JPH1083786A - イオン注入装置のプラテン支持駆動機構 - Google Patents
イオン注入装置のプラテン支持駆動機構Info
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Abstract
ハ−をそれと直交する方向に機械走査するハイブリッド
スキャン方式のイオン注入装置においてイオンビ−ムを
ウエハーに斜め注入するためにプラテン回転モータが必
要である。プラテンを回転させるために静電チャック、
冷却媒体路などが複雑になる。プラテン周辺部が重く慣
性が大きいので機械走査の応答性が悪い。プラテン回転
モータをなくして軽量小型のプラテン支持駆動機構を提
供することが目的である。 【構成】 ビームの一次元走査方向をX軸方向として、
プラテンをX軸周りに傾斜させる傾斜機構と、プラテン
をビーム走査方向(X軸)と直角なY軸方向に直進運動
させる直進走査機構と、直進走査軸をY軸周りに揺動さ
せる走査軸揺動機構とをもうけ、注入角をΘ0 として、
傾斜角Θと揺動角Υが sin2 Θ+sin2 Υ=si
n2 Θ0 を満足するように、段階状に或いは連続的に変
化させる。
Description
キャン方式のイオン注入装置においてウエハーを支持す
るプラテン支持駆動機構の改良に関する。特に斜めにイ
オンを注入する場合にウエハーを実効的歳差運動させる
のに必要な回転駆動部を簡略化したプラテン駆動部の構
造に関する。
せておき細いイオンビ−ムをX、Yの二方向に二次元的
に走査するもの、イオンビ−ムをX方向のみに走査しウ
エハーをY方向に機械走査するもの、ウエハーより広い
大面積のビームを走査せずウエハーの全体に照射するも
のなどがある。ここでビームの進行方向をZ方向に取っ
ている。
に述べた、イオンビ−ムをX方向に、ウエハーをY方向
に機械走査するものである。電磁的なビーム走査と機械
的なウエハーの走査が混ざっているからハイブリッドと
いうのである。斜め注入というのはウエハー面に直角で
なく、傾斜角Θ(≠0)をなす方向からビームをウエハ
ーに打ち込むものである。ウエハー表面の結晶に形成さ
れた微少な穴や溝の側面にもイオンビームを当てる必要
があるからである。その場合はウエハーを法線周りに回
転させて溝や穴の側壁に均等に注入されるようにする必
要がある。
う。これはもちろん真空チャンバの内部にある。プラテ
ンは静電チャックによってウエハーを静電的に吸着して
支持する。プラテン支持駆動部には静電チャックに給電
するための配線を備える。ウエハーにイオンビ−ムを照
射する時はイオンビ−ムの進行方向にウエハーが対向し
なければならない。ところが搬送系は搬送アームの移動
する方向にウエハー面を向けてからウエハーの授受をす
る。だからこの時にウエハーを90゜回転させなければ
ならない。
定する場合にも使える。このための回転機構がプラテン
支持駆動機構に含まれる。これの回転軸をX軸として説
明する。前述のようにイオンビ−ムはX方向に走査され
ている。Θ=0の時プラテンはビーム方向を向いてい
る。プラテン軸QはZ軸方向にある。Θ=90゜のと
き、プラテンはビームに平行になっている。この状態に
ある時、ウエハーの交換をする。プラテン軸QはY軸方
向にある。このように傾斜角Θを変えるためのX軸まわ
り回転機構が要る。
直交する場合(Θ=0)はウエハーが静止していても良
いが、斜め注入(Θ≠0)の場合は、中心に立てた法線
まわりにウエハーを回転させなければならない。ウエハ
ーの表面に穿った微細な溝や穴の側壁の全てに均等にイ
オンビ−ムを注入する必要があるからである。直角入射
(Θ=0)の場合は別段ウエハーを法線まわりに回転す
る必要はない。
合はウエハーを廻す必要がある。そのためにプラテンは
その中心軸のまわりに回転できるようになっている。プ
ラテン中心軸は先ほどの傾斜角Θを決める回転軸(X
軸)と直交する。プラテン軸Qまわりの回転角はΦによ
って表す。
ン支持駆動機構の構造を説明する。図1は平面図、図2
は正面図、図3は左側面図である。これは真空チャンバ
の内部にあるが、簡単のためにチャンバ壁などは図示し
ない。Z方向に伝搬するイオンビ−ム1はX方向に広が
っているように描かれているが、実際には1本の細いビ
ームである。X方向に走査するのでこのように実効的に
広がる。そこで走査したビームの存在する範囲を示して
いる。
ビームに対向するようにウエハー2を支持するのがプラ
テン3である。これは回転する円盤であるが、静電チャ
ックによってウエハー2をその面上に固定している。プ
ラテン軸11がプラテン3を支持する。プラテン軸11
はギヤケース12に対して回転可能に取り付けられる。
プラテン回転モータ5がギヤケース12に固定され。こ
のモータ5の回転がギヤケースの中で減速されてプラテ
ン3をQ軸のまわりに回転させる。
によって保持される。傾斜軸13は注入角モータ4によ
って90゜の範囲で回動する。これの回動角が前記のΘ
である。これは回動角或いは傾斜角と呼ぶことにする。
注入角モータ4、傾斜軸13はL字型の取付台14の横
壁の部分に固定される。L字型取付台14の底板はスキ
ャン軸6の端部に固定される。
いている。チャンバ壁15には通し穴16があってここ
に円筒状のシール軸受部7が設けられる。スキャン軸6
はビーム進行方向Zと走査方向Xの両方に直角の方向つ
まりY方向に進退する。スキャン軸6が動く事によって
ビームがウエハーをY軸方向に移動する。これによって
Y方向の走査ができる。ウエハーの機械的走査である。
X方向のビームの電磁的走査と相まってビームは全ウエ
ハー面を走査する。軸方向の駆動装置は大気中にある。
真空中ではない。スキャン軸は軸方向に動くだけで回転
しない。軸受7も回転を禁ずるような構造になってい
る。
に摺動するだけで回転しない。シール軸受部7は気密保
持機能がある。注入室8は真空であり、外部は大気9で
あるから真空を保持するためにシール機能のある軸受7
を使う。スキャン駆動軸は、プラテン3、ギヤケース1
2、注入角モータ4、回転モータ5などプラテン周辺の
全ての機構部を支持している。負荷が重いのでスキャン
駆動軸を動かすには強い慣性に打ち勝たなくてはいけな
い。
たる場合の配置を書いている。プラテンの法線はZ方向
を向いている。Θ=0であり、イオンビ−ムは−Z方向
に進行してウエハー面に入射する。図3において一点鎖
線で描いているのはウエハーを搬送装置によって搬入し
た瞬間或いは搬出しようという瞬間の位置である。ビー
ム照射方向から注入角モータ4によってプラテン3自体
を90゜回動した方位である。Θ=90゜である。注入
角モータ4によってプラテン3を傾ける姿勢制御する。
これを図4に示している。Θは0゜〜60゜程度であ
る。Θが90゜でないのでこの場合はウエハーを回転さ
せなければならない。モータ5によってプラテンをQ軸
のまわりに回転させる。
もできる。回転角Φは連続値を取る。そうではなくて一
定刻みずつ回転させる事もできる。M段階で1回転する
とする。段階的に廻すからステップ注入という。1回の
回転角度は360/Mである。例えば45゜ずつ、或い
は90゜ずつ回転させる。回転角Φは離散的な値をと
る。ビームはX方向に走査しているから、ビームがウエ
ハーを外れた瞬間(オーバースキャンという)にプラテ
ンを回転させる。ビームがウエハーに当たる時は、ウエ
ハーは静止している。例えば、90゜刻みで回転させる
場合、ウエハー面上の微少な穴の4つの側壁の全てに同
じだけイオンビ−ムを注入しようとすると、Φ=0、9
0゜、180゜、270゜の位置でウエハーを止めて全
面を走査し全面にΦ方向からビームを注入する。つまり
ステップ毎に全面注入を行う必要がある。
注入を説明する。図7においてプラテン、ウエハーを斜
めにした状態を示す。ビームはZ方向から入射する。プ
ラテンはX軸周りに回転しプラテンの中心法線QはZ軸
とΘの角度をなす。この図においてプラテンの傾き中心
がX軸であり注入角モータ軸中心である。
をΦとする。ウエハ−中心から半径rの点のウエハー面
上での座標は(rcosΦ、rsinΦ)と書く事がで
きる。図8において右側にX軸が延びる。図8の
(1)、(2)、(3)、(4)はΦ=90゜、180
゜、270゜、360゜の点を示すがこれらは同一の点
が動いて行くのを示す。角速度をΩとすると、Φ=Ωt
と書ける。図8のように同一の点が動いていくのが従来
例のステップ注入である。黒点の部分に丸い穴が彫られ
ていたとしよう。ウエハーにZ方向からビームが飛んで
くるから、ウエハーがQ軸周りに1回転すると、ビーム
は等密度で穴の側壁に当たることになる。
エハー2の点Gの位置に小さい半径bの穴があるとす
る。穴の輪郭線上の点Pはウエハー中心Qと穴中心Gを
結ぶ直線と穴輪郭の交点Hからの円周角ηによって表現
できる。GPはGHと角度ηをなすのである。これは穴
であるから側壁がどちらを向いているかを考える。点P
の側壁に立てた法線単位ベクトルnはウエハーに取った
二次元座標において、
て、法線ベクトルは穴中心に向けたベクトルだからであ
る。ウエハ−はしかしQ軸周りにΦだけ回転しているか
ら、ηの点Pでの法線ベクトルは、
だけ傾いているから、法線ベクトルnは三次元座標にお
いては、
いて照射してくるから、Z方向の単位ベクトル(0,
0,1)と壁の法線ベクトルの内積が単位面積あたりの
イオンビ−ムの照射量に比例することになる。内積w
は、
に当たらないという事である。内積が正であるときそれ
に比例したビーム密度で内壁に衝突するということであ
る。従来例ではウエハーが回転するから、Φ=Ωtであ
る。すると、
整数)であるときに最大ビーム密度が点Pに入射する。
tが変化すれば全てのηがこれを満足する。また、単位
時間に穴の内壁P点が受けるビーム量はwを正の範囲で
積分することによって評価できる。
溝内壁の全ての点は等しい確率でビームを受けるという
ことである。その量はsinΘに比例する。傾き角Θを
増やすとビーム量は増える。ウエハーの表面に穿った小
さい穴の側面の全てにイオン注入できる。
ある。いくつかの提案が同じ目的の為になされている。 特開昭62−115638号「イオン注入装置」 こ
れはプラテンの直径方向に軸を通し、軸周りにプラテン
を回動できるようにしている。これは回転運動ができな
いので、軸と直角の方向にはウエハ−を傾けることがで
きない。これまで従来例として紹介したものよりも不完
全な機構である。
理装置」 これはプラテンを直交する2軸で2段階の回
転支持をする。つまりX軸周りにもY軸周りにも回転で
きるようにする。そしてプラテンの裏面法線方向に立て
た棒部材をクランクとベベルギヤによって廻す。ベベル
ギヤの噛み合いを変えるとプラテンの傾斜角が変わる。
軸の全体を廻すと、プラテンの傾斜角は一定であるが傾
きの方向が変わっていくようになる。これはプラテンの
2軸支持が複雑であって、また首振り運動の機構が混み
入っており作製が難しい。なんと言ってもウエハーの機
械的走査ができずハイブリッドスキャンができない。こ
のような難点があって未だ実現されていない。
動機構には真空チャック機構、X軸回転機構(注入角モ
ータ)、Q軸回転機構(プラテン回転モータ)の3つの
機構が必要である。これらは全て真空中にある機構であ
る。二つのモータは全体をケースで覆いケースの内部は
大気圧に保つ。
係数が異常に大きくなり回転が円滑でない。モータは大
気圧下で駆動しなければいけない。ケースの外部は真
空、内部は大気圧になる。単純なケースではなく気密性
のケースによってモータを密封する必要がある。ケース
のためにモータは余計外形が大きくなり重くなる。モー
タに給電するための配線も複雑になる。特にプラテン回
転モータ5はモータ自体が移動するから配線も動く。
ハーを取り付けるために静電チャックを用いている。静
電チャックに電圧を与える給電線は単純なコードでは役
に立たない。プラテンが中心軸(Q軸)まわりに回転す
るからである。回転部材に給電するような特別の工夫が
必要である。環状のレ−ルと接触子のような組み合わせ
によって給電する必要がある。
よって激しく加熱される。温度上昇を抑えるためにプラ
テンには冷却媒体を通すようになっている。回転するプ
ラテンの中の流路に冷媒を往復させるのである。静止系
から回転系へ液体を循環させなければならない。例えば
プラテン裏面に、環状の流路を同心に二つ設けてこれに
固定側から冷媒を送り込みプラテンを冷却したのち固定
側に戻すようにしなければいけない。冷媒の回転導入機
構はさらに複雑である。
テンの周辺部の構造が大きく複雑で製造コストが高いと
いう欠点があった。それだけでなく重くて慣性が大きい
のでスキャン軸6を動かすスキャン駆動機構(図示しな
い)の負担が大きい。重いプラテン周辺機構を動かすか
ら応答性が悪い。このような難点があった。
の構造をより単純化することが本発明の第1の目的であ
る。周辺部の構造をより軽量化しスキャン駆動系の負荷
を軽減することが本発明の第2の目的である。さらにプ
ラテン駆動機構そのものの信頼性を高めることが本発明
の第3の目的である。
動装置は、ビ−ムの一次元走査方向をX軸方向とし、ウ
エハ−をX軸周りに回動させる手段と、前記ウエハ−を
前記X軸と直角なY軸まわりに揺動させる手段と、前記
X軸周りに回動させる手段と前記Y軸周りに揺動させる
手段を制御する手段とからなり、ウエハ−に形成された
溝側面にも均一にビ−ムを入射することができるように
したものである。
られウエハーを保持するプラテンと、ビームの一次元走
査方向であるX軸の周りにプラテン面を傾斜可能に支持
する取付台と、取付台に固定され取付台に対するプラテ
ンのX軸周りの傾斜角を変化させる注入角モータと、真
空チャンバの内外に挿通されてチャンバ内部において取
付台を支持するスキャン駆動軸と、スキャン駆動軸をチ
ャンバ壁にY軸方向進退可能に支持するシール軸受部
と、大気中にあってスキャン駆動軸をY軸方向に進退さ
せる直進走査機構と、大気中にあってスキャン駆動軸を
Y軸周りに揺動させるスキャン軸ツイストモータとより
なるプラテン支持駆動装置を与える。
き、代わりにスキャン駆動軸をある範囲で回動できるよ
うにする。プラテンは最早法線まわりに回転しない。プ
ラテン回転モータは真空内部にあるモータであってこれ
を省くとプラテン周辺機構は大幅に簡略化できる。もち
ろんX軸まわりにプラテンを一つの直径を中心として回
動する注入角モータは存在する。これは斜め方向からビ
ームを照射するときと、ウエハ−の交換のために必要で
ある。回転モータを省く代わりに、スキャン駆動軸をY
方向に進退するだけでなくY軸まわりにある範囲で左右
に回動させる機構が新たに必要になる。しかしこの機構
は大気中に設けられる機構であるから真空中の機構より
もずっと設計製作コストは安い。
テン支持駆動機構の平面図、図6は正面図である。ウエ
ハ−2をチャックしたプラテン3は、ケース18によっ
て支持される。ケース18には静電チャックのための配
線や、冷却媒体を流す媒体流路などが含まれる。しかし
ケースには減速機構はない。プラテンを回転しないから
である。したがってケース18は図1のギヤケース12
よりも軽量小型である。
れる。傾斜軸13は注入角モータ4によって回転可能に
支持される。注入角モータ4の機能は図1のものと同様
であるが、ケースが軽いからより小さい定格のモータで
足りる。注入角モータ4はX軸の周りにプラテンを回動
させることができる。X軸は水平方向のプラテンの直径
に平行である。
片に固定される。取付台14の底辺はスキャン駆動軸6
の先端に固着される。スキャン駆動軸6はチャンバ壁1
5の通し穴16を内外に貫く。通し穴16にはシール軸
受部17が設けられる。これはラジアル軸受とスラスト
軸受を組み合わせたものであり軸封機構もある。内部の
注入室8は真空で、外側は大気側9である。だから真空
シールと軸受の両方の機能が必要である。スキャン駆動
軸6には円筒形のスリーブ20がはめ込んである。スリ
ーブ20はスキャン駆動軸6に対して軸方向の相対変位
は可能であるが、相対回転は禁じられる。スリーブ20
は軸受部17に対して回転可能であるが軸方向には相対
変位できない。
21が固定される。これは小口径のギヤ22と噛み合っ
ている。スキャン軸ツイストモータ23が支持材24に
よってチャンバ壁15に対して固定される。スキャン軸
ツイストモータ23の出力軸には先述のギヤ22が固着
される。スキャン軸ツイストモータ23が回転すると、
ギヤ22、21、スリーブ20が回転する。スリーブ2
0とともにスキャン駆動軸6も回動する。回動角は限定
されている。最大で前後180゜回動すれば良い。多く
の場合もっと少なくてよい。全周回転する必要がない。
タ(図示しない)によって軸方向に往復運動する。これ
はウエハーをY方向に動かす機械走査(メカニカルスキ
ャン)のためである。ハイブリッドスキャン方式である
から、駆動軸6を軸方向(Y方向)に動かす必要があ
る。これはチャンバ外に設けた直進走査用モ−タによっ
て行う。この機能は図1〜図3の従来例においても同じ
である。しかし走査対象にはプラテン回転モータがな
く、ケース18、注入角モータ4、プラテン3など負荷
の総重量が減っているから、慣性が小さい。ためにスキ
ャン駆動軸の走査はより敏活になる。つまり応答性が高
くなる。
プラテンはもちろん回転しない。代わりにスキャン駆動
軸6をY軸周りに一定角度範囲で揺動させる。これは大
気側から回転させることができるという長所がある。ま
た回転でなく揺動である。360゜以上に回転するので
はない。それより狭い範囲で往復回転する。これをここ
では揺動と表現する事にする。
よって、実効的に従来の方式と同じようなイオン注入を
することが可能である。もちろんX軸周り傾斜運動、Y
軸周り揺動運動は、従来のものより複雑になる。プラテ
ンの向きを様々に変える事によってプラテンを傾斜軸の
周りに回転するのと同じ様な効果をあげようとする。
ステップの例であり、図7、図8と対応するものであ
る。黒点はプラテン上の同じ点を示す。図8に見るよう
にこれはほぼY軸上にあって回転しない。図9でプラテ
ン法線とZ軸のなす角度が注入角Θ0 であるがこれはX
軸周りの傾きΘにもはや等しくない。図10(1)はX
軸周り傾斜Θが注入角Θ0 に等しく、揺動角Υが0であ
る。(2)はΘが0であり、Υが−Θ0 である。(3)
はΘが−Θ0 で、Υは0となる。(4)はΘが0で、Υ
が+Θ0 である。纏めると
あるいは溝の内周面にビームを当てようとする場合、図
10(1)は図8(1)と同じ注入モードになる。図1
0(2)は図8(4)と同じである。図10(3)は図
8(3)と等価である。図10(4)は図8(2)と同
じモードになる。であるから、本発明の様に揺動Υと傾
斜Θを組み合わせても従来のように回転と同じ効果を納
めることができる。
(Θ=Θ0)、Q軸周りに回転(Φ=Ωt)だけを行え
ば良かった。一軸周りの単純な運動であった。本発明の
場合は2軸周りの運動を同期して行わなければならな
い。図10の(1)〜(4)のそれぞれでウエハー全面
にビームを注入し終わり、オーバースキャンしていると
きにプラテン、スキャン駆動軸を回動する。4ステップ
の場合は角度関係が簡単である。
うわけではない。ただしその角度制御は複雑である。注
入角をΘ0 とすると、本発明においてY軸周りの揺動角
Υと、X軸周りの傾斜角Θは次の条件を満足する必要が
ある。
in2 Θ0 となるΘ2 を使って、次のようにΥ、Θを変
動させれば良い。
n2 Θj =jsin2 Θ0 によって決まるΘj (j=
1,2…,M−1)を使って、同様の(Θ,Υ)の組を
指定する事ができる。
動させることもできる。その場合は(11)に従って変
化させる。ステップ注入ということでなく連続注入とい
うことになる。この場合は揺動、傾斜の回転角速度をω
として、
転させない、ということである。これによって多くの利
益がもたらされる。まず初めに重いプラテン回転モータ
5を省略できる。モータのコストを削減できる。
る。周辺部が小型化するのでイオン注入のために空間を
より狭くできる。ウエハーは大口径化する傾向にあるが
チャンバはできるだけ小さくせよという要望が強く、本
発明はこの要望に応えることができる。
ン駆動軸を動かす機械走査の応答性が速くなる。スルー
プットを上げるために走査速度もより速くする必要があ
る。そのような場合慣性が小さく動き易いプラテンは魅
力的である。ウエハーが回転しないので静電チャックの
給電線の構造が単純になる。単なるコードを使う事もで
きる。さらに冷却媒体の流通経路が単純になる。ウエハ
ーは揺動するが回転しないからコイルチューブなどによ
って冷媒を循環させることができる。
を傾ける注入角モータもより小型にできる。真空内でプ
ラテンを回転させないので、構造上の信頼性が向上す
る。
図。
正面図。
面図。
ン、ウエハーの関係を示す図。
示す平面図。
示す正面図。
の関係を示す概略図。
0゜ずつ段階的に変化させたときのウエハーの上の一点
が回転してゆくことを説明する図。回転角が、(1)は
90度の場合、(2)は180度の場合、(3)は27
0度の場合、(4)は360度の場合を示す。
とビームの関係を示す概略図。
揺動角Υ、傾斜角Θを段階的に変化させたときのウエハ
ーの上の一点が回転しないが傾きを変えてゆくことを説
明する図。(1)はX軸周りの回転角がΘ0 、Y軸周り
の回転角が0の場合。(2)はX軸周りの回転角が0、
Y軸周りの回転角が−Θ0 の場合。(3)はX軸周りの
回転角が−Θ0 、Y軸周りの回転角が0の場合。(4)
はX軸周りの回転角が0、Y軸周りの回転角が+Θ0 の
場合。
の穴を穿ったときウエハ−中心Qから穴中心Gに引いた
半径と遠い方の穴側面との交点Hから反時計回りに円周
角ηを定義しηによって穴壁面上の点Pの位置を定義す
ることを説明する平面図。
Claims (5)
- 【請求項1】 ビ−ムの一次元走査方向をX軸方向と
し、ウエハ−をX軸周りに回動させる手段と、前記ウエ
ハ−を前記X軸と直角なY軸まわりに揺動させる手段
と、前記X軸周りに回動させる手段と前記Y軸周りに揺
動させる手段を制御する手段とからなり、ウエハ−に形
成された溝側面にも均一にビ−ムを入射することができ
ることを特徴とするイオン注入装置のプラテン支持駆動
機構。 - 【請求項2】 ビ−ムの一次元走査方向をX軸方向と
し、ウエハ−の前記X軸周りに回動させるための真空チ
ャンバ−内に設けられた注入角モ−タ−と、前記ウエハ
−を前記X軸と直角なY軸周りに揺動させるため真空チ
ャンバ−の外部に設けられたスキャン軸ツイストモ−タ
−と、前記ウエハ−を前記Y軸方向に直進往復運動させ
るために前記真空チャンバ−外に設けられた直進走査用
モ−タ−とからなることを特徴とするイオン注入装置の
プラテン支持駆動機構。 - 【請求項3】 ビームの一次元走査方向をX軸方向とし
て、プラテンをX軸周りに傾斜させる傾斜機構と、傾斜
機構を直線走査軸によって支持しプラテンをビーム走査
方向(X軸)と直角なY軸方向に直進往復運動させる直
進走査機構と、直進走査軸をY軸周りに揺動させる走査
軸揺動機構とを含み、注入角をΘ0 として、傾斜角Θと
揺動角Υが sin2 Θ+sin2 Υ=sin2 Θ0 を
満足するように、段階状にあるいは連続的に変化させる
ことを特徴とするイオン注入装置のプラテン支持駆動機
構。 - 【請求項4】 真空中に設けられウエハーを保持するプ
ラテンと、ビームの一次元走査方向であるX軸の周りに
プラテン面を傾斜可能に支持する取付台と、取付台に固
定され取付台に対するプラテンのX軸周りの傾斜角を変
化させる注入角モータと、真空チャンバの内外に挿通さ
れてチャンバ内部において取付台を支持するスキャン駆
動軸と、スキャン駆動軸をチャンバ壁にY軸方向進退可
能に支持するシール軸受部と、大気中にあってスキャン
駆動軸をY軸方向に進退させる直進走査機構と、大気中
にあってスキャン駆動軸をY軸周りに揺動させるスキャ
ン軸ツイストモータとよりなることを特徴とするイオン
注入装置のプラテン支持駆動機構。 - 【請求項5】 真空中に設けられウエハーを保持するプ
ラテンと、プラテン内部に設けられ静電力によってウエ
ハ−をプラテンに対し固定する静電チャックと、プラテ
ン内部に設けられウエハ−を冷却するための冷媒を通す
冷媒通路と、冷媒をプラテンの冷媒通路に供給する冷媒
供給機構と、ビームの一次元走査方向であるX軸の周り
にプラテン面を傾斜可能に支持する取付台と、取付台に
固定され取付台に対するプラテンのX軸周りの傾斜角を
変化させる注入角モータと、真空チャンバの内外に挿通
されてチャンバ内部において取付台を支持するスキャン
駆動軸と、スキャン駆動軸をチャンバ壁にY軸方向進退
可能に支持するシール軸受部と、大気中にあってスキャ
ン駆動軸をY軸方向に進退させる直進走査機構と、大気
中にあってスキャン駆動軸をY軸周りに揺動させるスキ
ャン軸ツイストモータとよりなることを特徴とするイオ
ン注入装置のプラテン支持駆動機構。
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