JPH1080994A - Negative type image recording material - Google Patents

Negative type image recording material

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JPH1080994A
JPH1080994A JP3376097A JP3376097A JPH1080994A JP H1080994 A JPH1080994 A JP H1080994A JP 3376097 A JP3376097 A JP 3376097A JP 3376097 A JP3376097 A JP 3376097A JP H1080994 A JPH1080994 A JP H1080994A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
group
carbon atoms
substituent
hydrocarbon group
recording material
Prior art date
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Pending
Application number
JP3376097A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Keitaro Aoshima
桂太郎 青島
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Fujifilm Holdings Corp
Original Assignee
Fuji Photo Film Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Fuji Photo Film Co Ltd filed Critical Fuji Photo Film Co Ltd
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Publication of JPH1080994A publication Critical patent/JPH1080994A/en
Pending legal-status Critical Current

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To improve a storing stability even under a high temperature, by forming a negative type image recording material using a polymer obtained by polymerizing monomers each having a specific structure represented by the formulas, a phenol derivative, an infrared absorbent and a novolac resin. SOLUTION: A negative type image recording material is comprises of a polymer obtained by polymerizing monomers each having a specific structure represented by formula I or II (wherein R1 is a hydrocarbon group of up to 20 carbon atoms which may have a hydrogen atom or a substituent group, R2 is a dihydric hydrocarbon group of up to 20 carbon atoms which may have a single bond or a substituent group, Ar is an aryl of up to 20 carbon atoms which may have a substituent group), a phenol derivative containing 3-5 benzene rings which have two or more hydroxymethyls or alkoxymethyls combined with the benzene rings, an infrared absorbent and a novolac resin. Therefore, it is possible to improve a storage stability even under a high temperature.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は平版印刷用版材とし
て使用できる画像記録材料に関するものであり、特にコ
ンピュータ等のデジタル信号から赤外線レーザを用いて
直接製版できる、いわゆるダイレクト製版可能な平版印
刷用版材に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an image recording material which can be used as a lithographic printing plate material, and more particularly to a so-called lithographic printing plate capable of directly making a plate by using an infrared laser from a digital signal of a computer or the like. Regarding plate materials.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、コンピュータのデジタルデータか
ら直接製版するシステムとしては、電子写真法による
もの、青色または緑色を発光するレーザを用い露光す
る光重合系によるもの、銀塩を感光性樹脂上に積層し
たもの、銀塩拡散転写法によるもの等が提案されてい
る。
2. Description of the Related Art Conventionally, as a system for making a plate directly from digital data of a computer, an electrophotographic system, a photopolymerization system for exposing using a laser emitting blue or green light, and a silver salt on a photosensitive resin are known. Laminated ones, silver salt diffusion transfer methods, and the like have been proposed.

【0003】しかしながらの電子写真法を用いるもの
は、帯電、露光、現像等画像形成のプロセスが煩雑であ
り、装置が複雑で大がかりなものになる。の光重合系
によるものでは、青色や緑色の光に対して高感度な版材
であるため、明室での取扱いが難しくなる。、の方
法では銀塩を使用するため現像等の処理が煩雑になる、
さらに当然ながら処理廃液中に銀が含まれる欠点があ
る。
However, in the case of using the electrophotographic method, an image forming process such as charging, exposure, and development is complicated, and the apparatus is complicated and large. In the photopolymerization system, since the plate material is highly sensitive to blue or green light, it is difficult to handle in a bright room. In the methods (1) and (2), processing such as development is complicated because a silver salt is used.
Further, naturally, there is a disadvantage that silver is contained in the processing waste liquid.

【0004】一方、近年におけるレーザの発展は目ざま
しく、特に波長760nmから1200nmの赤外線を
放射する固体レーザ及び半導体レーザは、高出力かつ小
型のものが容易に入手できる様になっている。コンピュ
ータ等のデジタルデータから直接製版する際の記録光源
として、これらのレーザは非常に有用である。しかし、
実用上有用な多くの感光性記録材料は、感光波長が76
0nm以下の可視光域であるため、これらの赤外線レー
ザでは画像記録できない。このため、赤外線レーザで記
録可能な材料が望まれている。
On the other hand, the development of lasers in recent years has been remarkable. In particular, solid-state lasers and semiconductor lasers that emit infrared light having a wavelength of 760 nm to 1200 nm can be easily obtained with high output and small size. These lasers are very useful as a recording light source when making a plate directly from digital data of a computer or the like. But,
Many photosensitive recording materials that are practically useful have a photosensitive wavelength of 76.
Since it is a visible light region of 0 nm or less, an image cannot be recorded with these infrared lasers. Therefore, a material that can be recorded by an infrared laser is desired.

【0005】このような赤外線レーザにて記録可能な画
像記録材料としては、特開平7−20629号に記載さ
れている、オニウム塩、レゾール樹脂、ノボラック樹
脂、及び赤外線吸収剤よりなる記録材料がある。また、
特開平7−271029号には、ハロアルキル置換され
たs−トリアジン、レゾール樹脂、ノボラック樹脂、及
び赤外線吸収剤より成る記録材料が記載されている。し
かしながら、これらの画像記録材料を用いた版材では、
長期保存特に高温下で保存した後、画像形成し印刷を行
うと、非画像部に汚れが発生するという問題を有してい
る。
As an image recording material recordable by such an infrared laser, there is a recording material comprising an onium salt, a resole resin, a novolak resin, and an infrared absorber described in JP-A-7-20629. . Also,
JP-A-7-271029 describes a recording material comprising a haloalkyl-substituted s-triazine, a resole resin, a novolak resin, and an infrared absorber. However, in a plate material using these image recording materials,
If the image is formed and printed after long-term storage, especially after storage at high temperature, there is a problem that the non-image portion is stained.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】従って本発明の目的
は、赤外線を放射する固体レーザ及び半導体レーザを用
いて記録することにより、コンピューター等のデジタル
データから直接製版可能であり、さらに保存時の安定
性、特に高温下での保存安定性に優れているネガ型平版
印刷用版材として有用なネガ型画像記録材料を提供する
ことである。
SUMMARY OF THE INVENTION Accordingly, an object of the present invention is to make a plate directly from digital data of a computer or the like by recording using a solid-state laser or a semiconductor laser that emits infrared light, and furthermore, it is possible to obtain a stable plate during storage. An object of the present invention is to provide a negative type image recording material which is useful as a negative type lithographic printing plate material having excellent properties, especially storage stability at high temperatures.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】本発明者らは、ネガ型画
像記録材料の構成成分に着目し、鋭意検討の結果、下記
(A)〜(D)よりなることを特徴とするネガ型画像記
録材料を用いることにより、上記目的が達成できること
を見出し、本発明を完成するに至った。 (A)下記一般式(i)又は(ii)で表される構成単位
のうち、少なくともいずれか1種を有するポリマー、
Means for Solving the Problems The inventors of the present invention pay attention to the constituent components of a negative-type image recording material, and as a result of intensive studies, a negative-type image recording material comprising the following (A) to (D): It has been found that the above object can be achieved by using a recording material, and the present invention has been completed. (A) a polymer having at least one of the structural units represented by the following general formula (i) or (ii),

【0008】[0008]

【化2】 Embedded image

【0009】(式中、R1 は水素原子または置換基を有
していても良い炭素原子数20以下の炭化水素基を示
し、R2 は単結合または置換基を有していても良い炭素
原子数20以下の2価の炭化水素基を示し、R3 は置換
基を有していても良い炭素原子数20以下の炭化水素基
を示す。Arは置換基を有していても良い炭素原子数2
0以下のアリール基を示す。Xは単結合、−CO−O−
または−CO−NR14−を示し、ここで、R14は水素原
子または置換基を有していても良い炭素原子数20以下
の炭化水素基を示す。Yは水素原子または置換基を有し
ていても良い炭素原子数20以下の炭化水素基、−C
(=X)−R15又は−N=N−R16を示す。ここで、R
15は置換基を有していても良い炭素原子数20以下の炭
化水素基を示し、R16は置換基を有していても良い炭素
原子数20以下の炭化水素基を示す。XはO、S又はN
−R17を示し、R17は置換基を有していても良い炭素原
子数20以下の炭化水素基を示す。なお、R3 、R14
15、R16及びR17のうちいずれか2つが連結して環を
形成していてもよい。) (B)分子内にベンゼン環に連結している2個以上のヒ
ドロキシメチル基またはアルコキシメチル基を有し、且
つ、置換基を有していてもよいベンゼン環を3〜5個含
むフェノール誘導体の少なくとも1種、 (C)赤外線吸収剤、 (D)ノボラック樹脂の少なくとも1種。
(In the formula, R 1 represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 20 or less carbon atoms which may have a substituent, and R 2 represents a single bond or a carbon atom which may have a substituent. R 3 represents a divalent hydrocarbon group having 20 or less atoms, and R 3 represents a hydrocarbon group having 20 or less carbon atoms which may have a substituent, and Ar represents a carbon atom having a substituent. Number of atoms 2
And represents an aryl group of 0 or less. X is a single bond, -CO-O-
Or -CO-NR 14 - indicates, wherein, R 14 represents a hydrogen atom or have a substituent having 20 or less good carbon atoms hydrocarbon group. Y is a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 20 or less carbon atoms which may have a substituent,
(= X) shows a -R 15 or -N = N-R 16. Where R
15 represents a hydrocarbon group having 20 or less carbon atoms which may have a substituent, and R 16 represents a hydrocarbon group having 20 or less carbon atoms which may have a substituent. X is O, S or N
Indicates -R 17, R 17 represents a hydrocarbon group having up to good 20 carbon atoms which may have a substituent. Note that R 3 , R 14 ,
Any two of R 15 , R 16 and R 17 may be linked to form a ring. (B) A phenol derivative having two or more hydroxymethyl or alkoxymethyl groups linked to a benzene ring in the molecule and containing 3 to 5 benzene rings which may have a substituent. (C) an infrared absorber, and (D) at least one novolak resin.

【0010】本発明のネガ型画像記録材料においては、
照射された赤外線レーザー等のエネルギーが(C)赤外
線吸収剤によって熱に変換され、(A)特定ポリマーが
その熱により分解して分子内に硫黄原子を有する強酸基
(例えば、スルホン酸基など)が発生する。この強酸基
が、(B)フェノール誘導体と(D)ノボラック樹脂と
の架橋反応を促進することにより画像記録即ち記録材料
の製版が行われるものである。
In the negative type image recording material of the present invention,
The energy of the irradiated infrared laser or the like is converted into heat by the (C) infrared absorbing agent, and (A) the specific polymer is decomposed by the heat and a strong acid group having a sulfur atom in the molecule (for example, a sulfonic acid group) Occurs. The strong acid group promotes a crosslinking reaction between the (B) phenol derivative and the (D) novolak resin, thereby performing image recording, that is, plate making of a recording material.

【0011】以下本発明を詳細に説明する。 [(A)一般式(i)又は(ii)で表される構成単位を
有するポリマー]本発明では、上記一般式(i)又は
(ii)で表される構成単位の内、少なくともいずれか一
つを有するポリマーを使用する。
Hereinafter, the present invention will be described in detail. [(A) Polymer having structural unit represented by general formula (i) or (ii)] In the present invention, at least one of the structural units represented by general formula (i) or (ii) is used. A polymer having two components is used.

【0012】ここで、前記一般式(i)又は(ii)中、
1 は水素原子または置換基を有していても良い炭素原
子数20以下の炭化水素基(例えば、アルキル基、アル
ケニル基、アラルキル基、アリール基)を示す。これら
の炭化水素基は、例えばハロゲン原子、アルコキシ基、
ニトロ基、シアノ基、カルボキシ基等の置換基を有して
いても良い。
Here, in the general formula (i) or (ii),
R 1 represents a hydrogen atom or an optionally substituted hydrocarbon group having 20 or less carbon atoms (eg, an alkyl group, an alkenyl group, an aralkyl group, and an aryl group). These hydrocarbon groups include, for example, a halogen atom, an alkoxy group,
It may have a substituent such as a nitro group, a cyano group and a carboxy group.

【0013】具体的には、水素原子、メチル基、エチル
基、カルボキシメチル基、クロロメチル基、フェニル基
等が挙げられるが、好ましくは水素原子またはメチル基
である。
Specific examples include a hydrogen atom, a methyl group, an ethyl group, a carboxymethyl group, a chloromethyl group, a phenyl group and the like, and preferably a hydrogen atom or a methyl group.

【0014】R2 は、単結合または置換基を有していて
も良い炭素原子数20以下の2価の炭化水素基(例え
ば、アルキレン基、アルケニレン基、アラルキレン基、
アリーレン基)を示す。
R 2 is a single bond or a divalent hydrocarbon group having 20 or less carbon atoms which may have a substituent (eg, an alkylene group, an alkenylene group, an aralkylene group,
Arylene group).

【0015】2価の炭化水素基の具体例としては、メチ
レン基、エチレン基、プロピレン基、メチルエチレン
基、ブチレン基、メチルプロピレン基、ジメチルエチレ
ン基、ペンチレン基、ヘキシレン基、オクチレン基、フ
ェニレン基、ナフチレン基等が挙げられる。これらの炭
化水素基は、例えばハロゲン原子、アルコキシ基、ニト
ロ基、シアノ基、カルボキシ基等の置換基を有していて
も良い。
Specific examples of the divalent hydrocarbon group include a methylene group, an ethylene group, a propylene group, a methylethylene group, a butylene group, a methylpropylene group, a dimethylethylene group, a pentylene group, a hexylene group, an octylene group and a phenylene group. And a naphthylene group. These hydrocarbon groups may have a substituent such as a halogen atom, an alkoxy group, a nitro group, a cyano group, and a carboxy group.

【0016】好ましいR2 は、単結合または置換基を有
していても良い炭素原子数12以下の炭化水素基であ
る。
Preferred R 2 is a single bond or a hydrocarbon group having 12 or less carbon atoms which may have a substituent.

【0017】R3 は、置換基を有していても良い炭素原
子数20以下の炭化水素基を示す。炭化水素基の具体例
としては、メチル基、エチル基、n−プロピル基、i−
プロピル基、n−ブチル基、sec−ブチル基、t−ブ
チル基、ヘキシル基、シクロヘキシル基、オクチル基、
2−エチルヘキシル基、ドデシル基等のアルキル基、ビ
ニル基、アリル基、1−メチルビニル基、2−フェニル
ビニル基等のアルケニル基、ベンジル基等のアラルキル
基、フェニル基、トリル基、キシリル基、クメニル基、
メシチル基、ドデシルフェニル基、フェニルフェニル
基、ナフチル基等のアリール基が挙げられる。
R 3 is a hydrocarbon group having 20 or less carbon atoms which may have a substituent. Specific examples of the hydrocarbon group include a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, and an i-
Propyl, n-butyl, sec-butyl, t-butyl, hexyl, cyclohexyl, octyl,
2-ethylhexyl group, alkyl group such as dodecyl group, vinyl group, allyl group, 1-methylvinyl group, alkenyl group such as 2-phenylvinyl group, aralkyl group such as benzyl group, phenyl group, tolyl group, xylyl group, Cumenyl group,
And aryl groups such as a mesityl group, a dodecylphenyl group, a phenylphenyl group, and a naphthyl group.

【0018】これらの炭化水素基は、例えばハロゲン原
子、アルコキシ基、ニトロ基、シアノ基、カルボキシ基
等の置換基を有していても良い。置換基を有する炭化水
素基の具体例としては、トリフルオロメチル基、2−メ
トキシエチル基、フルオロフェニル基、クロロフェニル
基、ブロモフェニル基、ヨードフェニル基、メトキシフ
ェニル基、フェノキシフェニル基、ニトロフェニル基、
シアノフェニル基、カルボキシフェニル基等が挙げられ
る。
These hydrocarbon groups may have a substituent such as a halogen atom, an alkoxy group, a nitro group, a cyano group and a carboxy group. Specific examples of the hydrocarbon group having a substituent include a trifluoromethyl group, a 2-methoxyethyl group, a fluorophenyl group, a chlorophenyl group, a bromophenyl group, an iodophenyl group, a methoxyphenyl group, a phenoxyphenyl group, and a nitrophenyl group. ,
Examples include a cyanophenyl group and a carboxyphenyl group.

【0019】好ましいR3 は、置換基を有していても良
い炭素原子数12以下の炭化水素基である。
Desirable R 3 is an optionally substituted hydrocarbon group having 12 or less carbon atoms.

【0020】Arは置換基を有していても良い炭素原子
数20以下のアリール基を示す。これらのアリール基
は、例えばハロゲン原子、アルコキシ基、ニトロ基、シ
アノ基、カルボキシ基等の置換基を有していても良い。
Ar represents an aryl group having 20 or less carbon atoms which may have a substituent. These aryl groups may have a substituent such as a halogen atom, an alkoxy group, a nitro group, a cyano group, and a carboxy group.

【0021】具体的には、フェニル基、トリル基、キシ
リル基、クメニル基、メシチル基、ドデシルフェニル
基、フェニルフェニル基、ナフチル基、フルオロフェニ
ル基、クロロフェニル基、ブロモフェニル基、ヨードフ
ェニル基、メトキシフェニル基、フェノキシフェニル
基、ニトロフェニル基、シアノフェニル基、カルボキシ
フェニル基、ニトロナフチル基等が挙げられる。好まし
いArは置換基を有していても良い炭素原子数12以下
のアリール基である。
Specifically, phenyl, tolyl, xylyl, cumenyl, mesityl, dodecylphenyl, phenylphenyl, naphthyl, fluorophenyl, chlorophenyl, bromophenyl, iodophenyl, methoxy Examples include a phenyl group, a phenoxyphenyl group, a nitrophenyl group, a cyanophenyl group, a carboxyphenyl group, and a nitronaphthyl group. Desirable Ar is an aryl group having 12 or less carbon atoms which may have a substituent.

【0022】Xは単結合、−CO−O−または−CO−
NR14−を示す。ただし、R14は水素原子または置換基
(例えばハロゲン原子、アルコキシ基、ニトロ基、シア
ノ基、カルボキシ基等)を有していても良い炭素原子数
20以下の炭化水素基(例えば、アルキル基、アルケニ
ル基、アラルキル基、アリール基)を示す。好ましいR
14は、水素原子または、メチル基、エチル基、フェニル
基等の炭素原子数12以下の炭化水素基である。
X is a single bond, -CO-O- or -CO-
NR 14 -is shown. Here, R 14 is a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 20 or less carbon atoms which may have a substituent (for example, a halogen atom, an alkoxy group, a nitro group, a cyano group, a carboxy group, etc.) (for example, an alkyl group, Alkenyl group, aralkyl group, aryl group). Preferred R
14 is a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 12 or less carbon atoms such as a methyl group, an ethyl group and a phenyl group.

【0023】Yは水素原子または置換基を有していても
良い炭素原子数20以下の炭化水素基、−C(=XY
−R15又は−N=N−R16を示す。ここで、R15及びR
16はそれぞれ置換基(例えばハロゲン原子、アルコキシ
基、ニトロ基、シアノ基、カルボキシ基等)を有してい
ても良い炭素原子数20以下の炭化水素基を示す。X Y
はO、S又はN−R17を示し、R17は置換基を有してい
ても良い炭素原子数20以下の炭化水素基を示す。
Y may have a hydrogen atom or a substituent
A good hydrocarbon group having 20 or less carbon atoms, -C (= XY)
-RFifteenOr -N = NR16Is shown. Where RFifteenAnd R
16Represents a substituent (eg, a halogen atom, an alkoxy
Group, nitro group, cyano group, carboxy group, etc.)
And a hydrocarbon group having 20 or less carbon atoms. X Y
Is O, S or NR17And R17Has a substituent
And a hydrocarbon group having 20 or less carbon atoms.

【0024】なお、R3 、R14、R15、R16及びR17
うちいずれか2つが連結して環を形成していてもよい。
Any two of R 3 , R 14 , R 15 , R 16 and R 17 may be linked to form a ring.

【0025】上記一般式(i)又は(ii)で表される構
成単位の内、好ましくは下記一般式(I)〜(V)で表
されるモノマーの内、少なくともいずれか一つを用い、
ラジカル重合により得られるポリマーを使用する。
Using at least one of the monomers represented by the following general formulas (I) to (V) among the structural units represented by the general formula (i) or (ii),
A polymer obtained by radical polymerization is used.

【0026】[0026]

【化3】 Embedded image

【0027】一般式(I)〜(V)中、R1 は水素原子
または置換基を有していても良い炭素原子数20以下の
炭化水素基(例えば、アルキル基、アルケニル基、アラ
ルキル基、アリール基)を示す。これらの炭化水素基
は、例えばハロゲン原子、アルコキシ基、ニトロ基、シ
アノ基、カルボキシ基等の置換基を有していても良い。
In the general formulas (I) to (V), R 1 is a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 20 or less carbon atoms which may have a substituent (for example, an alkyl group, an alkenyl group, an aralkyl group, Aryl group). These hydrocarbon groups may have a substituent such as a halogen atom, an alkoxy group, a nitro group, a cyano group, and a carboxy group.

【0028】具体的には、水素原子、メチル基、エチル
基、カルボキシメチル基、クロロメチル基、フェニル基
等が挙げられるが、好ましくは水素原子またはメチル基
である。
Specific examples include a hydrogen atom, a methyl group, an ethyl group, a carboxymethyl group, a chloromethyl group, a phenyl group and the like, and preferably a hydrogen atom or a methyl group.

【0029】R2 は、単結合または置換基を有していて
も良い炭素原子数20以下の2価の炭化水素基(例え
ば、アルキレン基、アルケニレン基、アラルキレン基、
アリーレン基)を示す。
R 2 represents a single bond or a divalent hydrocarbon group having 20 or less carbon atoms which may have a substituent (for example, an alkylene group, an alkenylene group, an aralkylene group,
Arylene group).

【0030】2価の炭化水素基の具体例としては、メチ
レン基、エチレン基、プロピレン基、メチルエチレン
基、ブチレン基、メチルプロピレン基、ジメチルエチレ
ン基、ペンチレン基、ヘキシレン基、オクチレン基、フ
ェニレン基、ナフチレン基等が挙げられる。これらの炭
化水素基は、例えばハロゲン原子、アルコキシ基、ニト
ロ基、シアノ基、カルボキシ基等の置換基を有していて
も良い。
Specific examples of the divalent hydrocarbon group include a methylene group, an ethylene group, a propylene group, a methylethylene group, a butylene group, a methylpropylene group, a dimethylethylene group, a pentylene group, a hexylene group, an octylene group and a phenylene group. And a naphthylene group. These hydrocarbon groups may have a substituent such as a halogen atom, an alkoxy group, a nitro group, a cyano group, and a carboxy group.

【0031】好ましいR2 は、単結合または置換基を有
していても良い炭素原子数12以下の炭化水素基であ
る。
Desirable R 2 is a single bond or a hydrocarbon group having 12 or less carbon atoms which may have a substituent.

【0032】R4 、R7 及びR8 は、置換基を有してい
ても良い炭素原子数20以下の炭化水素基を示す。
R 4 , R 7 and R 8 each represent an optionally substituted hydrocarbon group having 20 or less carbon atoms.

【0033】炭化水素基の具体例としては、メチル基、
エチル基、n−プロピル基、i−プロピル基、n−ブチ
ル基、sec−ブチル基、t−ブチル基、ヘキシル基、
シクロヘキシル基、オクチル基、2−エチルヘキシル
基、ドデシル基等のアルキル基、ビニル基、アリル基、
1−メチルビニル基、2−フェニルビニル基等のアルケ
ニル基、ベンジル基等のアラルキル基、フェニル基、ト
リル基、キシリル基、クメニル基、メシチル基、ドデシ
ルフェニル基、フェニルフェニル基、ナフチル基等のア
リール基が挙げられる。
Specific examples of the hydrocarbon group include a methyl group,
Ethyl group, n-propyl group, i-propyl group, n-butyl group, sec-butyl group, t-butyl group, hexyl group,
Cyclohexyl group, octyl group, 2-ethylhexyl group, alkyl group such as dodecyl group, vinyl group, allyl group,
1-methylvinyl group, alkenyl group such as 2-phenylvinyl group, aralkyl group such as benzyl group, phenyl group, tolyl group, xylyl group, cumenyl group, mesityl group, dodecylphenyl group, phenylphenyl group, naphthyl group, etc. Aryl groups.

【0034】これらの炭化水素基は、例えばハロゲン原
子、アルコキシ基、ニトロ基、シアノ基、カルボキシ基
等の置換基を有していても良い。置換基を有する炭化水
素基の具体例としては、トリフルオロメチル基、2−メ
トキシエチル基、フルオロフェニル基、クロロフェニル
基、ブロモフェニル基、ヨードフェニル基、メトキシフ
ェニル基、フェノキシフェニル基、ニトロフェニル基、
シアノフェニル基、カルボキシフェニル基等が挙げられ
る。
These hydrocarbon groups may have a substituent such as a halogen atom, an alkoxy group, a nitro group, a cyano group and a carboxy group. Specific examples of the hydrocarbon group having a substituent include a trifluoromethyl group, a 2-methoxyethyl group, a fluorophenyl group, a chlorophenyl group, a bromophenyl group, an iodophenyl group, a methoxyphenyl group, a phenoxyphenyl group, and a nitrophenyl group. ,
Examples include a cyanophenyl group and a carboxyphenyl group.

【0035】好ましいR4 、R7 及びR8 は、置換基を
有していても良い炭素原子数12以下の炭化水素基であ
る。
Desirable R 4 , R 7 and R 8 are a hydrocarbon group having 12 or less carbon atoms which may have a substituent.

【0036】Ar1 及びAr2 は置換基を有していても
良い炭素原子数20以下のアリール基を示す。これらの
アリール基は、例えばハロゲン原子、アルコキシ基、ニ
トロ基、シアノ基、カルボキシ基等の置換基を有してい
ても良い。
Ar 1 and Ar 2 each represent an aryl group having 20 or less carbon atoms which may have a substituent. These aryl groups may have a substituent such as a halogen atom, an alkoxy group, a nitro group, a cyano group, and a carboxy group.

【0037】具体的には、フェニル基、トリル基、キシ
リル基、クメニル基、メシチル基、ドデシルフェニル
基、フェニルフェニル基、ナフチル基、フルオロフェニ
ル基、クロロフェニル基、ブロモフェニル基、ヨードフ
ェニル基、メトキシフェニル基、フェノキシフェニル
基、ニトロフェニル基、シアノフェニル基、カルボキシ
フェニル基、ニトロナフチル基等が挙げられる。好まし
いAr3 及びAr4 は置換基を有していても良い炭素原
子数12以下のアリール基である。
Specifically, phenyl, tolyl, xylyl, cumenyl, mesityl, dodecylphenyl, phenylphenyl, naphthyl, fluorophenyl, chlorophenyl, bromophenyl, bromophenyl, iodophenyl, methoxy Examples include a phenyl group, a phenoxyphenyl group, a nitrophenyl group, a cyanophenyl group, a carboxyphenyl group, and a nitronaphthyl group. Desirable Ar 3 and Ar 4 are aryl groups having 12 or less carbon atoms which may have a substituent.

【0038】R5 はハロゲン原子又は、置換基を有して
いてもよい炭素数10個以下の炭化水素基(例えば、ア
ルキル基、アルケニル基、アラルキル基、アリール基)
叉は炭素数10個以下のアルコキシ基を示す。
R 5 is a halogen atom or an optionally substituted hydrocarbon group having 10 or less carbon atoms (eg, an alkyl group, an alkenyl group, an aralkyl group, an aryl group)
Or an alkoxy group having 10 or less carbon atoms.

【0039】具体的には、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素
のハロゲン原子、メチル基、エチル基、n−プロピル
基、i−プロピル基、アリル基、n−ブチル基、sec
−ブチル基、t−ブチル基、ヘキシル基、シクロヘキシ
ル基、ベンジル基、フェニル基、トリル基等の炭化水素
基、2−メトキシエチル基、フルオロフェニル基、クロ
ロフェニル基、ブロモフェニル基、ヨードフェニル基、
メトキシフェニル基等置換基を有する炭化水素基、メト
キシ基、エトキシ基等のアルコキシ基が挙げられる。
Specifically, halogen atoms of fluorine, chlorine, bromine and iodine, methyl group, ethyl group, n-propyl group, i-propyl group, allyl group, n-butyl group, sec-
-Butyl group, t-butyl group, hexyl group, cyclohexyl group, benzyl group, phenyl group, hydrocarbon groups such as tolyl group, 2-methoxyethyl group, fluorophenyl group, chlorophenyl group, bromophenyl group, iodophenyl group,
Examples include a hydrocarbon group having a substituent such as a methoxyphenyl group, and an alkoxy group such as a methoxy group and an ethoxy group.

【0040】また、2個のR5 で互いに結合し縮環して
いても良い。
Further, two R 5 's may be bonded to each other to form a condensed ring.

【0041】R6 は置換基を有していてもよい炭素数2
0個以下の2価の炭化水素基(例えば、アルキレン基、
アルケニレン基、アラルキレン基、アリーレン基)を示
す。
R 6 has 2 carbon atoms which may have a substituent.
0 or less divalent hydrocarbon groups (for example, alkylene group,
Alkenylene, aralkylene, arylene).

【0042】具体的には、エチニレン基、1,2−シク
ロヘキセニレン基、1,2−フェニレン基、4−クロロ
−1,2−フェニレン基、4−ニトロ−1,2−フェニ
レン基、4−メチル−1,2−フェニレン基、4ーメト
キシ−1,2−フェニレン基、4−カルボキシ−1,2
−フェニレン基、1,8−ナフタレニレン基等が挙げら
れる。
Specifically, ethynylene, 1,2-cyclohexenylene, 1,2-phenylene, 4-chloro-1,2-phenylene, 4-nitro-1,2-phenylene, 4 -Methyl-1,2-phenylene group, 4-methoxy-1,2-phenylene group, 4-carboxy-1,2
-Phenylene group, 1,8-naphthalenylene group and the like.

【0043】nは0〜4の整数を示す。N represents an integer of 0 to 4.

【0044】Xは単結合、−CO−O−または−CO−
NR14−を示す。ただし、R14は水素原子または置換基
(例えばハロゲン原子、アルコキシ基、ニトロ基、シア
ノ基、カルボキシ基等)を有していても良い炭素原子数
20以下の炭化水素基(例えば、アルキル基、アルケニ
ル基、アラルキル基、アリール基)を示す。好ましいR
14は、水素原子または、メチル基、エチル基、フェニル
基等の炭素原子数12以下の炭化水素基である。
X is a single bond, -CO-O- or -CO-
NR 14 -is shown. Here, R 14 is a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 20 or less carbon atoms which may have a substituent (for example, a halogen atom, an alkoxy group, a nitro group, a cyano group, a carboxy group, etc.) (for example, an alkyl group, Alkenyl group, aralkyl group, aryl group). Preferred R
14 is a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 12 or less carbon atoms such as a methyl group, an ethyl group and a phenyl group.

【0045】Yは水素原子または置換基を有していても
良い炭素原子数20以下の炭化水素基、−C(=XY
−R15又は−N=N−R16を示す。ここで、R15及びR
16はそれぞれ置換基(例えばハロゲン原子、アルコキシ
基、ニトロ基、シアノ基、カルボキシ基等)を有してい
ても良い炭素原子数20以下の炭化水素基を示す。X Y
はO、S又はN−R17を示し、R17は置換基を有してい
ても良い炭素原子数20以下の炭化水素基を示す。
Y represents a hydrogen atom or a substituent
A good hydrocarbon group having 20 or less carbon atoms, -C (= XY)
-RFifteenOr -N = NR16Is shown. Where RFifteenAnd R
16Represents a substituent (eg, a halogen atom, an alkoxy
Group, nitro group, cyano group, carboxy group, etc.)
And a hydrocarbon group having 20 or less carbon atoms. X Y
Is O, S or NR17And R17Has a substituent
And a hydrocarbon group having 20 or less carbon atoms.

【0046】一般式(I)〜(V)で表される化合物の
内、好ましいものを以下に挙げる。
Among the compounds represented by the general formulas (I) to (V), preferred compounds are shown below.

【0047】[0047]

【化4】 Embedded image

【0048】[0048]

【化5】 Embedded image

【0049】[0049]

【化6】 Embedded image

【0050】[0050]

【化7】 Embedded image

【0051】[0051]

【化8】 Embedded image

【0052】[0052]

【化9】 Embedded image

【0053】[0053]

【化10】 Embedded image

【0054】一般式(I)、(II)、(IV)及び(V)
で表される化合物は、活性スルホン酸エステル類と呼ば
れる物であり、一般的には、対応するスルホン酸ハロゲ
ニド(好ましくはスルホン酸クロリド)と対応するヒド
ロキシ化合物より合成することができる。具体的には、
特開平2−100053号及び特開平2−100054
号に記載の方法にて合成することができる。
Formulas (I), (II), (IV) and (V)
Is a compound called active sulfonic acid ester, and can be generally synthesized from a corresponding sulfonic acid halide (preferably sulfonic acid chloride) and a corresponding hydroxy compound. In particular,
JP-A Nos. 2-100053 and 2-100054
Can be synthesized by the method described in the above item.

【0055】また、一般式(III)で表される化合物
は、ジスルホニル化合物と呼ばれる物であり、特開平2
−100053号及び特開平2−100054号に記載
されている様に、対応するスルホン酸ハロゲニド(好ま
しくはスルホン酸クロリド)とスルフィン酸より合成す
ることができる。また、DE3804316A1号に記
載の方法によっても合成することができる。
The compound represented by the general formula (III) is a compound called a disulfonyl compound.
As described in JP-A-100053 and JP-A-2-100054, it can be synthesized from the corresponding sulfonic acid halogenide (preferably sulfonic acid chloride) and sulfinic acid. It can also be synthesized by the method described in DE 38 04 316 A1.

【0056】本発明では、好ましくは一般式(I)〜
(V)で表されるモノマーの内、少なくともいずれか一
つを用い、ラジカル重合により得られるポリマーを使用
するが、一般式(I)〜(V)で表されるモノマーの
内、一種のみを用いた単独重合体を使用しても良いが、
2種以上を用いた共重合体を使用しても良い。
In the present invention, the compounds of the general formulas (I) to (I)
At least one of the monomers represented by (V) is used, and a polymer obtained by radical polymerization is used. Among the monomers represented by general formulas (I) to (V), only one kind is used. The homopolymer used may be used,
A copolymer using two or more kinds may be used.

【0057】本発明において、さらに好適に使用される
一般式(i)又は(ii)で表される構成単位の内、少な
くともいずれか一つを有するポリマーは、一般式(I)
〜(V)で表されるモノマーの内、少なくともいずれか
一つと他の公知のモノマーを用い、ラジカル重合により
得られる共重合体である。
In the present invention, the polymer having at least one of the structural units represented by the general formula (i) or (ii), which is more preferably used, is a compound represented by the general formula (I)
It is a copolymer obtained by radical polymerization using at least one of the monomers represented by (V) and other known monomers.

【0058】共重合体に用いられる他のモノマーとして
は、例えばアクリル酸エステル類、メタクリル酸エステ
ル類、アクリルアミド類、メタクリルアミド類、ビニル
エステル類、スチレン類、アクリル酸、メタクリル酸、
アクリロニトリル、無水マレイン酸、マレイン酸イミド
等の公知のモノマーが挙げられる。
Other monomers used in the copolymer include, for example, acrylic esters, methacrylic esters, acrylamides, methacrylamides, vinyl esters, styrenes, acrylic acid, methacrylic acid,
Known monomers such as acrylonitrile, maleic anhydride, and maleic imide are exemplified.

【0059】アクリル酸エステル類の具体例としては、
メチルアクリレート、エチルアクリレート、(n−また
はi−)プロピルアクリレート、(n−、i−、sec
−またはt−)ブチルアクリレート、アミルアクリレー
ト、2−エチルヘキシルアクリレート、ドデシルアクリ
レート、クロロエチルアクリレート、2−ヒドロキシエ
チルアクリレート、2−ヒドロキシプロピルアクリレー
ト、5−ヒドロキシペンチルアクリレート、シクロヘキ
シルアクリレート、アリルアクリレート、トリメチロー
ルプロパンモノアクリレート、ペンタエリスリトールモ
ノアクリレート、グリシジルアクリレート、ベンジルア
クリレート、メトキシベンジルアクリレート、クロロベ
ンジルアクリレート、ヒドロキシベンジルアクリレー
ト、ヒドロキシフェネチルアクリレート、ジヒドロキシ
フェネチルアクリレート、フルフリルアクリレート、テ
トラヒドロフルフリルアクリレート、フェニルアクリレ
ート、ヒドロキシフェニルアクリレート、クロロフェニ
ルアクリレート、スルファモイルフェニルアクリレー
ト、2−(ヒドロキシフェニルカルボニルオキシ)エチ
ルアクリレート等が挙げられる。
Specific examples of the acrylates include:
Methyl acrylate, ethyl acrylate, (n- or i-) propyl acrylate, (n-, i-, sec
-Or t-) butyl acrylate, amyl acrylate, 2-ethylhexyl acrylate, dodecyl acrylate, chloroethyl acrylate, 2-hydroxyethyl acrylate, 2-hydroxypropyl acrylate, 5-hydroxypentyl acrylate, cyclohexyl acrylate, allyl acrylate, trimethylolpropane Monoacrylate, pentaerythritol monoacrylate, glycidyl acrylate, benzyl acrylate, methoxybenzyl acrylate, chlorobenzyl acrylate, hydroxybenzyl acrylate, hydroxyphenethyl acrylate, dihydroxyphenethyl acrylate, furfuryl acrylate, tetrahydrofurfuryl acrylate, phenyl acrylate, hydroxyphenyl Sulfonyl acrylate, chlorophenyl acrylate, sulfamoylphenyl acrylate, 2- (hydroxyphenyl carbonyloxy) ethyl acrylate.

【0060】メタクリル酸エステル類の具体例として
は、メチルメタクリレート、エチルメタクリレート、
(n−またはi−)プロピルメタクリレート、(n−、
i−、sec−またはt−)ブチルメタクリレート、ア
ミルメタクリレート、2−エチルヘキシルメタクリレー
ト、ドデシルメタクリレート、クロロエチルメタクリレ
ート、2−ヒドロキシエチルメタクリレート、2−ヒド
ロキシプロピルメタクリレート、5−ヒドロキシペンチ
ルメタクリレート、シクロヘキシルメタクリレート、ア
リルメタクリレート、トリメチロールプロパンモノメタ
クリレート、ペンタエリスリトールモノメタクリレー
ト、グリシジルメタクリレート、ベンジルメタクリレー
ト、メトキシベンジルメタクリレート、クロロベンジル
メタクリレート、ヒドロキシベンジルメタクリレート、
ヒドロキシフェネチルメタクリレート、ジヒドロキシフ
ェネチルメタクリレート、フルフリルメタクリレート、
テトラヒドロフルフリルメタクリレート、フェニルメタ
クリレート、ヒドロキシフェニルメタクリレート、クロ
ロフェニルメタクリレート、スルファモイルフェニルメ
タクリレート、2−(ヒドロキシフェニルカルボニルオ
キシ)エチルメタクリレート等が挙げられる。
Specific examples of the methacrylates include methyl methacrylate, ethyl methacrylate,
(N- or i-) propyl methacrylate, (n-,
i-, sec- or t-) butyl methacrylate, amyl methacrylate, 2-ethylhexyl methacrylate, dodecyl methacrylate, chloroethyl methacrylate, 2-hydroxyethyl methacrylate, 2-hydroxypropyl methacrylate, 5-hydroxypentyl methacrylate, cyclohexyl methacrylate, allyl methacrylate , Trimethylolpropane monomethacrylate, pentaerythritol monomethacrylate, glycidyl methacrylate, benzyl methacrylate, methoxybenzyl methacrylate, chlorobenzyl methacrylate, hydroxybenzyl methacrylate,
Hydroxyphenethyl methacrylate, dihydroxyphenethyl methacrylate, furfuryl methacrylate,
Examples include tetrahydrofurfuryl methacrylate, phenyl methacrylate, hydroxyphenyl methacrylate, chlorophenyl methacrylate, sulfamoylphenyl methacrylate, and 2- (hydroxyphenylcarbonyloxy) ethyl methacrylate.

【0061】アクリルアミド類の具体例としては、アク
リルアミド、N−メチルアクリルアミド、N−エチルア
クリルアミド、N−プロピルアクリルアミド、N−ブチ
ルアクリルアミド、N−ベンジルアクリルアミド、N−
ヒドロキシエチルアクリルアミド、N−フェニルアクリ
ルアミド、N−トリルアクリルアミド、N−(ヒドロキ
シフェニル)アクリルアミド、N−(スルファモイルフ
ェニル)アクリルアミド、N−(フェニルスルホニル)
アクリルアミド、N−(トリルスルホニル)アクリルア
ミド、N,N−ジメチルアクリルアミド、N−メチル−
N−フェニルアクリルアミド、N−ヒドロキシエチル−
N−メチルアクリルアミド等が挙げられる。
Specific examples of acrylamides include acrylamide, N-methylacrylamide, N-ethylacrylamide, N-propylacrylamide, N-butylacrylamide, N-benzylacrylamide,
Hydroxyethylacrylamide, N-phenylacrylamide, N-tolylacrylamide, N- (hydroxyphenyl) acrylamide, N- (sulfamoylphenyl) acrylamide, N- (phenylsulfonyl)
Acrylamide, N- (tolylsulfonyl) acrylamide, N, N-dimethylacrylamide, N-methyl-
N-phenylacrylamide, N-hydroxyethyl-
N-methylacrylamide and the like can be mentioned.

【0062】メタクリルアミド類の具体例としては、メ
タクリルアミド、N−メチルメタクリルアミド、N−エ
チルメタクリルアミド、N−プロピルメタクリルアミ
ド、N−ブチルメタクリルアミド、N−ベンジルメタク
リルアミド、N−ヒドロキシエチルメタクリルアミド、
N−フェニルメタクリルアミド、N−トリルメタクリル
アミド、N−(ヒドロキシフェニル)メタクリルアミ
ド、N−(スルファモイルフェニル)メタクリルアミ
ド、N−(フェニルスルホニル)メタクリルアミド、N
−(トリルスルホニル)メタクリルアミド、N,N−ジ
メチルメタクリルアミド、N−メチル−N−フェニルメ
タクリルアミド、N−ヒドロキシエチル−N−メチルメ
タクリルアミド等が挙げられる。
Specific examples of methacrylamides include methacrylamide, N-methyl methacrylamide, N-ethyl methacrylamide, N-propyl methacrylamide, N-butyl methacrylamide, N-benzyl methacrylamide, N-hydroxyethyl methacryl Amide,
N-phenylmethacrylamide, N-tolylmethacrylamide, N- (hydroxyphenyl) methacrylamide, N- (sulfamoylphenyl) methacrylamide, N- (phenylsulfonyl) methacrylamide, N
-(Tolylsulfonyl) methacrylamide, N, N-dimethylmethacrylamide, N-methyl-N-phenylmethacrylamide, N-hydroxyethyl-N-methylmethacrylamide and the like.

【0063】ビニルエステル類の具体例としては、ビニ
ルアセテート、ビニルブチレート、ビニルベンゾエート
等が挙げられる。
Specific examples of vinyl esters include vinyl acetate, vinyl butyrate, vinyl benzoate and the like.

【0064】スチレン類の具体例としては、スチレン、
メチルスチレン、ジメチルスチレン、トリメチルスチレ
ン、エチルスチレン、プロピルスチレン、シクロヘキシ
ルスチレン、クロロメチルスチレン、トリフルオロメチ
ルスチレン、エトキシメチルスチレン、アセトキシメチ
ルスチレン、メトキシスチレン、ジメトキシスチレン、
クロロスチレン、ジクロロスチレン、ブロモスチレン、
ヨードスチレン、フルオロスチレン、カルボキシスチレ
ン等が挙げられる。
Specific examples of styrenes include styrene,
Methylstyrene, dimethylstyrene, trimethylstyrene, ethylstyrene, propylstyrene, cyclohexylstyrene, chloromethylstyrene, trifluoromethylstyrene, ethoxymethylstyrene, acetoxymethylstyrene, methoxystyrene, dimethoxystyrene,
Chlorostyrene, dichlorostyrene, bromostyrene,
Examples thereof include iodostyrene, fluorostyrene, carboxystyrene, and the like.

【0065】これらの他のモノマーのうち特に好適に使
用されるのは、炭素原子数20以下のアクリル酸エステ
ル類、メタクリル酸エステル類、アクリルアミド類、メ
タクリルアミド類、ビニルエステル類、スチレン類及
び、アクリル酸、メタクリル酸、アクリロニトリルであ
る。
Of these other monomers, particularly preferred are those having not more than 20 carbon atoms, such as acrylates, methacrylates, acrylamides, methacrylamides, vinyl esters, styrenes, and the like. Acrylic acid, methacrylic acid and acrylonitrile.

【0066】これらを用いた共重合体中に含まれる一般
式(i)又は(ii)で表される構成単位の割合は、5〜
90重量%であることが好ましく、さらに好ましくは1
0〜80重量%である。
The proportion of the structural unit represented by the general formula (i) or (ii) contained in the copolymer using these is 5 to 5.
It is preferably 90% by weight, more preferably 1% by weight.
0 to 80% by weight.

【0067】また、本発明で使用される一般式(i)又
は(ii)で表される構成単位の内、少なくともいずれか
一つを有するポリマーの分子量は好ましくは重量平均分
子量で2000以上であり、更に好ましくは5000〜
30万の範囲であり、数平均分子量で好ましくは800
以上であり、更に好ましくは1000〜25万の範囲で
ある。多分散度(重量平均分子量/数平均分子量)は1
以上が好ましく、更に好ましくは1.1〜10の範囲で
ある。
The polymer having at least one of the structural units represented by formula (i) or (ii) used in the present invention preferably has a molecular weight of 2,000 or more in terms of weight average molecular weight. , More preferably 5,000 to
In the range of 300,000, and preferably 800 in number average molecular weight.
And more preferably in the range of 1000-250,000. Polydispersity (weight average molecular weight / number average molecular weight) is 1
The above is preferable, and the range is more preferably 1.1 to 10.

【0068】これらのポリマーは、ランダムポリマー、
ブロックポリマー、グラフトポリマー等いずれでも良い
が、ランダムポリマーであることが好ましい。
These polymers are random polymers,
Any of a block polymer and a graft polymer may be used, but a random polymer is preferable.

【0069】本発明で使用されるポリマーを合成する際
に用いられる溶媒としては、例えばテトラヒドロフラ
ン、エチレンジクロリド、シクロヘキサノン、メチルエ
チルケトン、アセトン、メタノール、エタノール、エチ
レングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコー
ルモノエチルエーテル、2−メトキシエチルアセテー
ト、ジエチレングリコールジメチルエーテル、1−メト
キシ−2−プロパノール、1−メトキシ−2−プロピル
アセテート、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−
ジメチルアセトアミド、トルエン、酢酸エチル、乳酸メ
チル、乳酸エチル、ジメチルスルホキシド、水等が挙げ
られる。これらの溶媒は単独であるいは2種以上混合し
て用いられる。
Solvents used in synthesizing the polymer used in the present invention include, for example, tetrahydrofuran, ethylene dichloride, cyclohexanone, methyl ethyl ketone, acetone, methanol, ethanol, ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, Methoxyethyl acetate, diethylene glycol dimethyl ether, 1-methoxy-2-propanol, 1-methoxy-2-propyl acetate, N, N-dimethylformamide, N, N-
Examples include dimethylacetamide, toluene, ethyl acetate, methyl lactate, ethyl lactate, dimethyl sulfoxide, water and the like. These solvents are used alone or in combination of two or more.

【0070】本発明で使用されるポリマーを合成する際
に用いられるラジカル重合開始剤としては、アゾ系開始
剤、過酸化物開始剤等公知の化合物が使用できる。
As the radical polymerization initiator used in synthesizing the polymer used in the present invention, known compounds such as an azo initiator and a peroxide initiator can be used.

【0071】本発明で使用される一般式(i)又は(i
i)で表される構成単位の内、少なくともいずれか一つ
を有するポリマーは単独で用いても混合して用いてもよ
い。これらポリマーの添加量は、画像記録材料全固形分
に対し0.1〜70重量%、好ましくは1〜40重量%
の割合で画像記録材料中に添加される。添加量が0.1
重量%以下の場合は、画像が得られない。また添加量が
70重量%以上の場合は、印刷時非画像部に汚れを発生
する。
The general formula (i) or (i) used in the present invention
The polymer having at least one of the structural units represented by i) may be used alone or as a mixture. The amount of these polymers is 0.1 to 70% by weight, preferably 1 to 40% by weight, based on the total solid content of the image recording material.
In the image recording material. 0.1
If the amount is less than 10% by weight, no image can be obtained. On the other hand, when the addition amount is 70% by weight or more, non-image areas are stained during printing.

【0072】[(B)分子内にベンゼン環に連結してい
る2個以上のヒドロキシメチル基またはアルコキシメチ
ル基を有し、且つ、置換基を有していてもよいベンゼン
環を3〜5個含むフェノール誘導体の少なくとも1
種。]本発明においては、分子内に2個以上のヒドロキ
シメチル基またはアルコキシメチル基を有するフェノー
ル誘導体を用いるが、このヒドロキシメチル基またはア
ルコキシメチル基はフェノール誘導体の骨格を形成する
ベンゼン環に連結しているものである。ここで、アルコ
キシメチル基としては、炭素原子数6個以下のものが好
ましい。具体的にはメトキシメチル基、エトキシメチル
基、n−プロポキシメチル基、i−プロポキシメチル
基、n−ブトキシメチル基、i−ブトキシメチル基、s
ec−ブトキシメチル基、t−ブトキシメチル基が好ま
しい。
[(B) 3 to 5 benzene rings which have two or more hydroxymethyl or alkoxymethyl groups linked to the benzene ring in the molecule and may have a substituent; At least one of the phenol derivatives
seed. In the present invention, a phenol derivative having two or more hydroxymethyl groups or alkoxymethyl groups in the molecule is used. This hydroxymethyl group or alkoxymethyl group is connected to a benzene ring forming the skeleton of the phenol derivative. Is what it is. Here, the alkoxymethyl group preferably has 6 or less carbon atoms. Specifically, methoxymethyl group, ethoxymethyl group, n-propoxymethyl group, i-propoxymethyl group, n-butoxymethyl group, i-butoxymethyl group, s
An ec-butoxymethyl group and a t-butoxymethyl group are preferred.

【0073】ヒドロキシメチル基またはアルコキシメチ
ル基は、形成された画像の強度の観点から、分子内に2
個あることが必須であり、3個あることが好ましく、4
個以上あることがさらに好ましい。これらのヒドロキシ
メチル基またはアルコキシメチル基を2個連結したベン
ゼン環を複数含むことによってフェノール誘導体中にこ
れらの基を4個以上含むことができる。これらの基は分
子内に2個未満では、画像形成されにくいので好ましく
ない。また、高温下での保存時の安定性は、ヒドロキシ
メチル基を有するフェノール誘導体よりも、アルコキシ
メチル基を有するフェノール誘導体の方が良好であるた
め、アルコキシメチル基を有するフェノール誘導体がよ
り好ましい。
A hydroxymethyl group or an alkoxymethyl group has two in the molecule from the viewpoint of the strength of the formed image.
Is essential, preferably three, and four
It is more preferred that the number be at least one. By including a plurality of benzene rings in which two of these hydroxymethyl groups or alkoxymethyl groups are linked, four or more of these groups can be contained in the phenol derivative. If these groups are less than two in a molecule, it is not preferable because an image is hardly formed. Further, the phenol derivative having an alkoxymethyl group is more preferable than the phenol derivative having a hydroxymethyl group in terms of stability during storage at a high temperature. Therefore, a phenol derivative having an alkoxymethyl group is more preferable.

【0074】ここで用いられるフェノール誘導体は分子
量が1,200以下のものが好ましく用いられる。分子
量が1,200を超えると、保存時の安定性の点で好ま
しくない。
The phenol derivative used herein preferably has a molecular weight of 1,200 or less. If the molecular weight exceeds 1,200, it is not preferable in terms of stability during storage.

【0075】これらのフェノール誘導体の内、特に好ま
しいものを以下に挙げるが、これに制限されるものでは
ない。
Among these phenol derivatives, particularly preferred ones are listed below, but are not limited thereto.

【0076】[0076]

【化11】 Embedded image

【0077】[0077]

【化12】 Embedded image

【0078】[0078]

【化13】 Embedded image

【0079】[0079]

【化14】 Embedded image

【0080】[0080]

【化15】 Embedded image

【0081】(式中、L1 〜L8 は、同じであっても異
なっていてもよく、ヒドロキシメチル基、メトキシメチ
ル基、又はエトキシメチル基を示す。)
(In the formula, L 1 to L 8 may be the same or different and represent a hydroxymethyl group, a methoxymethyl group, or an ethoxymethyl group.)

【0082】ヒドロキシメチル基を有するフェノール誘
導体は、対応するヒドロキシメチル基を有さないフェノ
ール化合物(上記式においてL1 〜L8 が水素原子であ
る化合物)とホルムアルデヒドを塩基触媒下で反応させ
ることによって得ることができる。この際、樹脂化やゲ
ル化を防ぐために、反応温度を60℃以下で行うことが
好ましい。具体的には、特開平6−282067号、特
開平7−64285号等に記載されている方法にて合成
することができる。
The phenol derivative having a hydroxymethyl group is prepared by reacting a corresponding phenol compound having no hydroxymethyl group (compound in which L 1 to L 8 are hydrogen atoms in the above formula) with formaldehyde in the presence of a base catalyst. Obtainable. At this time, the reaction is preferably performed at a reaction temperature of 60 ° C. or lower in order to prevent resinification and gelation. Specifically, it can be synthesized by a method described in JP-A-6-28067, JP-A-7-64285, or the like.

【0083】アルコキシメチル基を有するフェノール誘
導体は、対応するヒドロキシメチル基を有するフェノー
ル誘導体とアルコールを酸触媒下で反応させることによ
って得ることができる。この際、樹脂化やゲル化を防ぐ
ために、反応温度を100℃以下で行うことが好まし
い。具体的には、EP632003A1等に記載されて
いる方法にて合成することができる。
The phenol derivative having an alkoxymethyl group can be obtained by reacting the corresponding phenol derivative having a hydroxymethyl group with an alcohol in the presence of an acid catalyst. At this time, the reaction is preferably performed at a reaction temperature of 100 ° C. or less in order to prevent resinification and gelation. Specifically, it can be synthesized by a method described in EP632003A1 or the like.

【0084】本発明において、ヒドロキシメチル基また
はアルコキシメチル基を有するフェノール誘導体は全画
像記録材料固形分中、5〜70重量%、好ましくは10
〜65重量%、特に好ましくは15〜60重量%の添加
量で用いられる。フェノール誘導体の添加量が5重量%
未満であると記録層の耐久性が悪化し、また、70重量
%を越えると保存時の安定性の点で好ましくない。
In the present invention, the phenol derivative having a hydroxymethyl group or an alkoxymethyl group accounts for 5 to 70% by weight, preferably 10% by weight, based on the total solid content of the image recording material.
To 65% by weight, particularly preferably 15 to 60% by weight. 5% by weight of phenol derivative
If the amount is less than the above, the durability of the recording layer deteriorates. If the amount exceeds 70% by weight, the stability during storage is not preferable.

【0085】これらのフェノール誘導体は単独で使用し
ても良く、また2種類以上を組み合わせて使用しても良
い。
These phenol derivatives may be used alone or in combination of two or more.

【0086】[(C)赤外線吸収剤]本発明において使
用される赤外線吸収剤は、波長760nmから1200
nmの赤外線を有効に吸収する染料または顔料である。
好ましくは、波長760nmから1200nmに吸収極
大を有する染料または顔料である。
[(C) Infrared absorber] The infrared absorber used in the present invention has a wavelength of 760 nm to 1200.
It is a dye or pigment that effectively absorbs infrared rays of nm.
Preferably, it is a dye or a pigment having an absorption maximum at a wavelength of 760 nm to 1200 nm.

【0087】染料としては、市販の染料および文献(例
えば「染料便覧」有機合成化学協会編集、昭和45年
刊)に記載されている公知のものが利用できる。具体的
には、アゾ染料、金属錯塩アゾ染料、ピラゾロンアゾ染
料、ナフトキノン染料、アントラキノン染料、フタロシ
アニン染料、カルボニウム染料、キノンイミン染料、メ
チン染料、シアニン染料、スクワリリウム色素、ピリリ
ウム塩、金属チオレート錯体などの染料が挙げられる。
As the dye, commercially available dyes and known dyes described in literatures (for example, “Dye Handbook” edited by The Society of Synthetic Organic Chemistry, published in 1970) can be used. Specifically, dyes such as azo dyes, metal complex salt azo dyes, pyrazolone azo dyes, naphthoquinone dyes, anthraquinone dyes, phthalocyanine dyes, carbonium dyes, quinone imine dyes, methine dyes, cyanine dyes, squarylium dyes, pyrylium salts, and metal thiolate complexes Is mentioned.

【0088】好ましい染料としては例えば特開昭58−
125246号、特開昭59−84356号、特開昭5
9−202829号、特開昭60−78787号等に記
載されているシアニン染料、特開昭58−173696
号、特開昭58−181690号、特開昭58−194
595号等に記載されているメチン染料、特開昭58−
112793号、特開昭58−224793号、特開昭
59−48187号、特開昭59−73996号、特開
昭60−52940号、特開昭60−63744号等に
記載されているナフトキノン染料、特開昭58−112
792号等に記載されているスクワリリウム色素、英国
特許434,875号記載のシアニン染料等を挙げるこ
とができる。
Preferred dyes include, for example, those described in
125246, JP-A-59-84356, JP-A-5-84356
Cyanine dyes described in JP-A-9-202829 and JP-A-60-78787;
JP-A-58-181690, JP-A-58-194
No. 595, etc .;
Naphthoquinone dyes described in 112793, JP-A-58-224793, JP-A-59-48187, JP-A-59-73996, JP-A-60-52940, JP-A-60-63744 and the like. JP-A-58-112
792 and the cyanine dyes described in British Patent No. 434,875, and the like.

【0089】また、米国特許第5,156,938号記
載の近赤外吸収増感剤も好適に用いられ、また、米国特
許第3,881,924号記載の置換されたアリールベ
ンゾ(チオ)ピリリウム塩、特開昭57−142645
号(米国特許第4,327,169号)記載のトリメチ
ンチアピリリウム塩、特開昭58−181051号、同
58−220143号、同59−41363号、同59
−84248号、同59−84249号、同59−14
6063号、同59−146061号に記載されている
ピリリウム系化合物、特開昭59−216146号記載
のシアニン色素、米国特許第4,283,475号に記
載のペンタメチンチオピリリウム塩等や特公平5−13
514号、同5−19702号公報に開示されているピ
リリウム化合物も好ましく用いられる。
Further, a near infrared absorption sensitizer described in US Pat. No. 5,156,938 is preferably used, and a substituted arylbenzo (thio) described in US Pat. No. 3,881,924 is also preferable. Pyrylium salt, JP-A-57-142645
No. (U.S. Pat. No. 4,327,169) described in JP-A-58-181051, JP-A-58-220143, JP-A-59-41363, and JP-A-59-41363.
Nos. -84248, 59-84249, 59-14
Pyrylium compounds described in JP-A Nos. 6063 and 59-146061, cyanine dyes described in JP-A-59-216146, pentamethine thiopyrylium salts described in U.S. Pat. No. 4,283,475, and the like. Fairness 5-13
Pyrylium compounds disclosed in JP-A-514 and JP-A-5-19702 are also preferably used.

【0090】また、染料として好ましい別の例として米
国特許第4,756,993号明細書中に式(I)、
(II)として記載されている近赤外吸収染料を挙げるこ
とができる。
Further, as another preferred example of the dye, US Pat. No. 4,756,993 discloses a compound represented by the formula (I):
Near-infrared absorbing dyes described as (II) can be mentioned.

【0091】これらの染料のうち特に好ましいものとし
ては、シアニン色素、スクワリリウム色素、ピリリウム
塩、ニッケルチオレート錯体が挙げられる。
Among these dyes, particularly preferred are a cyanine dye, a squarylium dye, a pyrylium salt, and a nickel thiolate complex.

【0092】本発明において使用される顔料としては、
市販の顔料およびカラーインデックス(C.I.)便
覧、「最新顔料便覧」(日本顔料技術協会編、1977
年刊)、「最新顔料応用技術」(CMC出版、1986
年刊)、「印刷インキ技術」CMC出版、1984年
刊)に記載されている顔料が利用できる。
The pigment used in the present invention includes:
Commercial Pigment and Color Index (CI) Handbook, “Latest Pigment Handbook” (edited by Japan Pigment Technical Association, 1977)
Annual Publication), “Latest Pigment Application Technology” (CMC Publishing, 1986)
Pigments described in "Printing Ink Technology", CMC Publishing, 1984).

【0093】顔料の種類としては、黒色顔料、黄色顔
料、オレンジ色顔料、褐色顔料、赤色顔料、紫色顔料、
青色顔料、緑色顔料、蛍光顔料、金属粉顔料、その他、
ポリマー結合色素が挙げられる。具体的には、不溶性ア
ゾ顔料、アゾレーキ顔料、縮合アゾ顔料、キレートアゾ
顔料、フタロシアニン系顔料、アントラキノン系顔料、
ペリレンおよびペリノン系顔料、チオインジゴ系顔料、
キナクリドン系顔料、ジオキサジン系顔料、イソインド
リノン系顔料、キノフタロン系顔料、染付けレーキ顔
料、アジン顔料、ニトロソ顔料、ニトロ顔料、天然顔
料、蛍光顔料、無機顔料、カーボンブラック等が使用で
きる。これらの顔料のうち好ましいものはカーボンブラ
ックである。
The types of pigments include black pigment, yellow pigment, orange pigment, brown pigment, red pigment, purple pigment,
Blue pigment, green pigment, fluorescent pigment, metal powder pigment, etc.
Polymer-bound dyes. Specifically, insoluble azo pigments, azo lake pigments, condensation azo pigments, chelate azo pigments, phthalocyanine pigments, anthraquinone pigments,
Perylene and perinone pigments, thioindigo pigments,
Quinacridone pigments, dioxazine pigments, isoindolinone pigments, quinophthalone pigments, dye lake pigments, azine pigments, nitroso pigments, nitro pigments, natural pigments, fluorescent pigments, inorganic pigments, carbon black and the like can be used. Preferred among these pigments is carbon black.

【0094】これら顔料は表面処理をせずに用いてもよ
く、表面処理をほどこして用いてもよい。表面処理の方
法には樹脂やワックスを表面コートする方法、界面活性
剤を付着させる方法、反応性物質(例えば、シランカッ
プリング剤やエポキシ化合物、ポリイソシアネート等)
を顔料表面に結合させる方法等が考えられる。上記の表
面処理方法は、「金属石鹸の性質と応用」(幸書房)、
「印刷インキ技術」(CMC出版、1984年刊)およ
び「最新顔料応用技術」(CMC出版、1986年刊)
に記載されている。
These pigments may be used without surface treatment, or may be used after surface treatment. Methods of surface treatment include a method of surface-coating a resin or wax, a method of attaching a surfactant, and a reactive substance (for example, a silane coupling agent, an epoxy compound, or a polyisocyanate).
Can be conceived on the surface of the pigment. The above surface treatment methods are described in "Properties and Applications of Metallic Soap" (Koshobo),
"Printing ink technology" (CMC Publishing, 1984) and "Latest Pigment Application Technology" (CMC Publishing, 1986)
It is described in.

【0095】顔料の粒径は0.01μm〜10μmの範
囲にあることが好ましく、0.05μm〜1μmの範囲
にあることがさらに好ましく、特に0.1μm〜1μm
の範囲にあることが好ましい。顔料の粒径が0.01μ
m未満のときは分散物の感光層塗布液中での安定性の点
で好ましくなく、また、10μmを越えると画像記録層
の均一性の点で好ましくない。
The particle size of the pigment is preferably in the range of 0.01 μm to 10 μm, more preferably in the range of 0.05 μm to 1 μm, and particularly preferably in the range of 0.1 μm to 1 μm.
Is preferably within the range. Pigment particle size 0.01μ
When it is less than m, the dispersion is not preferred in terms of stability in the coating solution for the photosensitive layer, and when it exceeds 10 μm, it is not preferred in terms of uniformity of the image recording layer.

【0096】顔料を分散する方法としては、インク製造
やトナー製造等に用いられる公知の分散技術が使用でき
る。分散機としては、超音波分散器、サンドミル、アト
ライター、パールミル、スーパーミル、ボールミル、イ
ンペラー、デスパーザー、KDミル、コロイドミル、ダ
イナトロン、3本ロールミル、加圧ニーダー等が挙げら
れる。詳細は、「最新顔料応用技術」(CMC出版、1
986年刊)に記載がある。
As a method for dispersing the pigment, a known dispersion technique used in the production of ink or toner can be used. Examples of the disperser include an ultrasonic disperser, a sand mill, an attritor, a pearl mill, a super mill, a ball mill, an impeller, a disperser, a KD mill, a colloid mill, a dynatron, a three-roll mill, and a pressure kneader. For details, refer to “Latest Pigment Application Technology” (CMC Publishing, 1
986).

【0097】これらの染料もしくは顔料は、画像記録材
料全固形分に対し0.01〜50重量%、好ましくは
0.1〜10重量%、染料の場合特に好ましくは0.5
〜10重量%、顔料の場合特に好ましくは1.0〜10
重量%の割合で画像記録材料中に添加することができ
る。顔料もしくは染料の添加量が0.01重量%未満で
あると感度が低くなり、また50重量%を越えると印刷
時非画像部に汚れが発生する。
These dyes or pigments are used in an amount of 0.01 to 50% by weight, preferably 0.1 to 10% by weight, based on the total solid content of the image recording material.
10 to 10% by weight, particularly preferably 1.0 to 10
It can be added to the image recording material in a proportion of% by weight. If the amount of the pigment or the dye is less than 0.01% by weight, the sensitivity is lowered, and if it exceeds 50% by weight, the non-image area is stained during printing.

【0098】これらの染料もしくは顔料は他の成分と同
一の層に添加してもよいし、別の層を設けそこへ添加し
てもよい。
These dyes or pigments may be added to the same layer as other components, or another layer may be provided and added thereto.

【0099】[(D)ノボラック樹脂]本発明において
使用されるノボラック樹脂は、フェノール類とアルデヒ
ド類を酸性条件下で縮合させた樹脂である。
[(D) Novolak Resin] The novolak resin used in the present invention is a resin obtained by condensing phenols and aldehydes under acidic conditions.

【0100】好ましいノボラック樹脂としては、例えば
フェノールとホルムアルデヒドから得られるノボラック
樹脂、m−クレゾールとホルムアルデヒドから得られる
ノボラック樹脂、p−クレゾールとホルムアルデヒドか
ら得られるノボラック樹脂、o−クレゾールとホルムア
ルデヒドから得られるノボラック樹脂、オクチルフェノ
ールとホルムアルデヒドから得られるノボラック樹脂、
m−/p−混合クレゾールとホルムアルデヒドから得ら
れるノボラック樹脂、フェノール/クレゾール(m−、
p−、o−またはm−/p−、m−/o−、o−/p−
混合のいずれでもよい)の混合物とホルムアルデヒドか
ら得られるノボラック樹脂などが挙げられる。
Preferred novolak resins are, for example, novolak resins obtained from phenol and formaldehyde, novolak resins obtained from m-cresol and formaldehyde, novolak resins obtained from p-cresol and formaldehyde, and novolak resins obtained from o-cresol and formaldehyde. Resin, novolak resin obtained from octylphenol and formaldehyde,
Novolak resin obtained from m- / p-mixed cresol and formaldehyde, phenol / cresol (m-,
p-, o- or m- / p-, m- / o-, o- / p-
Or a novolak resin obtained from formaldehyde.

【0101】これらのノボラック樹脂は、重量平均分子
量が800〜200,000で、数平均分子量が400
〜60,000のものが好ましい。
These novolak resins have a weight average molecular weight of 800 to 200,000 and a number average molecular weight of 400
~ 60,000 are preferred.

【0102】本発明において、これらのノボラック樹脂
は全画像記録材料固形分中、5〜90重量%、好ましく
は10〜85重量%、特に好ましくは20〜80重量%
の添加量で用いられる。ノボラック樹脂の添加量が5重
量%未満であると記録層の耐久性が悪化し、また、90
重量%を越えると感度、耐久性の両面で好ましくない。
In the present invention, these novolak resins are 5 to 90% by weight, preferably 10 to 85% by weight, particularly preferably 20 to 80% by weight, based on the total solid content of the image recording material.
Is used in the amount added. If the amount of the novolak resin is less than 5% by weight, the durability of the recording layer deteriorates.
Exceeding the weight percentage is not preferable in terms of both sensitivity and durability.

【0103】また、これらのノボラック樹脂は、1種類
のみで使用しても良いし、あるいは2種類以上を組み合
わせて使用しても良い。
These novolak resins may be used alone, or two or more kinds may be used in combination.

【0104】[その他の成分]本発明では、上述の4つ
の成分が必須であるが、必要に応じてこれら以外に種々
の化合物を添加しても良い。
[Other Components] In the present invention, the above-mentioned four components are essential, but various compounds other than these may be added as necessary.

【0105】例えば、可視光域に大きな吸収を持つ染料
を画像の着色剤として使用することができる。具体的に
はオイルイエロー#101、オイルイエロー#103、
オイルピンク#312、オイルグリーンBG、オイルブ
ルーBOS、オイルブルー#603、オイルブラックB
Y、オイルブラックBS、オイルブラックT−505
(以上オリエント化学工業(株)製)、ビクトリアピュ
アブルー、クリスタルバイオレット(CI4255
5)、メチルバイオレット(CI42535)、エチル
バイオレット、ローダミンB(CI145170B)、
マラカイトグリーン(CI42000)、メチレンブル
ー(CI52015)など、あるいは特開昭62−29
3247号公報に記載されている染料を挙げることがで
きる。
For example, a dye having a large absorption in the visible light region can be used as a colorant for an image. Specifically, Oil Yellow # 101, Oil Yellow # 103,
Oil pink # 312, oil green BG, oil blue BOS, oil blue # 603, oil black B
Y, oil black BS, oil black T-505
(Orient Chemical Co., Ltd.), Victoria Pure Blue, Crystal Violet (CI4255)
5), methyl violet (CI42535), ethyl violet, rhodamine B (CI145170B),
Malachite green (CI42000), methylene blue (CI52015), etc., or JP-A-62-29
Dyes described in Japanese Patent No. 3247 can be exemplified.

【0106】これらの染料は、画像形成後、画像部と非
画像部の区別がつきやすいので、添加する方が好まし
い。尚、添加量は、画像記録材料全固形分に対し、0.
01〜10重量%の割合である。
It is preferable to add these dyes since the image area and the non-image area can be easily distinguished after image formation. The amount of addition was 0.1 to the total solid content of the image recording material.
It is a ratio of 01 to 10% by weight.

【0107】また、本発明における画像記録材料中に
は、現像条件に対する処理の安定性を広げるため、特開
昭62−251740号公報や特開平3−208514
号公報に記載されているような非イオン界面活性剤、特
開昭59−121044号公報、特開平4−13149
号公報に記載されているような両性界面活性剤を添加す
ることができる。
Further, in the image recording material of the present invention, JP-A-62-251740 and JP-A-3-208514 are used in order to increase the stability of processing under development conditions.
Non-ionic surfactants described in JP-A-59-121044, JP-A-4-13149.
An amphoteric surfactant such as that described in JP-A No. 2-211 can be added.

【0108】非イオン界面活性剤の具体例としては、ソ
ルビタントリステアレート、ソルビタンモノパルミテー
ト、ソルビタントリオレート、ステアリン酸モノグリセ
リド、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル等が
挙げられる。
Specific examples of the nonionic surfactant include sorbitan tristearate, sorbitan monopalmitate, sorbitan triolate, stearic acid monoglyceride, polyoxyethylene nonyl phenyl ether and the like.

【0109】両性界面活性剤の具体例としては、アルキ
ルジ(アミノエチル)グリシン、アルキルポリアミノエ
チルグリシン塩酸塩、2−アルキル−N−カルボキシエ
チル−N−ヒドロキシエチルイミダゾリニウムベタイン
やN−テトラデシル−N,N−ベタイン型(例えば、商
品名アモーゲンK、第一工業(株)製)等が挙げられ
る。 上記非イオン界面活性剤および両性界面活性剤の
画像記録材料中に占める割合は、0.05〜15重量%
が好ましく、より好ましくは0.1〜5重量%である。
Specific examples of the amphoteric surfactant include alkyldi (aminoethyl) glycine, alkylpolyaminoethylglycine hydrochloride, 2-alkyl-N-carboxyethyl-N-hydroxyethylimidazolinium betaine and N-tetradecyl-N , N-betaine type (for example, trade name Amogen K, manufactured by Daiichi Kogyo Co., Ltd.) and the like. The proportion of the nonionic surfactant and the amphoteric surfactant in the image recording material is 0.05 to 15% by weight.
And more preferably 0.1 to 5% by weight.

【0110】更に本発明の画像記録材料中には必要に応
じ、塗膜の柔軟性等を付与するために可塑剤が加えられ
る。例えば、ポリエチレングリコール、クエン酸トリブ
チル、フタル酸ジエチル、フタル酸ジブチル、フタル酸
ジヘキシル、フタル酸ジオクチル、リン酸トリクレジ
ル、リン酸トリブチル、リン酸トリオクチル、オレイン
酸テトラヒドロフルフリル、アクリル酸またはメタクリ
ル酸のオリゴマーおよびポリマー等が用いられる。
Further, a plasticizer may be added to the image recording material of the present invention, if necessary, in order to impart flexibility to the coating film. For example, polyethylene glycol, tributyl citrate, diethyl phthalate, dibutyl phthalate, dihexyl phthalate, dioctyl phthalate, tricresyl phosphate, tributyl phosphate, trioctyl phosphate, tetrahydrofurfuryl oleate, oligomers of acrylic acid or methacrylic acid And a polymer.

【0111】これら以外にも、エポキシ化合物、ビニル
エーテル類等を添加しても良い。
In addition, epoxy compounds, vinyl ethers and the like may be added.

【0112】本発明の画像記録材料は、通常上記各成分
を溶媒に溶かして、適当な支持体上に塗布することによ
り製造することができる。ここで使用する溶媒として
は、エチレンジクロライド、シクロヘキサノン、メチル
エチルケトン、メタノール、エタノール、プロパノー
ル、エチレングリコールモノメチルエーテル、1−メト
キシ−2−プロパノール、2−メトキシエチルアセテー
ト、1−メトキシ−2−プロピルアセテート、ジメトキ
シエタン、乳酸メチル、乳酸エチル、N,N−ジメチル
アセトアミド、N,N−ジメチルホルムアミド、テトラ
メチルウレア、N−メチルピロリドン、ジメチルスルホ
キシド、スルホラン、γ−ブチルラクトン、トルエン、
水等をあげることができるがこれに限定されるものでは
ない。これらの溶媒は単独あるいは混合して使用され
る。溶媒中の上記成分(添加剤を含む全固形分)の濃度
は、好ましくは1〜50重量%である。また塗布、乾燥
後に得られる支持体上の塗布量(固形分)は、用途によ
って異なるが、平版印刷用版材についていえば一般的に
0.5〜5.0g/m2 が好ましい。塗布する方法とし
ては、種々の方法を用いることができるが、例えば、バ
ーコーター塗布、回転塗布、スプレー塗布、カーテン塗
布、ディップ塗布、エアーナイフ塗布、ブレード塗布、
ロール塗布等を挙げることができる。塗布量が少なくな
るにつれて、見かけの感度は大になるが、画像記録膜の
皮膜特性は低下する。
The image recording material of the present invention can be usually produced by dissolving each of the above-mentioned components in a solvent and coating the solution on a suitable support. As the solvent used herein, ethylene dichloride, cyclohexanone, methyl ethyl ketone, methanol, ethanol, propanol, ethylene glycol monomethyl ether, 1-methoxy-2-propanol, 2-methoxyethyl acetate, 1-methoxy-2-propyl acetate, dimethoxy Ethane, methyl lactate, ethyl lactate, N, N-dimethylacetamide, N, N-dimethylformamide, tetramethylurea, N-methylpyrrolidone, dimethylsulfoxide, sulfolane, γ-butyllactone, toluene,
Water and the like can be given, but not limited thereto. These solvents are used alone or as a mixture. The concentration of the above components (total solids including additives) in the solvent is preferably 1 to 50% by weight. The amount of coating (solid content) on the support obtained after coating and drying varies depending on the application, but generally 0.5 to 5.0 g / m 2 is preferred for a lithographic printing plate material. As a method of applying, various methods can be used, for example, bar coater coating, spin coating, spray coating, curtain coating, dip coating, air knife coating, blade coating,
Roll coating and the like can be mentioned. As the coating amount decreases, the apparent sensitivity increases, but the film characteristics of the image recording film deteriorate.

【0113】本発明における画像記録層中には、塗布性
を良化するための界面活性剤、例えば特開昭62−17
0950号公報に記載されているようなフッ素系界面活
性剤を添加することができる。好ましい添加量は、全画
像記録材料固形分中0.01〜1重量%、さらに好まし
くは0.05〜0.5重量%である。
In the image recording layer of the present invention, a surfactant for improving coating properties, for example, JP-A-62-17
A fluorine-based surfactant as described in JP-A-0950 can be added. The preferable addition amount is 0.01 to 1% by weight, more preferably 0.05 to 0.5% by weight, based on the total solid content of the image recording material.

【0114】本発明に使用される支持体としては、寸度
的に安定な板状物であり、例えば、紙、プラスチック
(例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレ
ン等)がラミネートされた紙、金属板(例えば、アルミ
ニウム、亜鉛、銅等)、プラスチックフィルム(例え
ば、二酢酸セルロース、三酢酸セルロース、プロピオン
酸セルロース、酪酸セルロース、酢酸酪酸セルロース、
硝酸セルロース、ポリエチレンテレフタレート、ポリエ
チレン、ポリスチレン、ポリプロピレン、ポリカーボネ
ート、ポリビニルアセタール等)、上記のごとき金属が
ラミネート、もしくは蒸着された紙、もしくはプラスチ
ックフィルム等が含まれる。
The support used in the present invention is a dimensionally stable plate-like material, such as paper, plastic (eg, polyethylene, polypropylene, polystyrene, etc.) laminated paper, metal plate ( For example, aluminum, zinc, copper, etc.), plastic film (for example, cellulose diacetate, cellulose triacetate, cellulose propionate, cellulose butyrate, cellulose acetate butyrate,
Cellulose nitrate, polyethylene terephthalate, polyethylene, polystyrene, polypropylene, polycarbonate, polyvinyl acetal, etc.), and paper or plastic film on which a metal is laminated or vapor-deposited as described above.

【0115】本発明の支持体としては、ポリエステルフ
ィルム又はアルミニウム板が好ましく、その中でも寸法
安定性がよく、比較的安価であるアルミニウム板は特に
好ましい。好適なアルミニウム板は、純アルミニウム板
およびアルミニウムを主成分とし、微量の異元素を含む
合金板であり、更にアルミニウムがラミネートもしくは
蒸着されたプラスチックフィルムでもよい。アルミニウ
ム合金に含まれる異元素には、ケイ素、鉄、マンガン、
銅、マグネシウム、クロム、亜鉛、ビスマス、ニッケ
ル、チタンなどがある。合金中の異元素の含有量は高々
10重量%以下である。本発明において特に好適なアル
ミニウムは、純アルミニウムであるが、完全に純粋なア
ルミニウムは精錬技術上製造が困難であるので、僅かに
異元素を含有するものでもよい。このように本発明に適
用されるアルミニウム板は、その組成が特定されるもの
ではなく、従来より公知公用の素材のアルミニウム板を
適宜に利用することができる。本発明で用いられるアル
ミニウム板の厚みはおよそ0.1mm〜0.6mm程
度、好ましくは0.15mm〜0.4mm、特に好まし
くは0.2mm〜0.3mmである。
As the support of the present invention, a polyester film or an aluminum plate is preferable, and among them, an aluminum plate which has good dimensional stability and is relatively inexpensive is particularly preferable. Suitable aluminum plates are a pure aluminum plate and an alloy plate containing aluminum as a main component and containing a trace amount of a different element, and may be a plastic film on which aluminum is laminated or vapor-deposited. The foreign elements contained in aluminum alloys include silicon, iron, manganese,
Copper, magnesium, chromium, zinc, bismuth, nickel, titanium and the like. The content of the foreign element in the alloy is at most 10% by weight or less. Aluminum which is particularly preferred in the present invention is pure aluminum. However, completely pure aluminum is difficult to produce due to refining technology, and therefore may contain a slightly different element. As described above, the composition of the aluminum plate applied to the present invention is not specified, and an aluminum plate of a conventionally known and used material can be appropriately used. The thickness of the aluminum plate used in the present invention is about 0.1 mm to 0.6 mm, preferably 0.15 mm to 0.4 mm, particularly preferably 0.2 mm to 0.3 mm.

【0116】アルミニウム板を粗面化するに先立ち、所
望により、表面の圧延油を除去するための例えば界面活
性剤、有機溶剤またはアルカリ性水溶液などによる脱脂
処理が行われる。
Prior to roughening the aluminum plate, if necessary, a degreasing treatment with, for example, a surfactant, an organic solvent or an alkaline aqueous solution for removing the rolling oil on the surface is performed.

【0117】アルミニウム板の表面の粗面化処理は、種
々の方法により行われるが、例えば、機械的に粗面化す
る方法、電気化学的に表面を溶解粗面化する方法および
化学的に表面を選択溶解させる方法により行われる。機
械的方法としては、ボール研磨法、ブラシ研磨法、ブラ
スト研磨法、バフ研磨法などの公知の方法を用いること
ができる。また、電気化学的な粗面化法としては塩酸ま
たは硝酸電解液中で交流または直流により行う方法があ
る。また、特開昭54−63902号に開示されている
ように両者を組み合わせた方法も利用することができ
る。
The surface roughening treatment of the aluminum plate is performed by various methods. For example, a method of mechanically roughening the surface, a method of electrochemically dissolving and roughening the surface, and a method of chemically roughening the surface. Is selectively dissolved. As a mechanical method, a known method such as a ball polishing method, a brush polishing method, a blast polishing method, and a buff polishing method can be used. Further, as an electrochemical surface roughening method, there is a method of performing an alternating or direct current in a hydrochloric acid or nitric acid electrolyte. Further, a method combining both of them can be used as disclosed in JP-A-54-63902.

【0118】この様に粗面化されたアルミニウム板は、
必要に応じてアルカリエッチング処理および中和処理さ
れた後、所望により表面の保水性や耐摩耗性を高めるた
めに陽極酸化処理が施される。アルミニウム板の陽極酸
化処理に用いられる電解質としては、多孔質酸化皮膜を
形成する種々の電解質の使用が可能で、一般的には硫
酸、リン酸、蓚酸、クロム酸あるいはそれらの混酸が用
いられる。それらの電解質の濃度は電解質の種類によっ
て適宜決められる。
The aluminum plate thus roughened is
After an alkali etching treatment and a neutralization treatment as necessary, an anodic oxidation treatment is performed as required to increase the water retention and abrasion resistance of the surface. As the electrolyte used for the anodic oxidation treatment of the aluminum plate, various electrolytes for forming a porous oxide film can be used, and generally, sulfuric acid, phosphoric acid, oxalic acid, chromic acid or a mixed acid thereof is used. The concentration of these electrolytes is appropriately determined depending on the type of the electrolyte.

【0119】陽極酸化の処理条件は用いる電解質により
種々変わるので一概に特定し得ないが一般的には電解質
の濃度が1〜80重量%溶液、液温は5〜70℃、電流
密度5〜60A/dm2 、電圧1〜100V、電解時間
10秒〜5分の範囲であれば適当である。
The conditions of the anodizing treatment vary depending on the electrolyte used, and cannot be specified unconditionally. However, in general, the concentration of the electrolyte is 1 to 80% by weight, the solution temperature is 5 to 70 ° C., and the current density is 5 to 60 A / Dm 2 , a voltage of 1 to 100 V, and an electrolysis time of 10 seconds to 5 minutes are appropriate.

【0120】陽極酸化皮膜の量は1.0g/m2 より少
ないと耐刷性が不十分であったり、平版印刷版の非画像
部に傷が付き易くなって、印刷時に傷の部分にインキが
付着するいわゆる「傷汚れ」が生じ易くなる。
When the amount of the anodic oxide film is less than 1.0 g / m 2 , the printing durability is insufficient, and the non-image area of the lithographic printing plate is easily damaged. The so-called "scratch dirt" to which is adhered easily occurs.

【0121】陽極酸化処理を施された後、アルミニウム
表面は必要により親水化処理が施される。本発明に使用
される親水化処理としては、米国特許第2,714,0
66号、同第3,181,461号、第3,280,7
34号および第3,902,734号に開示されている
ようなアルカリ金属シリケート(例えばケイ酸ナトリウ
ム水溶液)法がある。この方法においては、支持体がケ
イ酸ナトリウム水溶液で浸漬処理されるかまたは電解処
理される。他に特公昭36−22063号公報に開示さ
れているフッ化ジルコン酸カリウムおよび米国特許第
3,276,868号、同第4,153,461号、同
第4,689,272号に開示されているようなポリビ
ニルホスホン酸で処理する方法などが用いられる。
After the anodic oxidation treatment, the aluminum surface is subjected to a hydrophilic treatment if necessary. The hydrophilic treatment used in the present invention is described in U.S. Pat.
No. 66, No. 3,181,461, No. 3,280,7
There is an alkali metal silicate (for example, sodium silicate aqueous solution) method as disclosed in No. 34 and 3,902,734. In this method, the support is immersed in an aqueous solution of sodium silicate or electrolytically treated. In addition, potassium fluoride zirconate disclosed in JP-B-36-22063 and U.S. Pat. Nos. 3,276,868, 4,153,461 and 4,689,272 are disclosed. A method of treating with polyvinyl phosphonic acid as described above is used.

【0122】本発明の画像記録材料は、必要に応じて支
持体上に下塗層を設けることができる。
In the image recording material of the present invention, an undercoat layer can be provided on a support, if necessary.

【0123】下塗層成分としては種々の有機化合物が用
いられ、例えば、カルボキシメチルセルロース、デキス
トリン、アラビアガム、2−アミノエチルホスホン酸な
どのアミノ基を有するホスホン酸類、置換基を有しても
よいフェニルホスホン酸、ナフチルホスホン酸、アルキ
ルホスホン酸、グリセロホスホン酸、メチレンジホスホ
ン酸およびエチレンジホスホン酸などの有機ホスホン
酸、置換基を有してもよいフェニルリン酸、ナフチルリ
ン酸、アルキルリン酸およびグリセロリン酸などの有機
リン酸、置換基を有してもよいフェニルホスフィン酸、
ナフチルホスフィン酸、アルキルホスフィン酸およびグ
リセロホスフィン酸などの有機ホスフィン酸、グリシン
やβ−アラニンなどのアミノ酸類、およびトリエタノー
ルアミンの塩酸塩などのヒドロキシ基を有するアミンの
塩酸塩等から選ばれるが、2種以上混合して用いてもよ
い。
Various organic compounds can be used as the components of the undercoat layer. For example, phosphonic acids having an amino group such as carboxymethylcellulose, dextrin, gum arabic, and 2-aminoethylphosphonic acid, and may have a substituent. Organic phosphonic acids such as phenylphosphonic acid, naphthylphosphonic acid, alkylphosphonic acid, glycerophosphonic acid, methylenediphosphonic acid and ethylenediphosphonic acid, phenylphosphoric acid which may have a substituent, naphthylphosphoric acid, alkylphosphoric acid and Organic phosphoric acid such as glycerophosphoric acid, phenylphosphinic acid which may have a substituent,
Naphthyl phosphinic acid, organic phosphinic acids such as alkyl phosphinic acid and glycerophosphinic acid, amino acids such as glycine and β-alanine, and hydrochlorides of amines having a hydroxy group such as hydrochloride of triethanolamine are selected from, You may mix and use 2 or more types.

【0124】有機下塗層の被覆量は、2〜200mg/
2 が適当である。
The coating amount of the organic undercoat layer is 2 to 200 mg /
m 2 is appropriate.

【0125】以上のようにして、本発明の画像記録材料
を用いた平版印刷用版材を作成することができる。この
平版印刷用版材は、波長760nmから1200nmの
赤外線を放射する固体レーザ及び半導体レーザにより画
像露光される。本発明においては、レーザ照射後すぐに
現像処理を行っても良いが、レーザ照射工程と現像工程
の間に加熱処理を行うことが好ましい。加熱処理の条件
は、80℃〜150℃の範囲内で10秒〜5分間行うこ
とが好ましい。この加熱処理により、レーザ照射時、記
録に必要なレーザエネルギーを減少させることができ
る。
As described above, a lithographic printing plate using the image recording material of the present invention can be prepared. This lithographic printing plate material is image-exposed by a solid-state laser and a semiconductor laser that emit infrared rays having a wavelength of 760 nm to 1200 nm. In the present invention, the developing treatment may be performed immediately after the laser irradiation, but it is preferable to perform the heating treatment between the laser irradiation step and the developing step. The heat treatment is preferably performed in a range of 80 ° C. to 150 ° C. for 10 seconds to 5 minutes. By this heat treatment, the laser energy required for recording at the time of laser irradiation can be reduced.

【0126】必要に応じて加熱処理を行った後、本発明
の画像記録材料はアルカリ性水溶液にて現像される。
After performing a heat treatment as required, the image recording material of the present invention is developed with an alkaline aqueous solution.

【0127】本発明の画像記録材料の現像液および補充
液としては従来より知られているアルカリ水溶液が使用
できる。例えば、ケイ酸ナトリウム、同カリウム、第3
リン酸ナトリウム、同カリウム、同アンモニウム、第2
リン酸ナトリウム、同カリウム、同アンモニウム、炭酸
ナトリウム、同カリウム、同アンモニウム、炭酸水素ナ
トリウム、同カリウム、同アンモニウム、ほう酸ナトリ
ウム、同カリウム、同アンモニウム、水酸化ナトリウ
ム、同アンモニウム、同カリウムおよび同リチウムなど
の無機アルカリ塩が挙げられる。また、モノメチルアミ
ン、ジメチルアミン、トリメチルアミン、モノエチルア
ミン、ジエチルアミン、トリエチルアミン、モノイソプ
ロピルアミン、ジイソプロピルアミン、トリイソプロピ
ルアミン、n−ブチルアミン、モノエタノールアミン、
ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、モノイソ
プロパノールアミン、ジイソプロパノールアミン、エチ
レンイミン、エチレンジアミン、ピリジンなどの有機ア
ルカリ剤も用いられる。
As the developer and replenisher for the image recording material of the present invention, conventionally known alkaline aqueous solutions can be used. For example, sodium silicate, potassium silicate, tertiary
Sodium phosphate, same potassium, same ammonium, second
Sodium phosphate, potassium, ammonium, sodium carbonate, potassium, ammonium, sodium bicarbonate, potassium, ammonium, sodium borate, potassium, ammonium, sodium hydroxide, ammonium, potassium, and lithium And the like. Further, monomethylamine, dimethylamine, trimethylamine, monoethylamine, diethylamine, triethylamine, monoisopropylamine, diisopropylamine, triisopropylamine, n-butylamine, monoethanolamine,
Organic alkaline agents such as diethanolamine, triethanolamine, monoisopropanolamine, diisopropanolamine, ethyleneimine, ethylenediamine and pyridine are also used.

【0128】これらのアルカリ剤は単独もしくは2種以
上を組み合わせて用いられる。これらのアルカリ剤の中
で特に好ましい現像液は、ケイ酸ナトリウム、ケイ酸カ
リウム等のケイ酸塩水溶液である。その理由はケイ酸塩
の成分である酸化珪素SiO2 とアルカリ金属酸化物M
2 Oの比率と濃度によって現像性の調節が可能となるた
めであり、例えば、特開昭54−62004号公報、特
公昭57−7427号に記載されているようなアルカリ
金属ケイ酸塩が有効に用いられる。
These alkaline agents are used alone or in combination of two or more. Among these alkali agents, particularly preferred developers are aqueous silicate solutions such as sodium silicate and potassium silicate. The reason is that silicate components silicon oxide SiO 2 and alkali metal oxide M
This is because the developability can be adjusted by the ratio and concentration of 2 O. For example, alkali metal silicates described in JP-A-54-62004 and JP-B-57-7427 are effective. Used for

【0129】更に自動現像機を用いて現像する場合に
は、現像液よりもアルカリ強度の高い水溶液(補充液)
を現像液に加えることによって、長時間現像タンク中の
現像液を交換する事なく、多量の平版印刷用版材を処理
できることが知られている。本発明においてもこの補充
方式が好ましく適用される。
In the case of further developing using an automatic developing machine, an aqueous solution having a higher alkali strength than the developing solution (replenisher)
It has been known that a large amount of lithographic printing plate material can be processed without replacing the developing solution in the developing tank for a long time by adding to the developing solution. This replenishment system is also preferably applied in the present invention.

【0130】現像液および補充液には現像性の促進や抑
制、現像カスの分散および印刷版画像部の親インキ性を
高める目的で必要に応じて種々の界面活性剤や有機溶剤
を添加できる。好ましい界面活性剤としては、アニオン
系、カチオン系、ノニオン系および両性界面活性剤があ
げられる。
Various surfactants and organic solvents can be added to the developing solution and the replenishing solution as needed for the purpose of accelerating or suppressing the developing property, dispersing the developing residue and improving the ink affinity of the printing plate image area. Preferred surfactants include anionic, cationic, nonionic and amphoteric surfactants.

【0131】更に現像液および補充液には必要に応じ
て、ハイドロキノン、レゾルシン、亜硫酸、亜硫酸水素
酸などの無機酸のナトリウム塩、カリウム塩等の還元
剤、更に有機カルボン酸、消泡剤、硬水軟化剤を加える
こともできる。
The developing solution and the replenisher may contain, if necessary, a reducing agent such as a sodium salt or a potassium salt of an inorganic acid such as hydroquinone, resorcin, sulfurous acid and bisulfite, an organic carboxylic acid, an antifoaming agent, and a hard water. Softeners can also be added.

【0132】上記現像液および補充液を用いて現像処理
された印刷版は水洗水、界面活性剤等を含有するリンス
液、アラビアガムや澱粉誘導体を含む不感脂化液で後処
理される。本発明の画像記録材料を印刷用版材として使
用する場合の後処理としては、これらの処理を種々組み
合わせて用いることができる。
The printing plate developed using the above developer and replenisher is post-treated with washing water, a rinsing solution containing a surfactant and the like, and a desensitizing solution containing gum arabic and a starch derivative. As the post-processing when the image recording material of the present invention is used as a printing plate material, these processings can be used in various combinations.

【0133】近年、製版・印刷業界では製版作業の合理
化および標準化のため、印刷用版材用の自動現像機が広
く用いられている。この自動現像機は、一般に現像部と
後処理部からなり、印刷用版材を搬送する装置と各処理
液槽およびスプレー装置からなり、露光済みの印刷版を
水平に搬送しながら、ポンプで汲み上げた各処理液をス
プレーノズルから吹き付けて現像処理するものである。
また、最近は処理液が満たされた処理液槽中に液中ガイ
ドロールなどによって印刷用版材を浸漬搬送させて処理
する方法も知られている。このような自動処理において
は、各処理液に処理量や稼働時間等に応じて補充液を補
充しながら処理することができる。
In recent years, in the plate making / printing industry, automatic developing machines for printing plate materials have been widely used in order to rationalize and standardize plate making operations. This automatic developing machine generally consists of a developing section and a post-processing section, and consists of a device for transporting printing plate material, each processing solution tank and a spray device, and pumps the exposed printing plate horizontally while pumping it. Each processing liquid is sprayed from a spray nozzle to perform development processing.
Recently, a method has been known in which a printing plate material is immersed and transported by a submerged guide roll or the like in a processing liquid tank filled with a processing liquid, and the processing is performed. In such an automatic processing, the processing can be performed while replenishing each processing liquid with a replenisher according to the processing amount, the operating time, and the like.

【0134】また、実質的に未使用の処理液で処理する
いわゆる使い捨て処理方式も適用できる。
Further, a so-called disposable processing method in which processing is performed with a substantially unused processing solution can also be applied.

【0135】以上のようにして得られた平版印刷版は所
望により不感脂化ガムを塗布したのち、印刷工程に供す
ることができるが、より一層の高耐刷力の平版印刷版と
したい場合にはバーニング処理が施される。
The lithographic printing plate obtained as described above can be subjected to a printing step after coating with a desensitizing gum if desired. However, when a lithographic printing plate having a higher printing durability is desired to be obtained, Is subjected to a burning process.

【0136】平版印刷版をバーニングする場合には、バ
ーニング前に特公昭61−2518号、同55−280
62号、特開昭62−31859号、同61−1596
55号の各公報に記載されているような整面液で処理す
ることが好ましい。
In the case of burning a lithographic printing plate, prior to burning, JP-B Nos. 61-2518 and 55-280.
No. 62, JP-A-62-131859 and JP-A-61-1596.
It is preferable to treat with a surface-regulating liquid as described in each of the publications No. 55.

【0137】その方法としては、該整面液を浸み込ませ
たスポンジや脱脂綿にて、平版印刷版上に塗布するか、
整面液を満たしたバット中に印刷版を浸漬して塗布する
方法や、自動コーターによる塗布などが適用される。ま
た、塗布した後でスキージ、あるいは、スキージローラ
ーで、その塗布量を均一にすることは、より好ましい結
果を与える。
[0137] As a method for this, a sponge or absorbent cotton impregnated with the surface conditioning liquid is applied onto a lithographic printing plate,
A method in which a printing plate is immersed in a vat filled with a surface-conditioning solution and applied, or an automatic coater is used. Further, it is more preferable to make the application amount uniform with a squeegee or a squeegee roller after the application.

【0138】整面液の塗布量は一般に0.03〜0.8
g/m2 (乾燥重量)が適当である。
The coating amount of the surface conditioning liquid is generally 0.03 to 0.8.
g / m 2 (dry weight) is appropriate.

【0139】整面液が塗布された平版印刷版は必要であ
れば乾燥された後、バーニングプロセッサー(たとえば
富士写真フイルム(株)より販売されているバーニング
プロセッサー:BP−1300)などで高温に加熱され
る。この場合の加熱温度及び時間は、画像を形成してい
る成分の種類にもよるが、180〜300℃の範囲で1
〜20分の範囲が好ましい。
The lithographic printing plate to which the surface conditioning liquid has been applied is dried if necessary, and then heated to a high temperature using a burning processor (for example, a burning processor: BP-1300 sold by Fuji Photo Film Co., Ltd.). Is done. The heating temperature and time in this case depend on the type of the component forming the image, but may be 1 to 180 ° C. to 300 ° C.
A range of up to 20 minutes is preferred.

【0140】バーニング処理された平版印刷版は、必要
に応じて適宜、水洗、ガム引きなどの従来より行なわれ
ている処理を施こすことができるが水溶性高分子化合物
等を含有する整面液が使用された場合にはガム引きなど
のいわゆる不感脂化処理を省略することができる。
The burned lithographic printing plate can be subjected to conventional treatments such as washing with water and gumming if necessary. However, a surface conditioning solution containing a water-soluble polymer compound or the like can be used. When is used, so-called desensitizing treatment such as gumming can be omitted.

【0141】この様な処理によって得られた平版印刷版
はオフセット印刷機等にかけられ、多数枚の印刷に用い
られる。
The lithographic printing plate obtained by such a process is set on an offset printing machine or the like and used for printing a large number of sheets.

【0142】[0142]

【実施例】以下、実施例により、本発明を詳細に説明す
るが、本発明はこれらに限定されるものではない。 [一般式(i)又は(ii)で表される構成単位の内、少
なくともいずれか一つを有するポリマーの合成]特開平
2−100053号及び特開平2−100054号明細
書を参考にして、以下に示すポリマーを合成した。重量
平均分子量(GPC、ポリスチレン標準)は、すべて1
万〜7万の範囲内であった。
The present invention will be described in detail with reference to the following examples, but the present invention is not limited to these examples. [Synthesis of polymer having at least one of structural units represented by general formula (i) or (ii)] With reference to JP-A-2-100053 and JP-A-2-100054, The following polymers were synthesized. All weight average molecular weights (GPC, polystyrene standard) are 1
It was in the range of 10,000 to 70,000.

【0143】[0143]

【化16】 Embedded image

【0144】[0144]

【化17】 Embedded image

【0145】[0145]

【化18】 Embedded image

【0146】[0146]

【化19】 Embedded image

【0147】[(B)分子内に2個以上のヒドロキシメ
チル基またはアルコキシメチル基を有し、かつベンゼン
核を3〜5個含み、さらに分子量が1,200以下であ
るフェノール誘導体の合成] (合成例B−1)1−〔α−メチル−α−(4−ヒドロ
キシフェニル)エチル〕−4−〔α,α−ビス(4−ヒ
ドロキシフェニル)エチル〕ベンゼン20g(本州化学
工業(株)製Trisp−PA)を10%水酸化カリウ
ム水溶液に加え、撹拌、溶解した。次にこの溶液を撹拌
しながら、37%ホルマリン水溶液60mlを室温下で
1時間かけて徐々に加えた。さらに室温下で6時間撹拌
した後、希硫酸水溶液に投入した。析出物をろ過し、十
分水洗した後、メタノール30mlより再結晶すること
により、下記構造のヒドロキシメチル基を有するフェノ
ール誘導体〔HM−1〕の白色粉末20gを得た。純度
は92%であった(液体クロマトグラフィー法)。
[(B) Synthesis of a phenol derivative having two or more hydroxymethyl or alkoxymethyl groups in the molecule, containing 3 to 5 benzene nuclei, and having a molecular weight of 1,200 or less] Synthesis Example B-1) 20 g of 1- [α-methyl-α- (4-hydroxyphenyl) ethyl] -4- [α, α-bis (4-hydroxyphenyl) ethyl] benzene (manufactured by Honshu Chemical Industry Co., Ltd.) Trisp-PA) was added to a 10% aqueous potassium hydroxide solution, and the mixture was stirred and dissolved. Next, while stirring this solution, 60 ml of a 37% aqueous formalin solution was gradually added at room temperature over 1 hour. After further stirring at room temperature for 6 hours, the mixture was poured into a dilute sulfuric acid aqueous solution. The precipitate was filtered, washed sufficiently with water, and recrystallized from 30 ml of methanol to obtain 20 g of a white powder of a phenol derivative having a hydroxymethyl group [HM-1] having the following structure. The purity was 92% (liquid chromatography method).

【0148】[0148]

【化20】 Embedded image

【0149】(合成例B−2)合成例B−1で得られた
ヒドロキシメチル基を有するフェノール誘導体〔HM−
1〕20gを1リットルのメタノールに加え、加熱撹拌
し、溶解した。次に、この溶液に濃硫酸1mlを加え、
12時間加熱還流した。反応終了後、反応液を冷却し、
炭酸カリウム2gを加えた。この混合物を十分濃縮した
後、酢酸エチル300mlを加えた。この溶液を水洗し
た後、濃縮乾固させることにより、下記構造のメトキシ
メチル基を有するフェノール誘導体〔MM−1〕の白色
固体22gを得た。純度は90%であった(液体クロマ
トグラフィー法)。
(Synthesis Example B-2) The phenol derivative having a hydroxymethyl group obtained in Synthesis Example B-1 [HM-
1] 20 g was added to 1 liter of methanol, heated and stirred to dissolve. Next, 1 ml of concentrated sulfuric acid was added to this solution,
The mixture was heated under reflux for 12 hours. After the reaction, cool the reaction solution,
2 g of potassium carbonate was added. After sufficiently concentrating this mixture, 300 ml of ethyl acetate was added. This solution was washed with water and concentrated to dryness to obtain 22 g of a white solid of a phenol derivative having a methoxymethyl group [MM-1] having the following structure. The purity was 90% (liquid chromatography method).

【0150】[0150]

【化21】 Embedded image

【0151】さらに、同様にして以下に示すフェノール
誘導体を合成した。
Further, the following phenol derivatives were synthesized in the same manner.

【0152】[0152]

【化22】 Embedded image

【0153】[0153]

【化23】 Embedded image

【0154】[0154]

【化24】 Embedded image

【0155】[実施例1〜10]厚さ0.30mmのア
ルミニウム板(材質1050)をトリクロロエチレン洗
浄して脱脂した後、ナイロンブラシと400メッシュの
パミストン−水懸濁液を用いその表面を砂目立てし、よ
く水で洗浄した。この板を45℃の25%水酸化ナトリ
ウム水溶液に9秒間浸漬してエッチングを行い水洗後、
更に2%HNO3に20秒間浸漬して水洗した。この時
の砂目立て表面のエッチング量は約3g/m2 であっ
た。次にこの板を7%H2 SO4 を電解液として電流密
度15A/dm2 で3g/m2 の直流陽極酸化皮膜を設
けた後、水洗乾燥した。次にこのアルミニウム板に下記
下塗り液を塗布し、80℃で30秒間乾燥した。乾燥後
の被覆量は10mg/m2 であった。 (下塗り液) β−アラニン 0.1g フェニルホスホン酸 0.05g メタノール 40g 純水 60g
[Examples 1 to 10] An aluminum plate (material 1050) having a thickness of 0.30 mm was washed with trichlorethylene and degreased, and then its surface was grained with a nylon brush and a 400 mesh pumicetone-water suspension. And washed well with water. This plate was immersed in a 25% aqueous solution of sodium hydroxide at 45 ° C. for 9 seconds to perform etching and washing with water.
It was further immersed in 2% HNO 3 for 20 seconds and washed with water. At this time, the etching amount of the grained surface was about 3 g / m 2 . Next, the plate was provided with a 3 g / m 2 DC anodic oxide film at a current density of 15 A / dm 2 using 7% H 2 SO 4 as an electrolytic solution, and then washed and dried. Next, the following undercoat liquid was applied to this aluminum plate, and dried at 80 ° C. for 30 seconds. The coating amount after drying was 10 mg / m 2 . (Undercoat liquid) β-alanine 0.1 g Phenylphosphonic acid 0.05 g Methanol 40 g Pure water 60 g

【0156】次に、下記溶液〔P〕において、本発明の
一般式(i)又は(ii)で表される構成単位の内、少な
くともいずれか一つを有するポリマー、および本発明の
フェノール誘導体の種類を変えて、10種類の溶液〔P
−1〕〜〔P−10〕を調整した。この溶液をそれぞ
れ、上記の下塗り済みのアルミニウム板に塗布し、10
0℃で1分間乾燥してネガ型平版印刷用版材〔P−1〕
〜〔P−10〕を得た。乾燥後の重量は1.7g/m2
であった。
Next, in the following solution [P], a polymer having at least one of the structural units represented by formula (i) or (ii) of the present invention and a phenol derivative of the present invention By changing the type, 10 types of solution [P
-1] to [P-10] were adjusted. Each of the solutions was applied to the above-mentioned primed aluminum plate,
Dry at 0 ° C for 1 minute to make a negative type lithographic printing plate [P-1]
To [P-10]. Weight after drying is 1.7 g / m 2
Met.

【0157】溶液〔P〕本発明の一般式(i)又は(i
i)で表される構成単位の内、 少なくともいずれか一つを有するポリマー 0.2g 本発明のフェノール誘導体 0.7g 赤外線吸収剤NK−3508 0.15g (日本感光色素研究所(株)製) フェノールとホルムアルデヒドから得られるノボラック樹脂 1.5g (重量平均分子量10000) ビクトリアピュアブルーBOHの対イオンを1−ナフタレン− スルホン酸にした染料 0.05g メガファックF−177 0.06g (大日本インキ化学工業(株)製、フッ素系界面活性剤) メチルエチルケトン 15g 1−メトキシ−2−プロパノール 5g メチルアルコール 7g 溶液〔P−1〕〜〔P−10〕に用いた化合物を表−1
に示す。
Solution [P] The general formula (i) or (i)
Polymer having at least one of the structural units represented by i) 0.2 g Phenol derivative of the present invention 0.7 g Infrared absorber NK-3508 0.15 g (manufactured by Nippon Kogaku Pigment Research Institute Co., Ltd.) Novolak resin obtained from phenol and formaldehyde 1.5 g (weight average molecular weight 10,000) Dye in which the counter ion of Victoria Pure Blue BOH is converted to 1-naphthalene-sulfonic acid 0.05 g Megafac F-177 0.06 g (Dainippon Ink Chemical (Fluorine-based surfactant manufactured by Kogyo Co., Ltd.) Methyl ethyl ketone 15 g 1-methoxy-2-propanol 5 g Methyl alcohol 7 g Compounds used in solutions [P-1] to [P-10] are shown in Table 1.
Shown in

【0158】[0158]

【表1】 [Table 1]

【0159】得られたネガ型平版印刷用版材〔P−1〕
〜〔P−10〕を、温度55℃の高温下で3日間及び5
日間保存した後、波長1064nmの赤外線を発する固
体レーザのYAGレーザで露光した。露光後、130℃
で1分間加熱処理した後、富士写真フイルム(株)製現
像液、DP−4(1:8)、リンス液FR−3(1:
7)を仕込んだ自動現像機を通して処理した。次いで富
士写真フイルム(株)製ガムGU−7(1:1)で版面
を処理し、ハイデルKOR−D機で印刷した。この際、
印刷物の非画像部に汚れが発生しているかどうかを観察
した。結果を下記表2に示す。高温下で3日間保存した
ものは、いずれも非画像部に汚れのない良好な印刷物が
得られた。一方、5日間保存した場合は、〔P−1〕〜
〔P−5〕で少し汚れが認められた。しかし、〔P−
6〕〜〔P−10〕では、非画像部に汚れのない良好な
印刷物が得られた。
The obtained negative type lithographic printing plate material [P-1]
~ [P-10] at 55 ° C for 3 days and 5
After storage for days, the substrate was exposed to a YAG laser, a solid-state laser that emits infrared rays having a wavelength of 1064 nm. 130 ° C after exposure
For 1 minute, a developer (manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd.), DP-4 (1: 8), and a rinsing solution FR-3 (1:
Processed through an automatic processor charged with 7). Subsequently, the plate surface was treated with gum GU-7 (1: 1) manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd., and printing was performed with a Heidel KOR-D machine. On this occasion,
It was observed whether or not stains had occurred on the non-image portion of the printed matter. The results are shown in Table 2 below. In all of the samples stored at a high temperature for 3 days, good prints having no stain on the non-image area were obtained. On the other hand, when stored for 5 days, [P-1] ~
In [P-5], a little stain was observed. However, [P-
6) to [P-10], good prints without stains on non-image areas were obtained.

【0160】[比較例1]実施例1〜10にて使用した
溶液〔P〕において、本発明の一般式(i)又は(ii)
で表される構成単位の内、少なくともいずれか一つを有
するポリマーの代わりに、ジフェニルヨードニウムヘキ
サフルオロホスフェート(特開平7−20629号実施
例に記載)を用い、さらに本発明のフェノール誘導体の
代わりに、ビスフェノールAとホルムアルデヒドから得
られたレゾール樹脂(重量平均分子量1600)を用
い、これら以外は実施例1〜10と同様にしてネガ型平
版印刷用版材〔Q〕を作成した。得られた平版印刷用版
材〔Q〕を、実施例1〜10と同様に温度55℃の高温
下で3日間保存した後、画像形成し印刷した。この際、
印刷物の非画像部に汚れが発生しているかどうかを観察
した。結果を下記表2に示すが、非画像部に汚れが発生
していた。
[Comparative Example 1] In the solution [P] used in Examples 1 to 10, the general formula (i) or (ii) of the present invention was used.
In place of the polymer having at least one of the structural units represented by the formula, diphenyliodonium hexafluorophosphate (described in Example of JP-A-7-20629) is used, and further, in place of the phenol derivative of the present invention. A negative type lithographic printing plate [Q] was prepared in the same manner as in Examples 1 to 10, except that a resole resin (weight average molecular weight: 1600) obtained from bisphenol A and formaldehyde was used. The obtained planographic printing plate material [Q] was stored at a high temperature of 55 ° C. for 3 days in the same manner as in Examples 1 to 10, and then an image was formed and printed. On this occasion,
It was observed whether or not stains had occurred on the non-image portion of the printed matter. The results are shown in Table 2 below. It was found that the non-image portion was stained.

【0161】尚、高温下での保存を行わなかった場合に
は、平版印刷用版材〔Q〕においても印刷時の非画像部
汚れは認められなかった。
When storage was not performed at a high temperature, no non-image portion stain was observed during printing even on the lithographic printing plate material [Q].

【0162】[比較例2]実施例1〜10にて使用した
溶液〔P〕において、本発明の一般式(i)又は(ii)
で表される構成単位の内、少なくともいずれか一つを有
するポリマーの代わりに、2,4,6−トリス(トリク
ロロメチル)−s−トリアジン(特開平7−27102
9号実施例に記載のT−1)を用い、さらに本発明のフ
ェノール誘導体の代わりに、ビスフェノールAとホルム
アルデヒドから得られたレゾール樹脂(重量平均分子量
1600)を用い、これら以外は実施例1〜10と同様
にしてネガ型平版印刷用版材〔R〕を作成した。得られ
た平版印刷用版材〔R〕を、実施例1〜10と同様に温
度55℃の高温下で3日間保存した後、画像形成し印刷
した。この際、印刷物の非画像部に汚れが発生している
かどうかを観察した。結果を下記表2に示すが、非画像
部に汚れが発生していた。なお、高温下での保存を行わ
なかった場合には、平版印刷用版材〔R〕においても印
刷時の非画像部汚れは認められなかった。
[Comparative Example 2] In the solution [P] used in Examples 1 to 10, the general formula (i) or (ii) of the present invention was used.
2,4,6-tris (trichloromethyl) -s-triazine (JP-A-7-27102), instead of the polymer having at least one of the structural units represented by
T-1) described in Example No. 9 and a resole resin (weight average molecular weight 1600) obtained from bisphenol A and formaldehyde were used in place of the phenol derivative of the present invention. In the same manner as in No. 10, a negative type lithographic printing plate material [R] was prepared. The obtained planographic printing plate material [R] was stored at a high temperature of 55 ° C. for 3 days in the same manner as in Examples 1 to 10, and then an image was formed and printed. At this time, it was observed whether or not stains occurred on the non-image portion of the printed matter. The results are shown in Table 2 below. It was found that the non-image portion was stained. When storage at high temperature was not performed, no non-image portion stain was observed during printing even on the lithographic printing plate material [R].

【0163】[0163]

【表2】 [Table 2]

【0164】表2に示すように、実施例1〜10及び比
較例1、2の評価結果より、本発明のネガ型画像記録材
料を用いた平版印刷用版材は、高温下での保存安定性に
優れていることがわかる。さらに、ヒドロキシメチル基
を有するフェノール誘導体を用いるよりも、アルコキシ
メチル基を有するフェノール誘導体を用いた方が、高温
下での保存安定性がより優れていることがわかる。
As shown in Table 2, from the evaluation results of Examples 1 to 10 and Comparative Examples 1 and 2, the lithographic printing plate using the negative type image recording material of the present invention was found to be stable in storage at high temperatures. It turns out that it is excellent. Furthermore, it turns out that the storage stability at high temperature is more excellent when using the phenol derivative which has an alkoxymethyl group than when using the phenol derivative which has a hydroxymethyl group.

【0165】[実施例11〜21]下記溶液〔S〕にお
いて、本発明の一般式(i)又は(ii)で表される構成
単位の内、少なくともいずれか一つを有するポリマー、
および本発明のフェノール誘導体の種類を変えて、11
種類の溶液〔S−1〕〜〔S−11〕を調整した。この
溶液をそれぞれ、[実施例1〜10]で用いた下塗り済
みのアルミニウム板に塗布し、100℃で1分間乾燥し
てネガ型平版印刷用版材〔S−1〕〜〔S−11〕を得
た。乾燥後の重量は1.7g/m2 であった。
[Examples 11 to 21] In the following solution [S], a polymer having at least one of the structural units represented by formula (i) or (ii) of the present invention,
By changing the type of the phenol derivative of the present invention, 11
Various types of solutions [S-1] to [S-11] were prepared. Each of the solutions was applied to the undercoated aluminum plate used in [Examples 1 to 10], dried at 100 ° C. for 1 minute, and used for negative-working lithographic printing plates [S-1] to [S-11]. I got The weight after drying was 1.7 g / m2.

【0166】溶液〔S〕本発明の一般式(i)又は(i
i)で表される構成単位の内、 少なくともいずれか一つを有するポリマー 0.2g 本発明のフェノール誘導体 0.7g 赤外線吸収剤NK−2014 0.15g (日本感光色素研究所(株)製) フェノールとホルムアルデヒドから得られるノボラック樹脂 1.5g (重量平均分子量10000) ビクトリアピュアブルーBOHの対イオンを1−ナフタレン− スルホン酸にした染料 0.03g メガファックF−177 0.06g (大日本インキ化学工業(株)製、フッ素系界面活性剤) メチルエチルケトン 15g 1−メトキシ−2−プロパノール 5g メチルアルコール 7g 溶液〔S−1〕〜〔S−11〕に用いた化合物を表−3
に示す。
Solution [S] The general formula (i) or (i)
Polymer having at least one of the structural units represented by i) 0.2 g Phenol derivative of the present invention 0.7 g Infrared absorber NK-2014 0.15 g (manufactured by Japan Photographic Dye Laboratories) Novolak resin obtained from phenol and formaldehyde 1.5 g (weight average molecular weight 10,000) Dye in which the counter ion of Victoria Pure Blue BOH was converted to 1-naphthalene-sulfonic acid 0.03 g Megafac F-177 0.06 g (Dainippon Ink Chemical (Fluorine-based surfactant manufactured by Kogyo Co., Ltd.) Methyl ethyl ketone 15 g 1-methoxy-2-propanol 5 g Methyl alcohol 7 g Compounds used in solutions [S-1] to [S-11] are shown in Table-3.
Shown in

【0167】[0167]

【表3】 [Table 3]

【0168】得られたネガ型平版印刷用版材〔S−1〕
〜〔S−11〕を、温度55℃の高温下で3日間及び5
日間保存した後、波長830nmの赤外線を発する半導
体レーザで露光した。露光後、130℃で1分間加熱処
理した後、富士写真フイルム(株)製現像液、DP−4
(1:8)、リンス液FR−3(1:7)を仕込んだ自
動現像機を通して処理した。次いで富士写真フイルム
(株)製ガムGU−7(1:1)で版面を処理し、ハイ
デルKOR−D機で印刷した。この際、印刷物の非画像
部に汚れが発生しているかどうかを観察した。結果を下
記表4に示す。高温下で3日間保存したものは、いずれ
も非画像部に汚れのない良好な印刷物が得られた。一
方、5日間保存した場合は、〔S−1〕〜〔S−5〕で
少し汚れが認められた。また〔S−11〕では、〔S−
1〕〜〔S−5〕に比べ程度は軽いもののわずかに汚れ
が認められた。しかし、〔S−6〕〜〔S−10〕で
は、非画像部に汚れのない良好な印刷物が得られた。
The obtained negative type lithographic printing plate material [S-1]
~ [S-11] at 55 ° C for 3 days and 5
After storage for days, the substrate was exposed to a semiconductor laser emitting infrared light having a wavelength of 830 nm. After the exposure, a heat treatment was performed at 130 ° C. for 1 minute, and a developer, DP-4, manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd.
(1: 8), and processed through an automatic developing machine charged with a rinsing liquid FR-3 (1: 7). Subsequently, the plate surface was treated with gum GU-7 (1: 1) manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd., and printing was performed with a Heidel KOR-D machine. At this time, it was observed whether or not stains occurred on the non-image portion of the printed matter. The results are shown in Table 4 below. In all of the samples stored at a high temperature for 3 days, good prints having no stain on the non-image area were obtained. On the other hand, when stored for 5 days, some stains were observed in [S-1] to [S-5]. In [S-11], [S-
1) to [S-5], although slightly lighter, slightly stained. However, in [S-6] to [S-10], a good printed matter having no stain on the non-image portion was obtained.

【0169】[比較例3]実施例11〜21にて使用し
た溶液〔S〕において、本発明の一般式(i)又は(i
i)で表される構成単位の内、少なくともいずれか一つ
を有するポリマーの代わりに、ジフェニルヨードニウム
ヘキサフルオロホスフェート(特開平7−20629号
実施例に記載)を用い、さらに本発明のフェノール誘導
体の代わりに、ビスフェノールAとホルムアルデヒドか
ら得られたレゾール樹脂(重量平均分子量1600)を
用い、これら以外は実施例11〜21と同様にしてネガ
型平版印刷用版材〔T〕を作成した。得られた平版印刷
用版材〔T〕を、実施例11〜21と同様に温度55℃
の高温下で3日間保存した後、画像形成し印刷した。こ
の際、印刷物の非画像部に汚れが発生しているかどうか
を観察した。結果を下記表4に示すが、非画像部に汚れ
が発生していた。
[Comparative Example 3] In the solution [S] used in Examples 11 to 21, the general formula (i) or (i)
In place of the polymer having at least one of the structural units represented by i), diphenyliodonium hexafluorophosphate (described in Example of JP-A-7-20629) is used, and the phenol derivative of the present invention is further used. Instead, a resole resin (weight average molecular weight: 1600) obtained from bisphenol A and formaldehyde was used, and a negative type planographic printing plate [T] was prepared in the same manner as in Examples 11 to 21 except for these. The obtained lithographic printing plate material [T] was treated at a temperature of 55 ° C. in the same manner as in Examples 11 to 21.
After storage at a high temperature for 3 days, an image was formed and printed. At this time, it was observed whether or not stains occurred on the non-image portion of the printed matter. The results are shown in Table 4 below. It was found that the non-image portion was stained.

【0170】尚、高温下での保存を行わなかった場合に
は、平版印刷用版材〔T〕においても印刷時の非画像部
汚れは認められなかった。
In the case where storage was not performed at a high temperature, no non-image portion stain was observed during printing even on the lithographic printing plate material [T].

【0171】[比較例4]実施例11〜21にて使用し
た溶液〔S〕において、本発明の一般式(i)又は(i
i)で表される構成単位の内、少なくともいずれか一つ
を有するポリマーの代わりに、2,4,6−トリス(ト
リクロロメチル)−s−トリアジン(特開平7−271
029号実施例に記載のT−1)を用い、さらに本発明
のフェノール誘導体の代わりに、ビスフェノールAとホ
ルムアルデヒドから得られたレゾール樹脂(重量平均分
子量1600)を用い、これら以外は実施例11〜21
と同様にしてネガ型平版印刷用版材〔U〕を作成した。
得られた平版印刷用版材〔U〕を、実施例11〜21と
同様に温度55℃の高温下で3日間保存した後、画像形
成し印刷した。この際、印刷物の非画像部に汚れが発生
しているかどうかを観察した。結果を表−4に示すが、
非画像部に汚れが発生していた。 尚、高温下での保存
を行わなかった場合には、平版印刷用版材〔U〕におい
ても印刷時の非画像部汚れは認められなかった。
[Comparative Example 4] In the solution [S] used in Examples 11 to 21, the general formula (i) or (i)
Instead of a polymer having at least one of the structural units represented by i), 2,4,6-tris (trichloromethyl) -s-triazine (JP-A-7-271)
No. 029), and a resole resin (weight average molecular weight: 1600) obtained from bisphenol A and formaldehyde was used in place of the phenol derivative of the present invention. 21
A negative type lithographic printing plate material [U] was prepared in the same manner as described above.
The obtained lithographic printing plate material [U] was stored at a high temperature of 55 ° C. for 3 days in the same manner as in Examples 11 to 21, and then an image was formed and printed. At this time, it was observed whether or not stains occurred on the non-image portion of the printed matter. Table 4 shows the results.
The non-image portion was stained. When storage was not performed at a high temperature, no non-image portion stains were observed during printing even on the lithographic printing plate material [U].

【0172】[0172]

【表4】 [Table 4]

【0173】表4に明らかなように、実施例11〜21
及び比較例3、4の評価結果より、本発明のネガ型画像
記録材料を用いた平版印刷用版材は、高温下での保存安
定性に優れていることがわかる。さらに、ヒドロキシメ
チル基を有するフェノール誘導体を用いるよりも、アル
コキシメチル基を有するフェノール誘導体を用いた方
が、高温下での保存安定性がより優れていることがわか
る。
As is clear from Table 4, Examples 11 to 21
From the evaluation results of Comparative Examples 3 and 4, it can be seen that the lithographic printing plate material using the negative image recording material of the present invention has excellent storage stability at high temperatures. Furthermore, it turns out that the storage stability at high temperature is more excellent when using the phenol derivative which has an alkoxymethyl group than when using the phenol derivative which has a hydroxymethyl group.

【0174】[0174]

【発明の効果】本発明によれば、赤外線を放射する固体
レーザ及び半導体レーザを用いて記録することにより、
コンピューター等のデジタルデータから直接製版可能で
あり、さらに保存時の安定性、特に高温下での保存安定
性に優れているネガ型平版印刷用版材として有用なネガ
型画像記録材料を提供できる。
According to the present invention, recording is performed using a solid-state laser and a semiconductor laser that emit infrared light.
It is possible to provide a negative image recording material which can be directly made from digital data from a computer or the like, and is useful as a negative lithographic printing plate material having excellent storage stability, particularly excellent storage stability at high temperatures.

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 下記(A)〜(D)よりなることを特徴
とするネガ型画像記録材料。 (A)下記一般式(i)又は(ii)で表される構成単位
のうち、少なくともいずれか1種を有するポリマー、 【化1】 (式中、R1 は水素原子または置換基を有していても良
い炭素原子数20以下の炭化水素基を示し、R2 は単結
合または置換基を有していても良い炭素原子数20以下
の2価の炭化水素基を示し、R3 は置換基を有していて
も良い炭素原子数20以下の炭化水素基を示す。Arは
置換基を有していても良い炭素原子数20以下のアリー
ル基を示す。Xは単結合、−CO−O−または−CO−
NR14−を示し、ここで、R14は水素原子または置換基
を有していても良い炭素原子数20以下の炭化水素基を
示す。Yは水素原子または置換基を有していても良い炭
素原子数20以下の炭化水素基、−C(=XY )−R15
又は−N=N−R16を示す。ここで、R15は置換基を有
していても良い炭素原子数20以下の炭化水素基を示
し、R16は置換基を有していても良い炭素原子数20以
下の炭化水素基を示す。XY はO、S又はN−R17を示
し、R17は置換基を有していても良い炭素原子数20以
下の炭化水素基を示す。なお、R3 、R14、R15、R16
及びR17のうちいずれか2つが連結して環を形成してい
てもよい。) (B)分子内にベンゼン環に連結している2個以上のヒ
ドロキシメチル基またはアルコキシメチル基を有し、且
つ、置換基を有していてもよいベンゼン環を3〜5個含
むフェノール誘導体の少なくとも1種、 (C)赤外線吸収剤、 (D)ノボラック樹脂の少なくとも1種。
1. A negative image recording material comprising: (A) to (D): (A) a polymer having at least one of the structural units represented by the following general formula (i) or (ii): (Wherein, R 1 represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 20 or less carbon atoms which may have a substituent, and R 2 represents a single bond or a carbon atom having 20 carbon atoms which may have a substituent. The following divalent hydrocarbon groups are shown, and R 3 is an optionally substituted hydrocarbon group having 20 or less carbon atoms, and Ar is an optionally substituted hydrocarbon group having 20 carbon atoms. The following aryl groups are represented, where X is a single bond, -CO-O- or -CO-.
NR 14 - indicates, wherein, R 14 represents a hydrogen atom or have a substituent having 20 or less good carbon atoms hydrocarbon group. Y is a hydrogen atom or an optionally substituted hydrocarbon group having 20 or less carbon atoms, -C (= X Y ) -R 15
Or, -N = NR 16 is shown. Here, R 15 represents a hydrocarbon group having 20 or less carbon atoms which may have a substituent, and R 16 represents a hydrocarbon group having 20 or less carbon atoms which may have a substituent. . X Y is O, S or N-R 17, R 17 represents a hydrocarbon group having up to good 20 carbon atoms which may have a substituent. Note that R 3 , R 14 , R 15 , and R 16
And any two of R 17 may be linked to form a ring. (B) A phenol derivative having two or more hydroxymethyl or alkoxymethyl groups linked to a benzene ring in the molecule and containing 3 to 5 benzene rings which may have a substituent. (C) an infrared absorber, and (D) at least one novolak resin.
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JP2000347411A (en) * 1999-06-08 2000-12-15 Matsushita Electric Ind Co Ltd Pattern forming material and pattern forming method
WO2016072049A1 (en) * 2014-11-07 2016-05-12 サンアプロ株式会社 Sulfonate compound, photoacid generator, and photolithographic resin composition

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