JPH1087841A - 表面異方性高分子粒子および製造方法 - Google Patents
表面異方性高分子粒子および製造方法Info
- Publication number
- JPH1087841A JPH1087841A JP24240496A JP24240496A JPH1087841A JP H1087841 A JPH1087841 A JP H1087841A JP 24240496 A JP24240496 A JP 24240496A JP 24240496 A JP24240496 A JP 24240496A JP H1087841 A JPH1087841 A JP H1087841A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- polymer particles
- particle
- anisotropic
- meth
- polymer
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Landscapes
- Processes Of Treating Macromolecular Substances (AREA)
Abstract
体、親水性および疎水性、正電荷および負電荷、磁性等
を付与できる表面異方性高分子粒子の提供。 【解決手段】高分子粒子の片側表面を薬剤で処理し、つ
いでもう片側を別の薬剤で処理した粒径0.01〜10
00μmの表面異方性高分子粒子。
Description
粒子およびその高分子粒子の製造方法に関する。更に詳
細には、調製した高分子粒子の表面に異方性を有して、
蛋白質の修飾体、抗体、親水性および疎水性、正電荷お
よび負電荷、磁性等を付与することを特徴とする表面異
方性高分子粒子、およびその高分子粒子の製造方法に関
する。
重合反応等で、懸濁重合、乳化重合、シード重合、ソー
プフリー乳化重合などの公知の方法によって合成するこ
とができる。ポリスチレン系ラテックス、ポリ(メタ)
アクリル系ラテックス、ポリビニル系ラテックス、ポリ
アクリルアミド系ラテックス等をはじめとして数多くの
高分子粒子が報告されている。またこれらの高分子粒子
の表面改質方法についても数多く報告されている。例え
ば、抗原や抗体を修飾して診断薬に用いたり(特開平0
7−318561号公報、特開平08−110340号
公報)、表面の親水性を向上させたり(特開平07−2
70417号公報)、金属のコーテイングを行って導電
性を付与させて導電性接着剤や導電性フィラー等に応用
されたりしている(特開平02−118079号公報、
特開平03−049105号公報)。しかしながら、こ
れらの表面改質の方法は、粒子表面の全面に均一になさ
れたものであり、表面に方向性や異方性を持たせたもの
ではない。
は、Frechetらのデンドマリー(L.Kare
n、J.M.J.Frechet、et al.,J.
Am.Chem.Soc.Vol.1151,149
6,(1993年))が報告されているが、これは、製
造方法が複雑であり、10nm以上の大きさの粒子を製
造することは困難である。また、別の異方性を有する粒
子としては、大久保らのいわゆる「いいだこ型粒子」
(M.Okubo.et al.,Collid.Po
lym.Sci.Vol.265,876,(1987
年))やEI−Aasserらの「亜鈴型粒子」(EI
−Aasser.et al.,J.Polym.Sc
i.,Polym.Chem.Ed.,Vol.28,
653,(1990年))等の報告もあるが、これらの
粒子は、シード重合の相分離を利用して粒子表面に突出
部を作成したもので、球形ではない。高分子粒子の表面
の改質として材料表面に不均一に、場合によっては、目
的に応じた方向性が異なる処理をする方法は、未だ報告
されていないのが現状である。
は、表面異方性を有する高分子粒子を提供することにあ
る。さらに、本発明の第2の目的は、その高分子粒子の
製造方法を提供することにある。更に詳細には、調製し
た高分子粒子の表面に異質の蛋白質の修飾や親水性およ
び疎水性、正電荷および負電荷、磁性等を付与した表面
異方性高分子粒子を提供することであり、さらには、そ
の高分子粒子の製造方法を提供することにある。なお、
本発明でいう表面異方性とは、高分子粒子の表面を、例
えば、球状の片側のみに表面改質した場合、他の片側は
その処理とはちがった表面改質を行い、改質の方向性が
均質ではなく、異質のものが認識されうる、もしくは異
質のものを認識できることを意味する。
表面改質について鋭意検討した結果、特定の方法によ
り、高分子粒子の表面の性能を異方的に改善できること
を見いだし、本発明を完成した。すなわち、本発明は、
次の(1)〜(2)である。 (1)表面が異方性を有する粒径0.01〜1000μ
mの高分子粒子。 (2)高分子粒子の片側表面を薬剤で処理し、ついでも
う片側を別の薬剤で処理することを特徴とする粒径0.
01〜1000μmの表面異方性高分子粒子の製造方
法。
記の公知の方法に準じて製造できるもので、その高分子
粒子を構成する樹脂なる具体的な単量体としては、例え
ばスチレン、核置換メチルスチレン等のスチレン系単量
体;(メタ)アクリル酸メチル、(メタ)アクリル酸エ
チル、(メタ)アクリル酸n−ブチル、(メタ)アクリ
ル酸2−エチルヘキシル等の(メタ)アクリル酸エステ
ル;(メタ)アクリル酸2−ヒドロキシエチル、(メ
タ)アクリル酸2−ヒドロキシプロピル等のヒドロキシ
アルキル(メタ)アクリル酸エステル;ジエチレングリ
コ−ルモノ(メタ)アクリル酸エステル、トリエチレン
グリコ−ルモノ(メタ)アクリル酸エステル、ポリエチ
レングリコ−ルモノ(メタ)アクリル酸エステル等のポ
リオキシアルキレンモノエステル;(メタ)アクリル酸
フルオロアルキル、(メタ)アクリル酸シリルアルキ
ル、(メタ)アクリル酸、アクリルアミド、N,N−ジ
メチル(メタ)アクリルアミド、N−ビニルピロリド
ン、N−ビニルピリジン等の単官能単量体;エチレング
リコールジ(メタ)アクリル酸エステル、ジエチレング
リコールジ(メタ)アクリル酸エステル、トリエチレン
グリコールジ(メタ)アクリル酸エステル、ポリエチレ
ングリコ−ルジ(メタ)アクリル酸エステル等のポリオ
キシアルキレンジ(メタ)アクリル酸エステル;ネオペ
ンチルグリコールジ(メタ)アクリル酸エステル、1、
4−ブタンジオールジ(メタ)アクリル酸エステル、
(メタ)アクリル酸アリル、ジビニルベンゼン、ビスア
クリルアミド、ジアリルフタレート、アジピン酸ジビニ
ル、N、N−メチレンビスアクリルアミドなどの架橋性
多官能単量体が挙げられる。これらの単量体は1種また
は2種以上の混合物が用いられる。
を向上させる目的で、o−クロロスチレン、m−クロロ
スチレン、p−クロロスチレン、あるいはo−ニトロフ
ェニルアクリル酸エステル、m−ニトロフェニルアクリ
ル酸エステル、p−ニトロフェニルアクリル酸エステ
ル、N−ヒドロキシスクシンイミド(メタ)アクリル酸
エステル、(メタ)アクロレイン等を加えても差し支え
ない。
的で適当な溶媒を併用することもでき、該溶媒として
は、水、メチルアルコール、エチルアルコール、イソプ
ロピルアルコ−ル、n−ブチルアルコ−ル、酢酸エチ
ル、酢酸ブチル、塩化メチレン、クロロホルム、アセト
ニトリル、テトラヒドロフラン(THF)、1、4−ジ
オキサン、アセトン(ACT)、メチルエチルケトン、
ベンゼン、トルエン、ジメチルスルフォキシド、ジメチ
ルフォルムアミド(DMF)等が挙げられる。これらの
溶媒は、1種または2種以上の混合物を用いることがで
きる。これらの溶媒は、特に限定されないが、単量体成
分に対して、0〜90重量%の範囲で用いられる。
カル重合開始剤の存在下、窒素、ヘリウム、アルゴン等
の不活性ガスで置換又は雰囲気下において行うことがで
きる。また、前記ラジカル重合開始剤としては、特に限
定されるものではないが、例えば、過酸化ベンゾイル、
ジイソプロピルペルオキシカーボネート、t−ブチルペ
ルオキシ2−エチルヘキサノエート、t−ブチルペルオ
キシピバレート、t−ブチルペルオキシジイソブチレー
ト、過酸化ラウロイル、アソ゛ビスイソブチロニトリ
ル、アゾビス−2、4−ジメチルバレロニトリル、ベン
ゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、過
硫酸ソ−ダ等を好ましく挙げることができる。
量は、原料混合物に対して10重量%以下が好ましく、
特に5重量%以下が望ましい。また重合温度は重合開始
剤の種類により異なるが、20〜140℃が好ましく、
重合時間は6〜120時間が好ましい。更にまた、前記
重合に際しては、色素等の着色剤、無機充填剤、紫外線
吸収剤、酸化安定剤あるいはこのような機能を有する単
量体等を添加しても良い。
体成分を、例えば、一般的なラジカル重合反応等で、懸
濁重合、乳化重合、シード重合、ソープフリー乳化重合
などの公知の方法によって合成することができる。一例
を挙げれば、メタクリル酸、P−ニトロフェニルアクリ
ル酸エステル、N,N−メチレンビスアクリルアミド等
の単量体成分を、エチルアルコールの溶媒中で、AIB
N(アゾビスイソブチロニトリル)をラジカル重合開始
剤として沈殿重合させて、粒径が0.01〜1000μ
mの高分子粒子を合成する。
界面、(2)気−液界面および(3)液−液界面で粒子
の表面の一部を改質させることができる。(1)は、固
相に予め吸着させた基質と高分子粒子の片側を反応させ
た後、続いて他の片側を液相中に存在する別の基質また
は液相自身と反応させることにより、高分子粒子表面に
異方的な性質を持たせることができる。(2)は、まず
高分子粒子を液相/気相の界面に並べた後、液相に存在
する基質または液自身と反応させる。つづいて、気相側
に存在する粒子の表面を反応性気体で処理するかまたは
別の液相に添加し、別の基質と反応させることにより、
粒子表面に異方的な性質を持たせることができる。
(3)は、液相同士が混合せず、界面を形成するような
条件下で、その界面に高分子粒子を並べた後、それぞれ
の液相に存在する基質またはそれぞれの液相自身と反応
させることにより、粒子表面に異方的な性質を持たせる
ことができる。なお、これらの操作を改質の材料を替え
て繰り返すかあるいは、他の界面の導入方法を組み合わ
せるかして異方性を付与することができる。
念図として図1に示す。基板(例えばポリスチレンのプ
レートなど)の表面に修飾しようとする蛋白質、(図1
では、蛋白質を免疫グロブリンG(IgGと略す)とし
て示した。)を均一に並べて置き、ついで高分子粒子の
片側をその蛋白質に接触させて、高分子粒子に蛋白質を
付けて基板から分離する。これを繰り返したり、先に述
べたように他の方法と組み合わせて、高分子粒子の他の
片側を処理する。
粒子に、表面に異種の蛋白質の修飾や親水性および疎水
性、正電荷および負電荷、磁性等の異方性を付与するこ
とができるので、基質、表面、環境を特異的に選択的に
認識する特徴を有する。このため、これらの性質を利用
して、診断薬用粒子、医療用基材、生体適合性材料、歯
科用材料、化粧用基材、防汚染塗料、防曇材、帯電防止
剤、導電性接着剤、導電性封止材、磁性粒子、記録媒
体、クロマトグラフィー用充填材等への応用の可能性が
ある。
る。 合成例1;高分子粒子の作成 100mlの4つ口フラスコにp−ニトロフェニルアク
リレート1.93g(10mmol)メタクリル酸0.
86g(10mmol)、メチレンビスアクリルアミド
0.77g(5mmol)をエタノール30gに溶解さ
せた。1時間系を窒素置換した後、アゾビスイソブチロ
ニトリル1g(7.3mmol)を含むエタノール10
gの溶液を添加した。300rpmの攪拌下で、反応温
度約60℃で24時間反応した。重合終了後、遠心分離
で(12000rpm)4回精製した。得られた高分子
粒子を水で4回置換して粒径約2μmの粒子が得られ
た。
吸着 35mm径の未処理のポリスチレン製シャーレ中にヒト
IgGを200ppmの濃度に調製したpH7.0のリ
ン酸緩衝液1ml加え、4℃、24時間インキュベート
した。反応液を除去し、リン酸緩衝液で3回洗浄した。
ポリスチレンキュベット上のヒトIgGの吸着量は測定
すると約1μg/cm 2であった。
応; 合成例1で調整した高分子粒子、0.2gを1mlのp
H7.0のリン酸緩衝液に分散させ、実施例1−1で調
整したポリスチレン製シャーレ中に添加し、4℃、5時
間静置した。その後、pH7.0のリン酸緩衝液および
1Mの食塩水で洗浄した後、0.1M食塩水を加えて、
超音波処理した。この結果、片側にヒトIgGが粒子上
に修飾され、他の片側が親水性の表面を有する異方性高
分子粒子が得られた。
gGの定量; 実施例1−2で得られたIgG修飾した高分子粒子に蛍
光物質であるフルオレサミンと反応させた後、蛍光強度
の測定を行った。検量線をもとにIgGの存在量を求め
た結果、高分子粒子1mg中に1.11μgのIgGが
存在していることがわかった。
性; 実施例1−2で得られたIgG修飾した高分子粒子、
0.3mg/μlに市販の抗ヒトIgGを有する金コロ
イド(粒子径、5nm、Biocell社製Super
Gold Conjugate)の5倍希釈品を50
μlを添加し、4℃で、24時間、遮光して浸透した。
遠心分離(5000rpm、3min)で、pH7.0
のリン酸緩衝液で2回、1M食塩水で2回、Tween
−20、0.05重量%を含むpH7.0のリン酸緩衝
液で2回洗浄操作を行った後、透過型電子顕微鏡を用い
て観察を行った。結果を図2−1に示した。金コロイド
が粒子の表面の片側一部のみに存在していることがわか
った。
応; 合成例1で調整した高分子粒子、12mgを200pp
mの濃度のヒトIgGのpH7.0のリン酸緩衝液、
1.5mlを添加し、4℃、5時間静置して反応させ
た。この結果、粒子の表面がヒトIgGに均一に粒子上
におおわれた等方性高分子粒子が得られた。
方性高分子粒子を実施例1−3と同様な方法を用いて、
表面に存在するIgGを定量した。その結果、高分子粒
子1mg中に20.0μgのIgGが存在することがわ
かった。
方性高分子粒子を実施例1−4と同様な処理をした後、
透過型電子顕微鏡を用いて観察を行った。結果を図2−
2に示した。その結果から金コロイド粒子が表面全体に
均一に存在していることがわかる。
2−1)および比較例の等方性高分子粒子の顕微鏡写真
(図2−2)
Claims (2)
- 【請求項1】表面が異方性を有する粒径0.01〜10
00μmの表面異方性高分子粒子。 - 【請求項2】高分子粒子の片側表面を薬剤で処理し、つ
いでもう片側を別の薬剤で処理することを特徴とする粒
径0.01〜1000μmの表面異方性高分子粒子の製
造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP24240496A JP3567269B2 (ja) | 1996-09-12 | 1996-09-12 | 表面異方性高分子粒子および製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP24240496A JP3567269B2 (ja) | 1996-09-12 | 1996-09-12 | 表面異方性高分子粒子および製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH1087841A true JPH1087841A (ja) | 1998-04-07 |
JP3567269B2 JP3567269B2 (ja) | 2004-09-22 |
Family
ID=17088643
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP24240496A Expired - Fee Related JP3567269B2 (ja) | 1996-09-12 | 1996-09-12 | 表面異方性高分子粒子および製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3567269B2 (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007302823A (ja) * | 2006-05-12 | 2007-11-22 | Shiseido Co Ltd | 異方性粒子およびその製造方法、ならびに異方性粒子を配合した化粧料 |
WO2009054538A1 (ja) | 2007-10-22 | 2009-04-30 | Alfresa Pharma Corporation | 免疫学的微小粒子の凝集反応を用いる検体のアクロレイン付加体の測定方法および測定用キット |
-
1996
- 1996-09-12 JP JP24240496A patent/JP3567269B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007302823A (ja) * | 2006-05-12 | 2007-11-22 | Shiseido Co Ltd | 異方性粒子およびその製造方法、ならびに異方性粒子を配合した化粧料 |
WO2009054538A1 (ja) | 2007-10-22 | 2009-04-30 | Alfresa Pharma Corporation | 免疫学的微小粒子の凝集反応を用いる検体のアクロレイン付加体の測定方法および測定用キット |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP3567269B2 (ja) | 2004-09-22 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5173406B2 (ja) | 生体高分子のクロマトグラフ分離のための複合吸収剤材料の製造方法 | |
DE69027803T2 (de) | Polymerträger | |
CA1063298A (en) | Small, porous, polyacrylate beads | |
US7897257B2 (en) | Magnetic beads comprising an outer coating of hydrophilic porous polymer and method of making thereof | |
EP1890148B1 (en) | Organic polymer particles and process for producing the same, magnetic particles for diagnostics, carboxyl group-containing particles and process for producing the same, and probe-bound particles and process for producing the same | |
US20080283792A1 (en) | Separation Medium with Various Functionalities | |
US5403902A (en) | Polymeric supports | |
JPH0762054B2 (ja) | 架橋重合体粒子 | |
KR20100066478A (ko) | 분자 식별 재료와 그 제조 방법 | |
JPH046463A (ja) | 液体クロマトグラフィー用担体およびそれを用いた液体クロマトグラフィー法 | |
Piskin et al. | Monosize microbeads based on polystyrene and their modified forms for some selected medical and biological applications | |
Uzun et al. | Simultaneous depletion of immunoglobulin G and albumin from human plasma using novel monolithic cryogel columns | |
Türkmen et al. | Phenylalanine containing hydrophobic nanospheres for antibody purification | |
US3985632A (en) | Small, porous polyacrylate beads | |
CN117377521A (zh) | 具有分级多层结构的合成聚合物多孔介质及其设计、合成、改性和液相色谱应用 | |
JPH02183165A (ja) | 診断テスト用水性懸濁液 | |
JP2010260877A (ja) | 有機ポリマー粒子およびプローブ結合粒子 | |
JP4984025B2 (ja) | 有機ポリマー粒子およびその製造方法、ならびにプローブ結合粒子 | |
JPH1087841A (ja) | 表面異方性高分子粒子および製造方法 | |
JP4911280B2 (ja) | 有機ポリマー粒子およびその製造方法 | |
JP2009244067A (ja) | クロマトグラフィーカラム用多孔質粒子およびその製造方法、ならびにプロテインa結合粒子 | |
Altıntaş et al. | Synthesis and characterization of monosize magnetic poly (glycidyl methacrylate) beads | |
CN114702621A (zh) | 一种pH响应无规共聚物及其制备方法、一种外泌体均相分离纯化方法 | |
CN110283282B (zh) | 一种功能性毛刷状荧光微球的制备方法 | |
JPS62204501A (ja) | 磁性ミクロスフエアの製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A975 | Report on accelerated examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971005 Effective date: 20040129 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Effective date: 20040209 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 |
|
A521 | Written amendment |
Effective date: 20040331 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821 Effective date: 20040331 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20040524 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20040527 |
|
R150 | Certificate of patent (=grant) or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080625 Year of fee payment: 4 |
|
FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090625 Year of fee payment: 5 |
|
FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090625 Year of fee payment: 5 |
|
FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100625 Year of fee payment: 6 |
|
FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100625 Year of fee payment: 6 |
|
FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Year of fee payment: 7 Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110625 |
|
FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110625 Year of fee payment: 7 |
|
FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120625 Year of fee payment: 8 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |