JPH11218903A - Negative image recording material - Google Patents

Negative image recording material

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JPH11218903A
JPH11218903A JP10022404A JP2240498A JPH11218903A JP H11218903 A JPH11218903 A JP H11218903A JP 10022404 A JP10022404 A JP 10022404A JP 2240498 A JP2240498 A JP 2240498A JP H11218903 A JPH11218903 A JP H11218903A
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JP
Japan
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group
substituent
acid
weight
embedded image
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JP10022404A
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Japanese (ja)
Inventor
Keitaro Aoshima
桂太郎 青島
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Fujifilm Holdings Corp
Original Assignee
Fuji Photo Film Co Ltd
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Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a negative image recording material suitable for an excellent negative lithographic printing plate which can be directly processed into a printing plate by using an IR laser or the like, namely, which enables so-called direct plate making, and which has no void in an image in the image forming process after exposure to laser light. SOLUTION: This negative image forming material contains (A) a compd. which decomposes by light or heat to produce an acid, (B) a crosslinking agent which crosslinks with an acid. (C) at least one kind of alkali-soluble resin, (D) an IR absorbent, and (E) a polymer compd. having as copolymer components of (1) a component having at least fluorine atoms. (2) a component having acidic hydrogen atoms, and (3) a component showing lipophilicity.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、平版印刷用版材と
して使用できる画像記録材料に関し、特にコンピュータ
等のデジタル信号から赤外線レーザを用いて直接製版可
能な、いわゆるダイレクト製版可能な平版印刷用版材用
のネガ型画像記録材料に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an image recording material which can be used as a lithographic printing plate material, and more particularly to a lithographic printing plate capable of directly making a lithographic printing plate from a digital signal of a computer or the like by using an infrared laser. The present invention relates to a negative type image recording material for materials.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年におけるレーザの発展は目ざまし
く、特に波長760nm〜1200nmの赤外線を放射
する固体レーザ及び半導体レーザは、高出力かつ小型の
ものが容易に入手できる様になっている。コンピュータ
等のデジタルデータから直接製版する際の記録光源とし
て、これらのレーザは非常に有用である。しかし、実用
上有用な多くの感光性記録材料は、感光波長が760n
m以下の可視光域であるため、これらの赤外線レーザで
は画像記録できない。このため、赤外線レーザで記録可
能な材料が望まれている。
2. Description of the Related Art Lasers have been remarkably developed in recent years. In particular, solid-state lasers and semiconductor lasers which emit infrared rays having wavelengths of 760 nm to 1200 nm can be easily obtained with high output and small size. These lasers are very useful as a recording light source when making a plate directly from digital data of a computer or the like. However, many photosensitive recording materials that are practically useful have a photosensitive wavelength of 760 n.
m or less, the image cannot be recorded with these infrared lasers. Therefore, a material that can be recorded by an infrared laser is desired.

【0003】このような赤外線レーザにて記録可能な画
像記録材料としては、特開平7−20629公報に記
載されている、オニウム塩、レゾール樹脂、ノボラック
樹脂、及び赤外線吸収剤よりなる記録材料がある。ま
た、特開平7−271029公報には、ハロアルキル
置換されたs−トリアジン、レゾール樹脂、ノボラック
樹脂、及び赤外線吸収剤より成る記録材料が記載されて
いる。しかしながら、これらの画像記録材料を用いた平
版印刷用版材を扱うときに付着する指紋等の汚れのた
め、レーザ露光後の画像形成において、画像抜けが生じ
るといった問題があった。
As an image recording material recordable by such an infrared laser, a recording material comprising an onium salt, a resole resin, a novolak resin, and an infrared absorber described in JP-A-7-20629 . is there. JP-A-7-271029, haloalkyl substituted s- triazine, resole resins, novolac resins, and more made recording material infrared absorber are described. However, there is a problem in that, when handling a lithographic printing plate material using such an image recording material, smudges such as fingerprints attached thereto cause image omission in image formation after laser exposure.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】本発明は、前記従来に
おける諸問題を解決し、以下の目的を達成することを課
題とする。即ち、赤外線を放射する固体レーザ及び半導
体レーザを用いて記録することにより、コンピューター
等のデジタルデータから直接製版可能であり、レーザ露
光後の画像形成において、画像抜けがない優れたネガ型
平版印刷用版材に適するネガ型画像記録材料を提供する
ことを目的とする。
SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to solve the above-mentioned conventional problems and achieve the following objects. That is, by recording using a solid-state laser and a semiconductor laser that emit infrared light, plate making can be performed directly from digital data of a computer or the like, and in image formation after laser exposure, excellent negative lithographic printing without image omission. An object of the present invention is to provide a negative type image recording material suitable for a plate material.

【0005】[0005]

【課題を解決するための手段】前記課題を解決するため
の手段は、以下の通りである。即ち、下記(A)〜
(E)を含有してなることを特徴とするネガ型画像記録
材料、(A)光又は熱により分解して酸を発生する化合
物、(B)酸により架橋する架橋剤、(C)アルカリ可
溶性樹脂の少なくとも1種、(D)赤外線吸収剤、
(E)少なくとも下記成分(1)〜(3)を共重合成分
として含む高分子化合物(以下、「含フッ素共重合ポリ
マー」と称する場合がある。)、成分(1)炭素原子上
の水素原子がフッ素原子で置換されているフルオロ脂肪
族基を有する付加重合可能なモノマー、成分(2)下記
の構造式〔1〕〜〔4〕で示されるモノマーから選ばれ
る少なくとも1種、成分(3)下記の構造式〔5〕〜
〔8〕で示されるモノマーから選ばれる少なくとも1
種。
Means for solving the above problems are as follows. That is, (A)
(E) a negative type image recording material, (A) a compound capable of decomposing by light or heat to generate an acid, (B) a crosslinking agent capable of crosslinking by an acid, and (C) an alkali-soluble material. At least one kind of resin, (D) an infrared absorber,
(E) a polymer compound containing at least the following components (1) to (3) as a copolymer component (hereinafter sometimes referred to as a “fluorine-containing copolymer”), and component (1) a hydrogen atom on a carbon atom Is an addition-polymerizable monomer having a fluoroaliphatic group substituted by a fluorine atom, component (2) at least one selected from monomers represented by the following structural formulas [1] to [4], component (3) The following structural formulas [5] to
At least one selected from monomers represented by [8]
seed.

【0006】[0006]

【化3】 Embedded image

【0007】前記構造式〔1〕〜〔4〕中、Aは、水素
原子、ハロゲン原子又はアルキル基を表す。Wは、酸素
原子、又は−NR3 −を表す。R3 は、水素原子、アル
キル基又はアリール基を表す。R1 は、置換基を有して
いてもよいアルキレン基、又は置換基を有していてもよ
いアリーレン基を表す。R2 は、水素原子、アルキル基
又はアリール基を表す。R4 は、アルキル基又はアリー
ル基を表す。Y及びZは、置換基を有していてもよいア
リーレン基を表し、Y及びZは、同一であってもよいし
異なっていてもよい。Xは、連結基であり、炭素、窒
素、酸素、硫黄、ハロゲン及び水素原子から選択される
原子からなる2価の有機基を表す。mは、0〜1の整数
を、nは、1〜3の整数を表す。
In the above structural formulas [1] to [4], A represents a hydrogen atom, a halogen atom or an alkyl group. W represents an oxygen atom or —NR 3 —. R 3 represents a hydrogen atom, an alkyl group or an aryl group. R 1 represents an alkylene group which may have a substituent or an arylene group which may have a substituent. R 2 represents a hydrogen atom, an alkyl group or an aryl group. R 4 represents an alkyl group or an aryl group. Y and Z represent an arylene group which may have a substituent, and Y and Z may be the same or different. X is a linking group, and represents a divalent organic group consisting of atoms selected from carbon, nitrogen, oxygen, sulfur, halogen and hydrogen atoms. m represents an integer of 0 to 1, and n represents an integer of 1 to 3.

【0008】[0008]

【化4】 Embedded image

【0009】前記構造式〔5〕〜〔8〕中、Wは、酸素
原子、又は−NR3 −を表す。R3は、水素原子、アル
キル基又はアリール基を表す。R5 は、置換基を有して
いてもよいアルキル基、又は置換基を有していてもよい
アリール基を表す。R6 は、アルキル基又はアリール基
を表す。Uは、シアノ基、アリール基、アルコキシ基、
アリールオキシ基、アシルオキシメチル基、若しくは窒
素原子を含むヘテロ環、又は−CH2 OCOR6 (R6
は上記と同義である。)を表す。Aは、前記構造式
〔1〕〜〔4〕で表されるものと同義である。
In the above structural formulas [5] to [8], W represents an oxygen atom or -NR 3- . R 3 represents a hydrogen atom, an alkyl group or an aryl group. R 5 represents an alkyl group which may have a substituent or an aryl group which may have a substituent. R 6 represents an alkyl group or an aryl group. U is a cyano group, an aryl group, an alkoxy group,
An aryloxy group, an acyloxymethyl group, or a heterocycle containing a nitrogen atom, or —CH 2 OCOR 6 (R 6
Is as defined above. ). A has the same meaning as that represented by the structural formulas [1] to [4].

【0010】本発明のネガ型画像記録材料においては、
赤外線を放射する固体レーザ及び半導体レーザにより付
与されたエネルギーが、(D)赤外線吸収剤によって熱
エネルギーに変換され、その熱によって(A)光又は熱
により分解して酸を発生する化合物が分解して酸を発生
し、この酸が、(B)酸により架橋する架橋剤と(C)
アルカリ可溶性樹脂の少なくとも1種との架橋反応を促
進することにより画像記録が、即ち記録材料の製版が行
われるものであるが、この反応系中に(E)含フッ素共
重合ポリマーを存在させると、ネガ型画像記録材料から
得られる平版印刷用版材の画像形成において、画像抜け
がなくなる。そのメカニズムは不明であるが、(E)含
フッ素共重合ポリマーが、平版印刷用版材の表面エネル
ギーを下げるのと同時に、該平版印刷用版材中の水分の
進入を押さえているものと推測される。
In the negative type image recording material of the present invention,
The energy given by the solid-state laser and the semiconductor laser emitting infrared light is converted into thermal energy by the infrared absorber (D), and the heat (A) decomposes by light or heat to decompose the compound that generates an acid. (B) a cross-linking agent cross-linked by the acid and (C)
Image recording, that is, plate making of a recording material is performed by accelerating a crosslinking reaction with at least one kind of an alkali-soluble resin. When (E) a fluorine-containing copolymer is present in this reaction system, In image formation of a lithographic printing plate material obtained from a negative image recording material, image omission is eliminated. Although the mechanism is unknown, it is speculated that (E) the fluorinated copolymer lowers the surface energy of the lithographic printing plate material and at the same time suppresses the ingress of moisture in the lithographic printing plate material. Is done.

【0011】[0011]

【発明の実施の形態】以下、本発明のネガ型画像記録材
料における成分などについて詳細に説明するが、まず、
本発明の重要な成分である(E)含フッ素共重合ポリマ
ーについて説明する。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Hereinafter, components and the like in a negative type image recording material of the present invention will be described in detail.
The (E) fluorine-containing copolymer which is an important component of the present invention will be described.

【0012】[(E)含フッ素共重合ポリマー]本発明
において、含フッ素共重合ポリマーは、フッ素原子を有
する成分(1)と酸性水素原子を有する成分(2)と親
油性を示す成分(3)とを少なくとも共重合成分として
含む共重合体を高分子化合物である。
[(E) Fluorine-Containing Copolymer] In the present invention, the fluorine-containing copolymer is composed of a component (1) having a fluorine atom, a component (2) having an acidic hydrogen atom, and a component (3) having lipophilicity. Is a polymer compound containing at least a) as a copolymer component.

【0013】前記成分(1)は、炭素原子上の水素原子
がフッ素原子で置換されているフルオロ脂肪族基を有す
る付加重合可能なモノマーである。
The component (1) is an addition-polymerizable monomer having a fluoroaliphatic group in which a hydrogen atom on a carbon atom is replaced by a fluorine atom.

【0014】前記成分(1)で表されるモノマーにおい
て、炭素原子上の水素原子がフッ素原子で置換されてい
るフルオロ脂肪族基とは、通常、1価、若しくは2価の
直鎖、分岐鎖、又は環式の飽和脂肪族基を意味する。前
記フルオロ脂肪族基としては、本発明の目的を十分に達
成させる観点から、その炭素数が3〜20が好ましく6
〜12がより好ましく、かつ炭素原子に結合したフッ素
原子が40重量%以上であるのが好ましく、50重量%
以上であるのがより好ましい。好適なフルオロ脂肪族基
としては、Cn 2n+1−(nは、通常、1以上の整数で
あり、3以上の整数が好ましい。)のように実質上完全
に又は十分にフッ素化されたパーフルオロ脂肪族基(以
下、「Rf」と記す場合がある。)である。
In the monomer represented by the component (1), a fluoroaliphatic group in which a hydrogen atom on a carbon atom is substituted by a fluorine atom is usually a monovalent or divalent linear or branched chain. Or a cyclic saturated aliphatic group. The fluoroaliphatic group preferably has 3 to 20 carbon atoms from the viewpoint of sufficiently achieving the object of the present invention.
-12 is more preferable, and the fluorine atom bonded to the carbon atom is preferably 40% by weight or more, and 50% by weight
More preferably. Suitable fluoroaliphatic group, C n F 2n + 1 - ( in n, usually an integer of 1 or more, 3 or more preferably an integer.) Are substantially completely or fully fluorinated as Perfluoroaliphatic group (hereinafter sometimes referred to as “Rf”).

【0015】前記成分(1)で表されるモノマーにおい
て、付加重合性モノマー部としては、ラジカル重合可能
な不飽和基を持つビニル単量体が挙げられ、その中でも
アクリレート、メタクリレート、アクリルアミド、メタ
クリルアミド、スチレン系、ビニル系等が好ましい。
In the monomer represented by the component (1), examples of the addition-polymerizable monomer portion include a vinyl monomer having a radically polymerizable unsaturated group. Among them, acrylate, methacrylate, acrylamide, methacrylamide Styrene-based, vinyl-based and the like.

【0016】前記成分(1)で表されるモノマーにおい
て、前記フルオロ脂肪族基が付加重合したアクリレー
ト、メタクリレートの具体例としては、例えば、Rf−
R’−OOC−C(R”)=CH2 (ここでR’は、例
えば、単結合、アルキレン基、スルホンアミドアルキレ
ン基、又はカルボンアミドアルキレン基を表す。R”
は、水素原子、メチル基、ハロゲン原子、又はパーフル
オロ脂肪族基を表す。)で表される化合物が挙げられ
る。
In the monomer represented by the component (1), specific examples of acrylates and methacrylates obtained by addition polymerization of the fluoroaliphatic group include, for example, Rf-
R'-OOC-C (R " ) = CH 2 ( wherein R ', for example, a single bond, .R representing an alkylene group, a sulfonamide alkylene group, or a carbonamido alkylene group"
Represents a hydrogen atom, a methyl group, a halogen atom, or a perfluoroaliphatic group. )).

【0017】前記成分(1)で表されるモノマーの具体
例としては、例えば米国特許第2803615号、同第
2642416号、同第2826564号、同第310
2103号、同第3282905号、同第330427
8号の各明細書、特開平6−256289、特開昭62
−1116、特開昭62−48772、特開昭63−7
7574、特開昭62−36657の各公報に記載のも
の、及び日本化学会誌1985(No.10)1884
〜1888頁に記載のものが挙げられる。また、これら
のフルオロ脂肪族基が結合したモノマーのほかにも、R
eports Res.Lab.AsahiG1ass
Co.,Ltd.34巻1984年、27〜34頁に
記載のフルオロ脂肪族基が結合したマクロマーも挙げら
れる。また、前記フルオロ脂肪族基が付加重合したモノ
マーとしては、下記構造式に示すような、パーフルオロ
アルキル基等の長さの異なるモノマーの混合物であって
もよい。
Specific examples of the monomer represented by the component (1) include, for example, US Pat. Nos. 2,803,615, 2,642,416, 2,826,564 and 310.
No. 2103, No. 3282905, No. 330427
No. 8, each of JP-A-6-256289 and JP-A-62-1987.
-1116, JP-A-62-48772, JP-A-63-7
7574, those described in JP-A-62-36657, and the journal of the Chemical Society of Japan 1985 (No. 10) 1884.
〜1888. In addition to the monomers to which these fluoroaliphatic groups are bonded, R
reports Res. Lab. Asahi G1ass
Co. , Ltd. 34, 1984, pp. 27-34. The monomer obtained by addition polymerization of the fluoroaliphatic group may be a mixture of monomers having different lengths such as a perfluoroalkyl group as shown in the following structural formula.

【0018】[0018]

【化5】 Embedded image

【0019】本発明において、前記成分(1)の含有率
としては、前記含フッ素共重合ポリマーの全重量に対し
て、3〜70重量%が好ましく、7〜40重量%がより
好ましい。前記含有率が3重量%未満であると、耐指紋
性が劣ることがあり、また、70重量%を超えると、画
像記録材料の現像性が低下し、非画像部が現像不良とな
ることがあるためいずれも好ましくない。また、前記成
分(1)は、1種単独で使用してもよいし、2種以上を
併用してもよい。
In the present invention, the content of the component (1) is preferably from 3 to 70% by weight, more preferably from 7 to 40% by weight, based on the total weight of the fluorinated copolymer. When the content is less than 3% by weight, fingerprint resistance may be poor. When the content is more than 70% by weight, the developability of the image recording material may be reduced, and the non-image portion may have poor development. Both are not preferred. The component (1) may be used alone or in combination of two or more.

【0020】前記成分(2)は、下記構造式〔1〕〜
〔4〕で表されるモノマーである。
The component (2) has the following structural formula [1] to
It is a monomer represented by [4].

【0021】[0021]

【化6】 Embedded image

【0022】前記構造式〔1〕〜〔4〕中、Aは、水素
原子、ハロゲン原子又はアルキル基を表す。Wは、酸素
原子、又は−NR3 −を表す。R3 は、水素原子、アル
キル基又はアリール基を表す。R1 は、置換基を有して
いてもよいアルキレン基、又は置換基を有していてもよ
いアリーレン基を表す。R2 は、水素原子、アルキル基
又はアリール基を表す。R4 は、アルキル基又はアリー
ル基を表す。Y及びZは、置換基を有していてもよいア
リーレン基を表し、Y及びZは、同一であってもよいし
異なっていてもよい。Xは、連結基であり、炭素、窒
素、酸素、硫黄、ハロゲン及び水素原子から選択される
原子からなる2価の有機基を表す。mは、0〜1の整数
を、nは、1〜3の整数を表す。
In the above structural formulas [1] to [4], A represents a hydrogen atom, a halogen atom or an alkyl group. W represents an oxygen atom or —NR 3 —. R 3 represents a hydrogen atom, an alkyl group or an aryl group. R 1 represents an alkylene group which may have a substituent or an arylene group which may have a substituent. R 2 represents a hydrogen atom, an alkyl group or an aryl group. R 4 represents an alkyl group or an aryl group. Y and Z represent an arylene group which may have a substituent, and Y and Z may be the same or different. X is a linking group, and represents a divalent organic group consisting of atoms selected from carbon, nitrogen, oxygen, sulfur, halogen and hydrogen atoms. m represents an integer of 0 to 1, and n represents an integer of 1 to 3.

【0023】前記構造式〔1〕〜〔4〕中、Aは、水素
原子、ハロゲン原子又は炭素数1〜4のアルキル基が好
ましい。Wは、−NR3 −が好ましい。R3 は、水素原
子、炭素数1〜20のアルキル基、又は炭素数6〜20
のアリール基が好ましい。R 1 は、置換基を有していて
もよい炭素数1〜12のアルキレン基、又は置換基を有
していてもよい炭素数6〜20のアリーレン基が好まし
い。R2 は、水素原子、炭素数1〜20のアルキル基、
又は炭素数6〜20のアリール基が好ましい。R4 は、
炭素数1〜20のアルキル基又は炭素数6〜20のアリ
ール基が好ましい。Y及びZは、炭素数6〜20のアリ
ーレン基が好ましい。
In the structural formulas [1] to [4], A represents hydrogen
An atom, a halogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms is preferable.
Good. W is -NRThree-Is preferred. RThreeIs a hydrogen source
, An alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, or 6 to 20 carbon atoms
Are preferred. R 1Has a substituent
Having an alkylene group having 1 to 12 carbon atoms or a substituent.
An arylene group having 6 to 20 carbon atoms which may be
No. RTwoIs a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms,
Alternatively, an aryl group having 6 to 20 carbon atoms is preferable. RFourIs
An alkyl group having 1 to 20 carbon atoms or an ant having 6 to 20 carbon atoms
Preferred are hydroxyl groups. Y and Z are ants having 6 to 20 carbon atoms.
An -lene group is preferred.

【0024】また、前記構造式〔1〕及び〔2〕におい
ては、Aは、水素原子、又はメチル基がより好ましい。
2 は、水素原子、メチル、エチル、イソプロピルなど
の炭素数1〜20のアルキル基、又はフェニル、ナフチ
ルなどの炭素数6〜18のアリール基がより好ましい。
1 及びYは、フェニレン、ナフチレン等の炭素数6〜
12のアリーレン基がより好ましい。
In the structural formulas [1] and [2], A is more preferably a hydrogen atom or a methyl group.
R 2 is more preferably a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms such as methyl, ethyl and isopropyl, or an aryl group having 6 to 18 carbon atoms such as phenyl and naphthyl.
R 1 and Y each have 6 to 6 carbon atoms such as phenylene and naphthylene;
Twelve arylene groups are more preferred.

【0025】前記構造式〔1〕〜〔4〕中、R1 Y、又
はZを表すアルキレン基及びアリーレン基は、置換基を
有していてもよい。該置換基としては、フッ素、塩素、
臭素などのハロゲン原子、メトキシ基、エトキシ基、な
どのアルコキシ基、フェノキシ基などのアリールオキシ
基、シアノ基、アセトアミド基などのアミド基、エトキ
ジカルボニル基のようなアルコキジカルボニル基などの
ほか、炭素数1〜20のアルキル基、炭素数6〜18の
アリール基などが挙げられる。
In the structural formulas [1] to [4], the alkylene group and the arylene group representing R 1 Y or Z may have a substituent. As the substituent, fluorine, chlorine,
Other than a halogen atom such as bromine, an alkoxy group such as a methoxy group and an ethoxy group, an aryloxy group such as a phenoxy group, a cyano group, an amide group such as an acetamido group, and an alkoxydicarbonyl group such as an ethoxydicarbonyl group, Examples thereof include an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms and an aryl group having 6 to 18 carbon atoms.

【0026】以下に、成分(2)の構造式〔1〕〜
〔4〕で示されるモノマーの好ましい具体例を示すが、
本発明はこれらの具体例に何ら限定されるものではな
い。
Hereinafter, the structural formulas (1) to (2) of the component (2) will be described.
Preferred specific examples of the monomer represented by [4] are shown below.
The present invention is not limited to these specific examples.

【0027】[0027]

【化7】 Embedded image

【0028】[0028]

【化8】 Embedded image

【0029】本発明において、前記成分(2)の含有量
としては、前記含フッ素共重合ポリマーの重量に対し
て、5〜70重量%が好ましく、10〜50重量%がさ
らに好ましい。前記含有率が、5重量%未満であると、
画像記録材料の現像性が低下し、非画像部が現像不良と
なることがあり、また、70重量%を超えると、耐指紋
性が劣ることがあるためいずれも好ましくない。また、
また、前記成分(2)は、1種単独で使用してもよい
し、2種以上を併用してもよい。
In the present invention, the content of the component (2) is preferably from 5 to 70% by weight, more preferably from 10 to 50% by weight, based on the weight of the fluorinated copolymer. When the content is less than 5% by weight,
The developability of the image recording material may be reduced and the non-image area may be poorly developed, and if it exceeds 70% by weight, the fingerprint resistance may be poor, which is not preferable. Also,
Further, the component (2) may be used alone or in combination of two or more.

【0030】前記成分(3)は、前記構造式〔5〕〜
〔8〕で表されるモノマーである。
The component (3) is represented by the structural formula [5] to
It is a monomer represented by [8].

【0031】[0031]

【化9】 Embedded image

【0032】前記構造式〔5〕〜〔8〕中、Wは、酸素
原子、又は−NR3 −を表す。R3は、水素原子、アル
キル基又はアリール基を表す。R5 は、置換基を有して
いてもよいアルキル基、又は置換基を有していてもよい
アリール基を表す。R6 は、アルキル基又はアリール基
を表す。Uは、シアノ基、アリール基、アルコキシ基、
アリールオキシ基、アシルオキシメチル基、若しくは窒
素原子を含むヘテロ環、又は−CH2 OCOR6 (R6
は上記と同義である。)を表す。Aは、前記構造式
〔1〕〜〔4〕で表されるものと同義である。
In the structural formulas [5] to [8], W represents an oxygen atom or -NR 3- . R 3 represents a hydrogen atom, an alkyl group or an aryl group. R 5 represents an alkyl group which may have a substituent or an aryl group which may have a substituent. R 6 represents an alkyl group or an aryl group. U is a cyano group, an aryl group, an alkoxy group,
An aryloxy group, an acyloxymethyl group, or a heterocycle containing a nitrogen atom, or —CH 2 OCOR 6 (R 6
Is as defined above. ). A has the same meaning as that represented by the structural formulas [1] to [4].

【0033】前記構造式〔5〕〜〔8〕中、Wは、酸素
原子、又は−NR3 −が好ましい。R3 は、水素原子、
炭素数1〜20のアルキル基、又は炭素数6〜20のア
リール基が好ましい。R5 は、置換基を有していてもよ
い炭素数1〜8のアルキル基、又は置換基を有していて
もよい炭素数6〜12アリール基が好ましい。R6 は、
炭素数1〜20のアルキル基、又は炭素数6〜20のア
リール基が好ましい。Uは、シアノ基、炭素数6〜12
のアリール基、又は窒素原子を含む炭素数12以下のヘ
テロ環が好ましい。
In the above structural formulas [5] to [8], W is preferably an oxygen atom or -NR 3- . R 3 is a hydrogen atom,
An alkyl group having 1 to 20 carbon atoms or an aryl group having 6 to 20 carbon atoms is preferable. R 5 is preferably an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms which may have a substituent, or an aryl group having 6 to 12 carbon atoms which may have a substituent. R 6 is
An alkyl group having 1 to 20 carbon atoms or an aryl group having 6 to 20 carbon atoms is preferable. U is a cyano group, having 6 to 12 carbon atoms.
Or a heterocyclic ring containing a nitrogen atom and having 12 or less carbon atoms is preferable.

【0034】構造式〔5〕〜〔8〕中、R5 が表すアル
キル基は、置換基を有していてもよい、該置換基として
は、フッ素、塩素、臭素などのハロゲン原子、水酸基、
メトキシ、エトキシ、などのアルコキシ基、フェノキシ
などのアリールオキシ基、シアノ基、アセトアミトなど
のアミド基、アトキシカルボニル基のようなアルコキシ
カルボニル基などが挙げられる。前記構造式〔5〕〜
〔8〕中、R5 が表すアリール基は、置換基を有してい
てもよく、該置換基としては、上記R5 が表すアルキル
基の置換基で挙げたものの他、メチル基が挙げられる。
In the structural formulas [5] to [8], the alkyl group represented by R 5 may have a substituent. Examples of the substituent include a halogen atom such as fluorine, chlorine and bromine, a hydroxyl group,
Examples include an alkoxy group such as methoxy and ethoxy, an aryloxy group such as phenoxy, an amide group such as cyano group and acetamit, and an alkoxycarbonyl group such as acetoxycarbonyl group. The structural formula [5] to
In [8], the aryl group represented by R 5 may have a substituent, and examples of the substituent include a methyl group in addition to the substituents of the alkyl group represented by R 5. .

【0035】以下に、前記成分(3)の前記構造式
〔5〕〜〔8〕で示されるモノマーの好ましい具体例を
以下に示すが、本発明はこれらの具体例に何ら限定され
るものではない。
Preferred specific examples of the monomers represented by the structural formulas [5] to [8] of the component (3) are shown below, but the present invention is not limited to these specific examples. Absent.

【0036】前記成分(3)の前記構造式〔5〕〜
〔8〕で示されるモノマーの好ましい具体例としては、
例えばメチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)ア
クリレート、プロピル(メタ)アクリレート、ブチル
(メタ)アクリレート、ペンチル(メタ)アクリレー
ト、2−エチルヘキシル(メタ)アクリレート、オクチ
ル(メタ)アクリレート、2−クロロエチル(メタ)ア
クリレート、シクロヘキシル(メタ)アクリレート、2
−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロ
キシルプロピル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシ
ブチル(メタ)アクリレート、ジエチレングリコールモ
ノ(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシ−3−フェノ
キシプロピル(メタ)アクリレート、グリシジル(メ
タ)アクリレート、ジエチルアミノエチル(メタ)アク
リレート、フルフリル(メタ)アクリレート、テトラヒ
ドロフリル(メタ)アクリレート、フェニル(メタ)ア
クリレート、ヒドロキシフェニル(メタ)アクリレー
ト、クレジル(メタ)アクリレート、ナフチル(メタ)
アクリレート、ベンジル(メタ)アクリレート、メトキ
シベンジル(メタ)アクリレート等の(メタ)アクリル
酸エステル類;
The structural formulas (5) to (5) of the component (3)
Preferred specific examples of the monomer represented by [8] include:
For example, methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, propyl (meth) acrylate, butyl (meth) acrylate, pentyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate, octyl (meth) acrylate, 2-chloroethyl (meth) ) Acrylate, cyclohexyl (meth) acrylate, 2
-Hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 2-hydroxybutyl (meth) acrylate, diethylene glycol mono (meth) acrylate, 2-hydroxy-3-phenoxypropyl (meth) acrylate, glycidyl (meth) Acrylate, diethylaminoethyl (meth) acrylate, furfuryl (meth) acrylate, tetrahydrofuryl (meth) acrylate, phenyl (meth) acrylate, hydroxyphenyl (meth) acrylate, cresyl (meth) acrylate, naphthyl (meth)
(Meth) acrylates such as acrylate, benzyl (meth) acrylate, and methoxybenzyl (meth) acrylate;

【0037】(メタ)アクリルアミド、N−エチル(メ
タ)アクリルアミド、N−プロピル(メタ)アクリルア
ミド、N−ブチル(メタ)アクリルアミド、N−ヘキシ
ル(メタ)アクリルアミド、N−オクチル(メタ)アク
リルアミド、N−シクロヘキシル(メタ)アクリルアミ
ド、N−メチロール(メタ)アクリルアミド、N−ヒド
ロキシエチル(メタ)アクリルアミド、N−ベンジル
(メタ)アクリルアミド、N−フェニル(メタ)アクリ
ルアミド、N−ニトロフェニル(メタ)アクリルアミ
ド、N−トリル(メタ)アクリルアミド、N−ヒドロキ
シフェニル(メタ)アクリルアミド、N,N−ジメチル
(メタ)アクリルアミド、N,N−ジエチル(メタ)ア
クリルアミド、N,N−ジシクロヘキシル(メタ)アク
リルアミド等の(メタ)アクリルアミド類;
(Meth) acrylamide, N-ethyl (meth) acrylamide, N-propyl (meth) acrylamide, N-butyl (meth) acrylamide, N-hexyl (meth) acrylamide, N-octyl (meth) acrylamide, N- Cyclohexyl (meth) acrylamide, N-methylol (meth) acrylamide, N-hydroxyethyl (meth) acrylamide, N-benzyl (meth) acrylamide, N-phenyl (meth) acrylamide, N-nitrophenyl (meth) acrylamide, N- (Meta) such as tolyl (meth) acrylamide, N-hydroxyphenyl (meth) acrylamide, N, N-dimethyl (meth) acrylamide, N, N-diethyl (meth) acrylamide, N, N-dicyclohexyl (meth) acrylamide Acrylamide;

【0038】N−メチルマレイミド、N−エチルマレイ
ミド、N−プロピルマレイミド、N−ブチルマレイミ
ド、N−ペンチルマレイミド、N−n−ヘキシルマレイ
ミド、N−ラウリルマレイミド、N−ステアリルマレイ
ミド、N−シクロヘキシルマレイミド、N−フェニルマ
レイミド、N−クロロフェニルマレイミド、N−トリル
マレイミド、N−ヒドロキシマレイミド、N−ベンジル
マレイミド等のN−置換マレイミド類;
N-methylmaleimide, N-ethylmaleimide, N-propylmaleimide, N-butylmaleimide, N-pentylmaleimide, Nn-hexylmaleimide, N-laurylmaleimide, N-stearylmaleimide, N-cyclohexylmaleimide, N-substituted maleimides such as N-phenylmaleimide, N-chlorophenylmaleimide, N-tolylmaleimide, N-hydroxymaleimide, N-benzylmaleimide;

【0039】酢酸アリル、カプロン酸アリル、ステアリ
ン酸アリル、アリルオキシエタノール等のアリル化合
物;エチルビニルエーテル、プロピルビニルエーテル、
ブチルビニルエーテル、オクチルビニルエーテル、メト
キシエチルビニルエーテル、エトキシエチルビニルエー
テル、2−クロロエチルビニルエーテル、ヒドロキシエ
チルビニルエーテル、ベンジルビニルエーテル、テトラ
ヒドロフルフリルビニルエーテル、フェニルビニルエー
テル、トリルビニルエーテル、ジエチルアミノエチルビ
ニルエーテル等のビニルエーテル類;
Allyl compounds such as allyl acetate, allyl caproate, allyl stearate and allyloxyethanol; ethyl vinyl ether, propyl vinyl ether,
Vinyl ethers such as butyl vinyl ether, octyl vinyl ether, methoxyethyl vinyl ether, ethoxyethyl vinyl ether, 2-chloroethyl vinyl ether, hydroxyethyl vinyl ether, benzyl vinyl ether, tetrahydrofurfuryl vinyl ether, phenyl vinyl ether, tolyl vinyl ether, and diethylaminoethyl vinyl ether;

【0040】ビニルアセテート、ビニルブチレート、ビ
ニルカプロエート、ビニルクロルアセテート、ビニルメ
トキシアセテート、ビニルフェニルアセテート、ビニル
アセトアセテート、安息香酸ビニル、クロル安息香酸ビ
ニル等のビニルエステル類;
Vinyl esters such as vinyl acetate, vinyl butyrate, vinyl caproate, vinyl chloroacetate, vinyl methoxyacetate, vinyl phenyl acetate, vinyl acetoacetate, vinyl benzoate and vinyl chlorobenzoate;

【0041】スチレン、α−メチルスチレン、メチルス
チレン、ジメチルスチレン、クロルメチルスチレン、エ
トキシメチルスチレン、ヒドロキシスチレン、クロルス
チレン、ブロムスチレン等のスチレン類;
Styrenes such as styrene, α-methylstyrene, methylstyrene, dimethylstyrene, chloromethylstyrene, ethoxymethylstyrene, hydroxystyrene, chlorostyrene and bromostyrene;

【0042】N−ビニルピロリドン、N−ビニルピリジ
ン、アクリロニトリル等が挙げられる。
N-vinylpyrrolidone, N-vinylpyridine, acrylonitrile and the like can be mentioned.

【0043】本発明において、これらの成分(3)のう
ち特に好ましいのは、前記構造式〔5〕及び〔7〕で示
されるモノマーである。
In the present invention, particularly preferred among these components (3) are the monomers represented by the structural formulas [5] and [7].

【0044】また,前記成分(3)としては、前記構造
式〔5〕〜〔8〕で示されるモノマー以外にも、場合に
よりその他の付加重合不飽和化合物を用いることができ
るが、その他の付加重合不飽和化合物としては、Pol
ymer Handbook2nd ed.,J.Br
andrup,Wiley Interscience
(1975)ChaPter 2 Page1〜483
記載のものが挙げられる。
As the component (3), in addition to the monomers represented by the structural formulas [5] to [8], other addition-polymerized unsaturated compounds can be optionally used. Examples of the polymerizable unsaturated compound include Pol
ymer Handbook 2nd ed. , J. et al. Br
andrup, Wiley Interscience
(1975) ChaPter 2 Page 1-483
What is described is mentioned.

【0045】本発明において、前記成分(3)の含有量
としては、前記含フッ素共重合ポリマーの重量に対し
て、5〜80重量%が好ましく、10〜70重量%がさ
らに好ましい。前記含有率が、5重量%未満であると、
耐指紋性が劣ることがあり、また、70重量%を超えて
も、耐指紋性が劣ることがあるためいずれも好ましくな
い。また、また、前記成分(3)は、1種単独で使用し
てもよいし、2種以上を併用してもよい。
In the present invention, the content of the component (3) is preferably from 5 to 80% by weight, more preferably from 10 to 70% by weight, based on the weight of the fluorinated copolymer. When the content is less than 5% by weight,
Fingerprint resistance may be inferior, and even if it exceeds 70% by weight, fingerprint resistance may be inferior, and neither is preferred. The component (3) may be used alone or in combination of two or more.

【0046】本発明において、前記含フッ素共重合ポリ
マーは、公知慣用の方法で製造することができる。例え
ばフルオロ脂肪族基を有する(メタ)アクリレート、脂
肪族基若しくは芳香族基を有する(メタ)アクリレート
及び酸性水素原子が窒素原子に結合した酸性基含有ビニ
ル単量体とを、場合によりその他の付加重合性不飽和化
合物とを、有機溶媒中、公知のラジカル重合開始剤を添
加し、熱重合させることにより製造できる。
In the present invention, the fluorinated copolymer can be produced by a known and commonly used method. For example, a (meth) acrylate having a fluoroaliphatic group, a (meth) acrylate having an aliphatic group or an aromatic group, and an acidic group-containing vinyl monomer having an acidic hydrogen atom bonded to a nitrogen atom may be optionally added to other components. The polymerizable unsaturated compound can be produced by adding a known radical polymerization initiator in an organic solvent and subjecting it to thermal polymerization.

【0047】以下、前記含フッ素共重合ポリマーの具体
例を示すが、本発明はこれらの具体例に何ら限定される
ものではない。なお、添え字は、組成モル比を示す。
Hereinafter, specific examples of the fluorine-containing copolymer will be described, but the present invention is not limited to these specific examples. The suffix indicates the composition molar ratio.

【0048】[0048]

【化10】 Embedded image

【0049】[0049]

【化11】 Embedded image

【0050】[0050]

【化12】 Embedded image

【0051】本発明において、前記含フッ素系ポリマー
の分子量の範囲は、重量平均分子量として3000〜2
00,000程度のであり、6,000〜100,00
0が好ましい。
In the present invention, the molecular weight of the fluorine-containing polymer ranges from 3000 to 2 as a weight average molecular weight.
About 000 to 100,000
0 is preferred.

【0052】本発明において、前記含フッ素共重合ポリ
マーの含有量は、画像記録材料の全固形分に対して、
0.5〜10重量%が好ましく、1〜6重量%がさらに
好ましい。前記含有量が、0.5重量%未満であると、
耐指紋性が劣ることがあり、また、10重量%を超える
と、画像記録材料の硬化性が低下し、画像部の膜強度が
低下することがあるのでいずれも好ましくない。
In the present invention, the content of the fluorocopolymer is based on the total solid content of the image recording material.
It is preferably from 0.5 to 10% by weight, more preferably from 1 to 6% by weight. When the content is less than 0.5% by weight,
Fingerprint resistance may be inferior, and if it exceeds 10% by weight, the curability of the image recording material may decrease, and the film strength of the image portion may decrease, which is not preferable.

【0053】本発明のネガ型画像記録材料の(E)成分
以外の成分について、以下に説明する。 [(A)光又は熱により分解して酸を発生する化合物]
本発明において、光又は熱により分解して酸を発生する
化合物(以下、「酸発生剤」と称する場合がある。)
は、200〜500nmの波長の光照射又は100℃以
上の加熱により酸を発生する化合物を意味する。本発明
において好適に用いられる酸発生剤としては、光カチオ
ン重合の光開始剤、光ラジカル重合の光開始剤、色素類
の光消色剤、光変色剤、あるいはマイクロレジスト等に
使用されている公知の酸発生剤等、公知の熱分解して酸
を発生する化合物、及びそれらの混合物等が挙げられ
る。
The components other than the component (E) of the negative image recording material of the present invention will be described below. [(A) Compound that decomposes by light or heat to generate an acid]
In the present invention, a compound that decomposes by light or heat to generate an acid (hereinafter, may be referred to as an “acid generator”).
Means a compound that generates an acid by irradiation with light having a wavelength of 200 to 500 nm or heating at 100 ° C. or higher. As the acid generator suitably used in the present invention, a photoinitiator for photocationic polymerization, a photoinitiator for photoradical polymerization, a photodecolorant for dyes, a photochromic agent, or a microresist is used. Known compounds such as a known acid generator, which generates an acid by thermal decomposition, and a mixture thereof are exemplified.

【0054】例えば、S.I.Schlesinge
r,Photogr.Sci.Eng.,18,387
(1974)、T.S.Bal et al,Poly
mer,21,423(1980)に記載のジアゾニウ
ム塩、米国特許第4,069,055号、同4,06
9,056号、同Re27,992号の各明細書、特開
平4−365049号公報に記載のアンモニウム塩、
D.C.Necker etal,Macromole
cules,17,2468(1984)、C.S.W
en et al,Teh,Proc.Conf.Ra
d,CuringASIA,p478 Tokyo,O
ct(1988)、米国特許第4,069,055号、
同4,069,056号の各明細書に記載のホスホニウ
ム塩、J.V.Crivello et al,Mac
romolecules,10(6),1307(19
77)、Chem.& Eng.News,Nov.2
8,p31(1988)、欧州特許第104、143
号、米国特許第339,049号、同第410,201
号の各明細書、特開平2−150848号、特開平2−
296514号の各公報に記載のヨードニウム塩、J.
V.Crivelloet al,Polymer
J.17,73(1985)、J.V.Crivell
o et al.J.Org.Chem.,43,30
55(1978)、W.R.Watt et al,
J.Polymer Sci.,Polymer Ch
em.Ed.,22,1789(1984)、J.V.
Crivello et al,Polymer
For example, S.I. I. Schlesinge
r, Photogr. Sci. Eng. , 18,387
(1974); S. Bal et al, Poly
mer, 21,423 (1980), U.S. Pat. Nos. 4,069,055 and 4,062.
9,056 and Re27,992, and ammonium salts described in JP-A-4-365049.
D. C. Necker etal, Macromole
cules, 17, 2468 (1984), C.I. S. W
en et al, Teh, Proc. Conf. Ra
d, CuringASIA, p478 Tokyo, O
ct (1988), U.S. Pat. No. 4,069,055,
The phosphonium salts described in each specification of JP-A-4,069,056; V. Crivello et al, Mac
romolecules, 10 (6), 1307 (19
77), Chem. & Eng. News, Nov .; 2
8, p31 (1988), EP 104,143.
Nos. 339,049 and 410,201.
Nos., JP-A-2-150848, JP-A-2-150848
Iodonium salts described in each publication of J.
V. Crivello et al, Polymer
J. 17, 73 (1985); V. Crivell
o et al. J. Org. Chem. , 43,30
55 (1978); R. Watt et al,
J. Polymer Sci. , Polymer Ch
em. Ed. , 22, 1789 (1984); V.
Crivello et al, Polymer

【0055】Bull.,14,279(1985)、
J.V.Crivello et al,Macrom
olecules,14(5),1141(198
1)、J.V.Crivello et al,J.P
olymer Sci.,Polymer Chem.
Ed.,17,2877(1979)、欧州特許第37
0,693号、同390,214号、同233,567
号、同297,443号、同297,442号、米国特
許第4,933,377号、同161,811号、同4
10,201号、同339,049号、同4,760,
013号、同4,734,444号、同2,833,8
27号、独国特許第2,904,626号、同3,60
4,580号、同3,604,581号の各明細書に記
載のスルホニウム塩、
Bull. , 14, 279 (1985),
J. V. Crivello et al, Macrom
olecules, 14 (5), 1141 (198
1). V. Crivello et al, J. Mol. P
polymer Sci. , Polymer Chem.
Ed. , 17, 2877 (1979), EP 37
Nos. 0,693, 390,214, 233,567
Nos. 297,443 and 297,442; U.S. Pat. Nos. 4,933,377; 161,811;
No. 10,201, No. 339,049, No. 4,760,
No. 013, No. 4,734,444, No. 2,833,8
No. 27, German Patent Nos. 2,904,626 and 3,60
4,580, 3,604,581, the sulfonium salt described in each specification,

【0056】J.V.Crivello et al,
Macromolecules,10(6),1307
(1977)、J.V.Crivello et a
l,J.Polymer Sci.,Polymer
Chem.Ed.,17,1047(1979)に記載
のセレノニウム塩、C.S.Wen et al,Te
h,Proc.Conf.Rad.Curing AS
IA,p478 Tokyo,Oct(1988)に記
載のアルソニウム塩等のオニウム塩、米国特許第3,9
05,815号明細書、特公昭46−4605、特開昭
48−36281、特開昭55−32070、特開昭6
0−239736、特開昭61−169835、特開昭
61−169837、特開昭62−58241、特開昭
62−212401、特開昭63−70243、特開昭
63−298339の各公報に記載の有機ハロゲン化合
物、K.Meier et al,J.Rad.Cur
ing,13(4),26(1986),T.P.Gi
ll et al,Inorg.Chem.,19,3
007(1980)、D.Astruc,Acc.Ch
em.Res.,19(12),377(1896)、
特開平2−161445号公報に記載の有機金属/有機
ハロゲン化物、S.Hayase et al,J.P
olymer Sci.,25,753(1987)、
E.Reichmanis et al,J.Poly
mer Sci.,Polymer Chem.E
d.,23,1(1985)、Q.Q.Zhu et
al,J Photochem.,36,85,39,
317(1987)、B.Amit et al,Te
trahedron Lett.,(24)2205
(1973),
J. V. Crivello et al,
Macromolecules, 10 (6), 1307
(1977); V. Crivello et a
1, J .; Polymer Sci. , Polymer
Chem. Ed. , 17, 1047 (1979); S. Wen et al, Te
h, Proc. Conf. Rad. Curing AS
Onium salts such as arsonium salts described in IA, p478 Tokyo, Oct (1988), US Pat.
No. 5,815,815, JP-B-46-4605, JP-A-48-36281, JP-A-55-32070, JP-A-55-32070.
0-239736, JP-A-61-169835, JP-A-61-169837, JP-A-62-58241, JP-A-62-212401, JP-A-63-70243, and JP-A-63-298339. Organic halogen compounds, K. Meier et al, J. Mol. Rad. Cur
ing, 13 (4), 26 (1986); P. Gi
ll et al, Inorg. Chem. , 19,3
007 (1980); Astruc, Acc. Ch
em. Res. , 19 (12), 377 (1896),
Organometallic / organic halides described in JP-A-2-161445; Hayase et al, J. Mol. P
polymer Sci. , 25, 753 (1987),
E. FIG. Reichmanis et al. Poly
mer Sci. , Polymer Chem. E
d. , 23, 1 (1985); Q. Zhu et
al, J Photochem. , 36, 85, 39,
317 (1987); Amit et al, Te
trahedron Lett. , (24) 2205
(1973),

【0057】D.H.R.Barton et al,
J.Chem.Soc.3571(1965)、P.
M.Collins et al,J.Chem.So
c.,Perkin I,1695(1975)、M.
Rudinstein et al,Tetrahed
ron Lett.,(17),1445(197
5)、J.W.Walker et al,J.Am.
Chem.Soc.,110,7170(1988)、
S.C.Busman et al,J.Imagin
g Technol.,11(4),191(198
5)、H.M.Houlihan et al,Mac
romolecules,21,2001(198
8)、P.M.Collins et al,J.Ch
em.Soc.,Chem.Commun.,532
(1972)、S.Hayase et al,Mac
romolecules,18,1799(198
5)、E.Reichmanis et al,J.E
lectrochem.Soc.,SolidStat
e Sci.Technol.,130(6)、F.
M.Houlihan et al,Macromol
ecules,21,2001(1988)、欧州特許
第0290,750号、同046,083号、同15
6,535号、同271,851号、同0,388,3
43号、米国特許第3,901,710号、同4,18
1,531号の各明細書、特開昭60−198538
号、特開昭53−133022号の各公報に記載のo−
ニトロベンジル型保護基を有する光酸発生剤、M.Tu
nooka et al,Polymer Prepr
ints Japan,38(8)、G.Berner
et al,J.Rad.Curing,13
(4)、W.J.Mijs et al,Coatin
gTechnol.,55(697),45(198
3)、Akzo,H.Adachi et al,Po
lymer Preprints,Japan,37
(3)、欧州特許第0199,672号、同84515
号、同199,672号、同044,115号、同01
01,122号、米国特許第4,618,564号、同
4,371,605号、同4,431,774号の各明
細書、特開昭64−18143号、特開平2−2457
56号、特願平3−140109号の各の各公報に記載
のイミノスルフォネート等に代表される、光分解してス
ルホン酸を発生する化合物、特開昭61−166544
号公報に記載のジスルホン化合物を挙げることができ
る。
D. H. R. Barton et al,
J. Chem. Soc. 3571 (1965);
M. Collins et al, J. Mol. Chem. So
c. , Perkin I, 1695 (1975);
Rudinstein et al, Tetrahed
ron Lett. , (17), 1445 (197
5). W. Walker et al, J.A. Am.
Chem. Soc. , 110, 7170 (1988),
S. C. Busman et al, J. M .; Imagin
gTechnol. , 11 (4), 191 (198
5), H. M. Houlihan et al, Mac
romolecules, 21, 2001 (198
8), p. M. Collins et al, J. Mol. Ch
em. Soc. Chem. Commun. , 532
(1972); Hayase et al, Mac
romolecules, 18, 1799 (198
5), E. Reichmanis et al. E
electrochem. Soc. , SolidStat
e Sci. Technol. , 130 (6);
M. Houlihan et al, Macromol
ecules, 21, 2001 (1988), European Patent Nos. 0290,750, 046,083 and 15
6,535, 271 and 851, 0,388,3
No. 43, U.S. Pat. Nos. 3,901,710 and 4,18
1,531, JP-A-60-198538
Described in each gazette of JP-A-53-133022.
A photoacid generator having a nitrobenzyl-type protecting group; Tu
nooka et al, Polymer Prepr
ints Japan, 38 (8); Berner
et al, J.A. Rad. Curing, 13
(4); J. Mijs et al, Coatin
gTechnol. , 55 (697), 45 (198
3), Akzo, H .; Adachi et al, Po
lymer Preprints, Japan, 37
(3), European Patent Nos. 0199,672 and 84515
Nos. 199,672, 044,115, 01
No. 01,122, U.S. Pat. Nos. 4,618,564, 4,371,605 and 4,431,774, JP-A-64-18143, JP-A-2-2457.
No. 56, Japanese Patent Application No. 3-140109, and compounds which generate sulfonic acid upon photolysis, such as iminosulfonates, described in JP-A-61-166544.
And the disulfone compound described in JP-A No. 2000-163,078.

【0058】またこれらの酸を発生する基、あるいは化
合物をポリマーの主鎖又は側鎖に導入した化合物、例え
ば、M.E.Woodhouse et al,J.A
m.Chem.Soc.,104,5586(198
2)、S.P.Pappaset al,J.Imag
ing Sci.,30(5),218(1986)、
S.Kondo et al. Makromol.C
hem.,RapidCommun.,9,625(1
988)、Y.Yamada et al,Makro
mol.Chem.,152,153,163(197
2)、J.V.Crivello et al.J.P
olymer Sci.,Polymer Chem.
Ed.,17,3845(1979)、米国特許第3,
849,137号、独国特許第3,914,407号の
各明細書、特開昭63−26653号、特開昭55−1
64824号、特開昭62−69263号、特開昭63
−146037号、特開昭63−163452号、特開
昭62−153853号、特開昭63−146029号
の各公報に記載の化合物を用いることができる。
Compounds in which these acid-generating groups or compounds are introduced into the main chain or side chain of the polymer, for example, M.P. E. FIG. Woodhouse et al, J. Mol. A
m. Chem. Soc. , 104, 5586 (198
2), S.M. P. Pappaset al, J .; Imag
ing Sci. , 30 (5), 218 (1986),
S. Kondo et al. Makromol. C
hem. , RapidCommun. , 9, 625 (1
988); Yamada et al, Makro
mol. Chem. , 152, 153, 163 (197
2). V. Crivello et al. J. P
polymer Sci. , Polymer Chem.
Ed. , 17, 3845 (1979); U.S. Pat.
849,137, German Patent No. 3,914,407, JP-A-63-26653, JP-A-55-1.
No. 64824, JP-A-62-69263 and JP-A-63-69263
Compounds described in JP-A-146037, JP-A-63-163452, JP-A-62-153853, and JP-A-63-146029 can be used.

【0059】更に、V.N.R.Pillai,Syn
thesis,(1),1(1980)、A.Abad
et al,Tetrahedron Lett.,
(47)4555(1971)、D.H.R.Bart
on et al,J.Chem,Soc,.(C),
329(1970)、米国特許第3,779,778
号、欧州特許第126,712号の各明細書等に記載の
光により酸を発生する化合物も使用することができる。
これらのうち本発明で特に好ましく用いられる酸発生剤
としては、下記一般式(I)〜(V)で表される化合物
が挙げられる。
Further, V.I. N. R. Pilai, Syn
thesis, (1), 1 (1980); Abad
et al, Tetrahedron Lett. ,
(47) 4555 (1971); H. R. Bart
on et al, J.A. Chem, Soc,. (C),
329 (1970); U.S. Pat. No. 3,779,778.
And the compounds capable of generating an acid by light described in the specifications of European Patent No. 126,712 and the like can also be used.
Among these, examples of the acid generator particularly preferably used in the present invention include compounds represented by the following general formulas (I) to (V).

【0060】[0060]

【化13】 Embedded image

【0061】一般式(I)〜(V)中、R1 、R2 、R
4 及びR5 は、同じでも異なっていてもよく、置換基を
有していてもよい炭素数20個以下の炭化水素基を示
す。R 3 はハロゲン原子、置換基を有していてもよい炭
素数10個以下の炭化水素基叉は炭素数10個以下のア
ルコキシ基を示す。Ar1 、Ar2 は、同じでも異なっ
ていてもよく、置換基を有していてもよい炭素数20個
以下のアリール基を示す。R6 は置換基を有していても
よい炭素数20個以下の2価の炭化水素基を示す。nは
0〜4の整数を示す。
In the general formulas (I) to (V), R1, RTwo, R
FourAnd RFiveMay be the same or different, and the substituent
Represents a hydrocarbon group having 20 or less carbon atoms which may be present
You. R ThreeIs a halogen atom, an optionally substituted carbon
Hydrocarbon groups with 10 or fewer primes or alcohols with 10 or fewer carbons
It represents a lucoxy group. Ar1, ArTwoAre the same but different
Having 20 carbon atoms which may have a substituent
The following aryl groups are shown. R6May have a substituent
It represents a divalent hydrocarbon group having a good number of carbon atoms of 20 or less. n is
Shows an integer of 0 to 4.

【0062】一般式(I)〜(V)において、R1 、R
2 、R4 及びR5 は、それぞれ独立に、置換基を有して
いてもよい炭素数20個以下の炭化水素基を示し、好ま
しくは炭素数1〜14の炭化水素基を示す。炭化水素基
の具体例としては、メチル基、エチル基、n−プロピル
基、i−プロピル基、n−ブチル基、sec−ブチル
基、t−ブチル基、ヘキシル基、シクロヘキシル基、オ
クチル基、2−エチルヘキシル基、ウンデシル基、ドデ
シル基等のアルキル基、アリル基、ビニル基、1−メチ
ルビニル基、2−フェニルビニル基等のアルケニル基、
ベンジル基等のアラルキル基、フェニル基、トリル基、
キシリル基、クメニル基、メシチル基、ドデシルフェニ
ル基、フェニルフェニル基、ナフチル基、アントラセニ
ル基等のアリール基が挙げられる。これらの炭化水素基
は、例えばハロゲン原子、アルコキシ基、ニトロ基、シ
アノ基、カルボキシ基等の置換基を有していてもよい。
置換基を有する炭化水素基の具体例としては、トリフル
オロメチル基、クロロエチル基、2−メトキシエチル
基、フルオロフェニル基、クロロフェニル基、ブロモフ
ェニル基、ヨードフェニル基、メトキシフェニル基、フ
ェノキシフェニル基、メトキシフェニルビニル基、ニト
ロフェニル基、シアノフェニル基、カルボキシフェニル
基、9,10−ジメトキシアントラセニル基等が挙げら
れる。
In the general formulas (I) to (V), R 1 , R
2 , R 4 and R 5 each independently represent a hydrocarbon group which may have a substituent and has 20 or less carbon atoms, and preferably a hydrocarbon group having 1 to 14 carbon atoms. Specific examples of the hydrocarbon group include methyl, ethyl, n-propyl, i-propyl, n-butyl, sec-butyl, t-butyl, hexyl, cyclohexyl, octyl, and octyl. Alkyl groups such as -ethylhexyl group, undecyl group and dodecyl group, allyl group, vinyl group, 1-methylvinyl group, alkenyl group such as 2-phenylvinyl group,
Aralkyl groups such as benzyl group, phenyl group, tolyl group,
And aryl groups such as a xylyl group, a cumenyl group, a mesityl group, a dodecylphenyl group, a phenylphenyl group, a naphthyl group, and an anthracenyl group. These hydrocarbon groups may have a substituent such as a halogen atom, an alkoxy group, a nitro group, a cyano group, and a carboxy group.
Specific examples of the hydrocarbon group having a substituent include a trifluoromethyl group, a chloroethyl group, a 2-methoxyethyl group, a fluorophenyl group, a chlorophenyl group, a bromophenyl group, an iodophenyl group, a methoxyphenyl group, a phenoxyphenyl group, Examples include a methoxyphenylvinyl group, a nitrophenyl group, a cyanophenyl group, a carboxyphenyl group, and a 9,10-dimethoxyanthracenyl group.

【0063】一般式(I)〜(V)において、R3 はハ
ロゲン原子、置換基を有していてもよい炭素数10個以
下の炭化水素基(例えば、アルキル基、アルケニル基、
アラルキル基、アリール基)叉は炭素数10個以下のア
ルコキシ基を示す。具体的には、フッ素、塩素、臭素、
ヨウ素のハロゲン原子、メチル基、エチル基、n−プロ
ピル基、i−プロピル基、アリル基、n−ブチル基、s
ec−ブチル基、t−ブチル基、ヘキシル基、シクロヘ
キシル基、ベンジル基、フェニル基、トリル基等の炭化
水素基、2−メトキシエチル基、フルオロフェニル基、
クロロフェニル基、ブロモフェニル基、ヨードフェニル
基、メトキシフェニル基等置換基を有する炭化水素基、
メトキシ基、エトキシ基等のアルコキシ基が挙げられ
る。また、nが2以上の場合、隣接する2個のR3 で互
いに結合し縮環していてもよい。
In the general formulas (I) to (V), R 3 is a halogen atom, an optionally substituted hydrocarbon group having 10 or less carbon atoms (for example, an alkyl group, an alkenyl group,
An aralkyl group, an aryl group) or an alkoxy group having 10 or less carbon atoms. Specifically, fluorine, chlorine, bromine,
Halogen atom of iodine, methyl group, ethyl group, n-propyl group, i-propyl group, allyl group, n-butyl group, s
ec-butyl group, t-butyl group, hexyl group, cyclohexyl group, benzyl group, phenyl group, hydrocarbon group such as tolyl group, 2-methoxyethyl group, fluorophenyl group,
Chlorophenyl group, bromophenyl group, iodophenyl group, hydrocarbon group having a substituent such as methoxyphenyl group,
Examples include an alkoxy group such as a methoxy group and an ethoxy group. When n is 2 or more, two adjacent R 3 may be bonded to each other to form a ring.

【0064】一般式(I)〜(V)において、Ar1
Ar2 は同じであっても異なっていてもよく、置換基を
有していてもよい炭素数20個以下のアリール基、好ま
しくは炭素数6〜14のアリール基を示す。具体的に
は、フェニル基、トリル基、キシリル基、クメニル基、
メシチル基、ドデシルフェニル基、フェニルフェニル
基、ナフチル基、フルオロフェニル基、クロロフェニル
基、ブロモフェニル基、ヨードフェニル基、クロロナフ
チル基、メトキシフェニル基、フェノキシフェニル基、
エトキシナフチル基、ニトロフェニル基、シアノフェニ
ル基、カルボキシフェニル基、ニトロナフチル基、アン
トラセニル基等が挙げられる。
In the general formulas (I) to (V), Ar 1 ,
Ar 2 may be the same or different and represents an aryl group having 20 or less carbon atoms, which may have a substituent, preferably an aryl group having 6 to 14 carbon atoms. Specifically, a phenyl group, a tolyl group, a xylyl group, a cumenyl group,
Mesityl group, dodecylphenyl group, phenylphenyl group, naphthyl group, fluorophenyl group, chlorophenyl group, bromophenyl group, iodophenyl group, chloronaphthyl group, methoxyphenyl group, phenoxyphenyl group,
Examples include an ethoxynaphthyl group, a nitrophenyl group, a cyanophenyl group, a carboxyphenyl group, a nitronaphthyl group, an anthracenyl group and the like.

【0065】一般式(I)〜(V)において、R6 は置
換基を有していてもよい炭素数20個以下の2価の炭化
水素基(例えば、アルキレン基、アルケニレン基、アラ
ルキレン基、アリーレン基)を示す。具体的には、エチ
ニレン基、1,2−シクロヘキセニレン基、1,2−フ
ェニレン基、4−クロロ−1,2−フェニレン基、4−
ニトロ−1,2−フェニレン基、4−メチル−1,2−
フェニレン基、4ーメトキシ−1,2−フェニレン基、
4−カルボキシ−1,2−フェニレン基、1,8−ナフ
タレニレン基等が挙げられる。nは0〜4の整数を示
す。ここで、nが0の場合は、R3 がないこと、すなわ
ち、水素原子であることを示す。
In the general formulas (I) to (V), R 6 is an optionally substituted divalent hydrocarbon group having 20 or less carbon atoms (for example, an alkylene group, an alkenylene group, an aralkylene group, Arylene group). Specifically, an ethynylene group, a 1,2-cyclohexenylene group, a 1,2-phenylene group, a 4-chloro-1,2-phenylene group,
Nitro-1,2-phenylene group, 4-methyl-1,2-
Phenylene group, 4-methoxy-1,2-phenylene group,
4-carboxy-1,2-phenylene group, 1,8-naphthalenylene group and the like. n shows the integer of 0-4. Here, when n is 0, it indicates that there is no R 3 , that is, it is a hydrogen atom.

【0066】一般式化合物(I)〜(V)で表される化
合物の内、好ましいものを以下に挙げる。尚、これらの
化合物は、例えば特開平2−100054号公報及び特
開平2−100055号公報に記載の方法にて合成する
ことができる。
Among the compounds represented by formulas (I) to (V), preferred ones are shown below. These compounds can be synthesized, for example, by the methods described in JP-A Nos. 2-100054 and 2-100055.

【0067】[0067]

【化14】 Embedded image

【0068】[0068]

【化15】 Embedded image

【0069】[0069]

【化16】 Embedded image

【0070】[0070]

【化17】 Embedded image

【0071】[0071]

【化18】 Embedded image

【0072】[0072]

【化19】 Embedded image

【0073】[0073]

【化20】 Embedded image

【0074】[0074]

【化21】 Embedded image

【0075】[0075]

【化22】 Embedded image

【0076】[0076]

【化23】 Embedded image

【0077】[0077]

【化24】 Embedded image

【0078】また、(A)光又は熱により分解して酸を
発生する化合物として、ハロゲン化物やスルホン酸など
を対イオンとするオニウム塩、好ましくは下記一般式
(VI)〜(VIII)で示されるヨードニウム塩、スルホニ
ウム塩、ジアゾニウム塩のいずれかの構造式を有するも
のも、好適に挙げることができる。
As the compound (A) which is decomposed by light or heat to generate an acid, an onium salt having a counter ion of a halide or sulfonic acid, preferably represented by the following general formulas (VI) to (VIII) Preferred are those having any one of the structural formulas of iodonium salt, sulfonium salt, and diazonium salt.

【0079】[0079]

【化25】 Embedded image

【0080】一般式(VI)〜(VIII)中、X- は、ハロ
ゲン化物イオン、ClO4 - 、PF 6 - 、SbF6 -
BF4 - 、又はR7 −SO3 - が挙げられ、ここで、R
7 は置換基を有していても良い炭素数20以下の炭化水
素基を示す。Ar3 、Ar4はそれぞれ、置換基を有し
ていても良い炭素数20以下のアリール基を示す。
8 、R9 、R10は置換基を有していても良い炭素数1
8以下の炭化水素基を示す。
In the general formulas (VI) to (VIII), X-Is halo
Genide ion, ClOFour -, PF 6 -, SbF6 -,
BFFour -Or R7-SOThree -Where R
7Is a hydrocarbon having 20 or less carbon atoms which may have a substituent
Represents an elementary group. ArThree, ArFourEach has a substituent
Represents an aryl group having 20 or less carbon atoms which may be present.
R 8, R9, RTenRepresents an optionally substituted carbon number of 1
And 8 or less hydrocarbon groups.

【0081】一般式(VI)〜(VIII)において、X-
しては、R7 −SO3 - が特に好ましく用いられ、ここ
で、R7 としては置換基を有していても良い炭素数20
以下の炭化水素基を示す。R7 で表される炭化水素基の
具体例としては、メチル基、エチル基、n−プロピル
基、i−プロピル基、アリル基、n−ブチル基、sec
−ブチル基、t−ブチル基、ヘキシル基、シクロヘキシ
ル基、オクチル基、2−エチルヘキシル基、ドデシル基
等のアルキル基、ビニル基、1−メチルビニル基、2−
フェニルビニル基等のアルケニル基、ベンジル基、フェ
ネチル基等のアラルキル基、フェニル基、トリル基、キ
シリル基、クメニル基、メシチル基、ドデシルフェニル
基、フェニルフェニル基、ナフチル基、アントラセニル
基等のアリール基が挙げられる。これらの炭化水素基
は、例えばハロゲン原子、ヒドロキシ基、アルコキシ
基、アリルオキシ基、ニトロ基、シアノ基、カルボニル
基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、アニリ
ノ基、アセトアミド基等の置換基を有していても良い。
置換基を有する炭化水素基の具体例としては、トリフル
オロメチル基、2−メトキシエチル基、10−カンファ
ーニル基、フルオロフェニル基、クロロフェニル基、ブ
ロモフェニル基、ヨードフェニル基、メトキシフェニル
基、ヒドロキシフェニル基、フェノキシフェニル基、ニ
トロフェニル基、シアノフェニル基、カルボキシフェニ
ル基、メトキシナフチル基、ジメトキシアントラセニル
基、ジエトキシアントラセニル基、アントラキノニル
基、等が挙げられる。
[0081] In the general formula (VI) ~ (VIII), X - as a, R 7 -SO 3 - is particularly preferably used, wherein the carbon atoms which may have a substituent as R 7 20
The following hydrocarbon groups are shown. Specific examples of the hydrocarbon group represented by R 7 include a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an i-propyl group, an allyl group, an n-butyl group, and sec.
Alkyl groups such as -butyl group, t-butyl group, hexyl group, cyclohexyl group, octyl group, 2-ethylhexyl group, dodecyl group, vinyl group, 1-methylvinyl group, 2-
Aryl groups such as alkenyl groups such as phenylvinyl group, aralkyl groups such as benzyl group and phenethyl group, phenyl group, tolyl group, xylyl group, cumenyl group, mesityl group, dodecylphenyl group, phenylphenyl group, naphthyl group and anthracenyl group Is mentioned. These hydrocarbon groups have a substituent such as a halogen atom, a hydroxy group, an alkoxy group, an allyloxy group, a nitro group, a cyano group, a carbonyl group, a carboxyl group, an alkoxycarbonyl group, an anilino group, and an acetamido group. Is also good.
Specific examples of the hydrocarbon group having a substituent include a trifluoromethyl group, a 2-methoxyethyl group, a 10-campanyl group, a fluorophenyl group, a chlorophenyl group, a bromophenyl group, an iodophenyl group, a methoxyphenyl group, and a hydroxy group. Examples include a phenyl group, a phenoxyphenyl group, a nitrophenyl group, a cyanophenyl group, a carboxyphenyl group, a methoxynaphthyl group, a dimethoxyanthracenyl group, a diethoxyanthracenyl group, and an anthraquinonyl group.

【0082】一般式(VI)〜(VIII)において、A
3 、Ar4 はそれぞれ、置換基を有していても良い炭
素数20以下のアリール基を示し、具体的には、フェニ
ル基、トリル基、キシリル基、クメニル基、メシチル
基、ドデシルフェニル基、フェニルフェニル基、ナフチ
ル基、アントラセニル基、フルオロフェニル基、クロロ
フェニル基、ブロモフェニル基、ヨードフェニル基、メ
トキシフェニル基、ヒドロキシフェニル基、フェノキシ
フェニル基、ニトロフェニル基、シアノフェニル基、カ
ルボキシフェニル基、アニリノフェニル基、アニリノカ
ルボニルフェニル基、モルホリノフェニル基、フェニル
アゾフェニル基、メトキシナフチル基、ヒドロキシナフ
チル基、ニトロナフチル基、アントラキノニル基等が挙
げられる。
In the general formulas (VI) to (VIII),
r 3 and Ar 4 each represent an aryl group having 20 or less carbon atoms which may have a substituent, and specifically, a phenyl group, a tolyl group, a xylyl group, a cumenyl group, a mesityl group, a dodecylphenyl group , Phenylphenyl group, naphthyl group, anthracenyl group, fluorophenyl group, chlorophenyl group, bromophenyl group, iodophenyl group, methoxyphenyl group, hydroxyphenyl group, phenoxyphenyl group, nitrophenyl group, cyanophenyl group, carboxyphenyl group, Examples thereof include an anilinophenyl group, an anilinocarbonylphenyl group, a morpholinophenyl group, a phenylazophenyl group, a methoxynaphthyl group, a hydroxynaphthyl group, a nitronaphthyl group, and an anthraquinonyl group.

【0083】一般式(VI)〜(VIII)において、R8
9 、R10はそれぞれ独立に、置換基を有していても良
い炭素数18以下の炭化水素基を示し、具体的には、メ
チル基、エチル基、n−プロピル基、i−プロピル基、
アリル基、n−ブチル基、sec−ブチル基、t−ブチ
ル基、ヘキシル基、シクロヘキシル基、ベンジル基、フ
ェニル基、トリル基、t−ブチルフェニル基、ナフチル
基、アントラセニル基、等の炭化水素基、2−メトキシ
エチル基、フルオロフェニル基、クロロフェニル基、ブ
ロモフェニル基、ヨードフェニル基、メトキシフェニル
基、ヒドロキシフェニル基、フェニルチオフェニル基、
ヒドロキシナフチル基、メトキシナフチル基、ベンゾイ
ルメチル基、ナフトイルメチル基、等置換基を有する炭
化水素基が挙げられる。また、R8 とR9 とが互いに結
合し環を形成していても良い。
In the general formulas (VI) to (VIII), R 8 ,
R 9 and R 10 each independently represent a hydrocarbon group having 18 or less carbon atoms which may have a substituent, and specifically, a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an i-propyl group ,
Hydrocarbon groups such as allyl group, n-butyl group, sec-butyl group, t-butyl group, hexyl group, cyclohexyl group, benzyl group, phenyl group, tolyl group, t-butylphenyl group, naphthyl group, anthracenyl group, etc. , 2-methoxyethyl, fluorophenyl, chlorophenyl, bromophenyl, iodophenyl, methoxyphenyl, hydroxyphenyl, phenylthiophenyl,
Examples thereof include a hydrocarbon group having a substituent such as a hydroxynaphthyl group, a methoxynaphthyl group, a benzoylmethyl group, a naphthoylmethyl group, and the like. Further, R 8 and R 9 may be bonded to each other to form a ring.

【0084】一般式(VI)〜(VIII)で表されるオニウ
ム塩のカチオン部としては、ヨードニウムイオン、スル
ホニウムイオン、ジアゾニウムイオンが挙げられる。こ
れらのオニウム塩のカチオン部について、以下に具体的
な構造を示すが、これらに限定されるものではない。
Examples of the cation portion of the onium salt represented by the general formulas (VI) to (VIII) include an iodonium ion, a sulfonium ion and a diazonium ion. Specific structures of the cation portion of these onium salts are shown below, but the invention is not limited thereto.

【0085】[0085]

【化26】 Embedded image

【0086】[0086]

【化27】 Embedded image

【0087】[0087]

【化28】 Embedded image

【0088】[0088]

【化29】 Embedded image

【0089】[0089]

【化30】 Embedded image

【0090】一方、これらのオニウム塩のカウンターア
ニオンのうち、特に良好に用いられるスルホネートイオ
ンの例としては、 1)メタンスルホネート、 2)エタンスルホネート、 3)1−プロパンスルホネート、 4)2−プロパンスルホネート、 5)n−ブタンスルホネート、 6)アリルスルホネート、 7)10−カンファースルホネート、 8)トリフルオロメタンスルホネート、 9)ペンタフルオロエタンスルホネート、 10)ベンゼンスルホネート、 11)p−トルエンスルホネート、 12)3−メトキシベンゼンスルホネート、 13)4−メトキシベンゼンスルホネート、 14)4−ヒドロキシベンゼンスルホネート、 15)4−クロロベンゼンスルホネート、 16)3−ニトロベンゼンスルホネート、 17)4−ニトロベンゼンスルホネート、 18)4−アセチルベンゼンスルホネート、 19)ペンタフルオロベンゼンスルホネート、 20)4−ドデシルベンゼンスルホネート、 21)メシチレンスルホネート、 22)2、4、6−トリイソプロピルベンゼンスルホネ
ート、 23)2−ヒドロキシ−4−メトキシベンゾフェノン−
5−スルホネート、 24)イソフタル酸ジメチル−5−スルホネート、 25)ジフェニルアミン−4−スルホネート、 26)1−ナフタレンスルホネート、 27)2−ナフタレンスルホネート、 28)2−ナフトール−6−スルホネート、 29)2−ナフトール−7−スルホネート、 30)アントラキノン−1−スルホネート、 31)アントラキノン−2−スルホネート、 32)9、10−ジメトキシアントラセン−2−スルホ
ネート、 33)9、10−ジエトキシアントラセン−2−スルホ
ネート、 34)キノリン−8−スルホネート、 35)8−ヒドロキシキノリン−5−スルホネート、 36)8−アニリノ−ナフタレン−1−スルホネート などが挙げられる。
On the other hand, among the counter anions of these onium salts, particularly preferred examples of the sulfonate ion include: 1) methanesulfonate, 2) ethanesulfonate, 3) 1-propanesulfonate, 4) 2-propanesulfonate. 5) n-butanesulfonate, 6) allylsulfonate, 7) 10-camphorsulfonate, 8) trifluoromethanesulfonate, 9) pentafluoroethanesulfonate, 10) benzenesulfonate, 11) p-toluenesulfonate, 12) 3-methoxy Benzenesulfonate, 13) 4-methoxybenzenesulfonate, 14) 4-hydroxybenzenesulfonate, 15) 4-chlorobenzenesulfonate, 16) 3-nitrobenzenesulfonate, 17) 4-d Lobenzenesulfonate, 18) 4-acetylbenzenesulfonate, 19) pentafluorobenzenesulfonate, 20) 4-dodecylbenzenesulfonate, 21) mesitylenesulfonate, 22) 2,4,6-triisopropylbenzenesulfonate, 23) 2-hydroxy -4-methoxybenzophenone-
5-sulfonate, 24) dimethyl-5-sulfonate isophthalate, 25) diphenylamine-4-sulfonate, 26) 1-naphthalene sulfonate, 27) 2-naphthalene sulfonate, 28) 2-naphthol-6-sulfonate, 29) 2- Naphthol-7-sulfonate, 30) anthraquinone-1-sulfonate, 31) anthraquinone-2-sulfonate, 32) 9,10-dimethoxyanthracene-2-sulfonate, 33) 9,10-diethoxyanthracene-2-sulfonate, 34 ) Quinoline-8-sulfonate, 35) 8-hydroxyquinoline-5-sulfonate, 36) 8-anilino-naphthalene-1-sulfonate.

【0091】また、 41)m−ベンゼンジスルホネート、 42)ベンズアルデヒド−2、4−ジスルホネート、 43)1、5−ナフタレンジスルホネート、 44)2、6−ナフタレンジスルホネート、 45)2、7−ナフタレンジスルホネート、 46)アントラキノン−1、5−ジスルホネート、 47)アントラキノン−1、8−ジスルホネート、 48)アントラキノン−2、6−ジスルホネート、 49)9、10−ジメトキシアントラセン−2、6−ジ
スルホネート、 50)9、10−ジエトキシアントラセン−2、6−ジ
スルホネート、 などのジスルホネート類とオニウム塩カチオン2当量と
の塩も用いることができる。
Also, 41) m-benzene disulfonate, 42) benzaldehyde-2,4-disulfonate, 43) 1,5-naphthalenedisulfonate, 44) 2,6-naphthalenedisulfonate, 45) 2, 7- Naphthalenedisulfonate, 46) anthraquinone-1,5-disulfonate, 47) anthraquinone-1,8-disulfonate, 48) anthraquinone-2,6-disulfonate, 49) 9,10-dimethoxyanthracene-2,6- Disulfonates, 50) 9,10-diethoxyanthracene-2,6-disulfonate, and the like, and salts of two equivalents of an onium salt cation can also be used.

【0092】本発明で良好に用いられるオニウム塩スル
ホネートは、対応するCl- 塩などを、スルホン酸又は
スルホン酸ナトリウム又はカリウム塩と水中、あるいは
アルコールなどの親水性溶媒と水との混合溶媒中でまぜ
あわせて塩交換を行うことにより、得ることができる。
オニウム化合物の合成は既知の方法で行うことができ、
たとえば丸善・新実験化学講座14−I巻の2・3章
(p.448)、14−III 巻の8・16章(p.18
38)、同7・14章(p.1564)、J.W.Kn
apczyk他、ジャーナル オブ アメリカン ケミ
カルソサエティ(J.Am.Chem.Soc.)91
巻、145(1969)、A.L.Maycok他、ジ
ャーナルオブ オーガニック ケミストリィ(J.Or
g.Chem.)35巻、2532(1970)、J.
V.Crivello他、ポリマー ケミストリィ エ
ディション(Polym.Chem.Ed.)18巻、
2677(1980)、米国特許第2,807,648
号、同4,247,473号の各明細書、特開昭53−
101331号、特公平5−53166号の各公報等に
記載の方法で合成することができる。本発明で酸発生剤
として良好に使用されるオニウム塩スルホネートの好ま
しい例を以下に示す。
The onium salt sulfonate preferably used in the present invention can be prepared by converting the corresponding Cl - salt or the like into a mixed solvent of sulfonic acid or sodium or potassium sulfonate and water, or a mixed solvent of a hydrophilic solvent such as alcohol and water. It can be obtained by performing salt exchange together.
Synthesis of the onium compound can be performed by a known method,
For example, Maruzen and New Experimental Chemistry Course 14-I, Chapter 2.3 (p.448), and Volume 14-III, Chapter 8.16 (p.18)
38), Chapter 7-14 (p. 1564); W. Kn
apczyk et al., Journal of American Chemical Society (J. Am. Chem. Soc.) 91
Vol., 145 (1969); L. Maycok et al., Journal of Organic Chemistry (J. Or
g. Chem. 35, 2532 (1970);
V. Crivello et al., Polymer Chemistry Edition (Polym. Chem. Ed.), Vol. 18,
2677 (1980); U.S. Pat. No. 2,807,648.
Nos. 4,247,473 and JP-A-53-473.
Compounds can be synthesized by the methods described in JP-B Nos. 101331 and 5-53166. Preferred examples of the onium salt sulfonate favorably used as an acid generator in the present invention are shown below.

【0093】[0093]

【化31】 Embedded image

【0094】[0094]

【化32】 Embedded image

【0095】[0095]

【化33】 Embedded image

【0096】[0096]

【化34】 Embedded image

【0097】[0097]

【化35】 Embedded image

【0098】[0098]

【化36】 Embedded image

【0099】[0099]

【化37】 Embedded image

【0100】[0100]

【化38】 Embedded image

【0101】[0101]

【化39】 Embedded image

【0102】[0102]

【化40】 Embedded image

【0103】[0103]

【化41】 Embedded image

【0104】[0104]

【化42】 Embedded image

【0105】本発明において、これらの酸発生剤は、画
像記録材料全固形分に対し0.01〜50重量%、好ま
しくは0.1〜25重量%、より好ましくは0. 5〜2
0重量%の割合で画像記録材料中に添加される。添加量
が0.01重量%未満の場合は、画像が得られず、また
添加量が50重量%を超える場合は、印刷時に非画像部
に汚れが発生するためいずれも好ましくない。これらの
化合物は単独で使用してもよく、また2種以上を組み合
わせて使用してもよい。
In the present invention, these acid generators are used in an amount of 0.01 to 50% by weight, preferably 0.1 to 25% by weight, more preferably 0.5 to 2% by weight based on the total solid content of the image recording material.
0% by weight is added to the image recording material. When the addition amount is less than 0.01% by weight, no image is obtained, and when the addition amount is more than 50% by weight, non-image portions are stained at the time of printing. These compounds may be used alone or in combination of two or more.

【0106】[(B)酸により架橋する架橋剤]本発明
に用いることのできる酸により架橋する架橋剤(以下、
適宜、「酸架橋剤」又は単に「架橋剤」と称する)つい
て説明する。本発明に好ましく用いられる架橋剤として
は、以下のものが挙げられる。 (i)アルコキシメチル基若しくはヒドロキシメチル基
で置換された芳香族化合物 (ii)N−ヒドロキシメチル基、N−アルコキシメチル
基若しくはN−アシルオキシメチル基を有する化合物 (iii) エポキシ化合物 これらについて詳細に説明する。 (i)アルコキシメチル基若しくはヒドロキシメチル基
で置換された芳香族化合物としては、例えば、ヒドロキ
シメチル基、アセトキシメチル基、若しくはアルコキシ
メチル基でポリ置換されている芳香族化合物及び複素環
化合物が挙げられる。但し、レゾール樹脂として知られ
るフェノール類とアルデヒド類とを塩基性条件下で重縮
合させた樹脂状の化合物は含まない。レゾール樹脂は架
橋性に優れるものの、熱安定性が充分でなく、特に感光
性の材料に含有させて高温下に長期間保存した場合、均
一な現像が困難となり好ましくない。
[(B) Crosslinking Agent Cross-Linked by Acid] A cross-linking agent crosslinked by an acid (hereinafter referred to as “B”) which can be used in the present invention.
The “acid crosslinking agent” or simply “crosslinking agent” as appropriate) will be described. Examples of the crosslinking agent preferably used in the present invention include the following. (I) an aromatic compound substituted with an alkoxymethyl group or a hydroxymethyl group (ii) a compound having an N-hydroxymethyl group, an N-alkoxymethyl group or an N-acyloxymethyl group (iii) an epoxy compound These will be described in detail. I do. (I) Examples of the aromatic compound substituted with an alkoxymethyl group or a hydroxymethyl group include an aromatic compound and a heterocyclic compound poly-substituted with a hydroxymethyl group, an acetoxymethyl group, or an alkoxymethyl group. . However, it does not include resinous compounds obtained by polycondensing phenols and aldehydes known as resol resins under basic conditions. Although the resole resin is excellent in crosslinkability, it does not have sufficient thermal stability. In particular, when the resol resin is contained in a photosensitive material and stored at a high temperature for a long period of time, uniform development becomes difficult, which is not preferable.

【0107】ヒドロキシメチル基又はアルコキシメチル
基でポリ置換された芳香族化合物及び複素環化合物のな
かでは、ヒドロキシ基に隣接する位置にヒドロキシメチ
ル基又はアルコキシメチル基を有する化合物を好ましい
例として挙げることができる。アルコキシメチル基の場
合はアルコキシメチル基が炭素数18以下の化合物であ
ることが好ましい。特に好ましい例として下記一般式
(1)〜(4)で表される化合物を挙げることができ
る。
Among aromatic compounds and heterocyclic compounds poly-substituted with a hydroxymethyl group or an alkoxymethyl group, compounds having a hydroxymethyl group or an alkoxymethyl group at a position adjacent to the hydroxy group are preferred. it can. In the case of an alkoxymethyl group, the alkoxymethyl group is preferably a compound having 18 or less carbon atoms. Particularly preferred examples include compounds represented by the following general formulas (1) to (4).

【0108】[0108]

【化43】 Embedded image

【0109】[0109]

【化44】 Embedded image

【0110】一般式(1)〜(4)中、L1 〜L8 はそ
れぞれ独立にメトキシメチル、エトキシメチル等のよう
に炭素数十八以下のアルコキシ基で置換されたヒドロキ
シメチル基又はアルコキシメチル基を示す。これらは架
橋効率が高く、耐刷性を向上させることができる点で好
ましい。上記に例示された架橋性化合物は、単独で使用
してもよく、2種以上を組み合わせて使用してもよい。
In the general formulas (1) to (4), L 1 to L 8 each independently represent a hydroxymethyl group or an alkoxymethyl group substituted by an alkoxy group having 18 or less carbon atoms such as methoxymethyl, ethoxymethyl and the like. Represents a group. These are preferred because they have high crosslinking efficiency and can improve printing durability. The crosslinking compounds exemplified above may be used alone or in combination of two or more.

【0111】(ii)N−ヒドロキシメチル基、N−アル
コキシメチル基若しくはN−アシルオキシメチル基を有
する化合物としては、欧州特許公開(以下、EP−Aと
記載する)第0,133,216号、西独特許第3,6
34,671号、同第3,711,264号に開示され
た単量体及びオリゴマー−メラミン−ホルムアルデヒド
縮合物並びに尿素−ホルムアルデヒド縮合物、EP−A
第0,212,482号明細書に開示されたアルコキシ
置換化合物等が挙げられる。さらに好ましい例として
は、例えば、少なくとも2個の遊離N−ヒドロキシメチ
ル基、N−アルコキシメチル基若しくはN−アシルオキ
シメチル基を有するメラミン−ホルムアルデヒド誘導体
が挙げられ、中でもN−アルコキシメチル誘導体が特に
好ましい。
(Ii) Compounds having an N-hydroxymethyl group, an N-alkoxymethyl group or an N-acyloxymethyl group include those disclosed in European Patent Publication (hereinafter referred to as EP-A) No. 0,133,216, West German Patent No. 3,6
No. 34,671, No. 3,711,264, monomer and oligomer-melamine-formaldehyde condensate and urea-formaldehyde condensate, EP-A
And the alkoxy-substituted compounds disclosed in Japanese Patent No. 0,212,482. More preferred examples include, for example, melamine-formaldehyde derivatives having at least two free N-hydroxymethyl groups, N-alkoxymethyl groups or N-acyloxymethyl groups, among which N-alkoxymethyl derivatives are particularly preferred.

【0112】(iii) エポキシ化合物としては、一つ以上
のエポキシ基を含む、モノマー、ダイマー、オリゴマ
ー、ポリマー状のエポキシ化合物を挙げることができ
る。例えば、ビスフェノールAとエピクロルヒドリンと
の反応生成物、低分子量フェノール−ホルムアルデヒド
樹脂とエピクロルヒドリンとの反応生成物等が挙げられ
る。その他、米国特許第4,026,705号、英国特
許第1,539,192号の各明細書に記載され、使用
されているエポキシ樹脂を挙げることができる。
(Iii) Examples of the epoxy compound include monomer, dimer, oligomer, and polymer epoxy compounds containing one or more epoxy groups. For example, a reaction product of bisphenol A with epichlorohydrin, a reaction product of a low molecular weight phenol-formaldehyde resin with epichlorohydrin and the like can be mentioned. Other examples include epoxy resins described and used in U.S. Pat. No. 4,026,705 and British Patent 1,539,192.

【0113】以上の(i)〜(iii) の本発明に用いるこ
とのできる架橋剤は、画像記録材料全固形分に対し、5
〜80重量%、好ましくは10〜75重量%、特に好ま
しくは20〜70重量%の範囲である。架橋剤の添加量
が5重量%未満であると得られる画像記録材料の感光層
の耐久性が悪化し、また、80重量%を超えると保存時
の安定性の観点から好ましくない。
The crosslinking agent (i) to (iii) which can be used in the present invention is 5 to 5% of the total solid content of the image recording material.
It is in the range of -80% by weight, preferably 10-75% by weight, particularly preferably 20-70% by weight. If the addition amount of the crosslinking agent is less than 5% by weight, the durability of the photosensitive layer of the obtained image recording material is deteriorated, and if it exceeds 80% by weight, it is not preferable from the viewpoint of storage stability.

【0114】(iv)本発明では、架橋剤として、下記一
般式(5)で表されるフェノール誘導体を使用すること
も好ましい。
(Iv) In the present invention, it is also preferable to use a phenol derivative represented by the following general formula (5) as a crosslinking agent.

【0115】[0115]

【化45】 Embedded image

【0116】上記一般式(5)中、Ar1 は、置換基を
有していても良い芳香族炭化水素環を示す。原料の入手
性から、芳香族炭化水素環としては、ベンゼン環、ナフ
タレン環又はアントラセン環が好ましい。また、好まし
い置換基としては、ハロゲン原子、炭素数12個以下の
炭化水素基、炭素数12個以下のアルコキシ基、炭素数
12個以下のアルキルチオ基、シアノ基、ニトロ基、ト
リフルオロメチル基等が挙げられる。感度が高いという
理由で、Ar1 としては、置換基を有していないベンゼ
ン環及びナフタレン環、又は、ハロゲン原子、炭素数6
個以下の炭化水素基、炭素数6個以下のアルコキシ基、
炭素数6個以下のアルキルチオ基、ニトロ基等を置換基
として有するベンゼン環及びナフタレン環が特に好まし
い。一般式(5)において、R1 及びR2 は、それぞれ
同じでも異なっていても良く、水素原子又は炭素数12
個以下の炭化水素基を示す。合成が容易であるという理
由から、R1 及びR2 は、水素原子又はメチル基である
ことが特に好ましい。R3 は、水素原子又は炭素数12
個以下の炭化水素基を示す。感度が高いという理由で、
3 は、例えばメチル基、エチル基、プロピル基、シク
ロヘキシル基、ベンジル基等の炭素数7個以下の炭化水
素基であることが特に好ましい。mは、2〜4の整数を
示す。nは、1〜3の整数を示す。
In the above general formula (5), Ar 1 represents an aromatic hydrocarbon ring which may have a substituent. From the viewpoint of availability of raw materials, the aromatic hydrocarbon ring is preferably a benzene ring, a naphthalene ring or an anthracene ring. Preferred examples of the substituent include a halogen atom, a hydrocarbon group having 12 or less carbon atoms, an alkoxy group having 12 or less carbon atoms, an alkylthio group having 12 or less carbon atoms, a cyano group, a nitro group, and a trifluoromethyl group. Is mentioned. Because of high sensitivity, Ar 1 includes an unsubstituted benzene ring and a naphthalene ring, or a halogen atom,
Hydrocarbon groups or less, alkoxy groups having 6 or less carbon atoms,
A benzene ring and a naphthalene ring each having, as a substituent, an alkylthio group or a nitro group having 6 or less carbon atoms are particularly preferable. In the general formula (5), R 1 and R 2 may be the same or different, and each represents a hydrogen atom or a carbon atom
And not more than hydrocarbon groups. It is particularly preferable that R 1 and R 2 are a hydrogen atom or a methyl group because of easy synthesis. R 3 is a hydrogen atom or a carbon atom
And not more than hydrocarbon groups. Because of the high sensitivity,
R 3 is particularly preferably a hydrocarbon group having 7 or less carbon atoms, such as a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a cyclohexyl group, and a benzyl group. m shows the integer of 2-4. n shows the integer of 1-3.

【0117】本発明において好適に用いられる上記一般
式(5)で表されるフェノール誘導体の具体例を以下に
示す(架橋剤[KZ−1]〜[KZ−8])が、本発明
はこれに制限されるものではない。
Specific examples of the phenol derivative represented by formula (5) preferably used in the present invention are shown below (crosslinking agents [KZ-1] to [KZ-8]). It is not limited to.

【0118】[0118]

【化46】 Embedded image

【0119】[0119]

【化47】 Embedded image

【0120】これらのフェノール誘導体は、従来公知の
方法により合成できる。例えば[KZ−1]は、フェノ
ール、ホルムアルデヒド及び、ジメチルアミンやモルホ
リン等の2級アミンを反応させ、トリ(ジアルキルアミ
ノメチル)フェノールとし、次に無水酢酸と反応させ、
さらに炭酸カリウム等の弱アルカリ存在下、エタノール
と反応させることにより、下記反応式[1]に表す如き
経路で合成することができる。 反応式[1]
These phenol derivatives can be synthesized by a conventionally known method. For example, [KZ-1] reacts phenol, formaldehyde, and a secondary amine such as dimethylamine and morpholine to form tri (dialkylaminomethyl) phenol, and then reacts with acetic anhydride.
Further, by reacting with ethanol in the presence of a weak alkali such as potassium carbonate, the compound can be synthesized by a route represented by the following reaction formula [1]. Reaction formula [1]

【0121】[0121]

【化48】 Embedded image

【0122】さらに、別の方法によっても合成できる。
例えば[KZ−1]は、フェノールとホルムアルデヒド
又はパラホルムアルデヒドを、KOH等のアルカリ存在
下反応させ、2,4,6−トリヒドロキシメチルフェノ
ールとし、引き続き硫酸等の酸存在下、エタノールと反
応させることにより、下記反応式[2]に表す如き経路
でも合成することができる。 反応式[2]
Further, it can be synthesized by another method.
For example, [KZ-1] is obtained by reacting phenol with formaldehyde or paraformaldehyde in the presence of an alkali such as KOH to give 2,4,6-trihydroxymethylphenol, and then reacting with ethanol in the presence of an acid such as sulfuric acid. Thus, the compound can also be synthesized by a route represented by the following reaction formula [2]. Reaction formula [2]

【0123】[0123]

【化49】 Embedded image

【0124】これらのフェノール誘導体は単独で使用し
てもよく、また2種類以上を組み合わせて使用してもよ
い。また、これらのフェノール誘導体を合成する際、フ
ェノール誘導体同士が縮合して2量体や3量体等の不純
物が副生成する場合があるが、これらの不純物を含有し
たまま用いても良い。なお、この場合でも、不純物は3
0%以下であることが好ましく、20%以下であること
がさらに好ましい。
These phenol derivatives may be used alone or in combination of two or more. Further, when synthesizing these phenol derivatives, the phenol derivatives may condense with each other to produce by-products such as dimers and trimers, but the phenol derivatives may be used while containing these impurities. In this case, the impurity is 3
It is preferably at most 0%, more preferably at most 20%.

【0125】本発明において、フェノール誘導体は全画
像記録材料固形分中、5〜70重量%、好ましくは10
〜50重量%の添加量で用いられる。ここで、架橋剤と
してのフェノール誘導体の添加量が5重量%未満である
と画像記録した際の画像部の膜強度が悪化し、また、7
0重量%を越えると保存時の安定性の点で好ましくな
い。
In the present invention, the phenol derivative accounts for 5 to 70% by weight, preferably 10% by weight, based on the total solid content of the image recording material.
It is used in an amount of 〜50% by weight. Here, when the addition amount of the phenol derivative as a cross-linking agent is less than 5% by weight, the film strength of the image portion when the image is recorded is deteriorated.
Exceeding 0% by weight is not preferred in terms of stability during storage.

【0126】[(C)アルカリ可溶性樹脂]本発明にお
いて使用されるアルカリ可溶性樹脂としては、ノボラッ
ク樹脂や側鎖にヒドロキシアリール基を有するポリマー
などが挙げられる。本発明においてアルカリ可溶性樹脂
として使用しうるノボラック樹脂は、フェノール類とア
ルデヒド類を酸性条件下で縮合させた樹脂である。好ま
しいノボラック樹脂としては、例えばフェノールとホル
ムアルデヒドから得られるノボラック樹脂、m−クレゾ
ールとホルムアルデヒドから得られるノボラック樹脂、
p−クレゾールとホルムアルデヒドから得られるノボラ
ック樹脂、o−クレゾールとホルムアルデヒドから得ら
れるノボラック樹脂、オクチルフェノールとホルムアル
デヒドから得られるノボラック樹脂、m−/p−混合ク
レゾールとホルムアルデヒドから得られるノボラック樹
脂、フェノール/クレゾール(m−,p−,o−又はm
−/p−,m−/o−,o−/p−混合のいずれでもよ
い)の混合物とホルムアルデヒドから得られるノボラッ
ク樹脂などが挙げられる。これらのノボラック樹脂は、
重量平均分子量が800〜200,000で、数平均分
子量が400〜60,000のものが好ましい。
[(C) Alkali-soluble resin] Examples of the alkali-soluble resin used in the present invention include a novolak resin and a polymer having a hydroxyaryl group in a side chain. The novolak resin that can be used as the alkali-soluble resin in the present invention is a resin obtained by condensing phenols and aldehydes under acidic conditions. Preferred novolak resins include, for example, a novolak resin obtained from phenol and formaldehyde, a novolak resin obtained from m-cresol and formaldehyde,
Novolak resin obtained from p-cresol and formaldehyde, novolak resin obtained from o-cresol and formaldehyde, novolak resin obtained from octylphenol and formaldehyde, novolak resin obtained from m- / p-mixed cresol and formaldehyde, phenol / cresol ( m-, p-, o- or m
-/ P-, m- / o-, o- / p-) and a novolak resin obtained from formaldehyde. These novolak resins are
Those having a weight average molecular weight of 800 to 200,000 and a number average molecular weight of 400 to 60,000 are preferred.

【0127】また、本発明におけるアルカリ可溶性樹脂
としては、側鎖にヒドロキシアリール基を有するポリマ
ーも好ましく挙げることができる。このポリマーにおい
て、ヒドロキシアリール基とは−OH基が1個以上結合
したアリール基を示す。アリール基としては例えば、フ
ェニル基、ナフチル基、アントラセニル基、フェナント
レニル基等を挙げることができるが、入手の容易さ及び
物性の観点から、フェニル基あるいはナフチル基が好ま
しい。従って、ヒドロキシアリール基としては、ヒドロ
キシフェニル基、ジヒドロキシフェニル基、トリヒドロ
キシフェニル基、テトラヒドロキシフェニル基、ヒドロ
キシナフチル基、ジヒドロキシナフチル基等が好まし
い。これらのヒドロキシアリール基は、さらに、ハロゲ
ン原子、炭素数20個以下の炭化水素基、炭素数20個
以下のアルコキシ基及び炭素数20個以下のアリールオ
キシ基等の置換基を有していてもよい。これらのヒドロ
キシアリール基は、ポリマーの側鎖としてペンダント状
にポリマー主鎖へ結合しているが、主鎖との間に連結基
を有していても良い。
Further, as the alkali-soluble resin in the present invention, a polymer having a hydroxyaryl group in a side chain can also be preferably mentioned. In this polymer, a hydroxyaryl group refers to an aryl group in which one or more -OH groups are bonded. Examples of the aryl group include a phenyl group, a naphthyl group, an anthracenyl group, and a phenanthrenyl group. From the viewpoint of availability and physical properties, a phenyl group or a naphthyl group is preferable. Accordingly, the hydroxyaryl group is preferably a hydroxyphenyl group, a dihydroxyphenyl group, a trihydroxyphenyl group, a tetrahydroxyphenyl group, a hydroxynaphthyl group, a dihydroxynaphthyl group, or the like. These hydroxyaryl groups may further have a substituent such as a halogen atom, a hydrocarbon group having 20 or less carbon atoms, an alkoxy group having 20 or less carbon atoms, and an aryloxy group having 20 or less carbon atoms. Good. These hydroxyaryl groups are pendantly bonded to the polymer main chain as side chains of the polymer, but may have a linking group with the main chain.

【0128】本発明において好適に用いられる、側鎖に
ヒドロキシアリール基を有するポリマーは、下記一般式
(IX)〜(XII) で表される構成単位の内いずれか1種を
含有するポリマーである。
The polymer having a hydroxyaryl group in the side chain suitably used in the present invention is a polymer containing any one of the structural units represented by the following general formulas (IX) to (XII). .

【0129】[0129]

【化50】 Embedded image

【0130】一般式(IX)〜(XII) 中、R11は水素原子
又はメチル基を示す。R12及びR13は、同じでも異なっ
ていてもよく、水素原子、ハロゲン原子、炭素数10個
以下の炭化水素基、炭素数10個以下のアルコキシ基又
は、炭素数10個以下のアリールオキシ基を示す。ま
た、R12とR13が結合して、縮環したベンゼン環やシク
ロヘキサン環を形成していても良い。R14は、単結合又
は、炭素数20個以下の2価の炭化水素基を示す。R15
は、単結合又は、炭素数20個以下の2価の炭化水素基
を示す。R16は、単結合又は、炭素数10個以下の2価
の炭化水素基を示す。X1は、単結合、エーテル結合、
チオエーテル結合、エステル結合又はアミド結合を示
す。pは1〜4の整数を示す。q及びrはそれぞれ0〜
3の整数を示す。)
In the general formulas (IX) to (XII), R 11 represents a hydrogen atom or a methyl group. R 12 and R 13 may be the same or different and are a hydrogen atom, a halogen atom, a hydrocarbon group having 10 or less carbon atoms, an alkoxy group having 10 or less carbon atoms, or an aryloxy group having 10 or less carbon atoms. Is shown. R 12 and R 13 may combine to form a condensed benzene ring or cyclohexane ring. R 14 represents a single bond or a divalent hydrocarbon group having 20 or less carbon atoms. R 15
Represents a single bond or a divalent hydrocarbon group having 20 or less carbon atoms. R 16 represents a single bond or a divalent hydrocarbon group having 10 or less carbon atoms. X1 is a single bond, an ether bond,
Shows a thioether bond, an ester bond or an amide bond. p shows the integer of 1-4. q and r are each 0
Indicates an integer of 3. )

【0131】一般式(IX)〜(XII) で表される構成単位
のうち、本発明において好適に用いられる具体的な構成
単位の例を以下に挙げる。
Among the structural units represented by formulas (IX) to (XII), examples of specific structural units suitably used in the present invention are shown below.

【0132】[0132]

【化51】 Embedded image

【0133】[0133]

【化52】 Embedded image

【0134】[0134]

【化53】 Embedded image

【0135】[0135]

【化54】 Embedded image

【0136】[0136]

【化55】 Embedded image

【0137】これらのポリマーは、従来公知の方法によ
り合成することができる。例えば、一般式(IX)で表さ
れる構成単位を有するポリマーは、ヒドロキシ基を酢酸
エステルあるいはt−ブチルエーテルとして保護され
た、対応するスチレン誘導体をラジカル重合もしくはア
ニオン重合しポリマーとした後、脱保護することにより
得られる。また、一般式(X)で表される構成単位を有
するポリマーは、特開昭64−32256号及び同64
−35436号の各公報等に記載されている方法により
合成することができる。さらに、一般式(XI)で表され
る構成単位を有するポリマーは、ヒドロキシ基を有する
アミン化合物と無水マレイン酸を反応させ、対応するモ
ノマーを得た後、ラジカル重合によりポリマーとするこ
とにより得られる。また、一般式(XII) で表される構成
単位を有するポリマーは、クロロメチルスチレンやカル
ボキシスチレン等、合成上有用な官能基を持つスチレン
類を原料として一般(XII) に対応するモノマーへ誘導
し、さらにラジカル重合によりリマーとすることにより
得られる。
These polymers can be synthesized by a conventionally known method. For example, a polymer having a structural unit represented by the general formula (IX) is obtained by subjecting a corresponding styrene derivative in which a hydroxy group is protected as an acetic ester or t-butyl ether to a polymer by radical polymerization or anion polymerization, and then deprotecting the polymer. It is obtained by doing. Polymers having a structural unit represented by formula (X) are described in JP-A-64-32256 and JP-A-64-32256.
The compound can be synthesized by a method described in each publication of JP-A-35436. Further, the polymer having the structural unit represented by the general formula (XI) is obtained by reacting an amine compound having a hydroxy group with maleic anhydride to obtain a corresponding monomer, and then forming the polymer by radical polymerization. . Further, the polymer having the structural unit represented by the general formula (XII) is derived from a styrene having a functional group useful in synthesis such as chloromethylstyrene or carboxystyrene as a raw material to a monomer corresponding to the general (XII). And further obtained by making it into a rimer by radical polymerization.

【0138】本発明では、一般式(IX)〜(XII) で表さ
れる構成単位のみから成るホモポリマーであっても良い
が、他の構成単位をも含む共重合体であっても良い。好
適に用いられる他の構成単位としては、例えば、アクリ
ル酸エステル類、メタクリル酸エステル類、アクリルア
ミド類、メタクリルアミド類、ビニルエステル類、スチ
レン類、アクリル酸、メタクリル酸、アクリロニトリ
ル、無水マレイン酸、マレイン酸イミド等の公知のモノ
マーより導入される構成単位が挙げられる。
In the present invention, a homopolymer composed of only the structural units represented by the general formulas (IX) to (XII) may be used, or a copolymer containing other structural units may be used. Other structural units suitably used include, for example, acrylic esters, methacrylic esters, acrylamides, methacrylamides, vinyl esters, styrenes, acrylic acid, methacrylic acid, acrylonitrile, maleic anhydride, maleic anhydride Structural units introduced from known monomers such as acid imides are exemplified.

【0139】用いることのできるアクリル酸エステル類
の具体例としては、メチルアクリレート、エチルアクリ
レート、(n−又はi−)プロピルアクリレート、(n
−、i−、sec−又はt−)ブチルアクリレート、ア
ミルアクリレート、2−エチルヘキシルアクリレート、
ドデシルアクリレート、クロロエチルアクリレート、2
−ヒドロキシエチルアクリレート、2−ヒドロキシプロ
ピルアクリレート、5−ヒドロキシペンチルアクリレー
ト、シクロヘキシルアクリレート、アリルアクリレー
ト、トリメチロールプロパンモノアクリレート、ペンタ
エリスリトールモノアクリレート、グリシジルアクリレ
ート、ベンジルアクリレート、メトキシベンジルアクリ
レート、クロロベンジルアクリレート、2−(p−ヒド
ロキシフェニル)エチルアクリレート、フルフリルアク
リレート、テトラヒドロフルフリルアクリレート、フェ
ニルアクリレート、クロロフェニルアクリレート、スル
ファモイルフェニルアクリレート等が挙げられる。
Specific examples of the acrylates that can be used include methyl acrylate, ethyl acrylate, (n- or i-) propyl acrylate, and (n
-, I-, sec- or t-) butyl acrylate, amyl acrylate, 2-ethylhexyl acrylate,
Dodecyl acrylate, chloroethyl acrylate, 2
-Hydroxyethyl acrylate, 2-hydroxypropyl acrylate, 5-hydroxypentyl acrylate, cyclohexyl acrylate, allyl acrylate, trimethylolpropane monoacrylate, pentaerythritol monoacrylate, glycidyl acrylate, benzyl acrylate, methoxy benzyl acrylate, chlorobenzyl acrylate, 2- (P-hydroxyphenyl) ethyl acrylate, furfuryl acrylate, tetrahydrofurfuryl acrylate, phenyl acrylate, chlorophenyl acrylate, sulfamoylphenyl acrylate, and the like.

【0140】メタクリル酸エステル類の具体例として
は、メチルメタクリレート、エチルメタクリレート、
(n−又はi−)プロピルメタクリレート、(n−、i
−、sec−又はt−)ブチルメタクリレート、アミル
メタクリレート、2−エチルヘキシルメタクリレート、
ドデシルメタクリレート、クロロエチルメタクリレー
ト、2−ヒドロキシエチルメタクリレート、2−ヒドロ
キシプロピルメタクリレート、5−ヒドロキシペンチル
メタクリレート、シクロヘキシルメタクリレート、アリ
ルメタクリレート、トリメチロールプロパンモノメタク
リレート、ペンタエリスリトールモノメタクリレート、
グリシジルメタクリレート、メトキシベンジルメタクリ
レート、クロロベンジルメタクリレート、2−(p−ヒ
ドロキシフェニル)エチルメタクリレート、フルフリル
メタクリレート、テトラヒドロフルフリルメタクリレー
ト、フェニルメタクリレート、クロロフェニルメタクリ
レート、スルファモイルフェニルメタクリレート等が挙
げられる。
Specific examples of the methacrylates include methyl methacrylate, ethyl methacrylate,
(N- or i-) propyl methacrylate, (n-, i
-, Sec- or t-) butyl methacrylate, amyl methacrylate, 2-ethylhexyl methacrylate,
Dodecyl methacrylate, chloroethyl methacrylate, 2-hydroxyethyl methacrylate, 2-hydroxypropyl methacrylate, 5-hydroxypentyl methacrylate, cyclohexyl methacrylate, allyl methacrylate, trimethylolpropane monomethacrylate, pentaerythritol monomethacrylate,
Examples include glycidyl methacrylate, methoxybenzyl methacrylate, chlorobenzyl methacrylate, 2- (p-hydroxyphenyl) ethyl methacrylate, furfuryl methacrylate, tetrahydrofurfuryl methacrylate, phenyl methacrylate, chlorophenyl methacrylate, and sulfamoylphenyl methacrylate.

【0141】アクリルアミド類の具体例としては、アク
リルアミド、N−メチルアクリルアミド、N−エチルア
クリルアミド、N−プロピルアクリルアミド、N−ブチ
ルアクリルアミド、N−ベンジルアクリルアミド、N−
ヒドロキシエチルアクリルアミド、N−フェニルアクリ
ルアミド、N−トリルアクリルアミド、N−(p−ヒド
ロキシフェニル)アクリルアミド、N−(スルファモイ
ルフェニル)アクリルアミド、N−(フェニルスルホニ
ル)アクリルアミド、N−(トリルスルホニル)アクリ
ルアミド、N,N−ジメチルアクリルアミド、N−メチ
ル−N−フェニルアクリルアミド、N−ヒドロキシエチ
ル−N−メチルアクリルアミド等が挙げられる。
Specific examples of acrylamides include acrylamide, N-methylacrylamide, N-ethylacrylamide, N-propylacrylamide, N-butylacrylamide, N-benzylacrylamide,
Hydroxyethylacrylamide, N-phenylacrylamide, N-tolylacrylamide, N- (p-hydroxyphenyl) acrylamide, N- (sulfamoylphenyl) acrylamide, N- (phenylsulfonyl) acrylamide, N- (tolylsulfonyl) acrylamide, N, N-dimethylacrylamide, N-methyl-N-phenylacrylamide, N-hydroxyethyl-N-methylacrylamide and the like can be mentioned.

【0142】メタクリルアミド類の具体例としては、メ
タクリルアミド、N−メチルメタクリルアミド、N−エ
チルメタクリルアミド、N−プロピルメタクリルアミ
ド、N−ブチルメタクリルアミド、N−ベンジルメタク
リルアミド、N−ヒドロキシエチルメタクリルアミド、
N−フェニルメタクリルアミド、N−トリルメタクリル
アミド、N−(p−ヒドロキシフェニル)メタクリルア
ミド、N−(スルファモイルフェニル)メタクリルアミ
ド、N−(フェニルスルホニル)メタクリルアミド、N
−(トリルスルホニル)メタクリルアミド、N,N−ジ
メチルメタクリルアミド、N−メチル−N−フェニルメ
タクリルアミド、N−ヒドロキシエチル−N−メチルメ
タクリルアミド等が挙げられる。
Specific examples of methacrylamides include methacrylamide, N-methyl methacrylamide, N-ethyl methacrylamide, N-propyl methacrylamide, N-butyl methacrylamide, N-benzyl methacrylamide, N-hydroxyethyl methacryl Amide,
N-phenyl methacrylamide, N-tolyl methacrylamide, N- (p-hydroxyphenyl) methacrylamide, N- (sulfamoylphenyl) methacrylamide, N- (phenylsulfonyl) methacrylamide, N
-(Tolylsulfonyl) methacrylamide, N, N-dimethylmethacrylamide, N-methyl-N-phenylmethacrylamide, N-hydroxyethyl-N-methylmethacrylamide and the like.

【0143】ビニルエステル類の具体例としては、ビニ
ルアセテート、ビニルブチレート、ビニルベンゾエート
等が挙げられる。スチレン類の具体例としては、スチレ
ン、メチルスチレン、ジメチルスチレン、トリメチルス
チレン、エチルスチレン、プロピルスチレン、シクロヘ
キシルスチレン、クロロメチルスチレン、トリフルオロ
メチルスチレン、エトキシメチルスチレン、アセトキシ
メチルスチレン、メトキシスチレン、ジメトキシスチレ
ン、クロロスチレン、ジクロロスチレン、ブロモスチレ
ン、ヨードスチレン、フルオロスチレン、カルボキシス
チレン等が挙げられる。
Specific examples of vinyl esters include vinyl acetate, vinyl butyrate, vinyl benzoate and the like. Specific examples of styrenes include styrene, methylstyrene, dimethylstyrene, trimethylstyrene, ethylstyrene, propylstyrene, cyclohexylstyrene, chloromethylstyrene, trifluoromethylstyrene, ethoxymethylstyrene, acetoxymethylstyrene, methoxystyrene, and dimethoxystyrene. , Chlorostyrene, dichlorostyrene, bromostyrene, iodostyrene, fluorostyrene, carboxystyrene and the like.

【0144】これらのモノマーのうち特に好適に使用さ
れるのは、炭素数20以下のアクリル酸エステル類、メ
タクリル酸エステル類、アクリルアミド類、メタクリル
アミド類、ビニルエステル類、スチレン類及び、アクリ
ル酸、メタクリル酸、アクリロニトリルである。
Of these monomers, particularly preferably used are acrylic esters, methacrylic esters, acrylamides, methacrylamides, vinyl esters, styrenes and acrylic acids having 20 or less carbon atoms. Methacrylic acid and acrylonitrile.

【0145】これらを用いた共重合体中に含まれる一般
式(IX)〜(XII) で表される構成単位の割合は、5〜1
00重量%であることが好ましく、さらに好ましくは1
0〜100重量%である。また、本発明で使用されるポ
リマーの分子量は好ましくは重量平均分子量で4000
以上であり、更に好ましくは1万〜30万の範囲であ
り、数平均分子量で好ましくは1000以上であり、更
に好ましくは2000〜25万の範囲である。多分散度
(重量平均分子量/数平均分子量)は1以上が好まし
く、更に好ましくは1.1〜10の範囲である。これら
のポリマーは、ランダムポリマー、ブロックポリマー、
グラフトポリマー等いずれでも良いが、ランダムポリマ
ーであることが好ましい。
The proportion of the structural units represented by the general formulas (IX) to (XII) contained in the copolymers using them is from 5 to 1
00% by weight, more preferably 1% by weight.
0 to 100% by weight. Further, the molecular weight of the polymer used in the present invention is preferably 4000 in terms of weight average molecular weight.
And more preferably in the range of 10,000 to 300,000, preferably in the number average molecular weight of 1,000 or more, and more preferably in the range of 2000 to 250,000. The polydispersity (weight average molecular weight / number average molecular weight) is preferably 1 or more, more preferably in the range of 1.1 to 10. These polymers are random polymers, block polymers,
Although any of a graft polymer and the like may be used, a random polymer is preferable.

【0146】本発明で使用されるアルカリ可溶性樹脂は
1種類のみで使用してもよいし、あるいは2種類以上を
組み合わせて使用してもよい。アルカリ可溶性樹脂の添
加量は全画像記録材料固形分中、5〜95重量%、好ま
しくは10〜95重量%、特に好ましくは20〜90重
量%で用いられる。アルカリ可溶性樹脂の添加量が5重
量%未満であると記録層の耐久性が悪化し、また、添加
量が95重量%を超える場合は、画像形成されない。
The alkali-soluble resin used in the present invention may be used alone or in combination of two or more. The alkali-soluble resin is used in an amount of 5 to 95% by weight, preferably 10 to 95% by weight, particularly preferably 20 to 90% by weight, based on the total solid content of the image recording material. If the added amount of the alkali-soluble resin is less than 5% by weight, the durability of the recording layer deteriorates, and if the added amount exceeds 95% by weight, no image is formed.

【0147】[(D)赤外線吸収剤]本発明において使
用される赤外線吸収剤は、波長760nmから1200
nmの赤外線を有効に吸収する染料又は顔料である。好
ましくは、波長760nmから1200nmに吸収極大
を有する染料又は顔料である。染料としては、市販の染
料及び文献(例えば「染料便覧」有機合成化学協会編
集、昭和45年刊)に記載されている公知のものが利用
できる。具体的には、アゾ染料、金属錯塩アゾ染料、ピ
ラゾロンアゾ染料、ナフトキノン染料、アントラキノン
染料、フタロシアニン染料、カルボニウム染料、キノン
イミン染料、メチン染料、シアニン染料、スクワリリウ
ム色素、ピリリウム塩、金属チオレート錯体などの染料
が挙げられる。好ましい染料としては例えば特開昭58
−125246、特開昭59−84356、特開昭59
−202829、特開昭60−78787の各公報等に
記載されているシアニン染料、特開昭58−17369
6、特開昭58−181690、特開昭58−1945
95の各公報等に記載されているメチン染料、特開昭5
8−112793、特開昭58−224793、特開昭
59−48187、特開昭59−73996、特開昭6
0−52940、特開昭60−63744の各公報等に
記載されているナフトキノン染料、特開昭58−112
792公報等に記載されているスクワリリウム色素、英
国特許434,875明細書号記載のシアニン染料等を
挙げることができる。
[(D) Infrared absorber] The infrared absorber used in the present invention has a wavelength of 760 nm to 1200.
It is a dye or pigment that effectively absorbs infrared rays of nm. Preferably, the dye or the pigment has an absorption maximum at a wavelength of 760 nm to 1200 nm. As the dye, commercially available dyes and known dyes described in literatures (for example, "Dye Handbook" edited by The Society of Synthetic Organic Chemistry, published in 1970) can be used. Specifically, dyes such as azo dyes, metal complex salt azo dyes, pyrazolone azo dyes, naphthoquinone dyes, anthraquinone dyes, phthalocyanine dyes, carbonium dyes, quinone imine dyes, methine dyes, cyanine dyes, squarylium dyes, pyrylium salts, and metal thiolate complexes Is mentioned. Preferred dyes include, for example, those described in
-125246, JP-A-59-84356, JP-A-59-84356
Cyanine dyes described in JP-A-202829 and JP-A-60-78787;
6, JP-A-58-181690, JP-A-58-1945
Methine dyes described in Japanese Unexamined Patent Publication No.
8-112793; JP-A-58-224793; JP-A-59-48187; JP-A-59-73996;
Naphthoquinone dyes described in JP-A-52-940 and JP-A-60-63744;
Squarylium dyes described in JP 792 and the like, cyanine dyes described in British Patent No. 434,875, and the like.

【0148】また、米国特許第5,156,938号明
細書に記載の近赤外吸収増感剤も好適に用いられ、ま
た、米国特許第3,881,924号明細書に記載の置
換されたアリールベンゾ(チオ)ピリリウム塩、特開昭
57−142645号公報(米国特許第4,327,1
69号明細書)に記載のトリメチンチアピリリウム塩、
特開昭58−181051、同58−220143、同
59−41363、同59−84248、同59−84
249、同59−146063、同59−146061
に記載されているピリリウム系化合物、特開昭59−2
16146公報記載のシアニン色素、米国特許第4,2
83,475号明細書に記載のペンタメチンチオピリリ
ウム塩等や特公平5−13514号、同5−19702
号の各公報に開示されているピリリウム化合物も好まし
く用いられる。また、染料として好ましい別の例として
米国特許第4,756,993号明細書中に式(I)、
(II)として記載されている近赤外吸収染料を挙げるこ
とができる。これらの染料のうち特に好ましいものとし
ては、シアニン色素、スクワリリウム色素、ピリリウム
塩、ニッケルチオレート錯体が挙げられる。
The near-infrared absorption sensitizer described in US Pat. No. 5,156,938 is also preferably used, and the substituted sensitizer described in US Pat. No. 3,881,924 is used. Arylbenzo (thio) pyrylium salts described in JP-A-57-142645 (U.S. Pat. No. 4,327,1).
No. 69), a trimethine thiapyrylium salt described in
JP-A-58-181051, JP-A-58-220143, JP-A-59-41363, JP-A-59-84248, and JP-A-59-84
249, 59-146063, 59-146061
Pyrylium compounds described in JP-A-59-2
Cyanine dyes described in U.S. Pat.
Pentamethine thiopyrylium salt described in JP-A-83,475, JP-B-5-13514 and JP-B-5-19702.
The pyrylium compounds disclosed in the above publications are also preferably used. Further, as another preferable example of the dye, the compound represented by the formula (I) in U.S. Pat. No. 4,756,993,
Near-infrared absorbing dyes described as (II) can be mentioned. Among these dyes, particularly preferred are cyanine dyes, squarylium dyes, pyrylium salts, and nickel thiolate complexes.

【0149】本発明において使用される顔料としては、
市販の顔料及びカラーインデックス(C.I.)便覧、
「最新顔料便覧」(日本顔料技術協会編、1977年
刊)、「最新顔料応用技術」(CMC出版、1986年
刊)、「印刷インキ技術」CMC出版、1984年刊)
に記載されている顔料が利用できる。顔料の種類として
は、黒色顔料、黄色顔料、オレンジ色顔料、褐色顔料、
赤色顔料、紫色顔料、青色顔料、緑色顔料、蛍光顔料、
金属粉顔料、その他、ポリマー結合色素が挙げられる。
具体的には、不溶性アゾ顔料、アゾレーキ顔料、縮合ア
ゾ顔料、キレートアゾ顔料、フタロシアニン系顔料、ア
ントラキノン系顔料、ペリレン及びペリノン系顔料、チ
オインジゴ系顔料、キナクリドン系顔料、ジオキサジン
系顔料、イソインドリノン系顔料、キノフタロン系顔
料、染付けレーキ顔料、アジン顔料、ニトロソ顔料、ニ
トロ顔料、天然顔料、蛍光顔料、無機顔料、カーボンブ
ラック等が使用できる。これらの顔料のうち好ましいも
のはカーボンブラックである。
The pigment used in the present invention includes
Commercial Pigment and Color Index (CI) Handbook,
"Latest Pigment Handbook" (edited by Japan Pigment Technical Association, 1977), "Latest Pigment Application Technology" (CMC Publishing, 1986), "Printing Ink Technology" CMC Publishing, 1984)
Can be used. The types of pigments include black pigment, yellow pigment, orange pigment, brown pigment,
Red pigment, purple pigment, blue pigment, green pigment, fluorescent pigment,
Metal powder pigments and other polymer-bound dyes can be used.
Specifically, insoluble azo pigments, azo lake pigments, condensed azo pigments, chelated azo pigments, phthalocyanine pigments, anthraquinone pigments, perylene and perinone pigments, thioindigo pigments, quinacridone pigments, dioxazine pigments, isoindolinone pigments And quinophthalone pigments, dyed lake pigments, azine pigments, nitroso pigments, nitro pigments, natural pigments, fluorescent pigments, inorganic pigments, carbon black and the like. Preferred among these pigments is carbon black.

【0150】前記顔料は、表面処理をせずに用いてもよ
く、表面処理をほどこして用いてもよい。表面処理の方
法には樹脂やワックスを表面コートする方法、界面活性
剤を付着させる方法、反応性物質(例えば、シランカッ
プリング剤やエポキシ化合物、ポリイソシアネート等)
を顔料表面に結合させる方法等が考えられる。上記の表
面処理方法は、「金属石鹸の性質と応用」(幸書房)、
「印刷インキ技術」(CMC出版、1984年刊)及び
「最新顔料応用技術」(CMC出版、1986年刊)に
記載されている。
The pigment may be used without surface treatment, or may be used after surface treatment. Methods of surface treatment include a method of surface-coating a resin or wax, a method of attaching a surfactant, and a reactive substance (for example, a silane coupling agent, an epoxy compound, or a polyisocyanate).
Can be conceived on the surface of the pigment. The above surface treatment methods are described in "Properties and Applications of Metallic Soap" (Koshobo),
It is described in "Printing Ink Technology" (CMC Publishing, 1984) and "Latest Pigment Application Technology" (CMC Publishing, 1986).

【0151】前記顔料の粒径としては、0.01μm〜
10μmであることが好ましく、0.05μm〜1μm
であることがより好ましく、0.1μm〜1μmである
ことが特に好ましい。前記顔料の粒径が、0.01μm
未満であると分散物の感光層塗布液中での安定性の点で
好ましくなく、10μmを超えると画像記録層の均一性
の点で好ましくない。前記顔料を分散する方法として
は、インク製造やトナー製造等に汎用される、分散機を
用いた公知の分散技術が使用できる。前記分散機として
は、超音波分散器、サンドミル、アトライター、パール
ミル、スーパーミル、ボールミル、インペラー、デスパ
ーザー、KDミル、コロイドミル、ダイナトロン、3本
ロールミル、加圧ニーダー等が挙げられる。詳細は、
「最新顔料応用技術」(CMC出版、1986年刊)に
記載がある。
The pigment has a particle size of 0.01 μm to
10 μm, preferably 0.05 μm to 1 μm
Is more preferable, and particularly preferably 0.1 μm to 1 μm. The particle size of the pigment is 0.01 μm
If it is less than 10 μm, it is not preferred in terms of the stability of the dispersion in the coating solution for the photosensitive layer. As a method of dispersing the pigment, a known dispersing technique using a dispersing machine, which is widely used in ink production, toner production, or the like, can be used. Examples of the disperser include an ultrasonic disperser, a sand mill, an attritor, a pearl mill, a super mill, a ball mill, an impeller, a disperser, a KD mill, a colloid mill, a dynatron, a three-roll mill, and a pressure kneader. Detail is,
It is described in "Latest Pigment Application Technology" (CMC Publishing, 1986).

【0152】これらの染料もしくは顔料の画像記録材料
中の含有量としては、画像記録材料全固形分に対し、
0.01〜50重量%程度であり、0.1〜10重量%
好ましく、染料の場合には、0.5〜10重量%が特に
好ましく、顔料の場合には、1.0〜10重量%が特に
好ましい。前記顔料もしくは染料の添加量が、0.01
重量%未満であると感度が低くなり、50重量%を超え
ると印刷時非画像部に汚れが発生する。これらの染料も
しくは顔料は他の成分と同一の層に添加してもよいし、
別の層を設けそこへ添加してもよい。
The content of these dyes or pigments in the image recording material is based on the total solid content of the image recording material.
About 0.01 to 50% by weight, and 0.1 to 10% by weight
Preferably, in the case of a dye, 0.5 to 10% by weight is particularly preferable, and in the case of a pigment, 1.0 to 10% by weight is particularly preferable. The amount of the pigment or dye added is 0.01
When the amount is less than 50% by weight, the sensitivity is lowered. These dyes or pigments may be added to the same layer as other components,
Another layer may be provided and added thereto.

【0153】[その他の成分]本発明では、前記5つの
成分が必須であるが、必要に応じてこれら以外に種々の
化合物を添加しても良い。例えば、可視光域に大きな吸
収を持つ染料を画像の着色剤として使用することができ
る。具体的にはオイルイエロー#101、オイルイエロ
ー#103、オイルピンク#312、オイルグリーンB
G、オイルブルーBOS、オイルブルー#603、オイ
ルブラックBY、オイルブラックBS、オイルブラック
T−505(以上オリエント化学工業(株)製)、ビク
トリアピュアブルー、クリスタルバイオレット(CI4
2555)、メチルバイオレット(CI42535)、
エチルバイオレット、ローダミンB(CI145170
B)、マラカイトグリーン(CI42000)、メチレ
ンブルー(CI52015)など、あるいは特開昭62
−293247号公報に記載されている染料を挙げるこ
とができる。これらの染料は、画像形成後、画像部と非
画像部の区別がつきやすいので、添加する方が好まし
い。尚、添加量は、画像記録材料全固形分に対し、0.
01〜10重量%の割合である。
[Other Components] In the present invention, the above five components are essential, but various compounds other than these may be added as necessary. For example, a dye having a large absorption in the visible light region can be used as a colorant for an image. Specifically, Oil Yellow # 101, Oil Yellow # 103, Oil Pink # 312, Oil Green B
G, oil blue BOS, oil blue # 603, oil black BY, oil black BS, oil black T-505 (all manufactured by Orient Chemical Industries, Ltd.), Victoria Pure Blue, crystal violet (CI4
2555), methyl violet (CI42535),
Ethyl violet, rhodamine B (CI145170
B), malachite green (CI42000), methylene blue (CI52015), etc.
And dyes described in JP-293247. These dyes are preferably added because the image area and the non-image area can be easily distinguished after image formation. The amount of addition was 0.1 to the total solid content of the image recording material.
It is a ratio of 01 to 10 wt%.

【0154】また、本発明におけるネガ型画像記録材料
中には、現像条件に対する処理の安定性を広げるため、
特開昭62−251740号公報や特開平3−2085
14号公報に記載されているような非イオン界面活性
剤、特開昭59−121044号、特開平4−1314
9号の各公報に記載されているような両性界面活性剤を
添加することができる。非イオン界面活性剤の具体例と
しては、ソルビタントリステアレート、ソルビタンモノ
パルミテート、ソルビタントリオレート、ステアリン酸
モノグリセリド、ポリオキシエチレンノニルフェニルエ
ーテル等が挙げられる。両性界面活性剤の具体例として
は、アルキルジ(アミノエチル)グリシン、アルキルポ
リアミノエチルグリシン塩酸塩、2−アルキル−N−カ
ルボキシエチル−N−ヒドロキシエチルイミダゾリニウ
ムベタインやN−テトラデシル−N,N−ベタイン型
(例えば、商品名アモーゲンK、第一工業(株)製)等
が挙げられる。 上記非イオン界面活性剤及び両性界面
活性剤の画像記録材料中に占める割合は、0.05〜1
5重量%が好ましく、より好ましくは0.1〜5重量%
である。
In the negative type image recording material of the present invention, in order to increase the stability of processing under development conditions,
JP-A-62-251740 and JP-A-3-2085
Non-ionic surfactants described in JP-A No. 14-114, JP-A-59-121044 and JP-A-4-1314.
An amphoteric surfactant as described in each publication of JP-A No. 9 can be added. Specific examples of the nonionic surfactant include sorbitan tristearate, sorbitan monopalmitate, sorbitan triolate, monoglyceride stearic acid, and polyoxyethylene nonyl phenyl ether. Specific examples of the amphoteric surfactant include alkyldi (aminoethyl) glycine, alkylpolyaminoethylglycine hydrochloride, 2-alkyl-N-carboxyethyl-N-hydroxyethylimidazolinium betaine and N-tetradecyl-N, N- Betaine type (for example, trade name Amogen K, manufactured by Daiichi Kogyo Co., Ltd.) and the like. The proportion of the nonionic surfactant and amphoteric surfactant in the image recording material is 0.05 to 1
5% by weight is preferred, more preferably 0.1-5% by weight
It is.

【0155】更に本発明のネガ型画像記録材料中には必
要に応じ、塗膜の柔軟性等を付与するために可塑剤が加
えられる。例えば、ポリエチレングリコール、クエン酸
トリブチル、フタル酸ジエチル、フタル酸ジブチル、フ
タル酸ジヘキシル、フタル酸ジオクチル、リン酸トリク
レジル、リン酸トリブチル、リン酸トリオクチル、オレ
イン酸テトラヒドロフルフリル、アクリル酸又はメタク
リル酸のオリゴマー及びポリマー等が用いられる。これ
ら以外にも、エポキシ化合物、ビニルエーテル類等を添
加してもよい。
Further, a plasticizer may be added to the negative-working image recording material of the present invention, if necessary, to impart flexibility to the coating film. For example, polyethylene glycol, tributyl citrate, diethyl phthalate, dibutyl phthalate, dihexyl phthalate, dioctyl phthalate, tricresyl phosphate, tributyl phosphate, trioctyl phosphate, tetrahydrofurfuryl oleate, oligomers of acrylic acid or methacrylic acid And polymers. In addition to these, epoxy compounds, vinyl ethers and the like may be added.

【0156】本発明のネガ型画像記録材料は、通常上記
各成分を溶媒に溶かして、適当な支持体上に塗布するこ
とにより製造することができる。ここで使用する溶媒と
しては、エチレンジクロライド、シクロヘキサノン、メ
チルエチルケトン、メタノール、エタノール、プロパノ
ール、エチレングリコールモノメチルエーテル、1−メ
トキシ−2−プロパノール、2−メトキシエチルアセテ
ート、1−メトキシ−2−プロピルアセテート、ジメト
キシエタン、乳酸メチル、乳酸エチル、N,N−ジメチ
ルアセトアミド、N,N−ジメチルホルムアミド、テト
ラメチルウレア、N−メチルピロリドン、ジメチルスル
ホキシド、スルホラン、γ−ブチルラクトン、トルエ
ン、水等が挙げられるがこれに限定されるものではな
い。これらの溶媒は単独あるいは混合して使用される。
溶媒中の上記成分(添加剤を含む全固形分)の濃度は、
好ましくは1〜50重量%である。また塗布、乾燥後に
得られる支持体上の塗布量(固形分)は、用途によって
異なるが、平版印刷用版材についていえば一般的に0.
5〜5.0g/m2 が好ましい。塗布する方法として
は、種々の方法を用いることができるが、例えば、バー
コーター塗布、回転塗布、スプレー塗布、カーテン塗
布、ディップ塗布、エアーナイフ塗布、ブレード塗布、
ロール塗布等を挙げることができる。塗布量が少なくな
るにつれて、見かけの感度は大になるが、ネガ型画像記
録材料の皮膜特性は低下する。
The negative type image recording material of the present invention can be usually produced by dissolving each of the above-mentioned components in a solvent and coating it on a suitable support. As the solvent used herein, ethylene dichloride, cyclohexanone, methyl ethyl ketone, methanol, ethanol, propanol, ethylene glycol monomethyl ether, 1-methoxy-2-propanol, 2-methoxyethyl acetate, 1-methoxy-2-propyl acetate, dimethoxy Ethane, methyl lactate, ethyl lactate, N, N-dimethylacetamide, N, N-dimethylformamide, tetramethylurea, N-methylpyrrolidone, dimethylsulfoxide, sulfolane, γ-butyllactone, toluene, water and the like. However, the present invention is not limited to this. These solvents are used alone or as a mixture.
The concentration of the above components (total solids including additives) in the solvent,
Preferably it is 1 to 50% by weight. The amount of coating (solid content) on the support obtained after coating and drying varies depending on the application, but generally speaking, about a lithographic printing plate material, it is not more than 0.1%.
5~5.0g / m 2 is preferred. As a method of applying, various methods can be used, for example, bar coater coating, spin coating, spray coating, curtain coating, dip coating, air knife coating, blade coating,
Roll coating and the like can be mentioned. As the coating amount decreases, the apparent sensitivity increases, but the film characteristics of the negative type image recording material deteriorate.

【0157】本発明におけるネガ型画像記録材料中に
は、塗布性を良化するための界面活性剤、例えば特開昭
62−170950号公報に記載されているようなフッ
素系界面活性剤を添加することができる。好ましい添加
量は、全画像記録材料固形分中0.01〜1重量%、さ
らに好ましくは0.05〜0.5重量%である。
In the negative image recording material of the present invention, a surfactant for improving coating properties, for example, a fluorine-based surfactant described in JP-A-62-170950 is added. can do. The preferable addition amount is 0.01 to 1% by weight, more preferably 0.05 to 0.5% by weight, based on the total solid content of the image recording material.

【0158】本発明に使用される支持体としては、寸度
的に安定な板状物であり、例えば、紙、プラスチック
(例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレ
ン等)がラミネートされた紙、金属板(例えば、アルミ
ニウム、亜鉛、銅等)、プラスチックフィルム(例え
ば、二酢酸セルロース、三酢酸セルロース、プロピオン
酸セルロース、酪酸セルロース、酢酸酪酸セルロース、
硝酸セルロース、ポリエチレンテレフタレート、ポリエ
チレン、ポリスチレン、ポリプロピレン、ポリカーボネ
ート、ポリビニルアセタール等)、上記のごとき金属が
ラミネート、もしくは蒸着された紙、もしくはプラスチ
ックフィルム等が含まれる。本発明に使用される支持体
としては、ポリエステルフィルム又はアルミニウム板が
好ましく、その中でも寸法安定性がよく、比較的安価で
あるアルミニウム板は特に好ましい。好適なアルミニウ
ム板は、純アルミニウム板及びアルミニウムを主成分と
し、微量の異元素を含む合金板であり、更にアルミニウ
ムがラミネートもしくは蒸着されたプラスチックフィル
ムでもよい。アルミニウム合金に含まれる異元素には、
ケイ素、鉄、マンガン、銅、マグネシウム、クロム、亜
鉛、ビスマス、ニッケル、チタンなどがある。合金中の
異元素の含有量は高々10重量%以下である。本発明に
おいて特に好適なアルミニウムは、純アルミニウムであ
るが、完全に純粋なアルミニウムは精錬技術上製造が困
難であるので、僅かに異元素を含有するものでもよい。
このように本発明に適用されるアルミニウム板は、その
組成が特定されるものではなく、従来より公知公用の素
材のアルミニウム板を適宜に利用することができる。本
発明で用いられるアルミニウム板の厚みはおよそ0.1
mm〜0.6mm程度、好ましくは0.15mm〜0.
4mm、特に好ましくは0.2mm〜0.3mmであ
る。
The support used in the present invention is a dimensionally stable plate-like material such as paper, plastic (eg, polyethylene, polypropylene, polystyrene, etc.) laminated paper, metal plate ( For example, aluminum, zinc, copper, etc.), plastic film (for example, cellulose diacetate, cellulose triacetate, cellulose propionate, cellulose butyrate, cellulose acetate butyrate,
Cellulose nitrate, polyethylene terephthalate, polyethylene, polystyrene, polypropylene, polycarbonate, polyvinyl acetal, etc.), and paper or plastic film on which a metal is laminated or vapor-deposited as described above. As the support used in the present invention, a polyester film or an aluminum plate is preferable, and among them, an aluminum plate which has good dimensional stability and is relatively inexpensive is particularly preferable. Suitable aluminum plates are a pure aluminum plate and an alloy plate containing aluminum as a main component and containing a trace amount of a different element, and may be a plastic film on which aluminum is laminated or vapor-deposited. The foreign elements contained in the aluminum alloy include:
Silicon, iron, manganese, copper, magnesium, chromium, zinc, bismuth, nickel, titanium and the like. The content of the foreign element in the alloy is at most 10% by weight or less. Aluminum which is particularly preferred in the present invention is pure aluminum. However, completely pure aluminum is difficult to produce due to refining technology, and therefore may contain a slightly different element.
As described above, the composition of the aluminum plate applied to the present invention is not specified, and an aluminum plate of a conventionally known and used material can be appropriately used. The thickness of the aluminum plate used in the present invention is about 0.1
mm to 0.6 mm, preferably 0.15 mm to 0.1 mm.
4 mm, particularly preferably 0.2 mm to 0.3 mm.

【0159】アルミニウム板を粗面化するに先立ち、所
望により、表面の圧延油を除去するための例えば界面活
性剤、有機溶剤又はアルカリ性水溶液などによる脱脂処
理が行われる。アルミニウム板の表面の粗面化処理は、
種々の方法により行われるが、例えば、機械的に粗面化
する方法、電気化学的に表面を溶解粗面化する方法及び
化学的に表面を選択溶解させる方法により行われる。機
械的方法としては、ボール研磨法、ブラシ研磨法、ブラ
スト研磨法、バフ研磨法などの公知の方法を用いること
ができる。また、電気化学的な粗面化法としては塩酸又
は硝酸電解液中で交流又は直流により行う方法がある。
また、特開昭54−63902号公報に開示されている
ように両者を組み合わせた方法も利用することができ
る。この様に粗面化されたアルミニウム板は、必要に応
じてアルカリエッチング処理及び中和処理された後、所
望により表面の保水性や耐摩耗性を高めるために陽極酸
化処理が施される。アルミニウム板の陽極酸化処理に用
いられる電解質としては、多孔質酸化皮膜を形成する種
々の電解質の使用が可能で、一般的には硫酸、リン酸、
蓚酸、クロム酸あるいはそれらの混酸が用いられる。そ
れらの電解質の濃度は電解質の種類によって適宜決めら
れる。
Prior to roughening the aluminum plate, if necessary, a degreasing treatment with, for example, a surfactant, an organic solvent or an alkaline aqueous solution is performed to remove rolling oil on the surface. The surface roughening treatment of the aluminum plate
The method is performed by various methods, for example, a method of mechanically roughening the surface, a method of electrochemically dissolving and roughening the surface, and a method of chemically selectively dissolving the surface. As a mechanical method, a known method such as a ball polishing method, a brush polishing method, a blast polishing method, and a buff polishing method can be used. In addition, as an electrochemical surface roughening method, there is a method of performing an alternating or direct current in a hydrochloric acid or nitric acid electrolyte.
Further, as disclosed in JP-A-54-63902, a method in which both are combined can be used. The aluminum plate thus roughened is subjected to an alkali etching treatment and a neutralization treatment as required, and then subjected to an anodic oxidation treatment as required to increase the water retention and abrasion resistance of the surface. As the electrolyte used for the anodic oxidation treatment of the aluminum plate, various electrolytes that form a porous oxide film can be used. Generally, sulfuric acid, phosphoric acid,
Oxalic acid, chromic acid or a mixed acid thereof is used. The concentration of these electrolytes is appropriately determined depending on the type of the electrolyte.

【0160】陽極酸化の処理条件は用いる電解質により
種々変わるので一概に特定し得ないが一般的には電解質
の濃度が1〜80重量%溶液、液温は5〜70℃、電流
密度5〜60A/dm2 、電圧1〜100V、電解時間
10秒〜5分の範囲であれば適当である。陽極酸化皮膜
の量は1.0g/m2 より少ないと耐刷性が不十分であ
ったり、平版印刷版の非画像部に傷が付き易くなって、
印刷時に傷の部分にインキが付着するいわゆる「傷汚
れ」が生じ易くなる。陽極酸化処理を施された後、アル
ミニウム表面は必要により親水化処理が施される。本発
明に使用される親水化処理としては、米国特許第2,7
14,066号、同第3,181,461号、第3,2
80,734号、第3,902,734号の各明細書に
開示されているようなアルカリ金属シリケート(例えば
ケイ酸ナトリウム水溶液)法がある。この方法において
は、支持体がケイ酸ナトリウム水溶液で浸漬処理される
か又は電解処理される。他に特公昭36−22063号
公報に開示されているフッ化ジルコン酸カリウム及び米
国特許第3,276,868号、同第4,153,46
1号、同第4,689,272号の各明細書に開示され
ているようなポリビニルホスホン酸で処理する方法など
が用いられる。
The conditions of the anodizing treatment vary depending on the electrolyte used, and thus cannot be specified unconditionally. However, in general, the concentration of the electrolyte is 1 to 80% by weight, the solution temperature is 5 to 70 ° C., and the current density is 5 to 60 A. / Dm 2 , a voltage of 1 to 100 V, and an electrolysis time of 10 seconds to 5 minutes are appropriate. When the amount of the anodic oxide film is less than 1.0 g / m 2 , the printing durability is insufficient or the non-image portion of the lithographic printing plate is easily scratched,
So-called "scratch stains" in which ink adheres to scratches during printing are likely to occur. After the anodizing treatment, the aluminum surface is subjected to a hydrophilic treatment as necessary. U.S. Pat. Nos. 2,7,7
No. 14,066, No. 3,181,461, No. 3,2
There is an alkali metal silicate (for example, sodium silicate aqueous solution) method as disclosed in the specifications of Nos. 80,734 and 3,902,734. In this method, the support is immersed or electrolytically treated with an aqueous solution of sodium silicate. Further, potassium fluorozirconate disclosed in JP-B-36-22063 and U.S. Pat. Nos. 3,276,868 and 4,153,46 are disclosed.
For example, a method of treating with polyvinyl phosphonic acid as disclosed in the specifications of JP-A Nos. 1 and 4,689,272 is used.

【0161】本発明のネガ型画像記録材料は、必要に応
じて前記支持体上に下塗層を設けることができる。前記
下塗層成分としては、種々の有機化合物が用いられ、例
えば、カルボキシメチルセルロース、デキストリン、ア
ラビアガム、2−アミノエチルホスホン酸などのアミノ
基を有するホスホン酸類、置換基を有してもよいフェニ
ルホスホン酸、ナフチルホスホン酸、アルキルホスホン
酸、グリセロホスホン酸、メチレンジホスホン酸及びエ
チレンジホスホン酸などの有機ホスホン酸、置換基を有
してもよいフェニルリン酸、ナフチルリン酸、アルキル
リン酸及びグリセロリン酸などの有機リン酸、置換基を
有してもよいフェニルホスフィン酸、ナフチルホスフィ
ン酸、アルキルホスフィン酸及びグリセロホスフィン酸
などの有機ホスフィン酸、グリシンやβ−アラニンなど
のアミノ酸類、及びトリエタノールアミンの塩酸塩など
のヒドロキシ基を有するアミンの塩酸塩等から選ばれる
が、2種以上混合して用いてもよい。有機下塗層の被覆
量は、2〜200mg/m2 が適当である。
In the negative image recording material of the present invention, an undercoat layer can be provided on the support, if necessary. As the undercoat layer component, various organic compounds are used, for example, carboxymethyl cellulose, dextrin, gum arabic, phosphonic acids having an amino group such as 2-aminoethylphosphonic acid, and phenyl which may have a substituent. Organic phosphonic acids such as phosphonic acid, naphthylphosphonic acid, alkylphosphonic acid, glycerophosphonic acid, methylenediphosphonic acid and ethylenediphosphonic acid, optionally substituted phenylphosphoric acid, naphthylphosphoric acid, alkylphosphoric acid and glyceroline Organic phosphoric acids such as acids, organic phosphinic acids such as phenylphosphinic acid, naphthylphosphinic acid, alkylphosphinic acid and glycerophosphinic acid which may have a substituent, amino acids such as glycine and β-alanine, and triethanolamine Hydroxy such as hydrochloride -Alanine, and hydrochlorides of amines having a, may be used by mixing two or more. The coating amount of the organic undercoat layer is suitably from 2 to 200 mg / m 2 .

【0162】以上のようにして、本発明のネガ型画像記
録材料を用いた平版印刷用版材を作成することができ
る。この平版印刷用版材は、波長760nmから120
0nmの赤外線を放射する固体レーザ及び半導体レーザ
により画像露光される。本発明においては、レーザ照射
後すぐに現像処理を行っても良いが、レーザ照射工程と
現像工程の間に加熱処理を行うことが好ましい。加熱処
理の条件は、80℃〜150℃の範囲内で10秒〜5分
間行うことが好ましい。この加熱処理により、レーザ照
射時、記録に必要なレーザエネルギーを減少させること
ができる。
As described above, a planographic printing plate using the negative image recording material of the present invention can be prepared. This lithographic printing plate material has a wavelength of 760 nm to 120.
Image exposure is performed by a solid-state laser and a semiconductor laser that emit 0-nm infrared light. In the present invention, the developing treatment may be performed immediately after the laser irradiation, but it is preferable to perform the heating treatment between the laser irradiation step and the developing step. The heat treatment is preferably performed in a range of 80 ° C. to 150 ° C. for 10 seconds to 5 minutes. By this heat treatment, the laser energy required for recording at the time of laser irradiation can be reduced.

【0163】必要に応じて加熱処理を行った後、本発明
のネガ型画像記録材料は、アルカリ性水溶液にて現像さ
れる。本発明のネガ型画像記録材料の現像液及び補充液
としては従来より知られているアルカリ水溶液が使用で
きる。例えば、ケイ酸ナトリウム、同カリウム、第3リ
ン酸ナトリウム、同カリウム、同アンモニウム、第2リ
ン酸ナトリウム、同カリウム、同アンモニウム、炭酸ナ
トリウム、同カリウム、同アンモニウム、炭酸水素ナト
リウム、同カリウム、同アンモニウム、ほう酸ナトリウ
ム、同カリウム、同アンモニウム、水酸化ナトリウム、
同アンモニウム、同カリウム及び同リチウムなどの無機
アルカリ塩が挙げられる。また、モノメチルアミン、ジ
メチルアミン、トリメチルアミン、モノエチルアミン、
ジエチルアミン、トリエチルアミン、モノイソプロピル
アミン、ジイソプロピルアミン、トリイソプロピルアミ
ン、n−ブチルアミン、モノエタノールアミン、ジエタ
ノールアミン、トリエタノールアミン、モノイソプロパ
ノールアミン、ジイソプロパノールアミン、エチレンイ
ミン、エチレンジアミン、ピリジンなどの有機アルカリ
剤も用いられる。これらのアルカリ剤は1種単独使用し
てもよいし、2種以上を併用してもよい。これらのアル
カリ剤の中で特に好ましい現像液は、ケイ酸ナトリウ
ム、ケイ酸カリウム等のケイ酸塩水溶液である。その理
由はケイ酸塩の成分である酸化珪素SiO2 とアルカリ
金属酸化物M2 Oの比率と濃度によって現像性の調節が
可能となるためであり、例えば、特開昭54−6200
4号、特公昭57−7427の各公報に記載されている
ようなアルカリ金属ケイ酸塩が有効に用いられる。
After performing a heat treatment as required, the negative type image recording material of the present invention is developed with an alkaline aqueous solution. As the developer and replenisher for the negative-working image recording material of the present invention, conventionally known aqueous alkaline solutions can be used. For example, sodium silicate, potassium, tribasic sodium, potassium, ammonium, dibasic sodium, potassium, ammonium, sodium carbonate, potassium, ammonium, sodium bicarbonate, potassium, potassium Ammonium, sodium borate, potassium, ammonium, sodium hydroxide,
And inorganic alkali salts such as ammonium, potassium and lithium. Also, monomethylamine, dimethylamine, trimethylamine, monoethylamine,
Organic alkaline agents such as diethylamine, triethylamine, monoisopropylamine, diisopropylamine, triisopropylamine, n-butylamine, monoethanolamine, diethanolamine, triethanolamine, monoisopropanolamine, diisopropanolamine, ethyleneimine, ethylenediamine and pyridine are also used. Can be These alkali agents may be used alone or in combination of two or more. Among these alkali agents, particularly preferred developers are aqueous silicate solutions such as sodium silicate and potassium silicate. The reason is that the developability can be adjusted by the ratio and concentration of silicon oxide SiO 2 and alkali metal oxide M 2 O which are components of silicate.
No. 4, the alkali metal silicate described in JP-B-57-7427 is effectively used.

【0164】更に自動現像機を用いて現像する場合に
は、現像液よりもアルカリ強度の高い水溶液(補充液)
を現像液に加えることによって、長時間現像タンク中の
現像液を交換する事なく、多量の平版印刷用版材を処理
できることが知られている。本発明においてもこの補充
方式が好ましく適用される。現像液及び補充液には現像
性の促進や抑制、現像カスの分散及び印刷版画像部の親
インキ性を高める目的で必要に応じて種々の界面活性剤
や有機溶剤を添加できる。好ましい界面活性剤として
は、アニオン系、カチオン系、ノニオン系及び両性界面
活性剤があげられる。更に現像液及び補充液には必要に
応じて、ハイドロキノン、レゾルシン、亜硫酸、亜硫酸
水素酸などの無機酸のナトリウム塩、カリウム塩等の還
元剤、更に有機カルボン酸、消泡剤、硬水軟化剤を加え
ることもできる。上記現像液及び補充液を用いて現像処
理された印刷版は水洗水、界面活性剤等を含有するリン
ス液、アラビアガムや澱粉誘導体を含む不感脂化液で後
処理される。本発明のネガ型画像記録材料を印刷用版材
として使用する場合の後処理としては、これらの処理を
種々組み合わせて用いることができる。
In the case of further developing using an automatic developing machine, an aqueous solution having a higher alkali strength than the developing solution (replenisher)
It has been known that a large amount of lithographic printing plate material can be processed without replacing the developing solution in the developing tank for a long time by adding to the developing solution. This replenishment system is also preferably applied in the present invention. Various surfactants and organic solvents can be added to the developing solution and the replenishing solution as needed for the purpose of accelerating or suppressing the developing property, dispersing the developing residue and improving the ink affinity of the printing plate image area. Preferred surfactants include anionic, cationic, nonionic and amphoteric surfactants. Further, the developing solution and the replenisher may contain, if necessary, a reducing agent such as a sodium salt or a potassium salt of an inorganic acid such as hydroquinone, resorcinol, sulfurous acid, and bisulfite, and further include an organic carboxylic acid, an antifoaming agent, and a water softener. Can be added. The printing plate developed using the above developer and replenisher is post-treated with washing water, a rinsing solution containing a surfactant and the like, and a desensitizing solution containing gum arabic and a starch derivative. As the post-processing when the negative-type image recording material of the present invention is used as a printing plate, various combinations of these processings can be used.

【0165】近年、製版・印刷業界では製版作業の合理
化及び標準化のため、印刷用版材用の自動現像機が広く
用いられている。この自動現像機は、一般に現像部と後
処理部からなり、印刷用版材を搬送する装置と各処理液
槽及びスプレー装置からなり、露光済みの印刷版を水平
に搬送しながら、ポンプで汲み上げた各処理液をスプレ
ーノズルから吹き付けて現像処理するものである。ま
た、最近は処理液が満たされた処理液槽中に液中ガイド
ロールなどによって印刷用版材を浸漬搬送させて処理す
る方法も知られている。このような自動処理において
は、各処理液に処理量や稼働時間等に応じて補充液を補
充しながら処理することができる。また、実質的に未使
用の処理液で処理するいわゆる使い捨て処理方式も適用
できる。
In recent years, in the plate making and printing industry, automatic developing machines for printing plate materials have been widely used in order to rationalize and standardize plate making operations. This automatic developing machine generally consists of a developing section and a post-processing section, and consists of a device for transporting printing plate material, each processing solution tank and a spray device, and pumps the exposed printing plate horizontally while pumping it. Each processing liquid is sprayed from a spray nozzle to perform development processing. Recently, a method has been known in which a printing plate material is immersed and transported by a submerged guide roll or the like in a processing liquid tank filled with a processing liquid, and the processing is performed. In such an automatic processing, the processing can be performed while replenishing each processing liquid with a replenisher according to the processing amount, the operating time, and the like. Further, a so-called disposable processing method in which processing is performed with a substantially unused processing liquid can also be applied.

【0166】以上のようにして得られた平版印刷版は所
望により不感脂化ガムを塗布したのち、印刷工程に供す
ることができるが、より一層の高耐刷力の平版印刷版と
したい場合にはバーニング処理が施される。平版印刷版
をバーニングする場合には、バーニング前に特公昭61
−2518、同55−28062、特開昭62−318
59号、同61−159655号の各公報に記載されて
いるような整面液で処理することが好ましい。その方法
としては、該整面液を浸み込ませたスポンジや脱脂綿に
て、平版印刷版上に塗布するか、整面液を満たしたバッ
ト中に印刷版を浸漬して塗布する方法や、自動コーター
による塗布などが適用される。また、塗布した後でスキ
ージ、あるいは、スキージローラーで、その塗布量を均
一にすることは、より好ましい結果を与える。整面液の
塗布量は一般に0.03〜0.8g/m2 (乾燥重量)
が適当である。
The lithographic printing plate obtained as described above can be subjected to a printing step after coating with a desensitized gum if desired. However, when a lithographic printing plate having a higher printing durability is desired to be obtained, Is subjected to a burning process. When burning a lithographic printing plate, before burning,
-2518, 55-28062, JP-A-62-318
It is preferable to carry out treatment with a surface-regulating liquid as described in JP-A Nos. 59 and 61-159655. As a method, a sponge or absorbent cotton impregnated with the surface conditioning liquid is applied on a lithographic printing plate, or a method in which the printing plate is immersed in a vat filled with the surface conditioning solution and applied, Application by an automatic coater or the like is applied. Further, it is more preferable to make the application amount uniform with a squeegee or a squeegee roller after the application. The application amount of the surface conditioning liquid is generally 0.03 to 0.8 g / m 2 (dry weight).
Is appropriate.

【0167】整面液が塗布された平版印刷版は必要であ
れば乾燥された後、バーニングプロセッサー(たとえば
富士写真フイルム(株)より販売されているバーニング
プロセッサー:BP−1300)などで高温に加熱され
る。この場合の加熱温度及び時間は、画像を形成してい
る成分の種類にもよるが、100〜300℃の範囲で1
〜20分の範囲が好ましい。バーニング処理された平版
印刷版は、必要に応じて適宜、水洗、ガム引きなどの従
来より行なわれている処理を施こすことができるが水溶
性高分子化合物等を含有する整面液が使用された場合に
はガム引きなどのいわゆる不感脂化処理を省略すること
ができる。この様な処理によって得られた平版印刷版は
オフセット印刷機等にかけられ、多数枚の印刷に用いら
れる。
The lithographic printing plate to which the surface conditioning liquid has been applied is dried if necessary, and then heated to a high temperature with a burning processor (eg, a burning processor sold by Fuji Photo Film Co., Ltd .: BP-1300). Is done. The heating temperature and time in this case depend on the type of the component forming the image, but may be 1 to 100 ° C. to 300 ° C.
A range of up to 20 minutes is preferred. The burned lithographic printing plate can be subjected to conventional treatments such as washing with water and gumming, if necessary.However, a surface conditioning liquid containing a water-soluble polymer compound or the like is used. In such a case, a so-called desensitizing treatment such as gumming can be omitted. The lithographic printing plate obtained by such a process is set on an offset printing machine or the like and used for printing a large number of sheets.

【0168】[0168]

【実施例】以下、実施例により、本発明を詳細に説明
し、また、含フッ素共重合ポリマーの合成例を実施例に
添って示すが、本発明はこれらの具体例に何ら限定され
るものではない。
EXAMPLES Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to examples, and examples of synthesizing a fluorine-containing copolymer will be shown along with examples. However, the present invention is not limited to these specific examples. is not.

【0169】<含フッ素共重合ポリマー前記[P−
1]、前記[P−2]、前記[P−3]及び前記[P−
4]の合成例>2−(パープルオロオクチル)エチルア
クリレート、N−(4−スルファモイルフェニル)メタ
クリルアミド、及び2−エチルヘキシルメタアクリレー
トを、N,N−ジメチルアセトアミド溶媒中、2,2’
−アゾビス(2,4−ジメチルバレロニトリル)を重合
開始剤としてラジカル重合を行い、前記[P−1]の含
フッ素共重合ポリマーを得た。GPCにより重量平均分
子量を測定したところ、2.8万の含フッ素共重合ポリ
マーであった。これと同様の方法にして、前記[P−
2]、前記[P−3]及び前記[P−4]の含フッ素共
重合ポリマーを得た。GPCにより重量平均分子量を測
定したところ、それぞれ、1.8万、1.5万、2.2
万の含フッ素共重合ポリマーであった。。
<Fluorine-Containing Copolymer [P-
1], [P-2], [P-3], and [P-
Synthesis Example of 4]> 2- (purple orooctyl) ethyl acrylate, N- (4-sulfamoylphenyl) methacrylamide, and 2-ethylhexyl methacrylate in an N, N-dimethylacetamide solvent in 2,2 ′
Radical polymerization was carried out using -azobis (2,4-dimethylvaleronitrile) as a polymerization initiator to obtain the fluorine-containing copolymer [P-1]. The weight-average molecular weight measured by GPC was 28,000. In the same manner as described above, [P-
2] and the fluorinated copolymers of [P-3] and [P-4] were obtained. When the weight average molecular weight was measured by GPC, they were 18,000, 15,000, and 2.2, respectively.
10,000 fluorine-containing copolymers. .

【0170】<高分子化合物[R−1]及び[R−2]
の合成例>上記含フッ素共重合ポリマーの合成例と同様
の方法により、N−(4−スルファモイルフェニル)メ
タクリルアミド30モル%と2−エチルヘキシルメタク
リレート70モル%との共重合体の高分子化合物[R−
1]を合成した。GPCにより重量平均分子量を測定し
たところ、2.5万の高分子化合物であった。さらに同
様にして、2−(パープルオロオクチル)エチルアクリ
レート30モル%と2−エチルヘキシルメタアクリレー
ト70モル%の共重合体の高分子化合物[R−2]を合
成した。GPCにより重量平均分子量を測定したとこ
ろ、3.2万の高分子化合物であった。
<Polymer Compounds [R-1] and [R-2]
Synthesis Example> In the same manner as in the above-mentioned synthesis example of the fluorine-containing copolymer, a polymer of a copolymer of 30 mol% of N- (4-sulfamoylphenyl) methacrylamide and 70 mol% of 2-ethylhexyl methacrylate Compound [R-
1] was synthesized. When the weight average molecular weight was measured by GPC, it was a high molecular compound of 25,000. Furthermore, in the same manner, a polymer compound [R-2] of a copolymer of 30 mol% of 2- (purple octyl) ethyl acrylate and 70 mol% of 2-ethylhexyl methacrylate was synthesized. When the weight average molecular weight was measured by GPC, it was a 32,000 high molecular compound.

【0171】<架橋剤[KZ−9]の合成>1−[α−
メチル−α−(4−ヒドロキシフェニル)エチル]―4
―[α、α−ビス(4−ヒドロキシフェニル)エチル]
ベンゼンを、水酸化カリウム水溶液中で、ホルマリンと
反応させた。反応溶液を硫酸で酸性とし晶析させ、さら
にメタノールから再結晶することにより、下記構造の架
橋剤[KZ−9]を得た。逆相HPLCにより純度を測
定したところ、92%であった。
<Synthesis of Crosslinking Agent [KZ-9]> 1- [α-
Methyl-α- (4-hydroxyphenyl) ethyl] -4
-[Α, α-bis (4-hydroxyphenyl) ethyl]
Benzene was reacted with formalin in aqueous potassium hydroxide solution. The reaction solution was acidified with sulfuric acid, crystallized, and recrystallized from methanol to obtain a crosslinking agent [KZ-9] having the following structure. The purity was measured by reverse phase HPLC to be 92%.

【0172】[0172]

【化56】 Embedded image

【0173】<架橋剤[KZ−10]の合成>o−クレ
ゾールを、水酸化カリウム水溶液中で、パラホルムアル
デヒドと反応させた。反応溶液を硫酸で酸性とし晶析さ
せ、さらにカラムクロマトグラフィーにより精製し、下
記構造の架橋剤[KZ−10]を得た。逆相HPLCに
より純度を測定したところ、96%であった。
<Synthesis of Crosslinking Agent [KZ-10]> o-Cresol was reacted with paraformaldehyde in an aqueous potassium hydroxide solution. The reaction solution was acidified with sulfuric acid, crystallized, and further purified by column chromatography to obtain a cross-linking agent [KZ-10] having the following structure. The purity was measured by reverse phase HPLC to be 96%.

【0174】[0174]

【化57】 Embedded image

【0175】<バインダーポリマー[BP−1]の入手
>丸善石油化学(株)製のポリ(p−ヒドロキシスチレ
ン)、マルカ リンカーM S−4P(商品名)を入手
し、[BP−1]とした。
<Preparation of Binder Polymer [BP-1]> Poly (p-hydroxystyrene) and Marca Linker MS-4P (trade name) manufactured by Maruzen Petrochemical Co., Ltd. were obtained, and [BP-1] and did.

【0176】(実施例1〜4)厚さ0.30mmのアル
ミニウム板(材質1050)をトリクロロエチレン洗浄
して脱脂した後、ナイロンブラシと400メッシュのパ
ミストン−水懸濁液を用いその表面を砂目立てし、よく
水で洗浄した。この板を45℃の25%水酸化ナトリウ
ム水溶液に9秒間浸漬してエッチングを行い水洗後、さ
らに2%HNO 3 に20秒間浸漬して水洗した。この時
の砂目立て表面のエッチング量は約3g/m2 であっ
た。次にこの板を7%H2 SO4 を電解液として電流密
度15A/dm2 で3g/m2 の直流陽極酸化皮膜を設
けた後、水洗乾燥した。次にこのアルミニウム板に下記
下塗り液を塗布し、80℃で30秒間乾燥した。乾燥後
の被覆量は10mg/m2 であった。
(Examples 1-4) Al having a thickness of 0.30 mm
Trichlorethylene cleaning of minium plate (material 1050)
And degrease, then use a nylon brush and 400 mesh
Use a miston-water suspension to grain the surface,
Washed with water. This plate is made of 25% sodium hydroxide at 45 ° C.
After immersion in an aqueous solution for 9 seconds for etching and washing with water,
2% HNO ThreeFor 20 seconds and washed with water. At this time
The amount of etching of the grained surface is about 3g / mTwoSo
Was. Next, this plate isTwoSOFourCurrent density as electrolyte
Degree 15A / dmTwo3g / mTwoDC anodized film
After drying, it was washed with water and dried. Next, add the following
An undercoat solution was applied and dried at 80 ° C. for 30 seconds. After drying
10 mg / mTwoMet.

【0177】 下塗り液 β−アラニン 0.1 g フェニルホスホン酸 0.05g メタノール 40 g 純水 60 gUndercoat solution β-alanine 0.1 g Phenylphosphonic acid 0.05 g Methanol 40 g Pure water 60 g

【0178】次に、下記溶液[G]を調製し、この溶液
を、上記の下塗り済みのアルミニウム板に塗布し、10
0℃で1分間乾燥してネガ型平版印刷用版材[G−1]
〜[G−4]を得た。乾燥後の被覆量は1.5g/m2
であった。
Next, the following solution [G] was prepared, and this solution was applied to the above-mentioned primed aluminum plate.
Dry at 0 ° C. for 1 minute to prepare a negative type lithographic printing plate [G-1]
To [G-4]. The coated amount after drying is 1.5 g / m 2
Met.

【0179】 溶液[G] 含フッ素共重合ポリマー 0.05g 酸発生剤[SH−1] 0.3 g 架橋剤 0.5 g バインダーポリマー[BP−1] 1.5 g 赤外線吸収剤[IK−1] 0.07g AIZEN SPILON BLUE C−RH 0.035g (保土ヶ谷化学(株)製) メガファックF−177 0.01g (大日本インキ化学工業(株)製、フッ素系界面活性剤) メチルエチルケトン 12 g メチルアルコール 10 g 1−メトキシ−2−プロパノール 8 gSolution [G] Fluorine-containing copolymer 0.05 g Acid generator [SH-1] 0.3 g Crosslinker 0.5 g Binder polymer [BP-1] 1.5 g Infrared absorber [IK- 1] 0.07 g AIZEN SPILON BLUE C-RH 0.035 g (manufactured by Hodogaya Chemical Co., Ltd.) Megafac F-177 0.01 g (manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc., fluorine surfactant) Methyl ethyl ketone 12 g Methyl alcohol 10 g 1-methoxy-2-propanol 8 g

【0180】溶液[G−1]〜[G−4]に用いた含フ
ッ素共重合ポリマー、及び架橋剤を表1に示す。また、
酸発生剤[SH−1]及び赤外線吸収剤[IK−1]の
構造を以下に示す。
Table 1 shows the fluorinated copolymers and crosslinking agents used in Solutions [G-1] to [G-4]. Also,
The structures of the acid generator [SH-1] and the infrared absorber [IK-1] are shown below.

【0181】[0181]

【表1】 [Table 1]

【0182】[0182]

【化58】 Embedded image

【0183】得られたネガ型平版印刷用版材[G−1]
〜[G−4]の表面を素手で触り、その後、波長820
〜850nm程度の赤外線を発する半導体レーザで走査
露光した。露光後、パネルヒーターにて、110℃で3
0秒間加熱処理した後、富士写真フイルム(株)製現像
液、DP−4(1:8の水希釈液)にて現像した。画像
形成後、素手で触った部分の画像が抜けているかどうか
を、目視で判断したが、ネガ型平版印刷用版材[G−
1]〜[G−4]おいては、明確な画像抜けは生じてい
なかった。
The obtained negative type lithographic printing plate material [G-1]
To the surface of [G-4] with bare hands,
Scanning exposure was performed using a semiconductor laser that emits infrared light of about 850 nm. After exposure, 3 hours at 110 ° C with panel heater
After heat treatment for 0 second, development was carried out with a developing solution DP-4 (1: 8 water dilution) manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd. After the image formation, it was visually determined whether or not the image touched by the bare hand was missing. However, the negative type lithographic printing plate [G-
In [1] to [G-4], clear image omission did not occur.

【0184】(比較例1)実施例1で用いた溶液[G]
において、含フッ素共重合ポリマーの代わりに前記高分
子化合物[R−1]を使用した以外は、実施例1と同様
にして、溶液を調製した。この溶液を、実施例1で用い
た下塗り済みのアルミニウム板に塗布し、100℃で1
分間乾燥してネガ型平版印刷用版材[Q−1]を得た。
乾燥後の重量は1.5g/m2 であった。得られた平版
印刷用版材[Q−1]を、実施例1と同様の操作で画像
形成した。画像形成後、素手で触った部分の画像が抜け
ているかどうかを、目視で判断したが、ネガ型平版印刷
用版材[Q−1]おいては、明確な画像抜けが生じてい
た。
(Comparative Example 1) Solution [G] used in Example 1
, A solution was prepared in the same manner as in Example 1 except that the polymer compound [R-1] was used instead of the fluorinated copolymer. This solution was applied to the primed aluminum plate used in Example 1, and
After drying for minutes, a negative type lithographic printing plate material [Q-1] was obtained.
The weight after drying was 1.5 g / m 2 . An image was formed on the obtained lithographic printing plate material [Q-1] in the same manner as in Example 1. After the image formation, it was visually determined whether or not the image of the portion touched by the bare hand was missing. In the negative type lithographic printing plate material [Q-1], clear image missing occurred.

【0185】(比較例2)実施例1で用いた溶液[G]
において、含フッ素共重合ポリマーの代わりに前記高分
子化合物[R−2]を使用した以外は、実施例1と同様
にして、溶液を調製した。この溶液を、実施例1で用い
た下塗り済みのアルミニウム板に塗布し、100℃で1
分間乾燥してネガ型平版印刷用版材[Q−2]を得た。
乾燥後の重量は1.5g/m2 であった。得られた平版
印刷用版材[Q−1]を、実施例1と同様の操作で画像
形成した。画像形成後、素手で触った部分の画像が抜け
ているかどうかを、目視で判断したが、ネガ型平版印刷
用版材[Q−2]おいては、明確な画像抜けが生じてい
た。
(Comparative Example 2) Solution [G] used in Example 1
, A solution was prepared in the same manner as in Example 1 except that the polymer compound [R-2] was used instead of the fluorinated copolymer. This solution was applied to the primed aluminum plate used in Example 1, and
After drying for minutes, a negative type lithographic printing plate material [Q-2] was obtained.
The weight after drying was 1.5 g / m 2 . An image was formed on the obtained lithographic printing plate material [Q-1] in the same manner as in Example 1. After the image formation, it was visually determined whether or not the image of the portion touched with the bare hand was missing, but clear image missing occurred in the negative type lithographic printing plate [Q-2].

【0186】[0186]

【発明の効果】以上のことより本発明は、赤外線を放射
する固体レーザ及び半導体レーザを用いて記録すること
により、コンピューター等のデジタルデータから直接製
版可能であり、レーザ露光後の画像形成において、画像
抜けがない優れたネガ型平版印刷用版材に適するネガ型
画像記録材料を提供することができる。
As described above, according to the present invention, it is possible to make a plate directly from digital data of a computer or the like by recording using a solid-state laser and a semiconductor laser emitting infrared rays. It is possible to provide a negative type image recording material suitable for a negative type lithographic printing plate material having no image omission.

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 下記(A)〜(E)を含有してなること
を特徴とするネガ型画像記録材料。 (A)光又は熱により分解して酸を発生する化合物、 (B)酸により架橋する架橋剤、 (C)アルカリ可溶性樹脂の少なくとも1種、 (D)赤外線吸収剤、 (E)少なくとも下記成分(1)〜(3)を共重合成分
として含む高分子化合物、 成分(1)炭素原子上の水素原子がフッ素原子で置換さ
れているフルオロ脂肪族基を有する付加重合可能なモノ
マー、成分 (2)下記の構造式〔1〕〜〔4〕で示されるモノ
マーから選択される少なくとも1種、 成分(3)下記の構造式〔5〕〜〔8〕で示されるモノ
マーから選択される少なくとも1種。 【化1】 前記構造式〔1〕〜〔4〕中、Aは、水素原子、ハロゲ
ン原子又はアルキル基を表す。Wは、酸素原子、又は−
NR3 −を表す。R3 は、水素原子、アルキル基又はア
リール基を表す。R1 は、置換基を有していてもよいア
ルキレン基、又は置換基を有していてもよいアリーレン
基を表す。R2 は、水素原子、アルキル基又はアリール
基を表す。R4 は、アルキル基又はアリール基を表す。
Y及びZは、置換基を有していてもよいアリーレン基を
表し、Y及びZは、同一であってもよいし異なっていて
もよい。Xは、連結基であり、炭素、窒素、酸素、硫
黄、ハロゲン及び水素原子から選択される原子からなる
2価の有機基を表す。mは、0〜1の整数を、nは、1
〜3の整数を表す。 【化2】 前記構造式〔5〕〜〔8〕中、Wは、酸素原子、又は−
NR3 −を表す。R3は、水素原子、アルキル基又はア
リール基を表す。R5 は、置換基を有していてもよいア
ルキル基、又は置換基を有していてもよいアリール基を
表す。R6 は、アルキル基又はアリール基を表す。U
は、シアノ基、アリール基、アルコキシ基、アリールオ
キシ基、アシルオキシメチル基、若しくは窒素原子を含
むヘテロ環、、又は−CH2 OCOR6 (R6 は上記と
同義である。)を表す。Aは、前記構造式〔1〕〜
〔4〕で表されるものと同義である。
1. A negative type image recording material comprising the following (A) to (E). (A) a compound that decomposes by light or heat to generate an acid; (B) a crosslinking agent that crosslinks with an acid; (C) at least one alkali-soluble resin; (D) an infrared absorber; (E) at least the following components: (1) to (3) a polymer compound containing as a copolymerization component, component (1) addition polymerizable monomer having a fluoroaliphatic group in which a hydrogen atom on the carbon atoms are substituted with fluorine atoms, component (2 ) At least one selected from the monomers represented by the following structural formulas [1] to [4], and component (3) at least one selected from the monomers represented by the following structural formulas [5] to [8] . Embedded image In the structural formulas [1] to [4], A represents a hydrogen atom, a halogen atom or an alkyl group. W is an oxygen atom, or-
Represents NR 3 —. R 3 represents a hydrogen atom, an alkyl group or an aryl group. R 1 represents an alkylene group which may have a substituent or an arylene group which may have a substituent. R 2 represents a hydrogen atom, an alkyl group or an aryl group. R 4 represents an alkyl group or an aryl group.
Y and Z represent an arylene group which may have a substituent, and Y and Z may be the same or different. X is a linking group, and represents a divalent organic group consisting of atoms selected from carbon, nitrogen, oxygen, sulfur, halogen and hydrogen atoms. m is an integer of 0 to 1; n is 1
Represents an integer of 1 to 3. Embedded image In the structural formulas [5] to [8], W is an oxygen atom or-
Represents NR 3 —. R 3 represents a hydrogen atom, an alkyl group or an aryl group. R 5 represents an alkyl group which may have a substituent or an aryl group which may have a substituent. R 6 represents an alkyl group or an aryl group. U
Represents a cyano group, an aryl group, an alkoxy group, an aryloxy group, an acyloxymethyl group, a heterocyclic ring containing a nitrogen atom, or —CH 2 OCOR 6 (R 6 has the same meaning as described above). A represents the structural formula [1] to
It has the same meaning as that represented by [4].
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2016177027A (en) * 2015-03-19 2016-10-06 日立化成株式会社 Photosensitive resin composition, patterned cured film formed by using the photosensitive resin composition, and organic el display device including the patterned cured film as ink-repelling bank film
WO2019187818A1 (en) 2018-03-29 2019-10-03 富士フイルム株式会社 Development processing device for planographic printing plate manufacture, and manufacturing method of planographic printing plate
WO2021132665A1 (en) 2019-12-27 2021-07-01 富士フイルム株式会社 Planographic printing method

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2016177027A (en) * 2015-03-19 2016-10-06 日立化成株式会社 Photosensitive resin composition, patterned cured film formed by using the photosensitive resin composition, and organic el display device including the patterned cured film as ink-repelling bank film
WO2019187818A1 (en) 2018-03-29 2019-10-03 富士フイルム株式会社 Development processing device for planographic printing plate manufacture, and manufacturing method of planographic printing plate
WO2021132665A1 (en) 2019-12-27 2021-07-01 富士フイルム株式会社 Planographic printing method

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