JPH11106480A - 液状注入封止アンダーフィル材 - Google Patents

液状注入封止アンダーフィル材

Info

Publication number
JPH11106480A
JPH11106480A JP27675697A JP27675697A JPH11106480A JP H11106480 A JPH11106480 A JP H11106480A JP 27675697 A JP27675697 A JP 27675697A JP 27675697 A JP27675697 A JP 27675697A JP H11106480 A JPH11106480 A JP H11106480A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
weight
underfill material
liquid injection
epoxy resin
parts
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP27675697A
Other languages
English (en)
Other versions
JP3283451B2 (ja
Inventor
Masahiro Wada
雅浩 和田
Toshiro Takeda
敏郎 竹田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sumitomo Bakelite Co Ltd
Original Assignee
Sumitomo Bakelite Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sumitomo Bakelite Co Ltd filed Critical Sumitomo Bakelite Co Ltd
Priority to JP27675697A priority Critical patent/JP3283451B2/ja
Publication of JPH11106480A publication Critical patent/JPH11106480A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP3283451B2 publication Critical patent/JP3283451B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
  • Epoxy Resins (AREA)
  • Structures Or Materials For Encapsulating Or Coating Semiconductor Devices Or Solid State Devices (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 高密着性、低α1、且つ吸湿処理後の特性変
化の小さい、すなわち高信頼性を有する液状注入封止ア
ンダーフィル材を提供する。 【解決手段】 (A)常温で液状のエポキシ樹脂100
重量部、(B)式(1)で示されるシアネートエステル
(a重量部)及び式(2)で示されるシアネートエステ
ル(b重量部)の合計100〜150重量部(0.15
≦a/(a+b)≦0.5)、(C)式(3)で示され
るビスフェノール化合物5〜30重量部、(D)イミダ
ゾール0.3〜2重量部、(E)金属錯体触媒、及び
(F)球状無機フィラーを含有してなることを特徴とす
る液状注入封止アンダーフィル材。 【化1】 【化2】 (式中、R1、R2:Hまたは炭素数10以下のアルキル
基であり、かつ少なくとも一方はアルキル基である。 R3:炭素数10以下のアルキレン基) 【化3】

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、耐湿性、耐熱衝撃
性に優れた半導体の液状注入封止に用いられる液状注入
封止アンダーフィル材に関する。
【0002】
【従来の技術】ICチップの高集積化、高密度化とIC
パッケージの小型化という要求からフリップチップ実装
方式が登場した。同実装方式はこれまでのワイヤーボン
ディングによる接続ではなく、ICチップ表面とプリン
ト基板とを半田バンプで接続することで小型、薄型化を
可能としている。しかしチップ、プリント配線基盤、半
田の熱膨張係数が異なるために冷熱衝撃試験時に熱スト
レスが発生する。特にチップ中央から遠いコーナー近辺
の半田バンプには局所的に熱ストレスが集中する。この
ため半田ボールにクラックが生じ、回路の作動信頼性は
大きく低下する。
【0003】そこで、熱ストレスを緩和する目的から液
状注入封止アンダーフィル材による封止が行われる。具
体的にはチップとプリント配線基盤との隙間(スタンド
ギャップ:30〜150ミクロン)に液状注入封止アン
ダーフィル材を注入、硬化して、封止する方法が採られ
る。液状注入封止アンダーフィル材が前述の半田ボール
への熱ストレスを緩和、吸収するためには物理化学的特
性として、 (1)液状注入封止アンダーフィル材の低熱膨張係数
(α1)を半田ボールにマッチさせること。 (2)ガラス転移点温度(以下Tgという)を高いこ
と。すなわちα1の温度領域を広いこと。 (3)液状注入封止アンダーフィル材−チップもしくは
液状注入封止アンダーフィル材−プリント配線基盤界面
での密着性が良好なこと。 などが必要となる。これらの要件を満たす液状注入封止
アンダーフィル材では、外部の温度変化に対してスタン
ドギャップ中の封止樹脂が半田と同様に膨張収縮し、且
つ各界面は強固に結合されているために、熱ストレスが
パッケージ全体に分散され、接続信頼性が保たれる。こ
のほか、液状注入封止アンダーフィル材は外部環境から
チップの回路面と半田ボールとを保護する役割も果た
す。以上のようにフリップチップ実装の信頼性は液状注
入封止アンダーフィル材に大きく依存する。
【0004】近年のフリップチップ実装の急速な普及に
伴い、より信頼性の高い液状注入封止アンダーフィル材
が望まれている(具体的にはJEDEC レベル3、4
などの条件で吸湿処理を行い温度サイクル試験並びにI
Rリフロー試験を行う)。しかしながら、現在実用レベ
ルにある液状注入封止アンダーフィル材の多くは吸湿処
理を施すと信頼性は著しく低下する、という欠点があっ
た。更に耐湿信頼性を獲得するには前述の(1)から
(3)以外の特性として (4)以上の物性が吸湿処理によって、できる限り変化
しないことが重要となる。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】本発明は従来の注入封
止アンダーフィル材の上記の問題を解決するためになさ
れたものであり、その目的とするところは高密着性、低
α1、且つ吸湿処理後の特性変化の小さい、すなわち高
信頼性を有する液状注入封止アンダーフィル材を提供す
るに有る。
【0006】
【課題を解決するための手段】本発明は(A)常温で液
状のエポキシ樹脂100重量部、(B)式(1)で示さ
れるシアネートエステル(a重量部)及び式(2)で示
されるシアネートエステル(b重量部)の合計100〜
150重量部(0.15≦a/(a+b)≦0.5)、
(C)式(3)で示されるビスフェノール化合物5〜3
0重量部、(D)イミダゾール0.3〜2重量部、
(E)金属錯体触媒、及び(F)球状無機フィラーを含
有してなることを特徴とする液状注入封止アンダーフィ
ル材であり、
【0007】
【化1】
【0008】
【化2】 (式中、R1、R2:Hまたは炭素数10以下のアルキル
基であり、かつ少なくとも一方はアルキル基である。 R3:炭素数10以下のアルキレン基)
【0009】
【化3】
【0010】また、無機球状フィラーの平均粒径が0.
5μmから12μm 、かつ最大粒径が70μm 以下で
ある前記の液状注入封止アンダーフィル材である。
【0011】本材料を用いることによりフリップチップ
実装の信頼性および耐湿信頼性を大幅に向上させること
ができる。
【0012】
【発明の実施の形態】本発明に用いられる樹脂は、全樹
脂中にはエポキシ樹脂(A)100重量部に対して、式
(1)及び(2)に示すシアネートエステル樹脂(B)
が100重量部から150重量部を含む。一般に1分子
内に少なくとも2個以上のシアネート基を有する化合物
は、金属錯体存在下、加熱することにより容易に3量化
反応が起こりTgの高い樹脂硬化物を与える。ここでエ
ポキシ樹脂100重量部に対してシアネートエステル樹
脂が100重量部以下では、吸湿後の密着性は高くなる
がTgは低く、150重量部以上ではTgが高くなるも
のの吸湿後の密着性は低くなるので好ましくない。
【0013】エポキシ樹脂成分は25゜Cにおける粘度
が500Pa・s以下であることが好ましい。エポキシ
樹脂成分の粘度が500Pa・sより高いと組成物の粘
度が高くなり、フリップチップ実装型パッケージ中への
アンダーフィル材料を流動注入する際、気泡を巻き込ん
だり、コーナー端部への充填不良が発生し易くなり信頼
性低下につながり、好ましくない。エポキシ樹脂の粘度
測定には、室温で液状のエポキシ樹脂の場合、25゜C
において東機産業(株)・製E型粘度計、ブルックフィ
ールド粘度計で測定する。この要件を満たすエポキシ樹
脂で有れば特に限定される物ではないが、例えばビスフ
ェノールA、ビスフェノールF、フェノールノボラック
とエピクロルヒドリンとの反応で得られるポリグリシジ
ルエーテルで常温で液状の物、ビニルシクロヘキセンジ
オキシド、ジシクロペンタジエンオキシド、アリサイク
リックジエポキシ−アジペイドの様な脂環式エポキシ、
1、6―ビス(2、3―エポキシプロポキシ)ナフタレ
ンの様なナフタレン骨格エポキシ樹脂がある。これらは
単独でも混合して用いても差し支えない。また、信頼性
の優れた液状注入封止アンダーフィル材料を得るため
に、使用するエポキシ樹脂はNa+、Cl-等のイオン性不純
物はできるだけ少ないものが好ましい。
【0014】本発明に用いる成分(C)のビスフェノー
ル化合物はテトラメチルビスフェノールAである。ビス
フェノール化合物はエポキシ樹脂に対しては硬化剤とし
て、シアネートエステル樹脂に対しては助触媒として作
用するためエポキシ樹脂とシアネートエステルに容易に
溶解するフェノール類は常温でのポットライフが短くな
る。従って、本発明に用いられるビスフェノール化合物
融点が硬化温度付近か、あるいは常温でエポキシ樹脂と
シアネート樹脂に対して難溶なものが好ましい。テトラ
メチルビスフェノールAはこの条件を満たしており、ポ
ットライフを良好に維持したまま、耐湿密着性に優れた
硬化物を与えるので、高信頼性のアンダーフィル材が得
られる。テトラメチルビスフェノールAはエポキシ樹脂
100重量部に対して5重量部から30重量部含む。こ
こでエポキシ樹脂100重量部に対して5重量部未満で
有れば吸湿後の密着性が低く、30重量部より多ければ
ポットライフが短く、かつ粘度が増大しフリップチップ
実装型パッケージ中への充填不良が発生し易くなり信頼
性低下につながる。
【0015】本発明に用いられる成分(B)のシアネー
トエステルは、式(1)及び(2)からなり、全シアネ
ートエステル中に式(2)に示すシアネートエステル1
5重量%から50重量%含む。一般に1分子内に少なく
とも2個以上のシアネート基を有する化合物は、金属錯
体存在下、加熱することにより容易に3量化反応が起こ
りTgの高い樹脂硬化物を与える。本発明に用いられる
式(1)に示すシアネートエステルは低粘度の液状でア
ンダーフィル材に好適ではあるが硬化物の耐湿性は低
い。一方、式(2)に示すシアネートエステルは分子中
にメチル基を有しており比較的耐湿性に優れる。本発明
に用いられる式(2)で表されるシアネートエステルと
しては、4,4'-メチリデンビス[2,6-ジメチルフェニレン
シアネート]、4,4'-(1-メチルエチリデン)ビス[2-メチ
ルフェニレンシアネート]、4,4'-(1-メチルエチリデン)
ビス[2,6-ジメチルフェニレンシアネート]、4,4'-メチ
レンビス[2-メチルフェニレンシアネート]、4,4'-(1-メ
チル-エチリデン)ビス[2-(1,1-ジメチルエチル)フェニ
レンシアネート]などがある。ここで全シアネートエス
テル中に含まれる式(2)に示すシアネートエステルが
15重量%未満では吸湿後の密着性が低く、50重量%
よりも多ければ粘度が増大し、充填性は低下する。又、
冷凍保存時の結晶化を防止する目的から、これらのシア
ネートエステルを予め10から30重量%程度三量化さ
せて配合しても良い。
【0016】本発明に用いられる成分(D)のイミダゾ
ールは2―メチルイミダゾール、2―エチルー4―メチ
ルイミダゾール、2―ウンデシルイミダゾール、2―ヘ
プタデシルイミダゾール、2―フェニルー4、5―ジヒ
ドロキシメチルイミダゾール、2―フェニルイミダゾー
ルなどが有るが、とくに限定されるものではなく、これ
らは単独でも混合して用いても差し支えない。イミダゾ
ールはエポキシ樹脂100重量部に対して0.3重量部か
ら2重量部含まれる。ここで、イミダゾールがエポキシ
樹脂100重量部に対して0.3重量部未満で有れば硬化
時間がかかり、2重量部以上で有ればポットライフが短
く作業性が低下する。
【0017】本発明に用いられる成分(E)の金属錯体
触媒には、例えばコバルト、亜鉛、鉄、銅、クロム、マ
ンガン、ニッケル、チタンなどの金属ナフテン酸塩、ア
セチルアセトナート、又その誘導体の塩、各種カルボン
酸塩アルコキシドなどの有機酸塩があり、単独でも混合
して使用しても良い。
【0018】本発明に用いられる成分(F)の球状無機
フィラーは、その平均粒径が0.5〜12μm、最大粒
径が70μm以下であることが好ましい。無機フィラー
には、窒化アルミ、アルミナ、シリカなどがあるが、熱
放散性とコストの面からシリカ粒子が好ましく、低放射
線性であればより好ましい。形状は球状、破砕状、フレ
ーク状等があるが、フィラーの高充填化により線膨張係
数の低減化が図られる為、球状が最も良い。球状無機フ
ィラーの添加量は、全組成物に対して50〜80重量%
が望ましい。50重量%未満だと、上述の線膨張係数の
低減効果は小さく、80重量%を越えると結果として得
られる組成物の粘度が高くなり過ぎ、流動特性が悪化す
るため好ましくない。
【0018】液状注入封止アンダーフィル材料の流動特
性はフィラーの粒度分布にも大きく依存する。一般に分
布が広く、粒径の大きいフィラーほど、組成物の粘度が
低く流動性がよい。しかし、低粘度化を目的に大きな粒
径を含むフィラーを用いると、硬化中に粒径の大きなフ
ィラーが沈降し、間隙中の線熱膨張係数が不均一とな
り、信頼性の面で好ましくない。また液状注入封止アン
ダーフィル材料は有機基板とチップ間の間隙(スタンド
ギャップ:40〜150μm)を流動する必要から、フ
ィラー粒径はスタンドギャップよりも小さく無ければな
らず、より好ましくは最大粒径がスタンドギャップの5
0%程度かそれ以下が望ましい。逆に粒径が小さすぎる
と比表面積が増大、高粘度化するためフィラーの充填量
を高くすることができない。以上の要件を満たすには平
均粒径が0.5μmから12μm、且つ最大粒径が70
μm以下のフィラーである必要がある。より好ましくは
平均粒径が3〜9μm、且つ最大粒径が25μm以下の
粒度分布のフィラーを用いた方が良い。また、フィラー
は請求項の範囲で有れば単独で用いても、混合して粒度
分布に多峰性を持たせたものでも差し支えない。
【0019】本発明の液状注入封止アンダーフィル材料
には、前記の必須成分の他に必要に応じて他の樹脂や反
応を促進するための触媒、希釈剤、顔料、カップリング
剤、難燃剤、レベリング剤、消泡剤等の添加物を用いて
も差し支えない 液状注入封止アンダーフィル材料は、
例えば各成分、添加物等を三本ロール、二本熱ロール、
真空混合機にて分散混練し、真空下脱泡処理して製造す
る。
【0020】
【実施例】以下、実施例1−3、比較例1−8で具体的
に本発明を説明する。表1及び表2に示した配合を秤量
し、3本ロールにて混練・分散後、真空脱泡処理を行い
液状注入封止アンダーフィル材料を作製した。作製した
液状注入封止アンダーフィル材料につき、以下の試験を
行った。
【0021】[樹脂特性試験] (1)粘度測定:25℃において東機産業(株)・製E
型粘度計で初期粘度及び25℃24時間静置後の粘度を
測定した。 (2)密着性:有機基板としてビスマレイミド−トリア
ジン(BT)レジン製基板上にソルダーレジスト(太陽
インキ社製PSR−4000/CA−40)を形成した
ものを、チップとして表面にポリイミド(住友ベークラ
イト社CRC−6050)を塗布したもの(6x6x
0.38mm角)を用いた。有機基板上に液状注入封止
アンダーフィル材料を塗布し、シリコンチップをポリイ
ミド塗布面とアンダーフィル材とが向き合う形で搭載
し、150℃x120分で硬化し試験片とし、このもの
の240℃におけるダイシェア強度をDAGE製BT100
にて測定した。また、同試験片を湿度85%温度85℃
の吸湿処理を72時間施し、同様にダイシェア強度を測
定し、吸湿処理後の密着性とした。 (3)Tg:液状注入封止アンダーフィル材料を150℃
x120分で硬化後、切削により5x5x10mmの試
験片を得た。このものをセイコー製TMA/SS120
を用いて圧縮荷重5g、−100℃から300℃の温度
範囲を昇温速度10℃/分の条件で測定した。同測定に
より熱膨張係数も得たが、いずれの実施例、比較例の場
合も24から26ppm/℃であった。
【0022】パッケージを使用した信頼性試験 (4)充填性試験:80℃の熱盤上で液状注入封止アン
ダーフィル材料をフリップチップ実装パッケージに5分
間注入させた後、120℃x1時間+150℃x1時
間、オーブン中で硬化して半導体パッケージを得た。超
音波探傷機(以下、SATという)にて、パッケージ内部
の充填性を確認した。 (5)T/Cサイクル試験:(4)で作製した半導体パッ
ケージにT/C処理(−65℃/5分←→150℃/5
分 1000サイクル)を施して、SATおよび断面研磨後
の顕微鏡観察にて半導体チップとプリント基板界面との
剥離、クラックの有無を確認した。 (6)JEDECレベル3処理: (4)で作製した半導体
パッケージにJEDECレベル3の吸湿処理(30℃6
0%168時間)を行った後、IRリフロー処理(24
0℃/20秒)を3回行い、SATにて半導体チップと
プリント基板界面との剥離、クラックの有無を確認し
た。
【0023】信頼性評価に用いたフリップチップ実装パ
ッケージの数はそれぞれ10個である。なお、チップの
大きさは7x7mm角1.75mm厚で、基板との間隙は
60μmである。
【0024】
【表1】
【0025】 (1)シリカA:溶融球状シリカで平均粒径7.9μ
m、最大粒径40μm (2)シリカB:合成球状シリカで平均粒径0.3μ
m、最大粒径4μm (3)液状エポキシ樹脂A:ビスフェノールF型エポキ
シ樹脂(当量170) (4)シアネ―トエステルA:化学式(1)で表される
シアネ―トエステル。 (5)シアネ―トエステルB:化学式(2)で表される
シアネ―トエステルで、R1及びR2はCH3、R3はCH
2のもの
【0026】
【表2】
【0027】比較例1はエポキシ樹脂量に対してシアネ
ートエステルが過剰なために、吸湿処理後の密着性は低
く、信頼性は低い。比較例2はエポキシ樹脂量に対して
シアネートエステルが過少なために、密着性は良好なも
ののTgが低く、T/Cサイクル試験、JEDECレベル
3試験での信頼性は低い。比較例3は全シアネートエス
テル樹脂量中のシアネートエステルBが少ないために、
吸湿処理後の密着性は低く、ひいては吸湿後の信頼性は
低い。比較例4は全シアネートエステル樹脂量中のシア
ネートエステルBが過剰なために、高粘度で充填性が低
く、そのため信頼性は低い。比較例5はエポキシ樹脂量
に対してイミダゾールが過剰なためにポットライフが短
く、試験中に粘度が上昇し充填性が悪化する。このよう
なポットライフの短さは実用上問題がある。比較例6は
エポキシ樹脂量に対してイミダゾールが少ないために前
述の硬化条件では密着性が充分発現せず、信頼性は低
い。比較例7はエポキシ樹脂量に対してテトラメチルビ
スフェノールAが過剰なためにテトラメチルビスフェノ
ールAが破砕フィラー的に作用し、注入が不充分となり
信頼性は低い。比較例8はエポキシ樹脂量に対してテト
ラメチルビスフェノールAが少ないために前述の硬化条
件では吸湿後の密着性が発現せず、吸湿後の信頼性は低
い。
【0028】
【発明の効果】本発明の液状注入封止アンダーフィル材
でフリップチップとプリント配線基盤との間隙を封止す
る事により冷熱サイクル試験、JEDECレベル3吸湿
処理後のIRリフロー試験に耐えうる高信頼性のフリッ
プチップ実装が可能となり、工業的メリットは大きい。

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 (A)常温で液状のエポキシ樹脂100
    重量部、(B)式(1)で示されるシアネートエステル
    (a重量部)及び式(2)で示されるシアネートエステ
    ル(b重量部)の合計100〜150重量部(0.15
    ≦a/(a+b)≦0.5)、(C)式(3)で示され
    るビスフェノール化合物5〜30重量部、(D)イミダ
    ゾール0.3〜2重量部、(E)金属錯体触媒、及び
    (F)球状無機フィラーを含有してなることを特徴とす
    る液状注入封止アンダーフィル材。 【化1】 【化2】 (式中、R1、R2:Hまたは炭素数10以下のアルキル
    基であり、かつ少なくとも一方はアルキル基である。 R3:炭素数10以下のアルキレン基) 【化3】
  2. 【請求項2】 無機球状フィラーの平均粒径が0.5μ
    mから12μm 、かつ最大粒径が70μm 以下である
    請求項1記載の液状注入封止アンダーフィル材。
JP27675697A 1997-10-09 1997-10-09 液状注入封止アンダーフィル材 Expired - Lifetime JP3283451B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP27675697A JP3283451B2 (ja) 1997-10-09 1997-10-09 液状注入封止アンダーフィル材

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP27675697A JP3283451B2 (ja) 1997-10-09 1997-10-09 液状注入封止アンダーフィル材

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH11106480A true JPH11106480A (ja) 1999-04-20
JP3283451B2 JP3283451B2 (ja) 2002-05-20

Family

ID=17573915

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP27675697A Expired - Lifetime JP3283451B2 (ja) 1997-10-09 1997-10-09 液状注入封止アンダーフィル材

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP3283451B2 (ja)

Cited By (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002280682A (ja) * 2001-01-12 2002-09-27 Fujitsu Ltd 絶縁樹脂組成物及びそれから形成した絶縁層を含む多層回路基板
US6632320B1 (en) 1999-08-19 2003-10-14 Sony Chemicals Corp. Adhesive material and circuit connection method
US6670430B1 (en) * 1999-12-17 2003-12-30 Henkel Loctite Corporation Thermosetting resin compositions comprising epoxy resins, adhesion promoters, and curatives based on the combination of nitrogen compounds and transition metal complexes
WO2004090033A1 (ja) * 2003-04-07 2004-10-21 Hitachi Chemical Co., Ltd. 封止用エポキシ樹脂成形材料及び半導体装置
US6869822B2 (en) 2001-09-11 2005-03-22 Fujitsu Limited Method of making a semiconductor device with adhesive sealing subjected to two-fold hardening
US6893736B2 (en) 2001-11-19 2005-05-17 Henkel Corporation Thermosetting resin compositions useful as underfill sealants
US6951907B1 (en) 2001-11-19 2005-10-04 Henkel Corporation Composition of epoxy resin, secondary amine-functional adhesion promotor and curative of nitrogen-compound and transition metal complex
US7327039B2 (en) 2002-05-23 2008-02-05 3M Innovative Properties Company Nanoparticle filled underfill
JP2011252089A (ja) * 2010-06-02 2011-12-15 Mitsubishi Gas Chemical Co Inc 樹脂硬化物の製造方法
JP2016050215A (ja) * 2014-08-28 2016-04-11 ナミックス株式会社 封止材組成物、それを用いた半導体装置
JP2016216708A (ja) * 2015-05-20 2016-12-22 信越化学工業株式会社 液状樹脂組成物
US9633921B2 (en) 2015-05-11 2017-04-25 Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. Semiconductor encapsulation resin composition and semiconductor device comprised of cured product of the semiconductor encapsulation resin composition
JP2017088828A (ja) * 2015-11-17 2017-05-25 住友ベークライト株式会社 半導体封止用樹脂組成物、半導体装置および構造体

Cited By (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6632320B1 (en) 1999-08-19 2003-10-14 Sony Chemicals Corp. Adhesive material and circuit connection method
US6670430B1 (en) * 1999-12-17 2003-12-30 Henkel Loctite Corporation Thermosetting resin compositions comprising epoxy resins, adhesion promoters, and curatives based on the combination of nitrogen compounds and transition metal complexes
US6818318B2 (en) 1999-12-17 2004-11-16 Henkel Corporation Underfill sealant of epoxy resins, adhesion promotor and curative of N-containing compound and transition metal complex
JP2002280682A (ja) * 2001-01-12 2002-09-27 Fujitsu Ltd 絶縁樹脂組成物及びそれから形成した絶縁層を含む多層回路基板
JP4717268B2 (ja) * 2001-01-12 2011-07-06 富士通株式会社 絶縁樹脂組成物及びそれから形成した絶縁層を含む多層回路基板
US6869822B2 (en) 2001-09-11 2005-03-22 Fujitsu Limited Method of making a semiconductor device with adhesive sealing subjected to two-fold hardening
US6893736B2 (en) 2001-11-19 2005-05-17 Henkel Corporation Thermosetting resin compositions useful as underfill sealants
US6951907B1 (en) 2001-11-19 2005-10-04 Henkel Corporation Composition of epoxy resin, secondary amine-functional adhesion promotor and curative of nitrogen-compound and transition metal complex
US7327039B2 (en) 2002-05-23 2008-02-05 3M Innovative Properties Company Nanoparticle filled underfill
US7482201B2 (en) 2002-05-23 2009-01-27 3M Innovative Properties Company Nanoparticle filled underfill
US7397139B2 (en) 2003-04-07 2008-07-08 Hitachi Chemical Co., Ltd. Epoxy resin molding material for sealing use and semiconductor device
WO2004090033A1 (ja) * 2003-04-07 2004-10-21 Hitachi Chemical Co., Ltd. 封止用エポキシ樹脂成形材料及び半導体装置
JP2011252089A (ja) * 2010-06-02 2011-12-15 Mitsubishi Gas Chemical Co Inc 樹脂硬化物の製造方法
JP2016050215A (ja) * 2014-08-28 2016-04-11 ナミックス株式会社 封止材組成物、それを用いた半導体装置
US9633921B2 (en) 2015-05-11 2017-04-25 Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. Semiconductor encapsulation resin composition and semiconductor device comprised of cured product of the semiconductor encapsulation resin composition
JP2016216708A (ja) * 2015-05-20 2016-12-22 信越化学工業株式会社 液状樹脂組成物
JP2017088828A (ja) * 2015-11-17 2017-05-25 住友ベークライト株式会社 半導体封止用樹脂組成物、半導体装置および構造体

Also Published As

Publication number Publication date
JP3283451B2 (ja) 2002-05-20

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP3591758B2 (ja) 液状注入封止アンダーフィル材
EP1558678B1 (en) Toughened epoxy / polyanhydride no- flow underfill encapsulant composition
JP3283451B2 (ja) 液状注入封止アンダーフィル材
TWI480326B (zh) 用於含低k介電質之半導體裝置中作為底填密封劑之可固化樹脂組合物
JPH07278415A (ja) 半導体封止用樹脂組成物及び半導体装置
JP3835715B2 (ja) 液状注入封止アンダーフィル材料
JP2013199624A (ja) アンダーフィル用エポキシ樹脂液状封止材及び電子部品装置
EP0845499B1 (en) Process for providing a heat-conductive paste
JP4931079B2 (ja) アンダーフィル用液状熱硬化性樹脂組成物とそれを用いた半導体装置
JP2006274184A (ja) エポキシ樹脂組成物及び半導体装置
JP3432410B2 (ja) 液状注入封止アンダーフィル材
JPH0931161A (ja) 液状エポキシ樹脂組成物
JP2006176555A (ja) エポキシ樹脂組成物及び半導体装置
JP3456911B2 (ja) 液状封止樹脂組成物及び半導体装置
JP2000336244A (ja) 液状封止樹脂組成物及びそれを用いた半導体装置
JP2003268203A (ja) ウエハーモールド用液状エポキシ樹脂組成物及びこれを用いた半導体装置
JP2004186525A (ja) エリア実装型半導体装置
JPWO2005080502A1 (ja) アンダーフィル用液状エポキシ樹脂組成物および同組成物を用いて封止した半導体装置
KR100599857B1 (ko) 반도체 봉지용 액상 에폭시 수지 조성물
JP2000239627A (ja) ダイアタッチペースト
JPH1161086A (ja) 半導体用ダイアタッチ樹脂ペースト
JP3608908B2 (ja) 半導体用樹脂ペースト
JP2000297201A (ja) フリップチップ型半導体装置用封止材及びフリップチップ型半導体装置
JPS6134052A (ja) 封止用一液性エポキシ樹脂組成物
JP3469487B2 (ja) 液状封止樹脂組成物

Legal Events

Date Code Title Description
FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080301

Year of fee payment: 6

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Year of fee payment: 7

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090301

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090301

Year of fee payment: 7

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Year of fee payment: 8

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100301

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110301

Year of fee payment: 9

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120301

Year of fee payment: 10

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120301

Year of fee payment: 10

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Year of fee payment: 11

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130301