JP2010060935A - Negative lithographic printing plate precursor and plate making method therefor - Google Patents

Negative lithographic printing plate precursor and plate making method therefor Download PDF

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a negative lithographic printing plate precursor which cures with high sensitivity upon infrared laser exposure and has a wide heating latitude in preheat treatment, and which even when preheat-treated at a low temperature, can form an image and suppresses the occurrence of a residual film in a non-image area. <P>SOLUTION: The negative lithographic printing plate precursor has on a support an image recording layer containing (A) a compound which is decomposed under light or heat to generate an acid, (B) a crosslinking agent represented by general formula (I), (C) a binder polymer and (D) an infrared absorbent. In the formula, L<SP>1</SP>represents a linking group having a total number of atoms of ≤50; R<SP>1</SP>and R<SP>2</SP>each represent a hydrocarbon group, alkoxy, a halogen atom or nitro; and R<SP>3</SP>and R<SP>4</SP>each represent H or a hydrocarbon group. <P>COPYRIGHT: (C)2010,JPO&INPIT

Description

本発明はネガ型平版印刷版原版及びその製版方法に関するものであり、特にコンピュータ等のデジタル信号から赤外線レーザを用い直接製版できる、いわゆるダイレクト製版可能なネガ型平版印刷版原版及びその製版方法に関する。   The present invention relates to a negative lithographic printing plate precursor and a plate making method thereof, and more particularly to a negative lithographic printing plate precursor capable of direct plate making using an infrared laser from a digital signal of a computer or the like and a plate making method thereof.

従来、コンピュータのデジタルデータから直接製版するシステムは種々検討されており、なかでもレーザを用い露光する技術が、近年におけるレーザの発展に伴い注目されている。このレーザ、特に波長760nmから1200nmの赤外線を放射する固体レーザ及び半導体レーザは、高出力かつ小型のものが容易に入手できる様になっている。コンピュータ等のデジタルデータから直接製版する際の記録光源として、これらのレーザは非常に有用である。しかし、実用上有用な多くの感光性記録材料は、感光波長が760nm以下の可視光域であるため、これらの赤外線レーザでは画像記録できない。このため、赤外線レーザで記録可能な材料が望まれている。   Conventionally, various systems for directly making a plate from digital data of a computer have been studied, and in particular, a technique for performing exposure using a laser has attracted attention with the recent development of lasers. This laser, particularly a solid-state laser and a semiconductor laser that emits infrared light having a wavelength of 760 nm to 1200 nm, can be easily obtained with high output and small size. These lasers are very useful as a recording light source when directly making a plate from digital data such as a computer. However, since many photosensitive recording materials useful in practical use have a photosensitive wavelength in the visible light range of 760 nm or less, image recording cannot be performed with these infrared lasers. Therefore, a material that can be recorded with an infrared laser is desired.

このような赤外線レーザにて記録可能な平版印刷版原版として、赤外線レーザの露光により発熱する赤外線吸収剤と、熱により分解して酸を発生する酸発生剤と、酸により架橋する架橋剤とを含有する、いわゆる酸架橋タイプのネガ型画像記録層を有する平版印刷版原版が知られている。このような平版印刷版原版の画像形成機構は、赤外線レーザ照射領域において赤外線吸収剤が発熱し、熱により酸が発生して架橋剤の架橋反応を生起、進行させ、露光領域を硬化させて画像部を形成する。
酸架橋タイプのネガ型画像形成機構を有する材料としては、架橋剤としてレゾール樹脂を用い、ノボラック樹脂と酸発生剤と赤外線色素を含有する画像記録材料が知られている(例えば、特許文献1参照。)。この材料は感度に優れるものの、保存安定性が不十分であり、経時により所望されない硬化反応が生じて印刷汚れが発生する、或いは、低温加熱処理を行った場合、現像後に残膜を生じるなどの問題があった。
As such a lithographic printing plate precursor that can be recorded with an infrared laser, an infrared absorber that generates heat upon exposure to the infrared laser, an acid generator that decomposes by heat to generate an acid, and a crosslinking agent that crosslinks with an acid. A lithographic printing plate precursor having a so-called acid-crosslinking type negative image recording layer is known. In such an image forming mechanism of a lithographic printing plate precursor, an infrared absorber generates heat in an infrared laser irradiation region, an acid is generated by heat to cause and advance a crosslinking reaction of the crosslinking agent, and an exposed region is cured to form an image. Forming part.
As a material having an acid cross-linking type negative image forming mechanism, an image recording material using a resol resin as a cross-linking agent and containing a novolac resin, an acid generator and an infrared dye is known (for example, see Patent Document 1). .) Although this material is excellent in sensitivity, storage stability is insufficient, and an undesired curing reaction occurs over time, resulting in print stains, or when a low-temperature heat treatment is performed, a residual film is formed after development. There was a problem.

このような平版印刷版原版を製版するに際し、画像部の硬化を促進させ、耐刷性を確保するために、現像前にプレヒート処理を行うことが一般的である。
プレヒート処理により、画像部の架橋密度が向上し、耐刷性に優れた画像が形成されるが、加熱処理の条件によっては、未露光部中の未反応の酸発生剤が僅かではあるが分解して所望されない硬化反応を引き起こし、その結果、未露光部(非画像部)に現像によって除去されない残膜が生じることがある。
When making such a lithographic printing plate precursor, it is common to perform preheating treatment before development in order to promote curing of the image area and ensure printing durability.
The preheating treatment improves the crosslink density of the image area and forms an image with excellent printing durability. However, depending on the heat treatment conditions, the unreacted acid generator in the unexposed area is slightly decomposed. As a result, an undesired curing reaction may be caused, and as a result, a remaining film that is not removed by development may be formed in an unexposed area (non-image area).

熱安定性に優れ、特に高温下での保存安定性の向上を目的として、特定構造のポリマー、2つ以上のヒドロキシメチル基又はアルコキシメチル基を持ち、ベンゼン核を3〜5個有し、分子量1200以下の架橋剤、等の成分を用いた酸架橋タイプのネガ型画像形成材料が提案されている(例えば、特許文献2参照。)。この材料においては、保存時における経時安定性は改良されたものの、プレヒート処理を行った場合、加熱温度が低くすぎる場合には、形成された画像部の強度向上効果が十分に得られず、また、加熱温度を高くすると、画像記録層が高感度であるために、非画像部に汚れが発生する懸念があり、加熱温度条件の条件設定が困難となる場合があった。
このため、露光により高感度で硬化するとともに、プレヒート処理において、耐刷性に優れた画像部を形成するための最低加熱温度が低く、且つ、非画像部おける優れた現像性を維持する最低加熱温度が高い、即ち、加熱ラチチュードが広い材料が望まれているが、低温加熱処理においても、耐刷性に優れた画像部が形成されると共に、非画像部における残膜の発生が抑制された平版印刷版原版は未だ実現されていないのが現状である。
米国特許第5,372,907号明細書 米国特許第6,403,283号明細書
Excellent thermal stability, especially for the purpose of improving storage stability at high temperatures, it has a polymer with a specific structure, 2 or more hydroxymethyl groups or alkoxymethyl groups, 3-5 benzene nuclei, and molecular weight An acid-crosslinking type negative image forming material using components such as a crosslinking agent of 1200 or less has been proposed (for example, see Patent Document 2). In this material, although the temporal stability during storage has been improved, when preheating treatment is performed, if the heating temperature is too low, the effect of improving the strength of the formed image portion cannot be sufficiently obtained, and When the heating temperature is increased, the image recording layer has high sensitivity, so there is a concern that stains may occur in the non-image area, and it may be difficult to set the heating temperature condition.
For this reason, it cures with high sensitivity by exposure, and in the preheating process, the minimum heating temperature for forming an image area with excellent printing durability is low, and the minimum heating for maintaining excellent developability in the non-image area. Although a material having a high temperature, that is, a wide heating latitude is desired, an image portion having excellent printing durability is formed even in a low-temperature heat treatment, and generation of a residual film in a non-image portion is suppressed. The lithographic printing plate precursor has not been realized yet.
US Pat. No. 5,372,907 US Pat. No. 6,403,283

本発明は、前記従来における問題を解決し、以下の目的を達成することを課題とする。
即ち、本発明の目的は、赤外線レーザ露光により高感度で硬化するとともに、プレヒート処理における加熱ラチチュードが広く、低温でプレヒート処理した場合においても、耐刷性に優れた画像部を形成しうるとともに、非画像部における残膜の発生が抑制されたネガ型平版印刷版原版及びその製版方法を提供することにある。
An object of the present invention is to solve the conventional problems and achieve the following objects.
That is, the object of the present invention is to cure with high sensitivity by infrared laser exposure, have a wide heating latitude in preheating treatment, and can form an image portion with excellent printing durability even when preheating treatment is performed at a low temperature. An object of the present invention is to provide a negative lithographic printing plate precursor in which the generation of a residual film in a non-image area is suppressed and a plate making method thereof.

本発明者は、上記目的を達成すべく鋭意検討を重ねた結果、赤外線対応のネガ型画像記録層に、反応の前後で親水性から疎水性へと、その物性が変化する特定構造の架橋成分を用いることで上記目的が達成されることを見出し、本発明を完成した。   As a result of intensive studies to achieve the above object, the present inventor has developed a specific structure of a crosslinking component having a physical property that changes from hydrophilic to hydrophobic before and after the reaction to a negative-type image recording layer for infrared rays. The present invention has been completed by finding that the above-mentioned object can be achieved by using.

即ち、本発明のネガ型平版印刷版原版は、支持体上に、(A)光又は熱により分解して酸を発生する化合物、(B)下記一般式(I)で示される架橋剤〔以下、適宜、特定架橋剤と称する〕、(C)バインダーポリマー、及び、(D)赤外線吸収剤を含有する画像記録層を備えることを特徴とする。   That is, the negative lithographic printing plate precursor according to the present invention comprises (A) a compound capable of generating an acid by being decomposed by light or heat on a support, (B) a crosslinking agent represented by the following general formula (I): It is suitably referred to as a specific cross-linking agent], (C) a binder polymer, and (D) an image recording layer containing an infrared absorber.

Figure 2010060935
Figure 2010060935

前記一般式(I)中、Lは、炭素原子、水素原子、窒素原子、酸素原子及び硫黄原子から選択される1種以上の原子を含んで構成され、総原子数50個以下の連結基を表す。R,Rはそれぞれ独立に、炭素原子数1〜20の炭化水素基、アルコキシ基、ハロゲン原子、又は、ニトロ基を表し、これらはさらに、ヒドロキシル基、ハロゲン基、エーテル結合、及び、アミド結合を有していてもよい。n1,n2はそれぞれ0〜3の整数を表すが、n1とn2が同時に0となることはない。
、Rはそれぞれ独立に、水素原子又は炭素原子数1〜20の炭化水素基を表す。n3,n4はそれぞれ0〜3の整数を表すが、n3とn4が同時に0となることはない。
m1,m2はそれぞれ0〜3の整数を表すが、m1とm2が同時に0となることはない。
前記一般式(I)で示される架橋剤は、好ましくは、下記一般式(I−2)で表される化合物である。
In the general formula (I), L 1 is composed of one or more atoms selected from a carbon atom, a hydrogen atom, a nitrogen atom, an oxygen atom, and a sulfur atom, and is a linking group having a total number of atoms of 50 or less. Represents. R 1 and R 2 each independently represents a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, an alkoxy group, a halogen atom, or a nitro group, which further includes a hydroxyl group, a halogen group, an ether bond, and an amide You may have a bond. n1 and n2 each represent an integer of 0 to 3, but n1 and n2 are not 0 at the same time.
R 3 and R 4 each independently represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms. n3 and n4 each represent an integer of 0 to 3, but n3 and n4 are not 0 simultaneously.
m1 and m2 each represent an integer of 0 to 3, but m1 and m2 are not 0 at the same time.
The crosslinking agent represented by the general formula (I) is preferably a compound represented by the following general formula (I-2).

Figure 2010060935
Figure 2010060935

前記一般式(I−2)中、Lは、炭素原子、水素原子、窒素原子、酸素原子及び硫黄原子から選択される1種以上の原子を含んで構成され、総原子数50個以下の連結基を表す。R,Rはそれぞれ独立に、炭素原子数1〜20の炭化水素基、アルコキシ基、ハロゲン原子、又は、ニトロ基を表し、これらはさらに、ヒドロキシル基、ハロゲン基、エーテル結合、及び、アミド結合を有していてもよい。R、Rはそれぞれ独立に、水素原子又は炭素原子数1〜20の炭化水素基を表す。
本発明に係る画像記録層には、架橋剤として、前記特定架橋剤に加え、さらに、分子内にベンゼン核を3個以上含有する架橋剤及びレゾール樹脂から選択される1種以上の架橋剤を含有することが好ましい。
In the general formula (I-2), L 1 is a carbon atom, a hydrogen atom, a nitrogen atom, is configured to include one or more atoms selected from oxygen atom and sulfur atom, the total atomic number less 50 Represents a linking group. R 1 and R 2 each independently represents a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, an alkoxy group, a halogen atom, or a nitro group, which further includes a hydroxyl group, a halogen group, an ether bond, and an amide You may have a bond. R 3 and R 4 each independently represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms.
In addition to the specific crosslinking agent, the image recording layer according to the present invention further includes at least one crosslinking agent selected from a crosslinking agent containing three or more benzene nuclei in the molecule and a resol resin. It is preferable to contain.

本発明のネガ型平版印刷版原版を製版方法は、前記本発明のネガ型平版印刷版原版を、画像陽に露光する露光工程と、露光後に40〜200℃の条件で加熱するプレヒート工程と、アルカリ現像液にて未露光部を除去する現像工程とを含む、ことを特徴とする。   The plate making method of the negative lithographic printing plate precursor according to the present invention includes an exposure step of exposing the negative lithographic printing plate precursor of the present invention positively to the image, and a preheating step of heating at 40 to 200 ° C. after the exposure, And a developing step of removing unexposed portions with an alkali developer.

本発明の作用は明確ではないが、以下のように推定している。
本発明の平版印刷版原版の画像記録層には、上記一般式(I)で表される如き、親水性の水酸基と疎水性の炭化水素基とを有する特定架橋剤を含有するために、露光領域では、分子内の水酸基が架橋構造の形成により消失し、硬化領域は、該架橋剤の有する疎水性基の影響によりアルカリ現像液の浸透性が効果的に抑制され、耐現像性に優れた画像部が形成され、さらに、低温加熱処理によって架橋密度が向上することにより、その特性がより著しくなり、耐現像性、耐刷性に優れた画像部が形成されるが、未露光部では、特定架橋剤が分子内に有する疎水性基や複数の芳香環構造に起因して、所望されない架橋構造の形成が抑制され、且つ、該特定架橋剤の有する親水性基に起因する優れた現像性を発現するために、残膜発生の懸念がなく、従って、これを含有する画像記録層は加熱ラチチュードに優れるものと考えている。
The effect of the present invention is not clear, but is estimated as follows.
Since the image recording layer of the lithographic printing plate precursor according to the invention contains a specific crosslinking agent having a hydrophilic hydroxyl group and a hydrophobic hydrocarbon group as represented by the general formula (I), exposure is performed. In the region, the hydroxyl group in the molecule disappears due to the formation of a crosslinked structure, and in the cured region, the permeability of the alkaline developer is effectively suppressed due to the influence of the hydrophobic group of the crosslinking agent, and the development resistance is excellent. An image area is formed, and further, the cross-linking density is improved by low-temperature heat treatment, so that the characteristics become more remarkable, and an image area excellent in development resistance and printing durability is formed. Due to the hydrophobic group or specific aromatic ring structure in the specific cross-linking agent, formation of an undesired cross-linking structure is suppressed, and excellent developability due to the hydrophilic group possessed by the specific cross-linking agent No worries about residual film formation Thus, an image recording layer containing this is considered excellent in heat latitude.

本発明によれば、赤外線レーザ露光により高感度で硬化するとともに、プレヒート処理における加熱ラチチュードが広く、低温でプレヒート処理した場合においても、耐刷性に優れた画像部を形成しうるとともに、非画像部における残膜の発生が抑制されたうるネガ型平版印刷版原版及びその製版方法を提供することができる。   According to the present invention, it is cured with high sensitivity by infrared laser exposure, has a wide heating latitude in preheating treatment, and can form an image portion having excellent printing durability even when preheating treatment is performed at a low temperature, A negative lithographic printing plate precursor capable of suppressing the generation of a residual film in the part and a plate making method thereof can be provided.

本発明のネガ型平版印刷版原版は、支持体上に、(A)光又は熱により分解して酸を発生する化合物、(B)一般式(I)で示される架橋剤、(C)バインダーポリマー、及び、(D)赤外線吸収剤を含有する画像記録層を備える。
以下、本発明の各構成成分などについて順次、詳細に説明する。
<(B)一般式(I)で示される架橋剤(特定架橋剤)>
本発明における画像記録層には、架橋剤として下記一般式(I)で示される化合物を含有する。
The negative lithographic printing plate precursor according to the present invention comprises, on a support, (A) a compound that generates acid upon decomposition by light or heat, (B) a crosslinking agent represented by the general formula (I), and (C) a binder. An image recording layer containing a polymer and (D) an infrared absorber is provided.
Hereinafter, each component of the present invention will be described in detail.
<(B) Crosslinking agent represented by general formula (I) (specific crosslinking agent)>
The image recording layer in the invention contains a compound represented by the following general formula (I) as a crosslinking agent.

Figure 2010060935
Figure 2010060935

前記一般式(I)中、Lは、炭素原子、水素原子、窒素原子、酸素原子及び硫黄原子から選択される1種以上の原子を含んで構成され、総原子数50個以下の連結基を表す。
で表される連結基としては、炭素原子数1〜10のアルキレン基、カルボニル基、−O−、−S−、−NH−、−NHCO−などから選択される2価の連結基、或いは、これらを複数含んで構成される2価の連結基が好ましく、この連結基は、さらに、炭素原子数1〜10のアルキル基、ハロゲン原子、ヒドロキシル基、炭素原子数1〜10アルコキシ基から選択される置換基を有していてもよく、また、複数存在する置換基が互いに結合して環構造を形成してもよい。
なかでも、画像形成性と非画像部汚れにくさのバランスの観点からは、Lで表される連結基としては、炭素原子数1〜2のアルキレン基、カルボニル基、−S−から選択される2価の連結の連結基が好ましい。
In the general formula (I), L 1 is composed of one or more atoms selected from a carbon atom, a hydrogen atom, a nitrogen atom, an oxygen atom, and a sulfur atom, and is a linking group having a total number of atoms of 50 or less. Represents.
Examples of the linking group represented by L 1 include a divalent linking group selected from an alkylene group having 1 to 10 carbon atoms, a carbonyl group, —O—, —S—, —NH—, —NHCO—, and the like. Alternatively, a divalent linking group comprising a plurality of these is preferable, and this linking group is further composed of an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, a halogen atom, a hydroxyl group, or an alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms. The substituent may be selected, or a plurality of substituents may be bonded to each other to form a ring structure.
Among these, from the viewpoint of the balance between image formability and non-image area stain resistance, the linking group represented by L 1 is selected from an alkylene group having 1 to 2 carbon atoms, a carbonyl group, and —S—. A divalent linking group is preferred.

,Rはそれぞれ独立に、炭素原子数1〜20の炭化水素基、アルコキシ基、ハロゲン原子、又は、ニトロ基を表し、これらはさらに、置換基として、ヒドロキシ基、ハロゲン原子を有するものや、その構造内にエーテル結合、アミド結合などをふくむものであってもよい。
,Rの置換位置には任意であるが、硬化後の膜の疎水性向上の観点からは、Lで示される連結基のメタ位、オルト位に位置することが好ましく、より好ましくはメタ位である。また、合成適性の観点からは、RとRとが同一であることが好ましく、双方が、炭素原子数1〜20のアルキル基、炭素原子数6〜20のアリール基、炭素原子数1〜20のアルコキシ基であることが好ましく、より好ましくは、炭素原子数1〜3のアルキル基、炭素原子数6〜12のシクロアルキル基、フェニル基などである。
n1,n2はそれぞれ0〜3の整数を表すが、n1とn2が同時に0となることはない。なかでも好ましくはn1=n2=1の場合である。
R 1 and R 2 each independently represent a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, an alkoxy group, a halogen atom, or a nitro group, and these further have a hydroxy group or a halogen atom as a substituent. Alternatively, the structure may include an ether bond, an amide bond, or the like.
The substitution position of R 1 and R 2 is arbitrary, but from the viewpoint of improving the hydrophobicity of the cured film, it is preferably located at the meta position or ortho position of the linking group represented by L 1 , more preferably. Is the meta position. From the viewpoint of synthesis suitability, R 1 and R 2 are preferably the same, and both of them are an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, an aryl group having 6 to 20 carbon atoms, and 1 carbon atom. It is preferable that it is -20 alkoxy groups, More preferably, they are a C1-C3 alkyl group, a C6-C12 cycloalkyl group, a phenyl group, etc.
n1 and n2 each represent an integer of 0 to 3, but n1 and n2 are not 0 at the same time. In particular, the case where n1 = n2 = 1 is preferable.

、Rはそれぞれ独立に、水素原子又は炭素原子数1〜20の炭化水素基を表し、水素原子又は、炭素原子数1〜4のアルキル基が好ましい。また、合成適性の観点からは、RとRとが同一であることが好ましい。
−CH−O−R基、−CH−O−R基の置換位置は任意であるが、好ましくは、メタ位、パラ位であり、より好ましくはメタ位である。
n3,n4はそれぞれ0〜3の整数を表すが、n3とn4が同時に0となることはない。なかでも好ましくはn1=n2=1又は2の場合であり、さらに好ましくは双方が1の場合である。
R 3 and R 4 each independently represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, preferably a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms. From the viewpoint of synthesis suitability, R 3 and R 4 are preferably the same.
The substitution position of the —CH 2 —O—R 3 group and —CH 2 —O—R 4 group is arbitrary, but preferably the meta position and the para position, and more preferably the meta position.
n3 and n4 each represent an integer of 0 to 3, but n3 and n4 are not 0 simultaneously. Among these, the case where n1 = n2 = 1 or 2 is preferable, and the case where both are 1 is more preferable.

一般式(I)における−OH基の置換位置は任意であるが、好ましくはオルト位又はパラ位であり、より好ましくはパラ位である。
m1,m2はそれぞれ0〜3の整数を表すが、m1とm2が同時に0となることはない。合成適性の観点からは、双方が同じであることが好ましく、m1=m2=1であることがより好ましい。
The substitution position of the —OH group in the general formula (I) is arbitrary, but is preferably ortho-position or para-position, more preferably para-position.
m1 and m2 each represent an integer of 0 to 3, but m1 and m2 are not 0 at the same time. From the viewpoint of synthesis suitability, both are preferably the same, and more preferably m1 = m2 = 1.

一般式(I)で示される架橋剤としては、下記一般式(I−2)で表される化合物であることが好ましい態様である。   The crosslinking agent represented by the general formula (I) is preferably a compound represented by the following general formula (I-2).

Figure 2010060935
Figure 2010060935

前記一般式(I−2)中、L、R,R、R、Rはそれぞれ、一般式(I)におけるのと同義であり、好ましい例もまた同様である。
以下に、本発明で好適に用いうる特定架橋剤の具体例〔例示化合物[BL−1]〜[BL−11]〕を挙げるが、本発明はこれらに限定されるものではない。
In the general formula (I-2), L 1 , R 1 , R 2 , R 3 and R 4 have the same meanings as in the general formula (I), and preferred examples thereof are also the same.
Specific examples of the specific crosslinking agent that can be suitably used in the present invention [Exemplary compounds [BL-1] to [BL-11]] are shown below, but the present invention is not limited thereto.

Figure 2010060935
Figure 2010060935

上記例示化合物のなかでも、画像形成性と非画像部汚れにくさのバランスの観点からは、[BL−1]、[BL−2]、[BL−3]、[BL−4]、[BL−5]、[BL−6]、[BL−7]、[BL−11]などが好ましい。
本発明に係る画像記録層には、特定架橋剤を1種のみ含んでもよく、2種以上を併用してもよい。
画像記録層おける特定架橋剤の含有量は、画像形成性と非画像部汚れにくさのバランスの観点から、5〜90質量%であることが好ましく、10〜70質量%であることがより好ましい。
Among the above exemplified compounds, [BL-1], [BL-2], [BL-3], [BL-4], [BL from the viewpoint of the balance between image forming property and non-image area stain resistance. −5], [BL-6], [BL-7], [BL-11] and the like are preferable.
The image recording layer according to the present invention may contain only one kind of specific crosslinking agent or two or more kinds in combination.
The content of the specific crosslinking agent in the image recording layer is preferably 5 to 90% by mass, more preferably 10 to 70% by mass, from the viewpoint of a balance between image formability and resistance to non-image area contamination. .

<他の架橋剤>
本発明に係る画像記録層には、前記特定架橋剤に加え、本発明の効果を損なわない範囲で、特定架橋剤とは構造の異なる他の架橋剤を併用することができる。
本発明に用いることのできる、(B)一般式(I)で示される架橋剤とは構造の異なる、酸により架橋する架橋剤としては、特に制限はなく、公知のものを任意に選択して使用することができるが、効果の観点からは、(B−1)分子内にベンゼン核を3個以上含有する架橋剤及び(B−2)レゾール樹脂から選択される架橋剤が好ましい。
<Other cross-linking agents>
In the image recording layer according to the present invention, in addition to the specific cross-linking agent, another cross-linking agent having a structure different from that of the specific cross-linking agent can be used in combination as long as the effects of the present invention are not impaired.
The crosslinking agent that can be used in the present invention (B) has a structure different from that of the crosslinking agent represented by the general formula (I), and is not particularly limited, and any known crosslinking agent can be arbitrarily selected. From the viewpoint of effects, (B-1) a crosslinking agent containing three or more benzene nuclei in the molecule and (B-2) a crosslinking agent selected from a resole resin are preferable.

(B−1)分子内にベンゼン核を3個以上含有する架橋剤
本発明において用いられる分子内にベンゼン核を3個以上含有する架橋剤としては、アルコキシメチル基若しくはヒドロキシメチル基で置換された芳香族化合物であって、ヒドロキシ基に隣接する位置にヒドロキシメチル基又はアルコキシメチル基を有し、且つ、芳香環を少なくとも3個有する化合物を好ましい例として挙げることができる。
好ましい例としては、例えば、下記一般式(1)〜(4)で表される化合物を挙げることができる。
(B-1) Crosslinking agent containing 3 or more benzene nuclei in the molecule The crosslinking agent containing 3 or more benzene nuclei in the molecule used in the present invention was substituted with an alkoxymethyl group or a hydroxymethyl group. Preferable examples include aromatic compounds that have a hydroxymethyl group or an alkoxymethyl group at a position adjacent to a hydroxy group, and have at least three aromatic rings.
Preferable examples include compounds represented by the following general formulas (1) to (4).

Figure 2010060935
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前記各式中、L1 〜L8 はそれぞれ独立にメトキシメチル、エトキシメチル等のように炭素数18以下のアルコキシ基で置換されたヒドロキシメチル基又はアルコキシメチル基を示す。
このような化合物としては、特開平10−29292号公報の段落番号〔0133〕〜〔0140〕に記載の化合物などが挙げられ、好ましい具体例としては、例えば、以下の化合物が挙げられる。
In the above formulas, L 1 to L 8 each independently represent a hydroxymethyl group or an alkoxymethyl group substituted with an alkoxy group having 18 or less carbon atoms such as methoxymethyl, ethoxymethyl and the like.
Examples of such compounds include the compounds described in paragraphs [0133] to [0140] of JP-A No. 10-29292, and specific examples thereof include the following compounds.

Figure 2010060935
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(B−2)レゾール樹脂
本発明において用いうるレゾール樹脂については、特に制限はなく、フェノール類とアルデヒド類とを塩基性または弱酸性条件下で重縮合させたヒドロキシメチル基を含有する樹脂状の化合物であれば使用することができる。具体的には、フェノール、クレゾール、アルキルフェノール、キシレノール、ビスフェノールA、ビスフェノールF、又はビスフェノールS等のフェノール樹脂と、アルデヒド類とを塩基性条件下で重縮合させることで得られたレゾール樹脂であることが好ましい。
例えば、英国特許第2,082,339号明細書、米国特許第5372907号明細書などにレゾール樹脂として開示された化合物も本発明に使用しうる。
レゾール樹脂としては、重量平均分子量500〜100000、数平均分子量200〜50000のものが好適な例として挙げられる。上記分子量の範囲において、良好な架橋性が得られ、経時における保存安定性低下の懸念がない。
(B-2) Resol resin The resol resin that can be used in the present invention is not particularly limited, and is a resinous resin containing a hydroxymethyl group obtained by polycondensation of phenols and aldehydes under basic or weakly acidic conditions. Any compound can be used. Specifically, it is a resol resin obtained by polycondensing a phenol resin such as phenol, cresol, alkylphenol, xylenol, bisphenol A, bisphenol F, or bisphenol S and an aldehyde under basic conditions. Is preferred.
For example, compounds disclosed as resole resins in British Patent 2,082,339, US Pat. No. 5,372,907, and the like can also be used in the present invention.
Preferred examples of the resole resin include those having a weight average molecular weight of 500 to 100,000 and a number average molecular weight of 200 to 50,000. Within the above molecular weight range, good crosslinkability is obtained, and there is no concern about deterioration in storage stability over time.

これら「他の架橋剤」は、本発明に係る特定架橋剤と組み合わせて用いることで、架橋効率が高く、耐刷性を向上させることができる点で好ましい。上記に例示された他の架橋性剤は、単独で使用してもよく、2種以上を組み合わせて使用してもよい。   These “other cross-linking agents” are preferable in that they are used in combination with the specific cross-linking agent according to the present invention in that the cross-linking efficiency is high and the printing durability can be improved. The other crosslinking agents exemplified above may be used alone or in combination of two or more.

本発明に用いることのできる他の架橋剤は、前記特定架橋剤100質量部に対して、0〜300質量部の範囲で併用することができ、好ましくは、0〜100質量部の範囲である。
本発明の画像記録層における架橋剤の含有量は、画像記録層の全固形分に対し、特定架橋剤と他の架橋剤との総量として5〜90質量%であることが好ましく、10〜70質量%であることがさらに好ましい。架橋剤の総添加量が上記範囲において、画像記録層の硬化時の耐刷性と保存時の安定性のいずれもが良好となる。
The other crosslinking agent that can be used in the present invention can be used in the range of 0 to 300 parts by mass, preferably in the range of 0 to 100 parts by mass, with respect to 100 parts by mass of the specific crosslinking agent. .
The content of the crosslinking agent in the image recording layer of the present invention is preferably 5 to 90% by mass as the total amount of the specific crosslinking agent and the other crosslinking agent with respect to the total solid content of the image recording layer. More preferably, it is mass%. When the total amount of the crosslinking agent is within the above range, both the printing durability at the time of curing the image recording layer and the stability at the time of storage are good.

以下、本発明に係る画像記録層に含まれる他の成分について説明する。
<(A)光又は熱により分解して酸を発生する化合物>
本発明において光又は熱により分解して酸を発生する化合物(以下、適宜、酸発生剤と称する)とは、200〜500nmの波長の光照射又は100℃以上の加熱により酸を発生する化合物を指す。本発明において好適に用いられる酸発生剤としては、光カチオン重合の光開始剤、光ラジカル重合の光開始剤、色素類の光消色剤、光変色剤、あるいはマイクロレジスト等に使用されている公知の酸発生剤等、公知の、熱分解して酸を発生する化合物、及びそれらの混合物を適宜に選択して使用することができる。
Hereinafter, other components contained in the image recording layer according to the present invention will be described.
<(A) Compound that decomposes by light or heat to generate acid>
In the present invention, the compound that generates an acid by being decomposed by light or heat (hereinafter, appropriately referred to as an acid generator) is a compound that generates an acid upon irradiation with light having a wavelength of 200 to 500 nm or heating at 100 ° C. or higher. Point to. As an acid generator suitably used in the present invention, it is used for a photoinitiator for photocationic polymerization, a photoinitiator for radical photopolymerization, a photodecolorant for dyes, a photochromic agent, a microresist, or the like. Known compounds such as known acid generators, which generate acid upon thermal decomposition, and mixtures thereof can be appropriately selected and used.

例えば、S.I.Schlesinger,Photogr.Sci.Eng.,18,387(1974)、T.S.Bal et al,Polymer,21,423(1980)に記載のジアゾニウム塩、米国特許第4,069,055号、同4,069,056号、同Re27,992号、特開平4−365049号の明細書に記載のアンモニウム塩、D.C.Necker et al,Macromolecules,17,2468(1984)、C.S.Wen et al,Teh,Proc.Conf.Rad,Curing ASIA,p478 Tokyo,Oct(1988)、米国特許第4,069,055号、同4,069,056号に記載のホスホニウム塩、J.V.Crivello et al,Macromolecules,10(6),1307(1977)、Chem.& Eng.News,Nov.28,p31(1988)、欧州特許第104、143号、米国特許第339,049号、同第410,201号、特開平2−150848号、特開平2−296514号に記載のヨードニウム塩、J.V.Crivello et al,Polymer J.17,73(1985)、J.V.Crivello et al.J.Org.Chem.,43,3055(1978)、W.R.Watt et al,J.Polymer Sci.,Polymer Chem.Ed.,22,1789(1984)、J.V.Crivello et al,Polymer   For example, S.M. I. Schlesinger, Photogr. Sci. Eng. , 18, 387 (1974), T.A. S. The diazonium salt described in Bal et al, Polymer, 21, 423 (1980), U.S. Pat. Nos. 4,069,055, 4,069,056, Re27,992, and JP-A-4-365049. Ammonium salts described in the C. Necker et al, Macromolecules, 17, 2468 (1984), C.I. S. Wen et al, Teh, Proc. Conf. Rad, Curing ASIA, p478 Tokyo, Oct (1988), U.S. Pat. Nos. 4,069,055 and 4,069,056; V. Crivello et al, Macromolecules, 10 (6), 1307 (1977), Chem. & Eng. News, Nov. 28, p31 (1988), European Patent Nos. 104 and 143, U.S. Pat. Nos. 339,049 and 410,201, JP-A-2-150848 and JP-A-2-296514, . V. Crivello et al, Polymer J. et al. 17, 73 (1985), J. Am. V. Crivello et al. J. et al. Org. Chem. 43, 3055 (1978); R. Watt et al, J.A. Polymer Sci. , Polymer Chem. Ed. , 22, 1789 (1984), J. Am. V. Crivello et al, Polymer

Bull.,14,279(1985)、J.V.Crivello et al,Macromolecules,14(5),1141(1981)、J.V.Crivello et al,J.Polymer Sci.,Polymer Chem.Ed.,17,2877(1979)、欧州特許第370,693号、同390,214号、同233,567号、同297,443号、同297,442号、米国特許第4,933,377号、同161,811号、同410,201号、同339,049号、同4,760,013号、同4,734,444号、同2,833,827号、独国特許第2,904,626号、同3,604,580号、同3,604,581号に記載のスルホニウム塩、 Bull. 14, 279 (1985), J. Am. V. Crivello et al, Macromolecules, 14 (5), 1141 (1981), J. MoI. V. Crivello et al, J.A. Polymer Sci. , Polymer Chem. Ed. , 17, 2877 (1979), European Patent Nos. 370,693, 390,214, 233,567, 297,443, 297,442, U.S. Pat. No. 4,933,377, 161,811, 410,201, 339,049, 4,760,013, 4,734,444, 2,833,827, German Patent 2,904 No. 626, No. 3,604,580, No. 3,604,581

J.V.Crivello et al,Macromolecules,10(6),1307(1977)、J.V.Crivello et al,J.Polymer Sci.,Polymer Chem.Ed.,17,1047(1979)に記載のセレノニウム塩、C.S.Wen et al,Teh,Proc.Conf.Rad.Curing ASIA,p478 Tokyo,Oct(1988)に記載のアルソニウム塩等のオニウム塩、米国特許第3,905,815号、特公昭46−4605号、特開昭48−36281号、特開昭55−32070号、特開昭60−239736号、特開昭61−169835号、特開昭61−169837号、特開昭62−58241号、特開昭62−212401号、特開昭63−70243号、特開昭63−298339号に記載の有機ハロゲン化合物、K.Meier et al,J.Rad.Curing,13(4),26(1986),T.P.Gill et al,Inorg.Chem.,19,3007(1980)、D.Astruc,Acc.Chem.Res.,19(12),377(1896)、特開平2−161445号に記載の有機金属/有機ハロゲン化物、S.Hayase et al,J.Polymer Sci.,25,753(1987)、E.Reichmanis et al,J.Polymer Sci.,Polymer Chem.Ed.,23,1(1985)、Q.Q.Zhu et al,J Photochem.,36,85,39,317(1987)、B.Amit
et al,Tetrahedron Lett.,(24)2205(1973),
J. et al. V. Crivello et al, Macromolecules, 10 (6), 1307 (1977), J. MoI. V. Crivello et al, J.A. Polymer Sci. , Polymer Chem. Ed. , 17, 1047 (1979), a selenonium salt, C.I. S. Wen et al, Teh, Proc. Conf. Rad. Curing ASIA, p478 Tokyo, Oct (1988), onium salts such as arsonium salts, U.S. Pat. No. 3,905,815, Japanese Examined Patent Publication No. 46-4605, Japanese Unexamined Patent Publication No. 48-36281, Japanese Unexamined Patent Publication No. Sho 55-. 32070, JP 60-239736, JP 61-169835, JP 61-169837, JP 62-58241, JP 62-212401, JP 63-70243 Organic halogen compounds described in JP-A-63-298339, K.I. Meier et al, J.A. Rad. Curing, 13 (4), 26 (1986), T.A. P. Gill et al, Inorg. Chem. , 19, 3007 (1980), D.M. Astruc, Acc. Chem. Res. , 19 (12), 377 (1896), and organic metal / organic halides described in JP-A-2-161445; Hayase et al, J.A. Polymer Sci. 25, 753 (1987), E.I. Reichmanis et al. Polymer Sci. , Polymer Chem. Ed. , 23, 1 (1985), Q.M. Q. Zhu et al, J Photochem. 36, 85, 39, 317 (1987), B.R. Amit
et al, Tetrahedron Lett. , (24) 2205 (1973),

D.H.R.Barton et al,J.Chem.Soc.3571(1965)、P.M.Collins et al,J.Chem.Soc.,Perkin I,1695(1975)、M.Rudinstein et al,Tetrahedron Lett.,(17),1445(1975)、J.W.Walker et al,J.Am.Chem.Soc.,110,7170(1988)、S.C.Busman et al,J.Imaging Technol.,11(4),191(1985)、H.M.Houlihan et al,Macromolecules,21,2001(1988)、P.M.Collins et al,J.Chem.Soc.,Chem.Commun.,532(1972)、S.Hayase et al,Macromolecules,18,1799(1985)、E.Reichmanis et al,J.Electrochem.Soc.,Solid
State Sci.Technol.,130(6)、F.M.Houlihan et al,Macromolecules,21,2001(1988)、欧州特許第0290,750号、同046,083号、同156,535号、同271,851号、同0,388,343号、米国特許第3,901,710号、同4,181,531号、特開昭60−198538号、特開昭53−133022号に記載のo−ニトロベンジル型保護基を有する光酸発生剤、M.Tunooka et al,Polymer Preprints Japan,38(8)、G.Berner et al,J.Rad.Curing,13(4)、W.J.Mijs et al,Coating Technol.,55(697),45(1983)、Akzo,H.Adachi et al,Polymer Preprints,Japan,37(3)、欧州特許第0199,672号、同84515号、同199,672号、同044,115号、同0101,122号、米国特許第4,618,564号、同4,371,605号、同4,431,774号、特開昭64−18143号、特開平2−245756号、特願平3−140109号に記載のイミノスルフォネート等に代表される、光分解してスルホン酸を発生する化合物、特開昭61−166544号に記載のジスルホン化合物を挙げることができる。
D. H. R. Barton et al, J.A. Chem. Soc. 3571 (1965), p. M.M. Collins et al, J.A. Chem. Soc. Perkin I, 1695 (1975), M .; Rudinstein et al, Tetrahedron Lett. , (17), 1445 (1975), J. MoI. W. Walker et al, J. et al. Am. Chem. Soc. 110, 7170 (1988), S.A. C. Busman et al, J.M. Imaging Technol. 11 (4), 191 (1985), H. et al. M.M. Houlihan et al, Macromolecules, 21, 2001 (1988), p. M.M. Collins et al, J.A. Chem. Soc. , Chem. Commun. 532 (1972), S.A. Hayase et al, Macromolecules, 18, 1799 (1985); Reichmanis et al. Electrochem. Soc. , Solid
State Sci. Technol. , 130 (6), F.M. M.M. Houlihan et al, Macromolecules, 21, 2001 (1988), European Patent Nos. 0290,750, 046,083, 156,535, 271,851, 0,388,343, US Patent No. No. 3,901,710, 4,181,531, JP-A-60-198538, JP-A-53-133022, photoacid generator having an o-nitrobenzyl type protecting group, M.I. Tunooka et al, Polymer Preprints Japan, 38 (8), G.M. Berner et al, J.A. Rad. Curing, 13 (4), W.M. J. et al. Mijs et al, Coating Technol. , 55 (697), 45 (1983), Akzo, H .; Adachi et al, Polymer Preprints, Japan, 37 (3), European Patent Nos. 0199,672, 84515, 199,672, 044,115, 0101,122, US Pat. No. 4,618 No. 5,564, No. 4,371,605, No. 4,431,774, JP-A No. 64-18143, JP-A No. 2-245756, JP-A No. 3-140109, and the like. Examples thereof include a compound that generates a sulfonic acid by photolysis and a disulfone compound described in JP-A No. 61-166544.

またこれらの酸を発生する基、あるいは化合物をポリマーの主鎖又は側鎖に導入した化合物、例えば、M.E.Woodhouse et al,J.Am.Chem.Soc.,104,5586(1982)、S.P.Pappas
et al,J.Imaging Sci.,30(5),218(1986)、S.Kondo et al. Makromol.Chem.,Rapid Commun.,9,625(1988)、Y.Yamada et al,Makromol.Chem.,152,153,163(1972)、J.V.Crivello et al.J.Polymer Sci.,Polymer Chem.Ed.,17,3845(1979)、米国特許第3,849,137号、独国特許第3,914,407、特開昭63−26653号、特開昭55−164824号、特開昭62−69263号、特開昭63−146037、特開昭63−163452号、特開昭62−153853号、特開昭63−146029号に記載の化合物を用いることができる。
Further, these acid-generating groups or compounds in which a compound is introduced into the main chain or side chain of the polymer, for example, M.P. E. Woodhouse et al., J. MoI. Am. Chem. Soc. 104, 5586 (1982), S .; P. Pappas
et al, J. et al. Imaging Sci. , 30 (5), 218 (1986), S .; Kondo et al. Makromol. Chem. , Rapid Commun. , 9, 625 (1988), Y. et al. Yamada et al, Makromol. Chem. 152, 153, 163 (1972), J. Am. V. Crivello et al. J. et al. Polymer Sci. , Polymer Chem. Ed. , 17, 3845 (1979), U.S. Pat. No. 3,849,137, German Patent 3,914,407, JP-A 63-26653, JP-A 55-164824, JP-A 62-69263. And compounds described in JP-A-63-146037, JP-A-63-163452, JP-A-62-153853, and JP-A-63-146029 can be used.

更に、V.N.R.Pillai,Synthesis,(1),1(1980)、A.Abad et al,Tetrahedron Lett.,(47)4555(1971)、D.H.R.Barton et al,J.Chem,Soc,.(C),329(1970)、米国特許第3,779,778号、欧州特許第126,712号等に記載の光により酸を発生する化合物も使用することができる。   Further, V.V. N. R. Pillai, Synthesis, (1), 1 (1980), A.M. Abad et al, Tetrahedron Lett. , (47) 4555 (1971), D.M. H. R. Barton et al, J.A. Chem, Soc,. (C), 329 (1970), U.S. Pat. No. 3,779,778, European Patent 126,712 and the like, compounds that generate an acid by light can also be used.

酸発生剤としては、ハロゲン化物やスルホン酸などを対イオンとするオニウム塩が好ましく、該オニウム塩としては、例えば、ヨードニウム塩、ジアゾニウム塩、スルホニウム塩が挙げられる。本発明において好適に用いられるオニウム塩の例としては、下記一般式(II)で表されるヨードニウム塩、一般式(III)で表されるスルホニウム塩、及び一般式(IV)で表されるジアゾニウム塩が挙げられる。このようなオニウム塩の中でも、酸発生剤としては、ジアゾニウム塩が特に好ましい。   The acid generator is preferably an onium salt having a halide or sulfonic acid as a counter ion, and examples of the onium salt include iodonium salts, diazonium salts, and sulfonium salts. Examples of onium salts preferably used in the present invention include iodonium salts represented by the following general formula (II), sulfonium salts represented by the general formula (III), and diazonium represented by the general formula (IV). Salt. Of these onium salts, diazonium salts are particularly preferred as the acid generator.

Figure 2010060935
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一般式(II)〜(IV)中、Xは、ハロゲン化物イオン、ClO 、PF 、SbF 、BF 、又はR−SO を表し、ここで、Rは置換基を有していてもよい炭素数20以下の炭化水素基を表す。Ar11及びAr12は、各々独立に、置換基を有していてもよい炭素数20以下のアリール基を表す。R11、R12、及びR13は、置換基を有していてもよい炭素数18以下の炭化水素基を表す。 In the general formulas (II) to (IV), X represents a halide ion, ClO 4 , PF 6 , SbF 6 , BF 4 , or R 7 —SO 3 , where R 7 Represents a hydrocarbon group having 20 or less carbon atoms which may have a substituent. Ar 11 and Ar 12 each independently represent an aryl group having 20 or less carbon atoms, which may have a substituent. R 11 , R 12 , and R 13 represent a hydrocarbon group having 18 or less carbon atoms, which may have a substituent.

一般式(II)〜(IV)において、X- としては、R7 −SO3 - が特に好ましい。R7 としては置換基を有していてもよい炭素数20以下の炭化水素基を示し、R7 で表される炭化水素基の具体例としては、メチル基、エチル基、n−プロピル基、i−プロピル基、アリル基、n−ブチル基、sec−ブチル基、t−ブチル基、ヘキシル基、シクロヘキシル基、オクチル基、2−エチルヘキシル基、ドデシル基等のアルキル基;ビニル基、1−メチルビニル基、2−フェニルビニル基等のアルケニル基;ベンジル基、フェネチル基等のアラルキル基;フェニル基、トリル基、キシリル基、クメニル基、メシチル基、ドデシルフェニル基、フェニルフェニル基、ナフチル基、アントラセニル基等のアリール基が挙げられる。 In formula (II) ~ (IV), X - as a, R 7 -SO 3 - is particularly preferable. R 7 represents an optionally substituted hydrocarbon group having 20 or less carbon atoms. Specific examples of the hydrocarbon group represented by R 7 include a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, alkyl groups such as i-propyl group, allyl group, n-butyl group, sec-butyl group, t-butyl group, hexyl group, cyclohexyl group, octyl group, 2-ethylhexyl group, dodecyl group; vinyl group, 1-methyl group Alkenyl groups such as vinyl group and 2-phenylvinyl group; aralkyl groups such as benzyl group and phenethyl group; phenyl group, tolyl group, xylyl group, cumenyl group, mesityl group, dodecylphenyl group, phenylphenyl group, naphthyl group, anthracenyl group And aryl groups such as groups.

7で表される炭化水素基は、例えば、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、アルコキシ基、アリルオキシ基、ニトロ基、シアノ基、カルボニル基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、アニリノ基、アセトアミド基等の置換基を有していてもよい。置換基を有する炭化水素基の具体例としては、トリフルオロメチル基、2−メトキシエチル基、10−カンファーニル基、フルオロフェニル基、クロロフェニル基、ブロモフェニル基、ヨードフェニル基、メトキシフェニル基、ヒドロキシフェニル基、フェノキシフェニル基、ニトロフェニル基、シアノフェニル基、カルボキシフェニル基、メトキシナフチル基、ジメトキシアントラセニル基、ジエトキシアントラセニル基、アントラキノニル基、等が挙げられる。 The hydrocarbon group represented by R 7 is, for example, a substituent such as a halogen atom, hydroxy group, alkoxy group, allyloxy group, nitro group, cyano group, carbonyl group, carboxyl group, alkoxycarbonyl group, anilino group, acetamide group, etc. You may have. Specific examples of the hydrocarbon group having a substituent include trifluoromethyl group, 2-methoxyethyl group, 10-camphanyl group, fluorophenyl group, chlorophenyl group, bromophenyl group, iodophenyl group, methoxyphenyl group, hydroxy Examples thereof include a phenyl group, a phenoxyphenyl group, a nitrophenyl group, a cyanophenyl group, a carboxyphenyl group, a methoxynaphthyl group, a dimethoxyanthracenyl group, a diethoxyanthracenyl group, and an anthraquinonyl group.

Ar11及びAr12は、各々独立に、置換基を有していてもよい炭素数20以下のアリール基を表し、具体的には、フェニル基、トリル基、キシリル基、クメニル基、メシチル基、ドデシルフェニル基、フェニルフェニル基、ナフチル基、アントラセニル基、フルオロフェニル基、クロロフェニル基、ブロモフェニル基、ヨードフェニル基、メトキシフェニル基、ヒドロキシフェニル基、フェノキシフェニル基、ニトロフェニル基、シアノフェニル基、カルボキシフェニル基、アニリノフェニル基、アニリノカルボニルフェニル基、モルホリノフェニル基、フェニルアゾフェニル基、メトキシナフチル基、ヒドロキシナフチル基、ニトロナフチル基、アントラキノニル基等が挙げられる。 Ar 11 and Ar 12 each independently represents an aryl group having 20 or less carbon atoms which may have a substituent, specifically, a phenyl group, a tolyl group, a xylyl group, a cumenyl group, a mesityl group, Dodecylphenyl group, phenylphenyl group, naphthyl group, anthracenyl group, fluorophenyl group, chlorophenyl group, bromophenyl group, iodophenyl group, methoxyphenyl group, hydroxyphenyl group, phenoxyphenyl group, nitrophenyl group, cyanophenyl group, carboxy Examples thereof include a phenyl group, anilinophenyl group, anilinocarbonylphenyl group, morpholinophenyl group, phenylazophenyl group, methoxynaphthyl group, hydroxynaphthyl group, nitronaphthyl group, anthraquinonyl group and the like.

11、R12、及びR13は、各々独立に、置換基を有していてもよい炭素数18以下の炭化水素基を表し、具体的には、メチル基、エチル基、n−プロピル基、i−プロピル基、アリル基、n−ブチル基、sec−ブチル基、t−ブチル基、ヘキシル基、シクロヘキシル基、ベンジル基、フェニル基、トリル基、t−ブチルフェニル基、ナフチル基、アントラセニル基、等の炭化水素基、2−メトキシエチル基、フルオロフェニル基、クロロフェニル基、ブロモフェニル基、ヨードフェニル基、メトキシフェニル基、ヒドロキシフェニル基、フェニルチオフェニル基、ヒドロキシナフチル基、メトキシナフチル基、ベンゾイルメチル基、ナフトイルメチル基、等置換基を有する炭化水素基が挙げられる。
また、R11とR12とが互いに結合し環を形成していてもよい。
R 11 , R 12 , and R 13 each independently represent a hydrocarbon group having 18 or less carbon atoms that may have a substituent, specifically, a methyl group, an ethyl group, or an n-propyl group. I-propyl group, allyl group, n-butyl group, sec-butyl group, t-butyl group, hexyl group, cyclohexyl group, benzyl group, phenyl group, tolyl group, t-butylphenyl group, naphthyl group, anthracenyl group Hydrocarbon group such as 2-methoxyethyl group, fluorophenyl group, chlorophenyl group, bromophenyl group, iodophenyl group, methoxyphenyl group, hydroxyphenyl group, phenylthiophenyl group, hydroxynaphthyl group, methoxynaphthyl group, benzoyl Examples thereof include a hydrocarbon group having a substituent such as a methyl group and a naphthoylmethyl group.
R 11 and R 12 may be bonded to each other to form a ring.

本発明において、酸発生剤として好適に用いられるオニウム塩の好ましい具体例を以下に示すが、これらに限定されるものではない。   In the present invention, preferred specific examples of the onium salt suitably used as the acid generator are shown below, but are not limited thereto.

Figure 2010060935
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酸発生剤は、単独で使用してもよく、2種以上を併用してもよい。
酸発生剤は、画像記録層の全固形分に対して、好ましくは0.01〜50質量%、より好ましくは0.1〜25質量%、さらに好ましくは0.5〜20質量%の割合で画像記録層中に含有される。添加量が上記範囲において、良好な画像形成性が得られ、非画像部の汚れの発生も抑制しうる。
An acid generator may be used independently and may use 2 or more types together.
The acid generator is preferably 0.01 to 50% by mass, more preferably 0.1 to 25% by mass, and still more preferably 0.5 to 20% by mass with respect to the total solid content of the image recording layer. It is contained in the image recording layer. When the addition amount is in the above range, good image forming properties can be obtained, and the occurrence of smearing in non-image areas can be suppressed.

<(C)バインダーポリマー>
画像記録層は、膜性向上の観点から、バインダーポリマーを含有する。
バインダーポリマーとしてはアルカリ可溶性樹脂であることが好ましく、該アルカリ可溶性樹脂としては、ノボラック樹脂や側鎖にヒドロキシアリール基を有するポリマーなどが挙げられる。
本発明においてアルカリ可溶性樹脂として使用しうるノボラック樹脂は、フェノール類とアルデヒド類を酸性条件下で縮合させた樹脂である。
好ましいノボラック樹脂としては、例えばフェノールとホルムアルデヒドから得られるノボラック樹脂、m−クレゾールとホルムアルデヒドから得られるノボラック樹脂、p−クレゾールとホルムアルデヒドから得られるノボラック樹脂、o−クレゾールとホルムアルデヒドから得られるノボラック樹脂、オクチルフェノールとホルムアルデヒドから得られるノボラック樹脂、m−/p−混合クレゾールとホルムアルデヒドから得られるノボラック樹脂、フェノール/クレゾール(m−,p−,o−またはm−/p−,m−/o−,o−/p−混合のいずれでもよい)の混合物とホルムアルデヒドから得られるノボラック樹脂などが挙げられる。
これらのノボラック樹脂は、重量平均分子量が800〜200,000で、数平均分子量が400〜60,000のものが好ましい。
<(C) Binder polymer>
The image recording layer contains a binder polymer from the viewpoint of improving film properties.
The binder polymer is preferably an alkali-soluble resin, and examples of the alkali-soluble resin include novolak resins and polymers having a hydroxyaryl group in the side chain.
The novolak resin that can be used as the alkali-soluble resin in the present invention is a resin obtained by condensing phenols and aldehydes under acidic conditions.
Preferred novolak resins include, for example, novolak resins obtained from phenol and formaldehyde, novolak resins obtained from m-cresol and formaldehyde, novolak resins obtained from p-cresol and formaldehyde, novolak resins obtained from o-cresol and formaldehyde, and octylphenol. And novolak resins obtained from formaldehyde, m- / p-mixed cresol and novolak resins obtained from formaldehyde, phenol / cresol (m-, p-, o- or m- / p-, m- / o-, o- / P-mixed) and a novolak resin obtained from formaldehyde.
These novolak resins preferably have a weight average molecular weight of 800 to 200,000 and a number average molecular weight of 400 to 60,000.

また、本発明におけるアルカリ可溶性樹脂としては、側鎖にヒドロキシアリール基を有するポリマーも好ましく挙げることができる。
このポリマーにおいて、ヒドロキシアリール基とは−OH基が1個以上結合したアリール基を示す。アリール基としては例えば、フェニル基、ナフチル基、アントラセニル基、フェナントレニル基等を挙げることができるが、入手の容易さ及び物性の観点から、フェニル基あるいはナフチル基が好ましい。従って、ヒドロキシアリール基としては、ヒドロキシフェニル基、ジヒドロキシフェニル基、トリヒドロキシフェニル基、テトラヒドロキシフェニル基、ヒドロキシナフチル基、ジヒドロキシナフチル基等が好ましい。これらのヒドロキシアリール基は、さらに、ハロゲン原子、炭素数20個以下の炭化水素基、炭素数20個以下のアルコキシ基及び炭素数20個以下のアリールオキシ基等の置換基を有していてもよい。これらのヒドロキシアリール基は、ポリマーの側鎖としてペンダント状にポリマー主鎖へ結合しているが、主鎖との間に連結基を有していても良い。
Moreover, as an alkali-soluble resin in this invention, the polymer which has a hydroxyaryl group in a side chain can also be mentioned preferably.
In this polymer, the hydroxyaryl group refers to an aryl group having one or more —OH groups bonded thereto. Examples of the aryl group include a phenyl group, a naphthyl group, an anthracenyl group, and a phenanthrenyl group, and a phenyl group or a naphthyl group is preferable from the viewpoint of availability and physical properties. Accordingly, the hydroxyaryl group is preferably a hydroxyphenyl group, a dihydroxyphenyl group, a trihydroxyphenyl group, a tetrahydroxyphenyl group, a hydroxynaphthyl group, a dihydroxynaphthyl group, or the like. These hydroxyaryl groups may further have a substituent such as a halogen atom, a hydrocarbon group having 20 or less carbon atoms, an alkoxy group having 20 or less carbon atoms, and an aryloxy group having 20 or less carbon atoms. Good. These hydroxyaryl groups are bonded to the polymer main chain in a pendant form as a side chain of the polymer, but may have a linking group between them.

本発明において好適に用いられる、側鎖にヒドロキシアリール基を有するポリマーは、下記一般式(A)〜(D)で表される構成単位の内いずれか1種を含有するポリマーである。   The polymer having a hydroxyaryl group in the side chain preferably used in the present invention is a polymer containing any one of the structural units represented by the following general formulas (A) to (D).

Figure 2010060935
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一般式(A)〜(D)中、R11は水素原子又はメチル基を示す。R12及びR13は、同じでも異なっていてもよく、水素原子、ハロゲン原子、炭素数10個以下の炭化水素基、炭素数10個以下のアルコキシ基又は、炭素数10個以下のアリールオキシ基を示す。また、R12とR13が結合して、縮環したベンゼン環やシクロヘキサン環を形成していてもよい。R14は、単結合又は、炭素数20個以下の2価の炭化水素基を示す。R15は、単結合又は、炭素数20個以下の2価の炭化水素基を示す。R16は、単結合又は、炭素数10個以下の2価の炭化水素基を示す。Xは、単結合、エーテル結合、チオエーテル結合、エステル結合又はアミド結合を示す。pは1〜4の整数を示す。q及びrはそれぞれ0〜3の整数を示す。 In the general formulas (A) to (D), R 11 represents a hydrogen atom or a methyl group. R 12 and R 13 may be the same or different, and are a hydrogen atom, a halogen atom, a hydrocarbon group having 10 or less carbon atoms, an alkoxy group having 10 or less carbon atoms, or an aryloxy group having 10 or less carbon atoms. Indicates. R 12 and R 13 may be bonded to each other to form a condensed benzene ring or cyclohexane ring. R 14 represents a single bond or a divalent hydrocarbon group having 20 or less carbon atoms. R 15 represents a single bond or a divalent hydrocarbon group having 20 or less carbon atoms. R 16 represents a single bond or a divalent hydrocarbon group having 10 or less carbon atoms. X 1 represents a single bond, an ether bond, a thioether bond, an ester bond or an amide bond. p shows the integer of 1-4. q and r each represents an integer of 0 to 3.

一般式(A)〜(D)で表される構成単位のうち、本発明において好適に用いられる具体的な構成単位の例を以下に挙げる。   Among the structural units represented by the general formulas (A) to (D), examples of specific structural units suitably used in the present invention are listed below.

Figure 2010060935
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これらのポリマーは、従来公知の方法により合成することができる。
例えば、一般式(A)で表される構成単位を有するポリマーは、ヒドロキシ基を酢酸エステルあるいはt−ブチルエーテルとして保護された、対応するスチレン誘導体をラジカル重合もしくはアニオン重合しポリマーとした後、脱保護することにより得られる。
また、一般式(B)で表される構成単位を有するポリマーは、特開昭64−32256号及び同64−35436号等に記載されている方法により合成することができる。
さらに、一般式(C)で表される構成単位を有するポリマーは、ヒドロキシ基を有するアミン化合物と無水マレイン酸を反応させ、対応するモノマーを得た後、ラジカル重合によりポリマーとすることにより得られる。
また、一般式(D)で表される構成単位を有するポリマーは、クロロメチルスチレンやカルボキシスチレン等、合成上有用な官能基を持つスチレン類を原料として一般(D)に対応するモノマーへ誘導し、さらにラジカル重合によりポリマーとすることにより得られる。
These polymers can be synthesized by a conventionally known method.
For example, a polymer having a structural unit represented by the general formula (A) can be deprotected after a hydroxy group is protected as an acetate ester or t-butyl ether to form a polymer by radical polymerization or anion polymerization of the corresponding styrene derivative. Can be obtained.
Moreover, the polymer which has a structural unit represented by general formula (B) is compoundable by the method described in Unexamined-Japanese-Patent No. 64-32256, 64-35436, etc.
Furthermore, the polymer having the structural unit represented by the general formula (C) can be obtained by reacting an amine compound having a hydroxy group with maleic anhydride to obtain a corresponding monomer, and then forming the polymer by radical polymerization. .
The polymer having the structural unit represented by the general formula (D) is derived from a styrene having a functionally useful functional group such as chloromethylstyrene or carboxystyrene to a monomer corresponding to the general (D). Further, it can be obtained by forming a polymer by radical polymerization.

本発明では、一般式(A)〜(D)で表される構成単位のみから成るホモポリマーであってもよいが、他の構成単位をも含む共重合体であってもよい。
好適に用いられる他の構成単位としては、例えば、アクリル酸エステル類、メタクリル酸エステル類、アクリルアミド類、メタクリルアミド類、ビニルエステル類、スチレン類、アクリル酸、メタクリル酸、アクリロニトリル、無水マレイン酸、マレイン酸イミド等の公知のモノマーより導入される構成単位が挙げられる。
In the present invention, it may be a homopolymer consisting only of the structural units represented by the general formulas (A) to (D), but may also be a copolymer including other structural units.
Other structural units that can be suitably used include, for example, acrylic esters, methacrylic esters, acrylamides, methacrylamides, vinyl esters, styrenes, acrylic acid, methacrylic acid, acrylonitrile, maleic anhydride, maleic Examples thereof include structural units introduced from known monomers such as acid imides.

用いることのできるアクリル酸エステル類の具体例としては、メチルアクリレート、エチルアクリレート、(n−またはi−)プロピルアクリレート、(n−、i−、sec−またはt−)ブチルアクリレート、アミルアクリレート、2−エチルヘキシルアクリレート、ドデシルアクリレート、クロロエチルアクリレート、2−ヒドロキシエチルアクリレート、2−ヒドロキシプロピルアクリレート、5−ヒドロキシペンチルアクリレート、シクロヘキシルアクリレート、アリルアクリレート、トリメチロールプロパンモノアクリレート、ペンタエリスリトールモノアクリレート、グリシジルアクリレート、ベンジルアクリレート、メトキシベンジルアクリレート、クロロベンジルアクリレート、2−(p−ヒドロキシフェニル)エチルアクリレート、フルフリルアクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレート、フェニルアクリレート、クロロフェニルアクリレート、スルファモイルフェニルアクリレート等が挙げられる。   Specific examples of acrylates that can be used include methyl acrylate, ethyl acrylate, (n- or i-) propyl acrylate, (n-, i-, sec- or t-) butyl acrylate, amyl acrylate, 2 -Ethylhexyl acrylate, dodecyl acrylate, chloroethyl acrylate, 2-hydroxyethyl acrylate, 2-hydroxypropyl acrylate, 5-hydroxypentyl acrylate, cyclohexyl acrylate, allyl acrylate, trimethylolpropane monoacrylate, pentaerythritol monoacrylate, glycidyl acrylate, benzyl Acrylate, methoxybenzyl acrylate, chlorobenzyl acrylate, 2- (p-hydroxyphenyl) ethyl acetate Rate, furfuryl acrylate, tetrahydrofurfuryl acrylate, phenyl acrylate, chlorophenyl acrylate, sulfamoylphenyl acrylate and the like.

メタクリル酸エステル類の具体例としては、メチルメタクリレート、エチルメタクリレート、(n−またはi−)プロピルメタクリレート、(n−、i−、sec−またはt−)ブチルメタクリレート、アミルメタクリレート、2−エチルヘキシルメタクリレート、ドデシルメタクリレート、クロロエチルメタクリレート、2−ヒドロキシエチルメタクリレート、2−ヒドロキシプロピルメタクリレート、5−ヒドロキシペンチルメタクリレート、シクロヘキシルメタクリレート、アリルメタクリレート、トリメチロールプロパンモノメタクリレート、ペンタエリスリトールモノメタクリレート、グリシジルメタクリレート、メトキシベンジルメタクリレート、クロロベンジルメタクリレート、2−(p−ヒドロキシフェニル)エチルメタクリレート、フルフリルメタクリレート、テトラヒドロフルフリルメタクリレート、フェニルメタクリレート、クロロフェニルメタクリレート、スルファモイルフェニルメタクリレート等が挙げられる。   Specific examples of methacrylic acid esters include methyl methacrylate, ethyl methacrylate, (n- or i-) propyl methacrylate, (n-, i-, sec- or t-) butyl methacrylate, amyl methacrylate, 2-ethylhexyl methacrylate, Dodecyl methacrylate, chloroethyl methacrylate, 2-hydroxyethyl methacrylate, 2-hydroxypropyl methacrylate, 5-hydroxypentyl methacrylate, cyclohexyl methacrylate, allyl methacrylate, trimethylolpropane monomethacrylate, pentaerythritol monomethacrylate, glycidyl methacrylate, methoxybenzyl methacrylate, chloro Benzyl methacrylate, 2- (p-hydroxyphenyl) ethyl methacrylate Rate, furfuryl methacrylate, tetrahydrofurfuryl methacrylate, phenyl methacrylate, chlorophenyl methacrylate, sulfamoylphenyl methacrylate and the like.

アクリルアミド類の具体例としては、アクリルアミド、N−メチルアクリルアミド、N−エチルアクリルアミド、N−プロピルアクリルアミド、N−ブチルアクリルアミド、N−ベンジルアクリルアミド、N−ヒドロキシエチルアクリルアミド、N−フェニルアクリルアミド、N−トリルアクリルアミド、N−(p−ヒドロキシフェニル)アクリルアミド、N−(スルファモイルフェニル)アクリルアミド、N−(フェニルスルホニル)アクリルアミド、N−(トリルスルホニル)アクリルアミド、N,N−ジメチルアクリルアミド、N−メチル−N−フェニルアクリルアミド、N−ヒドロキシエチル−N−メチルアクリルアミド等が挙げられる。   Specific examples of acrylamides include acrylamide, N-methylacrylamide, N-ethylacrylamide, N-propylacrylamide, N-butylacrylamide, N-benzylacrylamide, N-hydroxyethylacrylamide, N-phenylacrylamide, and N-tolylacrylamide. N- (p-hydroxyphenyl) acrylamide, N- (sulfamoylphenyl) acrylamide, N- (phenylsulfonyl) acrylamide, N- (tolylsulfonyl) acrylamide, N, N-dimethylacrylamide, N-methyl-N- Examples include phenylacrylamide, N-hydroxyethyl-N-methylacrylamide, and the like.

メタクリルアミド類の具体例としては、メタクリルアミド、N−メチルメタクリルアミド、N−エチルメタクリルアミド、N−プロピルメタクリルアミド、N−ブチルメタクリルアミド、N−ベンジルメタクリルアミド、N−ヒドロキシエチルメタクリルアミド、N−フェニルメタクリルアミド、N−トリルメタクリルアミド、N−(p−ヒドロキシフェニル)メタクリルアミド、N−(スルファモイルフェニル)メタクリルアミド、N−(フェニルスルホニル)メタクリルアミド、N−(トリルスルホニル)メタクリルアミド、N,N−ジメチルメタクリルアミド、N−メチル−N−フェニルメタクリルアミド、N−ヒドロキシエチル−N−メチルメタクリルアミド等が挙げられる。   Specific examples of methacrylamides include methacrylamide, N-methylmethacrylamide, N-ethylmethacrylamide, N-propylmethacrylamide, N-butylmethacrylamide, N-benzylmethacrylamide, N-hydroxyethylmethacrylamide, N -Phenylmethacrylamide, N-tolylmethacrylamide, N- (p-hydroxyphenyl) methacrylamide, N- (sulfamoylphenyl) methacrylamide, N- (phenylsulfonyl) methacrylamide, N- (tolylsulfonyl) methacrylamide N, N-dimethylmethacrylamide, N-methyl-N-phenylmethacrylamide, N-hydroxyethyl-N-methylmethacrylamide and the like.

ビニルエステル類の具体例としては、ビニルアセテート、ビニルブチレート、ビニルベンゾエート等が挙げられる。
スチレン類の具体例としては、スチレン、メチルスチレン、ジメチルスチレン、トリメチルスチレン、エチルスチレン、プロピルスチレン、シクロヘキシルスチレン、クロロメチルスチレン、トリフルオロメチルスチレン、エトキシメチルスチレン、アセトキシメチルスチレン、メトキシスチレン、ジメトキシスチレン、クロロスチレン、ジクロロスチレン、ブロモスチレン、ヨードスチレン、フルオロスチレン、カルボキシスチレン等が挙げられる。
Specific examples of vinyl esters include vinyl acetate, vinyl butyrate, vinyl benzoate and the like.
Specific examples of styrenes include styrene, methyl styrene, dimethyl styrene, trimethyl styrene, ethyl styrene, propyl styrene, cyclohexyl styrene, chloromethyl styrene, trifluoromethyl styrene, ethoxymethyl styrene, acetoxymethyl styrene, methoxy styrene, dimethoxy styrene. Chlorostyrene, dichlorostyrene, bromostyrene, iodostyrene, fluorostyrene, carboxystyrene and the like.

これらのモノマーのうち特に好適に使用されるのは、炭素数20以下のアクリル酸エステル類、メタクリル酸エステル類、アクリルアミド類、メタクリルアミド類、ビニルエステル類、スチレン類及び、アクリル酸、メタクリル酸、アクリロニトリルである。   Among these monomers, particularly preferably used are acrylic acid esters having 20 or less carbon atoms, methacrylic acid esters, acrylamides, methacrylamides, vinyl esters, styrenes, acrylic acid, methacrylic acid, Acrylonitrile.

これらのモノマーのうち特に好適に使用されるのは、炭素数20以下のアクリル酸エステル類、メタクリル酸エステル類、アクリルアミド類、メタクリルアミド類、ビニルエステル類、スチレン類及び、アクリル酸、メタクリル酸、アクリロニトリルである。   Among these monomers, particularly preferably used are acrylic acid esters having 20 or less carbon atoms, methacrylic acid esters, acrylamides, methacrylamides, vinyl esters, styrenes, acrylic acid, methacrylic acid, Acrylonitrile.

これらを用いた共重合体中に含まれる一般式(A)〜(D)で表される構成単位の割合は、5〜100質量%であることが好ましく、さらに好ましくは10〜100質量%である。
また、本発明で使用されるポリマーの分子量は好ましくは重量平均分子量で4000以上であり、更に好ましくは1万〜30万の範囲であり、数平均分子量で好ましくは1000以上であり、更に好ましくは2000〜25万の範囲である。多分散度(重量平均分子量/数平均分子量)は1以上が好ましく、更に好ましくは1.1〜10の範囲である。
これらのポリマーは、ランダムポリマー、ブロックポリマー、グラフトポリマー等いずれでもよいが、ランダムポリマーであることが好ましい。
The proportion of the structural units represented by the general formulas (A) to (D) contained in the copolymer using these is preferably 5 to 100% by mass, more preferably 10 to 100% by mass. is there.
The molecular weight of the polymer used in the present invention is preferably 4000 or more in terms of weight average molecular weight, more preferably in the range of 10,000 to 300,000, and preferably 1000 or more in terms of number average molecular weight, more preferably. It is in the range of 2000-250,000. The polydispersity (weight average molecular weight / number average molecular weight) is preferably 1 or more, and more preferably 1.1 to 10.
These polymers may be random polymers, block polymers, graft polymers or the like, but are preferably random polymers.

本発明で使用されるバインダーポリマーは1種類のみで使用してもよいし、あるいは2種類以上を組み合わせて使用してもよい。
バインダーポリマーの含有量は、画像記録層の耐久性の観点から、画像記録層の全固形分中、5〜95質量%が好ましく、より好ましくは10〜95質量%、さらに好ましくは20〜90質量%である。
The binder polymer used in the present invention may be used alone or in combination of two or more.
The content of the binder polymer is preferably 5 to 95% by mass, more preferably 10 to 95% by mass, and still more preferably 20 to 90% by mass in the total solid content of the image recording layer, from the viewpoint of durability of the image recording layer. %.

<(D)赤外線吸収剤>
本発明において使用される赤外線吸収剤は、波長760nmから1200nmの赤外線を有効に吸収する染料または顔料である。好ましくは、波長760nmから1200nmに吸収極大を有する染料または顔料である。
染料としては、市販の染料および文献(例えば「染料便覧」有機合成化学協会編集、昭和45年刊)に記載されている公知のものが利用できる。具体的には、アゾ染料、金属錯塩アゾ染料、ピラゾロンアゾ染料、ナフトキノン染料、アントラキノン染料、フタロシアニン染料、カルボニウム染料、キノンイミン染料、メチン染料、シアニン染料、スクワリリウム色素、ピリリウム塩、金属チオレート錯体などの染料が挙げられる。
好ましい染料としては例えば特開昭58−125246号、特開昭59−84356号、特開昭59−202829号、特開昭60−78787号等に記載されているシアニン染料、特開昭58−173696号、特開昭58−181690号、特開昭58−194595号等に記載されているメチン染料、特開昭58−112793号、特開昭58−224793号、特開昭59−48187号、特開昭59−73996号、特開昭60−52940号、特開昭60−63744号等に記載されているナフトキノン染料、特開昭58−112792号等に記載されているスクワリリウム色素、英国特許434,875号記載のシアニン染料等を挙げることができる。
<(D) Infrared absorber>
The infrared absorber used in the present invention is a dye or pigment that effectively absorbs infrared rays having a wavelength of 760 nm to 1200 nm. A dye or pigment having an absorption maximum at a wavelength of 760 nm to 1200 nm is preferable.
As the dye, commercially available dyes and known dyes described in the literature (for example, “Dye Handbook” edited by Organic Synthetic Chemical Society, published in 1970) can be used. Specifically, dyes such as azo dyes, metal complex azo dyes, pyrazolone azo dyes, naphthoquinone dyes, anthraquinone dyes, phthalocyanine dyes, carbonium dyes, quinoneimine dyes, methine dyes, cyanine dyes, squarylium dyes, pyrylium salts, metal thiolate complexes Is mentioned.
Preferred dyes include cyanine dyes described in, for example, JP-A-58-125246, JP-A-59-84356, JP-A-59-202829, and JP-A-60-78787, and JP-A-58- No. 173696, JP-A-58-181690, JP-A-58-194595, etc., methine dyes, JP-A-58-112793, JP-A-58-224793, JP-A-59-48187 Naphthoquinone dyes described in JP-A-59-73996, JP-A-60-52940, JP-A-60-63744, etc., squarylium dyes described in JP-A-58-112792, etc., UK Examples thereof include cyanine dyes described in Japanese Patent No. 434,875.

また、米国特許第5,156,938号記載の近赤外吸収増感剤も好適に用いられ、また、米国特許第3,881,924号記載の置換されたアリールベンゾ(チオ)ピリリウム塩、特開昭57−142645号(米国特許第4,327,169号)記載のトリメチンチアピリリウム塩、特開昭58−181051号、同58−220143号、同59−41363号、同59−84248号、同59−84249号、同59−146063号、同59−146061号に記載されているピリリウム系化合物、特開昭59−216146号記載のシアニン色素、米国特許第4,283,475号に記載のペンタメチンチオピリリウム塩等や特公平5−13514号、同5−19702号公報に開示されているピリリウム化合物も好ましく用いられる。
また、染料として好ましい別の例として米国特許第4,756,993号明細書中に式(I)、(II)として記載されている近赤外吸収染料を挙げることができる。
本発明に用いうる赤外線吸収色素の好ましい他の例としては、以下に例示するような特開2002−278057号公報記載の特定インドレニンシアニン色素が挙げられる。
Also, a near infrared absorption sensitizer described in US Pat. No. 5,156,938 is preferably used, and a substituted arylbenzo (thio) pyrylium salt described in US Pat. No. 3,881,924, Trimethine thiapyrylium salts described in JP-A-57-142645 (US Pat. No. 4,327,169), JP-A-58-181051, 58-220143, 59-41363, 59-84248 Nos. 59-84249, 59-146063, 59-146061, pyranlium compounds, cyanine dyes described in JP-A-59-216146, US Pat. No. 4,283,475 The pentamethine thiopyrylium salts described above and the pyrylium compounds disclosed in Japanese Patent Publication Nos. 5-13514 and 5-19702 are also preferably used. It is.
Another example of a preferable dye is a near-infrared absorbing dye described in US Pat. No. 4,756,993 as formulas (I) and (II).
Other preferable examples of infrared absorbing dyes that can be used in the present invention include specific indolenine cyanine dyes described in JP-A-2002-278057 as exemplified below.

Figure 2010060935
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これらの染料のうち特に好ましいものとしては、シアニン色素、スクワリリウム色素、ピリリウム塩、ニッケルチオレート錯体、インドレニンシアニン色素が挙げられる。更に、シアニン色素やインドレニンシアニン色素が好ましい。特に下記一般式(a)で示されるシアニン色素は、本発明における記録層中で使用した場合に、高い重合活性を与え、且つ、安定性、経済性に優れるため最も好ましい。   Particularly preferred among these dyes are cyanine dyes, squarylium dyes, pyrylium salts, nickel thiolate complexes, and indolenine cyanine dyes. Furthermore, cyanine dyes and indolenine cyanine dyes are preferred. In particular, the cyanine dye represented by the following general formula (a) is most preferable when used in the recording layer in the invention because it gives high polymerization activity and is excellent in stability and economy.

Figure 2010060935
Figure 2010060935

一般式(a)中、X1は、水素原子、ハロゲン原子、−N(ArX2、X2−L1又は以下に示す基を表す。ここで、ArXは炭素数6〜14の芳香族炭化水素基を表し、この芳香族炭化水素基は、ハロゲン原子、アルキル基、アリル基、アルケニル基、アルキニル基、シアノ基、カルボキシ基、ニトロ基、アミド基、エステル基、アルコキシ基、アミノ基、及び複素環基からなる群より選択される1以上の置換基を有していてもよく、これらの置換基は、前記置換基により置換されたものであってもよい。また、X2は酸素原子、硫黄原子、又は、−N(RX)−を示し、RXは水素原子又は炭素数1〜10の炭化水素基を表す。L1は、炭素原子数1〜12の炭化水素基、ヘテロ原子を有する芳香族環、ヘテロ原子を含む炭素原子数1〜12の炭化水素基を示す。なお、ここでヘテロ原子とは、N、S、O、ハロゲン原子、Seを示す。 In general formula (a), X 1 represents a hydrogen atom, a halogen atom, —N (Ar X ) 2 , X 2 -L 1 or a group shown below. Here, Ar X represents an aromatic hydrocarbon group having 6 to 14 carbon atoms, and this aromatic hydrocarbon group includes a halogen atom, an alkyl group, an allyl group, an alkenyl group, an alkynyl group, a cyano group, a carboxy group, a nitro group, One or more substituents selected from the group consisting of a group, an amide group, an ester group, an alkoxy group, an amino group, and a heterocyclic group, and these substituents may be substituted with the substituents. It may be. X 2 represents an oxygen atom, a sulfur atom, or —N (R X ) —, and R X represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms. L 1 represents a hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms, an aromatic ring having a hetero atom, or a hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms including a hetero atom. In addition, a hetero atom here shows N, S, O, a halogen atom, and Se.

Figure 2010060935
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前記式中、Xaは後述するZaと同様に定義され、Rは水素原子、アルキル基、アリール基、置換または無置換のアミノ基、ハロゲン原子より選択される置換基を表す。
及びRは、それぞれ独立に、炭素原子数1〜12の炭化水素基を示す。記録層塗布液の保存安定性から、R及びRは、炭素原子数2個以上の炭化水素基であることが好ましく、さらに、RとRとは互いに結合し、5員環又は6員環を形成していることが特に好ましい。
In the above formula, Xa - has Za described later - is defined as in, R a represents a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, a substituted or unsubstituted amino group, substituted or unsubstituted amino group and a halogen atom.
R 1 and R 2 each independently represent a hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms. From the storage stability of the recording layer coating solution, R 1 and R 2 are preferably hydrocarbon groups having 2 or more carbon atoms, and R 1 and R 2 are bonded to each other to form a 5-membered ring or It is particularly preferable that a 6-membered ring is formed.

Ar、Arは、それぞれ同じでも異なっていても良く、置換基を有していても良い芳香族炭化水素基を示す。好ましい芳香族炭化水素基としては、ベンゼン環及びナフタレン環が挙げられる。また、好ましい置換基としては、炭素原子数12個以下の炭化水素基、ハロゲン原子、炭素原子数12個以下のアルコキシ基が挙げられる。Y、Yは、それぞれ同じでも異なっていても良く、硫黄原子又は炭素原子数12個以下のジアルキルメチレン基を示す。R、Rは、それぞれ同じでも異なっていても良く、置換基を有していても良い炭素原子数20個以下の炭化水素基を示す。好ましい置換基としては、炭素原子数12個以下のアルコキシ基、カルボキシル基、スルホ基が挙げられる。R、R、R及びRは、それぞれ同じでも異なっていても良く、水素原子又は炭素原子数12個以下の炭化水素基を示す。原料の入手性から、好ましくは水素原子である。また、Zaは、対アニオンを示す。ただし、一般式(a)で示されるシアニン色素がその構造内にアニオン性の置換基を有し、電荷の中和が必要ない場合は、Zaは必要ない。好ましいZaは、記録層塗布液の保存安定性から、ハロゲンイオン、過塩素酸イオン、テトラフルオロボレートイオン、ヘキサフルオロホスフェートイオン、及びスルホン酸イオンであり、特に好ましくは、過塩素酸イオン、ヘキサフルオロフォスフェートイオン、及びアリールスルホン酸イオンである。 Ar 1 and Ar 2 may be the same or different and each represents an aromatic hydrocarbon group which may have a substituent. Preferred aromatic hydrocarbon groups include a benzene ring and a naphthalene ring. Moreover, as a preferable substituent, a C12 or less hydrocarbon group, a halogen atom, and a C12 or less alkoxy group are mentioned. Y 1 and Y 2 may be the same or different and each represents a sulfur atom or a dialkylmethylene group having 12 or less carbon atoms. R 3 and R 4 may be the same or different and each represents a hydrocarbon group having 20 or less carbon atoms which may have a substituent. Preferred substituents include alkoxy groups having 12 or less carbon atoms, carboxyl groups, and sulfo groups. R 5 , R 6 , R 7 and R 8 may be the same or different and each represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 12 or less carbon atoms. From the availability of raw materials, a hydrogen atom is preferred. Za represents a counter anion. However, Za is not necessary when the cyanine dye represented by the general formula (a) has an anionic substituent in its structure and charge neutralization is not necessary. Preferred Za is a halogen ion, a perchlorate ion, a tetrafluoroborate ion, a hexafluorophosphate ion, and a sulfonate ion, particularly preferably a perchlorate ion, a hexagonal salt, in view of the storage stability of the recording layer coating solution. Fluorophosphate ions and aryl sulfonate ions.

本発明において使用される顔料としては、市販の顔料およびカラーインデックス(C.I.)便覧、「最新顔料便覧」(日本顔料技術協会編、1977年刊)、「最新顔料応用技術」(CMC出版、1986年刊)、「印刷インキ技術」CMC出版、1984年刊)に記載されている顔料が利用できる。
顔料の種類としては、黒色顔料、黄色顔料、オレンジ色顔料、褐色顔料、赤色顔料、紫色顔料、青色顔料、緑色顔料、蛍光顔料、金属粉顔料、その他、ポリマー結合色素が挙げられる。具体的には、不溶性アゾ顔料、アゾレーキ顔料、縮合アゾ顔料、キレートアゾ顔料、フタロシアニン系顔料、アントラキノン系顔料、ペリレンおよびペリノン系顔料、チオインジゴ系顔料、キナクリドン系顔料、ジオキサジン系顔料、イソインドリノン系顔料、キノフタロン系顔料、染付けレーキ顔料、アジン顔料、ニトロソ顔料、ニトロ顔料、天然顔料、蛍光顔料、無機顔料、カーボンブラック等が使用できる。これらの顔料のうち好ましいものはカーボンブラックである。
Examples of the pigment used in the present invention include commercially available pigments and color index (CI) manual, “Latest Pigment Handbook” (edited by Japan Pigment Technology Association, published in 1977), “Latest Pigment Application Technology” (CMC Publishing, 1986), “Printing Ink Technology”, CMC Publishing, 1984) can be used.
Examples of the pigment include black pigments, yellow pigments, orange pigments, brown pigments, red pigments, purple pigments, blue pigments, green pigments, fluorescent pigments, metal powder pigments, and other polymer-bonded dyes. Specifically, insoluble azo pigments, azo lake pigments, condensed azo pigments, chelate azo pigments, phthalocyanine pigments, anthraquinone pigments, perylene and perinone pigments, thioindigo pigments, quinacridone pigments, dioxazine pigments, isoindolinone pigments In addition, quinophthalone pigments, dyed lake pigments, azine pigments, nitroso pigments, nitro pigments, natural pigments, fluorescent pigments, inorganic pigments, carbon black and the like can be used. Among these pigments, carbon black is preferable.

これら顔料は表面処理をせずに用いてもよく、表面処理をほどこして用いてもよい。表面処理の方法には樹脂やワックスを表面コートする方法、界面活性剤を付着させる方法、反応性物質(例えば、シランカップリング剤やエポキシ化合物、ポリイソシアネート等)を顔料表面に結合させる方法等が考えられる。上記の表面処理方法は、「金属石鹸の性質と応用」(幸書房)、「印刷インキ技術」(CMC出版、1984年刊)および「最新顔料応用技術」(CMC出版、1986年刊)に記載されている。   These pigments may be used without surface treatment or may be used after surface treatment. The surface treatment method includes a method of surface coating with a resin or wax, a method of attaching a surfactant, a method of bonding a reactive substance (for example, a silane coupling agent, an epoxy compound, polyisocyanate, etc.) to the pigment surface, etc. Conceivable. The above-mentioned surface treatment methods are described in “Characteristics and Applications of Metal Soap” (Yokoshobo), “Printing Ink Technology” (CMC Publishing, 1984) and “Latest Pigment Application Technology” (CMC Publishing, 1986). Yes.

顔料の粒径は0.01μm〜10μmの範囲にあることが好ましく、0.05μm〜1μmの範囲にあることがさらに好ましく、特に0.1μm〜1μmの範囲にあることが好ましい。顔料の粒径が0.01μm未満のときは分散物の感光層塗布液中での安定性の点で好ましくなく、また、10μmを超えると画像記録層の均一性の点で好ましくない。
顔料を分散する方法としては、インク製造やトナー製造等に用いられる公知の分散技術が使用できる。分散機としては、超音波分散器、サンドミル、アトライター、パールミル、スーパーミル、ボールミル、インペラー、デスパーザー、KDミル、コロイドミル、ダイナトロン、3本ロールミル、加圧ニーダー等が挙げられる。詳細は、「最新顔料応用技術」(CMC出版、1986年刊)に記載がある。
The particle size of the pigment is preferably in the range of 0.01 μm to 10 μm, more preferably in the range of 0.05 μm to 1 μm, and particularly preferably in the range of 0.1 μm to 1 μm. When the particle diameter of the pigment is less than 0.01 μm, it is not preferable from the viewpoint of stability of the dispersion in the photosensitive layer coating solution, and when it exceeds 10 μm, it is not preferable from the viewpoint of uniformity of the image recording layer.
As a method for dispersing the pigment, a known dispersion technique used in ink production, toner production, or the like can be used. Examples of the disperser include an ultrasonic disperser, a sand mill, an attritor, a pearl mill, a super mill, a ball mill, an impeller, a disperser, a KD mill, a colloid mill, a dynatron, a three-roll mill, and a pressure kneader. Details are described in "Latest Pigment Applied Technology" (CMC Publishing, 1986).

これらの赤外線吸収剤は、画像記録層全固形分に対し0.01〜50質量%、好ましくは0.1〜10質量%であり、染料の場合特に好ましくは0.5〜10質量%、顔料の場合特に好ましくは1.0〜10質量%の割合で画像記録層中に添加することができる。
顔料もしくは染料の添加量が上記範囲において、高感度で画像形成しうると共に、非画像部における汚れの発生が効果的に抑制される。
これらの染料もしくは顔料は他の成分と同一の層に添加してもよいし、別の層を設けそこへ添加してもよい。
These infrared absorbers are 0.01 to 50% by weight, preferably 0.1 to 10% by weight, based on the total solid content of the image recording layer. In this case, it can be particularly preferably added to the image recording layer at a ratio of 1.0 to 10% by mass.
When the addition amount of the pigment or dye is within the above range, an image can be formed with high sensitivity, and the occurrence of stains in the non-image area is effectively suppressed.
These dyes or pigments may be added to the same layer as other components, or another layer may be provided and added thereto.

<その他の成分>
本発明では、前記画像記録層に必須の成分に加え、必要に応じて種々の化合物を添加しても良い。
例えば、可視光域に大きな吸収を持つ染料を画像の着色剤として使用することができる。
具体的にはオイルイエロー#101、オイルイエロー#103、オイルピンク#312、オイルグリーンBG、オイルブルーBOS、オイルブルー#603、オイルブラックBY、オイルブラックBS、オイルブラックT−505(以上オリエント化学工業(株)製)、ビクトリアピュアブルー、クリスタルバイオレット(CI42555)、メチルバイオレット(CI42535)、エチルバイオレット、ローダミンB(CI145170B)、マラカイトグリーン(CI42000)、メチレンブルー(CI52015)など、あるいは特開昭62−293247号公報に記載されている染料を挙げることができる。
これらの染料は、画像形成後、画像部と非画像部の区別がつきやすいので、添加する方が好ましい。尚、添加量は、画像記録層全固形分に対し、0.01〜10質量%の割合である。
<Other ingredients>
In the present invention, various compounds may be added as necessary in addition to the components essential for the image recording layer.
For example, a dye having a large absorption in the visible light region can be used as an image colorant.
Specifically, Oil Yellow # 101, Oil Yellow # 103, Oil Pink # 312, Oil Green BG, Oil Blue BOS, Oil Blue # 603, Oil Black BY, Oil Black BS, Oil Black T-505 (oriental chemical industry) Co., Ltd.), Victoria Pure Blue, Crystal Violet (CI42555), Methyl Violet (CI42535), Ethyl Violet, Rhodamine B (CI145170B), Malachite Green (CI42000), Methylene Blue (CI52015), etc., or JP-A-62-293247 And dyes described in Japanese Patent Publication No.
These dyes are preferably added after image formation because they can be easily distinguished from image portions and non-image portions. The amount added is 0.01 to 10% by mass with respect to the total solid content of the image recording layer.

また、本発明における画像記録層中には、現像条件に対する処理の安定性を広げるため、特開昭62−251740号公報や特開平3−208514号公報に記載されているような非イオン界面活性剤、特開昭59−121044号公報、特開平4−13149号公報に記載されているような両性界面活性剤を添加することができる。
非イオン界面活性剤の具体例としては、ソルビタントリステアレート、ソルビタンモノパルミテート、ソルビタントリオレート、ステアリン酸モノグリセリド、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル等が挙げられる。
両性界面活性剤の具体例としては、アルキルジ(アミノエチル)グリシン、アルキルポリアミノエチルグリシン塩酸塩、2−アルキル−N−カルボキシエチル−N−ヒドロキシエチルイミダゾリニウムベタインやN−テトラデシル−N,N−ベタイン型(例えば、商品名アモーゲンK、第一工業(株)製)等が挙げられる。 上記非イオン界面活性剤および両性界面活性剤の画像記録層中に占める割合は、0.05〜15質量%が好ましく、より好ましくは0.1〜5質量%である。
In the image recording layer of the present invention, nonionic surface activity as described in JP-A Nos. 62-251740 and 3-208514 is used in order to increase the processing stability against development conditions. An amphoteric surfactant as described in JP-A-59-121044 and JP-A-4-13149 can be added.
Specific examples of the nonionic surfactant include sorbitan tristearate, sorbitan monopalmitate, sorbitan trioleate, stearic acid monoglyceride, polyoxyethylene nonylphenyl ether and the like.
Specific examples of amphoteric surfactants include alkyldi (aminoethyl) glycine, alkylpolyaminoethylglycine hydrochloride, 2-alkyl-N-carboxyethyl-N-hydroxyethylimidazolinium betaine, and N-tetradecyl-N, N- Examples include betaine type (for example, trade name Amorgen K, manufactured by Daiichi Kogyo Co., Ltd.). The proportion of the nonionic surfactant and amphoteric surfactant in the image recording layer is preferably 0.05 to 15% by mass, more preferably 0.1 to 5% by mass.

更に本発明における画像記録層中には必要に応じ、塗膜の柔軟性等を付与するために可塑剤が加えられる。例えば、ポリエチレングリコール、クエン酸トリブチル、フタル酸ジエチル、フタル酸ジブチル、フタル酸ジヘキシル、フタル酸ジオクチル、リン酸トリクレジル、リン酸トリブチル、リン酸トリオクチル、オレイン酸テトラヒドロフルフリル、アクリル酸またはメタクリル酸のオリゴマーおよびポリマー等が用いられる。
これら以外にも、エポキシ化合物、ビニルエーテル類等を添加しても良い。
Furthermore, a plasticizer is added to the image recording layer in the present invention, if necessary, in order to impart flexibility of the coating film. For example, polyethylene glycol, tributyl citrate, diethyl phthalate, dibutyl phthalate, dihexyl phthalate, dioctyl phthalate, tricresyl phosphate, tributyl phosphate, trioctyl phosphate, tetrahydrofurfuryl oleate, acrylic acid or methacrylic acid oligomer And polymers are used.
Besides these, epoxy compounds, vinyl ethers, and the like may be added.

本発明の画像記録層は、通常上記各成分を溶媒に溶かして、適当な支持体上に塗布することにより製造することができる。ここで使用する溶媒としては、エチレンジクロライド、シクロヘキサノン、メチルエチルケトン、メタノール、エタノール、プロパノール、エチレングリコールモノメチルエーテル、1−メトキシ−2−プロパノール、2−メトキシエチルアセテート、1−メトキシ−2−プロピルアセテート、ジメトキシエタン、乳酸メチル、乳酸エチル、N,N−ジメチルアセトアミド、N,N−ジメチルホルムアミド、テトラメチルウレア、N−メチルピロリドン、ジメチルスルホキシド、スルホラン、γ−ブチルラクトン、トルエン、水等をあげることができるがこれに限定されるものではない。これらの溶媒は単独あるいは混合して使用される。溶媒中の上記成分(添加剤を含む全固形分)の濃度は、好ましくは1〜50質量%である。
また塗布、乾燥後に得られる支持体上の塗布量(固形分)は、用途によって異なるが、平版印刷版原版の画像記録層についていえば、一般的に0.5〜5.0g/m2 が好ましい。
塗布する方法としては、種々の方法を用いることができるが、例えば、バーコーター塗布、回転塗布、スプレー塗布、カーテン塗布、ディップ塗布、エアーナイフ塗布、ブレード塗布、ロール塗布等を挙げることができる。塗布量が少なくなるにつれて、見かけの感度は大になるが、画像記録膜の皮膜特性は低下する。
The image recording layer of the present invention can be usually produced by dissolving each of the above components in a solvent and coating the solution on a suitable support. Solvents used here include ethylene dichloride, cyclohexanone, methyl ethyl ketone, methanol, ethanol, propanol, ethylene glycol monomethyl ether, 1-methoxy-2-propanol, 2-methoxyethyl acetate, 1-methoxy-2-propyl acetate, dimethoxy Examples include ethane, methyl lactate, ethyl lactate, N, N-dimethylacetamide, N, N-dimethylformamide, tetramethylurea, N-methylpyrrolidone, dimethyl sulfoxide, sulfolane, γ-butyllactone, toluene, water, and the like. However, it is not limited to this. These solvents are used alone or in combination. The concentration of the above components (total solid content including additives) in the solvent is preferably 1 to 50% by mass.
Further, the coating amount (solid content) on the support obtained after coating and drying varies depending on the use, but generally speaking, 0.5 to 5.0 g / m 2 for the image recording layer of the lithographic printing plate precursor. preferable.
Various methods can be used as the coating method, and examples thereof include bar coater coating, spin coating, spray coating, curtain coating, dip coating, air knife coating, blade coating, and roll coating. As the coating amount decreases, the apparent sensitivity increases, but the film characteristics of the image recording film deteriorate.

また、本発明における画像記録層中には、塗布性を良化するための界面活性剤、例えば特開昭62−170950号公報に記載されているようなフッ素系界面活性剤を添加することができる。好ましい添加量は、全画像記録層固形分中0.01〜1質量%、さらに好ましくは0.05〜0.5質量%である。   In the image recording layer of the present invention, a surfactant for improving the coating property, for example, a fluorosurfactant described in JP-A-62-170950 may be added. it can. A preferable addition amount is 0.01 to 1% by mass, more preferably 0.05 to 0.5% by mass in the total solid content of the image recording layer.

<支持体>
本発明のネガ型平版印刷版原版における支持体には、後述のような親水化処理が施されたものを用いることが好ましい。
このような支持体としては、紙、ポリエステルフィルムまたはアルミニウム板が挙げられ、その中でも、寸法安定性がよく、比較的安価であり、必要に応じた表面処理により親水性や強度にすぐれた表面を提供できるアルミニウム板は更に好ましい。また、特公昭48−18327号公報に記載されているようなポリエチレンテレフタレートフィルム上にアルミニウムシートが結合された複合体シートも好ましい。
<Support>
As the support in the negative planographic printing plate precursor of the present invention, it is preferable to use a support that has been subjected to a hydrophilic treatment as described below.
Examples of such a support include paper, polyester film, and aluminum plate. Among them, a surface having good dimensional stability, relatively inexpensive, and excellent hydrophilicity and strength by surface treatment as required. An aluminum plate that can be provided is more preferred. A composite sheet in which an aluminum sheet is bonded on a polyethylene terephthalate film as described in Japanese Patent Publication No. 48-18327 is also preferable.

本発明において最も好適な支持体としてのアルミニウム板とは、寸度的に安定なアルミニウムを主成分とする金属板であり、純アルミニウム板の他、アルミニウムを主成分とし、微量の異元素を含む合金板、またはアルミニウム(合金)がラミネート若しくは蒸着されたプラスチックフィルムまたは紙の中から選ばれる。以下の説明において、上記に挙げたアルミニウムまたはアルミニウム合金からなる支持体をアルミニウム支持体と総称して用いる。前記アルミニウム合金に含まれる異元素には、ケイ素、鉄、マンガン、銅、マグネシウム、クロム、亜鉛、ビスマス、ニッケル、チタンなどがあり、合金中の異元素の含有量は10質量%以下である。本発明では純アルミニウム板が好適であるが、完全に純粋なアルミニウムは精錬技術上製造が困難であるので、僅かに異元素を含有するものでもよい。このように本発明に適用されるアルミニウム板は、その組成が特定されるものではなく、従来公知公用の素材のもの、例えば、JIS A 1050、JIS A 1100、JIS A 3103、JIS A 3005などを適宜利用することができる。   The aluminum plate as the most preferable support in the present invention is a metal plate mainly composed of dimensionally stable aluminum, and contains pure aluminum plate, aluminum as a main component, and a trace amount of foreign elements. An alloy plate or aluminum (alloy) is selected from laminated or vapor-deposited plastic film or paper. In the following description, the above-mentioned support made of aluminum or aluminum alloy is used generically as an aluminum support. Examples of the foreign element contained in the aluminum alloy include silicon, iron, manganese, copper, magnesium, chromium, zinc, bismuth, nickel, and titanium. The content of the foreign element in the alloy is 10% by mass or less. In the present invention, a pure aluminum plate is suitable, but completely pure aluminum is difficult to manufacture in terms of refining technology, and therefore may contain a slightly different element. Thus, the composition of the aluminum plate applied to the present invention is not specified, and a conventionally known publicly available material such as JIS A 1050, JIS A 1100, JIS A 3103, JIS A 3005, etc. It can be used as appropriate.

また、本発明に用いられるアルミニウム支持体の厚みは、およそ0.1mm〜0.6mm程度である。この厚みは印刷機の大きさ、印刷版の大きさおよびユーザーの希望により適宜変更することができる。
このようなアルミニウム支持体には、後述の表面処理が施され、親水化される。
Moreover, the thickness of the aluminum support body used for this invention is about 0.1 mm-about 0.6 mm. This thickness can be appropriately changed according to the size of the printing press, the size of the printing plate, and the user's desire.
Such an aluminum support is subjected to a surface treatment described later to be hydrophilized.

[粗面化処理]
粗面化処理方法は、特開昭56−28893号公報に開示されているような機械的粗面化、化学的エッチング、電解グレインなどがある。更に塩酸または硝酸電解液中で電気化学的に粗面化する電気化学的粗面化方法、およびアルミニウム表面を金属ワイヤーでひっかくワイヤーブラシグレイン法、研磨球と研磨剤でアルミニウム表面を砂目立でするボールグレイン法、ナイロンブラシと研磨剤で表面を粗面化するブラシグレイン法のような機械的粗面化法を用いることができ、上記粗面化方法を単独或いは組み合わせて用いることもできる。その中でも粗面化に有用に使用される方法は塩酸または硝酸電解液中で化学的に粗面化する電気化学的方法であり、適する陽極時電気量は50C/dm〜400C/dmの範囲である。更に具体的には、0.1〜50%の塩酸または硝酸を含む電解液中、温度20〜80℃、時間1秒〜30分、電流密度100C/dm〜400C/dmの条件で交流および/または直流電解を行うことが好ましい。
[Roughening treatment]
Examples of the roughening treatment method include mechanical roughening, chemical etching, and electrolytic grain as disclosed in JP-A-56-28893. Furthermore, an electrochemical surface roughening method in which the surface of the aluminum surface is electrochemically roughened in hydrochloric acid or nitric acid electrolyte, and the aluminum surface is ground with a metal wire, and the aluminum brush surface is polished with a polishing ball and an abrasive. A mechanical graining method such as a ball graining method or a brush graining method in which the surface is roughened with a nylon brush and an abrasive can be used, and the above roughening methods can be used alone or in combination. Among them, a method usefully used for roughening is an electrochemical method in which roughening is chemically roughened in hydrochloric acid or nitric acid electrolyte, and a suitable amount of electricity at the time of anode is 50 C / dm 2 to 400 C / dm 2 . It is a range. More specifically, in the electrolytic solution containing from 0.1 to 50% hydrochloric acid or nitric acid, the temperature 20 to 80 ° C., for 1 second to 30 minutes, alternating at a current density of 100C / dm 2 ~400C / dm 2 It is preferable to perform direct current electrolysis.

このように粗面化処理したアルミニウム支持体は、酸またはアルカリにより化学的にエッチングされてもよい。好適に用いられるエッチング剤は、苛性ソーダ、炭酸ソーダ、アルミン酸ソーダ、メタケイ酸ソーダ、リン酸ソーダ、水酸化カリウム、水酸化リチウム等であり、濃度と温度の好ましい範囲はそれぞれ1〜50%、20〜100℃である。エッチングのあと表面に残留する汚れ(スマット)を除去するために酸洗いが行われる。用いられる酸は硝酸、硫酸、リン酸、クロム酸、フッ酸、ホウフッ化水素酸等が用いられる。特に電気化学的粗面化処理後のスマット除去処理方法としては、好ましくは特開昭53−12739号公報に記載されているような50〜90℃の温度の15〜65質量%の硫酸と接触させる方法および特公昭48−28123号公報に記載されているアルカリエッチングする方法が挙げられる。以上のように処理された後、処理面の表面粗さRaが0.2〜0.5μm程度であれば、特に、方法、条件は限定しない。   The roughened aluminum support may be chemically etched with acid or alkali. Etching agents suitably used are caustic soda, sodium carbonate, sodium aluminate, sodium metasilicate, sodium phosphate, potassium hydroxide, lithium hydroxide, and the like. Preferred ranges of concentration and temperature are 1 to 50% and 20%, respectively. ~ 100 ° C. Pickling is performed to remove dirt (smut) remaining on the surface after etching. As the acid used, nitric acid, sulfuric acid, phosphoric acid, chromic acid, hydrofluoric acid, borohydrofluoric acid and the like are used. In particular, as a method for removing smut after the electrochemical surface roughening treatment, contact with 15 to 65 mass% sulfuric acid at a temperature of 50 to 90 ° C. as described in JP-A-53-12739 is preferable. And the alkali etching method described in Japanese Patent Publication No. 48-28123. After the treatment as described above, the method and conditions are not particularly limited as long as the surface roughness Ra of the treated surface is about 0.2 to 0.5 μm.

[陽極酸化処理]
以上のようにして処理され酸化物層を形成したアルミニウム支持体には、その後に陽極酸化処理がなされる。
陽極酸化処理は硫酸、燐酸、シュウ酸若しくは硼酸/硼酸ナトリウムの水溶液が単独若しくは複数種類組み合わせて電解浴の主成分として用いられる。この際、電解液中に少なくともAl合金板、電極、水道水、地下水等に通常含まれる成分はもちろん含まれても構わない。更には第2、第3成分が添加されていても構わない。ここでいう第2、3成分とは、例えば、Na、K、Mg、Li、Ca、Ti、Al、V、Cr、Mn、Fe、Co、Ni、Cu、Zn等の金属のイオンやアンモニウムイオン等に陽イオンや、硝酸イオン、炭酸イオン、塩素イオン、リン酸イオン、フッ素イオン、亜硫酸イオン、チタン酸イオン、ケイ酸イオン、硼酸イオン等の陰イオンが挙げられ、その濃度としては0〜10000ppm程度含まれてもよい。陽極酸化処理の条件に特に限定はないが、好ましくは30〜500g/リットル、処理液温10〜70℃で、電流密度0.1〜40A/mの範囲で直流または交流電解によって処理される。形成される陽極酸化皮膜の厚さは0.5〜1.5μmの範囲である。好ましくは0.5〜1.0μmの範囲である。以上の処理によって作製された支持体が、陽極酸化皮膜に存在するマイクロポアのポア径が5〜10nm、ポア密度が8×1015〜2×1016個/mの範囲に入るように処理条件が選択されることが好ましい。
[Anodizing treatment]
The aluminum support that has been treated as described above to form an oxide layer is then anodized.
In the anodizing treatment, sulfuric acid, phosphoric acid, oxalic acid, or an aqueous solution of boric acid / sodium borate is used alone or in combination as a main component of the electrolytic bath. In this case, the electrolyte solution may of course contain at least components normally contained in at least an Al alloy plate, an electrode, tap water, groundwater and the like. Further, the second and third components may be added. Here, the second and third components are, for example, metal ions such as Na, K, Mg, Li, Ca, Ti, Al, V, Cr, Mn, Fe, Co, Ni, Cu, and Zn, and ammonium ions. Examples include cations, nitrate ions, carbonate ions, chloride ions, phosphate ions, fluorine ions, sulfite ions, titanate ions, silicate ions, borate ions and the like, and the concentration is 0 to 10,000 ppm. May be included. There are no particular limitations on the conditions for the anodizing treatment, but the treatment is preferably carried out by direct current or alternating current electrolysis at a treatment liquid temperature of 10 to 70 ° C. and a current density of 0.1 to 40 A / m 2 at 30 to 500 g / liter. . The thickness of the formed anodic oxide film is in the range of 0.5 to 1.5 μm. Preferably it is the range of 0.5-1.0 micrometer. The support produced by the above treatment is treated so that the pore diameter of the micropores existing in the anodized film is in the range of 5 to 10 nm and the pore density is in the range of 8 × 10 15 to 2 × 10 16 pieces / m 2. It is preferred that the conditions are selected.

陽極酸化皮膜の厚みを上記範囲とすることにより、画像記録層との密着性が向上し、良好な耐刷性が得られると共に、非画像部における傷つきに起因して印刷時に、傷の部分にインキが付着するいわゆる「傷汚れ」の発生を抑制することができ、好ましい。   By making the thickness of the anodic oxide film in the above range, the adhesion with the image recording layer is improved, good printing durability is obtained, and at the time of printing due to scratches in the non-image area, The occurrence of so-called “scratch stains” to which ink adheres can be suppressed, which is preferable.

前記支持体表面の親水化処理としては、広く公知の方法が適用できる。特に好ましい処理としては、シリケートまたはポリビニルホスホン酸等による親水化処理が施される。皮膜はSi、またはP元素量として2〜40mg/m、より好ましくは4〜30mg/mで形成される。塗布量はケイ光X線分析法により測定できる。 A widely known method can be applied as the hydrophilic treatment on the surface of the support. As a particularly preferable treatment, a hydrophilic treatment with silicate or polyvinylphosphonic acid is performed. The coating is formed with a Si or P element amount of 2 to 40 mg / m 2 , more preferably 4 to 30 mg / m 2 . The coating amount can be measured by fluorescent X-ray analysis.

上記の親水化処理は、アルカリ金属ケイ酸塩、またはポリビニルホスホン酸が1〜30質量%、好ましくは2〜15質量%であり、25℃のpHが10〜13である水溶液に、陽極酸化皮膜が形成されたアルミニウム支持体を、例えば、15〜80℃で0.5〜120秒浸漬することにより実施される。   The hydrophilization treatment is carried out by applying an anodized film to an aqueous solution containing 1 to 30% by weight, preferably 2 to 15% by weight of alkali metal silicate or polyvinylphosphonic acid, and having a pH of 10 to 13 at 25 ° C. This is carried out by immersing the aluminum support on which is formed, for example, at 15 to 80 ° C. for 0.5 to 120 seconds.

前記親水化処理に用いられるアルカリ金属ケイ酸塩としては、ケイ酸ナトリウム、ケイ酸カリウム、ケイ酸リチウムなどが使用される。アルカリ金属ケイ酸塩水溶液のpHを高くするために使用される水酸化物としては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウムなどがある。なお、上記の処理液にアルカリ土類金属塩若しくは第IVB族金属塩を配合してもよい。アルカリ土類金属塩としては、硝酸カルシウム、硝酸ストロンチウム、硝酸マグネシウム、硝酸バリウムのような硝酸塩や、硫酸塩、塩酸塩、リン酸塩、酢酸塩、シュウ酸塩、ホウ酸塩などの水溶性の塩が挙げられる。第IVB族金属塩としては、四塩化チタン、三塩化チタン、フッ化チタンカリウム、シュウ酸チタンカリウム、硫酸チタン、四ヨウ化チタン、塩化酸化ジルコニウム、二酸化ジルコニウム、オキシ塩化ジルコニウム、四塩化ジルコニウムなどを挙げることができる。   As the alkali metal silicate used for the hydrophilization treatment, sodium silicate, potassium silicate, lithium silicate, or the like is used. Examples of the hydroxide used for increasing the pH of the aqueous alkali metal silicate solution include sodium hydroxide, potassium hydroxide, and lithium hydroxide. In addition, you may mix | blend alkaline-earth metal salt or Group IVB metal salt with said process liquid. Alkaline earth metal salts include nitrates such as calcium nitrate, strontium nitrate, magnesium nitrate, and barium nitrate, and water-soluble substances such as sulfate, hydrochloride, phosphate, acetate, oxalate, and borate. Salt. Group IVB metal salts include titanium tetrachloride, titanium trichloride, potassium fluoride titanium, potassium oxalate, titanium sulfate, titanium tetraiodide, zirconium chloride, zirconium dioxide, zirconium oxychloride, zirconium tetrachloride, etc. Can be mentioned.

アルカリ土類金属塩若しくは、第IVB族金属塩は、単独または2種以上組み合わせて使用することができる。これらの金属塩の好ましい範囲は0.01〜10質量%であり、更に好ましい範囲は0.05〜5.0質量%である。また、米国特許第3,658,662号明細書に記載されているようなシリケート電着も有効である。特公昭46−27481号、特開昭52−58602号、特開昭52−30503号等の各公報に開示されているような電解グレインを施した支持体と、上記陽極酸化処理および親水化処理を組合せた表面処理も有用である。   Alkaline earth metal salts or Group IVB metal salts can be used alone or in combination of two or more. A preferable range of these metal salts is 0.01 to 10% by mass, and a more preferable range is 0.05 to 5.0% by mass. Silicate electrodeposition as described in US Pat. No. 3,658,662 is also effective. A support body provided with electrolytic grains as disclosed in JP-B-46-27481, JP-A-52-58602, JP-A-52-30503, and the anodizing treatment and hydrophilization treatment described above A surface treatment combining these is also useful.

また、陽極酸化処理した支持体表面に、特開平11−231509号公報に記載の如き親水層を形成することもできる。
親水層の乾燥後の被覆量は、2mg/m2 〜200mg/m2 が適当であり、好ましくは3mg/m2 〜60mg/m2 である。
Further, a hydrophilic layer as described in JP-A No. 11-231509 can be formed on the anodized support surface.
The coating amount after drying of the hydrophilic layer, 2mg / m 2 ~200mg / m 2 is is suitable, preferably 3mg / m 2 ~60mg / m 2 .

<平版印刷版原版の製版>
以上のようにして得られた本発明の平版印刷版原版を、波長760nmから1200nmの赤外線を放射する固体レーザ及び半導体レーザにより画像露光することで、露光部を硬化させ、現像により非画像部を除去することで画像形成する。
本発明の平版印刷版原版を製版するに際しては、画像部の硬化性を向上させ、画像部と非画像部との現像性の差異を拡大する目的で、レーザ照射による露光工程と現像工程の間にプレヒート処理(加熱処理)を行う。
プレヒート処理における加熱条件は、80℃〜160℃の範囲内で10秒〜5分間行うことが好ましく、低温加熱としては、80℃〜135℃の範囲内で10秒〜5分間行うことがより好ましい。
このとき、画像形成しうる最低温度と、残膜が発生する最高温度との差異を加熱ラチチュードと称し、この差異が15℃以上であることが、画像形成性、現像処理の安定性、保存性の観点から好ましいが、10℃以上であれば実用上問題のないレベルといえる。
本発明の平版印刷版原版の画像記録層は、前記の如く、加熱ラチチュードが良好であるために、低温加熱した場合でも、十分な画像部の強度向上効果が得られ、且つ、画像部の疎水性が高いために、耐現像性、耐刷性に優れた画像が形成される。また、低温加熱を行うことで、非画像部の所望されない酸発生剤の分解も抑制され、非画像部に残膜が発生する懸念もない。
このため、プレヒート処理における温度条件の自由度が高いことを特徴とするものである。
このようなプレヒート処理により、レーザ照射時、記録に必要なレーザエネルギーを減少させることができる。
<Plate making of lithographic printing plate precursor>
The lithographic printing plate precursor of the present invention obtained as described above is image-exposed with a solid-state laser and a semiconductor laser that emits infrared light with a wavelength of 760 nm to 1200 nm, thereby curing the exposed portion and developing the non-image portion. An image is formed by removing the image.
When making the lithographic printing plate precursor according to the present invention, for the purpose of improving the curability of the image area and expanding the difference in developability between the image area and the non-image area, the exposure process and the development process by laser irradiation are performed. Pre-heat treatment (heat treatment) is performed.
The heating condition in the preheating treatment is preferably 10 seconds to 5 minutes within the range of 80 ° C. to 160 ° C., and the low temperature heating is more preferably performed within the range of 80 ° C. to 135 ° C. for 10 seconds to 5 minutes. .
At this time, the difference between the lowest temperature at which an image can be formed and the highest temperature at which a residual film is generated is referred to as a heating latitude, and this difference is 15 ° C. or higher. Although it is preferable from a viewpoint, if it is 10 degreeC or more, it can be said that it is a level which is practically satisfactory.
Since the image recording layer of the lithographic printing plate precursor according to the present invention has a good heating latitude as described above, even when heated at a low temperature, a sufficient effect of improving the strength of the image portion can be obtained, and the hydrophobicity of the image portion can be obtained. Therefore, an image having excellent development resistance and printing durability is formed. Further, by performing the low temperature heating, the decomposition of the undesired acid generator in the non-image area is suppressed, and there is no concern that a remaining film is generated in the non-image area.
For this reason, the degree of freedom of the temperature condition in the preheating process is high.
Such preheating treatment can reduce the laser energy required for recording during laser irradiation.

プレヒート処理を行った後、本発明の平版印刷版原版はアルカリ性水溶液にて現像される。
本発明において現像工程に用いうる現像液および補充液としては従来公知のアルカリ性水溶液が使用できる。
そのようなアルカリ性水溶液としては、ケイ酸アルカリ若しくは非還元糖と、塩基とからなる現像液が挙げられ、特にpH12.5〜14.0のものが好ましい。該ケイ酸アルカリとしては、水に溶解したときにアルカリ性を示すものであり、例えばケイ酸ナトリウム、ケイ酸カリウム、ケイ酸リチウムなどのアルカリ金属ケイ酸塩、ケイ酸アンモニウムなどが挙げられる。ケイ酸アルカリは、1種単独でも、2種以上を組み合わせて用いてもよい。
After the preheating treatment, the lithographic printing plate precursor according to the invention is developed with an alkaline aqueous solution.
A conventionally known alkaline aqueous solution can be used as the developer and replenisher that can be used in the development step in the present invention.
Examples of such an alkaline aqueous solution include a developer comprising an alkali silicate or a non-reducing sugar and a base, and those having a pH of 12.5 to 14.0 are particularly preferable. The alkali silicate exhibits alkalinity when dissolved in water, and examples thereof include alkali metal silicates such as sodium silicate, potassium silicate and lithium silicate, and ammonium silicate. The alkali silicate may be used alone or in combination of two or more.

アルカリ性水溶液は、ケイ酸塩の成分である酸化ケイ素SiOとアルカリ酸化物MO(Mはアルカリ金属又はアンモニウム基を表す。)との混合比率、及び濃度の調整により、現像性を容易に調節することができる。
前記アルカリ性水溶液の中でも、前記酸化ケイ素SiOとアルカリ酸化物MOとの混合比率(SiO/MO:モル比)が0.5〜3.0のものが好ましく、この範囲にあると、平版印刷版の支持体として汎用のアルミニウム板をエッチングすることが少なく、現像性が良好である。SiO/MO(モル比)はさらに好ましくは1.0〜2.0である。
Alkaline aqueous solution, silicon oxide SiO 2 to alkali oxide is a component of the silicate M 2 O (M represents an alkali metal or an ammonium group.) And the mixture ratio, and by adjusting the concentration, easy developability Can be adjusted.
Among the alkaline aqueous solutions, those having a mixing ratio (SiO 2 / M 2 O: molar ratio) of the silicon oxide SiO 2 and the alkali oxide M 2 O of 0.5 to 3.0 are preferably in this range. In addition, a general-purpose aluminum plate is rarely etched as a support for a lithographic printing plate, and developability is good. SiO 2 / M 2 O (molar ratio) is more preferably 1.0 to 2.0.

また、現像液中のケイ酸アルカリの濃度としては、良好な現像性及び処理能力並びに廃液処理の利便性から、アルカリ水溶液の質量に対して1〜10質量%が好ましく、3〜8質量%がより好ましく、4〜7質量%が最も好ましい。   The concentration of the alkali silicate in the developer is preferably 1 to 10% by mass, and 3 to 8% by mass with respect to the mass of the aqueous alkali solution, from the viewpoint of good developability and processing capability and convenience of waste liquid treatment. More preferably, 4 to 7% by mass is most preferable.

非還元糖と塩基とからなる現像液において、非還元糖とは遊離性のアルデヒド基やケトン基を持たないために還元性を有しない糖類を意味し、還元基同士の結合したトレハロース型少糖類、糖類の還元基と非糖類が結合した配糖体、糖類に水素添加して還元した糖アルコールに分類される。本発明ではこれらのいずれも好適に用いることができる。
トレハロース型少糖類としては、例えばサッカロースやトレハロースが挙げられ、前記配糖体としては、例えばアルキル配糖体、フェノール配糖体、カラシ油配糖体などが挙げられる。
糖アルコールとしては、例えばD,L−アラビット、リビット、キシリット、D,L−ソルビット、D,L−マンニット、D,L−イジット、D,L−タリット、ズルシット、アロズルシット、メソイノシットなどが挙げられる。さらには、二糖類の水素添加で得られるマルチトール、オリゴ糖の水素添加で得られる還元体(還元水あめ)なども好適に挙げることができる。
In a developer comprising a non-reducing sugar and a base, the non-reducing sugar means a saccharide that has no free aldehyde group or ketone group and therefore has no reducing property, and is a trehalose-type oligosaccharide in which reducing groups are bonded to each other. Glycosides in which saccharide reducing groups and non-saccharides are combined, and sugar alcohols reduced by hydrogenation of saccharides. Any of these can be suitably used in the present invention.
Examples of trehalose type oligosaccharides include saccharose and trehalose, and examples of the glycoside include alkyl glycosides, phenol glycosides, and mustard oil glycosides.
Examples of the sugar alcohol include D, L-arabit, rebit, xylit, D, L-sorbit, D, L-mannit, D, L-digit, D, L-talit, dulcit, allozulcit, meso-inosit and the like. . Furthermore, maltitol obtained by hydrogenation of a disaccharide, a reduced form (reduced water candy) obtained by hydrogenation of an oligosaccharide, and the like can also be suitably exemplified.

上記のうち、非還元糖としては、糖アルコール、サッカロースが好ましく、中でも特に、D−ソルビット、メソイノシット、サッカロース、還元水あめが適度なpH領域に緩衝作用がある点でより好ましい。
これらの非還元糖は単独でも、二種以上を組み合わせてもよく、現像液中に占める割合としては、0.1〜30質量%が好ましく、1〜20質量%がより好ましい。
Among the above, as the non-reducing sugar, sugar alcohol and saccharose are preferable, and among them, D-sorbite, mesoinosit, saccharose, and reduced starch syrup are more preferable because they have a buffering action in an appropriate pH range.
These non-reducing sugars may be used alone or in combination of two or more. The proportion of the non-reducing sugar in the developer is preferably 0.1 to 30% by mass, more preferably 1 to 20% by mass.

前記ケイ酸アルカリ若しくは非還元糖には、塩基としてアルカリ剤を従来公知の物の中から適宜選択して組み合わせることができる。該アルカリ剤としては、例えば水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム、リン酸三ナトリウム、リン酸三カリウム、リン酸三アンモニウム、リン酸二ナトリウム、リン酸二カリウム、リン酸二アンモニウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸アンモニウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、炭酸水素アンモニウム、ホウ酸ナトリウム、ホウ酸カリウム、ホウ酸アンモニウムなどの無機アルカリ剤、クエン酸カリウム、クエン酸三カリウム、クエン酸ナトリウムなどが挙げられる。   In the alkali silicate or non-reducing sugar, an alkali agent as a base can be appropriately selected from conventionally known compounds and combined. Examples of the alkali agent include sodium hydroxide, potassium hydroxide, lithium hydroxide, trisodium phosphate, tripotassium phosphate, triammonium phosphate, disodium phosphate, dipotassium phosphate, diammonium phosphate, carbonic acid. Inorganic alkaline agents such as sodium, potassium carbonate, ammonium carbonate, sodium bicarbonate, potassium bicarbonate, ammonium bicarbonate, sodium borate, potassium borate, ammonium borate, potassium citrate, tripotassium citrate, sodium citrate, etc. Is mentioned.

さらにモノメチルアミン、ジメチルアミン、トリメチルアミン、モノエチルアミン、ジエチルアミン、トリエチルアミン、モノイソプロピルアミン、ジイソプロピルアミン、トリイソプロピルアミン、n−ブチルアミン、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、モノイソプロパノールアミン、ジイソプロパノールアミン、エチレンイミン、エチレンジアミン、ピリジンなどの有機アルカリ剤も好適に挙げることができる。これらのアルカリ剤は単独で用いても、二種以上を組み合わせて用いてもよい。アルカリ剤としては、中でも水酸化ナトリウム、水酸化カリウムが好ましい。その理由は、非還元糖に対する添加量を調整することにより、広いpH領域においてpH調整が可能となるためである。また、リン酸三ナトリウム、リン酸三カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウムなどもそれ自身に緩衝作用があるので好ましい。   Furthermore, monomethylamine, dimethylamine, trimethylamine, monoethylamine, diethylamine, triethylamine, monoisopropylamine, diisopropylamine, triisopropylamine, n-butylamine, monoethanolamine, diethanolamine, triethanolamine, monoisopropanolamine, diisopropanolamine, ethylene An organic alkali agent such as imine, ethylenediamine, pyridine and the like can also be suitably exemplified. These alkaline agents may be used alone or in combination of two or more. Among them, sodium hydroxide and potassium hydroxide are preferable as the alkali agent. The reason is that the pH can be adjusted in a wide pH range by adjusting the amount added to the non-reducing sugar. Further, trisodium phosphate, tripotassium phosphate, sodium carbonate, potassium carbonate and the like are preferable because they have a buffering action.

本発明の現像液は、カルボキシアルキルチオ無水コハク酸、カルボキシアルキルチオコハク酸及びそれらの塩類からなる群から選ばれる少なくとも1種を含有することを特徴とする。該カルボキシアルキルチオ無水コハク酸、カルボキシアルキルチオコハク酸及びそれらの塩類からなる群から選ばれる少なくとも1種としては、下記一般式(i)又は(ii)で表される化合物が挙げられる。本発明に用いうる現像液にはこのような化合物を1種単独で、あるいは2種以上組み合わせて用いることができる。   The developer of the present invention is characterized by containing at least one selected from the group consisting of carboxyalkylthiosuccinic anhydride, carboxyalkylthiosuccinic acid, and salts thereof. Examples of at least one selected from the group consisting of carboxyalkylthiosuccinic anhydride, carboxyalkylthiosuccinic acid and salts thereof include compounds represented by the following general formula (i) or (ii). In the developer that can be used in the present invention, such compounds can be used singly or in combination of two or more.

Figure 2010060935
Figure 2010060935

一般式(i)中、Rは炭素原子数1〜30のアルキレン基を表し、Mは水素原子、金属原子又はアンモニウムを表す。 In general formula (i), R 1 represents an alkylene group having 1 to 30 carbon atoms, and M 1 represents a hydrogen atom, a metal atom, or ammonium.

Figure 2010060935
Figure 2010060935

一般式(ii)中、Rは炭素原子数1〜30のアルキレン基を表し、M、M及びMは、各々独立に、水素原子、金属原子又はアンモニウムを表す。 In General Formula (ii), R 2 represents an alkylene group having 1 to 30 carbon atoms, and M 2 , M 3, and M 4 each independently represent a hydrogen atom, a metal atom, or ammonium.

一般式(i)で表される化合物であるカルボキシアルキルチオ無水コハク酸又はその塩類、一般式(ii)で表される化合物であるカルボキシアルキルチオコハク酸又はその塩類において、R及びRはそれぞれ炭素原子数1〜30のアルキレン基であり、直鎖状でも分岐していてもよい。該アルキレン基の具体例としてエチレン基、プロピレン基、ブチレン基、ペンチレン基、ヘキシレン基、オクチレン基、ノニレン基、デシレン基、ウンデシレン基、ドデシレン基、トリデシレン基、テトラデシレン基、ペンタデシレン基、ヘキサデシレン基、ヘプタデシレン基、オクタデシレン基、ノナデシレン基、アイコシレン基、ヘンイコシレン基、ドコシレン基、トリコシレン基、テトラコシレン基、ペンタコシレン基、ヘキサコシレン基、オクタコシレン基、ノナコシレン基、トリアコンチレン基などが挙げられる。これらの中でも炭素数原子数1〜18のアルキレン基が好ましい。 In the carboxyalkylthiosuccinic anhydride or a salt thereof which is a compound represented by the general formula (i), in the carboxyalkylthiosuccinic acid or a salt thereof which is a compound represented by the general formula (ii), R 1 and R 2 are each carbon. It is an alkylene group having 1 to 30 atoms, and may be linear or branched. Specific examples of the alkylene group include ethylene group, propylene group, butylene group, pentylene group, hexylene group, octylene group, nonylene group, decylene group, undecylene group, dodecylene group, tridecylene group, tetradecylene group, pentadecylene group, hexadecylene group, heptadecylene. Group, octadecylene group, nonadecylene group, eicosylene group, heicosylene group, docosylene group, tricosylene group, tetracosylene group, pentacosylene group, hexacosylene group, octacosylene group, nonacosylene group, triaconylene group and the like. Among these, an alkylene group having 1 to 18 carbon atoms is preferable.

一般式(i)及び一般式(ii)において、M、M、M及びMが表す金属原子は一価に相当する金属原子であって、具体的にリチウム、ナトリウム、カリウムなどのアルカリ金属である一価の金属原子、カルシウム、マグネシウム、亜鉛、アルミニウム、鉄、コバルト、ニッケル、銅、錫などが挙げられる。該金属原子としては、中でも、リチウム、ナトリウム、カリウム、カルシウム、マグネシウムが好ましい。ここで金属原子として二価以上の金属原子については、該金属原子をその価数で除した仮想的な金属原子を一価に相当する金属原子とし、例えばカルシウム、マグネシウムなどの二価の金属であるときは、Ca1/2、Mg1/2などと表され、アルミニウムのような三価の金属のときはAl1/3と表される。実際は、一般式(i)で表される化合物においては、二価の金属原子の場合は、その1個が2分子を架橋する構造となり、三価の金属の場合は、その1個が3分子を架橋する構造となる。一方、一般式(ii)で表される化合物においては、二価の金属原子1個がM、MおよびMのうち2に相当する。また、二価の金属原子は一般式(ii)で表される化合物の1分子内のM、M及びMのうちの2に相当してもよく、一般式(ii)で表される化合物の2分子のM、M及びMのうちの2に相当し、2分子を架橋する構造となってもよい。さらに、三価の金属原子は、一般式(ii)で表される化合物の1分子ないし3分子のM、M及びMのうちの3に相当する。 In general formula (i) and general formula (ii), the metal atoms represented by M 1 , M 2 , M 3, and M 4 are monovalent metal atoms, specifically lithium, sodium, potassium, etc. Examples thereof include monovalent metal atoms which are alkali metals, calcium, magnesium, zinc, aluminum, iron, cobalt, nickel, copper, tin and the like. Among these, lithium, sodium, potassium, calcium, and magnesium are preferable as the metal atom. Here, for a metal atom having a valence of 2 or more as a metal atom, a virtual metal atom obtained by dividing the metal atom by its valence is a metal atom corresponding to a monovalent, for example, a divalent metal such as calcium or magnesium. In some cases, it is expressed as Ca 1/2 , Mg 1/2 or the like, and in the case of a trivalent metal such as aluminum, it is expressed as Al 1/3 . Actually, in the compound represented by the general formula (i), in the case of a divalent metal atom, one of them has a structure of bridging two molecules, and in the case of a trivalent metal, one of them has three molecules. It becomes the structure which bridge | crosslinks. On the other hand, in the compound represented by the general formula (ii), one divalent metal atom corresponds to two of M 2 , M 3 and M 4 . The divalent metal atom may correspond to two of M 2 , M 3 and M 4 in one molecule of the compound represented by the general formula (ii), and is represented by the general formula (ii). that M 2 of two molecules of the compound corresponds to two of of M 3 and M 4, may be a structure bridging the two molecules. Further, the trivalent metal atom corresponds to 3 of 1 to 3 molecules of M 2 , M 3 and M 4 of the compound represented by the general formula (ii).

一般式(i)及び一般式(ii)において、M、M、M及びMが表すアンモニウムは、NH 、第一級アンモニウム、第二級アンモニウム及び第三級アンモニウムを包含し、第一級アンモニウム、第二級アンモニウム及び第三級アンモニウムにおいて置換基は炭素原子数1〜24の脂肪族基及び芳香族基であり得、該脂肪族基及び芳香族基は置換基を有していてもよく、例えば水酸基などで置換されていてもよい。第二級アンモニウム及び第三級アンモニウムにおいて、各々の二置換基及び三置換基は同一でも異なっていてもよく、互いに結合して環を形成していてもよい。
上述のアンモニウム塩を誘導する有機アミンの例として、メチルアミン、エチルアミン、プロピルアミン、ブチルアミン、ヘキシルアミン、オクチルアミンなどの脂肪族アミン、エタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、イソプロパノールアミン、ジイソプロパノールアミン、トリイソプロパノールアミンなどのアルカノールアミン、アニリンなどの芳香族アミン、モルホリン、ピリジン、ピロリジン、ピペリジンなどの複素環式アミンなどが挙げられる。これらの中で、特にモルホリンおよびアルカノールアミンが好適である。
In general formula (i) and general formula (ii), ammonium represented by M 1 , M 2 , M 3 and M 4 includes NH 4 + , primary ammonium, secondary ammonium and tertiary ammonium. In primary ammonium, secondary ammonium and tertiary ammonium, the substituent may be an aliphatic group having 1 to 24 carbon atoms and an aromatic group, and the aliphatic group and aromatic group have a substituent. For example, it may be substituted with a hydroxyl group or the like. In the secondary ammonium and tertiary ammonium, each di- and tri-substituents may be the same or different, and may be bonded to each other to form a ring.
Examples of organic amines from which the above ammonium salts are derived include aliphatic amines such as methylamine, ethylamine, propylamine, butylamine, hexylamine, octylamine, ethanolamine, diethanolamine, triethanolamine, isopropanolamine, diisopropanolamine, Examples include alkanolamines such as triisopropanolamine, aromatic amines such as aniline, and heterocyclic amines such as morpholine, pyridine, pyrrolidine, and piperidine. Of these, morpholine and alkanolamine are particularly preferred.

一般式(i)及び一般式(ii)で表される化合物は、常法により製造することができ、例えば特開平8−337891号公報に開示される方法で製造することができる。例えば無水マレイン酸にメルカプトカルボン酸又はその塩を付加することにより、一般式(i)で表される化合物であるカルボキシアルキルチオ無水コハク酸又はカルボキシアルキルチオ無水コハク酸塩が得られる。また、このようにして得られた一般式(i)で表される化合物を加水分解し、そのまま、あるいは適当な塩基性化合物で中和して塩とすることにより、一般式(ii)で表される化合物を得ることができる。   The compound represented by general formula (i) and general formula (ii) can be manufactured by a conventional method, for example, can be manufactured by the method disclosed by Unexamined-Japanese-Patent No. 8-337789. For example, by adding mercaptocarboxylic acid or a salt thereof to maleic anhydride, carboxyalkylthiosuccinic anhydride or carboxyalkylthiosuccinic anhydride which is a compound represented by the general formula (i) is obtained. In addition, the compound represented by the general formula (i) thus obtained is hydrolyzed and neutralized with an appropriate basic compound to form a salt as represented by the general formula (ii). Can be obtained.

本発明に用いうる現像液中、カルボキシアルキルチオ無水コハク酸、カルボキシアルキルチオコハク酸及びそれらの塩類からなる群から選ばれる少なくとも1種の含有量は0.001〜10.0質量%が適当であり、好ましくは0.01〜1.0質量%、より好ましくは0.05〜0.5質量%である。   In the developer that can be used in the present invention, the content of at least one selected from the group consisting of carboxyalkylthiosuccinic anhydride, carboxyalkylthiosuccinic acid and salts thereof is suitably 0.001 to 10.0% by mass, Preferably it is 0.01-1.0 mass%, More preferably, it is 0.05-0.5 mass%.

アルカリ性現像液は、上記のとおり、ケイ酸アルカリ若しくは非還元糖と、塩基を含む現像液を用いるが、そのカチオン成分として従来よりLi、Na、K、NH が用いられ、中でもイオン半径の小さいカチオンを多く含有する系では、画像記録層への浸透性が高く現像性に優れる一方、画像部まで溶解して画像欠陥を生ずる。従って、アルカリ濃度を上げるには、ある程度の限度があり、画像部に欠陥を生ずることなく、且つ非画像部に画像記録層(残膜)が残存しないように完全に処理するためには、微妙な液性条件の設定が要求された。
しかし、前記カチオン成分として、そのイオン半径の大きいカチオンを用いることにより、画像記録層中への現像液の浸透性を抑制することができ、アルカリ濃度、即ち、現像性を低下させることなく、画像部の溶解抑止効果をも向上させることができる。
前記カチオン成分としては、上記アルカリ金属カチオン及びアンモニウムイオンのほか、他のカチオンも用いることができる。
As described above, a developer containing an alkali silicate or non-reducing sugar and a base is used as the alkaline developer, and Li + , Na + , K + , and NH 4 + are conventionally used as the cation component. In a system containing a large amount of cations having a small ionic radius, it has high penetrability into the image recording layer and excellent developability, but dissolves up to the image area to cause image defects. Therefore, there is a certain limit to increasing the alkali concentration, and in order to completely process the image recording layer (residual film) in the non-image area without causing defects in the image area, it is delicate. It was required to set a proper liquid condition.
However, by using a cation having a large ionic radius as the cation component, the penetrability of the developer into the image recording layer can be suppressed, and the image density can be reduced without reducing the alkali concentration, that is, the developability. The dissolution inhibiting effect of the part can also be improved.
As the cation component, in addition to the alkali metal cation and ammonium ion, other cations can be used.

更に自動現像機を用いて現像する場合には、現像液よりもアルカリ強度の高い水溶液(補充液)を現像液に加えることによって、長時間現像タンク中の現像液を交換する事なく、多量の平版印刷版原版を処理できることが知られている。本発明においてもこの補充方式が好ましく適用される。
現像液および補充液には現像性の促進や抑制、現像カスの分散および印刷版画像部の親インキ性を高める目的で必要に応じて種々の界面活性剤や有機溶剤を添加できる。好ましい界面活性剤としては、アニオン系、カチオン系、ノニオン系および両性界面活性剤があげられる。
更に現像液および補充液には必要に応じて、ハイドロキノン、レゾルシン、亜硫酸、亜硫酸水素酸などの無機酸のナトリウム塩、カリウム塩等の還元剤、更に有機カルボン酸、消泡剤、硬水軟化剤を加えることもできる。
上記現像液および補充液を用いて現像処理された印刷版は水洗水、界面活性剤等を含有するリンス液、アラビアガムや澱粉誘導体を含む不感脂化液で後処理される。本発明の平版印刷版原版により得られた印刷版の後処理としては、これらの処理を種々組み合わせて用いることができる。
Further, when developing using an automatic developing machine, an aqueous solution (replenisher) having a higher alkali strength than that of the developer is added to the developer, so that a large amount of developer can be obtained without replacing the developer in the developer tank for a long time. It is known that lithographic printing plate precursors can be processed. This replenishment method is also preferably applied in the present invention.
Various surfactants and organic solvents can be added to the developer and the replenisher as necessary for the purpose of promoting or suppressing developability, dispersing development residue, and improving the ink affinity of the printing plate image area. Preferred surfactants include anionic, cationic, nonionic and amphoteric surfactants.
If necessary, the developer and replenisher may contain reducing agents such as hydroquinone, resorcin, sulfurous acid, bisulfite, and other inorganic acids such as sodium salts and potassium salts, and organic carboxylic acids, antifoaming agents, and hard water softeners. It can also be added.
The printing plate developed using the developer and the replenisher is post-treated with a desensitizing solution containing washing water, a rinsing solution containing a surfactant or the like, gum arabic or a starch derivative. As the post-treatment of the printing plate obtained from the lithographic printing plate precursor according to the invention, these treatments can be used in various combinations.

近年、製版・印刷業界では製版作業の合理化および標準化のため、印刷版原版用の自動現像機が広く用いられている。この自動現像機は、一般に現像部と後処理部からなり、印刷版原版を搬送する装置と各処理液槽およびスプレー装置からなり、露光済みの印刷版を水平に搬送しながら、ポンプで汲み上げた各処理液をスプレーノズルから吹き付けて現像処理するものである。また、最近は処理液が満たされた処理液槽中に液中ガイドロールなどによって印刷版原版を浸漬搬送させて処理する方法も知られている。このような自動処理においては、各処理液に処理量や稼働時間等に応じて補充液を補充しながら処理することができる。
また、実質的に未使用の処理液で処理するいわゆる使い捨て処理方式も適用できる。
In recent years, automatic developing machines for printing plate precursors have been widely used in the plate making and printing industries in order to streamline and standardize plate making operations. This automatic developing machine is generally composed of a developing section and a post-processing section, and is composed of a device for transporting the printing plate precursor, each processing liquid tank and a spray device. The exposed printing plate is pumped up while being transported horizontally. Each processing solution is sprayed from a spray nozzle and developed. In addition, recently, a method is also known in which a printing plate precursor is immersed and conveyed in a processing liquid tank filled with a processing liquid by a submerged guide roll or the like. In such automatic processing, each processing solution can be processed while being supplemented with a replenisher according to the processing amount, operating time, and the like.
In addition, a so-called disposable processing method in which processing is performed with a substantially unused processing solution can also be applied.

以上のようにして得られた平版印刷版は所望により不感脂化ガムを塗布したのち、印刷工程に供することができるが、より一層の高耐刷力の平版印刷版としたい場合にはバーニング処理が施される。
平版印刷版をバーニングする場合には、バーニング前に特公昭61−2518号、同55−28062号、特開昭62−31859号、同61−159655号の各公報に記載されているような整面液で処理することが好ましい。
その方法としては、該整面液を浸み込ませたスポンジや脱脂綿にて、平版印刷版上に塗布するか、整面液を満たしたバット中に印刷版を浸漬して塗布する方法や、自動コーターによる塗布などが適用される。また、塗布した後でスキージ、あるいは、スキージローラーで、その塗布量を均一にすることは、より好ましい結果を与える。
整面液の塗布量は一般に0.03〜0.8g/m2 (乾燥質量)が適当である。
The lithographic printing plate obtained as described above can be subjected to a printing process after applying a desensitized gum if desired. However, if a lithographic printing plate having a higher printing durability is desired, a burning treatment is performed. Is given.
In the case of burning a lithographic printing plate, the preparation as described in JP-B-61-2518, JP-A-55-28062, JP-A-62-31859 and JP-A-61-159655 is performed before burning. It is preferable to treat with a surface liquid.
As its method, with a sponge or absorbent cotton soaked with the surface-adjusting liquid, it is applied onto a lithographic printing plate, or a method of applying the printing plate by dipping in a vat filled with the surface-adjusting liquid, Application by an automatic coater is applied. Further, it is more preferable to make the coating amount uniform with a squeegee or a squeegee roller after coating.
In general, the amount of surface-adjusting solution applied is suitably 0.03 to 0.8 g / m 2 (dry mass).

整面液が塗布された平版印刷版は必要であれば乾燥された後、バーニングプロセッサー(たとえば富士写真フイルム(株)より販売されているバーニングプロセッサー:BP−1300)などで高温に加熱される。この場合の加熱温度及び時間は、画像を形成している成分の種類にもよるが、100〜300℃の範囲で1〜20分の範囲が好ましい。
バーニング処理された平版印刷版は、必要に応じて適宜、水洗、ガム引きなどの公知の処理を施こすことができるが、水溶性高分子化合物等を含有する整面液が使用された場合にはガム引きなどのいわゆる不感脂化処理を省略することができる。
この様な処理によって得られた平版印刷版はオフセット印刷機等にかけられ、多数枚の印刷に用いられる。
The lithographic printing plate coated with the surface conditioning liquid is dried if necessary, and then heated to a high temperature with a burning processor (for example, burning processor: BP-1300 sold by Fuji Photo Film Co., Ltd.). The heating temperature and time in this case are preferably in the range of 100 to 300 ° C. and in the range of 1 to 20 minutes, although depending on the type of components forming the image.
The burned lithographic printing plate can be appropriately subjected to known treatments such as washing and gumming as necessary, but when a surface-conditioning solution containing a water-soluble polymer compound or the like is used. Can omit so-called desensitizing treatment such as gumming.
The planographic printing plate obtained by such processing is applied to an offset printing machine or the like and used for printing a large number of sheets.

以下、実施例により、本発明を詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。   EXAMPLES Hereinafter, although an Example demonstrates this invention in detail, this invention is not limited to these.

(実施例1〜7、比較例1、2)
[支持体の作成]
厚さ0.03mmのアルミニウム板をナイロンブラシと400メッシュのパミストンの水懸濁液を用いその表面を砂目立てした後、水洗した。
10%水酸化ナトリウムに60℃で40秒間浸せきしてエッチングした後、流水で水洗後、20%硝酸で中和洗浄、水洗した。これをVA =12.7Vの条件下で正弦波の交番波形電流を用いて1%硝酸水溶液中で160クーロン/dm2 の陽極電気量で電解粗面化処理を行った。その表面粗さを測定したところ、0.6μm(Ra表示)であった。引き続いて30%の硝酸水溶液中に浸せきし55℃で1分間デスマットした後、20%硝酸水溶液中で、電流密度2A/dm2 のおいて厚さが2.7g/m2 になるように陽極酸化し、基板(I)を調製した。
(Examples 1-7, Comparative Examples 1 and 2)
[Create support]
An aluminum plate having a thickness of 0.03 mm was grained on a surface using a nylon brush and a 400 mesh Pamiston water suspension, and then washed with water.
Etching was performed by immersing in 10% sodium hydroxide at 60 ° C. for 40 seconds, washed with running water, neutralized with 20% nitric acid, and washed with water. This was subjected to an electrolytic surface roughening treatment in a 1% nitric acid aqueous solution with an anode electric quantity of 160 coulomb / dm 2 using a sinusoidal alternating waveform current under the condition of V A = 12.7V. The surface roughness measured was 0.6 μm (Ra indication). Subsequently, after being immersed in a 30% nitric acid aqueous solution and desmutted at 55 ° C. for 1 minute, the anode was adjusted to a thickness of 2.7 g / m 2 in a 20% nitric acid aqueous solution at a current density of 2 A / dm 2. Oxidized to prepare a substrate (I).

[親水層の形成]
このように処理された基板(I)の表面に下記組成の親水層塗布液を塗布し80℃、30秒間乾燥し、基板(II)を作製した。
乾燥後の皮膜量は20mg/m2 であった。
[Formation of hydrophilic layer]
A hydrophilic layer coating solution having the following composition was applied to the surface of the substrate (I) thus treated and dried at 80 ° C. for 30 seconds to prepare a substrate (II).
The coating amount after drying was 20 mg / m 2 .

−親水層塗布液組成−
・2−アミノエチルホスホン酸 0.06g
・エチレンジアミンテトラ(メチレンホスホン酸) 0.04g
・イオン交換水 40g
・メタノール 60g
-Hydrophilic layer coating solution composition-
・ 2-Aminoethylphosphonic acid 0.06g
・ Ethylenediaminetetra (methylenephosphonic acid) 0.04g
・ Ion exchange water 40g
・ Methanol 60g

[画像記録層の形成]
次に、下記画像形成用塗布溶液[P]を調製し、この溶液を、上記の親水層を形成したアルミニウム支持体である基板(II)に塗布し、100℃で1分間乾燥して実施例1〜7、比較例1、2のネガ型平版印刷版原版を得た。乾燥後の被覆量は1.5g/m2 であった。
−画像形成用塗布溶液[P]−
・酸発生剤(3−メトキシ−4−ジアゾジフェニルアミンのPF塩)
0.3g
・特定架橋剤又は比較架橋剤(表1記載の化合物) (表1記載の量)
・バインダーポリマー[BP−1] (表1記載の量)
・赤外線吸収剤[IK−1](下記構造) 0.2g
・ビクトリアピュアブルー染料 0.03g
・フッ素系界面活性剤 0.01g
(メガファックF−176、DIC(株)製)
・メチルエチルケトン 12g
・メタノール 10g
・1−メトキシ−2−プロパノール 8g
[Formation of image recording layer]
Next, the following image forming coating solution [P] was prepared, and this solution was applied to the substrate (II), which is an aluminum support on which the hydrophilic layer was formed, and dried at 100 ° C. for 1 minute. Negative-type planographic printing plate precursors 1 to 7 and Comparative Examples 1 and 2 were obtained. The coating amount after drying was 1.5 g / m 2 .
-Coating solution for image formation [P]-
Acid generator (PF 6 salt of 3-methoxy-4-diazodiphenylamine)
0.3g
Specific cross-linking agent or comparative cross-linking agent (compound described in Table 1) (Amount described in Table 1)
-Binder polymer [BP-1] (Amounts listed in Table 1)
・ Infrared absorber [IK-1] (the following structure) 0.2g
・ Victoria Pure Blue Dye 0.03g
・ Fluorine-based surfactant 0.01g
(Megafuck F-176, manufactured by DIC Corporation)
・ Methyl ethyl ketone 12g
・ Methanol 10g
・ 8g of 1-methoxy-2-propanol

画像形成用塗布溶液[P]に用いる、下記表1に記載の化合物の詳細は、以下の通りである。
−バインダーポリマー[BP−1]−
丸善石油化学(株)製のポリ(p−ヒドロキシスチレン)、マルカ リンカーM S−4P(商品名)
−バインダーポリマー[BP−2]−
下記構造の化合物である。
Details of the compounds described in Table 1 below used in the image-forming coating solution [P] are as follows.
-Binder polymer [BP-1]-
Poly (p-hydroxystyrene), Maruka Linker MS-4P (trade name) manufactured by Maruzen Petrochemical Co., Ltd.
-Binder polymer [BP-2]-
It is a compound of the following structure.

Figure 2010060935
Figure 2010060935

−バインダーポリマー[クレゾールノボラック樹脂]−
m−クレゾール/p−クレゾール=4/6モル比のノボラック樹脂。重量平均分子量:5000
−比較架橋剤[フェノールレゾール樹脂]−
フェノールのレゾール樹脂、重量平均分子量:1200
−比較架橋剤[HM−1]−
下記構造を化合物である。
-Binder polymer [Cresol novolac resin]-
m-cresol / p-cresol = 4/6 molar ratio of novolak resin. Weight average molecular weight: 5000
-Comparative crosslinking agent [phenol resol resin]-
Phenol resole resin, weight average molecular weight: 1200
-Comparative crosslinking agent [HM-1]-
The following structure is a compound.

Figure 2010060935
Figure 2010060935

−赤外線吸収剤[IK−1]−
下記構造の化合物である。
-Infrared absorber [IK-1]-
It is a compound of the following structure.

Figure 2010060935
Figure 2010060935

得られた実施例1〜7、比較例1及び2のネガ型平版印刷版原版を、赤外線露光機(Trendsetter3244MT,Creo社製)により、照射エネルギー133mJ/cm2で画像様に露光した。次いで、露光後の平版印刷版原版に対し、温風加熱装置(Wisconsin Oven社製)を用いて、所定の温度で60秒間加熱処理(プレヒート処理)した。
(加熱ラチチュード評価)
プレヒート処理における加熱温度を変更しながら複数回行い、プレヒート処理後、富士写真フイルム(株)製現像液、DP−4(1:8の水希釈液)にて現像して、平版印刷版を得た。このとき、露光部が画像形成するプレヒート処理の最低温度と非画像部に残膜が発生する最低温度とを測定し、下記表1に記載した。画像形成及び残膜の有無は、目視により確認した。これらの温度差が加熱ラチチュードであり、この温度差が大きいほど、加熱ラチチュードが広く、良好であると評価する。
The obtained negative lithographic printing plate precursors of Examples 1 to 7 and Comparative Examples 1 and 2 were imagewise exposed at an irradiation energy of 133 mJ / cm 2 by an infrared exposure machine (Trendsetter 3244MT, manufactured by Creo). Next, the exposed lithographic printing plate precursor was subjected to a heat treatment (preheat treatment) at a predetermined temperature for 60 seconds using a warm air heating device (manufactured by Wisconsin Oven).
(Heating latitude evaluation)
It is performed several times while changing the heating temperature in the preheating treatment, and after the preheating treatment, it is developed with a developer manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd., DP-4 (1: 8 water dilution) to obtain a lithographic printing plate. It was. At this time, the minimum temperature of the preheating process in which the exposed portion formed an image and the minimum temperature at which a residual film was generated in the non-image portion were measured and are shown in Table 1 below. The presence or absence of image formation and residual film was confirmed visually. These temperature differences are the heating latitude, and the larger the temperature difference, the wider the heating latitude and the better the evaluation.

(耐刷性評価)
前記製版工程において、プレヒート処理温度を146℃として、平版印刷版を得た。
得られた平版印刷版をハイデルベルク社製のハイデルKOR−D機にセットして、インキとして大日本インキ社製GEOS−G(N)を使用して上質紙に印刷した。5000枚印刷毎にクリーナー液(富士フイルム(株)製:「マルチクリーナー」)で版面を拭きながら印刷した。それぞれの印刷版により、正常な印刷物が得られた枚数をカウントして耐刷性の目安とした。結果を表1に示す。
(Evaluation of printing durability)
In the plate making process, a lithographic printing plate was obtained at a preheat treatment temperature of 146 ° C.
The obtained lithographic printing plate was set in a Heidel KOR-D machine manufactured by Heidelberg, and printed on fine paper using GEOS-G (N) manufactured by Dainippon Ink as ink. Printing was performed while wiping the plate surface with a cleaner liquid (manufactured by Fuji Film Co., Ltd .: “Multi-cleaner”) every 5000 sheets printed. For each printing plate, the number of sheets with normal printed matter was counted and used as a measure of printing durability. The results are shown in Table 1.

Figure 2010060935
Figure 2010060935

表1の結果より明らかなように、画像記録層に特定架橋剤を含有する本発明のネガ型平版印刷版原版は、比較架橋剤を用いたものとの対比において、製版時の加熱ラチチュードに優れ、広範なプレヒート温度条件で画像形成が可能であると共に、画像部の耐刷性が良好であり、且つ、非画像部の残膜の発生が効果的に抑制されていることがわかる。
また、特定架橋剤として、疎水性の高い官能基を有するものを用いた実施例7や、分子内にベンゼン核を3個以上含有する架橋剤やレゾール樹脂と特定架橋剤とを併用した実施例2及び実施例4において、その効果に優れることがわかる。
As is clear from the results in Table 1, the negative lithographic printing plate precursor of the present invention containing a specific crosslinking agent in the image recording layer is superior in heating latitude during plate making in comparison with that using a comparative crosslinking agent. It can be seen that image formation is possible under a wide range of preheating temperature conditions, the printing durability of the image area is good, and the generation of the remaining film in the non-image area is effectively suppressed.
Further, Example 7 using a specific cross-linking agent having a highly hydrophobic functional group, or Example using a cross-linking agent or resole resin containing three or more benzene nuclei in the molecule and a specific cross-linking agent 2 and Example 4 show that the effect is excellent.

Claims (5)

支持体上に、(A)光又は熱により分解して酸を発生する化合物、(B)下記一般式(I)で示される架橋剤、(C)バインダーポリマー、及び、(D)赤外線吸収剤を含有する画像記録層を備えるネガ型平版印刷版原版。
Figure 2010060935

前記一般式(I)中、Lは、炭素原子、水素原子、窒素原子、酸素原子及び硫黄原子から選択される1種以上の原子を含んで構成され、総原子数50個以下の連結基を表す。R,Rはそれぞれ独立に、炭素原子数1〜20の炭化水素基、アルコキシ基、ハロゲン原子、又は、ニトロ基を表し、これらはさらに、ヒドロキシル基、ハロゲン基、エーテル結合、及び、アミド結合を有していてもよい。n1,n2はそれぞれ0〜3の整数を表すが、n1とn2が同時に0となることはない。
、Rはそれぞれ独立に、水素原子又は炭素原子数1〜20の炭化水素基を表す。n3,n4はそれぞれ0〜3の整数を表すが、n3とn4が同時に0となることはない。
m1,m2はそれぞれ0〜3の整数を表すが、m1とm2が同時に0となることはない。
On the support (A) a compound that decomposes by light or heat to generate an acid, (B) a crosslinking agent represented by the following general formula (I), (C) a binder polymer, and (D) an infrared absorber A negative lithographic printing plate precursor comprising an image recording layer containing
Figure 2010060935

In the general formula (I), L 1 is composed of one or more atoms selected from a carbon atom, a hydrogen atom, a nitrogen atom, an oxygen atom, and a sulfur atom, and is a linking group having a total number of atoms of 50 or less. Represents. R 1 and R 2 each independently represents a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, an alkoxy group, a halogen atom, or a nitro group, which further includes a hydroxyl group, a halogen group, an ether bond, and an amide. You may have a bond. n1 and n2 each represent an integer of 0 to 3, but n1 and n2 are not 0 at the same time.
R 3 and R 4 each independently represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms. n3 and n4 each represent an integer of 0 to 3, but n3 and n4 are not 0 simultaneously.
m1 and m2 each represent an integer of 0 to 3, but m1 and m2 are not 0 at the same time.
前記一般式(I)で示される架橋剤が、下記一般式(I−2)で表される化合物である請求項1記載のネガ型平版印刷版原版。
Figure 2010060935

前記一般式(I−2)中、Lは、炭素原子、水素原子、窒素原子、酸素原子及び硫黄原子から選択される1種以上の原子を含んで構成され、総原子数50個以下の連結基を表す。R,Rはそれぞれ独立に、炭素原子数1〜20の炭化水素基、アルコキシ基、ハロゲン原子、又は、ニトロ基を表し、これらはさらに、ヒドロキシル基、ハロゲン基、エーテル結合、及び、アミド結合を有していてもよい。R、Rはそれぞれ独立に、水素原子又は炭素原子数1〜20の炭化水素基を表す。
The negative lithographic printing plate precursor according to claim 1, wherein the crosslinking agent represented by the general formula (I) is a compound represented by the following general formula (I-2).
Figure 2010060935

In the general formula (I-2), L 1 is a carbon atom, a hydrogen atom, a nitrogen atom, is configured to include one or more atoms selected from oxygen atom and sulfur atom, the total atomic number less 50 Represents a linking group. R 1 and R 2 each independently represents a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, an alkoxy group, a halogen atom, or a nitro group, which further includes a hydroxyl group, a halogen group, an ether bond, and an amide You may have a bond. R 3 and R 4 each independently represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms.
前記画像記録層が、さらに、分子内にベンゼン核を3個以上含有する架橋剤及びレゾール樹脂から選択される1種以上の架橋剤を含有する請求項1又は請求項2記載のネガ型平版印刷版原版。   3. The negative lithographic printing according to claim 1, wherein the image recording layer further contains at least one crosslinking agent selected from a crosslinking agent containing three or more benzene nuclei in a molecule and a resole resin. Version original edition. 前記一般式(I)で示される架橋剤の含有量が、前記画像記録層の全固形分中5〜90質量%の範囲である請求項1から請求項3のいずれか1項に記載のネガ型平版印刷版原版。   The negative according to any one of claims 1 to 3, wherein the content of the crosslinking agent represented by the general formula (I) is in the range of 5 to 90% by mass in the total solid content of the image recording layer. A lithographic printing plate precursor. 前記請求項1から請求項4のいずれか1項に記載のネガ型平版印刷版原版を、画像陽に露光する露光工程と、露光後に40〜200℃の条件で加熱するプレヒート工程と、アルカリ現像液にて未露光部を除去する現像工程とを含む、平版印刷版原版の製版方法。   The negative lithographic printing plate precursor according to any one of claims 1 to 4, an exposure step of exposing the image positively, a preheating step of heating at 40 to 200 ° C after the exposure, and alkali development A plate making method of a lithographic printing plate precursor comprising a development step of removing an unexposed portion with a liquid.
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