JP3379621B2 - Material used for information recording medium substrate, substrate using the same, and magnetic disk using the substrate - Google Patents

Material used for information recording medium substrate, substrate using the same, and magnetic disk using the substrate

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JP3379621B2 JP23393696A JP23393696A JP3379621B2 JP 3379621 B2 JP3379621 B2 JP 3379621B2 JP 23393696 A JP23393696 A JP 23393696A JP 23393696 A JP23393696 A JP 23393696A JP 3379621 B2 JP3379621 B2 JP 3379621B2
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Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention 【発明の属する技術分野】TECHNICAL FIELD OF THE INVENTION

【0001】本発明は、磁気ディスク、光ディスク等の
情報記録媒体用基板に用いられる材料に関し、特に、ガ
ラスからなる情報記録媒体用基板材料、この材料からな
る基板、及びこの基板を用いた情報記録媒体に関する。
The present invention relates to a material used for a substrate for an information recording medium such as a magnetic disk or an optical disk, and particularly to a substrate material for an information recording medium made of glass, a substrate made of this material, and an information recording using this substrate. Regarding the medium.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、例えば、磁気ディスク(ハードデ
ィスク)用の基板としては、アルミニウム基板、ガラス
基板、セラミック基板、カーボン基板等があり、サイズ
や用途に応じて、主に、アルミニウム基板とガラス基板
とが実用されている。中でもガラス基板は、表面の平滑
性や機械的強度が優れていることから、現在及び将来的
な基板としても注目を浴びている。そのようなガラス基
板としては、ガラス基板表面をイオン交換で強化した化
学強化ガラス基板や、実質的にアルカリを含まない無ア
ルカリガラス基板が知られている。例えば、化学強化ガ
ラス基板として、特開平1−239036号公報には、
重量%でSiO2を60〜70%、Al2O3 を0.5〜14
%、R2O (ただしRはアルカリ金属)を10〜32%、
ZnO を1〜15%、B2O3を1.1〜14%含むガラスを
イオン交換することにより強化した磁気記録媒体用ガラ
ス基板が開示されている。また、無アルカリガラス基板
として、特開平8−169724号公報に、重量%で、
SiO2+Al2O3 を35〜55%、B2O3を0〜10%、CaO
+BaO を40〜60%、ただしCaO ≧5%、ZnO +SrO
+MgO を0〜10%、TiO2を0〜5%、ZrO2を0〜5
%、As2O3 および/またはSb2O3 を0〜1%を含有する
組成の磁気ディスク用ガラス基板が開示されている。
2. Description of the Related Art Conventionally, for example, as substrates for magnetic disks (hard disks), there are aluminum substrates, glass substrates, ceramic substrates, carbon substrates, etc., and aluminum substrates and glass substrates are mainly used according to size and use. And are in practical use. Among them, the glass substrate is attracting attention as a present and future substrate because of its excellent surface smoothness and mechanical strength. As such a glass substrate, a chemically strengthened glass substrate in which the surface of the glass substrate is strengthened by ion exchange and a non-alkali glass substrate containing substantially no alkali are known. For example, as a chemically strengthened glass substrate, Japanese Patent Laid-Open No. 1-239036 discloses:
By weight%, SiO 2 is 60 to 70% and Al 2 O 3 is 0.5 to 14
%, R 2 O (where R is an alkali metal) 10 to 32%,
A glass substrate for a magnetic recording medium is disclosed, which is reinforced by ion exchange of a glass containing 1 to 15% of ZnO and 1.1 to 14% of B 2 O 3 . In addition, as a non-alkali glass substrate, in JP-A-8-169724, the weight percentage is
SiO 2 + Al 2 O 3 35-55%, B 2 O 3 0-10%, CaO
+ BaO 40 to 60%, CaO ≥5%, ZnO + SrO
+ MgO 0-10%, TiO 2 0-5%, ZrO 2 0-5
%, As 2 O 3 and / or Sb 2 O 3 in a composition of 0 to 1% is disclosed.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】ところで、最近のHD
D(Hard disk driver)は、パソコンの高性能化に対応
して記録容量を高めることが要求されており、さらに、
パソコンの小型化と高性能化に対応してディスク基板の
小型化及び薄型化が提言されている。将来の2.5インチ
のディスク基板の厚さは、現在の0.631 mmから0.43mm、
さらには0.381mmへと薄くなることが予想されている。
ところで、ディスク基板は薄くなればなるほど、たわみ
や反りが生じやすくなる。一方、記録密度を高めること
を目的として、ディスクと磁気ヘッドとの間隔は狭くな
る一方であり、上記のような基板のたわみや反りは、磁
気ディスクの破損の原因となる。ところが、現在、ハー
ドディスクに使用されているガラスからなる基板を現在
より薄くした場合、上記たわみや反りによる問題が顕在
化し、薄型化に対応できない。ディスク基板がどの程度
のたわみや反り生じるかは、基板材料の比弾性率(=ヤ
ング率/比重)から評価できる。薄型化した場合でも基
板のたわみや反りを問題が生じない程度に抑えるために
は、比弾性率がより高い材料が必要となる。ところが、
ある特定の系のガラス組成において、どのような成分が
比弾性率にどの様な影響を与えるかは、必ずしも明確に
分かっていない。
By the way, recent HD
D (Hard disk driver) is required to increase the recording capacity in response to the high performance of personal computers.
It has been proposed to reduce the size and thickness of the disk substrate in response to the downsizing and performance of personal computers. Future 2.5 inch disk substrate thickness will be 0.631 mm to 0.43 mm,
Furthermore, it is expected to be reduced to 0.381 mm.
By the way, the thinner the disk substrate, the more likely it is to bend or warp. On the other hand, for the purpose of increasing the recording density, the distance between the disk and the magnetic head is becoming narrower, and the above-mentioned bending and warpage of the substrate causes damage to the magnetic disk. However, if the glass substrate currently used for hard disks is made thinner than it is now, the problems due to the above-mentioned bending and warping become apparent, and it is not possible to reduce the thickness. The degree of bending and warpage of the disk substrate can be evaluated from the specific elastic modulus (= Young's modulus / specific gravity) of the substrate material. A material having a higher specific elastic modulus is required in order to suppress the bending and warpage of the substrate to the extent that problems do not occur even when the substrate is made thin. However,
In the glass composition of a particular system, it is not always clearly known what component affects the specific elastic modulus.

【0004】そこで本発明は、ガラスの比弾性率と組成
との理論関係を確立し、それに基づいた計算から磁気デ
ィスク基板等の情報記録媒体用基板として好ましいSiO2
−Al2O3 −RO系(ただし、Rは二価金属である)のガラ
スに注目し、かつこのガラスおいて、ガラス成分が比弾
性率に与える影響を調べ、かつ現在知られている材料よ
り高い比弾性率を示す新たなガラス材料を提供すること
を目的とする。さらに本発明は、上記材料を用いた情報
記録媒体用基板、及びこの基板を用いた情報記録媒体を
提供することを目的とする。
Therefore, the present invention establishes a theoretical relationship between the specific elastic modulus of glass and the composition, and based on the calculation based on the theoretical relationship, it is preferable to use SiO 2 as a substrate for information recording media such as a magnetic disk substrate.
-Al 2 O 3 -RO system glass (where R is a divalent metal) is focused on, and in this glass, the influence of the glass component on the specific elastic modulus was investigated, and the materials currently known. It is an object of the present invention to provide a new glass material having a higher specific elastic modulus. It is another object of the present invention to provide an information recording medium substrate using the above material, and an information recording medium using this substrate.

【0005】[0005]

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に本発明は、以下のとおりである。SiO2−Al2O3 −RO系
(ただし、Rは二価金属である)のガラスからなる情報
記録媒体用基板に用いる材料であって、上記ガラスが20
モル%以上のAl2O3 を含有することを特徴とする材料
〔請求項1〕、SiO2−Al2O3 −RO系(ただし、Rは二価
金属である)のガラスからなる情報記録媒体用基板に用
いる材料であって、上記ガラスがROとしてMgO を20モ
ル%以上含有することを特徴とする材料〔請求項2〕 SiO2−Al2O3 −RO系(ただし、Rは二価金属である)の
ガラスからなる情報記録媒体用基板に用いる材料であっ
て、上記ガラスがさらにY2O3を含有することを特徴とす
る材料〔請求項3〕、Y2O3を0.5〜17モル%含有す
る上記の材料〔請求項4〕、TiO2及びZrO2のいずれか一
方または両方を含有する上記のいずれかの材料〔請求項
5〕、前記本発明の材料からなることを特徴とする情報
記録媒体用基板〔請求項6〕、情報記録媒体が、磁気デ
ィスクである上記の基板〔請求項7〕、及び上記本発明
の基板上に、少なくとも磁性層を有することを特徴とす
る磁気ディスク〔請求項8〕。
To achieve the above object, the present invention is as follows. A material used for a substrate for an information recording medium, which is made of glass of SiO 2 —Al 2 O 3 —RO system (where R is a divalent metal), wherein the glass is 20
Information recording comprising a material characterized by containing mol% or more of Al 2 O 3 [Claim 1], a glass of SiO 2 —Al 2 O 3 —RO system (where R is a divalent metal). A material used for a medium substrate, characterized in that the glass contains 20 mol% or more of MgO as RO [claim 2] SiO 2 -Al 2 O 3 -RO system (where R is two A material used for a substrate for an information recording medium made of glass (which is a valent metal), wherein the glass further contains Y 2 O 3 (claim 3), Y 2 O 3 is 0. .5 to 17 mol% of the above-mentioned material (claim 4), any one of the above-mentioned materials containing either or both of TiO 2 and ZrO 2 (claim 5), and the material of the present invention An information recording medium substrate [claim 6], wherein the information recording medium is a magnetic disk. [7] and a magnetic disk having at least a magnetic layer on the substrate of the present invention [claim 8].

【0006】即ち、本発明者らによる研究の結果、Al2O
3 、MgO 、及びY2O3が比弾性率及びヤング率の向上に寄
与し、Al2O3 又はMgO を比較的多量に含有させること、
又はY2O3を添加することにより、比弾性率が高いガラス
が得られることを見出した。この事実に基づき、ガラス
の組成を適宜決定することにより、所望の比弾性率及び
ヤング率のガラスを得ることができる。
That is, as a result of the study by the present inventors, Al 2 O
3 , MgO, and Y 2 O 3 contribute to the improvement of the specific elastic modulus and Young's modulus, and contain Al 2 O 3 or MgO in a relatively large amount,
It was also found that glass having a high specific elastic modulus can be obtained by adding Y 2 O 3 . Based on this fact, a glass having a desired specific elastic modulus and Young's modulus can be obtained by appropriately determining the composition of the glass.

【0007】[0007]

【発明の実施の態様】以下、本発明をさらに詳細に説明
する。情報記録媒体用基板材料及び基板の説明 (本発明のガラスに共通する事項の説明)本発明で用い
るSiO2−Al2O3 −RO系ガラスにおいて、ガラスの基本成
分の一つであるSiO2は、網目構造形成酸化物として働
き、ガラス構造の結晶化安定性を向上させる作用を有す
る。尚、SiO2の含有量は25〜55モル%とすることが
好ましい。25モル%以下であるとガラスの結晶化安定
性が悪化し、量産できるほどの安定したガラスを造るこ
とが困難である。また、55モル%を超えると、ガラス
の比弾性率やヤング率が急に低下する。さらに好ましく
は、30〜50モル%である。二価金属の酸化物である
ROとしては、MgO 、CaO 、ZnO 、NiO 等を用いることが
できる。但し、これらに限定する意図はない。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION The present invention will be described in more detail below. In SiO 2 -Al 2 O 3 -RO based glass used in information (description of items common to the glass of the present invention) recording medium substrate material and description of the substrate present invention, SiO 2 is one of the fundamental components of the glass Acts as a network structure-forming oxide and has the effect of improving the crystallization stability of the glass structure. The content of SiO 2 is preferably 25 to 55 mol%. If it is 25 mol% or less, the crystallization stability of the glass deteriorates, and it is difficult to produce a stable glass that can be mass-produced. On the other hand, if it exceeds 55 mol%, the specific elastic modulus and Young's modulus of the glass suddenly decrease. More preferably, it is 30 to 50 mol%. It is a divalent metal oxide
As RO, MgO, CaO, ZnO, NiO or the like can be used. However, there is no intention to limit to these.

【0008】また、ガラスの比弾性率やヤング率を向上
させるために、さらにTiO2及びZrO2 から選ばれる一種を
加えることが好ましい。その場合、TiO2及び/又はZrO2
は、合計5モル%以上とすることにより、比弾性率及び
ヤング率を向上させる効果を得ることができる。TiO
2は、ガラスの比重をあまり増加させることなくヤング
率を向上させることができる。しかしながら、あまり多
く含有させると、ガラスの分相傾向が強まり、かえって
ガラスの結晶化安定性及び均質性を悪化させる恐れがあ
るので、25モル%以下とすることが好ましく、20モ
ル%以下とすることがさらに好ましい。ZrO2の含有量は
8モル%以下に抑えることが好ましい。8モル%を超え
ると、ガラスの高温溶解性が著しく悪化し、ガラスの表
面平坦性も悪くなり、比重も増加してしまうからであ
る。さらには、6モル%以下とすることが好ましい。
Further, the specific elastic modulus and Young's modulus of glass are improved.
In order to further2And ZrO2 A kind selected from
It is preferable to add. In that case, TiO2And / or ZrO2
Is 5 mol% or more in total, so that the specific elastic modulus and
The effect of improving the Young's modulus can be obtained. TiO
2Young without significantly increasing the specific gravity of the glass
The rate can be improved. However, too many
If it is contained in a large amount, the phase separation tendency of the glass is strengthened, rather
It may deteriorate the crystallization stability and homogeneity of the glass.
Therefore, it is preferable to set the amount to 25 mol% or less.
It is even more preferable that the content be less than 1%. ZrO2The content of
It is preferable to suppress it to 8 mol% or less. Over 8 mol%
Then, the high temperature solubility of the glass deteriorates significantly, and the glass surface
This is because the surface flatness also deteriorates and the specific gravity also increases.
It Further, it is preferably 6 mol% or less.

【0009】また、ガラスの溶解性を挙げるために、Li
2Oを加えることもできる。但し、あまり多く加えるとヤ
ング率が小さくなる傾向があるので、少量( 例えば、2
モル%以下)とすることが好ましい。また、Li2Oを含有
させた場合、ガラスの強度を高めるためにイオン交換に
よる化学強化処理を行うことが可能である。一方、Li2O
を含有させない無アルカリガラスの場合は、このガラス
からなる基板上に薄膜を形成した場合、アルカリ成分が
基板上に薄膜に拡散し、悪影響を及ぼすことを防止でき
る。また、ガラスの結晶化安定性等を向上するために、
B2O3、P2O5、V2O5、GeO2、Ga2O3 、HfO2等を加えること
ができる。また、ガラスの均質化を図るための脱胞剤と
して、As2O3 、Sb2O3 等を少量(例えば3モル%以下)
加えてもよい。また、ZnO 、SrO 、NiO 、CoO 、Fe2O
3 、CuO 、Cr2O3 、B2O3、P2O5、V2O5等をガラスの高温
溶解性や物理的な物性を調整するために添加してもよ
い。少量のV2O5、Cr2O3 、CuO 、CoO などの着色剤をガ
ラスに添加する場合、ガラスに赤外線吸収特性を持た
せ、加熱ランプ照射による磁性層の加熱処理を効果的に
行うことができる。
Further, in order to improve the melting property of glass, Li
2 O can also be added. However, adding too much tends to reduce the Young's modulus, so a small amount (for example, 2
Mol% or less) is preferable. Further, when Li 2 O is contained, it is possible to carry out a chemical strengthening treatment by ion exchange in order to enhance the strength of the glass. On the other hand, Li 2 O
In the case of a non-alkali glass containing no glass, when a thin film is formed on a substrate made of this glass, it is possible to prevent the alkaline component from diffusing into the thin film on the substrate and adversely affecting it. Further, in order to improve the crystallization stability of the glass,
B 2 O 3, P 2 O 5, V 2 O 5, GeO 2, Ga 2 O 3, may be added such as HfO 2. As a desulfurizing agent for homogenizing glass, a small amount of As 2 O 3 , Sb 2 O 3, etc. (eg 3 mol% or less)
May be added. In addition, ZnO, SrO, NiO, CoO, Fe 2 O
3 , CuO, Cr 2 O 3 , B 2 O 3 , P 2 O 5 , V 2 O 5 and the like may be added in order to adjust the high temperature solubility and physical properties of the glass. When adding a small amount of coloring agents such as V 2 O 5 , Cr 2 O 3 , CuO, and CoO to glass, make the glass have infrared absorption properties and effectively heat-treat the magnetic layer by irradiation with a heating lamp. You can

【0010】本発明のガラス及びガラス基板の製造方法
は、特に限定されず、各種ガラスの製造方法を用いるこ
とができる。例えば、高温溶融法、即ち所定の割合のガ
ラス原料を空気中又は不活性ガス雰囲気中で溶解し、バ
ブリングや脱泡剤の添加や攪拌などによってガラスの均
質化を行い、周知のプレス法やダウンドーロ成形などの
方法により板ガラスに成形され、その後、研削、研磨な
どの加工が施され所望のサイズ、形状の基板とされる。
なお、研磨ではラッピング及び酸化セリウムなどの研磨
粉によるポリッシング加工を行うことで、表面精度を例
えば3〜5オングストロームの範囲にすることができ
る。
The method for producing the glass and glass substrate of the present invention is not particularly limited, and various glass production methods can be used. For example, a high-temperature melting method, that is, a glass raw material in a predetermined ratio is melted in air or an inert gas atmosphere, and the glass is homogenized by bubbling, adding a defoaming agent, stirring, etc. Plate glass is formed by a method such as dolo forming, and thereafter, processing such as grinding and polishing is performed to obtain a substrate having a desired size and shape.
In the polishing, lapping and polishing with polishing powder such as cerium oxide can be performed to bring the surface accuracy to a range of 3 to 5 angstroms, for example.

【0011】請求項1に記載のガラスの説明 請求項1に記載のガラスは、Al2O3 を20モル%以上含
有する。SiO2−Al2O3−RO系ガラスにおいて、Al2O3
有量を増すほど比弾性率は高くなる。そしてAl2O3 含有
量が20モル%以上になると、従来情報記録媒体用基板
として知られているガラスより大きな比弾性率、例え
ば、38×106Nm/kg以上の比弾性率を有するガラスを得
ることができる。尚、Al2O3 含有量の上限は、好ましく
は40モル%である。Al2O3 が40モル%より多いとガ
ラスの高温熔融性が悪化及び結晶化安定性が得られない
恐れがある。Al2O3 含有量は、好ましくは21〜35モ
ル%、さらに好ましくは25〜35モル%の範囲であ
る。Al2O3 を20モル%以上含有する場合、ROとして、
MgO 及びCaO から選ばれる少なくとも一種を用いること
が好ましい。これらの成分は、Al2O3 を多く含有した場
合に、ガラス構造の安定化や高温粘性を低めて溶解を容
易にする等の成分として効果的に働く。但し、これらの
成分は、あまり多く含有するとガラスの結晶化安定性を
損ねる可能性がある。そこで、MgO +CaO は15〜40
モル%の範囲とすることが適当である。
Description of glass according to claim 1 The glass according to claim 1 contains Al 2 O 3 in an amount of 20 mol% or more. In the SiO 2 —Al 2 O 3 —RO glass, the higher the Al 2 O 3 content, the higher the specific elastic modulus. When the Al 2 O 3 content is 20 mol% or more, a glass having a specific elastic modulus larger than that of the glass conventionally known as a substrate for information recording medium, for example, 38 × 10 6 Nm / kg or more. Can be obtained. The upper limit of the Al 2 O 3 content is preferably 40 mol%. When Al 2 O 3 is more than 40 mol%, the high temperature meltability of glass may be deteriorated and the crystallization stability may not be obtained. The Al 2 O 3 content is preferably in the range of 21 to 35 mol%, more preferably 25 to 35 mol%. When Al 2 O 3 is contained by 20 mol% or more, as RO,
It is preferable to use at least one selected from MgO and CaO. When a large amount of Al 2 O 3 is contained, these components effectively act as components such as stabilizing the glass structure and lowering the high temperature viscosity to facilitate melting. However, if these components are contained too much, the crystallization stability of the glass may be impaired. Therefore, MgO + CaO is 15-40
It is suitable to set it in the range of mol%.

【0012】請求項2に記載のガラスの説明 請求項2に記載のガラスは、ROとしてMgO を20モル%
以上含有する。SiO2−Al2O3 −RO系ガラスにおいて、Mg
O 含有量を増すほど比弾性率は高くなる。そしてMgO 含
有量が20モル%以上になると、従来情報記録媒体用基
板として知られているガラスより大きな比弾性率、例え
ば、38×106Nm/kg以上の比弾性率を有するガラスを得
ることができる。尚、MgO 含有量の上限は、45モル%
であることが好ましい。MgO 含有量が45モル%より多
いとガラスの結晶化安定性が得られない恐れがある。Mg
O 含有量は、好ましくは20〜40モル%の範囲であ
る。また、MgO を20モル%以上含有する場合、Al2O3
は5〜40モル%とすることが好ましい。Al2O3 が5モ
ル%より少ないとガラス構造の安定化が損なわれる可能
性があり、40モル%を超えるとガラスの高温熔融性が
悪化及び結晶化安定性が得られない恐れがある。ROとし
てMgO 以外にCaO を含有させることもできる。CaO は、
主にガラスの高温熔融性、結晶化安定性を改善する働き
をする。但し、CaO 含有量が多くなり過ぎると、ガラス
の比弾性率を低下させる可能性がある。そこでCaO 含有
量は27モル%以下とすることが好ましい。
Description of glass according to claim 2 The glass according to claim 2 contains 20 mol% of MgO as RO.
Contains more than In SiO 2 -Al 2 O 3 -RO based glass, Mg
The higher the O 2 content, the higher the specific elastic modulus. When the MgO content is 20 mol% or more, it is possible to obtain a glass having a specific elastic modulus higher than that of the glass conventionally known as a substrate for information recording medium, for example, 38 × 10 6 Nm / kg or more. You can The upper limit of the MgO content is 45 mol%
Is preferred. If the MgO content is more than 45 mol%, the crystallization stability of the glass may not be obtained. Mg
The O 2 content is preferably in the range of 20-40 mol%. Further, when the content of MgO is 20 mol% or more, Al 2 O 3
Is preferably 5 to 40 mol%. When Al 2 O 3 is less than 5 mol%, the stabilization of the glass structure may be impaired, and when it exceeds 40 mol%, the high temperature meltability of the glass may be deteriorated and the crystallization stability may not be obtained. CaO may be contained as RO in addition to MgO. CaO is
It mainly functions to improve the high temperature meltability and crystallization stability of glass. However, if the CaO content is too high, the specific elastic modulus of the glass may be reduced. Therefore, the CaO content is preferably 27 mol% or less.

【0013】請求項3、4に記載のガラスの説明 請求項3、4に記載のガラスは、Y2O3を含有する。SiO2
−Al2O3 −RO系ガラスにおいて、Y2O3を含有させること
により比弾性率を高めることができる。Y2O3の含有量は
0.5〜17モル%とすることが好ましい。Y2O3はヤン
グ率を向上させ、その結果比弾性率を向上させるが、
0.5モル%ではその効果が現れ難い。一方、Y2O3はヤ
ング率を増加させるとともに比重も増大させるので、一
定量以上の含有量よなると比弾性率の増加効果が頭打ち
になる。即ち、Y2O3含有量が17モル%を超えてしまう
と、比弾性率の向上に寄与しなくなる。さらにまた、Y2
O3は高価であるという観点からも加える量は少量に留め
ることが好ましい。Y2O3添加効果は、SiO2−Al2O3 −RO
系ガラスにおけるAl2O3 やROとしてのMgOの含有量に係
わらず得られるが、上記本発明のAl2O3 を20モル%以
上含有するガラス及びMgO を20モル%以上含有するガ
ラスにY2O3を添加することもできる。特に、Al2O3 を2
0モル%以上含有するガラスの場合、Y2O3の添加は、比
弾性率の向上とともにガラスの高温熔融性を改善するの
に効果的である。
Description of Glasses According to Claims 3 and 4 The glass according to claims 3 and 4 contains Y 2 O 3 . SiO 2
In the -Al 2 O 3 -RO glass, the specific elastic modulus can be increased by incorporating Y 2 O 3 . The Y 2 O 3 content is preferably 0.5 to 17 mol%. Y 2 O 3 improves the Young's modulus and, as a result, the specific elastic modulus,
If it is 0.5 mol%, the effect is difficult to appear. On the other hand, Y 2 O 3 increases Young's modulus as well as specific gravity, so that if the content exceeds a certain amount, the effect of increasing the specific elastic modulus reaches a ceiling. That is, when the Y 2 O 3 content exceeds 17 mol%, it does not contribute to the improvement of the specific elastic modulus. Furthermore, Y 2
From the viewpoint that O 3 is expensive, it is preferable to add a small amount. Y 2 O 3 additive effect, SiO 2 -Al 2 O 3 -RO
It can be obtained irrespective of the content of Al 2 O 3 or MgO as RO in the system glass, but Y in the glass containing 20 mol% or more of Al 2 O 3 of the present invention and the glass containing 20 mol% or more of MgO 2 O 3 can also be added. Especially Al 2 O 3 is 2
In the case of glass containing 0 mol% or more, the addition of Y 2 O 3 is effective in improving the specific elastic modulus and the high temperature meltability of the glass.

【0014】情報記録媒体用基板の説明 本発明の情報記録媒体用基板は、上記の本発明のガラス
からなる材料からなることを特徴とする。情報記録媒体
としては、例えば、磁気記録媒体を挙げることができ、
磁気記録媒体としては、例えば、ハードディスク等の磁
気ディスクを挙げることができる。基板のサイズや形状
は、用途に応じて適宜決定できる。さらに本発明の基板
は、高い表面平滑性を有することを特徴とする。高い表
面平滑性とは、具体的には、表面粗さ(Ra) が5Å以下
であることを意味する。基板表面の平滑性は、磁気ディ
スクとした場合の、磁気ヘッドと磁気ディスクとの間隔
を低減して、記録密度を高めることができるという利点
がある。
Description of Information Recording Medium Substrate The information recording medium substrate of the present invention is characterized by being made of the above-mentioned glass material of the present invention. Examples of the information recording medium include a magnetic recording medium,
Examples of magnetic recording media include magnetic disks such as hard disks. The size and shape of the substrate can be appropriately determined according to the application. Furthermore, the substrate of the present invention is characterized by having high surface smoothness. The high surface smoothness specifically means that the surface roughness (Ra) is 5 Å or less. The smoothness of the substrate surface has an advantage that when a magnetic disk is used, the distance between the magnetic head and the magnetic disk can be reduced and the recording density can be increased.

【0015】磁気ディスクの説明 本発明の磁気ディスク(ハードディスク)は、上述した
基板の主表面に、少なくとも磁性層を形成したことを特
徴とする。磁性層以外の層としては、公知の各種の層を
必要により適宜設けることができる。そのような層は、
機能面から、下地層、保護層、潤滑層、凹凸制御層など
が挙げられる。これらの各層の形成には各種薄膜形成技
術が利用される。磁性層の材料は特に制限されない。磁
性層としては、例えば、Co系の他、フェライト系、鉄―
希土類系などが挙げられる。磁性層は、水平磁気記録、
垂直磁気記録のいずれの磁性層でもよい。磁性層として
は、具体的には、例えば、Coを主成分とするCoPt、CoC
r、CoNi、CoNiCr、CoCrTa、CoPtCrやCoNiCrPt、CoNiCrT
a、CoCrPtTa、CoCrPtSiO などの磁性薄膜が挙げられ
る。また、磁性層を非磁性層で分割してノイズ低減を図
った多層構成としてもよい。磁性層における下地層は、
磁性層に応じて選択される。下地層としては、例えば、
Cr、Mo、Ta、Ti、W、V、B、Alなどの非磁性金属から
選ばれる少なくとも一種以上の材料、又はそれらの金属
の酸化物、窒化物、炭化物等からなる下地層等が挙げら
れる。Coを主成分とする磁性層の場合には、磁気特性向
上の観点からCr単体やCr合金であることが好ましい。下
地層は単層とは限らず、同一又は異種の層を積層した複
数層構造とすることもできる。例えば、Al/Cr/CrMo、
Al/Cr/Cr等の多層下地層等が挙げられる。
Description of Magnetic Disk The magnetic disk (hard disk) of the present invention is characterized in that at least a magnetic layer is formed on the main surface of the above-mentioned substrate. As the layers other than the magnetic layer, various known layers can be appropriately provided as necessary. Such layers are
From the viewpoint of function, examples include a base layer, a protective layer, a lubricating layer, and an unevenness control layer. Various thin film forming techniques are used to form each of these layers. The material of the magnetic layer is not particularly limited. Examples of the magnetic layer include Co-based, ferrite-based, iron-
Examples include rare earth materials. The magnetic layer is a horizontal magnetic recording,
Any magnetic layer for perpendicular magnetic recording may be used. Specific examples of the magnetic layer include CoPt and CoC containing Co as a main component.
r, CoNi, CoNiCr, CoCrTa, CoPtCr, CoNiCrPt, CoNiCrT
Magnetic thin films such as a, CoCrPtTa, and CoCrPtSiO can be used. Alternatively, the magnetic layer may be divided into non-magnetic layers to form a multilayer structure in which noise is reduced. The underlayer in the magnetic layer is
It is selected according to the magnetic layer. As the underlayer, for example,
At least one or more materials selected from non-magnetic metals such as Cr, Mo, Ta, Ti, W, V, B, and Al, or an underlayer made of oxides, nitrides, and carbides of these metals can be used. . In the case of the magnetic layer containing Co as a main component, it is preferable to use Cr alone or a Cr alloy from the viewpoint of improving the magnetic characteristics. The base layer is not limited to a single layer, and may have a multi-layer structure in which the same or different layers are laminated. For example, Al / Cr / CrMo,
Examples include a multi-layer underlayer such as Al / Cr / Cr.

【0016】また、基板と磁性層の間又は磁性層の上部
に、磁気ヘッドと磁気ディスクが吸着することを防止す
るための凹凸制御層を設けてもよい。この凹凸制御層を
設けることによって、磁気ディスクの表面粗さは適度に
調整されるので、磁気ヘッドと磁気ディスクが吸着する
ことがなくなり、信頼性の高い磁気ディスクが得られ
る。凹凸制御層の材料及び形成方法は多種知られてお
り、特に制限されない。例えば、凹凸制御層の材料とし
ては、Al、Ag、Ti、Nb、Ta、Bi、Si、Zr、Cr、Cu、Au、
Sn、Pd、Sb、Ge、Mgなどから選ばれる少なくとも一種以
上の金属、又はそれらの合金、あるいは、それらの酸化
物、窒化物、炭化物等からなる下地層等が挙げられる。
形成が容易であるという観点からは、Al単体やAl合金、
酸化Al、窒化AlといったAlを主成分とする金属であるこ
とが望ましい。また、ヘッドスティクションを考慮する
と、凹凸形成層の表面粗さは、Rmax=50〜300オン
グストロームであることが好ましい。より好ましい範囲
は、Rmax=100〜200オングストロームである。Rm
axが50オングストローム未満の場合、磁気ディスク表
面が平坦に近いため、磁気ヘッドと磁気ディスクが吸着
し、磁気ヘッドや磁気ディスクが吸着し、磁気ヘッドや
磁気ディスクが傷ついてしまったり、吸着によるヘッド
クラッシュを起こすので好ましくない。また、Rmaxが3
00オングストロームを超える場合、グライド高さ(グ
ライドハイト)が大きくなり記録密度の低下を招くので
好ましくない。尚、凹凸制御層を設けずに、ガラス基板
表面に、エッチング処理やレーザー光の照射等の手段で
凹凸を付け、テクスチャリング処理を施してもよい。
Further, an unevenness control layer may be provided between the substrate and the magnetic layer or on the magnetic layer to prevent the magnetic head and the magnetic disk from being attracted to each other. By providing this unevenness control layer, the surface roughness of the magnetic disk is adjusted appropriately, so that the magnetic head and the magnetic disk do not stick to each other, and a highly reliable magnetic disk can be obtained. Various materials and forming methods for the unevenness control layer are known and are not particularly limited. For example, as the material of the unevenness control layer, Al, Ag, Ti, Nb, Ta, Bi, Si, Zr, Cr, Cu, Au,
At least one metal selected from Sn, Pd, Sb, Ge, Mg, or the like, an alloy thereof, or an underlayer made of an oxide, a nitride, a carbide thereof, or the like can be given.
From the viewpoint of easy formation, Al simple substance or Al alloy,
A metal containing Al as a main component such as Al oxide or Al nitride is desirable. Further, considering the head stiction, the surface roughness of the unevenness forming layer is preferably Rmax = 50 to 300 angstrom. A more preferable range is Rmax = 100 to 200 angstrom. Rm
When ax is less than 50 angstroms, the magnetic disk surface is almost flat, so the magnetic head and the magnetic disk are attracted, the magnetic head and the magnetic disk are attracted, the magnetic head and the magnetic disk are damaged, and the head crashes due to the attraction. It is not preferable because it causes Also, Rmax is 3
When it exceeds 00 angstrom, the glide height (glide height) becomes large and the recording density is lowered, which is not preferable. It should be noted that, without providing the unevenness control layer, the glass substrate surface may be provided with unevenness by means such as etching treatment or laser light irradiation and then subjected to texturing treatment.

【0017】保護層としては、例えば、Cr膜、Cr合金
膜、炭素膜、ジルコニア膜、シリカ膜等が挙げられる。
これらの保護膜は、下地層、磁性層等とともにインライ
ン型スパッタ装置等で連続して形成できる。また、これ
らの保護膜は、単層としてもよく、あるいは、同一又は
異種の膜からなる多層構成としてもよい。上記保護層上
に、あるいは上記保護膜に替えて、他の保護層を形成し
てもよい。例えば、上記保護層上にテトラアルコキシラ
ンをアルコール系の溶媒で希釈した中に、コロイダルシ
リカ微粒子を分散して塗布し、さらに焼成して酸化ケイ
素(SiO2)膜を形成してもよい。この場合、保護膜と凹
凸制御層の両方の機能を果たす。潤滑層としては多種多
様な提案がなされているが、一般的には、液体潤滑剤で
あるパーフルオロポリエーテルをフレオン系などの溶媒
で希釈し、媒体表面にディッピング法、スピンコート
法、スプレイ法によって塗布し、必要に応じて加熱処理
を行って形成する。
Examples of the protective layer include a Cr film, a Cr alloy film, a carbon film, a zirconia film, and a silica film.
These protective films can be continuously formed with an underlayer, a magnetic layer and the like by an in-line type sputtering device or the like. Further, these protective films may be a single layer, or may be a multi-layer structure composed of the same or different types of films. Another protective layer may be formed on the protective layer or instead of the protective film. For example, colloidal silica fine particles may be dispersed and applied in a solution of tetraalkoxylane diluted with an alcohol-based solvent on the protective layer, and further baked to form a silicon oxide (SiO 2 ) film. In this case, it functions as both a protective film and an unevenness control layer. Although various proposals have been made for the lubricating layer, in general, a liquid lubricant such as perfluoropolyether is diluted with a solvent such as Freon, and the surface of the medium is dipping, spin-coated, or sprayed. It is applied by, and heat-treated as necessary to form.

【0018】[0018]

【実施例】以下、実施例にもとづき本発明をさらに具体
的に説明する。磁気ディスク用ガラス基板の製造方法 以下、実施例に基づき本発明をさらに詳しく説明する。 実施例1〜10 出発原料として、SiO2、Al2O3 、Al(OH)3 、MgO 、Ca
CO3 、Y2O3、TiO2、ZrO2、Li2Oなどを用いて、所定の割
合に250〜300g秤量し、十分に混合して調合バッ
チと成し、これを白金るつぼに入れ、1550℃で空気
中3〜5時間ガラスの熔融を行った。熔融後、ガラス融
液を所定のカーボン金型に流し、ガラスの転移点温度ま
で放冷してから直ちにアニール炉に入れ、ガラスの転移
温度範囲で約1時間アニールにて炉内で室温まで放冷し
た。得られたガラスは顕微鏡で観察できる結晶が析出し
ない、実質的に結晶粒子を含まないガラスである。得ら
れたガラス試料をディスク状に切断し、主表面を酸化セ
リウムにてポリッシング加工することによって磁気ディ
スク用ガラス基板を得た。得られた磁気ディスク用ガラ
ス基板の組成、表面粗さ(Ra)、比重、ヤング率、比
弾性率の測定結果を表1に示す。 比較例1 比較のため、特開平1―239036号公報に記載され
たイオン交換による化学強化ガラス基板(比較例1)の
組成及び特性を表2に示す。
EXAMPLES The present invention will be described in more detail based on the following examples. Method for Manufacturing Glass Substrate for Magnetic Disk Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to Examples. As Examples 1 to 10 starting material, SiO 2, Al 2 O 3 , Al (OH) 3, MgO, Ca
Using CO 3, Y 2 O 3, and TiO 2, ZrO 2, Li 2 O, and 250~300g weighed in a predetermined ratio, thoroughly mixed to form a formulation batch, placed in a platinum crucible, Glass was melted at 1550 ° C. in air for 3 to 5 hours. After melting, the glass melt is poured into a predetermined carbon mold, allowed to cool to the glass transition temperature, immediately placed in an annealing furnace, and annealed within the glass transition temperature range for about 1 hour to room temperature in the furnace. Chilled The obtained glass is a glass containing substantially no crystal particles in which crystals that can be observed with a microscope do not precipitate. The obtained glass sample was cut into a disk shape, and the main surface was polished with cerium oxide to obtain a glass substrate for a magnetic disk. Table 1 shows the measurement results of the composition, surface roughness (Ra), specific gravity, Young's modulus and specific elastic modulus of the obtained glass substrate for magnetic disk. Comparative Example 1 For comparison, Table 2 shows the composition and characteristics of the chemically strengthened glass substrate by ion exchange (Comparative Example 1) described in JP-A-1-239036.

【0019】[0019]

【表1】 [Table 1]

【0020】[0020]

【表2】 [Table 2]

【0021】表1の実施例1、実施例2及び3を比較す
ると、ヤング率及び比弾性率に寄与すると考えられる主
な成分Al2O3 、MgO 、Y2O3のうち、Al2O3 のみを変化さ
せた場合、Al2O3 を多く含有することにより、ヤング率
が増大し、逆に比重は減少しており、その結果、比弾性
率が増加していることがわかる。実施例1と実施例5、
及び実施例3と実施例4を比較すると、ヤング率及び比
弾性率に寄与すると考えられる主な成分Al2O3 、MgO 、
Y2O3のうち、MgO のみを変化させた場合、MgO を多く含
有することにより、ヤング率及び比弾性率が増加してい
ることがわかる。実施例6と実施例7を比較すると、Y2
O3を含有させることにより、ヤング率及び比弾性率が増
加していることがわかる。実施例1〜10の結果から、
さらに、TiO2やZrO2を加えたものは、高いヤング率及び
比弾性率が得られることがわかる。このように、Al2O3
を20モル%以上含有すること、MgO を20モル%以上
含有すること、又はY2O3を含有することにより、ヤング
率及び比弾性率を効果的に向上させることができる。こ
れに対して、比較例1の化学強化ガラス基板、Al2O3
含有量が少なく、MgO 、Y2O3が含まれないので、ヤング
率、比弾性率が本発明に比べて著しく劣る。
[0021] Table 1 of Example 1, comparing Example 2 and 3, the Young's modulus and the specific main components are believed to contribute to the elastic modulus Al 2 O 3, MgO, of Y 2 O 3, Al 2 O When only 3 is changed, the Young's modulus is increased and the specific gravity is decreased by containing a large amount of Al 2 O 3 , and as a result, the specific elastic modulus is increased. Example 1 and Example 5,
And comparing Example 3 and Example 4, the main components Al 2 O 3 , MgO, which are considered to contribute to Young's modulus and specific elastic modulus,
It can be seen that when only MgO of Y 2 O 3 is changed, the Young's modulus and the specific elastic modulus are increased by containing a large amount of MgO. Comparing Example 6 and Example 7, Y 2
It can be seen that inclusion of O 3 increases Young's modulus and specific elastic modulus. From the results of Examples 1 to 10,
Further, it can be seen that the materials to which TiO 2 and ZrO 2 are added can obtain high Young's modulus and high specific elastic modulus. Thus, Al 2 O 3
Of 20 mol% or more, MgO of 20 mol% or more, or Y 2 O 3 contained, the Young's modulus and the specific elastic modulus can be effectively improved. On the other hand, since the chemically strengthened glass substrate of Comparative Example 1 has a small content of Al 2 O 3 and contains neither MgO 2 nor Y 2 O 3 , the Young's modulus and the specific elastic modulus are significantly inferior to those of the present invention. .

【0022】磁気ディスクの製造方法 図1に示すように、本発明の磁気ディスク1は、実施例
3のガラス基板上に、順次、凹凸制御層3、下地層4、
磁性層5、保護層6、潤滑層7を形成したものである。
各層について具体的に説明すると、基板1は、外径65
mmφ、中心部の穴径20mmφ、厚さ0.381mm
の円板上に加工したものであって、その両主表面を表面
粗さがRa=4オングストローム、Rmax=40オングス
トロームとなるように精密研磨したものである。凹凸制
御層は、平均粗さ50オングストローム、表面粗さRmax
が150オングストローム、窒素の含有量が5〜35%
のAlNの薄膜である。下地層は、厚さ約600オングス
トロームのCrVの薄膜で、組成比はCr:83at%、
V:17at%である。磁性層は、厚さ約300オング
ストロームのCoPtCrの薄膜で、組成比はCo:76at
%、Pt:6.6at%、Cr:17.4at%である。保
護層は、厚さ約100オングストロームのカーボン薄膜
である。潤滑層は、パーフルオロポリエーテルからなる
潤滑層をスピンコート法によって、カーボン保護層上に
塗布して厚さ8オングストロームに形成したものであ
る。
Method of Manufacturing Magnetic Disk As shown in FIG. 1, the magnetic disk 1 of the present invention comprises an unevenness control layer 3, an underlayer 4,
The magnetic layer 5, the protective layer 6, and the lubricating layer 7 are formed.
Explaining each layer in detail, the substrate 1 has an outer diameter of 65.
mmφ, central hole diameter 20 mmφ, thickness 0.381 mm
Of the disk, and both of its main surfaces were precision-polished so that the surface roughness was Ra = 4 angstroms and Rmax = 40 angstroms. The roughness control layer has an average roughness of 50 Å and a surface roughness Rmax.
Is 150 Å, nitrogen content is 5 to 35%
Is a thin film of AlN. The underlayer is a CrV thin film with a thickness of about 600 Å, and the composition ratio is Cr: 83 at%.
V: 17 at%. The magnetic layer is a thin film of CoPtCr with a thickness of about 300 Å, and the composition ratio is Co: 76 at.
%, Pt: 6.6 at% and Cr: 17.4 at%. The protective layer is a carbon thin film having a thickness of about 100 Å. The lubricating layer is formed by coating a lubricating layer made of perfluoropolyether on the carbon protective layer by a spin coating method to have a thickness of 8 angstrom.

【0023】次に、本発明の一実施例に係る磁気ディス
クの製造方法について説明する。まず、本実施例で製造
したガラスを、外径65mmφ、中心部の穴径20mm
φ、厚さ0.381mmの円板上に研削加工し、その両
主表面を表面粗さがRa=4オングストローム、Rmax=
40オングストロームとなるように精密研磨して磁気デ
ィスク用ガラス基板を得る。次いで、上記ガラス基板を
基板ホルダーにセットした後、インラインスパッタ装置
の仕込み室に送り込む。続いて、ガラス基板のセットさ
れたホルダーを、Alターゲットがエッチされた第一チャ
ンバーに送り込み、圧力4mtorr 、基板温度350℃、
Ar+N2ガス(N2=4%)雰囲気でスパッタリングする。
その結果、ガラス基板上に、表面粗さRmax=150オン
グストローム、膜厚50オングストロームのAlN薄膜
(凹凸形成層)が得られた。次に、AlNが成膜されたガ
ラス基板のセットされたホルダーを、CrV(Cr:83a
t%、V:17at%)ターゲットが設置された第二チ
ャンバー、CoPtCr(Co:76at%、Pt:6.6at
%、Cr:17.4at%)ターゲットが設置された第三
チャンバーに連続的に順次送り込み、基板上に成膜す
る。これらの膜は、圧力2mtorr 、基板温度350℃、
Ar雰囲気中でスパッタリングし、膜厚約600オングス
トロームのCrV下地層、膜厚約300オングストローム
のCoPtCr磁性層を得る。次いで、凹凸制御層、下地層、
磁性層が形成された積層体を、加熱処理するための加熱
ヒーターが設けられた第四チャンバーに送り込む。この
とき第四チャンバー内をArガス(圧力2mtorr )雰囲気
にし、表2に示すように、熱処理温度を変化させて熱処
理を行う。上記基板をカーボンターゲットが設置された
第五チャンバーに送り込み、Ar+H2ガス(H2=6%)雰
囲気中で成膜したこと以外は上記CrV下地層及びCoPtCr
磁性層と同じ成膜条件で、膜厚約100オングストロー
ムのカーボン保護層を得る。最後に、カーボン保護層の
形成までを終えた基板を上記インラインスパッタ装置か
ら取り出し、そのカーボン保護層の表面に、ディッピン
グ法によってパーフルオロポリエーテルを塗布して厚さ
8オングストロームの潤滑層を形成して磁気ディスクを
得た。以上、好ましい実施例を挙げて本発明を説明した
が、本発明は上記実施例に限定されるものではない。
Next, a method of manufacturing a magnetic disk according to an embodiment of the present invention will be described. First, the glass manufactured in this example was manufactured to have an outer diameter of 65 mmφ and a central hole diameter of 20 mm.
Φ, 0.381 mm thick disk is ground, and both main surfaces have surface roughness Ra = 4 Å, Rmax =
A glass substrate for a magnetic disk is obtained by precision polishing to a thickness of 40 Å. Next, after setting the glass substrate in the substrate holder, it is sent to the preparation chamber of the in-line sputtering device. Then, the holder on which the glass substrate was set was sent into the first chamber where the Al target was etched, the pressure was 4 mtorr, the substrate temperature was 350 ° C.,
Sputtering is performed in an Ar + N 2 gas (N 2 = 4%) atmosphere.
As a result, an AlN thin film (unevenness forming layer) having a surface roughness Rmax of 150 Å and a film thickness of 50 Å was obtained on the glass substrate. Next, the holder on which the glass substrate on which the AlN film is formed is set is set to CrV (Cr: 83a).
t%, V: 17 at%) The second chamber in which the target is installed, CoPtCr (Co: 76 at%, Pt: 6.6 at)
%, Cr: 17.4 at%) continuously and sequentially sends the film to the third chamber in which the target is installed to form a film on the substrate. These films have a pressure of 2 mtorr, a substrate temperature of 350 ° C,
Sputtering is performed in an Ar atmosphere to obtain a CrV underlayer having a film thickness of about 600 Å and a CoPtCr magnetic layer having a film thickness of about 300 Å. Then, the unevenness control layer, the underlayer,
The laminated body on which the magnetic layer is formed is sent to a fourth chamber provided with a heater for heat treatment. At this time, the inside of the fourth chamber is set to an Ar gas (pressure of 2 mtorr) atmosphere, and as shown in Table 2, the heat treatment is performed while changing the heat treatment temperature. The above-mentioned CrV underlayer and CoPtCr were prepared except that the above-mentioned substrate was sent to the fifth chamber in which a carbon target was installed and the film was formed in an atmosphere of Ar + H 2 gas (H 2 = 6%).
Under the same film forming conditions as the magnetic layer, a carbon protective layer having a film thickness of about 100 Å is obtained. Finally, the substrate on which the carbon protective layer has been formed is taken out of the in-line sputtering device, and perfluoropolyether is applied to the surface of the carbon protective layer by a dipping method to form a lubricating layer having a thickness of 8 Å. I got a magnetic disk. The present invention has been described above with reference to the preferred embodiments, but the present invention is not limited to the above embodiments.

【発明の効果】本発明によれば、磁気ディスク基板等の
情報記録媒体用基板として好ましいSiO2−Al2O3 −RO系
(ただし、Rは二価金属である)のガラスにおいて、現
在知られている材料より高い比弾性率(=ヤング率/比
重)を示すガラス材料を提供することができる。さら
に、この材料を用いた薄型化が可能な情報記録媒体用基
板及び情報記録媒体を提供することができる。
According to the present invention, the SiO 2 -Al 2 O 3 -RO system glass (where R is a divalent metal) preferable as a substrate for an information recording medium such as a magnetic disk substrate is currently known. It is possible to provide a glass material exhibiting a higher specific elastic modulus (= Young's modulus / specific gravity) than the existing materials. Further, it is possible to provide an information recording medium substrate and an information recording medium which can be thinned using this material.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】 ガラス基板2上に、順次、凹凸制御層3、下
地層4、磁性層5、保護層6、潤滑層7を形成した本発
明の磁気ディスク1の概略断面図。
FIG. 1 is a schematic cross-sectional view of a magnetic disk 1 of the present invention in which an unevenness control layer 3, an underlayer 4, a magnetic layer 5, a protective layer 6, and a lubricating layer 7 are sequentially formed on a glass substrate 2.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 平9−100137(JP,A) 欧州特許出願公開710627(EP,A 1) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) C03C 1/00 - 14/00 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (56) Reference JP-A-9-100137 (JP, A) European patent application publication 710627 (EP, A 1) (58) Fields investigated (Int.Cl. 7 , DB name) C03C 1/00-14/00

Claims (8)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 20モル%以上のAl2O3 を含有するSiO2
Al2O3 −RO系(ただし、Rは二価金属である)のガラス
からなり、実質的に結晶粒子を含まない情報記録媒体用
ガラス基板。
1. A SiO 2 -containing Al 2 O 3 of 20 mol% or more.
Al 2 O 3 -RO based (wherein, R is a divalent metal) Ri Do of glass, for an information recording medium that is substantially free of crystal grain
Glass substrate.
【請求項2】ROとしてMgO を20モル%以上含有するSi
O2−Al2O3 −RO系(ただし、Rは二価金属である)のガ
ラスからなり、実質的に結晶粒子を含まない情報記録媒
体用ガラス基板。
2. Si containing 20 mol% or more of MgO as RO
O 2 -Al 2 O 3 -RO based (wherein, R is a divalent metal) Ri Do of glass, the information recording medium is substantially free of crystal grain
Glass substrate for body.
【請求項3】Y2O3をさらに含有するSiO2−Al2O3 −RO系
(ただし、Rは二価金属である)のガラスからなり、実
質的に結晶粒子を含まない情報記録媒体用ガラス基板。
3. A SiO 2 -Al 2 O 3 -RO based further contains Y 2 O 3 (wherein, R is a divalent metal) Ri Do of glass, the actual
A glass substrate for an information recording medium that does not qualitatively contain crystal particles.
【請求項4】 Y2O3を0.5〜17モル%含有する請求
項3記載の基板
4. The substrate according to claim 3, which contains Y 2 O 3 in an amount of 0.5 to 17 mol%.
【請求項5】 TiO2及びZrO2のいずれか一方または両方
を含有する請求項1〜4のいずれか一項に記載の基板
5. The substrate according to claim 1, which contains one or both of TiO 2 and ZrO 2 .
【請求項6】 情報記録媒体が、磁気ディスクである請6. The contract wherein the information recording medium is a magnetic disk.
求項1〜5のいずれか1項に記載の基板。The substrate according to any one of claims 1 to 5.
【請求項7】 請求項1〜5のいずれか1項に記載の基7. A group according to any one of claims 1 to 5.
板を備えた情報記録媒体。An information recording medium provided with a plate.
【請求項8】 請求項1〜5のいずれか1項に記載の基8. A group according to any one of claims 1 to 5.
板上に、少なくとも磁性層を有することを特徴とする磁A magnet characterized by having at least a magnetic layer on the plate.
気ディスク。Damn disc.
JP23393696A 1996-09-04 1996-09-04 Material used for information recording medium substrate, substrate using the same, and magnetic disk using the substrate Expired - Lifetime JP3379621B2 (en)

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US5997977A (en) * 1997-06-05 1999-12-07 Hoya Corporation Information recording substrate and information recording medium prepared from the substrate
CN1170273C (en) * 1997-06-05 2004-10-06 Hoya株式会社 Substrate for information recording media
JPH11292563A (en) * 1998-04-03 1999-10-26 Nippon Electric Glass Co Ltd Alkali-free glass substrate
JP4086211B2 (en) * 1998-04-17 2008-05-14 Hoya株式会社 Glass composition and method for producing the same
JP4507135B2 (en) * 1998-09-11 2010-07-21 Hoya株式会社 Glass composition, substrate for information recording medium and information recording medium using the same
JP4488555B2 (en) * 1998-09-22 2010-06-23 Hoya株式会社 GLASS COMPOSITION, PROCESS FOR PRODUCING THE SAME, AND SUBSTRATE FOR INFORMATION RECORDING MEDIUM USING THE SAME, INFORMATION RECORDING MEDIUM
JP4518291B2 (en) * 1999-10-19 2010-08-04 Hoya株式会社 Glass composition and substrate for information recording medium, information recording medium and information recording apparatus using the same
KR20040105232A (en) * 2002-05-24 2004-12-14 후지쯔 가부시끼가이샤 Information recording medium and information storage device
DE112004000123T5 (en) * 2003-01-10 2005-11-10 Nippon Sheet Glass Co., Ltd. Glass for laser processing
JP2007164985A (en) * 2003-01-31 2007-06-28 Hoya Corp Substrate for information recording medium, information recording medium and its manufacturing method
JP2004288228A (en) 2003-01-31 2004-10-14 Hoya Corp Substrate for information recording medium, information recording medium, and its manufacturing method
CN114920453A (en) * 2017-12-15 2022-08-19 成都光明光电股份有限公司 Glass composition
WO2020175407A1 (en) 2019-02-25 2020-09-03 日本板硝子株式会社 Glass composition, glass plate and method for producing same, and substrate for information recording medium
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