JPH1092622A - 複合磁性体の製造方法 - Google Patents
複合磁性体の製造方法Info
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- JPH1092622A JPH1092622A JP8241815A JP24181596A JPH1092622A JP H1092622 A JPH1092622 A JP H1092622A JP 8241815 A JP8241815 A JP 8241815A JP 24181596 A JP24181596 A JP 24181596A JP H1092622 A JPH1092622 A JP H1092622A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 優れた磁気特性と機械的強度に富んだ複合磁
性体を製造する方法を提供すること。 【解決手段】 実質的に扁平状の軟磁性粉末と，この軟
磁性粉末を結着する有機結合剤とからなる複合磁性体を
製造する方法において，前記軟磁性粉末は，出発磁性粉
末として水アトマイズ造粒された軟磁性粉末と有機結合
剤を有機溶剤と共に混合することにより得られる磁性ス
ラリーを機械摩砕することにより扁平化されたものであ
る。
性体を製造する方法を提供すること。 【解決手段】 実質的に扁平状の軟磁性粉末と，この軟
磁性粉末を結着する有機結合剤とからなる複合磁性体を
製造する方法において，前記軟磁性粉末は，出発磁性粉
末として水アトマイズ造粒された軟磁性粉末と有機結合
剤を有機溶剤と共に混合することにより得られる磁性ス
ラリーを機械摩砕することにより扁平化されたものであ
る。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は，有機結合剤中に軟
磁性体粉末を混練・分散させた複合磁性体に関し，詳し
くは，高周波電子回路／装置において問題となる電磁干
渉の抑制に有効である複素透磁率特性の優れた複合磁性
体の製造方法に関する。
磁性体粉末を混練・分散させた複合磁性体に関し，詳し
くは，高周波電子回路／装置において問題となる電磁干
渉の抑制に有効である複素透磁率特性の優れた複合磁性
体の製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】近年普及の著しいデジタル電子機器とし
て，ランダムアクセスメモリ（ＲＡＭ），リードオンリ
メモリ（ＲＯＭ），マイクロプロセッサ（ＭＰＵ），中
央演算処理装置（ＣＰＵ）又は画像プロセッサ算術論理
演算装置（ＩＰＡＬＵ）等の論理回路及び論理素子等が
ある。これらの論理回路及び論理素子は，能動素子であ
る多数の半導体素子で構成されたＬＳＩ及びＩＣから構
成され，プリント配線基板上に実装されている。これら
の論理回路及び論理素子においては，演算速度の高速
化，信号処理速度の高速化が図られており，その周波数
は，準マイクロ波に及びつつある。このような論理回路
等において高速に変化する信号は電圧，電流の急激な変
化を伴うために，能動素子は誘導性ノイズを発生し高周
波ノイズ発生の原因ともなっている。この高周波ノイズ
は，クロストークノイズやインピーダンスの不整合によ
るノイズと相乗的に作用する。また，高周波ノイズは，
能動素子の発生した誘導性ノイズによることが多い。こ
の誘導性ノイズによって配線基板の素子実装面と同一面
及び反対面には高周波磁界が誘導される。
て，ランダムアクセスメモリ（ＲＡＭ），リードオンリ
メモリ（ＲＯＭ），マイクロプロセッサ（ＭＰＵ），中
央演算処理装置（ＣＰＵ）又は画像プロセッサ算術論理
演算装置（ＩＰＡＬＵ）等の論理回路及び論理素子等が
ある。これらの論理回路及び論理素子は，能動素子であ
る多数の半導体素子で構成されたＬＳＩ及びＩＣから構
成され，プリント配線基板上に実装されている。これら
の論理回路及び論理素子においては，演算速度の高速
化，信号処理速度の高速化が図られており，その周波数
は，準マイクロ波に及びつつある。このような論理回路
等において高速に変化する信号は電圧，電流の急激な変
化を伴うために，能動素子は誘導性ノイズを発生し高周
波ノイズ発生の原因ともなっている。この高周波ノイズ
は，クロストークノイズやインピーダンスの不整合によ
るノイズと相乗的に作用する。また，高周波ノイズは，
能動素子の発生した誘導性ノイズによることが多い。こ
の誘導性ノイズによって配線基板の素子実装面と同一面
及び反対面には高周波磁界が誘導される。
【０００３】また，電子機器や電子装置の軽量化，薄型
化，及び小型化も急速に進んでいる。
化，及び小型化も急速に進んでいる。
【０００４】それに伴い，プリント配線基板への電子部
品実装密度も飛躍的に高くなってきており，過密に実装
された電子部品類や信号線等のプリント配線，あるい
は，モジュール間配線等が互いに極めて接近することに
なり，更には前述のように，信号処理速度の高速化も図
られているため，前述の誘導された高周波磁界によって
配線基板において電磁結合による線間結合が増大するば
かりでなく放射ノイズによる干渉などが生じる。
品実装密度も飛躍的に高くなってきており，過密に実装
された電子部品類や信号線等のプリント配線，あるい
は，モジュール間配線等が互いに極めて接近することに
なり，更には前述のように，信号処理速度の高速化も図
られているため，前述の誘導された高周波磁界によって
配線基板において電磁結合による線間結合が増大するば
かりでなく放射ノイズによる干渉などが生じる。
【０００５】さらに，放射ノイズが発生すると，外部接
続端子を経て外部に放射され，他の機器に悪影響を及ぼ
すことがある。このような，電磁波による電子機器の誤
動作及び他の機器への悪影響は一般に電磁障害と呼ばれ
る。
続端子を経て外部に放射され，他の機器に悪影響を及ぼ
すことがある。このような，電磁波による電子機器の誤
動作及び他の機器への悪影響は一般に電磁障害と呼ばれ
る。
【０００６】このような電磁障害に対して従来，電子機
器において誘導性ノイズを発生する回路にフィルタを接
続することや，問題となる回路（誘導性ノイズを発生す
る回路）を影響を受ける回路から遠ざけることや，シー
ルディングを行うことや，グラウンディングを行うこと
等の対策が一般に採られている。
器において誘導性ノイズを発生する回路にフィルタを接
続することや，問題となる回路（誘導性ノイズを発生す
る回路）を影響を受ける回路から遠ざけることや，シー
ルディングを行うことや，グラウンディングを行うこと
等の対策が一般に採られている。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】ここで，能動素子を含
む電子部品が高密度実装されたプリント配線基板等にお
いて，上述の電磁障害を効率的に処置しようとする場
合，従来の対策（ノイズ抑制方法）では，ノイズ対策の
専門的知識と経験を必要とすることや，対策に時間を要
するという欠点を有した。
む電子部品が高密度実装されたプリント配線基板等にお
いて，上述の電磁障害を効率的に処置しようとする場
合，従来の対策（ノイズ抑制方法）では，ノイズ対策の
専門的知識と経験を必要とすることや，対策に時間を要
するという欠点を有した。
【０００８】特に，上記フィルタ実装においては，使用
するフィルタが高価であること，フィルタを実装するス
ペースに制約のあることが多いこと，フィルタの実装作
業に困難性を伴うこと，フィルタ等を用いるので電子装
置を組み立てるための所要工程数が多くなり，コストア
ップとなってしまうという欠点を有した。
するフィルタが高価であること，フィルタを実装するス
ペースに制約のあることが多いこと，フィルタの実装作
業に困難性を伴うこと，フィルタ等を用いるので電子装
置を組み立てるための所要工程数が多くなり，コストア
ップとなってしまうという欠点を有した。
【０００９】また，従来の方法では，同一回路内の電子
部品間で発生する信号線間の電磁誘導及び不要電磁波に
よる相互干渉の抑制効果は充分でない。
部品間で発生する信号線間の電磁誘導及び不要電磁波に
よる相互干渉の抑制効果は充分でない。
【００１０】さらに，電子装置の小型軽量化を図るに
は，上記問題となる回路を分離する方法は不都合である
とともに，フィルタ及びその実装スペースの排除を行う
必要がある。
は，上記問題となる回路を分離する方法は不都合である
とともに，フィルタ及びその実装スペースの排除を行う
必要がある。
【００１１】また，電子装置に使用される一般的なプリ
ント配線基板は，取り扱う信号が低周波の場合には基板
内部から発生する電磁誘導等の信号線間の電磁結合が比
較的小さく問題とならないが，動作周波数が高周波にな
るにつれて信号線間の電磁結合が密となるため前記した
ような問題点を生じる。
ント配線基板は，取り扱う信号が低周波の場合には基板
内部から発生する電磁誘導等の信号線間の電磁結合が比
較的小さく問題とならないが，動作周波数が高周波にな
るにつれて信号線間の電磁結合が密となるため前記した
ような問題点を生じる。
【００１２】また，上記シールディングのうちで，導体
シールドは空間とのインピーダンス不整合に起因する電
磁波の反射を利用する電磁障害対策であるために，遮蔽
効果は得られても不要輻射源からの反射による電磁結合
が助長され，その結果二次的な電磁障害を引き起こす場
合が少なからず生じている。
シールドは空間とのインピーダンス不整合に起因する電
磁波の反射を利用する電磁障害対策であるために，遮蔽
効果は得られても不要輻射源からの反射による電磁結合
が助長され，その結果二次的な電磁障害を引き起こす場
合が少なからず生じている。
【００１３】この二次的な電磁障害対策として，磁性体
の磁気損失を利用した不要輻射の抑制が有効である。即
ち，前記シールド体と不要輻射源の間に磁気損失の大き
い磁性体を配設する事で不要輻射を抑制することが出来
る。ここで，磁性体の厚さｄは，μ″＞μ′なる関係を
満足する周波数帯域にてμ″に反比例するので，前記し
た電子機器の小型化及び軽量化要求に迎合する薄い電磁
干渉抑制体，即ち，シールド体と磁性体からなる複合体
を得るためには，虚数部透磁率μ″の大きな磁性体が必
要となる。また，前記した不要輻射は，多くの場合その
成分が広い周波数範囲にわたっており，電磁障害に係る
周波数成分の特定も困難な場合が少なくない。従って，
前記電磁干渉抑制体についてもより広い周波数の不要輻
射に対応できるものが望まれている。
の磁気損失を利用した不要輻射の抑制が有効である。即
ち，前記シールド体と不要輻射源の間に磁気損失の大き
い磁性体を配設する事で不要輻射を抑制することが出来
る。ここで，磁性体の厚さｄは，μ″＞μ′なる関係を
満足する周波数帯域にてμ″に反比例するので，前記し
た電子機器の小型化及び軽量化要求に迎合する薄い電磁
干渉抑制体，即ち，シールド体と磁性体からなる複合体
を得るためには，虚数部透磁率μ″の大きな磁性体が必
要となる。また，前記した不要輻射は，多くの場合その
成分が広い周波数範囲にわたっており，電磁障害に係る
周波数成分の特定も困難な場合が少なくない。従って，
前記電磁干渉抑制体についてもより広い周波数の不要輻
射に対応できるものが望まれている。
【００１４】また，特に携帯電話装置においては，薄型
軽量化とともに，機械的強度も要求されている。
軽量化とともに，機械的強度も要求されている。
【００１５】そこで，本発明の技術的課題は，優れた磁
気特性と機械的強度に富んだ複合磁性体を製造する方法
を提供することにある。
気特性と機械的強度に富んだ複合磁性体を製造する方法
を提供することにある。
【００１６】
【課題を解決するための手段】本発明者らは，水アトマ
イズ法により作製されたＦｅ−Ｓｉ−Ａｌ合金（センダ
スト）粉末を出発原料として，これをアトライターと呼
ばれるメディア撹拌型の摩砕装置を用いて，炭化水素系
溶媒中にて摩砕処理し，扁平な形状を有するＦｅ−Ｓｉ
−Ａｌ合金粉末を得，ここで得られた扁平状の粉末と出
発原料である水アトマイズ粉末の各々について，有機結
合剤と共に混練し，磁性スラリーを得る手法を検討し
た。その結果，磁性粉とともに，混練する有機結合剤と
して，水酸基，カルボキシル基，エポキシ基等の極性基
を持つ有機結合剤を用いた場合には，前記した２種類の
磁性粉の分散性に大きな違いが見出された。
イズ法により作製されたＦｅ−Ｓｉ−Ａｌ合金（センダ
スト）粉末を出発原料として，これをアトライターと呼
ばれるメディア撹拌型の摩砕装置を用いて，炭化水素系
溶媒中にて摩砕処理し，扁平な形状を有するＦｅ−Ｓｉ
−Ａｌ合金粉末を得，ここで得られた扁平状の粉末と出
発原料である水アトマイズ粉末の各々について，有機結
合剤と共に混練し，磁性スラリーを得る手法を検討し
た。その結果，磁性粉とともに，混練する有機結合剤と
して，水酸基，カルボキシル基，エポキシ基等の極性基
を持つ有機結合剤を用いた場合には，前記した２種類の
磁性粉の分散性に大きな違いが見出された。
【００１７】即ち，水アトマイズＦｅ−Ｓｉ−Ａｌ合金
では，前記極性基をもつ結合剤と良好な親和性を示し，
磁性粒子が良く分散された安定な磁性スラリーが得られ
るが，炭化水素系溶媒中で摩砕処理された扁平なＦｅ−
Ｓｉ−Ａｌ合金では，結合剤との親和性がなく，磁性粉
の沈降が短時間で生じてしまうことが判った。この現象
を解明する為に，前記２種類の磁性粉について，その表
面の化学的状態を調べたところ，扁平状の粉末の表面
は，炭化水素系溶媒の残基等によって汚染されており，
親水性が低下していることを見出し，本発明を為すに至
ったものである。
では，前記極性基をもつ結合剤と良好な親和性を示し，
磁性粒子が良く分散された安定な磁性スラリーが得られ
るが，炭化水素系溶媒中で摩砕処理された扁平なＦｅ−
Ｓｉ−Ａｌ合金では，結合剤との親和性がなく，磁性粉
の沈降が短時間で生じてしまうことが判った。この現象
を解明する為に，前記２種類の磁性粉について，その表
面の化学的状態を調べたところ，扁平状の粉末の表面
は，炭化水素系溶媒の残基等によって汚染されており，
親水性が低下していることを見出し，本発明を為すに至
ったものである。
【００１８】即ち，扁平状の軟磁性粉末と，有機溶剤と
からなる複合磁性体を得るための磁性スラリーを作製す
る際に，予め親水性の表面を有する水アトマイズ粉と有
機結合剤とを混合して，安定性の良い磁性スラリーを作
製し，この状態で摩砕処理することにより，扁平な磁性
粉末と結合剤からなる磁性スラリーが得られる。
からなる複合磁性体を得るための磁性スラリーを作製す
る際に，予め親水性の表面を有する水アトマイズ粉と有
機結合剤とを混合して，安定性の良い磁性スラリーを作
製し，この状態で摩砕処理することにより，扁平な磁性
粉末と結合剤からなる磁性スラリーが得られる。
【００１９】本発明によれば，実質的に扁平状の軟磁性
粉末と，この軟磁性粉末を結着する有機結合剤とからな
る複合磁性体を製造する方法において，前記軟磁性粉末
は，出発磁性粉末として水アトマイズ造粒された軟磁性
粉末と有機結合剤を有機溶剤と共に混合することにより
得られる磁性スラリーを機械摩砕することにより扁平化
されたものであることを特徴とする複合磁性体の製造方
法が得られる。
粉末と，この軟磁性粉末を結着する有機結合剤とからな
る複合磁性体を製造する方法において，前記軟磁性粉末
は，出発磁性粉末として水アトマイズ造粒された軟磁性
粉末と有機結合剤を有機溶剤と共に混合することにより
得られる磁性スラリーを機械摩砕することにより扁平化
されたものであることを特徴とする複合磁性体の製造方
法が得られる。
【００２０】ここで，本発明において用いることができ
る有機結合剤として，例えば，ポリエステル系樹脂，ポ
リ塩化ビニル系樹脂，ポリビニルブチラール樹脂，ポリ
ウレタン樹脂，セルロース系樹脂，ニトリル−ブタジエ
ン系ゴム，スチレンブタジエン系ゴム等の熱可塑性樹脂
あるいはそれらの共重合体，エポキシ樹脂，フェノール
樹脂，アミド系樹脂，イミド系樹脂等の熱硬化性樹脂を
あげることができるが，勿論，これらに限定されるもの
ではない。
る有機結合剤として，例えば，ポリエステル系樹脂，ポ
リ塩化ビニル系樹脂，ポリビニルブチラール樹脂，ポリ
ウレタン樹脂，セルロース系樹脂，ニトリル−ブタジエ
ン系ゴム，スチレンブタジエン系ゴム等の熱可塑性樹脂
あるいはそれらの共重合体，エポキシ樹脂，フェノール
樹脂，アミド系樹脂，イミド系樹脂等の熱硬化性樹脂を
あげることができるが，勿論，これらに限定されるもの
ではない。
【００２１】
【発明の実施の形態】以下，本発明の実施の形態につい
て説明する。
て説明する。
【００２２】（試料１）下記表１に示される組成の混合
物を，一般にディゾルバーと呼ばれる撹拌装置にて１５
分間攪拌処理し，磁性スラリーを得た後，これを更に一
般にアトライタと呼ばれる高速摩砕処埋装置に投入して
２０時間摩砕処理を施し扁平な形状を有する軟磁性粉末
と有機結合剤の混合物を得た。得られた磁性混合物をド
クターブレード法にてシート化し，本発明の検証用磁性
シート１を得た。
物を，一般にディゾルバーと呼ばれる撹拌装置にて１５
分間攪拌処理し，磁性スラリーを得た後，これを更に一
般にアトライタと呼ばれる高速摩砕処埋装置に投入して
２０時間摩砕処理を施し扁平な形状を有する軟磁性粉末
と有機結合剤の混合物を得た。得られた磁性混合物をド
クターブレード法にてシート化し，本発明の検証用磁性
シート１を得た。
【００２３】
【表１】
【００２４】（試料２）下記表２に示される組成の混合
物を，一般にディゾルバーと呼ばれる撹拌装置にて１５
分間撹拌処埋し，磁性スラリーを得た。得られた磁性ス
ラリーをドクターブレード法にてシート化し，比較用磁
性シート２を得た。
物を，一般にディゾルバーと呼ばれる撹拌装置にて１５
分間撹拌処埋し，磁性スラリーを得た。得られた磁性ス
ラリーをドクターブレード法にてシート化し，比較用磁
性シート２を得た。
【００２５】なお，下記表２中の扁平状Ｆｅ−Ｓｉ−Ａ
１粉末は，略球状の水アトマィズＦｅ−Ｓｉ−Ａ１粉末
を，炭化水素系溶媒中で２０時聞摩砕処理することによ
り作製されたものである。
１粉末は，略球状の水アトマィズＦｅ−Ｓｉ−Ａ１粉末
を，炭化水素系溶媒中で２０時聞摩砕処理することによ
り作製されたものである。
【００２６】
【表２】
【００２７】（試料３）下記表３に示される組成の混合
物を，一般にディゾルバーと呼ばれる撹拌装置にて１５
分間撹拌処理し，磁性スラリーを得た。得られた磁性ス
ラリーをドクターブレード法にてシート化し，比較用磁
性シート２を得た。
物を，一般にディゾルバーと呼ばれる撹拌装置にて１５
分間撹拌処理し，磁性スラリーを得た。得られた磁性ス
ラリーをドクターブレード法にてシート化し，比較用磁
性シート２を得た。
【００２８】
【表３】
【００２９】得られた検証用磁性シート１及び比較用磁
性シート２乃至３について，周波数４０ＭＨｚにおける
透磁率，および破断強度を測定した。
性シート２乃至３について，周波数４０ＭＨｚにおける
透磁率，および破断強度を測定した。
【００３０】この結果より，以下のことが明白である。
即ち，第１に本発明の検証用磁性シート１と，予め扁平
化された磁性粉末を出発原料に用いた比較用磁性シート
２の透磁率および破断強度を比較すれば，比較用シート
２では，磁性粉末と極性の強い有機結合剤であるエボキ
シ樹脂との親和性が悪い為に磁性粉末が十分に分散され
た状態で存在出来ず，そのために透磁率，破断強度共に
検証用試料１に比べて低い値となっている。第２に検証
用磁性シート１と，親水性の表面を有する略球状の水ア
トマイズ粉末を用いた比較用磁性シート３との比較で
は，両試料の間に破断強度の差は殆と認められないもの
の，透磁率特性の比較においては，明らかに本発明の実
施の形態による検証用シートが優れた値を示しているこ
とが分かる。得られた結果を下記表４に示す。
即ち，第１に本発明の検証用磁性シート１と，予め扁平
化された磁性粉末を出発原料に用いた比較用磁性シート
２の透磁率および破断強度を比較すれば，比較用シート
２では，磁性粉末と極性の強い有機結合剤であるエボキ
シ樹脂との親和性が悪い為に磁性粉末が十分に分散され
た状態で存在出来ず，そのために透磁率，破断強度共に
検証用試料１に比べて低い値となっている。第２に検証
用磁性シート１と，親水性の表面を有する略球状の水ア
トマイズ粉末を用いた比較用磁性シート３との比較で
は，両試料の間に破断強度の差は殆と認められないもの
の，透磁率特性の比較においては，明らかに本発明の実
施の形態による検証用シートが優れた値を示しているこ
とが分かる。得られた結果を下記表４に示す。
【００３１】
【表４】
【００３２】
【発明の効果】以上説明したように，水アトマイズ造粒
された金属磁性粉末は，表面が酸化物層で覆われ有機結
合剤との結合性に富むが，本発明によれば，この表面状
態を保ったまま磁性スラリー化することができるので，
優れた磁気特性と機械的強度に富んだ複合磁性体が得ら
れる複合磁性体の製造方法を提供することができる。
された金属磁性粉末は，表面が酸化物層で覆われ有機結
合剤との結合性に富むが，本発明によれば，この表面状
態を保ったまま磁性スラリー化することができるので，
優れた磁気特性と機械的強度に富んだ複合磁性体が得ら
れる複合磁性体の製造方法を提供することができる。
Claims (1)
- 【請求項１】 実質的に扁平状の軟磁性粉末と，この軟
磁性粉末を結着する有機結合剤とからなる複合磁性体を
製造する方法において，前記軟磁性粉末は，出発磁性粉
末として水アトマイズ造粒された軟磁性粉末と有機結合
剤を有機溶剤と共に混合することにより得られる磁性ス
ラリーを機械摩砕することにより扁平化されたものであ
ることを特徴とする複合磁性体の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP24181596A JP3940188B2 (ja) | 1996-09-12 | 1996-09-12 | シート状の複合磁性体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP24181596A JP3940188B2 (ja) | 1996-09-12 | 1996-09-12 | シート状の複合磁性体の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1092622A true JPH1092622A (ja) | 1998-04-10 |
| JP3940188B2 JP3940188B2 (ja) | 2007-07-04 |
Family
ID=17079916
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP24181596A Expired - Lifetime JP3940188B2 (ja) | 1996-09-12 | 1996-09-12 | シート状の複合磁性体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3940188B2 (ja) |
-
1996
- 1996-09-12 JP JP24181596A patent/JP3940188B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3940188B2 (ja) | 2007-07-04 |
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