク基板がどの程度のたわみや反り生じるかは、基板材
料の比弾性率(=ヤング率/比重)又は、ヤング率から
評価できる。薄型化した場合でも基板のたわみや反りを
問題が生じない程度に抑えるためには、比弾性率がより
高い材料が必要となる。また、基板を高速回転した場合
に基板にたわみの問題が生じない程度に抑えるために
は、ヤング率がより高い材料が必要となる。
However, the thinner the disk substrate, the more easily it bends and warps. On the other hand, with the increase in the recording density, the flying height of the magnetic head and the rotation of the magnetic disk have been increasing, and the above-described bending or warping of the substrate causes damage to the magnetic disk. However, when a substrate made of glass used for a hard disk is made thinner than it is now, the problems due to the above-described bending and warping become apparent, and it is impossible to cope with the thinning. The degree of deflection or warpage of the disk substrate can be evaluated from the specific elastic modulus (= Young's modulus / specific gravity) or Young's modulus of the substrate material. Even if the thickness is reduced, a material having a higher specific elastic modulus is required to suppress the deflection and warpage of the substrate to such an extent that no problem occurs. In addition, a material having a higher Young's modulus is required in order to suppress the problem of bending of the substrate when the substrate is rotated at high speed.

【0007】このことは、次のような事実に基づき説明
することができる。即ち最近、HDDの小型化、高容量
化、高速化に伴って、将来の磁気記録媒体用基板の厚み
は、現在3.5インチの0.8mmから0.635mmへと、2.5インチ
の0.635mmから0.43mmさらに0.38mmへと薄くなると予測
さている。また、基板の回転速度も現在の最高速度の72
00rpmから10000rpmさらに14000rpmへと高速回転化する
と予測されている。このような磁気記録媒体用基板は薄
くなればなるほど、基板のたわみやうねりや反りが生じ
しやくなり、また高速回転すればするほど基板の受ける
応力(回転によって生じる風圧に基づくディスクに働く
力)が大きくなることが予想できる。力学の理論に基づ
けば、単位面積当たりPの荷重を受けている円板のたわ
みWは以下の式で表される。
[0007] This can be explained based on the following facts. That is, with the recent miniaturization, high capacity, and high speed of HDDs, the thickness of future magnetic recording medium substrates is currently increasing from 0.8 mm at 3.5 inches to 0.635 mm, and from 0.635 mm at 2.5 inches to 0.43 mm. It is predicted to be as thin as 0.38mm. In addition, the rotation speed of the substrate is
It is predicted that the rotation speed will increase from 00 rpm to 10,000 rpm and further to 14000 rpm. The thinner the substrate for such a magnetic recording medium, the more easily the substrate bends, swells and warps, and the higher the speed of the rotation, the higher the stress applied to the substrate (the force acting on the disk based on the wind pressure generated by the rotation). Can be expected to increase. Based on the theory of mechanics, the deflection W of a disc receiving a load of P per unit area is expressed by the following equation.

【0008】[0008]

【式1】 但し、aは円板の外円径、hは基板の厚み、Eは円板材
料のヤング率である。静止状態においては、円板に加わ
る力は重力のみであり、たわみWは、円板材料の比重を
dとすると、以下の式で表される。
(Equation 1) Here, a is the outer diameter of the disk, h is the thickness of the substrate, and E is the Young's modulus of the disk material. In the stationary state, the force applied to the disk is only gravity, and the deflection W is expressed by the following equation, where d is the specific gravity of the disk material.

【0009】[0009]

【式2】 ここでGは円板材料の比弾性率(=ヤング率/比重)で
ある。一方、円板の回転状態においては、重力成分は遠
心力成分をバランスして無視できると考えた場合、円板
に加わる力は回転に基づく風圧としてよい。風圧は円板
回転速度の関数であり、一般的にその2乗に比例すると
言われている。従って、円板が高速回転するときのたわ
みWは、以下の式で表される。
(Equation 2) Here, G is the specific elastic modulus (= Young's modulus / specific gravity) of the disc material. On the other hand, in the rotating state of the disk, when it is considered that the gravitational component balances the centrifugal force component and can be ignored, the force applied to the disk may be a wind pressure based on the rotation. Wind pressure is a function of the disk rotation speed and is generally said to be proportional to its square. Therefore, the deflection W when the disk rotates at high speed is expressed by the following equation.

【0010】[0010]

【式3】 従って、高速回転化基板のたわみを押さえるためにはヤ
ング率Eの高い基板材料が必要となる。本発明者らの計
算によると2.5インチ基板の厚みを0.635mmから0.43mm
に、3.5インチ基板の厚みを0.8mmから0.635mmに薄くす
ると、従来の材料より比弾性率が大きい基板材料が必要
とされる。また、3.5インチハイエンド基板の回転速度
を現在の7200rpmから将来の10000rpmに高速化すれば、7
0Gpa程度のヤング率をもつアルミ基板で対応できなくな
り、より高いヤング率を有する新しい基板材料が必要と
なる。基板材料の比弾性率またはヤング率が高ければ高
いほど基板の剛性度が高くなるだけでなく、基板の耐衝
撃性も強度もともに大きくなるので、高い比弾性率及び
大きなヤング率を持つガラス材料がHDDの市場から強
く要求されている。
(Equation 3) Therefore, a substrate material having a high Young's modulus E is required to suppress the deflection of the high-speed rotating substrate. According to the calculations of the present inventors, the thickness of the 2.5-inch substrate is changed from 0.635 mm to 0.43 mm.
In addition, when the thickness of the 3.5-inch substrate is reduced from 0.8 mm to 0.635 mm, a substrate material having a higher specific elastic modulus than conventional materials is required. Also, if the rotation speed of the 3.5-inch high-end board is increased from the current 7200 rpm to 10,000 rpm in the future,
An aluminum substrate having a Young's modulus of about 0 Gpa cannot be used, and a new substrate material having a higher Young's modulus is required. The higher the specific elastic modulus or Young's modulus of the substrate material, the higher the rigidity of the substrate as well as the greater the impact resistance and strength of the substrate. Are strongly demanded from the HDD market.

【0011】また、高記録密度化のため、比弾性率やヤ
ング率以外にも磁気記録媒体用ガラス基板に要求される
物性がある。1つは高い耐熱性であり、1つは高い表面
平滑性である。磁気記録媒体の記録密度を高めるため
に、磁性層(磁気記録層)の保磁力等の磁気特性を高め
る必要がある。磁性層の保磁力は、使用する磁性材料に
よっても変化するが、同一の材料であっても、熱処理を
することでも高めることができる。そのため、新たな磁
性材料の開発とは別に、現有の材料を用いてより高い保
磁力を得る目的で、基板上に形成した磁性層をより高い
温度で熱処理することが望まれる。また、磁気ヘッドを
低浮上化させることにより高記録密度化が可能である。
そのため、今後、磁気ヘッドの低浮上化がさらに進めら
れる。磁気ヘッドの低浮上化を可能にするためには、デ
ィスク表面の平滑性が高いことが必要となるが、そのた
めには、基板の表面平滑性が必要である。
In addition to the specific elastic modulus and Young's modulus, there are other physical properties required for a glass substrate for a magnetic recording medium in order to increase the recording density. One is high heat resistance and one is high surface smoothness. In order to increase the recording density of a magnetic recording medium, it is necessary to enhance magnetic properties such as the coercive force of a magnetic layer (magnetic recording layer). The coercive force of the magnetic layer varies depending on the magnetic material used, but the same material can be increased by heat treatment. Therefore, apart from the development of a new magnetic material, it is desired to heat-treat the magnetic layer formed on the substrate at a higher temperature in order to obtain a higher coercive force using an existing material. In addition, high recording density can be achieved by lowering the flying height of the magnetic head.
Therefore, the flying height of the magnetic head will be further reduced in the future. In order to enable the magnetic head to have a low flying height, it is necessary that the surface of the disk has high smoothness. For that purpose, the surface of the substrate needs to have smoothness.

【0012】しかしながら、先行技術1に開示されてい
る化学強化ガラスは、ガラス転移点が500℃前後であ
る。それに対して、磁性層の保磁力等の磁気特性の向上
のためには、500℃より、さらに高い温度での熱処理
が有効である。従って、先行技術1に記載の化学強化ガ
ラスではガラス自体の耐熱性が不十分である。また、化
学強化ガラスは、一般にガラスの表面にアルカリ金属イ
オンのイオン交換層を設けたものである。ところが、化
学強化ガラスの表面に磁性層を形成し、熱処理を施す
と、イオン交換層中のイオンが磁性層に移動して悪い影
響を与えるという問題もある。アルカリ金属イオンの磁
性層への移動は温度が高くなる程活発になる。このよう
なアルカリ金属イオンの移動を抑制するためには、さら
に低い温度での熱処理が好ましい。化学強化ガラス基板
を用いて、高い温度での熱処理による磁気特性の向上は
難しく、高保磁力を有する磁気記録媒体を得ることが困
難である。上記化学強化ガラスは、比弾性率が約30×10
6Nm/kg程度であり、ヤング率は約80GPa程度で、剛
性度も低いので、3.5インチのハイエンドディスク基板
や薄型化ディスク基板に対応できないという欠点があ
る。また、化学強化ガラス基板は、表裏両面に応力層が
形成されているが、この応力層が均一かつ同等の応力を
与えられていないと反りを生じ、磁気ヘッドの低浮上化
と高速回転化に対応することは難しい。
However, the chemically strengthened glass disclosed in Prior Art 1 has a glass transition point of about 500 ° C. On the other hand, in order to improve the magnetic properties such as the coercive force of the magnetic layer, heat treatment at a temperature higher than 500 ° C. is effective. Therefore, the chemically strengthened glass described in the prior art 1 has insufficient heat resistance of the glass itself. Further, the chemically strengthened glass generally has a glass surface provided with an ion exchange layer of alkali metal ions. However, when a magnetic layer is formed on the surface of chemically strengthened glass and subjected to a heat treatment, there is a problem that ions in the ion exchange layer move to the magnetic layer and exert a bad influence. The movement of alkali metal ions to the magnetic layer becomes more active as the temperature increases. In order to suppress such movement of alkali metal ions, heat treatment at a lower temperature is preferable. It is difficult to improve magnetic properties by heat treatment at a high temperature using a chemically strengthened glass substrate, and it is difficult to obtain a magnetic recording medium having a high coercive force. The above chemically strengthened glass has a specific elastic modulus of about 30 × 10
Since it is about 6 Nm / kg, the Young's modulus is about 80 GPa, and the rigidity is low, it has a drawback that it cannot be used for a 3.5-inch high-end disk substrate or a thin disk substrate. In addition, the chemically strengthened glass substrate has a stress layer formed on both the front and back surfaces, but if this stress layer is not given uniform and equal stress, warpage will occur, resulting in low flying height and high speed rotation of the magnetic head. It is difficult to respond.

【0013】先行技術2や3に開示されているような従
来の結晶化ガラスは、転移を起こさないために耐熱性は
優れている。しかし、磁気記録媒体用ガラス基板は、高
記録密度になればそれだけ、表面の平滑性が要求され
る。これは、磁気記録媒体の高密度記録化のために磁気
ヘッドの低浮上化が必要だからである。しかるに、結晶
化ガラスは、多数の微細粒子を含有することから、表面
粗さ(Ra)を10オングストローム以下の基板を得るこ
とは困難である。その結果、表面の平坦性が乏しく、磁
気ディスクの表面形状が悪化する。また、磁気ヘッドの
磁気ディスクへの吸着を防止する目的で、例えば基板上
に形成する凹凸制御層を形成等を行う。しかし、結晶化
ガラスを用いた基板では、凹凸制御層の表面モホロジー
の制御が困難であるという問題もある。
The conventional crystallized glass disclosed in prior arts 2 and 3 is excellent in heat resistance because it does not cause a transition. However, glass substrates for magnetic recording media are required to have higher surface smoothness as the recording density becomes higher. This is because it is necessary to reduce the flying height of the magnetic head in order to increase the recording density of the magnetic recording medium. However, since crystallized glass contains many fine particles, it is difficult to obtain a substrate having a surface roughness (Ra) of 10 Å or less. As a result, the flatness of the surface is poor, and the surface shape of the magnetic disk deteriorates. For the purpose of preventing the magnetic head from being attracted to the magnetic disk, for example, an unevenness control layer formed on a substrate is formed. However, a substrate using crystallized glass has a problem that it is difficult to control the surface morphology of the unevenness control layer.

【0014】先行技術4に記載の無アルカリガラスは、
最高で730℃と高い転移温度を有するものである。し
かし、ガラスの比弾性率は27〜34×106Nm/kg程度であ
り、ヤング率も70〜90GPa程度であるので、磁気
ディスク基板の薄型化にとても対応できない。
The alkali-free glass described in Prior Art 4 is
It has a high transition temperature of at most 730 ° C. However, the specific elastic modulus of glass is about 27 to 34 × 10 6 Nm / kg, and the Young's modulus is about 70 to 90 GPa.

【0015】尚、耐熱性が優れた基板としては、例えば
特開平3―273525号公報(以下先行技術5とい
う)に開示されているような磁気記録媒体用のカーボン
基板がある。しかしカーボン基板は、比弾性率が15〜19
×106Nm/kg程度と低く、ガラスよりも機械的強度が劣
り、磁気ディスクの小型化が進むにあたり要求されてい
る基板の薄板化に対応することが困難である。また、カ
ーボン基板は表面欠陥が多く、高記録密度化が困難であ
る。
As a substrate having excellent heat resistance, there is, for example, a carbon substrate for a magnetic recording medium as disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 3-273525 (hereinafter referred to as Prior Art 5). However, the carbon substrate has a specific elastic modulus of 15-19.
As low as about × 10 6 Nm / kg, the mechanical strength is inferior to that of glass, and it is difficult to cope with the demand for thinner substrates required for the downsizing of magnetic disks. Further, the carbon substrate has many surface defects, and it is difficult to increase the recording density.

【0016】このように、現在のところ、高い比弾性率
又はヤング率を持ち、高い耐熱性及び優れた表面平滑性
(表面粗さ<5オングストローム)を有し、かつ安価に
大量製造できる酸化物ガラスは市場ではまだ見当たらな
い。これまで市販の高ヤング率酸化物ガラスとしてよく
知られているSiO2-Al2O3-MgO系ガラスでもヤング率は、
せいぜい80−90Gpa程度である。従って、本発明
者らは36×106Nm/kg以上の比弾性率Gを有し、または11
0Gpa以上のヤング率をもつガラス材料の提供を目的と
し、本発明者ら自ら提案した理論計算に基づいて新規ガ
ラス組成の設計を行い、種々の試験研究を重ねた。その
結果、Al2O3、Y2O3、MgO、TiO2、希土類金属酸化物など
のガラスのヤング率の向上に大きく寄与する成分を多量
に導入することによって今までにない高いヤング率をも
ち、優れた表面平滑性、高い耐熱性を有し、かつ安価に
大量生産できるガラスを見い出して本発明を完成した。
As described above, at present, an oxide having a high specific elastic modulus or a Young's modulus, high heat resistance, excellent surface smoothness (surface roughness <5 angstroms), and which can be mass-produced at low cost. Glass is not yet found on the market. The Young's modulus of SiO 2 -Al 2 O 3 -MgO based glass, which is well known as a commercially available high Young's modulus oxide glass,
At most, it is about 80-90 Gpa. Therefore, we have a specific elastic modulus G of 36 × 10 6 Nm / kg or more, or 11
With the aim of providing a glass material having a Young's modulus of 0 Gpa or more, a novel glass composition was designed based on theoretical calculations proposed by the present inventors and various tests and studies were repeated. As a result, by introducing a large amount of components such as Al 2 O 3 , Y 2 O 3 , MgO, TiO 2 , and rare earth metal oxides that greatly contribute to the improvement of the Young's modulus of glass, an unprecedented high Young's modulus can be achieved. The present invention was completed by finding a glass which has excellent surface smoothness, high heat resistance and can be mass-produced at low cost.

【0017】即ち、本発明は、将来の情報記録媒体用基
板の小型化、薄型化、高記録密度化に伴って必要となる
高強度及び高耐衝撃性、高比弾性率、高耐熱性、高表面
平滑性を満たす新たなガラス材料を提供することを目的
とする。より具体的には、本発明の目的は、比弾性率が
36×106Nm/kg以上であり、ガラス転移温度が700 ℃以上
であり、かつ微結晶粒子を含まず高い表面平滑性(表面
粗さRaが9オングストローム以下)を示すガラス基板を
提供することにある。さらに本発明の目的は、ヤング率
が110GPa以上であり、かつ微結晶粒子を含まず高
い表面平滑性(表面粗さRaが9オングストローム以下)
を示すガラス基板を提供することにある。
That is, the present invention provides a high strength and high impact resistance, a high specific elastic modulus, a high heat resistance, which are required in accordance with the future miniaturization, thinning, and high recording density of information recording medium substrates. An object is to provide a new glass material that satisfies high surface smoothness. More specifically, the purpose of the present invention is to
To provide a glass substrate which has a glass transition temperature of not less than 36 × 10 6 Nm / kg, a glass transition temperature of not less than 700 ° C., and a high surface smoothness (surface roughness Ra of not more than 9 angstroms) without containing microcrystalline particles. It is in. Furthermore, an object of the present invention is to have a Young's modulus of 110 GPa or more and high surface smoothness without containing fine crystal grains (surface roughness Ra is 9 Å or less).
The object of the present invention is to provide a glass substrate showing the following.

【0018】[0018]

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に本発明は、以下のとおりである。 〔請求項1〕 比弾性率Gが36×106Nm/kg以上であるこ
とを特徴とする基板用ガラス。 〔請求項2〕 表面粗さ(Ra)を9オングストローム以下
とすることができる請求項1に記載のガラス。 〔請求項3〕 転移点温度が700℃より高い請求項1
又は2に記載のガラス。 〔請求項4〕 ガラスを構成する酸化物として、モル%
で表示して、SiO2: 25-52%、Al2O3: 5-35%、MgO: 15-
45%、Y2O3: 0-17%、TiO2: 0-25%、ZrO2: 0-8%、Ca
O: 1-30 %、但し、Y2O3+TiO2+ZrO2+CaO: 5-30%、B2O3
+P2O5: 0-5 %である組成を有し、かつ比弾性率が36×1
06Nm/kg以上であることを特徴とするガラス。 [請求項5] As2O3+Sb2O3: 0-3%、及びZnO+SrO+NiO+C
oO+FeO+CuO+Fe2O3+ Cr2O3+B2O3+P2O5+V2O5: 0-5 %をさ
らに含有する請求項4に記載のガラス。 [請求項6] ガラスを構成する酸化物として、モル%
で表示して、SiO2: 25-50%、Al2O3: 10-37%、MgO: 5-
40 %、TiO2: 1-25%である組成を有し、比弾性率が36
×106Nm/kg以上であることを特徴とするガラス。 [請求項7] Y2O3: 0-17%、ZrO2: 0-8 %、CaO: 0-25
%、As2O3+Sb2O3: 0-3%、及びZnO+SrO+NiO+CoO+FeO+C
uO+ Fe2O3+Cr2O3+B2O3+P2O5+V2O5: 0-5 %をさらに含む
請求項6に記載のガラス。 [請求項8] ガラスを構成する酸化物として、モル%
で表示して、SiO2: 25-50%、Al2O3: 20-40%、CaO: 8-
30 %、Y2O3: 2-15%である組成を有し、比弾性率が36
×106Nm/kg以上であることを特徴とするガラス。 [請求項9] MgO: 0-20 %、TiO2: 0-25%、Li2O: 0-1
2%、As2O3+Sb2O3: 0-3%、及びZnO+SrO+NiO+CoO+FeO+C
uO+ Fe2O3+Cr2O3+B2O3+P2O5+V2O5: 0-5 %をさらに含む
請求項8に記載のガラス。 [請求項10] ヤング率が110GPa以上である請
求項1〜9のいずれか1項に記載のガラス。 [請求項11] ヤング率が110GPa以上であるこ
とを特徴とする基板用ガラス。 [請求項12] 表面粗さ(Ra)を9Å以下とすることが
できる請求項11に記載のガラス。 [請求項13] 転移点温度が700℃より高い請求項
11又は12に記載のガラス。 [請求項14]ガラスを構成する酸化物としてモル%表
示で、SiO2:30−60%、Al2O3:0−35%、MgO:0
−40%、Li2O:0−20%、Y2O3:0−27%、La
2O3:0−27%、CeO2:0−27%、Pr2O3:0−27
%、Nd2O3:0−27%、Sm2O3:0−27%、Eu2O3:0−
27%、Gd2O3:0−27%、Tb2O3:0−27%、Dy
2O3:0−27%、Ho2O3:0−27%、Er2O3:0−27
%、Tm2O3:0−27%、Yb2O3:0−27%、但し、Y2O3
+La2O3+ CeO2+Pr2O3+Nd2O3+Sm2O3+Eu2O3+Gd2O3+Tb2O3+D
y2O3+Ho2O3+Er2O3+Tm2O3+Yb2O3:1−27%、Li2O+MgO
+Y2O3+La2O3+ CeO2+Pr2O3+Nd2O3+Sm2O3+Eu2O3+Gd2O3+Tb
2O3+Dy2O3+Ho2O3+Er2O3+Tm2O3+Yb2O3>25%である組
成を有し、かつヤング率が110GPa以上であること
を特徴とするガラス。 [請求項15]TiO2:0−20%、 ZrO2:0−8%、但
し、TiO2+ZrO2:0−20%、CaO :0−15%、ZnO:0
−15%、NiO: 0−15%、Fe2O3:0−15%、但し、C
aO+ZnO+NiO+Fe2O3:0−15%、をさらに含む請求項1
4に記載のガラス。 [請求項16] As2O3+Sb2O3:0−2%、B2O3+P2O5+N
b2O5+V2O5+Cr2O3+Ga2O3+CoO+SrO+BaO+SrO+FeO+CuO+
MnO+Na2O+K2O:0−8%をさらに含む請求項14または1
5に記載のガラス。 [請求項17] 比弾性率Gが36×106Nm/kg以上である
請求項14〜16のいずれか1項に記載のガラス。 [請求項18] Ti、V、Cr、Mn、Fe、Co、Ni、Cu、Zn、
Ga、Ge、Y、Zr、Nb、Mo、La、Ce、Pr、Nd、Pm、Sm、E
u、Gd、Tb、Dy、Ho、Er、Tm、Yb、Hf、Ta及びWからなる
群から選ばれる1種又は2種以上の金属の酸化物を3〜
30モル%含むことを特徴とする情報記録媒体用ガラ
ス。 [請求項19] ヤング率が90GPa以上である請求
項18記載のガラス。 [請求項20] 磁気ディスクの基板用ガラスである請
求項1〜19のいずれか1項に記載のガラス。 [請求項21] 請求項20に記載のガラスからなる基
板上に、少なくとも磁性層を有することを特徴とする磁
気ディスク。
Means for Solving the Problems To achieve the above object, the present invention is as follows. [Claim 1] A glass for a substrate, wherein the specific elastic modulus G is 36 × 10 6 Nm / kg or more. [Claim 2] The glass according to claim 1, wherein the surface roughness (Ra) can be 9 angstrom or less. [Claim 3] The transition point temperature is higher than 700 ° C.
Or the glass according to 2. [Claim 4] As an oxide constituting glass, mol%
Expressed as: SiO 2 : 25-52%, Al 2 O 3 : 5-35%, MgO: 15-
45%, Y 2 O 3: 0-17%, TiO 2: 0-25%, ZrO 2: 0-8%, Ca
O: 1-30%, provided that Y 2 O 3 + TiO 2 + ZrO 2 + CaO: 5-30%, B 2 O 3
+ P 2 O 5 : having a composition of 0-5% and a specific elastic modulus of 36 × 1
A glass characterized by being at least 6 Nm / kg. [Claim 5] As 2 O 3 + Sb 2 O 3 : 0-3%, and ZnO + SrO + NiO + C
oO + FeO + CuO + Fe 2 O 3 + Cr 2 O 3 + B 2 O 3 + P 2 O 5 + V 2 O 5: glass according to claim 4, further containing 0-5%. [Claim 6] As an oxide constituting glass, mol%
Expressed as: SiO 2 : 25-50%, Al 2 O 3 : 10-37%, MgO: 5-
It has a composition of 40%, TiO 2 : 1-25% and a specific elastic modulus of 36
× 10 6 Nm / kg or more. [Claim 7] Y 2 O 3: 0-17 %, ZrO 2: 0-8%, CaO: 0-25
%, As 2 O 3 + Sb 2 O 3 : 0-3%, and ZnO + SrO + NiO + CoO + FeO + C
uO + Fe 2 O 3 + Cr 2 O 3 + B 2 O 3 + P 2 O 5 + V 2 O 5: glass according to claim 6, further comprising 0-5%. [Claim 8] As an oxide constituting glass, mol%
Expressed as: SiO 2 : 25-50%, Al 2 O 3 : 20-40%, CaO: 8-
It has a composition of 30%, Y 2 O 3 : 2-15%, and a specific elastic modulus of 36%.
× 10 6 Nm / kg or more. [Claim 9] MgO: 0-20%, TiO 2: 0-25%, Li 2 O: 0-1
2%, As 2 O 3 + Sb 2 O 3 : 0-3%, and ZnO + SrO + NiO + CoO + FeO + C
uO + Fe 2 O 3 + Cr 2 O 3 + B 2 O 3 + P 2 O 5 + V 2 O 5: glass according to claim 8, further comprising 0-5%. [Claim 10] The glass according to any one of claims 1 to 9, having a Young's modulus of 110 GPa or more. [Claim 11] A glass for a substrate having a Young's modulus of 110 GPa or more. [Claim 12] The glass according to claim 11, which can have a surface roughness (Ra) of 9 ° or less. [Claim 13] The glass according to claim 11 or 12, having a transition point temperature higher than 700 ° C. By mol% as oxides constituting the claim 14 of glass, SiO 2: 30-60%, Al 2 O 3: 0-35%, MgO: 0
-40%, Li 2 O: 0-20 %, Y 2 O 3: 0-27%, La
2 O 3 : 0-27%, CeO 2 : 0-27%, Pr 2 O 3 : 0-27
%, Nd 2 O 3: 0-27 %, Sm 2 O 3: 0-27%, Eu 2 O 3: 0-
27%, Gd 2 O 3: 0-27%, Tb 2 O 3: 0-27%, Dy
2 O 3 : 0-27%, Ho 2 O 3 : 0-27%, Er 2 O 3 : 0-27
%, Tm 2 O 3: 0-27 %, Yb 2 O 3: 0-27%, however, Y 2 O 3
+ La 2 O 3 + CeO 2 + Pr 2 O 3 + Nd 2 O 3 + Sm 2 O 3 + Eu 2 O 3 + Gd 2 O 3 + Tb 2 O 3 + D
y 2 O 3 + Ho 2 O 3 + Er 2 O 3 + Tm 2 O 3 + Yb 2 O 3: 1-27%, Li 2 O + MgO
+ Y 2 O 3 + La 2 O 3 + CeO 2 + Pr 2 O 3 + Nd 2 O 3 + Sm 2 O 3 + Eu 2 O 3 + Gd 2 O 3 + Tb
2 O 3 + Dy 2 O 3 + Ho 2 O 3 + Er 2 O 3 + Tm 2 O 3 + Yb 2 O 3 > 25% and Young's modulus is 110 GPa or more Glass to do. [Claim 15] TiO 2: 0-20%, ZrO 2: 0-8%, provided that, TiO 2 + ZrO 2: 0-20 %, CaO: 0-15%, ZnO: 0
-15%, NiO: 0-15%, Fe 2 O 3: 0-15%, however, C
aO + ZnO + NiO + Fe 2 O 3: 0-15%, further including the claims 1
The glass according to 4. [Claim 16] As 2 O 3 + Sb 2 O 3: 0-2%, B 2 O 3 + P 2 O 5 + N
b 2 O 5 + V 2 O 5 + Cr 2 O 3 + Ga 2 O 3 + CoO + SrO + BaO + SrO + FeO + CuO +
MnO + Na 2 O + K 2 O: 0-8% further including the claims 14 or 1
The glass according to 5. [17] The glass according to any one of [14] to [16], wherein the specific elastic modulus G is 36 × 10 6 Nm / kg or more. [Claim 18] Ti, V, Cr, Mn, Fe, Co, Ni, Cu, Zn,
Ga, Ge, Y, Zr, Nb, Mo, La, Ce, Pr, Nd, Pm, Sm, E
u, Gd, Tb, Dy, Ho, Er, Tm, Yb, Hf, Ta and W are oxides of one or more metals selected from the group consisting of 3 to
A glass for an information recording medium, comprising 30 mol%. [Claim 19] The glass according to claim 18, having a Young's modulus of 90 GPa or more. [Claim 20] The glass according to any one of claims 1 to 19, which is a glass for a substrate of a magnetic disk. [Claim 21] A magnetic disk comprising at least a magnetic layer on the substrate made of glass according to claim 20.

【0019】[0019]

【発明の実施の態様】以下、本発明をさらに詳細に説明
する。本発明において、ガラスとは、実質的に結晶粒子
を含まないガラスであり、結晶粒子を少なくとも20%以
上含む結晶化ガラスやガラスセラミックスと呼ばれるも
のは含まない。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Hereinafter, the present invention will be described in more detail. In the present invention, glass is glass substantially containing no crystal particles, and does not include crystallized glass containing at least 20% or more of crystal particles and what is called glass ceramics.

【0020】請求項1〜3に記載のガラス 本発明の請求項1に記載のガラスは、比弾性率Gが36×
106Nm/kg以上であることを特徴とする基板用ガラスであ
る。比弾性率Gが36×106Nm/kg未満では基板とした場合
にたわみが大きくなり、例えば、次世代の磁気記録媒体
ディスクに要求される厚さ0.43mm又はそれ以下の基板と
したときに、最大たわみが1.4 μm より大きくなる。そ
の結果、ヘッドの浮上安定性が得られず、記録再生を安
定して行うことができないという問題を生じる。さら
に、最大たわみが1.25μm 以下の基板を得るため、比弾
性率Gが37×106Nm/kg以上のガラスが好ましい。また、
薄型化が進み、厚さが0.381mm 又はそれ以下の基板とし
た場合でも、最大たわみを1.4 μm 以下に抑えられる基
板が得られるという観点から、比弾性率が42×106Nm/kg
以上であるガラスがさらに好ましい。尚、比弾性率は高
ければ高い程好ましいが、実用的には、約45×106Nm/kg
以下である。
The glass according to the first to third aspects of the present invention has a specific elastic modulus G of 36 ×.
It is a glass for substrates characterized by having a density of 10 6 Nm / kg or more. When the specific elastic modulus G is less than 36 × 10 6 Nm / kg, the deflection becomes large when the substrate is used. For example, when the substrate is 0.43 mm or less in thickness required for a next-generation magnetic recording medium disk, , The maximum deflection is greater than 1.4 μm. As a result, there is a problem that the flying stability of the head cannot be obtained, and recording and reproduction cannot be performed stably. Further, in order to obtain a substrate having a maximum deflection of 1.25 μm or less, glass having a specific elastic modulus G of 37 × 10 6 Nm / kg or more is preferable. Also,
The specific elastic modulus is 42 × 10 6 Nm / kg from the viewpoint that a substrate with a maximum deflection of 1.4 μm or less can be obtained even when the thickness is reduced and the substrate is 0.381 mm or less in thickness.
The above glass is more preferable. Incidentally, the higher the specific elastic modulus, the better, but practically, about 45 × 10 6 Nm / kg
It is as follows.

【0021】請求項2に記載のガラスは、比弾性率Gが
36×106Nm/kg以上であることに加えて、表面粗さ(Ra)を
9オングストローム以下とすることができるガラスであ
る。より高い表面平滑性により、磁気ディスクの高密度
化のためのヘッドの低浮上化が可能となり、表面粗さ(R
a)を9オングストローム以下とすることで、従来のもの
より低浮上化が可能となる。磁気ディスクをさらに高密
度化するには、表面粗さ(Ra)を6オングストローム以下
とすることができるガラスであることが好ましい。請求
項3のガラスは、比弾性率Gが36×106Nm/kg以上である
こと、及び/又は表面粗さ(Ra)を9オングストローム以
下とすることに加えて、転移点温度が700℃より高い
ガラスである。転移点温度が700℃より高いことで、
たわみの低減化に加えて、従来の基板より高い耐熱性を
有する基板を提供することができ、保磁力等の磁気特性
が向上した磁気ディスクを提供することができる。
The glass according to claim 2 has a specific elastic modulus G.
In addition to being 36 × 10 6 Nm / kg or more, the glass can have a surface roughness (Ra) of 9 Å or less. Higher surface smoothness enables lower flying height of the head for higher density of the magnetic disk, and the surface roughness (R
By setting a) to 9 angstroms or less, it is possible to achieve a lower flying height than the conventional one. In order to further increase the density of the magnetic disk, it is preferable that the glass is made of glass that can have a surface roughness (Ra) of 6 Å or less. The glass according to claim 3 has a specific elastic modulus G of 36 × 10 6 Nm / kg or more and / or a surface roughness (Ra) of 9 Å or less, and a transition point temperature of 700 ° C. Higher glass. With a transition point temperature higher than 700 ° C,
In addition to the reduction in deflection, a substrate having higher heat resistance than a conventional substrate can be provided, and a magnetic disk with improved magnetic properties such as coercive force can be provided.

【0022】請求項1〜3に記載の特性を有するガラス
の具体例として、請求項4〜9に記載のガラスを挙げる
ことができる。これらのガラスは、請求項1〜3に記載
の特性を満足すべく、イオン半径が小さく、化学結合力
が強く、かつガラス構造における充填密度が高い陽イオ
ンからなる酸化物ガラスを用いた構成となっている。
Specific examples of the glass having the characteristics described in claims 1 to 3 include the glasses described in claims 4 to 9. These glasses have a configuration using an oxide glass made of a cation having a small ionic radius, a strong chemical bonding force, and a high packing density in the glass structure, in order to satisfy the characteristics described in claims 1 to 3. Has become.

【0023】請求項4及び5に記載のガラス 請求項4に記載のガラス組成は、主に比弾性率を大きく
するために構成された組成であり、比弾性率Gが36×10
6Nm/kg以上である。比弾性率Gが36×106Nm/kg以上であ
ることで、たわみの小さい基板を得ることができる。例
えば、次世代の磁気記録媒体ディスクに要求される厚さ
0.43mm又はそれ以下の基板としたときにでも、最大たわ
みが1.4 μm より小さい基板を得ることができる。その
結果、ヘッドの浮上安定性に優れ、記録再生を安定して
行うことができる。さらに、最大たわみが1.25μm 以下
の基板を得るため、比弾性率Gが37×106Nm/kg以上であ
ることが好ましい。また、薄型化が進み、厚さが0.381m
m 又はそれ以下の基板とした場合でも、最大たわみを1.
4 μm 以下に抑えられる基板が得られるという観点か
ら、比弾性率が42×106Nm/kg以上であるガラスがさらに
好ましい。尚、比弾性率は高ければ高い程好ましいが、
実用的には、約45×106Nm/kg以下である。
Glass according to claims 4 and 5 The glass composition according to claim 4 is a composition mainly designed to increase the specific elastic modulus, and the specific elastic modulus G is 36 × 10
6 Nm / kg or more. When the specific elastic modulus G is 36 × 10 6 Nm / kg or more, a substrate with small deflection can be obtained. For example, the thickness required for next-generation magnetic recording media disks
Even with a substrate of 0.43 mm or less, a substrate with a maximum deflection of less than 1.4 μm can be obtained. As a result, the flying stability of the head is excellent, and recording and reproduction can be performed stably. Further, in order to obtain a substrate having a maximum deflection of 1.25 μm or less, the specific elastic modulus G is preferably 37 × 10 6 Nm / kg or more. In addition, the thickness has been reduced and the thickness is 0.381m
The maximum deflection is 1.
Glass having a specific elastic modulus of 42 × 10 6 Nm / kg or more is more preferable, from the viewpoint that a substrate suppressed to 4 μm or less can be obtained. Incidentally, the higher the specific elastic modulus is, the more preferable,
Practically, it is about 45 × 10 6 Nm / kg or less.

【0024】さらに、請求項4及び5に記載のガラス
は、表面粗さ(Ra)を9オングストローム以下とすること
ができる。より高い表面平滑性により、磁気ディスクの
高密度化のためのヘッドの低浮上化が可能となり、表面
粗さ(Ra)を9オングストローム以下とすることで、従来
のものより低浮上化が可能となる。磁気ディスクをさら
に高密度化するには、表面粗さ(Ra)を6オングストロー
ム以下とすることが好ましい。また、請求項4及び5の
ガラスは、転移点温度が700℃より高いガラスであ
る。転移点温度が700℃より高いことで、たわみの低
減化に加えて、従来の基板より高い耐熱性を有する基板
を提供することができ、保磁力等の磁気特性が向上した
磁気ディスクを提供することができる。
Further, the glass according to the fourth and fifth aspects can have a surface roughness (Ra) of 9 angstrom or less. Higher surface smoothness allows lower flying height of the head for higher density magnetic disks, and lowering the surface roughness (Ra) to less than 9 angstroms enables lower flying height than conventional ones. Become. In order to further increase the density of the magnetic disk, the surface roughness (Ra) is preferably set to 6 Å or less. Further, the glass according to claims 4 and 5 is a glass having a transition point temperature higher than 700 ° C. When the transition point temperature is higher than 700 ° C., it is possible to provide a substrate having higher heat resistance than conventional substrates in addition to reduction in deflection, and to provide a magnetic disk having improved magnetic properties such as coercive force. be able to.

【0025】SiO2はガラスの網目構造形成酸化物として
働き、ガラス構造の安定化即ち失透に対する結晶化安定
性を増す成分である。またSiO2はAl2O3 などの中間酸化
物とを組み合わせることによってガラスの強度、剛性度
などの磁気記録媒体用基板に必要となる機械的物性を高
めることができ、ガラスの耐熱性を向上させることもで
きる。しかし、ガラスの主成分として52%より多くの
SiO2を導入した酸化物ガラスは、36×106 Nm/kg を超え
る比弾性率をほとんど示さないので、SiO2の含有量は5
2以下であることが適当である。一方、SiO2の含有量が
25%未満では、ガラスの結晶化安定性が相当悪化し、
量産化できるほどの安定なガラスが造れない。そこで、
SiO2の下限は25%である。そこで、SiO2の含有量は、
25〜52%の範囲、好ましくは30〜50%の範囲で
あることが適当である。
SiO 2 is a component that functions as an oxide for forming a network structure of glass and increases the stability of the glass structure, that is, the crystallization stability against devitrification. In addition, by combining SiO 2 with an intermediate oxide such as Al 2 O 3 , the mechanical properties required for the substrate for magnetic recording media such as the strength and rigidity of the glass can be increased, and the heat resistance of the glass is improved It can also be done. However, as a main component of glass, more than 52%
Since the oxide glass into which SiO 2 has been introduced shows almost no specific elastic modulus exceeding 36 × 10 6 Nm / kg, the content of SiO 2 is 5%.
Suitably, it is less than 2. On the other hand, when the content of SiO 2 is less than 25%, the crystallization stability of the glass is considerably deteriorated,
Glass cannot be made stable enough to be mass-produced. Therefore,
The lower limit of SiO 2 is 25%. Therefore, the content of SiO 2 is
Suitably, it is in the range of 25-52%, preferably in the range of 30-50%.

【0026】Al2O3 はガラスに高耐熱性と高耐久性を寄
与する成分としても、SiO2と共にガラス構造の安定化及
びその剛性度を高める成分としても非常に重要である。
特にAl2O3 をSiO2と置換してガラスに導入する場合、Al
2O3 はガラスの骨格に入り込み骨格形成成分としてガラ
スのヤング率や耐熱性を増大する効果が大きい。即ち、
Al2O3 はガラスのヤング率を高めるためにも耐熱性を向
上させるためにも欠かせない成分である。しかし、Al2O
3 の含有量が5%より少ないとガラスのヤング率を十分
に向上させることができない。また、Al2O3 の含有量が
35%を超えると、ガラスの比弾性率の向上に寄与する
成分であるMgO を多く導入することができなくなり、ガ
ラスの高温溶融性も悪化する。そこで、Al2O3 の含有量
は5〜35%の範囲、好ましくは7〜32%の範囲であ
ることが適当である。
Al 2 O 3 is very important not only as a component that contributes to the high heat resistance and high durability of the glass, but also as a component that stabilizes the glass structure and increases the rigidity thereof together with SiO 2 .
Especially when Al 2 O 3 is replaced with SiO 2 and introduced into glass, Al
2 O 3 enters the skeleton of the glass and has a great effect of increasing the Young's modulus and heat resistance of the glass as a skeleton forming component. That is,
Al 2 O 3 is an essential component for increasing the Young's modulus of the glass and improving the heat resistance. However, Al 2 O
If the content of 3 is less than 5%, the Young's modulus of the glass cannot be sufficiently improved. In addition, the content of Al 2 O 3
If it exceeds 35%, it becomes impossible to introduce a large amount of MgO, which is a component contributing to the improvement of the specific elastic modulus of the glass, and the high-temperature melting property of the glass also deteriorates. Therefore, the content of Al 2 O 3 is suitably in the range of 5 to 35%, preferably in the range of 7 to 32%.

【0027】MgO はガラスの剛性及び強度を向上させ、
高温溶解性を改善するために導入される成分である。ま
た、ガラスの結晶化安定性の向上やガラス均質性の改善
にも寄与する。特にAl2O3 の含有量が20%より少ない
場合、ガラスの高比弾性率を維持するために多くのMgO
を導入することが好ましい。しかし、MgO の含有量が4
5%を超えると、量産化できるほどの結晶化安定性をも
つガラスが造れない。また、MgO の含有量を15%より
少なくするとガラスのヤング率が低下してしまう傾向が
ある。そこで、MgO の含有量は15〜45%の範囲、好
ましくは22〜40%の範囲にすることが適当である。
MgO improves the rigidity and strength of the glass,
It is a component introduced to improve high-temperature solubility. It also contributes to the improvement of the crystallization stability and the homogeneity of the glass. Particularly, when the content of Al 2 O 3 is less than 20%, a large amount of MgO is required to maintain a high specific modulus of glass.
Is preferably introduced. However, when the content of MgO is 4
If it exceeds 5%, a glass having crystallization stability sufficient for mass production cannot be produced. If the content of MgO is less than 15%, the Young's modulus of the glass tends to decrease. Therefore, the content of MgO is suitably in the range of 15 to 45%, preferably in the range of 22 to 40%.

【0028】Y2O3はガラスの結晶化安定性を高め、耐久
性及び高温溶融性を改善するために添加される成分であ
る。特に少量のY2O3の導入はガラス比弾性率の向上及び
ガラス均質性の改善に非常に寄与する。しかし、Y2O3
あまりにも多く添加するとガラスのヤング率が大きくな
るが、比重も急激に増加するので、逆にガラスの比弾性
率を低下させる傾向がある。そこで、Y2O3の含有量は1
7%以下、好ましくは15%以下とすることが適当であ
る。尚、Y2O3の明らかな添加効果を得るためには、Y2O3
の含有量を0.5%以上とすることが好ましい。
Y 2 O 3 is a component added to enhance the crystallization stability of glass, and to improve durability and high-temperature melting property. In particular, the introduction of a small amount of Y 2 O 3 greatly contributes to the improvement of the glass specific modulus and the improvement of the glass homogeneity. However, when too much Y 2 O 3 is added, the Young's modulus of the glass increases, but the specific gravity also increases sharply, and conversely, the specific elastic modulus of the glass tends to decrease. Therefore, the content of Y 2 O 3 is 1
It is suitable that the content is 7% or less, preferably 15% or less. In order to obtain distinct effects of the addition of Y 2 O 3 is, Y 2 O 3
Is preferably 0.5% or more.

【0029】TiO2はガラス骨格形成成分としても修飾成
分としても働き、ガラスの高温粘性を低め溶融性を改善
し、構造の安定化及びその耐久性を増す。また、TiO2
成分としてガラスに導入すると、ガラスの比重はあまり
増加しないのに対し、ガラスのヤング率は大きく向上で
きる。特に、MgO やAl2O3 を多く導入するガラスに対し
ては、TiO2はガラスの高温溶解性及び結晶化安定性を向
上させ、MgO とAl2O3などの酸化物との組み合わせによ
ってガラスの比弾性率を高めることが大いに期待でき
る。但し、TiO2を多く導入し過ぎると、ガラスの分相傾
向が強まり、かえってガラスの結晶化安定性及びその均
質性を悪化させる傾向がある。そこで、TiO2の含有量
は、25%以下、好ましくは20%以下とすることが適
当である。尚、TiO2の明らかな添加効果を得るために
は、TiO2の含有量を1%以上とすることが好ましい。
TiO 2 acts both as a glass skeleton-forming component and a modifying component, lowering the high-temperature viscosity of the glass, improving the meltability, stabilizing the structure and increasing its durability. In addition, when TiO 2 is introduced into glass as a component, the specific gravity of glass does not increase so much, but the Young's modulus of glass can be greatly improved. Especially for the glass to introduce a large amount of MgO and Al 2 O 3, TiO 2 improves the high-temperature solubility and crystallization stability of the glass, the glass in combination with the oxides such as MgO and Al 2 O 3 It can be greatly expected to increase the specific elastic modulus of. However, if too much TiO 2 is introduced, the tendency of phase separation of the glass becomes stronger, and the crystallization stability of the glass and its homogeneity tend to deteriorate. Therefore, it is appropriate that the content of TiO 2 is 25% or less, preferably 20% or less. In order to obtain distinct effects of the addition of TiO 2 is preferably in a content of TiO 2 1% or more.

【0030】CaO はMgO と共にガラスの剛性及び強度を
向上させ、高温溶解性を改善するために導入される成分
である。また、CaO は、MgO と同様に、ガラスの結晶化
安定性の向上やガラス均質性の改善にも寄与する。前述
のように、Al2O3 の含有量が20%より少ない場合、ガ
ラスの高比弾性率を維持するために多くのMgO を導入す
ることが好ましく、この場合のCaO は主にガラスの高温
溶融性、結晶化安定性を改善するために導入される成分
となる。しかし、CaO の含有量が30%を超えると量産
化できるほどの結晶化安定性をもつガラスが造れない。
そこで、CaO の含有量は30%以下、好ましくは27%
以下とすることが適当である。尚、CaOの明らかな添加
効果を得るためには、CaO の含有量を2%以上とするこ
とが好ましい。
CaO is a component introduced together with MgO to improve the rigidity and strength of the glass and improve the high-temperature solubility. In addition, CaO contributes to improvement of crystallization stability and glass homogeneity of glass, similarly to MgO. As described above, when the content of Al 2 O 3 is less than 20%, it is preferable to introduce a large amount of MgO in order to maintain a high specific elastic modulus of the glass. It is a component that is introduced to improve the meltability and crystallization stability. However, if the content of CaO exceeds 30%, a glass having crystallization stability sufficient for mass production cannot be produced.
Therefore, the content of CaO is 30% or less, preferably 27%.
The following is appropriate. In order to obtain a clear effect of adding CaO, the content of CaO is preferably set to 2% or more.

【0031】ZrO2は主にガラスの耐久性及び剛性を高め
るために添加される成分である。少量のZrO2を添加する
場合はガラス耐熱性を向上させる効果があり、ガラスの
失透に対する結晶化安定性も向上する。しかし、ZrO2
8%を超えるとガラスの高温溶解性が著しく悪化し、ガ
ラスの表面平滑性も悪くなり、比重も増加する。そこ
で、ZrO2の含有量は8%以下、好ましくは6%以下とす
ることが適当である。尚、ZrO2の明らかな添加効果を得
るためには、ZrO2の含有量を0.5%以上とすることが
好ましい。
ZrO 2 is a component mainly added to increase the durability and rigidity of the glass. When a small amount of ZrO 2 is added, it has the effect of improving the glass heat resistance, and also improves the crystallization stability against devitrification of the glass. However, when ZrO 2 exceeds 8%, the high-temperature melting property of the glass is remarkably deteriorated, the surface smoothness of the glass is also deteriorated, and the specific gravity is increased. Therefore, the content of ZrO 2 is suitably at most 8%, preferably at most 6%. In order to obtain distinct effects of the addition of ZrO 2, when a content of ZrO 2 is preferably 0.5% or more.

【0032】尚、Y2O3+TiO2+ZrO2+CaOは1〜30%の範囲
であることが適当である。これらの成分は、ガラスのヤ
ング率の向上及び結晶化安定性の向上に寄与する成分で
ある。これらの成分の合計が1%未満では、ガラスのヤ
ング率が低くなる傾向があり、かつガラスの結晶化安定
性も低下する傾向がある。一方、これらの成分は、いず
れもガラスの比重を増加させるものであり、多量に導入
しすぎるとガラスの比弾性率が小さくなってしまう。そ
こで、Y2O3+TiO2+ZrO2+CaOの含有量は、1〜30%の範
囲、好ましくは5.5 〜27%の範囲であることが適当であ
る。
It is appropriate that the content of Y 2 O 3 + TiO 2 + ZrO 2 + CaO is in the range of 1 to 30%. These components are components that contribute to improving the Young's modulus of the glass and improving the crystallization stability. If the total of these components is less than 1%, the Young's modulus of the glass tends to decrease, and the crystallization stability of the glass tends to decrease. On the other hand, all of these components increase the specific gravity of the glass, and when introduced in a large amount, the specific elastic modulus of the glass decreases. Therefore, the content of Y 2 O 3 + TiO 2 + ZrO 2 + CaO is suitably in the range of 1 to 30%, preferably in the range of 5.5 to 27%.

【0033】P2O5及びB2O3はいずれもガラスの高温溶解
性を調整するために添加される成分である。例えば、少
量のP2O5又はB2O3をガラスに導入するとガラスの比弾性
率が大きな変化がないのに対し、ガラスの高温粘性がか
なり低くなるのでガラスの溶解を容易にする効果が大き
い。B2O3+P2O5の合計は、ガラスの溶解性の改善とガラ
スの結晶化安定性及び物理的特性の調整という観点か
ら、5 %以下、好ましくは3.5%以下であることが適
当である。尚、B2O3及びP2O5の明らかな添加効果を得る
ためには、その合計含有量を0.5%以上とすることが
好ましい。
P 2 O 5 and B 2 O 3 are both components added to adjust the high-temperature melting property of glass. For example, when a small amount of P 2 O 5 or B 2 O 3 is introduced into glass, the specific elastic modulus of the glass does not change significantly, whereas the high-temperature viscosity of the glass is considerably reduced, so that the effect of facilitating melting of the glass is improved. large. The total of B 2 O 3 + P 2 O 5 should be 5% or less, preferably 3.5% or less from the viewpoint of improving the solubility of glass and adjusting the crystallization stability and physical properties of glass. Is appropriate. In order to obtain a clear addition effect of B 2 O 3 and P 2 O 5 , the total content is preferably 0.5% or more.

【0034】As2O3 とSb2O3 はガラスの均質化を図るた
めに脱泡剤として添加させる成分である。各ガラスの高
温粘性に応じて適量量のAs2O3 やSb2O3 或いはAs2O3
Sb2O3 をガラスに添加するとより均質なガラスが得られ
る。しかし、脱泡剤の添加量を多すぎると、ガラスの比
重が上昇して比弾性率を低下させる傾向があり、また溶
解用白金るつぼと反応してるつぼにダメージを与える傾
向もある。そこで、その添加量は3%以下、好ましくは
2%以下とすることが適当である。尚、これら脱泡剤の
明らかな添加効果を得るためには、その含有量を0.2
%以上とすることが好ましい。
As 2 O 3 and Sb 2 O 3 are components added as a defoaming agent in order to homogenize the glass. An appropriate amount of As 2 O 3 , Sb 2 O 3 or As 2 O 3 + depending on the high temperature viscosity of each glass
Adding Sb 2 O 3 to the glass results in a more homogeneous glass. However, if the amount of the defoaming agent is too large, the specific gravity of the glass tends to increase and the specific elasticity tends to decrease, and the glass tends to react with the melting platinum crucible to damage the crucible. Therefore, it is appropriate that the addition amount is 3% or less, preferably 2% or less. Incidentally, in order to obtain a clear addition effect of these defoaming agents, the content should be 0.2%.
% Is preferable.

【0035】さらに、V2O5、Cr2O3 、ZnO 、SrO 、NiO
、CoO 、Fe2O3 、CuO 等その他の成分はいずれもガラ
スの高温溶解性や物理的な物性を調整するときに添加さ
れる成分である。例えば、少量のV2O5、Cr2O3 、CuO 、
CoO などの着色剤をガラスに添加すると、ガラスに赤外
線吸収特性を持たせ、加熱ランプ照射による磁性膜の加
熱処理を効果的に行うことができる。ZnO+SrO+NiO+CoO+
FeO+CuO+Fe2O3+ Cr2O3+B2O3+P2O5+V2O5の合計は、ガラ
スの溶解性の改善とガラスの結晶化安定性及び物理的特
性の調整という観点から、5 %以下、好ましくは4%以
下であることが適当である。
Further, V 2 O 5 , Cr 2 O 3 , ZnO, SrO, NiO
, CoO, Fe 2 O 3 , CuO and other components are all added when adjusting the high-temperature melting property and physical properties of the glass. For example, a small amount of V 2 O 5, Cr 2 O 3, CuO,
When a colorant such as CoO is added to the glass, the glass has infrared absorption characteristics, and the heat treatment of the magnetic film by irradiation with a heating lamp can be effectively performed. ZnO + SrO + NiO + CoO +
The sum of FeO + CuO + Fe 2 O 3 + Cr 2 O 3 + B 2 O 3 + P 2 O 5 + V 2 O 5 is the improvement in the solubility of the glass and the crystallization stability and physical properties of the glass. From the viewpoint of adjustment, the content is suitably 5% or less, preferably 4% or less.

【0036】以上の成分の他に原料中の不純物、例えば
Fe2O3 など及びガラスの清澄剤となるCl、F、SO3 等は
それぞれ1%までなら含有しても、本発明のガラスの目
的とする物性を実質的に損なうことはない。尚、このガ
ラスは実質的にアルカリ成分を含まない無アルカリガラ
スであるため、このガラスからなる基板上に薄膜を形成
した場合、アルカリ成分が基板上の薄膜に拡散して悪影
響を及ぼすことがない。
In addition to the above components, impurities in the raw material, for example,
Even if Fe 2 O 3 and the like and Cl, F, SO 3 and the like, which are glass fining agents, are contained up to 1%, the desired physical properties of the glass of the present invention are not substantially impaired. In addition, since this glass is an alkali-free glass containing substantially no alkali component, when a thin film is formed on a substrate made of this glass, the alkali component does not diffuse into the thin film on the substrate and does not adversely affect the glass. .

【0037】請求項6及び7に記載のガラス 請求項6及び7に記載のガラス組成は、主に比弾性率を
大きくするために構成された組成であり、比弾性率Gが
36×106Nm/kg以上である。比弾性率Gが36×106Nm/kg以
上であることで、たわみの小さい基板を得ることができ
る。例えば、次世代の磁気記録媒体ディスクに要求され
る厚さ0.43mm又はそれ以下の基板としたときにでも、最
大たわみが1.4 μm より小さい基板を得ることができ
る。その結果、ヘッドの浮上安定性に優れ、記録再生を
安定して行うことができる。さらに、最大たわみが1.25
μm 以下の基板を得るため、比弾性率Gが37×106Nm/kg
以上であることが好ましい。また、薄型化が進み、厚さ
が0.381mm 又はそれ以下の基板とした場合でも、最大た
わみを1.4 μm 以下に抑えられる基板が得られるという
観点から、比弾性率が42×106Nm/kg以上であるガラスが
さらに好ましい。尚、比弾性率は高ければ高い程好まし
いが、実用的には、約45×106Nm/kg以下である。
Glass according to claims 6 and 7 The glass composition according to claims 6 and 7 is a composition mainly designed to increase the specific elastic modulus, and the specific elastic modulus G is
36 × 10 6 Nm / kg or more. When the specific elastic modulus G is 36 × 10 6 Nm / kg or more, a substrate with small deflection can be obtained. For example, even when a substrate having a thickness of 0.43 mm or less required for a next-generation magnetic recording medium disk is used, a substrate having a maximum deflection of less than 1.4 μm can be obtained. As a result, the flying stability of the head is excellent, and recording and reproduction can be performed stably. In addition, the maximum deflection is 1.25
μm or less, specific elastic modulus G is 37 × 10 6 Nm / kg
It is preferable that it is above. In addition, the specific elastic modulus is 42 × 10 6 Nm / kg from the viewpoint that a substrate whose maximum deflection is suppressed to 1.4 μm or less can be obtained even when the thickness is reduced and the substrate is 0.381 mm or less in thickness. The above glass is more preferable. The specific elastic modulus is preferably as high as possible, but practically it is about 45 × 10 6 Nm / kg or less.

【0038】さらに、請求項6及び7に記載のガラス
は、表面粗さ(Ra)を9オングストローム以下とすること
ができる。より高い表面平滑性により、磁気ディスクの
高密度化のためのヘッドの低浮上化が可能となり、表面
粗さ(Ra)を9オングストローム以下とすることで、従来
のものより低浮上化が可能となる。磁気ディスクをさら
に高密度化するには、表面粗さ(Ra)を6オングストロー
ム以下とすることが好ましい。また、請求項6及び7の
ガラスは、転移点温度が700℃より高いガラスであ
る。転移点温度が700℃より高いことで、たわみの低
減化に加えて、従来の基板より高い耐熱性を有する基板
を提供することができ、保磁力等の磁気特性が向上した
磁気ディスクを提供することができる。
Further, the glass according to claims 6 and 7 can have a surface roughness (Ra) of 9 angstrom or less. Higher surface smoothness allows lower flying height of the head for higher density magnetic disks, and lowering the surface roughness (Ra) to less than 9 angstroms enables lower flying height than conventional ones. Become. In order to further increase the density of the magnetic disk, the surface roughness (Ra) is preferably set to 6 Å or less. Further, the glass according to claims 6 and 7 is a glass having a transition point temperature higher than 700 ° C. When the transition point temperature is higher than 700 ° C., it is possible to provide a substrate having higher heat resistance than conventional substrates in addition to reduction in deflection, and to provide a magnetic disk having improved magnetic properties such as coercive force. be able to.

【0039】SiO2はガラスの網目構造形成酸化物として
働き、ガラス構造の安定化即ち失透に対する結晶化安定
性を増す成分である。またSiO2は、Al2O3 などの中間酸
化物とを組み合わせることによってガラスの強度、剛性
度などの磁気記録媒体用基板に必要となる機械的物性を
高めることができ、ガラスの耐熱性を向上させることも
できる。しかし、ガラスの主成分として50%を超える
量のSiO2を含むガラスには、ガラスの耐衝撃性や機械強
度の向上に寄与する成分であるAl2O3 を多く導入するこ
とができない。そこで、より大きな比弾性率を有するガ
ラスを得るという観点から含有量の上限は50%とする
ことが適当である。一方、SiO2の含有量が25%未満と
なると、ガラスの結晶化安定性が相当悪化し、量産化で
きるほどの安定なガラスが造れない。そこで、SiO2の下
限は25%とすることが適当である。SiO2の含有量は2
5〜50%の範囲、好ましくは30〜49%の範囲であ
ることが適当である。
SiO 2 is a component that functions as an oxide for forming a network structure of glass and increases the stability of the glass structure, that is, the crystallization stability against devitrification. In addition, SiO 2 can enhance the mechanical properties required for a substrate for a magnetic recording medium, such as strength and rigidity of glass, by combining with an intermediate oxide such as Al 2 O 3, and improve the heat resistance of glass. It can also be improved. However, Al 2 O 3 , which is a component that contributes to the improvement of impact resistance and mechanical strength of glass, cannot be introduced into glass containing SiO 2 in an amount exceeding 50% as a main component of glass. Therefore, from the viewpoint of obtaining a glass having a larger specific elastic modulus, the upper limit of the content is suitably set to 50%. On the other hand, when the content of SiO 2 is less than 25%, the crystallization stability of the glass is considerably deteriorated, and a glass which is stable enough to be mass-produced cannot be produced. Therefore, it is appropriate that the lower limit of SiO 2 be 25%. SiO 2 content is 2
Suitably, it is in the range of 5 to 50%, preferably in the range of 30 to 49%.

【0040】Al2O3 はガラスに高耐熱性と高耐久性を寄
与する成分としても、SiO2と共にガラス構造の安定化及
びその剛性度を高める成分としても非常に重要である。
特にAl2O3 をSiO2と置換してガラスに導入する場合、Al
2O3 はガラスの骨格に入り込み骨格形成成分としてガラ
スのヤング率や耐熱性を増大する効果が大きい。即ち、
Al2O3 はガラスのヤング率を高めるためにも耐熱性を向
上させるためにも欠かせない成分である。しかし、ガラ
スの曲げ強度や耐衝撃性を一層増大させるためにMgO の
含有量を25%以下とする場合、Al2O3 の含有量を10
%より少なくするとガラスのヤング率を十分に向上させ
られず、所望の比弾性率を得られない。また、Al2O3
有量が37%を超えるとガラスの高温溶融性が悪化し、
均質なガラスが造れない上にガラスの結晶化安定性も低
下する。そこで、Al2O3 の含有量の上限は37%とする
ことが適当である。Al2O3 の含有量は10〜37%の範
囲、好ましくは11〜35%の範囲とすることが適当で
ある。
Al 2 O 3 is very important not only as a component that contributes to the high heat resistance and high durability of the glass, but also as a component that stabilizes the glass structure and increases its rigidity together with SiO 2 .
Especially when Al 2 O 3 is replaced with SiO 2 and introduced into glass, Al
2 O 3 enters the skeleton of the glass and has a great effect of increasing the Young's modulus and heat resistance of the glass as a skeleton forming component. That is,
Al 2 O 3 is an essential component for increasing the Young's modulus of the glass and improving the heat resistance. However, when the content of MgO is set to 25% or less in order to further increase the bending strength and impact resistance of the glass, the content of Al 2 O 3 is reduced to 10%.
%, The Young's modulus of the glass cannot be sufficiently improved, and a desired specific elastic modulus cannot be obtained. If the Al 2 O 3 content exceeds 37%, the high-temperature melting property of the glass deteriorates,
A homogeneous glass cannot be produced, and the crystallization stability of the glass also decreases. Therefore, the upper limit of the content of Al 2 O 3 is suitably set to 37%. The content of Al 2 O 3 is suitably in the range of 10 to 37%, preferably in the range of 11 to 35%.

【0041】MgO はガラスの剛性及び強度を向上させ、
高温溶解性を改良するために導入される成分である。Mg
O はガラスの結晶化安定性の向上やガラス均質性の改善
にも寄与する。特にガラスのヤング率の向上に大きく寄
与する成分としてのAl2O3 が多く導入された場合、ガラ
ス構造の安定化を向上させるためにも、高温粘性を低め
て溶解を容易にするためにもMgO は好ましい成分であ
る。しかし、MgO の含有量が40%を超えると、ガラス
の耐衝撃性と強度を高めるために多量のAl2O3 を導入す
る組成物では量産化できるほどの結晶化安定性をもつガ
ラスが造れない。一方、MgO の含有量が5%未満では、
十分な安定性を有し、かつ高い比弾性率をもつガラスが
造れない。従って、MgO の含有量は5〜40%の範囲
に、好ましくは7〜35%の範囲とすることが適当であ
る。
MgO improves the rigidity and strength of the glass,
It is a component introduced to improve high-temperature solubility. Mg
O also contributes to the improvement of the crystallization stability and the homogeneity of the glass. In particular, when a large amount of Al 2 O 3 is introduced as a component that greatly contributes to the improvement of the Young's modulus of the glass, in order to improve the stabilization of the glass structure and to reduce the viscosity at high temperatures to facilitate melting. MgO is a preferred component. However, when the content of MgO exceeds 40%, a glass composition having a large amount of Al 2 O 3 introduced to enhance the impact resistance and strength of the glass can produce a glass having crystallization stability sufficient for mass production. Absent. On the other hand, if the content of MgO is less than 5%,
Glass having sufficient stability and high specific modulus cannot be produced. Therefore, the content of MgO is suitably in the range of 5 to 40%, preferably in the range of 7 to 35%.

【0042】TiO2はガラス骨格形成成分としても修飾成
分としても働き、ガラスの高温粘性を低め溶融性を改善
し、構造の安定化及びその耐久性を増す成分である。ま
た、TiO2は成分としてガラスに導入すると、ガラスの比
重はあまり増加しないのに対し、ガラスのヤング率は大
きく向上できる。特にAl2O3 を多く導入するガラスに対
しては、TiO2はガラスの高温溶解性及び結晶化安定性を
向上させ、Al2O3 との組み合わせによってガラスの比弾
性率を高めることが大いに期待できる。但し、TiO2の含
有量が25%を超えるとガラスの分相傾向が強まり、か
えってガラスの結晶化安定性及びその均質性を悪化させ
る傾向がある。また、1%以上のTiO2の添加により、ガ
ラスの高温溶解性が大きく改善される。そこで、TiO2
含有量は、1〜25%の範囲、好ましくは2〜20%の
範囲とすることが適当である。
TiO 2 acts as a glass skeleton-forming component and also as a modifying component, is a component that lowers the high-temperature viscosity of glass, improves the melting property, stabilizes the structure, and increases its durability. In addition, when TiO 2 is introduced into glass as a component, the specific gravity of glass does not increase so much, but the Young's modulus of glass can be greatly improved. Especially for glass that introduces a large amount of Al 2 O 3 , TiO 2 improves the high-temperature melting property and crystallization stability of the glass, and it is greatly likely that the combination with Al 2 O 3 increases the specific elastic modulus of the glass. Can be expected. However, when the content of TiO 2 exceeds 25%, the tendency of phase separation of the glass increases, and the crystallization stability of the glass and the homogeneity thereof tend to deteriorate. In addition, the addition of 1% or more of TiO 2 greatly improves the high-temperature solubility of glass. Therefore, the content of TiO 2 is suitably in the range of 1 to 25%, preferably in the range of 2 to 20%.

【0043】Y2O3はガラスのヤング率を向上させ、結晶
化安定性を高め、耐久性及び高温溶融性を改善する成分
である。特にガラスの曲げ強度や耐衝撃性を高めるため
に多くのAl2O3 をガラスに導入する場合には、Al2O3
助熔剤としてのY2O3の効果が優れている。例えば25%
以上のAl2O3 をガラスに導入する場合、Y2O3を添加する
ことで均質なガラスを作製することができる。但し、Y2
O3は比較的に高価なので、添加量は少量である方がコス
トの点からは好ましい。また、適当量のY2O3の添加は、
ガラス比弾性率の向上に大きく寄与するが、Y2O3の含有
量が17%を超えると、ガラスのヤング率の増加に比べ
て比重の増加が勝り、ガラスの比弾性率の向上に寄与し
なくなる。そこで、Y2O3の含有量は、Al2O3 の導入量に
応じて0〜17%の範囲、好ましくは1〜15%の範囲
することが適当である。
Y 2 O 3 is a component that improves the Young's modulus of glass, enhances crystallization stability, and improves durability and high-temperature melting property. In particular, when a large amount of Al 2 O 3 is introduced into glass in order to increase the bending strength and impact resistance of the glass, the effect of Y 2 O 3 as an auxiliary flux of Al 2 O 3 is excellent. For example, 25%
When the above Al 2 O 3 is introduced into glass, a homogeneous glass can be produced by adding Y 2 O 3 . Where Y 2
Since O 3 is relatively expensive, it is preferable that the addition amount is small in terms of cost. Also, the addition of an appropriate amount of Y 2 O 3
It greatly contributes to the improvement of the glass specific modulus, but when the content of Y 2 O 3 exceeds 17%, the specific gravity increases more than the glass's Young's modulus, contributing to the improvement of the glass specific modulus. No longer. Therefore, the content of Y 2 O 3 is suitably in the range of 0 to 17%, preferably 1 to 15%, depending on the amount of Al 2 O 3 introduced.

【0044】CaO はMgO と共にガラスの剛性及び強度を
向上させ、高温溶解性を改良することができる成分であ
る。ガラスの結晶化安定性の向上やガラス均質性の改善
にも寄与する。ガラスのヤング率の向上に大きく寄与す
る成分としてのAl2O3 が多く導入された場合、ガラス構
造の安定化を向上させるためにも、高温粘性を低めて溶
解を容易にするためにもCaO の添加は好ましい。CaO の
含有量が25%を超えると、ガラスの耐衝撃性と強度を
高めるために多量のAl2O3 を導入した組成物では量産化
できるほどの結晶化安定性をもつガラスが造れない。そ
こで、CaO の含有量の上限は25%であることが適当で
ある。尚、CaOの明らかな添加効果を得るためには、そ
の含有量を2%以上とすることが好ましい。
CaO, together with MgO, is a component that can improve the rigidity and strength of the glass and improve the high-temperature solubility. It also contributes to improving the crystallization stability of the glass and the glass homogeneity. When a large amount of Al 2 O 3 is introduced as a component that greatly contributes to the improvement of the Young's modulus of glass, CaO is used not only to improve the stabilization of the glass structure, but also to lower the viscosity at high temperatures and facilitate melting. Is preferred. If the content of CaO exceeds 25%, a composition having a large amount of Al 2 O 3 introduced in order to increase the impact resistance and strength of the glass cannot produce a glass having crystallization stability that can be mass-produced. Therefore, the upper limit of the content of CaO is suitably 25%. In order to obtain a clear addition effect of CaO, its content is preferably 2% or more.

【0045】ZrO2は主にガラスの耐久性及び剛性を高め
るために添加される成分である。少量のZrO2を添加する
場合はガラス耐熱性を向上させる効果があり、ガラスの
失透に対する結晶化安定性も向上する。しかし、ZrO2
含有量が8%を超えるとガラスの高温溶解性が著しく悪
化し、ガラスの表面平滑性も悪くなり、比重も増加す
る。そこで、ZrO2の含有量は8%以下、好ましくは6%
以下とすることが適当である。尚、ZrO2の明らかな添加
効果を得るためには、ZrO2の含有量を0.5%以上とす
ることが好ましい。
ZrO 2 is a component added mainly to increase the durability and rigidity of the glass. When a small amount of ZrO 2 is added, it has the effect of improving the glass heat resistance, and also improves the crystallization stability against devitrification of the glass. However, when the content of ZrO 2 exceeds 8%, the high-temperature melting property of the glass is remarkably deteriorated, the surface smoothness of the glass is deteriorated, and the specific gravity increases. Therefore, the content of ZrO 2 is 8% or less, preferably 6%.
The following is appropriate. In order to obtain distinct effects of the addition of ZrO 2, when a content of ZrO 2 is preferably 0.5% or more.

【0046】As2O3 とSb2O3 はガラスの均質化を図るた
めに脱泡剤として添加する成分である。各ガラスの高温
粘性に応じて適量量のAs2O3 やSb2O3 或いはAs2O3 +Sb
2O3をガラスに添加するとより均質なガラスが得られ
る。しかし、これら脱泡剤の添加量が多すぎると、ガラ
スの比重が上昇して比弾性率を低下させる傾向があり、
また溶解用白金るつぼと反応してるつぼにダメージを与
える傾向もある。そこで、その添加量は3%以下、好ま
しくは2%以下とすることが適当である。尚、これら脱
泡剤の明らかな添加効果を得るためには、その含有量を
0.2%以上とすることが好ましい。
As 2 O 3 and Sb 2 O 3 are components added as a defoaming agent in order to homogenize the glass. Appropriate amount of As 2 O 3 , Sb 2 O 3 or As 2 O 3 + Sb according to high temperature viscosity of each glass
Adding 2 O 3 to the glass results in a more homogeneous glass. However, when the addition amount of these defoaming agents is too large, the specific gravity of the glass tends to increase and decrease the specific elastic modulus,
There is also a tendency for the crucible to react with the melting platinum crucible and damage the crucible. Therefore, it is appropriate that the addition amount is 3% or less, preferably 2% or less. In order to obtain a clear addition effect of these defoaming agents, it is preferable that the content is 0.2% or more.

【0047】P2O5、V2O5、B2O3、Cr2O3 、ZnO 、SrO 、
NiO 、CoO 、Fe2O3 、CuO 等その他の成分はいずれもガ
ラスの高温溶解性とか物理的な物性を調整するときに添
加することができる。例えば、少量のP2O5をガラスに導
入するとガラスの比弾性率が大きく変化しないのに対
し、ガラスの高温粘性がかなり低くなるのでガラスの溶
解を容易にする効果が大きい。また、少量のV2O5、Cr2O
3 、CuO 、CoO などの着色剤をガラスに添加する場合、
ガラスに赤外線吸収特性を持たせ、加熱ランプ照射によ
る磁性膜の加熱処理を効果的に行うことができる。ZnO+
SrO+NiO+CoO+FeO+CuO+Fe2O3+ Cr2O3+B2O3+P2O5+V2O5
合計は、ガラスの高温溶解性の改善とガラスの機械的・
熱的物性の調整という観点から、5 %以下であることが
適当である。
P 2 O 5 , V 2 O 5 , B 2 O 3 , Cr 2 O 3 , ZnO, SrO,
Other components such as NiO, CoO, Fe 2 O 3 , and CuO can be added when adjusting the high-temperature solubility and physical properties of the glass. For example, when a small amount of P 2 O 5 is introduced into glass, the specific elastic modulus of the glass does not greatly change, but the high-temperature viscosity of the glass is considerably reduced, so that the effect of facilitating melting of the glass is great. Also, a small amount of V 2 O 5 , Cr 2 O
3 , When adding coloring agents such as CuO and CoO to glass,
By imparting infrared absorption properties to the glass, heat treatment of the magnetic film by irradiation with a heating lamp can be effectively performed. ZnO +
SrO + NiO + CoO + FeO + CuO + Fe 2 O 3 + Cr 2 O 3 + B 2 O 3 + P 2 O 5 + V 2 O 5
From the viewpoint of adjusting the thermal properties, the content is suitably 5% or less.

【0048】以上の成分の他に原料中の不純物、例えば
Fe2O3 など及びガラスの清澄剤となるCl、F 、SO3 等は
それぞれ1%までなら含有しても、本発明のガラスの目
的とする物性を実質的に損なうことはない。また、Li2O
を含有させた場合は、ガラスの強度を高めるためにイオ
ン交換による化学強化処理を行うことが可能である。一
方、Li2Oを含有しない無アルカリガラスの場合には、こ
のガラスからなる基板上に薄膜を形成した場合、アルカ
リ成分が基板上の薄膜に拡散して悪影響を及ぼすことが
ない。
In addition to the above components, impurities in the raw material, for example,
Even if Fe 2 O 3 and the like and Cl, F, SO 3 and the like which are glass fining agents are contained up to 1%, the desired physical properties of the glass of the present invention are not substantially impaired. Also, Li 2 O
In the case of containing, it is possible to perform chemical strengthening treatment by ion exchange in order to increase the strength of the glass. On the other hand, in the case of non-alkali glass containing no Li 2 O, when a thin film is formed on a substrate made of this glass, the alkali component does not diffuse into the thin film on the substrate and does not adversely affect it.

【0049】請求項8及び9に記載のガラス 請求項8及び9に記載のガラス組成は、主に比弾性率を
大きくするために構成された組成であり、比弾性率Gが
36×106Nm/kg以上である。比弾性率Gが36×106Nm/kg以
上であることで、たわみの小さい基板を得ることができ
る。例えば、次世代の磁気記録媒体ディスクに要求され
る厚さ0.43mm又はそれ以下の基板としたときにでも、最
大たわみが1.4 μm より小さい基板を得ることができ
る。その結果、ヘッドの浮上安定性に優れ、記録再生を
安定して行うことができる。さらに、最大たわみが1.25
μm 以下の基板を得るため、比弾性率Gが37×106Nm/kg
以上であることが好ましい。また、薄型化が進み、厚さ
が0.381mm 又はそれ以下の基板とした場合でも、最大た
わみを1.4 μm 以下に抑えられる基板が得られるという
観点から、比弾性率が42×106Nm/kg以上であるガラスが
さらに好ましい。尚、比弾性率は高ければ高い程好まし
いが、実用的には、約45×106Nm/kg以下である。
Glass according to claims 8 and 9 The glass composition according to claims 8 and 9 is a composition mainly designed to increase the specific elastic modulus, and the specific elastic modulus G is
36 × 10 6 Nm / kg or more. When the specific elastic modulus G is 36 × 10 6 Nm / kg or more, a substrate with small deflection can be obtained. For example, even when a substrate having a thickness of 0.43 mm or less required for a next-generation magnetic recording medium disk is used, a substrate having a maximum deflection of less than 1.4 μm can be obtained. As a result, the flying stability of the head is excellent, and recording and reproduction can be performed stably. In addition, the maximum deflection is 1.25
μm or less, specific elastic modulus G is 37 × 10 6 Nm / kg
It is preferable that it is above. In addition, the specific elastic modulus is 42 × 10 6 Nm / kg from the viewpoint that a substrate whose maximum deflection is suppressed to 1.4 μm or less can be obtained even when the thickness is reduced and the substrate is 0.381 mm or less in thickness. The above glass is more preferable. The specific elastic modulus is preferably as high as possible, but practically it is about 45 × 10 6 Nm / kg or less.

【0050】さらに、請求項8及び9に記載のガラス
は、表面粗さ(Ra)を9オングストローム以下とすること
ができる。より高い表面平滑性により、磁気ディスクの
高密度化のためのヘッドの低浮上化が可能となり、表面
粗さ(Ra)を9オングストローム以下とすることで、従来
のものより低浮上化が可能となる。磁気ディスクをさら
に高密度化するには、表面粗さ(Ra)を6オングストロー
ム以下とすることが好ましい。また、請求項8及び9の
ガラスは、転移点温度が700℃より高いガラスであ
る。転移点温度が700℃より高いことで、たわみの低
減化に加えて、従来の基板より高い耐熱性を有する基板
を提供することができ、保磁力等の磁気特性が向上した
磁気ディスクを提供することができる。
Further, the glass according to the eighth and ninth aspects can have a surface roughness (Ra) of 9 angstrom or less. Higher surface smoothness allows lower flying height of the head for higher density magnetic disks, and lowering the surface roughness (Ra) to less than 9 angstroms enables lower flying height than conventional ones. Become. In order to further increase the density of the magnetic disk, the surface roughness (Ra) is preferably set to 6 Å or less. Further, the glass according to claims 8 and 9 is a glass having a transition point temperature higher than 700 ° C. When the transition point temperature is higher than 700 ° C., it is possible to provide a substrate having higher heat resistance than conventional substrates in addition to reduction in deflection, and to provide a magnetic disk having improved magnetic properties such as coercive force. be able to.

【0051】SiO2はガラスの網目構造形成酸化物として
働き、ガラス構造の安定化即ち失透に対する結晶化安定
性を増す成分である。またAl2O3 などの中間酸化物とを
組み合わせることによってガラスの強度、剛性度などの
磁気記録媒体用基板に必要となる機械的物性を高めるこ
とができ、ガラスの耐熱性を向上させることもできる。
しかし、しかし、ガラスの主成分として50%を超える
SiO2を導入したCaO −Al2O3 −SiO2系酸化物ガラスは、
36×106 Nm/kg を超える比弾性率をほとんど示さないの
で、SiO2の含有量は50%以下であることが適当であ
る。一方、SiO2の含有量が25%以下になる場合、ガラ
スの結晶化安定性が相当悪化し、量産化できるほどの安
定なガラスが造れない。そこで、SiO2の下限は25%で
ある。そこで、SiO2の含有量は、25〜50%の範囲、
好ましくは30〜50%の範囲であることが適当であ
る。
SiO 2 is a component that functions as an oxide for forming a network structure of glass and increases the stability of the glass structure, that is, the crystallization stability against devitrification. In addition, by combining with an intermediate oxide such as Al 2 O 3 , the mechanical properties required for a substrate for a magnetic recording medium such as the strength and rigidity of the glass can be increased, and the heat resistance of the glass can be improved. it can.
However, however, more than 50% as the main component of glass
CaO -Al 2 O 3 -SiO 2 based oxide glass obtained by introducing SiO 2 is
Since it hardly shows a specific elastic modulus exceeding 36 × 10 6 Nm / kg, the content of SiO 2 is suitably at most 50%. On the other hand, when the content of SiO 2 is 25% or less, the crystallization stability of the glass is considerably deteriorated, and a glass which is stable enough to be mass-produced cannot be produced. Therefore, the lower limit of SiO 2 is 25%. Therefore, the content of SiO 2 is in the range of 25 to 50%,
Preferably, the range is 30 to 50%.

【0052】Al2O3 はガラスに高耐熱性と高耐久性を寄
与する成分としても、SiO2と共にガラス構造の安定化及
びその剛性度を高める成分としても非常に重要である。
特にAl2O3 をSiO2と置換してガラスに導入する場合、Al
2O3 はガラスの骨格に入り込み骨格形成成分としてガラ
スのヤング率や耐熱性を増大する効果が大きい。即ち、
Al2O3 はガラスのヤング率を高めるためにも耐熱性を向
上させるためにも欠かせない成分である。しかし、Al2O
3 の含有量が20%より少ないとガラスのヤング率を十
分に向上させることができない。また、Al2O3 の含有量
が40%を超えると、ガラスの高温溶融性も悪化し、均
質なガラスが造れない上にガラスの結晶化安定性も低下
する。そこで、Al2O3 の含有量は20〜40%の範囲、
好ましくは21〜37%の範囲であることが適当であ
る。
Al 2 O 3 is very important not only as a component that contributes to the high heat resistance and high durability of the glass, but also as a component that stabilizes the glass structure and enhances its rigidity together with SiO 2 .
Especially when Al 2 O 3 is replaced with SiO 2 and introduced into glass, Al
2 O 3 enters the skeleton of the glass and has a great effect of increasing the Young's modulus and heat resistance of the glass as a skeleton forming component. That is,
Al 2 O 3 is an essential component for increasing the Young's modulus of the glass and improving the heat resistance. However, Al 2 O
If the content of 3 is less than 20%, the Young's modulus of the glass cannot be sufficiently improved. On the other hand, when the content of Al 2 O 3 exceeds 40%, the high-temperature melting property of the glass also deteriorates, so that a homogeneous glass cannot be produced and the crystallization stability of the glass also decreases. Therefore, the content of Al 2 O 3 is in the range of 20 to 40%,
Preferably, the range is 21 to 37%.

【0053】CaO はガラスの剛性及び強度を向上させ、
高温溶解性を改良する成分である。勿論ガラスの結晶化
安定性の向上やガラス均質性の改善にも寄与する。特に
ガラスにヤング率の向上に大きく寄与する成分としての
Al2O3 が多く導入された場合、ガラス構造の安定化を向
上させるためにも、高温粘性を低めて溶解を容易にする
ためにもCaO の添加が必要である。しかし、その含有量
が8%未満では、ガラスの結晶化安定性が著しく低下す
るのに対し、30%を超えるとガラスのヤング率も低く
なる傾向がある。そこでCaO の含有量は8〜30%の範
囲、好ましくは10〜27%の範囲とすることが適当で
ある。
CaO improves the rigidity and strength of the glass,
A component that improves high-temperature solubility. Of course, it also contributes to the improvement of the crystallization stability and the homogeneity of the glass. Especially as a component that greatly contributes to the improvement of Young's modulus in glass
When a large amount of Al 2 O 3 is introduced, it is necessary to add CaO to improve the stabilization of the glass structure and to reduce the high-temperature viscosity to facilitate melting. However, if the content is less than 8%, the crystallization stability of the glass is significantly reduced, whereas if it exceeds 30%, the Young's modulus of the glass tends to be low. Therefore, the content of CaO is suitably in the range of 8 to 30%, preferably in the range of 10 to 27%.

【0054】Y2O3はガラスのヤング率を向上させ、結晶
化安定性を高め、耐久性及び高温溶融性を改善するため
に添加される成分である。特にガラスのヤング率を高め
るために多くのAl2O3 をガラスに導入する場合には、Al
2O3 の助熔剤としてY2O3は有効である。例えば25%以
上のAl2O3 をガラスに導入する場合、Y2O3を助熔剤とし
て添加することで、均質なガラスが作製できる。しか
し、Y2O3は比較的に高価なので、Y2O3の含有量は、要求
されるガラスの物性に応じて15%までの量で、比較的
少量とすることが好ましい。しかし、Y2O3の含有量が少
なく過ぎるとガラスの高温溶解性も悪化し、比弾性率も
低下してしまう。そこで、Y2O3の含有量の下限は2%で
あることが適当である。Y2O3の含有量は、2〜15%の
範囲、好ましくは3〜12%の範囲であることが適当で
ある。
Y 2 O 3 is a component added to improve the Young's modulus of the glass, enhance crystallization stability, and improve durability and high-temperature melting property. In particular, when introducing a large amount of Al 2 O 3 into the glass to increase the Young's modulus of the glass, the Al
Y 2 O 3 as a co熔剤of 2 O 3 is effective. For example, when 25% or more of Al 2 O 3 is introduced into glass, a homogeneous glass can be produced by adding Y 2 O 3 as an auxiliary flux. However, since Y 2 O 3 is relatively expensive, the content of Y 2 O 3 is preferably a relatively small amount, up to 15%, depending on the physical properties of the glass required. However, when the content of Y 2 O 3 is too small, the high-temperature melting property of the glass also deteriorates, and the specific elastic modulus also decreases. Therefore, it is appropriate that the lower limit of the content of Y 2 O 3 is 2%. The content of Y 2 O 3 is suitably in the range of 2 to 15%, preferably in the range of 3 to 12%.

【0055】MgO は、ガラスの剛性及び強度を向上さ
せ、高温溶解性を改善する効果があり、ガラスの結晶化
安定性の向上やガラス均質性の改善にも寄与し、比弾性
率を高める効果もある成分であるため、所望により添加
することができる。しかし、MgO の含有量が20%を超
えると、必須の成分であるCaO を多く添加することがで
きなくなり、ガラスの結晶化安定性も低下する傾向があ
る。そこで、MgO の含有量の上限は20%とすることが
適当である。尚、MgOの明らかな添加効果を得るために
は、その含有量を5%以上とすることが好ましい。
MgO has the effect of improving the rigidity and strength of glass and improving the high-temperature melting property, and also contributes to the improvement of the crystallization stability and the homogeneity of glass, and the effect of increasing the specific elastic modulus. Since it is also a component, it can be added as desired. However, when the content of MgO exceeds 20%, it is not possible to add a large amount of CaO, which is an essential component, and the crystallization stability of glass tends to decrease. Therefore, the upper limit of the content of MgO is suitably set to 20%. In order to obtain a clear addition effect of MgO, its content is preferably 5% or more.

【0056】TiO2はガラス骨格形成成分としても修飾成
分としても働き、ガラスの高温粘性を低め溶融性を改善
し、構造の安定化及びその耐久性を増す成分である。ま
た、TiO2は成分としてガラスに導入すると、ガラスの比
重はあまり増加しないのに対し、ガラスのヤング率は大
きく向上できる。しかし、CaO −Al2O3 −SiO2系酸化物
ガラスに対しては、あまりにも多くのTiO2を導入する
と、ガラスの分相傾向が強まり、かえってガラスの結晶
化安定性及びその均質性を悪化させる傾向がある。そこ
で、含有量は25%以下、好ましくは20%以下とする
ことが適当である。尚、TiO2の効果を得るという観点か
らは、TiO2の含有量は1%以上であることが適当であ
る。
TiO 2 serves as a glass skeleton-forming component and also as a modifying component, and is a component that reduces the high-temperature viscosity of glass, improves the melting property, stabilizes the structure, and increases its durability. In addition, when TiO 2 is introduced into glass as a component, the specific gravity of glass does not increase so much, but the Young's modulus of glass can be greatly improved. However, for CaO -Al 2 O 3 -SiO 2 based oxide glass, the introduction of many TiO 2 too, intensified phase separation tendency of glass, rather crystallization stability and homogeneity of the glass Tends to worsen. Therefore, the content is suitably at most 25%, preferably at most 20%. In order to obtain distinct effects of TiO 2, it is suitable that the content of TiO 2 is more than 1%.

【0057】Li2Oは主にガラスの高温粘性を下げて溶解
を容易にする成分である。特にAl2O3 の含有量が多い場
合、少量のLi2Oを導入すればガラスの均質化に非常に効
果がある。しかし、その含有量が多くなり過ぎるとガラ
スの耐久性も悪化し、ヤング率も小さくなる傾向があ
る。そこで、Li2Oの含有量は15%以下、好ましくは1
2%以下とすることが適当である。尚、Li2Oの明らかな
添加効果を得るためには、その含有量を1.5%以上とす
ることが好ましい。
Li 2 O is a component that mainly lowers the high-temperature viscosity of glass to facilitate melting. In particular, when the content of Al 2 O 3 is large, introducing a small amount of Li 2 O is very effective in homogenizing the glass. However, if the content is too large, the durability of the glass tends to deteriorate, and the Young's modulus tends to decrease. Therefore, the content of Li 2 O is 15% or less, preferably 1%.
It is appropriate that the content be 2% or less. In order to obtain a clear addition effect of Li 2 O, its content is preferably 1.5% or more.

【0058】As2O3 とSb2O3 はガラスの均質化を図るた
めに脱泡剤として添加させる成分である。各ガラスの高
温粘性に応じて適量量のAs2O3 やSb2O3 或いはAs2O3
Sb2O3 をガラスに添加するとより均質なガラスが得られ
る。しかし、脱泡剤の添加量を多すぎると、ガラスの比
重が上昇して比弾性率を低下させる傾向があり、また溶
解用白金るつぼと反応してるつぼにダメージを与える傾
向もある。そこで、その添加量は3%以下、好ましくは
2%以下とすることが適当である。尚、これら脱泡剤の
明らかな添加効果を得るためには、その含有量を0.2
%以上とすることが好ましい。
As 2 O 3 and Sb 2 O 3 are components to be added as defoaming agents in order to homogenize the glass. An appropriate amount of As 2 O 3 , Sb 2 O 3 or As 2 O 3 + depending on the high temperature viscosity of each glass
Adding Sb 2 O 3 to the glass results in a more homogeneous glass. However, if the amount of the defoaming agent is too large, the specific gravity of the glass tends to increase and the specific elasticity tends to decrease, and the glass tends to react with the melting platinum crucible to damage the crucible. Therefore, it is appropriate that the addition amount is 3% or less, preferably 2% or less. Incidentally, in order to obtain a clear addition effect of these defoaming agents, the content should be 0.2%.
% Is preferable.

【0059】P2O5、V2O5、B2O3、Cr2O3 、ZnO 、SrO 、
NiO 、CoO 、Fe2O3 、CuO 等その他の成分はいずれもガ
ラスの高温溶解性や物理的な物性を調整するときに添加
される成分である。例えば、少量のP2O5をガラスに導入
するとガラスの比弾性率は大きく変化しないのに対し、
ガラスの高温粘性がかなり低くなるのでガラスの溶解を
容易にする効果が大きい。また、少量のV2O5、Cr2O3
CuO 、CoO などの着色剤をガラスに添加すると、ガラス
に赤外線吸収特性を持たせ、加熱ランプ照射による磁性
膜の加熱処理を効果的に行うことができる。ZnO+SrO+Ni
O+CoO+FeO+CuO+Fe2O3+ Cr2O3+B2O3+P2O5+V2O5の合計
は、ガラスの機械的及び熱的な物性を調整するという観
点から、5 %以下であることが適当である。以上の成分
の他に原料中の不純物、例えばFe2O3 など及びガラスの
清澄剤となるCl、F 、SO3 等はそれぞれ1%までなら含
有しても、本発明のガラスの目的とする物性を実質的に
損なうことはない。
P 2 O 5 , V 2 O 5 , B 2 O 3 , Cr 2 O 3 , ZnO, SrO,
Other components such as NiO, CoO, Fe 2 O 3 , and CuO are components added when adjusting the high-temperature melting property and physical properties of the glass. For example, when a small amount of P 2 O 5 is introduced into glass, the specific elastic modulus of the glass does not change significantly,
Since the high-temperature viscosity of the glass is considerably reduced, the effect of facilitating melting of the glass is great. Also, a small amount of V 2 O 5 , Cr 2 O 3 ,
When a coloring agent such as CuO 2 or CoO is added to the glass, the glass has infrared absorption characteristics, and the magnetic film can be effectively heated by irradiation with a heating lamp. ZnO + SrO + Ni
The sum of O + CoO + FeO + CuO + Fe 2 O 3 + Cr 2 O 3 + B 2 O 3 + P 2 O 5 + V 2 O 5 is the viewpoint that the mechanical and thermal properties of the glass are adjusted Therefore, it is appropriate that the content is 5% or less. In addition to the above components, impurities in the raw material, for example, Fe 2 O 3 and the like and Cl, F 2, SO 3 and the like which are fining agents for the glass may be contained up to 1%, respectively. Physical properties are not substantially impaired.

【0060】請求項11〜13に記載のガラス 本発明の請求項11に記載のガラスは、ヤング率が11
0GPa以上であることを特徴とする基板用ガラスであ
る。ヤング率が110GPa未満では、基板を7200rpm
以上の速度で回転した場合、風力による基板のたわみの
影響が大きくなり、ヘッドの浮上安定性が得られない等
の問題が生じ、記録再生を安定して行うことができない
という問題を生じる。ヤング率は、好ましくは120G
Pa以上、さらに好ましくは130GPa以上であるこ
とがヘッドの浮上安定性が得られるという観点から好ま
しい。尚、ヤング率は高ければ高い程好ましいが、実用
的には、約150GPa以下である。
Glass according to claims 11 to 13 The glass according to claim 11 of the present invention has a Young's modulus of 11
It is a glass for substrates characterized by being at least 0 GPa. When the Young's modulus is less than 110 GPa,
In the case of rotation at the above speed, the influence of the deflection of the substrate due to the wind force increases, causing a problem that the flying stability of the head cannot be obtained, and a problem that recording and reproduction cannot be performed stably. Young's modulus is preferably 120G
It is preferably at least Pa, more preferably at least 130 GPa, from the viewpoint that the flying stability of the head can be obtained. The higher the Young's modulus, the better, but practically, it is about 150 GPa or less.

【0061】請求項12に記載のガラスは、ヤング率が
110GPa以上であることに加えて、表面粗さ(Ra)を
9オングストローム以下とすることができるガラスであ
る。より高い表面平滑性により、磁気ディスクの高密度
化のためのヘッドの低浮上化が可能となり、表面粗さ(R
a)を9オングストローム以下とすることで、従来のもの
より低浮上化が可能となる。磁気ディスクをさらに高密
度化するには、表面粗さ(Ra)を6オングストローム以下
とすることができるガラスであることが好ましい。
The glass according to claim 12 is a glass having a Young's modulus of 110 GPa or more and a surface roughness (Ra) of 9 Å or less. Higher surface smoothness enables lower flying height of the head for higher density of the magnetic disk, and the surface roughness (R
By setting a) to 9 angstroms or less, it is possible to achieve a lower flying height than the conventional one. In order to further increase the density of the magnetic disk, it is preferable that the glass is made of glass that can have a surface roughness (Ra) of 6 Å or less.

【0062】請求項13のガラスは、ヤング率が110
GPa以上であること、及び/又は表面粗さ(Ra)を9オ
ングストローム以下とすることに加えて、転移点温度が
700℃より高いガラスである。転移点温度が700℃
より高いことで、たわみの低減化に加えて、従来の基板
より高い耐熱性を有する基板を提供することができ、保
磁力等の磁気特性が向上した磁気ディスクを提供するこ
とができる。請求項11〜13に記載の特性を有するガ
ラスの具体例として、請求項14〜16に記載のガラス
を挙げることができる。これらのガラスは、請求項11
〜13に記載の特性を満足すべく、イオン半径が小さ
く、化学結合力が強く、かつガラス構造における充填密
度が高い陽イオンからなる酸化物ガラスを用いた構成と
なっている。
The glass of claim 13 has a Young's modulus of 110.
In addition to being not less than GPa and / or having a surface roughness (Ra) of not more than 9 Å, the glass has a transition point temperature higher than 700 ° C. Transition point temperature 700 ℃
By being higher, it is possible to provide a substrate having higher heat resistance than the conventional substrate in addition to the reduction of the deflection, and it is possible to provide a magnetic disk having improved magnetic properties such as coercive force. Specific examples of the glass having the characteristics described in claims 11 to 13 include the glasses described in claims 14 to 16. These glasses are claimed in claim 11
In order to satisfy the characteristics described in Nos. 1 to 13, an oxide glass composed of a cation having a small ionic radius, a strong chemical bonding force, and a high packing density in a glass structure is used.

【0063】請求項14〜16に記載のガラス SiO2はガラスの網目構造形成酸化物として働き、ガラス
構造の安定化、即ち失透に対する結晶化安定性を増す。
またAl2O3などの中間酸化物とを組み合わせることによ
ってガラスの強度、剛性度などの磁気記録媒体用基板に
必要となる機械的物性を高めることができ、ガラスの耐
熱性を向上させることもできる。しかし、ガラスの主成
分として60%より多くのSiO2を導入したガラス組成物に
は、ガラスの対衝撃性や機械強度の向上に寄与する成分
であるAl2O3を多く導入することができないので、より
大きなヤング率を有するガラスの開発にはSiO2の含有量
を60%以下に抑える必要がある。これに対し、あまり
にもSiO2の含有量を少なく抑えると、例えば30%未満で
は、ガラスの結晶化安定性が相当に悪化し、量産化でき
るほどの安定なガラスが造れない。そこで、SiO2の含有
量は30−60%の範囲とする。特に32−55%の範
囲であることが好ましい。
The glass SiO 2 according to the present invention functions as an oxide for forming a network structure of the glass, and stabilizes the glass structure, that is, increases crystallization stability against devitrification.
In addition, by combining with an intermediate oxide such as Al 2 O 3 , the mechanical properties required for a substrate for a magnetic recording medium such as the strength and rigidity of the glass can be increased, and the heat resistance of the glass can be improved. it can. However, in a glass composition in which more than 60% of SiO 2 is introduced as a main component of glass, a large amount of Al 2 O 3 , which is a component contributing to the improvement of impact resistance and mechanical strength of glass, cannot be introduced. Therefore, in order to develop a glass having a larger Young's modulus, it is necessary to suppress the content of SiO 2 to 60% or less. On the other hand, if the content of SiO 2 is too small, for example, if it is less than 30%, the crystallization stability of the glass will be considerably deteriorated, and a glass which is stable enough to be mass-produced cannot be produced. Therefore, the content of SiO 2 is in the range of 30-60%. In particular, it is preferably in the range of 32-55%.

【0064】Al2O3はガラスに高耐熱性と高耐久性を寄
与する成分としても、SiO2と共にガラス構造の安定化及
びその剛性度を高める成分としても非常に重要である。
特に、Al2O3でSiO2を置換してガラスに導入する場合は
ガラスの骨格に入り込み骨格形成成分としてガラスのヤ
ング率や耐熱性を増大する効果が大きい。即ち、Al2O3
はガラスのヤング率を高めるためにも耐熱性を向上させ
るためにも欠かせない成分である。Al2O3を35%を超え
て導入するとガラスの高温熔融性が悪化し、均質なガラ
スが造れない上にガラスの結晶化安定性も低下する。そ
こで、その含有量は35%以下の範囲とする。特に、1
−30%の範囲であることが好ましい。
Al 2 O 3 is very important not only as a component that contributes to the high heat resistance and high durability of the glass, but also as a component that stabilizes the glass structure and enhances its rigidity together with SiO 2 .
In particular, when Al 2 O 3 is substituted for SiO 2 and introduced into glass, the effect of entering the skeleton of the glass and increasing the Young's modulus and heat resistance of the glass as a skeleton forming component is great. That is, Al 2 O 3
Is an essential component for increasing the Young's modulus of the glass and for improving the heat resistance. When Al 2 O 3 is added in excess of 35%, the high-temperature melting property of the glass deteriorates, so that a homogeneous glass cannot be produced and the crystallization stability of the glass also decreases. Therefore, the content is set to 35% or less. In particular, 1
It is preferably in the range of -30%.

【0065】MgOはガラスの剛性及び強度を向上させ、
高温溶解性を改良するために導入される成分である。さ
らに、MgOはガラスの結晶化安定性の向上やガラス均質
性の改善にも寄与する。特にガラスにヤング率の向上に
大きく寄与する成分としてのAl2O3が多く導入される場
合、ガラス構造の安定化を向上させるためにも、高温粘
性を低めて溶解を容易にするるためにもMgOは非常に重
要な成分である。しかし、40%を超えるMgOをガラス
に導入すると、ガラスの対衝撃性と強度を高めるために
多量のY2O3やAl2O3を導入したガラスでは、量産化でき
るほどの結晶化安定性が得られない。従って、MgOの含
有量は、0-40%の範囲であることが適当である。特
に、MgOの含有量は5-35%の範囲であることが好まし
い。
MgO improves the rigidity and strength of glass,
It is a component introduced to improve high-temperature solubility. Furthermore, MgO also contributes to improving the crystallization stability of the glass and improving the glass homogeneity. In particular, when a large amount of Al 2 O 3 is introduced as a component that greatly contributes to the improvement of Young's modulus in glass, in order to improve the stabilization of the glass structure, it is necessary to lower the viscosity at high temperature and facilitate melting. Even MgO is a very important component. However, if more than 40% of MgO is introduced into the glass, the glass with a large amount of Y 2 O 3 or Al 2 O 3 introduced in order to increase the impact resistance and strength of the glass, has a crystallization stability sufficient for mass production. Can not be obtained. Therefore, the content of MgO is suitably in the range of 0-40%. In particular, the content of MgO is preferably in the range of 5-35%.

【0066】Y2O3、La2O3、CeO2、Pr2O3、Nd2O3、Sm
2O3、Eu2O3、Gd2O3、Tb2O3、Dy2O3、Ho2O3、Er2O3、Tm2
O3、Yb2O3などの希土類金属酸化物は、ガラスのヤング
率を向上させ、結晶化安定性を高め、耐久性及び高温熔
融性を改善するために添加される成分である。特にガラ
スの曲げ強度や対衝撃性を高めるために多くのAl2O3
ガラスに導入する場合には、Al2O3の助熔剤としての希
土類金属酸化物の役割が無視できない。例えば、20%
以上のAl2O3をガラスに導入する場合、Y2O3は均質なガ
ラスの作製に必要不可欠な成分である。しかし、希土類
金属酸化物は比較的高価なものであるので、所望のヤン
グ率に応じて、なるべく少量の希土類金属酸化物を導入
することが好ましい。また、希土類金属酸化物の添加量
が多くなり過ぎると、ガラスのヤング率は増加するが、
比重も大きく増加してしまう。これに対し適当量の希土
類金属酸化物をガラスに導入するとガラスヤング率の向
上に大きく寄与する。従って、希土類金属酸化物の合計
の含有量は、磁気ディスク基板として使用されるガラス
に要求されるヤング率に応じて1-27%の範囲とする
ことが適当である。特に、希土類金属酸化物の合計の含
有量は、2-20%の範囲であることが好ましい。
Y 2 O 3 , La 2 O 3 , CeO 2 , Pr 2 O 3 , Nd 2 O 3 , Sm
2 O 3 , Eu 2 O 3 , Gd 2 O 3 , Tb 2 O 3 , Dy 2 O 3 , Ho 2 O 3 , Er 2 O 3 , Tm 2
Rare earth metal oxides such as O 3 and Yb 2 O 3 are components added to improve the Young's modulus of the glass, increase crystallization stability, and improve durability and high-temperature melting property. In particular, when a large amount of Al 2 O 3 is introduced into glass in order to increase the bending strength and impact resistance of the glass, the role of the rare earth metal oxide as an auxiliary flux of Al 2 O 3 cannot be ignored. For example, 20%
When introducing the above Al 2 O 3 into glass, Y 2 O 3 is an essential component for producing a homogeneous glass. However, since rare earth metal oxides are relatively expensive, it is preferable to introduce as little rare earth metal oxide as possible according to the desired Young's modulus. Also, if the amount of the rare earth metal oxide is too large, the Young's modulus of the glass increases,
The specific gravity also increases greatly. On the other hand, when an appropriate amount of rare earth metal oxide is introduced into glass, it greatly contributes to improvement of the glass Young's modulus. Therefore, the total content of the rare earth metal oxide is suitably in the range of 1-27% in accordance with the Young's modulus required for the glass used as the magnetic disk substrate. In particular, the total content of the rare earth metal oxide is preferably in the range of 2 to 20%.

【0067】Li2Oはガラスの高温溶解性を改善するため
に非常に有用な成分である。さらに、少量のLi2Oを導入
すると、ガラスのヤング率はあまり変わらないが、比重
を大幅に減少できるという利点がある。また、少量でも
Li2Oを導入したガラスは、イオン交換により化学強化す
ることができ、高強度ガラスの製造の際に有利である。
しかし、Li2Oの導入量が多くなり過ぎるとガラスの結晶
化安定性が低下する傾向がある。そこで、Li2Oの導入量
は、15%以下であることが好ましい。尚、Li2O の添
加効果を得るという観点からは、Li2O の含有量は2%
以上であることが適当である。尚、ガラスの結晶化安定
性を高め、ガラスの均質性、耐久性及び高温熔融性等を
改善するという観点からは、Li2O+MgO+Y2O3+La2O3+CeO2
+Pr2O3+Nd2O3+Sm2O3+Eu2O3+Gd2O3+Tb2O3+Dy2O3+Ho2O3+E
r2O3+Tm2O3+Yb2O3>25%であることが適当である。
Li 2 O is a very useful component for improving the high-temperature melting property of glass. Furthermore, when a small amount of Li 2 O is introduced, the Young's modulus of the glass does not change much, but there is an advantage that the specific gravity can be greatly reduced. Also, even in small quantities
Glass into which Li 2 O has been introduced can be chemically strengthened by ion exchange, which is advantageous when producing high-strength glass.
However, when the amount of Li 2 O introduced is too large, the crystallization stability of the glass tends to decrease. Therefore, the amount of Li 2 O introduced is preferably 15% or less. In order to obtain distinct effects of the addition of Li 2 O, Li 2 O content is 2%
It is appropriate that the above is true. Incidentally, from the viewpoint of increasing the crystallization stability of the glass and improving the homogeneity, durability and high-temperature melting property of the glass, Li 2 O + MgO + Y 2 O 3 + La 2 O 3 + CeO 2
+ Pr 2 O 3 + Nd 2 O 3 + Sm 2 O 3 + Eu 2 O 3 + Gd 2 O 3 + Tb 2 O 3 + Dy 2 O 3 + Ho 2 O 3 + E
Suitably, r 2 O 3 + Tm 2 O 3 + Yb 2 O 3 > 25%.

【0068】TiO2はガラス骨格形成成分としても修飾成
分としても働き、ガラスの高温粘性を低め熔融性を改善
し、構造の安定化及びその耐久性を増す。また、TiO2
成分としてガラスに導入すると、ガラスの比重はあまり
増加しないのに対し、ガラスのヤング率は大きく向上で
きる。特にMgOやAl2O3を多く導入するガラスに対して
は、TiO2はガラスの高温溶解性及び結晶化安定性を向上
させ、Al2O3との組み合わせによってガラスのヤング率
を高めることが大いに期待できる。但し、あまりにも多
くのTiO2を導入すると、ガラスの分相傾向が強まり、か
えってガラスの結晶化安定性及びその均質性を悪化させ
る恐れがある。そこで、TiO2の含有量は20%以下とす
ることが適当である。特に、15%以下であることが好
ましい。尚、TiO2 の添加効果を得るという観点から
は、TiO2 の含有量は2%以上であることが適当であ
る。
TiO 2 acts both as a glass skeleton forming component and a modifying component, lowering the high-temperature viscosity of glass, improving the melting property, stabilizing the structure and increasing its durability. In addition, when TiO 2 is introduced into glass as a component, the specific gravity of glass does not increase so much, but the Young's modulus of glass can be greatly improved. Especially for glass with a high content of MgO or Al 2 O 3 , TiO 2 improves the high-temperature solubility and crystallization stability of the glass, and can increase the Young's modulus of the glass in combination with Al 2 O 3. We can expect much. However, when too much TiO 2 is introduced, the tendency of phase separation of the glass is increased, and the crystallization stability of the glass and its homogeneity may be deteriorated. Therefore, it is appropriate that the content of TiO 2 is 20% or less. In particular, it is preferably at most 15%. In order to obtain distinct effects of the addition of TiO 2, it is suitable that the content of TiO 2 is more than 2%.

【0069】ZrO2は主にガラスの耐久性及び剛性を高め
るために添加される成分である。少量のZrO2を添加する
とガラス耐熱性を向上させる効果があり、ガラスの失透
に対する結晶化安定性も向上する。しかし、8%を超え
る量のZrO2を導入するとガラスの高温溶解性が著しく悪
化し、ガラスの表面平滑性も悪くなり、比重も増加す
る。そこで、ZrO2の含有量は8%以下にすることが好ま
しく、6%以下であることがさらに好ましい。尚、ZrO
2 の添加効果を得るという観点からは、ZrO2 の含有量
は0.5%以上であることが適当である。
ZrO 2 is a component added mainly to increase the durability and rigidity of the glass. Addition of a small amount of ZrO 2 has the effect of improving the glass heat resistance, and also improves the crystallization stability against devitrification of the glass. However, when ZrO 2 is introduced in an amount exceeding 8%, the high-temperature melting property of the glass is significantly deteriorated, the surface smoothness of the glass is also deteriorated, and the specific gravity is increased. Therefore, the content of ZrO 2 is preferably set to 8% or less, more preferably 6% or less. In addition, ZrO
From the viewpoint of obtaining the effect of adding 2, ZrO 2 content is suitably not less than 0.5%.

【0070】CaO、ZnO、NiO及びFe2O3は主にガラスの高
温溶融性、結晶化安定性を改善するために導入される成
分である。これらの成分は陽イオンの半径が大きく、Mg
Oと混合してガラスに導入すると結晶化安定性を向上さ
せる効果がある。しかし、導入量が多くなり過ぎるとガ
ラスの比重も増大し、ヤング率も低下する傾向がある。
そこで、CaO、ZnO、NiO及びFe2O3の合計の含有量は、1
5%以下であることが好ましく、12%以下であること
がさらに好ましい。尚、これらの成分の添加効果を得る
という観点からは、その合計の含有量は1%以上である
ことが適当である。
CaO, ZnO, NiO and Fe 2 O 3 are components mainly introduced for improving the high-temperature melting property and crystallization stability of glass. These components have a large cation radius,
When mixed with O and introduced into glass, there is an effect of improving crystallization stability. However, when the introduction amount is too large, the specific gravity of the glass tends to increase, and the Young's modulus tends to decrease.
Therefore, the total content of CaO, ZnO, NiO and Fe 2 O 3 is 1
It is preferably at most 5%, more preferably at most 12%. From the viewpoint of obtaining the effect of adding these components, the total content is suitably 1% or more.

【0071】As2O3とSb2O3はガラスの均質化を図るため
に脱泡剤として添加される成分である。各ガラスの高温
粘性に応じて適当量のAs2O3やSb2O3或いはAs2O3+Sb2O3
をガラスに添加するともっと均質なガラスが得られる。
しかし、これらの脱泡剤の添加量が多過ぎると、ガラス
の比重が上昇してヤング率を低下させる傾向があり、か
つ溶解用白金るつぼと反応してるつぼにダメージを与え
る恐れもある。そこで、As2O3+Sb2O3の添加量は2%以
下であることが好ましく、1.5%以下であることがさら
に好ましい。
As 2 O 3 and Sb 2 O 3 are components added as a defoaming agent to homogenize the glass. Appropriate amount of As 2 O 3 or Sb 2 O 3 or As 2 O 3 + Sb 2 O 3 according to high temperature viscosity of each glass
Is added to the glass to obtain a more homogeneous glass.
However, if the added amount of these defoamers is too large, the specific gravity of the glass tends to increase and the Young's modulus tends to decrease, and the glass may react with the melting platinum crucible and damage the crucible. Therefore, the addition amount of As 2 O 3 + Sb 2 O 3 is preferably 2% or less, and more preferably 1.5% or less.

【0072】SrO、CoO、CuO、Cr2O3 、B2O3、P2O5、V2O
5等の成分はいずれもガラスの高温溶解性とか物理的な
物性を調整するときに添加される成分である。例えば、
少量のP2O5をガラスに導入するとガラスのヤング率に大
きな変化はないのに対し、ガラスの高温粘性がかなり低
くなるのでガラスの溶解を容易にする効果が大きい。ま
た、少量のV2O5、Cr2O3、CuO、CoOなどの着色剤をガラ
スに添加すると、ガラスに赤外線吸収特性を持たせ、加
熱ランプ照射による磁性膜の加熱処理を効果的に行うこ
とができるZnO+SrO+NiO+CoO+FeO+CuO+Cr2O3+B2O3+P2O5+
V2O5の合計は、ガラスの高温溶解性の改善とガラスの機
械的・熱的物性の調整という観点から、5 %以下である
ことが適当である。
SrO, CoO, CuO, Cr 2 O 3 , B 2 O 3 , P 2 O 5 , V 2 O
Components such as 5 are components added when adjusting the high-temperature solubility and physical properties of glass. For example,
When a small amount of P 2 O 5 is introduced into glass, there is no significant change in the Young's modulus of the glass. Also, when a small amount of coloring agent such as V 2 O 5 , Cr 2 O 3 , CuO, CoO is added to the glass, the glass has infrared absorption properties, and the heat treatment of the magnetic film by irradiation with a heating lamp is performed effectively. Can be ZnO + SrO + NiO + CoO + FeO + CuO + Cr 2 O 3 + B 2 O 3 + P 2 O 5 +
The total amount of V 2 O 5 is suitably 5% or less from the viewpoint of improving the high-temperature melting property of the glass and adjusting the mechanical and thermal properties of the glass.

【0073】以上の基本成分の他に原料中の不純物例え
ばガラスの清澄剤となるCl、F、SO3等はそれぞれ1%ま
でなら含有しても本発明のガラス組成物の主旨を損ねる
ことがない。
In addition to the above basic components, impurities in the raw materials, for example, Cl, F, SO 3 and the like, which are clarifiers for glass, each containing up to 1% may impair the gist of the glass composition of the present invention. Absent.

【0074】請求項18〜19に記載のガラス このガラスは、Ti、V、Cr、Mn、Fe、Co、Ni、Cu、Zn、G
a、Ge、Y、Zr、Nb、Mo、La、Ce、Pr、Nd、Pm、Sm、Eu、
Gd、Tb、Dy、Ho、Er、Tm、Yb、Hf、Ta及びWからなる群
から選ばれる1種又は2種以上の金属の酸化物を3〜3
0モル%含むことを特徴とする情報記録媒体用ガラスで
ある。YやTiの酸化物がヤング率の向上に寄与すること
は上述のとおりであるが、これらの物質の採用は、誘電
率が高く、ガラスに導入するとガラスの充填密度が高ま
るような物質を採用することによりガラスのヤング率を
高めるという本発明者らの理論的思考に基づき行われて
いるものである。同様に、導入したときガラスの充填密
度を向上させることができる上記に列記した金属の酸化
物を3〜30モル%の範囲で適宜導入させることによ
り、比較的高いヤング率(例えば、90Gpa以上)のガラス
を得ることができる。このようなガラスは、磁気ディス
ク等の情報記録媒体用基板に非常に適している。上記金
属の酸化物の導入量が3モル%未満の場合、ガラスのヤ
ング率の向上が不充分であり、好ましくない。また、上
記金属の酸化物の導入量が30モル%を超える場合、金
属の種類によって異なるが、ガラスの結晶安定性及びそ
の均質性を悪化させたり、あるいは比重が大きく増加し
て比弾性率を低下させるという理由で好ましくない。上
記金属の酸化物の導入量の下限は、ヤング率の向上とい
う観点から、好ましくは5モル%、より好ましくは10モ
ル%である。また、上記金属の酸化物の導入量の上限
は、ガラスの結晶安定性及びその均質性並びに比弾性率
の観点から、好ましくは25モル%、より好ましくは20モ
ル%である。
Glass according to claims 18 to 19 This glass is made of Ti, V, Cr, Mn, Fe, Co, Ni, Cu, Zn, G
a, Ge, Y, Zr, Nb, Mo, La, Ce, Pr, Nd, Pm, Sm, Eu,
Oxides of one or more metals selected from the group consisting of Gd, Tb, Dy, Ho, Er, Tm, Yb, Hf, Ta, and W;
An information recording medium glass containing 0 mol%. As described above, the oxides of Y and Ti contribute to the improvement of the Young's modulus.However, the use of these materials has a high dielectric constant and a material that, when introduced into glass, increases the packing density of glass. This is based on the inventors' theoretical thinking of increasing the Young's modulus of the glass. Similarly, a relatively high Young's modulus (for example, 90 Gpa or more) can be obtained by appropriately introducing a metal oxide listed above that can improve the packing density of glass when introduced in a range of 3 to 30 mol%. Glass can be obtained. Such a glass is very suitable for a substrate for an information recording medium such as a magnetic disk. If the amount of the metal oxide introduced is less than 3 mol%, the Young's modulus of the glass is insufficiently improved, which is not preferable. When the amount of the metal oxide introduced exceeds 30 mol%, the crystal stability of glass and its homogeneity are deteriorated, or the specific gravity is greatly increased, and the specific elastic modulus is increased depending on the type of metal. It is not preferred because it lowers it. The lower limit of the amount of the metal oxide to be introduced is preferably 5 mol%, more preferably 10 mol%, from the viewpoint of improving the Young's modulus. In addition, the upper limit of the amount of the metal oxide to be introduced is preferably 25 mol%, more preferably 20 mol%, from the viewpoints of crystal stability of glass, homogeneity thereof, and specific elastic modulus.

【0075】ガラス及び基板の造方法 本発明のガラスは、公知の製造方法により製造すること
ができる。例えば、高温溶融法即ち所定の割合のガラス
原料を空気中又は不活性ガス雰囲気で溶解し、バブリン
グや脱泡剤の添加や撹拌などによってガラスの均質化を
行い、周知のプレス法やダウンドーロ成形などの方法に
より板ガラスを得ることができる。その後、研削、研磨
などの加工が施され所望のサイズ、形状の磁気記録媒体
用基板とすることができる。なお、研磨ではラッピング
及び酸化セリウムなどの研磨粉によるポリシング加工を
行うことで、表面粗さ(Ra)を例えば3〜5オングストロ
ームの範囲にすることができる。
Glass and Substrate Production Method The glass of the present invention can be produced by a known production method. For example, a high-temperature melting method, that is, a glass material of a predetermined ratio is melted in the air or in an inert gas atmosphere, and the glass is homogenized by bubbling, addition of a defoaming agent, stirring, etc. Sheet glass can be obtained by such a method. Thereafter, processing such as grinding and polishing is performed to obtain a magnetic recording medium substrate having a desired size and shape. In the polishing, the surface roughness (Ra) can be set, for example, in a range of 3 to 5 Å by performing lapping and polishing with a polishing powder such as cerium oxide.

【0076】本発明のガラスは、耐熱性、表面平滑性、
化学耐久性、光学的性質及び機械的強度に優れているの
で、磁気ディスク等の情報記録媒体用基板や光磁気ディ
スク用のガラス基板や光ディスクなどの電子光学用ガラ
ス基板、次世代LCDとして気体される低温多結晶シリ
コン液晶表示装置用の耐熱性基板、或いは電気、電子部
品用のガラス基板として好適に使用できる。
The glass of the present invention has heat resistance, surface smoothness,
It has excellent chemical durability, optical properties and mechanical strength. It can be suitably used as a heat-resistant substrate for a low-temperature polycrystalline silicon liquid crystal display device or a glass substrate for electric or electronic components.

【0077】磁気ディスクの説明 本発明の磁気ディスクは、上記本発明のガラスからなる
基板上に、少なくとも磁性層を有することを特徴とす
る。本発明の磁気ディスク(ハードディスク)は、本発
明のガラスからなる基板の主表面に、少なくとも磁性層
を形成した磁気ディスク(ハードディスク)であり、以
下に説明する。磁性層以外の層としては、機能面から、
下地層、保護層、潤滑層、凹凸制御層などが挙げられ、
必要に応じて形成される。これらの各層の形成には各種
薄膜形成技術が利用される。磁性層の材料は特に制限さ
れない。磁性層としては、例えば、Co系の他、フェライ
ト系、鉄−希土類系などが挙げられる。磁性層は、水平
磁気記録、垂直磁気記録のいずれの磁性層でもよい。磁
性層としては、具体的には、例えば、Coを主成分とする
CoPt、CoCr、CoNi、CoNiCr、CoCrTa、CoPtCrやCoNiCrP
t、CoNiCrTa、CoCrPtTa、CoCrPtSiO などの磁性薄膜が
挙げられる。また、磁性層を非磁性層で分割してノイズ
低減を図った多層構成としてもよい。
Description of the Magnetic Disk The magnetic disk of the present invention is characterized by having at least a magnetic layer on the substrate made of the glass of the present invention. The magnetic disk (hard disk) of the present invention is a magnetic disk (hard disk) in which at least a magnetic layer is formed on the main surface of the glass substrate of the present invention, and will be described below. As layers other than the magnetic layer,
Underlayer, protective layer, lubricating layer, unevenness control layer and the like,
It is formed as needed. Various thin film forming techniques are used to form these layers. The material of the magnetic layer is not particularly limited. Examples of the magnetic layer include, in addition to Co-based, ferrite-based and iron-rare-earth-based. The magnetic layer may be any of horizontal magnetic recording and perpendicular magnetic recording. Specifically, the magnetic layer mainly contains Co, for example.
CoPt, CoCr, CoNi, CoNiCr, CoCrTa, CoPtCr and CoNiCrP
t, CoNiCrTa, CoCrPtTa, CoCrPtSiO and the like. Further, the magnetic layer may be divided by a non-magnetic layer to have a multilayer structure in which noise is reduced.

【0078】磁性層における下地層は、磁性層に応じて
選択される。下地層としては、例えば、Cr、Mo、Ta、T
i、W、V、B、Alなどの非磁性金属から選ばれる少な
くとも一種以上の材料、又はそれらの金属の酸化物、窒
化物、炭化物等からなる下地層等が挙げられる。Coを主
成分とする磁性層の場合には、磁気特性向上の観点から
Cr単体やCr合金であることが好ましい。下地層は単層と
は限らず、同一又は異種の層を積層した複数層構造とす
ることもできる。例えば、Al/Cr/CrMo、Al/Cr/Cr等
の多層下地層等が挙げられる。
The underlayer in the magnetic layer is selected according to the magnetic layer. As the underlayer, for example, Cr, Mo, Ta, T
Examples include at least one or more materials selected from nonmagnetic metals such as i, W, V, B, and Al, and an underlayer made of an oxide, nitride, carbide, or the like of those metals. In the case of a magnetic layer containing Co as a main component, from the viewpoint of improving the magnetic properties,
Preferably, it is Cr alone or a Cr alloy. The underlayer is not limited to a single layer, and may have a multilayer structure in which the same or different layers are stacked. For example, a multilayer base layer of Al / Cr / CrMo, Al / Cr / Cr, or the like can be given.

【0079】また、基板と磁性層の間又は磁性層の上部
に、磁気ヘッドと磁気ディスクが吸着することを防止す
るための凹凸制御層を設けてもよい。この凹凸制御層を
設けることによって、磁気ディスクの表面粗さは適度に
調整されるので、磁気ヘッドと磁気ディスクが吸着する
ことがなくなり、信頼性の高い磁気ディスクが得られ
る。凹凸制御層の材料及び形成方法は多種知られてお
り、特に制限されない。例えば、凹凸制御層の材料とし
ては、Al、Ag、Ti、Nb、Ta、Bi、Si、Zr、Cr、Cu、Au、
Sn、Pd、Sb、Ge、Mgなどから選ばれる少なくとも一種以
上の金属、又はそれらの合金、あるいは、それらの酸化
物、窒化物、炭化物等からなる下地層等が挙げられる。
形成が容易であるという観点からは、Al単体やAl合金、
酸化Al、窒化AlといったAlを主成分とする金属であるこ
とが望ましい。
An unevenness control layer may be provided between the substrate and the magnetic layer or above the magnetic layer to prevent the magnetic head and the magnetic disk from being attracted to each other. By providing the unevenness control layer, the surface roughness of the magnetic disk is appropriately adjusted, so that the magnetic head and the magnetic disk do not stick to each other, and a highly reliable magnetic disk can be obtained. There are various known materials and methods for forming the unevenness control layer, and there is no particular limitation. For example, as the material of the unevenness control layer, Al, Ag, Ti, Nb, Ta, Bi, Si, Zr, Cr, Cu, Au,
At least one or more metals selected from Sn, Pd, Sb, Ge, Mg, and the like, or alloys thereof, or an underlayer made of oxides, nitrides, carbides, and the like thereof, and the like are given.
From the viewpoint of easy formation, Al alone, Al alloy,
It is desirable to use a metal containing Al as a main component, such as Al oxide or Al nitride.

【0080】また、ヘッドスティクションを考慮する
と、凹凸形成層の表面粗さは、Rmax=50〜300オン
グストロームであることが好ましい。より好ましい範囲
は、Rmax=100〜200オングストロームである。Rm
axが50オングストローム未満の場合、磁気ディスク表
面が平坦に近いため、磁気ヘッドと磁気ディスクが吸着
し、磁気ヘッドや磁気ディスクが吸着し、磁気ヘッドや
磁気ディスクが傷ついてしまったり、吸着によるヘッド
クラッシュを起こすので好ましくない。また、Rmaxが3
00オングストロームを超える場合、グライド高さ(グ
ライドハイト)が大きくなり記録密度の低下を招くので
好ましくない。尚、凹凸制御層を設けずに、ガラス基板
表面に、エッチング処理やレーザー光の照射等の手段で
凹凸を付け、テクスチャリング処理を施してもよい。
In consideration of head stiction, the surface roughness of the unevenness forming layer is preferably Rmax = 50 to 300 Å. A more preferred range is Rmax = 100-200 Å. Rm
When ax is less than 50 angstroms, the magnetic disk surface is almost flat, so the magnetic head and the magnetic disk are attracted, the magnetic head and the magnetic disk are attracted, and the magnetic head and the magnetic disk are damaged or the head is crashed due to the attracting. It is not preferable because it causes Also, Rmax is 3
If the thickness exceeds 00 angstroms, the glide height (glide height) is increased, and the recording density is undesirably reduced. Note that, without providing the unevenness control layer, the surface of the glass substrate may be subjected to texturing by providing an unevenness by means of etching treatment, laser light irradiation, or the like.

【0081】保護層としては、例えば、Cr膜、Cr合金
膜、炭素膜、ジルコニア膜、シリカ膜等が挙げられる。
これらの保護膜は、下地層、磁性層等とともにインライ
ン型スパッタ装置等で連続して形成できる。また、これ
らの保護膜は、単層としてもよく、あるいは、同一又は
異種の膜からなる多層構成としてもよい。上記保護層上
に、あるいは上記保護膜に替えて、他の保護層を形成し
てもよい。例えば、上記保護層上にテトラアルコキシラ
ンをアルコール系の溶媒で希釈した中に、コロイダルシ
リカ微粒子を分散して塗布し、さらに焼成して酸化ケイ
素(SiO2)膜を形成してもよい。この場合、保護膜と凹
凸制御層の両方の機能を果たす。潤滑層としては多種多
様な提案がなされているが、一般的には、液体潤滑剤で
あるパーフルオロポリエーテルをフレオン系などの溶媒
で希釈し、媒体表面にディッピング法、スピンコート
法、スプレイ法によって塗布し、必要に応じて加熱処理
を行って形成する。
Examples of the protective layer include a Cr film, a Cr alloy film, a carbon film, a zirconia film, and a silica film.
These protective films can be continuously formed with an underlayer, a magnetic layer, and the like by an in-line type sputtering apparatus or the like. Further, these protective films may have a single-layer structure or a multi-layer structure composed of the same or different films. Another protective layer may be formed on the protective layer or in place of the protective film. For example, colloidal silica fine particles may be dispersed and applied in a state where tetraalkoxylan is diluted with an alcohol-based solvent on the protective layer, followed by firing to form a silicon oxide (SiO 2 ) film. In this case, it functions as both the protective film and the unevenness control layer. A wide variety of lubrication layers have been proposed, but generally, a liquid lubricant, perfluoropolyether, is diluted with a solvent such as Freon, and the medium surface is dipped, spin-coated, or sprayed. And heat-treating as necessary.

【0082】[0082]

【実施例】以下、本発明の実施例によりさらにを説明す
る。表1〜5に、実施例1〜61のガラス組成をモル%
で示し、表6〜13に、実施例100〜190のガラス
組成をモル%で示した。こららのガラスを溶解する際の
出発原料としては、SiO2、Al2O3 、Al(OH)3 、MgO 、Ca
CO3 、Y2O3、TiO2、ZrO2、Li2CO3などを用いて、表1〜
12に示した所定の割合に250〜300g秤量し、十
分に混合して調合バッチと成し、これを白金るつぼに入
れ、1550℃で空気中3〜5時間ガラスの溶解を行っ
た。熔融後、ガラス融液をサイズ180×15×25mm
或いはφ67mm×5mmのカーボンの金型に流し、ガラス
の転移点温度まで放冷してから直ちにアニール炉に入
れ、ガラスの転移温度範囲で約1時間アニールして炉内
で室温まで放冷した。得られたガラスは顕微鏡で観察で
きる結晶が析出しなかった。
The present invention will be further described below with reference to examples. Tables 1 to 5 show the glass compositions of Examples 1 to 61 by mol%.
In Tables 6 to 13, the glass compositions of Examples 100 to 190 are shown in mol%. As the starting material to be used in dissolving the glass Korara, SiO 2, Al 2 O 3 , Al (OH) 3, MgO, Ca
Using CO 3 , Y 2 O 3 , TiO 2 , ZrO 2 , Li 2 CO 3 etc., Table 1
250 to 300 g were weighed to a predetermined ratio shown in 12, and mixed well to form a blended batch, which was placed in a platinum crucible and melted in air at 1550 ° C for 3 to 5 hours. After melting, the glass melt is size 180 × 15 × 25mm
Alternatively, it was poured into a carbon mold of φ67 mm × 5 mm, allowed to cool to the glass transition point temperature, immediately put into an annealing furnace, annealed for about 1 hour in the glass transition temperature range, and allowed to cool to room temperature in the furnace. The obtained glass did not precipitate crystals that could be observed with a microscope.

【0083】180×15×25mmサイズのガラスを1
00×10×10mm、10×10×20mmに研磨した
後、ヤング率、比重、DSCの測定サンプルとした。φ
67mm×厚み5mmの円盤ガラスをφ65×厚み0.5mm
に研磨して表面粗さの測定サンプルとした。DSCの測
定は10×1×20mmの板状ガラスを150メッシュの
粉末に磨き、50mgを秤量して白金パンに入れ、MA
C−3300型DSC装置を用いて行った。ヤング率の
測定は100×10×10mmのサンプルを用いて超音波
法で行った。実施例1〜61のガラスについて、測定で
得られた表面粗さ、比重、ヤング率、比弾性率、及び転
移点温度のデータをガラスの組成と共に表1〜5に示し
た。また、得られたガラスをディスク状に切断し、主表
面を酸化セリウムにてポリッシング加工することによっ
て、外円半径32.5mm、内円半径10.0mm、厚さ0.43mmの磁
気ディスク用基板を得た。得られた基板のたわみの測定
結果も表1〜5に示す。また、実施例100〜190の
ガラスについて、測定で得られた表面粗さ、ヤング率、
及び転移点温度のデータをガラスの組成と共に表6〜1
3に示した。比較のため、特開平1−239036号に
開示されたイオン交換ガラス基板と特開平7−1877
11号公報に記載されたガラス基板とをそれぞれ比較例
1、2として、表5に組成と特性を記載する。
A glass of 180 × 15 × 25 mm size is
After being polished to 00 × 10 × 10 mm and 10 × 10 × 20 mm, it was used as a sample for measurement of Young's modulus, specific gravity, and DSC. φ
67mm x 5mm thick disk glass φ65 x 0.5mm thick
To obtain a surface roughness measurement sample. For the DSC measurement, a 10 × 1 × 20 mm plate glass was polished to 150 mesh powder, 50 mg was weighed and placed in a platinum pan,
This was performed using a C-3300 type DSC apparatus. The measurement of the Young's modulus was performed by an ultrasonic method using a sample of 100 × 10 × 10 mm. For the glasses of Examples 1 to 61, data of the surface roughness, specific gravity, Young's modulus, specific elastic modulus, and transition point temperature obtained by the measurement are shown in Tables 1 to 5 together with the glass composition. In addition, the obtained glass was cut into a disk shape, and the main surface was polished with cerium oxide to obtain a magnetic disk substrate having an outer circle radius of 32.5 mm, an inner circle radius of 10.0 mm, and a thickness of 0.43 mm. . Tables 1 to 5 also show the measurement results of the deflection of the obtained substrate. In addition, for the glasses of Examples 100 to 190, the surface roughness, the Young's modulus obtained by the measurement,
And data of the transition point temperature together with the glass composition in Tables 6-1.
3 is shown. For comparison, the ion-exchange glass substrate disclosed in JP-A-1-239036 and the ion-exchanged glass substrate disclosed in JP-A-7-1877 were used.
Table 5 shows the compositions and properties of the glass substrates described in Japanese Patent Publication No. 11 as Comparative Examples 1 and 2, respectively.

【0084】[0084]

【表1】 [Table 1]

【0085】[0085]

【表2】 [Table 2]

【0086】[0086]

【表3】 [Table 3]

【0087】[0087]

【表4】 [Table 4]

【0088】[0088]

【表5】 [Table 5]

【0089】[0089]

【表6】 [Table 6]

【0090】[0090]

【表7】 [Table 7]

【0091】[0091]

【表8】 [Table 8]

【0092】[0092]

【表9】 [Table 9]

【0093】[0093]

【表10】 [Table 10]

【0094】[0094]

【表11】 [Table 11]

【0095】[0095]

【表12】 [Table 12]

【0096】[0096]

【表13】 [Table 13]

【0097】表1〜13から明らかなように、実施例1
〜61及び100〜190のガラスはガラス転移点が高
いため、所望の熱処理(通常700℃以下で)を施して
も十分に対応できる程度の耐熱性があることが分かる。
特に、ヤング率及び/又は比弾性率などガラスの強度特
性が大きいことから、磁気記録媒体用基板として使用し
た場合、このガラス基板が高速回転しても、基板に反り
やブレが生じにくく、より基板の薄型化にも対応できる
ことが分かる。さらに、これらのガラスの表明粗度(R
a)を5オングストローム以下に研磨することができ、
平坦性に優れているので、磁気ヘッドの低浮上化を図る
ことができる。さらに、実施例1〜61のガラスは、た
わみも小さい。従って、本発明のガラスは、磁気記録媒
体用ガラス基板として有用である。
As apparent from Tables 1 to 13, Example 1
It can be seen that glasses 61 to 61 and 100 to 190 have a high glass transition point, and thus have sufficient heat resistance to perform a desired heat treatment (generally at 700 ° C. or lower).
In particular, since the strength properties of glass such as Young's modulus and / or specific elastic modulus are large, when used as a substrate for a magnetic recording medium, even if the glass substrate rotates at high speed, the substrate is less likely to warp or shake. It can be seen that the substrate can be made thinner. Furthermore, the surface roughness (R) of these glasses
a) can be polished to less than 5 angstroms,
Since the flatness is excellent, the flying height of the magnetic head can be reduced. Further, the glasses of Examples 1 to 61 also have a small deflection. Therefore, the glass of the present invention is useful as a glass substrate for a magnetic recording medium.

【0098】これに対し、比較例1の化学強化ガラス基
板は、表面平滑性及び平坦性に優れているものの、耐熱
性や比弾性率などの強度特性で本発明のガラス基板に比
べかなり劣る。従って、磁気記録媒体を製造する際、高
い保磁力を得るために行う磁気層に対する熱処理が十分
できず、高保磁力を有する磁気記録媒体が得られない。
さらに、30×106Nm/kg程度の小さな比弾性率をもつガラ
スでは、基板の反りやたわみが大きいので薄型化に対応
できない。また、比較例2の結晶化ガラス基板は、比弾
性率や平滑性の点で本発明のガラスに比べ劣る。特に基
板の平滑性が大きな結晶粒子の存在によって損なわれる
ので、高密度記録化を図ることができない。本発明のガ
ラスは、ヤング率、高比弾性率、高耐熱性を有し、磁気
ディスク用基板として極めて有用である。
On the other hand, the chemically strengthened glass substrate of Comparative Example 1 is excellent in surface smoothness and flatness, but is considerably inferior to the glass substrate of the present invention in strength characteristics such as heat resistance and specific elastic modulus. Therefore, when manufacturing a magnetic recording medium, the heat treatment on the magnetic layer for obtaining a high coercive force cannot be performed sufficiently, and a magnetic recording medium having a high coercive force cannot be obtained.
Further, glass having a small specific elastic modulus of about 30 × 10 6 Nm / kg cannot cope with thinning because the substrate warp or bend is large. The crystallized glass substrate of Comparative Example 2 is inferior to the glass of the present invention in specific elastic modulus and smoothness. In particular, high-density recording cannot be achieved because the smoothness of the substrate is impaired by the presence of large crystal grains. The glass of the present invention has a Young's modulus, a high specific modulus and a high heat resistance, and is extremely useful as a magnetic disk substrate.

【0099】ハードディスクの製造方法 図1に示すように、磁気ディスク1は、上記実施例1の
ガラスを用いて作成したガラス基板2上に、順次、凹凸
制御層3、下地層4、磁性層5、保護層6、潤滑層7を
形成したものである。各層について具体的に説明する
と、基板1は、外円半径32.5mm、内円半径10.0mm、厚さ
0.43mmの円板上に加工したものであって、その両主表面
を表面粗さがRa=4オングストローム、Rmax=40オン
グストロームとなるように精密研磨したものである。凹
凸制御層は、平均粗さ50オングストローム、表面粗さ
Rmaxが150オングストローム、窒素の含有量が5〜3
5%のAlNの薄膜である。下地層は、厚さ約600オン
グストロームのCrVの薄膜で、組成比はCr:83at
%、V:17at%である。磁性層は、厚さ約300オ
ングストロームのCoPtCrの薄膜で、組成比はCo:76a
t%、Pt:6.6at%、Cr:17.4at%である。
保護層は、厚さ約100オングストロームのカーボン薄
膜である。潤滑層は、パーフルオロポリエーテルからな
る潤滑層をスピンコート法によって、カーボン保護層上
に塗布して厚さ8オングストロームに形成したものであ
る。
Manufacturing Method of Hard Disk As shown in FIG. 1, a magnetic disk 1 is provided on a glass substrate 2 formed by using the glass of the above-described first embodiment, in this order, a concavo-convex control layer 3, a base layer 4, and a magnetic layer 5 , A protective layer 6 and a lubricating layer 7. Explaining each layer specifically, the substrate 1 has an outer circle radius of 32.5 mm, an inner circle radius of 10.0 mm, and a thickness of
It was machined on a 0.43 mm disk, and its main surfaces were precisely polished so that the surface roughness was Ra = 4 Å and Rmax = 40 Å. The roughness control layer has an average roughness of 50 Å and a surface roughness of
Rmax 150 Å, nitrogen content 5-3
5% AlN thin film. The underlayer is a CrV thin film having a thickness of about 600 Å, and the composition ratio is Cr: 83 at.
%, V: 17 at%. The magnetic layer is a thin film of CoPtCr having a thickness of about 300 Å, and the composition ratio is Co: 76a.
t%, Pt: 6.6 at%, Cr: 17.4 at%.
The protective layer is a carbon thin film having a thickness of about 100 angstroms. The lubricating layer is formed by applying a lubricating layer made of perfluoropolyether onto the carbon protective layer by spin coating to a thickness of 8 Å.

【0100】次に、磁気ディスクの製造方法について説
明する。まず、実施例1で製造したガラスを、外円半径
32.5mm、内円半径10.0mm、厚さ0.5mmの円板上に研削加
工し、その両主表面を表面粗さがRa=4オングストロー
ム、Rmax=40オングストロームとなるように精密研磨
して磁気ディスク用ガラス基板を得る。次いで、上記ガ
ラス基板を基板ホルダーにセットした後、インラインス
パッタ装置の仕込み室に送り込む。続いて、ガラス基板
のセットされたホルダーを、Alターゲットがエッチされ
た第一チャンバーに送り込み、圧力4mtorr 、基板温度
350℃、Ar+N2ガス(N2=4%)雰囲気でスパッタリ
ングする。その結果、ガラス基板上に、表面粗さRmax=
150オングストローム、膜厚50オングストロームの
AlN薄膜(凹凸形成層)が得られた。次に、AlNが成膜
されたガラス基板のセットされたホルダーを、CrV(C
r:83at%、V:17at%)ターゲットが設置さ
れた第二チャンバー、CoPtCr(Co:76at%、Pt:
6.6at%、Cr:17.4at%)ターゲットが設置
された第三チャンバーに連続的に順次送り込み、基板上
に成膜する。これらの膜は、圧力2mtorr 、基板温度3
50℃、Ar雰囲気中でスパッタリングし、膜厚約60
0オングストロームのCrV下地層、膜厚約300オング
ストロームのCoPtCr磁性層を得る。
Next, a method for manufacturing a magnetic disk will be described. First, the glass produced in Example 1 was radiated to the outer circle radius.
32.5mm, inner circle radius 10.0mm, thickness 0.5mm on a disk, grinding both surfaces, precision polishing so that the surface roughness Ra = 4 angstrom, Rmax = 40 angstrom magnetic disk Obtain a glass substrate for use. Next, the glass substrate is set on a substrate holder, and then sent into a charging chamber of an in-line sputtering apparatus. Subsequently, the holder on which the glass substrate is set is fed into the first chamber where the Al target is etched, and is sputtered in an atmosphere of Ar + N 2 gas (N 2 = 4%) at a pressure of 4 mtorr, a substrate temperature of 350 ° C. As a result, the surface roughness Rmax =
150 angstroms and 50 angstroms
An AlN thin film (irregularity forming layer) was obtained. Next, the holder on which the glass substrate on which AlN was formed was set was placed in a CrV (C
r: 83 at%, V: 17 at%) a second chamber in which a target is installed, CoPtCr (Co: 76 at%, Pt:
(6.6 at%, Cr: 17.4 at%) are sequentially and sequentially fed into a third chamber in which a target is installed, and a film is formed on a substrate. These films have a pressure of 2 mtorr and a substrate temperature of 3 mtorr.
Sputtering in Ar atmosphere at 50 ° C.
A CrV underlayer of 0 Å and a CoPtCr magnetic layer of about 300 Å in thickness are obtained.

【0101】次いで、凹凸制御層、下地層、磁性層が形
成された積層体を、加熱処理するための加熱ヒーターが
設けられた第四チャンバーに送り込む。このとき第四チ
ャンバー内をArガス(圧力2mtorr )雰囲気にして熱
処理を行う。上記基板をカーボンターゲットが設置され
た第五チャンバーに送り込み、Ar+H2ガス(H2=6%)
雰囲気中で成膜したこと以外は上記CrV下地層及びCoPt
Cr磁性層と同じ成膜条件で、膜厚約100オングストロ
ームのカーボン保護層を得る。最後に、カーボン保護層
の形成までを終えた基板を上記インラインスパッタ装置
から取り出し、そのカーボン保護層の表面に、ディッピ
ング法によってパーフルオロポリエーテルを塗布して厚
さ8オングストロームの潤滑層を形成して磁気ディスク
を得た。以上、好ましい実施例を挙げて本発明を説明し
たが、本発明は上記実施例に限定されるものではない。
Next, the laminate on which the unevenness control layer, the underlayer, and the magnetic layer are formed is sent to a fourth chamber provided with a heater for performing a heat treatment. At this time, heat treatment is performed in an atmosphere of Ar gas (pressure 2 mtorr) in the fourth chamber. The above substrate is sent to the fifth chamber where the carbon target is installed, and Ar + H 2 gas (H 2 = 6%)
Except that the film was formed in an atmosphere, the above CrV underlayer and CoPt
Under the same film forming conditions as the Cr magnetic layer, a carbon protective layer having a thickness of about 100 Å is obtained. Finally, the substrate up to the formation of the carbon protective layer is taken out of the inline sputtering apparatus, and a perfluoropolyether is applied on the surface of the carbon protective layer by dipping to form a lubricating layer having a thickness of 8 Å. To obtain a magnetic disk. As described above, the present invention has been described with reference to the preferred embodiments, but the present invention is not limited to the above embodiments.

【0102】[0102]

【発明の効果】本発明のガラスを用いることで、36×10
6Nm/kg以上の高い比弾性率または110GPa以上大き
なヤング率及び700℃以上の高い転移温度(高い耐熱
性)を有し、優れた表面平滑性(表面粗さRa<9オン
グストローム)を有し、かつ強度の大きいガラス基板を
提供することができる。また、本発明のガラスは耐熱性
に優れるため、磁気膜の特性向上に必要な熱処理を基板
が変形すること無しに施すことができ、平坦性に優れる
ため、磁気ヘッドの低浮上化即ち高密度記録化が達成で
き、比弾性率及び強度が大きいので、磁気ディスクの薄
型化を達成できると共に磁気ディスクの破損も避けられ
る。さらにガラスとしても比較的安定に得ることがで
き、工業的規模での生産が容易であるため、安価な次世
代磁気記録媒体用基板ガラスとして大いに期待できる。
さらに、本発明によれば、磁気ヘッドの低浮上化に対応
できる高密度記録化が可能な磁気ディスク、及び薄型化
をしても破損を回避できる磁気ディスクを提供すること
ができる。
According to the glass of the present invention, 36 × 10
Has a high specific elastic modulus of 6 Nm / kg or more or a Young's modulus of 110 GPa or more, a high transition temperature (high heat resistance) of 700 ° C or more, and excellent surface smoothness (surface roughness Ra <9 Å). In addition, a glass substrate having high strength can be provided. Further, since the glass of the present invention has excellent heat resistance, the heat treatment required for improving the properties of the magnetic film can be performed without deforming the substrate. Since recording can be achieved and the specific elastic modulus and strength are large, the magnetic disk can be made thinner and the magnetic disk can be prevented from being damaged. Further, since it can be obtained relatively stably as glass and is easy to produce on an industrial scale, it can be greatly expected as an inexpensive substrate glass for next-generation magnetic recording media.
Further, according to the present invention, it is possible to provide a magnetic disk capable of high-density recording capable of coping with a low flying height of the magnetic head and a magnetic disk capable of avoiding breakage even if the magnetic head is reduced in thickness.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】 ガラス基板2上に、順次、凹凸制御層3、下
地層4、磁性層5、保護層6、潤滑層7を形成した磁気
ディスク1の概略断面図。
FIG. 1 is a schematic cross-sectional view of a magnetic disk 1 in which a concavo-convex control layer 3, a base layer 4, a magnetic layer 5, a protective layer 6, and a lubricating layer 7 are sequentially formed on a glass substrate 2.

フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 FI G11B 5/84 G11B 5/84 A 7/24 526 7/24 526V Continued on the front page (51) Int.Cl. 6 Identification code FI G11B 5/84 G11B 5/84 A 7/24 526 7/24 526V

Claims (21)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 比弾性率Gが36×106Nm/kg以上であるこ
とを特徴とする基板用ガラス。
1. A glass for a substrate, wherein the specific elastic modulus G is 36 × 10 6 Nm / kg or more.
【請求項2】 表面粗さ(Ra)を9Å以下とすることがで
きる請求項1に記載のガラス。
2. The glass according to claim 1, wherein the surface roughness (Ra) can be set to 9 ° or less.
【請求項3】 転移点温度が700℃より高い請求項1
又は2に記載のガラス。
3. The method according to claim 1, wherein the transition point temperature is higher than 700 ° C.
Or the glass according to 2.
【請求項4】 ガラスを構成する酸化物として、モル%
で表示して、SiO2: 25-52%、Al2O3: 5-35%、MgO: 15-
45%、Y2O3: 0-17%、TiO2: 0-25%、ZrO2: 0-8%、Ca
O: 1-30 %、但し、Y2O3 + TiO2 + ZrO2 + CaO: 5-30
%、B2O3+P2O5: 0-5%である組成を有し、かつ比弾性率
が36×106Nm/kg以上であることを特徴とするガラ
ス。
4. An oxide constituting the glass, which is represented by mol%
Expressed as: SiO 2 : 25-52%, Al 2 O 3 : 5-35%, MgO: 15-
45%, Y 2 O 3: 0-17%, TiO 2: 0-25%, ZrO 2: 0-8%, Ca
O: 1-30%, provided that Y 2 O 3 + TiO 2 + ZrO 2 + CaO: 5-30
%, B 2 O 3 + P 2 O 5 : Glass having a composition of 0-5% and a specific elastic modulus of 36 × 10 6 Nm / kg or more.
【請求項5】 As2O3 + Sb2O3: 0-3%、及びZnO + SrO
+ NiO + CoO + FeO + CuO + Cr2O3 + Fe2O3 + B2O3 + P
2O5 + V2O5: 0-5 %をさらに含有する請求項4に記載の
ガラス。
5. As 2 O 3 + Sb 2 O 3 : 0-3%, and ZnO + SrO
+ NiO + CoO + FeO + CuO + Cr 2 O 3 + Fe 2 O 3 + B 2 O 3 + P
2 O 5 + V 2 O 5 : glass according to claim 4, further containing 0-5%.
【請求項6】 ガラスを構成する酸化物として、モル%
で表示して、SiO2: 25-50 %、Al2O3: 10-37%、MgO: 5
-40 %、TiO2: 1-25%である組成を有し、比弾性率が36
×106Nm/kg以上であることを特徴とするガラス。
6. An oxide constituting the glass, which is represented by mol%
Expressed as: SiO 2 : 25-50%, Al 2 O 3 : 10-37%, MgO: 5
-40%, TiO 2 : 1-25%, with specific modulus of 36
× 10 6 Nm / kg or more.
【請求項7】 Y2O3: 0-17%、ZrO2: 0-8 %、CaO: 0-2
5 %、As2O3 + Sb2O3: 0-3%、及びZnO + SrO + NiO +
CoO + FeO + CuO + Fe2O3 + Cr2O3 + B2O3 + P2O5 + V2
O5: 0-5 %をさらに含む請求項6に記載のガラス。
7. Y 2 O 3 : 0-17%, ZrO 2 : 0-8%, CaO: 0-2
5%, As 2 O 3 + Sb 2 O 3: 0-3%, and ZnO + SrO + NiO +
CoO + FeO + CuO + Fe 2 O 3 + Cr 2 O 3 + B 2 O 3 + P 2 O 5 + V 2
O 5: glass according to claim 6, further comprising 0-5%.
【請求項8】 ガラスを構成する酸化物として、モル%
で表示して、SiO2: 25-50 %、Al2O3: 20-40%、CaO: 8
-30 %、Y2O3: 2-15%である組成を有し、比弾性率が36
×106Nm/kg以上であることを特徴とするガラス。
8. An oxide constituting the glass, which is represented by mol%
Expressed as: SiO 2 : 25-50%, Al 2 O 3 : 20-40%, CaO: 8
-30%, Y 2 O 3 : 2-15%, with specific modulus of 36
× 10 6 Nm / kg or more.
【請求項9】 MgO: 0-20 %、TiO2: 0-25%、Li2O: 0-
12%、As2O3 + Sb2O3: 0-3%、及びZnO + SrO + NiO +
CoO + FeO + CuO + Fe2O3 + Cr2O3 + B2O3 + P2O5 + V2
O5: 0-5 %をさらに含む請求項8に記載のガラス。
9. MgO: 0-20%, TiO 2 : 0-25%, Li 2 O: 0-
12%, As 2 O 3 + Sb 2 O 3: 0-3%, and ZnO + SrO + NiO +
CoO + FeO + CuO + Fe 2 O 3 + Cr 2 O 3 + B 2 O 3 + P 2 O 5 + V 2
O 5: glass according to claim 8, further comprising 0-5%.
【請求項10】 ヤング率が110GPa以上である請
求項1〜9のいずれか1項に記載のガラス。
10. The glass according to claim 1, having a Young's modulus of 110 GPa or more.
【請求項11】 ヤング率が110GPa以上であるこ
とを特徴とする基板用ガラス。
11. A glass for a substrate having a Young's modulus of 110 GPa or more.
【請求項12】 表面粗さ(Ra)を9Å以下とすることが
できる請求項11に記載のガラス。
12. The glass according to claim 11, wherein the glass can have a surface roughness (Ra) of 9 ° or less.
【請求項13】 転移点温度が700℃より高い請求項
11又は12に記載のガラス。
13. The glass according to claim 11, having a transition point temperature higher than 700 ° C.
【請求項14】ガラスを構成する酸化物としてモル%表
示で、SiO2:30−60%、Al2O3:0−35%、MgO:0
−40%、Li2O:0−20%、Y2O3:0−27%、La
2O3:0−27%、CeO2:0−27%、Pr2O3:0−27
%、Nd2O3:0−27%、Sm2O3:0−27%、Eu2O3:0−
27%、Gd2O3:0−27%、Tb2O3:0−27%、Dy
2O3:0−27%、Ho2O3:0−27%、Er2O3:0−27
%、Tm2O3:0−27%、Yb2O3:0−27%、但し、Y2O
3 + La2O3 + CeO2 + Pr2O3 + Nd2O3 + Sm2O3 + Eu2O3
+ Gd2O3 + Tb2O3 + Dy2O3 + Ho2O3 + Er2O3 + Tm2O3 +
Yb2O3:1−27%、Li2O + MgO + Y2O3 + La2O3 + Ce
O2 + Pr2O3 + Nd2O3 + Sm2O3 + Eu2O3 + Gd2O3 + Tb2O
3 + Dy2O3 + Ho2O3 + Er2O3 + Tm2O3 + Yb2O3>25%
である組成を有し、かつヤング率が110GPa以上で
あることを特徴とするガラス。
14. An oxide constituting glass, expressed as mol%, SiO 2 : 30-60%, Al 2 O 3 : 0-35%, MgO: 0
-40%, Li 2 O: 0-20 %, Y 2 O 3: 0-27%, La
2 O 3 : 0-27%, CeO 2 : 0-27%, Pr 2 O 3 : 0-27
%, Nd 2 O 3: 0-27 %, Sm 2 O 3: 0-27%, Eu 2 O 3: 0-
27%, Gd 2 O 3: 0-27%, Tb 2 O 3: 0-27%, Dy
2 O 3 : 0-27%, Ho 2 O 3 : 0-27%, Er 2 O 3 : 0-27
%, Tm 2 O 3: 0-27 %, Yb 2 O 3: 0-27%, however, Y 2 O
3 + La 2 O 3 + CeO 2 + Pr 2 O 3 + Nd 2 O 3 + Sm 2 O 3 + Eu 2 O 3
+ Gd 2 O 3 + Tb 2 O 3 + Dy 2 O 3 + Ho 2 O 3 + Er 2 O 3 + Tm 2 O 3 +
Yb 2 O 3 : 1-27%, Li 2 O + MgO + Y 2 O 3 + La 2 O 3 + Ce
O 2 + Pr 2 O 3 + Nd 2 O 3 + Sm 2 O 3 + Eu 2 O 3 + Gd 2 O 3 + Tb 2 O
3 + Dy 2 O 3 + Ho 2 O 3 + Er 2 O 3 + Tm 2 O 3 + Yb 2 O 3 > 25%
The glass which has the composition which is below, and Young's modulus is 110 GPa or more.
【請求項15】 TiO2:0−20%、 ZrO2:0−8%、
但し、TiO2 + ZrO2:0−20%、CaO :0−15%、Zn
O:0−15%、NiO: 0−15%、Fe2O3:0−15%、但
し、CaO + ZnO+ NiO+ Fe2O3:0−15%をさらに含む
請求項14に記載のガラス。
15. TiO 2 : 0-20%, ZrO 2 : 0-8%,
However, TiO 2 + ZrO 2 : 0-20%, CaO: 0-15%, Zn
O: 0-15%, NiO: 0-15 %, Fe 2 O 3: 0-15%, however, CaO + ZnO + NiO + Fe 2 O 3: 0-15% more glass according to claim 14 comprising a.
【請求項16】 As2O3 + Sb2O3:0−2%、B2O3+P2O5
+Nb2O5 + V2O5+Cr2O3+ Ga2O3 + CoO + SrO + BaO+Sr
O + FeO+CuO+MnO + Na2O + K2O:0−8%をさらに含
む請求項14または15に記載のガラス。
16. As 2 O 3 + Sb 2 O 3 : 0-2%, B 2 O 3 + P 2 O 5
+ Nb 2 O 5 + V 2 O 5 + Cr 2 O 3 + Ga 2 O 3 + CoO + SrO + BaO + Sr
O + FeO + CuO + MnO + Na 2 O + K 2 O: 0-8% more glass according to claim 14 or 15 including.
【請求項17】 比弾性率Gが36×106Nm/kg以上である
請求項14〜16のいずれか1項に記載のガラス。
17. The glass according to claim 14, wherein the specific elastic modulus G is 36 × 10 6 Nm / kg or more.
【請求項18】 Ti、V、Cr、Mn、Fe、Co、Ni、Cu、Z
n、Ga、Ge、Y、Zr、Nb、Mo、La、Ce、Pr、Nd、Pm、Sm、
Eu、Gd、Tb、Dy、Ho、Er、Tm、Yb、Hf、Ta及びWからな
る群から選ばれる1種又は2種以上の金属の酸化物を3
〜30モル%含むことを特徴とする情報記録媒体用ガラ
ス。
18. Ti, V, Cr, Mn, Fe, Co, Ni, Cu, Z
n, Ga, Ge, Y, Zr, Nb, Mo, La, Ce, Pr, Nd, Pm, Sm,
Oxides of one or more metals selected from the group consisting of Eu, Gd, Tb, Dy, Ho, Er, Tm, Yb, Hf, Ta and W
A glass for an information recording medium characterized by containing about 30 mol%.
【請求項19】 ヤング率が90GPa以上である請求
項18記載のガラス。
19. The glass according to claim 18, having a Young's modulus of 90 GPa or more.
【請求項20】 磁気ディスクの基板用ガラスである請
求項1〜19のいずれか1項に記載のガラス。
20. The glass according to claim 1, which is a glass for a substrate of a magnetic disk.
【請求項21】 請求項20に記載のガラスからなる基
板上に、少なくとも磁性層を有することを特徴とする磁
気ディスク。
21. A magnetic disk having at least a magnetic layer on a substrate made of the glass according to claim 20.
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