JPH11109275A - レーザ描画装置 - Google Patents
レーザ描画装置Info
- Publication number
- JPH11109275A JPH11109275A JP27088097A JP27088097A JPH11109275A JP H11109275 A JPH11109275 A JP H11109275A JP 27088097 A JP27088097 A JP 27088097A JP 27088097 A JP27088097 A JP 27088097A JP H11109275 A JPH11109275 A JP H11109275A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- light
- laser
- polygon mirror
- lens
- photosensitive drum
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B26/00—Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements
- G02B26/08—Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements for controlling the direction of light
- G02B26/10—Scanning systems
- G02B26/12—Scanning systems using multifaceted mirrors
- G02B26/125—Details of the optical system between the polygonal mirror and the image plane
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Mechanical Optical Scanning Systems (AREA)
- Facsimile Scanning Arrangements (AREA)
- Laser Beam Printer (AREA)
- Optical Elements Other Than Lenses (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 ポリゴンミラーを有するレーザ描画装置で
は、感光ドラムで反射されたレーザ光がポリゴンミラー
で反射して再び感光ドラムに投射され、ゴースト像を発
生して描画品質が低下される。 【解決手段】 レーザ光を出射するレーザ光源１と、前
記レーザ光を反射して感光面に投射するポリゴンミラー
４と、ｆθレンズ５と、感光ドラム６とで構成されるレ
ーザ描画装置において、ポリゴンミラー４と感光ドラム
６との間のレーザ光の光路上に光減衰板９を配置する。
感光ドラム６の感光面で反射された後、再びポリゴンミ
ラー４で反射されて感光ドラム６に再度投射されるレー
ザ光の光量を光減衰板９によって大幅に低減することが
でき、この再反射されたレーザ光によるゴースト像の発
生を抑制し、品質の高い描画が実現できる。
は、感光ドラムで反射されたレーザ光がポリゴンミラー
で反射して再び感光ドラムに投射され、ゴースト像を発
生して描画品質が低下される。 【解決手段】 レーザ光を出射するレーザ光源１と、前
記レーザ光を反射して感光面に投射するポリゴンミラー
４と、ｆθレンズ５と、感光ドラム６とで構成されるレ
ーザ描画装置において、ポリゴンミラー４と感光ドラム
６との間のレーザ光の光路上に光減衰板９を配置する。
感光ドラム６の感光面で反射された後、再びポリゴンミ
ラー４で反射されて感光ドラム６に再度投射されるレー
ザ光の光量を光減衰板９によって大幅に低減することが
でき、この再反射されたレーザ光によるゴースト像の発
生を抑制し、品質の高い描画が実現できる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明はレーザ光を感光面に
投射して潜像を形成するレーザ描画装置に関し、特に感
光面におけるゴースト像の発生を抑制して描画品質を高
めたレーザ描画装置に関する。
投射して潜像を形成するレーザ描画装置に関し、特に感
光面におけるゴースト像の発生を抑制して描画品質を高
めたレーザ描画装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】この種のレーザ描画装置として、レーザ
プリンタ等に用いられるポリゴンミラーを用いたレーザ
走査記録装置がある。このレーザ走査記録装置は、図５
に概略構成を示すように、半導体レーザ素子等のレーザ
光源１から出射されたレーザ光をコリメートレンズ２に
より楕円断面の平行光束とされ、かつビーム成形プリズ
ム３により円形ビーム光束にされた上で回転駆動される
ポリゴンミラー４の鏡面に投射される。このポリゴンミ
ラー４で反射されるレーザ光は、ポリゴンミラー４の回
転に伴ってその回転方向に反射角度が変化される。さら
に、反射されたレーザ光はｆθレンズ５（ここでは２つ
のレンズ５Ａ，５Ｂで構成される）を通して感光ドラム
６の表面、すなわち感光面に投射され、感光ドラム６の
回転軸方向に走査され、いわゆる水平走査が行われる。
また、感光ドラム６が軸回りに回転されることで、垂直
走査が行われ、これらの走査により感光ドラム６の感光
面に所要のパターンが描画される。なお、前記ｆθレン
ズ５は、ポリゴンミラー４で反射されたレーザ光の反射
角度変化に伴う走査速度を感光ドラム６の感光面におい
て等速状態に変換するために設けられる。
プリンタ等に用いられるポリゴンミラーを用いたレーザ
走査記録装置がある。このレーザ走査記録装置は、図５
に概略構成を示すように、半導体レーザ素子等のレーザ
光源１から出射されたレーザ光をコリメートレンズ２に
より楕円断面の平行光束とされ、かつビーム成形プリズ
ム３により円形ビーム光束にされた上で回転駆動される
ポリゴンミラー４の鏡面に投射される。このポリゴンミ
ラー４で反射されるレーザ光は、ポリゴンミラー４の回
転に伴ってその回転方向に反射角度が変化される。さら
に、反射されたレーザ光はｆθレンズ５（ここでは２つ
のレンズ５Ａ，５Ｂで構成される）を通して感光ドラム
６の表面、すなわち感光面に投射され、感光ドラム６の
回転軸方向に走査され、いわゆる水平走査が行われる。
また、感光ドラム６が軸回りに回転されることで、垂直
走査が行われ、これらの走査により感光ドラム６の感光
面に所要のパターンが描画される。なお、前記ｆθレン
ズ５は、ポリゴンミラー４で反射されたレーザ光の反射
角度変化に伴う走査速度を感光ドラム６の感光面におい
て等速状態に変換するために設けられる。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】このような従来のポリ
ゴンミラーを用いたレーザ走査記録装置では、感光ドラ
ム６の感光面に形成される潜像にゴースト像が生じると
いう問題がある。すなわち、前記ポリゴンミラーから感
光ドラムとの間のレーザ光の状態について考察すると、
ポリゴンミラー４で反射されてｆθレンズ５を透過した
レーザ光は感光ドラム６に投射された後、図５に鎖線で
示すように、ここで反対方向に反射される。そして、こ
の反射された光はｆθレンズ５を逆方向に進行されてポ
リゴンミラー４にまで戻される。そして、このポリゴン
ミラー４で再び反射され、再度ｆθレンズ５を透過して
感光ドラム６にまで到達され、描画が行われる。
ゴンミラーを用いたレーザ走査記録装置では、感光ドラ
ム６の感光面に形成される潜像にゴースト像が生じると
いう問題がある。すなわち、前記ポリゴンミラーから感
光ドラムとの間のレーザ光の状態について考察すると、
ポリゴンミラー４で反射されてｆθレンズ５を透過した
レーザ光は感光ドラム６に投射された後、図５に鎖線で
示すように、ここで反対方向に反射される。そして、こ
の反射された光はｆθレンズ５を逆方向に進行されてポ
リゴンミラー４にまで戻される。そして、このポリゴン
ミラー４で再び反射され、再度ｆθレンズ５を透過して
感光ドラム６にまで到達され、描画が行われる。
【０００４】この場合、ポリゴンミラー４は高速で回転
されているため、レーザ光が再びポリゴンミラー４にま
で反射されてきたときには、その反射面が最初の反射時
とで異なる角度位置に回転移動されているため、最初の
反射時の光軸位置からずれた方向に向けて反射されるこ
とになる。このため、このポリゴンミラー４の回転角度
位置の変化により、感光ドラム６に対して最初の描画箇
所からずれた箇所に描画が行われることになる。このた
め、描画されるパターンは、正規の像とゴースト像との
二つのパターンが重なった状態となり、本来描かれるべ
き描画像とは異なる描画が行われるため、描画品質が劣
化され、ひいてはプリンタの品質低下につながることに
なる。なお、前記は二重にパターンが描画される場合を
説明しているが、多重反射により三重あるいはそれ以上
のパターン描画が行われることもあり、描画パターンが
極めて不自然なものとなる。
されているため、レーザ光が再びポリゴンミラー４にま
で反射されてきたときには、その反射面が最初の反射時
とで異なる角度位置に回転移動されているため、最初の
反射時の光軸位置からずれた方向に向けて反射されるこ
とになる。このため、このポリゴンミラー４の回転角度
位置の変化により、感光ドラム６に対して最初の描画箇
所からずれた箇所に描画が行われることになる。このた
め、描画されるパターンは、正規の像とゴースト像との
二つのパターンが重なった状態となり、本来描かれるべ
き描画像とは異なる描画が行われるため、描画品質が劣
化され、ひいてはプリンタの品質低下につながることに
なる。なお、前記は二重にパターンが描画される場合を
説明しているが、多重反射により三重あるいはそれ以上
のパターン描画が行われることもあり、描画パターンが
極めて不自然なものとなる。
【０００５】本発明の目的は、このような感光面に対す
るレーザ光の複数投射を解消し、描画品質の高いレーザ
描画装置を提供することにある。
るレーザ光の複数投射を解消し、描画品質の高いレーザ
描画装置を提供することにある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明のレーザ描画装置
は、レーザ光を出射するレーザ光源と、前記レーザ光を
反射して感光面に投射する光反射手段と、前記光反射手
段と前記感光面との間の前記レーザ光の光路上に光減衰
手段を配置したことを特徴とする。ここで前記光減衰手
段の光透過率ρが０．２＜ρ，０．７であることが好ま
しい。また、前記光減衰手段は、所要の光透過率の透明
板で構成される。あるいは光反射手段としてのポリゴン
ミラーと前記感光面との間に、感光面におけるレーザ光
の走査速度を等速化するｆθレンズを備えるレーザ描画
装置では、ｆθレンズで光減衰手段を構成する。この場
合、ｆθレンズの表面に減光透過コートを施してもよ
い。
は、レーザ光を出射するレーザ光源と、前記レーザ光を
反射して感光面に投射する光反射手段と、前記光反射手
段と前記感光面との間の前記レーザ光の光路上に光減衰
手段を配置したことを特徴とする。ここで前記光減衰手
段の光透過率ρが０．２＜ρ，０．７であることが好ま
しい。また、前記光減衰手段は、所要の光透過率の透明
板で構成される。あるいは光反射手段としてのポリゴン
ミラーと前記感光面との間に、感光面におけるレーザ光
の走査速度を等速化するｆθレンズを備えるレーザ描画
装置では、ｆθレンズで光減衰手段を構成する。この場
合、ｆθレンズの表面に減光透過コートを施してもよ
い。
【０００７】
【発明の実施の形態】次に、本発明の実施形態を図面を
参照して説明する。図１は本発明をレーザ走査記録装置
に適用した実施形態の全体構成を示す概略斜視図、図２
はその一部の立面図である。レーザ光源としての半導体
レーザ１のレーザ光出射光路上には、レーザ光を平行ビ
ームとするコリメートレンズ２と、レーザ光のビーム形
状を整形するシリンダレンズ３が配置され、これらによ
ってビーム整形されたレーザ光はポリゴンミラー４に投
射される。ポリゴンミラー４は、正多角柱状に形成さ
れ、その複数の側面、すなわち本実施形態では６面の側
面はそれぞれ反射面として構成され、中心軸４ａの回り
に図示の反時計方向に高速回転駆動される。そして、こ
のポリゴンミラー４の側面の反射面に投射された前記レ
ーザ光は、その反射面で反射されるが、その際にポリゴ
ンミラー４の回転に伴ってその反射方向が偏向されなが
ら複数のレンズで構成されるｆθレンズ５を透過され、
感光ドラム６の感光面に投射される。このとき、レーザ
光は感光ドラム６の軸方向、すなわち水平方向に走査さ
れる。
参照して説明する。図１は本発明をレーザ走査記録装置
に適用した実施形態の全体構成を示す概略斜視図、図２
はその一部の立面図である。レーザ光源としての半導体
レーザ１のレーザ光出射光路上には、レーザ光を平行ビ
ームとするコリメートレンズ２と、レーザ光のビーム形
状を整形するシリンダレンズ３が配置され、これらによ
ってビーム整形されたレーザ光はポリゴンミラー４に投
射される。ポリゴンミラー４は、正多角柱状に形成さ
れ、その複数の側面、すなわち本実施形態では６面の側
面はそれぞれ反射面として構成され、中心軸４ａの回り
に図示の反時計方向に高速回転駆動される。そして、こ
のポリゴンミラー４の側面の反射面に投射された前記レ
ーザ光は、その反射面で反射されるが、その際にポリゴ
ンミラー４の回転に伴ってその反射方向が偏向されなが
ら複数のレンズで構成されるｆθレンズ５を透過され、
感光ドラム６の感光面に投射される。このとき、レーザ
光は感光ドラム６の軸方向、すなわち水平方向に走査さ
れる。
【０００８】なお、前記ｆθレンズ５は反射された際の
レーザ光の偏向角速度を感光ドラム６上で等走査速度に
修正するためのものであり、ここではポリゴンミラー側
に配置した第１レンズ５Ａと、感光ドラム側に配置した
第２レンズ５Ｂとで構成されている。また、感光ドラム
６は軸回りに回転され、この回転により垂直方向の走査
が行われることはこれまでと同じである。さらに、前記
ｆθレンズ５を透過したレーザ光のうちの一部は、前記
感光ドラム６の描画領域を外れた位置に設けられた反射
ミラー７で反射され、受光素子からなるビームディテク
タ８により受光される。このビームディテクタ８は図外
の制御回路に接続されており、これによりレーザ光を走
査する際の水平同期信号が得られることになる。
レーザ光の偏向角速度を感光ドラム６上で等走査速度に
修正するためのものであり、ここではポリゴンミラー側
に配置した第１レンズ５Ａと、感光ドラム側に配置した
第２レンズ５Ｂとで構成されている。また、感光ドラム
６は軸回りに回転され、この回転により垂直方向の走査
が行われることはこれまでと同じである。さらに、前記
ｆθレンズ５を透過したレーザ光のうちの一部は、前記
感光ドラム６の描画領域を外れた位置に設けられた反射
ミラー７で反射され、受光素子からなるビームディテク
タ８により受光される。このビームディテクタ８は図外
の制御回路に接続されており、これによりレーザ光を走
査する際の水平同期信号が得られることになる。
【０００９】また、前記ポリゴンミラー４と前記ｆθレ
ンズ５の第１レンズ５Ａとの間には透過される光の強度
を低下させるための光減衰板９が配設されている。この
光減衰板９は、光透過率を所定値に制限された樹脂ある
いはガラスからなる平板として構成されており、前記ポ
リゴンミラー４においてｆθレンズ５に向けて反射され
るレーザ光の光路上に配置され、ポリゴンミラー４で反
射されたレーザ光がこの光減衰板９を透過されるように
構成される。
ンズ５の第１レンズ５Ａとの間には透過される光の強度
を低下させるための光減衰板９が配設されている。この
光減衰板９は、光透過率を所定値に制限された樹脂ある
いはガラスからなる平板として構成されており、前記ポ
リゴンミラー４においてｆθレンズ５に向けて反射され
るレーザ光の光路上に配置され、ポリゴンミラー４で反
射されたレーザ光がこの光減衰板９を透過されるように
構成される。
【００１０】この構成によれば、半導体レーザ１から出
射されたレーザ光はコリメートレンズ２とシリンダレン
ズ３により平行円形光束にされてポリゴンミラー４に投
射され、ポリゴンミラー４の回転に伴って偏向されなが
ら反射される。反射されたレーザ光は光減衰板９を透過
して光量が若干低下されながらｆθレンズ５により偏向
方向に等速度化され、感光ドラム６に投射されて感光ド
ラム面に水平走査される。そして、感光ドラム６の回転
により、垂直走査が行われるため、感光ドラム面に任意
のパターンの潜像を形成する。そして、この感光ドラム
６で反射されたレーザ光は、前記と逆の光路を戻り、ポ
リゴンミラー４にまで戻されると、再びその反射面で反
射され、再度感光ドラム６に投射されることになる。
射されたレーザ光はコリメートレンズ２とシリンダレン
ズ３により平行円形光束にされてポリゴンミラー４に投
射され、ポリゴンミラー４の回転に伴って偏向されなが
ら反射される。反射されたレーザ光は光減衰板９を透過
して光量が若干低下されながらｆθレンズ５により偏向
方向に等速度化され、感光ドラム６に投射されて感光ド
ラム面に水平走査される。そして、感光ドラム６の回転
により、垂直走査が行われるため、感光ドラム面に任意
のパターンの潜像を形成する。そして、この感光ドラム
６で反射されたレーザ光は、前記と逆の光路を戻り、ポ
リゴンミラー４にまで戻されると、再びその反射面で反
射され、再度感光ドラム６に投射されることになる。
【００１１】このとき、図３に模式的に示すように、感
光面で最初に反射されたレーザ光（以下、第１レーザ
光）Ｌ１は、前記した光路を戻る際にｆθレンズ５と光
減衰板９を透過され、再びポリゴンミラー４で反射され
て感光ドラム６に向けて進行されるレーザ光（以下、第
２レーザ光）Ｌ２は再度光減衰板９を透過され、しかる
上でｆθレンズ５を透過して感光ドラム６に投射される
ことになる。したがって、第１レーザ光Ｌ１は光減衰板
９を１回透過されるのに対し、第２レーザ光Ｌ２は光減
衰板９を計３回透過されることになり、光減衰板９によ
って減衰される光量は第１レーザ光Ｌ１よりも第２レー
ザ光Ｌ２において顕著なものとなる。これにより、感光
ドラム面における第１レーザ光Ｌ１と第２レーザ光Ｌ２
の光量比が大きくなり、第２レーザ光Ｌ２が原因とされ
るゴースト像の発生が抑制される。
光面で最初に反射されたレーザ光（以下、第１レーザ
光）Ｌ１は、前記した光路を戻る際にｆθレンズ５と光
減衰板９を透過され、再びポリゴンミラー４で反射され
て感光ドラム６に向けて進行されるレーザ光（以下、第
２レーザ光）Ｌ２は再度光減衰板９を透過され、しかる
上でｆθレンズ５を透過して感光ドラム６に投射される
ことになる。したがって、第１レーザ光Ｌ１は光減衰板
９を１回透過されるのに対し、第２レーザ光Ｌ２は光減
衰板９を計３回透過されることになり、光減衰板９によ
って減衰される光量は第１レーザ光Ｌ１よりも第２レー
ザ光Ｌ２において顕著なものとなる。これにより、感光
ドラム面における第１レーザ光Ｌ１と第２レーザ光Ｌ２
の光量比が大きくなり、第２レーザ光Ｌ２が原因とされ
るゴースト像の発生が抑制される。
【００１２】例えば、ポリゴンミラー４で最初に反射さ
れるレーザ光の光量をＩ0 とし、光減衰板９の光透過率
ρを０．７としたとき、感光ドラム６の感光面における
第１レーザ光Ｌ１の光量Ｉ1 は、 Ｉ1 ＝０．７・Ｉ0 となる。一方、光減衰板９を３回透過される第２レーザ
光Ｌ２の光量Ｉ2 は Ｉ2 ＝（０．７）3 ・Ｉ0 となる。したがって、第１レーザ光Ｌ１と第２レーザ光
Ｌ２の光量比Ｒ12は、 Ｒ12＝（０．７）3 ・Ｉ0 ／０．７・Ｉ0 ＝（０．７）2 ≒０．５ となる。すなわち、第２レーザ光の光量Ｉ2 は第１レー
ザ光の光量Ｉ1 のほぼ１／２となり、ゴースト像の発生
が抑制される。一般的には、光減衰板９の光透過率をρ
としたときには、第２レーザ光の光量は第１レーザ光の
光量のρ2 となる。
れるレーザ光の光量をＩ0 とし、光減衰板９の光透過率
ρを０．７としたとき、感光ドラム６の感光面における
第１レーザ光Ｌ１の光量Ｉ1 は、 Ｉ1 ＝０．７・Ｉ0 となる。一方、光減衰板９を３回透過される第２レーザ
光Ｌ２の光量Ｉ2 は Ｉ2 ＝（０．７）3 ・Ｉ0 となる。したがって、第１レーザ光Ｌ１と第２レーザ光
Ｌ２の光量比Ｒ12は、 Ｒ12＝（０．７）3 ・Ｉ0 ／０．７・Ｉ0 ＝（０．７）2 ≒０．５ となる。すなわち、第２レーザ光の光量Ｉ2 は第１レー
ザ光の光量Ｉ1 のほぼ１／２となり、ゴースト像の発生
が抑制される。一般的には、光減衰板９の光透過率をρ
としたときには、第２レーザ光の光量は第１レーザ光の
光量のρ2 となる。
【００１３】ここで、前記光減衰板９の光透過率は、第
１レーザ光の光量値、感光ドラム６の受光感度特性、そ
の他、感光ドラムの潜像を顕像化する際の濃度、等を総
合勘案し、ゴースト像が最も目立たなくなる光量比Ｒ12
となるように設計すればよい。本発明の実験によれば、
光透過率ρは、０．２＜ρ＜０．７の範囲が好ましいこ
とが判明した。ρが０．７以上ではゴースト除去効果は
薄いので、実用的ではない。また、ρが０．２以下では
ゴースト除去効果は大であるが、レーザの発光効率（利
用効率）が悪くなるので実用的ではない。
１レーザ光の光量値、感光ドラム６の受光感度特性、そ
の他、感光ドラムの潜像を顕像化する際の濃度、等を総
合勘案し、ゴースト像が最も目立たなくなる光量比Ｒ12
となるように設計すればよい。本発明の実験によれば、
光透過率ρは、０．２＜ρ＜０．７の範囲が好ましいこ
とが判明した。ρが０．７以上ではゴースト除去効果は
薄いので、実用的ではない。また、ρが０．２以下では
ゴースト除去効果は大であるが、レーザの発光効率（利
用効率）が悪くなるので実用的ではない。
【００１４】また、光減衰板９は、ポリゴンミラー４と
感光ドラム６の間の光路上であれば、任意の位置に配置
することが可能であるが、ポリゴンミラーに近い箇所に
設けるほど、光減衰板を小寸法に形成できる。また、前
記実施形態では、光減衰手段として、ｆθレンズとは独
立した光減衰板を用いた構成を示しているが、ｆθレン
ズ自体を所要の光透過率に設定することが可能な場合に
は、ｆθレンズを光減衰手段として構成してもよく、こ
の場合には独立した光減衰板を別に配置する必要はな
い。また、ｆθレンズを光減衰手段として利用する場合
には、所要の光透過率に設定するために、表面に光減衰
膜を設けてもよい。例えば、図４（ａ）に示すように、
ｆθレンズ５の表面に所要の透過率のフィルム１０を貼
り付けた構成としてもよい。または、図４（ｂ）に示す
ように、同様な光減衰効果を有する減光透過コート１１
を施してもよい。
感光ドラム６の間の光路上であれば、任意の位置に配置
することが可能であるが、ポリゴンミラーに近い箇所に
設けるほど、光減衰板を小寸法に形成できる。また、前
記実施形態では、光減衰手段として、ｆθレンズとは独
立した光減衰板を用いた構成を示しているが、ｆθレン
ズ自体を所要の光透過率に設定することが可能な場合に
は、ｆθレンズを光減衰手段として構成してもよく、こ
の場合には独立した光減衰板を別に配置する必要はな
い。また、ｆθレンズを光減衰手段として利用する場合
には、所要の光透過率に設定するために、表面に光減衰
膜を設けてもよい。例えば、図４（ａ）に示すように、
ｆθレンズ５の表面に所要の透過率のフィルム１０を貼
り付けた構成としてもよい。または、図４（ｂ）に示す
ように、同様な光減衰効果を有する減光透過コート１１
を施してもよい。
【００１５】なお、本発明はレーザ光の光路上に光反射
手段が配置されており、この光反射手段で反射されたレ
ーザ光が感光面にまで到達される構成のレーザ描画装置
であれば、本発明を同様に適用することができる。
手段が配置されており、この光反射手段で反射されたレ
ーザ光が感光面にまで到達される構成のレーザ描画装置
であれば、本発明を同様に適用することができる。
【００１６】
【発明の効果】以上説明したように本発明は、レーザ光
源からのレーザ光を反射して感光面に投射する光反射手
段と、前記感光面との間に光減衰手段を配置しているの
で、感光面で反射された後、再び光反射手段で反射され
て感光面に再度投射されるレーザ光の光量を光減衰手段
によって大幅に低減することができ、この再反射された
レーザ光によるゴースト像の発生を抑制し、品質の高い
描画が実現できる。また、光減衰手段を光減衰板で構成
する場合には、既存のレーザ描画装置の光学系に光減衰
板を介挿配置するだけでよく、容易に実現できる。ま
た、光減衰手段をｆθレンズで構成する場合には、部品
点数を増やすことなく実現できる。
源からのレーザ光を反射して感光面に投射する光反射手
段と、前記感光面との間に光減衰手段を配置しているの
で、感光面で反射された後、再び光反射手段で反射され
て感光面に再度投射されるレーザ光の光量を光減衰手段
によって大幅に低減することができ、この再反射された
レーザ光によるゴースト像の発生を抑制し、品質の高い
描画が実現できる。また、光減衰手段を光減衰板で構成
する場合には、既存のレーザ描画装置の光学系に光減衰
板を介挿配置するだけでよく、容易に実現できる。ま
た、光減衰手段をｆθレンズで構成する場合には、部品
点数を増やすことなく実現できる。
【図１】本発明のレーザ走査記録装置の一実施形態の全
体構成の斜視図である。
体構成の斜視図である。
【図２】図１の装置の要部の立面図である。
【図３】レーザ光における減衰動作を説明するための模
式図である。
式図である。
【図４】ｆθレンズを光減衰手段として構成する他の例
の断面図である。
の断面図である。
【図５】従来のレーザ走査記録装置の全体構成を示す概
略平面図である。
略平面図である。
１ レーザ光源 ２ コリメートレンズ ３ ビーム整形レンズ ４ ポリゴンミラー ５ ｆθレンズ ６ 感光ドラム ７ 反射板 ８ ビームディテクタ ９ 光減衰板 １０ 光減衰フィルム １１ 減光透過コート
─────────────────────────────────────────────────────
【手続補正書】
【提出日】平成１０年９月３０日
【手続補正１】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図１
【補正方法】変更
【補正内容】
【図１】
Claims (6)
- 【請求項１】 レーザ光を出射するレーザ光源と、前記
レーザ光を反射して感光面に投射する光反射手段とを備
えるレーザ描画装置において、前記光反射手段と前記感
光面との間の前記レーザ光の光路上に光減衰手段を配置
したことを特徴とするレーザ描画装置 - 【請求項２】 前記光減衰手段の光透過率ρが０．２＜
ρ＜０．７である請求項１に記載のレーザ描画装置。 - 【請求項３】 前記光反射手段は、回転駆動されて前記
感光面に対してレーザ光を走査するポリゴンミラーで構
成される請求項１または２に記載のレーザ描画装置。 - 【請求項４】 前記光減衰手段は、所要の光透過率の光
透過板で構成される請求項１ないし３のいずれかに記載
のレーザ描画装置。 - 【請求項５】 前記ポリゴンミラーと前記感光面との間
に、感光面におけるレーザ光の走査速度を等速化するｆ
θレンズを備え、このｆθレンズで前記光減衰手段を構
成する請求項３に記載のレーザ描画装置。 - 【請求項６】 前記ｆθレンズの表面に減光透過コート
処理を施してなる請求項５に記載のレーザ描画装置。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP27088097A JPH11109275A (ja) | 1997-10-03 | 1997-10-03 | レーザ描画装置 |
| KR1019980041422A KR19990036778A (ko) | 1997-10-03 | 1998-10-01 | 레이저광선으로 패턴을 생성하는 장치 |
| GB9821566A GB2330918B (en) | 1997-10-03 | 1998-10-02 | Apparatus for creating patterns with a laser beam |
| HK99104981A HK1020782A1 (en) | 1997-10-03 | 1999-11-02 | Apparatus for creating patterns with a laser beam |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP27088097A JPH11109275A (ja) | 1997-10-03 | 1997-10-03 | レーザ描画装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11109275A true JPH11109275A (ja) | 1999-04-23 |
Family
ID=17492261
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP27088097A Pending JPH11109275A (ja) | 1997-10-03 | 1997-10-03 | レーザ描画装置 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH11109275A (ja) |
| KR (1) | KR19990036778A (ja) |
| GB (1) | GB2330918B (ja) |
| HK (1) | HK1020782A1 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2012003046A (ja) * | 2010-06-17 | 2012-01-05 | Sharp Corp | 光走査装置及び画像形成装置 |
| JP2012042653A (ja) * | 2010-08-18 | 2012-03-01 | Ricoh Co Ltd | 光走査装置及び画像形成装置 |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006039278A (ja) * | 2004-07-28 | 2006-02-09 | Fuji Photo Film Co Ltd | 走査レンズ及びそれを有する走査光学装置 |
Family Cites Families (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62106431A (ja) * | 1985-11-01 | 1987-05-16 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 光走査装置 |
| JPS62273517A (ja) * | 1986-05-21 | 1987-11-27 | Konika Corp | 画像形成装置 |
| JP2644230B2 (ja) * | 1987-06-19 | 1997-08-25 | 株式会社リコー | 光走査装置 |
| US5004310A (en) * | 1989-05-19 | 1991-04-02 | Honeywell Inc. | Wide angle line scanner |
| GB2253714B (en) * | 1991-01-16 | 1994-05-11 | Asahi Optical Co Ltd | Preventing ghosting in scanning optical system |
| JPH05232394A (ja) * | 1992-02-19 | 1993-09-10 | Topcon Corp | 光走査装置 |
| US5646767A (en) * | 1993-12-22 | 1997-07-08 | Asahi Kogaku Kogyo Kabushiki Kaisha | Scanning optical system |
-
1997
- 1997-10-03 JP JP27088097A patent/JPH11109275A/ja active Pending
-
1998
- 1998-10-01 KR KR1019980041422A patent/KR19990036778A/ko not_active Application Discontinuation
- 1998-10-02 GB GB9821566A patent/GB2330918B/en not_active Expired - Fee Related
-
1999
- 1999-11-02 HK HK99104981A patent/HK1020782A1/xx not_active IP Right Cessation
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2012003046A (ja) * | 2010-06-17 | 2012-01-05 | Sharp Corp | 光走査装置及び画像形成装置 |
| JP2012042653A (ja) * | 2010-08-18 | 2012-03-01 | Ricoh Co Ltd | 光走査装置及び画像形成装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| KR19990036778A (ko) | 1999-05-25 |
| HK1020782A1 (en) | 2000-05-19 |
| GB9821566D0 (en) | 1998-11-25 |
| GB2330918B (en) | 2002-04-03 |
| GB2330918A (en) | 1999-05-05 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP3856881B2 (ja) | 光走査装置 | |
| US8228583B2 (en) | Optical scanning device and image forming apparatus | |
| WO2001028254A1 (en) | Cylindrical color wheel and fabricating method thereof and projector using the same | |
| JPH09288244A (ja) | 光走査装置 | |
| JPH035562B2 (ja) | ||
| CA1328756C (en) | Polycone scanning system with multiple beams | |
| JP3093337B2 (ja) | 走査光学装置 | |
| JP2005266775A (ja) | 光走査装置 | |
| JPH11109275A (ja) | レーザ描画装置 | |
| KR100510141B1 (ko) | 광 주사장치 | |
| JP2002131671A (ja) | 光走査装置およびこれを用いた画像形成装置 | |
| JPH103050A (ja) | 走査光学装置 | |
| JP3804256B2 (ja) | 光走査装置 | |
| JP2970053B2 (ja) | 光走査装置 | |
| JP2947952B2 (ja) | 電子写真装置 | |
| KR20030093875A (ko) | 광주사장치 | |
| JP4238967B2 (ja) | 光走査装置 | |
| JP2999853B2 (ja) | 光走査装置 | |
| JP2001125033A (ja) | 走査光学系と画像形成装置 | |
| JP2002023088A (ja) | 走査光学系 | |
| JPH06265807A (ja) | 光ビーム走査光学系 | |
| JPH05249689A (ja) | 光ビーム走査装置 | |
| JPH10213767A (ja) | 光学走査装置 | |
| JP3078680B2 (ja) | 光走査装置 | |
| JPH043297Y2 (ja) |