JPH108001A - Tacky adhesive tape and its application - Google Patents

Tacky adhesive tape and its application

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JPH108001A
JPH108001A JP8164828A JP16482896A JPH108001A JP H108001 A JPH108001 A JP H108001A JP 8164828 A JP8164828 A JP 8164828A JP 16482896 A JP16482896 A JP 16482896A JP H108001 A JPH108001 A JP H108001A
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adhesive
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adhesive tape
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To prepare a tacky adhesive tape, having a tacky adhesive layer formed of an energy ray-hardening tacky component, an epoxy resin and a phenolic resin, capable of giving a cured article having high shock resistance, excellent in balance between a shear strength and a peel strength and useful for a silicone wafer, etc. SOLUTION: This tacky adhesive tape has a tacky adhesive layer which is formed of (A) an energy ray (e.g. ultraviolet rays)-hardening tacky component such as an acrylic compound, (B) an epoxy resin made of bisphenol, etc., and (C) a phenolic resin, and preferably contains (D) a heat activation-type latent epoxy resin hardening agent and/or an epoxy resin hardening accelerator. Further, the component C is compounded with the component B at a ratio of epoxy group to phenolic hydroxyl group of 0.2-4. Furthermore, it is preferable that an IC-chip is pasted on the tacky adhesive layer of the tacky adhesive tape, the layer is irradiated with energy rays for fixing the IC-chip on the tacky adhesive layer. Subsequently, the IC-chip is loaded on a lead frame through the tacky adhesive layer, and then heated to adhere the IC-chip to the lead frame.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の技術分野】本発明は、新規な粘接着テープおよ
びその使用方法に関する。さらに詳しくは、本発明は、
特にシリコンウェハ等をダイシングし、さらにリードフ
レームにダイボンディングする工程で使用するのに特に
適した粘接着テープおよびその使用方法に関する。
TECHNICAL FIELD The present invention relates to a novel adhesive tape and a method for using the same. More specifically, the present invention provides
In particular, the present invention relates to a pressure-sensitive adhesive tape which is particularly suitable for use in a process of dicing a silicon wafer or the like and further performing die bonding to a lead frame and a method of using the same.

【0002】[0002]

【発明の技術的背景】シリコン、ガリウムヒ素などの半
導体ウェハは大径の状態で製造され、このウェハは素子
小片(ICチップ)に切断分離(ダイシング)された後
に次の工程であるマウント工程に移されている。この
際、半導体ウェハは予じめ粘着シートに貼着された状態
でダイシング、洗浄、乾燥、エキスパンディング、ピッ
クアップの各工程が加えられた後、次工程のダイボンデ
ィング工程に移送される。
BACKGROUND OF THE INVENTION Semiconductor wafers of silicon, gallium arsenide and the like are manufactured in a large-diameter state, and this wafer is cut and separated (diced) into element pieces (IC chips) and then subjected to the next step of a mounting step. Has been moved. At this time, the dicing, cleaning, drying, expanding, and pick-up steps are added to the semiconductor wafer in a state in which the semiconductor wafer is attached to the adhesive sheet in advance, and the semiconductor wafer is transferred to the next die bonding step.

【0003】このような半導体ウェハのダイシング工程
からピックアップ工程に至る工程で用いられる粘着シー
トとしては、ダイシング工程から乾燥工程まではウェハ
チップに対して充分な接着力を有しており、ピックアッ
プ時にはウェハチップに粘着剤が付着しない程度の接着
力を有しているものが望まれている。
[0003] Such an adhesive sheet used in the steps from the dicing step to the pick-up step of a semiconductor wafer has a sufficient adhesive force to the wafer chip from the dicing step to the drying step, and the wafer is picked up during the pick-up. It is desired that the chip has such an adhesive strength that an adhesive does not adhere to the chip.

【0004】ピックアップされたチップは、ダイボンデ
ィング工程において、エポキシ接着剤などのダイ接着用
接着剤を介してリードフレームに接着され、半導体装置
が製造されている。しかしながら、チップが非常に小さ
な場合には、適量の接着剤を塗布することが困難であ
り、ICチップから接着剤がはみ出したり、あるいはI
Cチップが大きい場合には、接着剤量が不足するなど、
充分な接着力を有するように接着を行うことができない
などという問題点があった。またこのようなダイ接着用
接着剤の塗布作業は煩雑でもあり、プロセスを簡略化す
るためにも改善が要求されている。
[0004] In a die bonding step, the picked-up chip is bonded to a lead frame via a die bonding adhesive such as an epoxy bonding agent to manufacture a semiconductor device. However, when the chip is very small, it is difficult to apply an appropriate amount of adhesive, and the adhesive may protrude from the IC chip, or the IC may not be applied.
If the C chip is large, the amount of adhesive will be insufficient.
There has been a problem that bonding cannot be performed so as to have a sufficient bonding strength. In addition, such an operation of applying the die-bonding adhesive is complicated, and improvement is required to simplify the process.

【0005】このような問題点を解決するために、ウェ
ハ固定機能とダイ接着機能とを同時に兼ね備えたウェハ
貼着用粘着シートが種々提案されている(たとえば、特
開平2−32181号公報)。
In order to solve such a problem, various pressure-sensitive adhesive sheets for attaching a wafer having both a wafer fixing function and a die bonding function have been proposed (for example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2-32181).

【0006】特開平2−32181号公報には、(メ
タ)アクリル酸エステル共重合体、エポキシ樹脂、光重
合性低分子化合物、熱活性型潜在性エポキシ樹脂硬化剤
および光重合開始剤よりなる組成物から形成される粘接
着層と、基材とからなる粘接着テープが開示されてい
る。この粘接着層は、ウェハダイシング時には、ウェハ
を固定する機能を有し、ダイシング終了後、エネルギー
線を照射すると硬化し、基材との間の接着力が低下す
る。したがって、チップのピックアップを行うと、粘接
着層は、チップとともに剥離する。粘接着層を伴ったI
Cチップをリードフレームに載置し、加熱すると、粘接
着層が接着力を発現し、ICチップとリードフレームと
の接着が完了する。
JP-A-2-32181 discloses a composition comprising a (meth) acrylate copolymer, an epoxy resin, a photopolymerizable low-molecular compound, a heat-active latent epoxy resin curing agent and a photopolymerization initiator. An adhesive tape comprising an adhesive layer formed from a product and a substrate is disclosed. The adhesive layer has a function of fixing the wafer at the time of wafer dicing, and after the dicing is completed, is hardened by irradiating with an energy ray, and the adhesive strength between the substrate and the base material is reduced. Therefore, when the chip is picked up, the adhesive layer peels off together with the chip. I with adhesive layer
When the C chip is placed on the lead frame and heated, the adhesive layer develops an adhesive force, and the bonding between the IC chip and the lead frame is completed.

【0007】上記公報に開示されているウェハ貼着用粘
着シートは、いわゆるダイレクトダイボンディングを可
能にし、ダイ接着用接着剤の塗布工程を省略できるよう
になる。
[0007] The pressure-sensitive adhesive sheet for attaching a wafer disclosed in the above-mentioned publication enables so-called direct die bonding, and the step of applying a die bonding adhesive can be omitted.

【0008】ところで、上記の粘接着テープの粘接着層
は、エネルギー線硬化および熱硬化を経たダイボンド後
には全ての成分が硬化し、チップとリードフレームとを
非常に強固に接着するが、さらに靱性および耐衝撃性の
向上が求められている。
[0008] By the way, the adhesive layer of the above-mentioned adhesive tape has a very strong adhesion between the chip and the lead frame after die bonding after energy beam curing and heat curing. Further, improvement in toughness and impact resistance is required.

【0009】さらに、半導体産業においては、リードフ
レーム用の素材として鉄−ニッケル系合金(FeNi合
金)と銅系合金の2種類が用いられている。中でもFe
Ni合金は、接着性や熱寸法安定性の良好な素材として
用いられてきた。しかし、最近の生産性向上や高集積化
に伴い、高熱をいち速く放熱できる銅系合金製のリード
フレームが主流になりつつある。また銅系合金は、Fe
Ni合金に比べてコスト的にも有利である。しかしなが
ら、この銅系合金製のリードフレームは、熱伝導性が良
好な分、上述の接着性や熱寸法安定性に劣り、その結
果、チップの反りの増大や接着・密着不良によるパッケ
ージクラック発生など信頼性の面で問題がある。
Further, in the semiconductor industry, two types of materials are used as materials for lead frames: iron-nickel alloys (FeNi alloys) and copper alloys. Among them, Fe
Ni alloys have been used as materials having good adhesiveness and thermal dimensional stability. However, with the recent improvement in productivity and higher integration, lead frames made of copper-based alloys that can quickly radiate high heat are becoming mainstream. The copper alloy is Fe
It is more cost-effective than Ni alloy. However, this copper-based alloy lead frame is inferior in the aforementioned adhesiveness and thermal dimensional stability because of its good thermal conductivity, resulting in increased chip warpage and the occurrence of package cracks due to poor adhesion and adhesion. There is a problem with reliability.

【0010】また、装置の高機能化・高集積化に伴い、
半導体自体も高集積化・高機能化され、多ピン化・チッ
プの大型化、高消費電力化が進んでいる。一方、パッケ
ージに対しても実装の高密度化や高機能化が求めれてき
ている。従来、半導体チップとリードフレームとの接着
に用いられていた銀ペーストでは、充分な接着性が得ら
れないため、この様な小型、薄型、面実装化の要求を達
成できなかった。このため、銀ペーストに代わる、剪断
強度と剥離強度とのバランスに優れた接着剤組成物が望
まれている。
[0010] In addition, with the advancement of functions and integration of devices,
The semiconductor itself has also become highly integrated and sophisticated, and the number of pins, the size of chips, and the power consumption have been increasing. On the other hand, packaging has also been required to have higher mounting density and higher functionality. Conventionally, silver paste used for bonding a semiconductor chip and a lead frame cannot provide sufficient adhesiveness, and thus cannot meet such requirements for small size, thinness, and surface mounting. For this reason, there is a demand for an adhesive composition that is excellent in balance between shear strength and peel strength, replacing silver paste.

【0011】このような剪断強度と剥離強度とのバラン
スに優れた接着剤を備えた粘接着テープとして、既に本
願発明者らは、特願平7−45648号において、
(A)エネルギー線硬化型粘着成分と、(B)熱硬化型
接着成分と、(C)可とう性成分とから形成されている
粘接着層を有する粘接着テープを提案している。この粘
接着テープは、上記のような技術的課題の解消には有効
ではあるが、日々進歩を遂げる最先端の技術分野である
半導体産業においては、常に改良・改善が要求され続け
ている。特に、最終製品である半導体パッケージ内に組
み込まれるダイボンド用接着剤については、厳しい熱湿
条件下(たとえば85℃、85%RH、一週間)におい
ても充分な接着物性を保持することが要求され、改良が
検討されている。
As a pressure-sensitive adhesive tape provided with an adhesive having an excellent balance between shear strength and peel strength, the present inventors have already disclosed in Japanese Patent Application No. 7-45648.
There has been proposed a pressure-sensitive adhesive tape having a pressure-sensitive adhesive layer formed of (A) an energy ray-curable adhesive component, (B) a thermosetting adhesive component, and (C) a flexible component. Although this adhesive tape is effective in solving the above-mentioned technical problems, improvement and improvement are constantly required in the semiconductor industry, which is a state-of-the-art technical field that is constantly evolving. In particular, an adhesive for die bonding incorporated in a semiconductor package as a final product is required to maintain sufficient adhesive properties even under severe heat and humidity conditions (for example, 85 ° C., 85% RH, one week), Improvements are being considered.

【0012】[0012]

【発明の目的】本発明は、上記のような従来技術に鑑み
てなされたものであって、エネルギー線硬化性と加熱硬
化性とを有し、ダイシングの際にはダイシングテープと
して使用することができ、マウントの際には接着剤とし
て使用することができ、かつ最終的には耐衝撃性の高い
硬化物を与えることができ、しかも剪断強度と剥離強度
とのバランスに優れ、厳しい熱湿条件下においても充分
な接着物性を保持しうる粘接着層を備えた粘接着テープ
およびその使用方法を提供することを目的としている。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above-mentioned prior art, and has energy ray curability and heat curability, and can be used as a dicing tape in dicing. It can be used as an adhesive when mounting, and can finally give a cured product with high impact resistance, and has an excellent balance between shear strength and peel strength, severe heat and humidity conditions It is an object of the present invention to provide a pressure-sensitive adhesive tape having a pressure-sensitive adhesive layer capable of maintaining sufficient adhesive properties even below, and a method of using the same.

【0013】[0013]

【発明の概要】本発明に係る粘接着テープは、(A)エ
ネルギー線硬化型粘着成分と、(B)エポキシ樹脂と、
(C)フェノール系樹脂とから形成されている粘接着層
を有していることを特徴としている。
SUMMARY OF THE INVENTION An adhesive tape according to the present invention comprises (A) an energy ray-curable adhesive component, (B) an epoxy resin,
(C) It is characterized by having an adhesive layer formed of a phenolic resin.

【0014】また、本発明においては、前記粘接着層
に、該フェノール系樹脂(C)が、該エポキシ樹脂
(B)に対し、エポキシ基とフェノール性水酸基との比
(エポキシ基/フェノール性水酸基)が、0.2〜4と
なる割合で含有されてなることが好ましい。
In the present invention, the phenolic resin (C) may be contained in the adhesive layer in a ratio of an epoxy group to a phenolic hydroxyl group (epoxy group / phenolic resin) with respect to the epoxy resin (B). (Hydroxyl group) in a ratio of 0.2 to 4.

【0015】また、上記粘接着層には、さらに(D)熱
活性型潜在性エポキシ樹脂硬化剤および/またはエポキ
シ樹脂硬化促進剤が含まれていることが好ましい。本発
明に係る粘接着テープの使用方法は、上記粘接着テープ
の粘接着層にICチップを貼付し、エネルギー線を照射
して該粘接着層にICチップを固着させた後、該ICチ
ップをリードフレーム上に該粘接着層を介して載置し、
次いで加熱することにより該粘接着層に接着力を発現さ
せて該ICチップとリードフレームとを接着することを
特徴としている。
The adhesive layer preferably further contains (D) a heat-active latent epoxy resin curing agent and / or an epoxy resin curing accelerator. The method for using the pressure-sensitive adhesive tape according to the present invention is as follows: an IC chip is attached to the pressure-sensitive adhesive layer of the pressure-sensitive adhesive tape, and the IC chip is fixed to the pressure-sensitive adhesive layer by irradiating an energy ray. Placing the IC chip on a lead frame via the adhesive layer,
Then, by heating, the adhesive force is exerted on the adhesive layer to adhere the IC chip to the lead frame.

【0016】照射するエネルギー線としては、紫外線が
好ましい。
The energy beam to be irradiated is preferably an ultraviolet ray.

【0017】[0017]

【発明の具体的説明】以下、本発明に係る粘接着テープ
およびその使用方法について、具体的に説明する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION Hereinafter, the pressure-sensitive adhesive tape according to the present invention and a method for using the same will be described in detail.

【0018】本発明に係る粘接着テープの粘接着層は、
(A)エネルギー線硬化型粘着成分と、(B)エポキシ
樹脂と、(C)フェノール系樹脂とを必須成分とし、必
要に応じさらに(D)熱活性型潜在性エポキシ樹脂硬化
剤および/またはエポキシ樹脂硬化促進剤が含まれてな
る。
The adhesive layer of the adhesive tape according to the present invention comprises:
(A) An energy ray-curable pressure-sensitive adhesive component, (B) an epoxy resin, and (C) a phenolic resin are essential components, and if necessary, (D) a heat-active latent epoxy resin curing agent and / or epoxy A resin curing accelerator is included.

【0019】(A)エネルギー線硬化型粘着成分は、紫
外線、電子線等のエネルギー線の照射前には、充分な接
着力を有し、エネルギー線の照射を受けると成分が硬化
し粘着性が消失する成分を指す。このようなエネルギー
線硬化型粘着成分は種々知られてり、本発明においては
特に制限されることなく従来より公知の様々なエネルギ
ー線硬化型粘着成分を用いることができる。このような
エネルギー線硬化型粘着成分の一例としては、(A-1) ア
クリル系粘着剤、(A-2) エネルギー線重合型化合物およ
び必要に応じ(A-3) 光重合開始剤からなる粘着組成物を
あげることができる。
(A) The energy ray-curable pressure-sensitive adhesive component has a sufficient adhesive strength before being irradiated with an energy ray such as an ultraviolet ray or an electron beam. Refers to components that disappear. Various such energy ray-curable pressure-sensitive adhesive components are known, and various conventionally known energy ray-curable pressure-sensitive adhesive components can be used without any particular limitation in the present invention. Examples of such an energy ray-curable pressure-sensitive adhesive component include (A-1) an acrylic pressure-sensitive adhesive, (A-2) an energy ray-polymerizable compound and, if necessary, (A-3) a photopolymerization initiator. Compositions can be given.

【0020】アクリル系粘着剤(A-1) としては、たとえ
ば、(メタ)アクリル酸エステルモノマーおよび(メ
タ)アクリル酸誘導体から導かれる構成単位とからなる
(メタ)アクリル酸エステル共重合体が挙げられる。こ
こで(メタ)アクリル酸エステルモノマーとしては、好
ましくはアルキル基の炭素数が1〜18である(メタ)
アクリル酸アルキルエステル、たとえばアクリル酸メチ
ル、メタクリル酸メチル、アクリル酸エチル、メタクリ
ル酸エチル、アクリル酸プロピル、メタクリル酸プロピ
ル、アクリル酸ブチル、メタクリル酸ブチル等が用いら
れる。また、(メタ)アクリル酸誘導体としては、たと
えば(メタ)アクリル酸、(メタ)アクリル酸グリシジ
ル、(メタ)アクリル酸ヒドロキシエチル等を挙げるこ
とができる。
The acrylic pressure-sensitive adhesive (A-1) includes, for example, a (meth) acrylate copolymer comprising a structural unit derived from a (meth) acrylate monomer and a (meth) acrylic acid derivative. Can be Here, as the (meth) acrylate monomer, the alkyl group preferably has 1 to 18 carbon atoms (meth)
Alkyl acrylates such as methyl acrylate, methyl methacrylate, ethyl acrylate, ethyl methacrylate, propyl acrylate, propyl methacrylate, butyl acrylate, butyl methacrylate and the like are used. Examples of the (meth) acrylic acid derivative include (meth) acrylic acid, glycidyl (meth) acrylate, hydroxyethyl (meth) acrylate, and the like.

【0021】(メタ)アクリル酸誘導体として(メタ)
アクリル酸グリシジルを使用した場合、共重合体中にお
ける(メタ)アクリル酸グリシジルから誘導される成分
単位の含有率は通常は0〜80モル%、好ましくは5〜
50モル%である。グリシジル基を導入することによ
り、後述する熱硬化型接着成分としてのエポキシ樹脂と
の相溶性が向上し、また硬化後のTgが高くなり耐熱性
も向上する。(メタ)アクリル酸から誘導される成分単
位の含有率は通常は0〜40モル%、好ましくは5〜2
0モル%である。また、ヒドロキシエチルアクリレート
等の水酸基含有モノマーを導入することにより、被着体
との密着性や粘着物性のコントロールが容易になる。
(Meth) acrylic acid derivative (Meth)
When glycidyl acrylate is used, the content of the component unit derived from glycidyl (meth) acrylate in the copolymer is usually 0 to 80 mol%, preferably 5 to 80 mol%.
50 mol%. By introducing a glycidyl group, compatibility with an epoxy resin as a thermosetting adhesive component described later is improved, and Tg after curing is increased, and heat resistance is also improved. The content of the component unit derived from (meth) acrylic acid is usually 0 to 40 mol%, preferably 5 to 2 mol%.
0 mol%. Further, by introducing a hydroxyl group-containing monomer such as hydroxyethyl acrylate, it becomes easy to control the adhesion to the adherend and the adhesive properties.

【0022】アクリル系粘着剤(A-1) の分子量は、好ま
しくは100000以上であり、特に好ましくは150
000〜1000000である。またアクリル系粘着剤
のガラス転移温度は、通常20℃以下、好ましくは−7
0〜0℃程度であり、常温(23℃)においては粘着性
を有する。
The molecular weight of the acrylic pressure-sensitive adhesive (A-1) is preferably 100,000 or more, and particularly preferably 150 or more.
000 to 1,000,000. The glass transition temperature of the acrylic pressure-sensitive adhesive is usually 20 ° C. or lower, preferably −7 ° C.
It is about 0 to 0 ° C. and has tackiness at normal temperature (23 ° C.).

【0023】エネルギー線重合型化合物(A-2) は、紫外
線、電子線等のエネルギー線の照射を受けると重合硬化
する化合物である。この化合物は、分子内に少なくとも
1つの重合性二重結合を有し、通常は、分子量が100
〜30000、好ましくは300〜10000程度であ
る。このようなエネルギー線重合型化合物(A-2) として
は、たとえば特開昭60−196,956号公報および
特開昭60−223,139号公報に開示されているよ
うな低分子量化合物が広く用いられ、具体的には、トリ
メチロールプロパントリアクリレート、テトラメチロー
ルメタンテトラアクリレート、ペンタエリスリトールト
リアクリレート、ジペンタエリスリトールモノヒドロキ
シペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ
アクリレートあるいは1,4−ブチレングリコールジア
クリレート、1,6−ヘキサンジオールジアクリレー
ト、ポリエチレングリコールジアクリレート、市販のオ
リゴエステルアクリレートなどのアクリレート系化合物
が用いられる。
The energy ray polymerizable compound (A-2) is a compound which polymerizes and cures when irradiated with energy rays such as ultraviolet rays and electron beams. This compound has at least one polymerizable double bond in the molecule and usually has a molecular weight of 100
3030,000, preferably about 300 to 10,000. As such an energy ray-polymerizable compound (A-2), for example, low molecular weight compounds as disclosed in JP-A-60-196,956 and JP-A-60-223,139 are widely used. Used, specifically, trimethylolpropane triacrylate, tetramethylolmethanetetraacrylate, pentaerythritol triacrylate, dipentaerythritol monohydroxypentaacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate or 1,4-butylene glycol diacrylate, 1, Acrylate compounds such as 6-hexanediol diacrylate, polyethylene glycol diacrylate, and commercially available oligoester acrylate are used.

【0024】さらにポリエステル型またはポリエーテル
型のウレタンアクリレートオリゴマーやポリエステルア
クリレート、ポリエーテルアクリレート、エポキシ変性
アクリレート等を用いることができる。
Further, polyester-type or polyether-type urethane acrylate oligomers, polyester acrylates, polyether acrylates, epoxy-modified acrylates and the like can be used.

【0025】上記のような成分(A-1) および(A-2) から
なる粘接着剤組成物は、エネルギー線照射により硬化す
る。エネルギー線としては、具体的には、紫外線、電子
線等が用いられる。
The adhesive composition comprising the above components (A-1) and (A-2) is cured by irradiation with energy rays. As the energy beam, specifically, an ultraviolet ray, an electron beam, or the like is used.

【0026】エネルギー線として紫外線を用いる場合に
は、上記の組成物中に光重合開始剤(A-3) を混入するこ
とにより、重合硬化時間ならびに光線照射量を少なくす
ることができる。
When an ultraviolet ray is used as the energy ray, the polymerization curing time and the amount of light irradiation can be reduced by mixing the photopolymerization initiator (A-3) into the above composition.

【0027】このような光重合開始剤(A-3) としては、
具体的には、ベンゾフェノン、アセトフェノン、ベンゾ
イン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエ
ーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾイン
イソブチルエーテル、ベンゾイン安息香酸、ベンゾイン
安息香酸メチル、ベンゾインジメチルケタール、2,4-ジ
エチルチオキサンソン、α-ヒドロキシシクロヘキシル
フェニルケトン、ベンジルジフェニルサルファイド、テ
トラメチルチウラムモノサルファイド、アゾビスイソブ
チロニトリル、ベンジル、ジベンジル、ジアセチル、β
−クロールアンスラキノンなどが挙げられる。
As such a photopolymerization initiator (A-3),
Specifically, benzophenone, acetophenone, benzoin, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin isopropyl ether, benzoin isobutyl ether, benzoin benzoic acid, methyl benzoin benzoate, benzoin dimethyl ketal, 2,4-diethylthioxanthone, α -Hydroxycyclohexyl phenyl ketone, benzyl diphenyl sulfide, tetramethylthiuram monosulfide, azobisisobutyronitrile, benzyl, dibenzyl, diacetyl, β
-Chloranthraquinone and the like.

【0028】本発明で用いられるエネルギー線硬化型粘
着成分(A)は、好ましくは上記成分(A-1)〜(A-3) か
らなり、その配合比は各成分の特性に応じ適宜に設定さ
れるが、一般的には成分(A-1)100重量部に対して、
成分(A-2) は50〜150重量部、好ましくは80〜1
25重量部程度、成分(A-3) は1.5〜4.5重量部、
好ましくは2.4〜3.8重量部程度の割合で用いるこ
とが好ましい。
The energy ray-curable pressure-sensitive adhesive component (A) used in the present invention preferably comprises the above components (A-1) to (A-3), and the mixing ratio is appropriately set according to the characteristics of each component. However, generally, with respect to 100 parts by weight of the component (A-1),
Component (A-2) is 50 to 150 parts by weight, preferably 80 to 1 part by weight.
About 25 parts by weight, component (A-3) is 1.5 to 4.5 parts by weight,
Preferably, it is used in a ratio of about 2.4 to 3.8 parts by weight.

【0029】上記のようなエネルギー線硬化型粘着成分
(A)は、次に挙げるエポキシ樹脂(B)100重量部
に対して、通常15〜100重量部、好ましくは18〜
70重量部、特に好ましくは20〜50重量部の量で用
いられる。
The energy ray-curable pressure-sensitive adhesive component (A) is usually 15 to 100 parts by weight, preferably 18 to 100 parts by weight, based on 100 parts by weight of the following epoxy resin (B).
It is used in an amount of 70 parts by weight, particularly preferably 20 to 50 parts by weight.

【0030】エポキシ樹脂(B)は、エネルギー線によ
っては硬化しないが、加熱を受けると三次元網状化し、
被着体を強固に接着する性質を有する。このようなエポ
キシ樹脂(B)としては、従来より公知の種々のエポキ
シ樹脂が用いられるが、通常は、分子量300〜200
0程度のものが好ましく、特に分子量300〜500、
好ましくは330〜400の常態液状のエポキシ樹脂
と、分子量400〜2500、好ましくは500〜20
00の常態固体のエポキシ樹脂とをブレンドした形で用
いるのが望ましい。また、本発明において好ましく使用
されるエポキシ樹脂のエポキシ当量は通常50〜500
0g/eqである。このようなエポキシ樹脂としては、具体
的には、ビスフェノールA、ビスフェノールF、レゾル
シノール、フェニルノボラック、クレゾールノボラック
などのフェノール類のグリシジルエーテル;ブタンジオ
ール、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコ
ールなどのアルコール類のグリシジルエーテル;フタル
酸、イソフタル酸、テトラヒドロフタル酸などのカルボ
ン酸のグリシジルエーテル;アニリンイソシアヌレート
などの窒素原子に結合した活性水素をグリシジル基で置
換したグリシジル型もしくはアルキルグリシジル型のエ
ポキシ樹脂;ビニルシクロヘキサンジエポキシド、3,4-
エポキシシクロヘキシルメチル-3,4-ジシクロヘキサン
カルボキシレート、2-(3,4-エポキシ)シクロヘキシル-
5,5-スピロ(3,4-エポキシ)シクロヘキサン-m-ジオキサ
ンなどのように、分子内の炭素−炭素二重結合をたとえ
ば酸化することによりエポキシが導入された、いわゆる
脂環型エポキシドを挙げることができる。
The epoxy resin (B) is not cured by energy rays, but becomes three-dimensional when heated.
It has the property of firmly bonding an adherend. As such an epoxy resin (B), conventionally known various epoxy resins are used, and usually, the molecular weight is 300 to 200.
Those having a molecular weight of about 0 are preferable, and particularly those having a molecular weight of 300 to 500
Preferably a normal liquid epoxy resin having a molecular weight of 330 to 400 and a molecular weight of 400 to 2500, preferably 500 to 20
It is desirable to use the resin in a form blended with a normal solid epoxy resin of No. 00. The epoxy equivalent of the epoxy resin preferably used in the present invention is usually 50 to 500.
0 g / eq. Specific examples of such an epoxy resin include glycidyl ethers of phenols such as bisphenol A, bisphenol F, resorcinol, phenyl novolak and cresol novolac; glycidyl ethers of alcohols such as butanediol, polyethylene glycol and polypropylene glycol; Glycidyl ethers of carboxylic acids such as phthalic acid, isophthalic acid and tetrahydrophthalic acid; glycidyl-type or alkyl glycidyl-type epoxy resins in which active hydrogen bonded to a nitrogen atom such as aniline isocyanurate is substituted with a glycidyl group; vinylcyclohexane diepoxide; 3,4-
Epoxycyclohexylmethyl-3,4-dicyclohexanecarboxylate, 2- (3,4-epoxy) cyclohexyl-
Examples of so-called alicyclic epoxides in which epoxy is introduced by, for example, oxidizing a carbon-carbon double bond in the molecule, such as 5,5-spiro (3,4-epoxy) cyclohexane-m-dioxane be able to.

【0031】これらの中でも、本発明では、ビスフェノ
ール系グリシジル型エポキシ樹脂、o-クレゾールノボラ
ック型エポキシ樹脂およびフェノールノボラック型エポ
キシ樹脂が好ましく用いられる。
Among these, in the present invention, bisphenol-based glycidyl type epoxy resin, o-cresol novolak type epoxy resin and phenol novolak type epoxy resin are preferably used.

【0032】これらエポキシ樹脂は、1種単独で、また
は2種以上を組み合わせて用いることができる。フェノ
ール系樹脂(C)としては、アルキルフェノール、多価
フェノール、ビフェノール、ナフトール等のフェノール
類とアルデヒド類との縮合物等が特に制限されることな
く用いられる。かかるフェノール系樹脂(C)に含まれ
るフェノール性水酸基は、前記エポキシ樹脂(B)のエ
ポキシ基と加熱により容易に付加反応して、耐衝撃性の
高い硬化物を形成する。また、前記エネルギー線硬化型
粘着成分(A)、エポキシ樹脂(B)ならびにフェノー
ル系樹脂(C)を併用して得られる粘接着剤は、硬化後
には、剪断強度と剥離強度とのバランスに優れ、しかも
厳しい熱湿条件下でも充分な接着物性を保持することが
できる。
These epoxy resins can be used alone or in combination of two or more. As the phenolic resin (C), a condensate of a phenol and an aldehyde such as alkylphenol, polyhydric phenol, biphenol, and naphthol is used without any particular limitation. The phenolic hydroxyl group contained in the phenolic resin (C) easily reacts with the epoxy group of the epoxy resin (B) by heating to form a cured product having high impact resistance. The adhesive obtained by using the energy ray-curable pressure-sensitive adhesive component (A), the epoxy resin (B) and the phenolic resin (C) together has a balance between shear strength and peel strength after curing. It is excellent and can maintain sufficient adhesive properties even under severe heat and humidity conditions.

【0033】このため、上記成分(A)〜(C)から形
成される粘接着層を有する本発明に係る粘接着テープ
は、特に半導体加工用テープとして好ましく用いられ
る。また、本発明において好ましく使用されるフェノー
ル系樹脂(C)としては、具体的には、フェノールノボ
ラック樹脂、o-クレゾールノボラック樹脂、p-クレゾー
ルノボラック樹脂、t-ブチルフェノールノボラック樹
脂、ジシクロペンタジエンクレゾール樹脂、ポリパラビ
ニルフェノール樹脂、ビスフェノールA型ノボラック樹
脂、あるいはこれらの変性物等が用いられる。
For this reason, the adhesive tape according to the present invention having the adhesive layer formed from the components (A) to (C) is particularly preferably used as a tape for processing semiconductors. Examples of the phenolic resin (C) preferably used in the present invention include phenol novolak resin, o-cresol novolak resin, p-cresol novolak resin, t-butylphenol novolak resin, and dicyclopentadiene cresol resin. , Polyparavinylphenol resin, bisphenol A type novolak resin, or a modified product thereof.

【0034】このようなフェノール系樹脂(C)は、前
記エポキシ樹脂(B)に対して、エポキシ基とフェノー
ル性水酸基との比(エポキシ基/フェノール性水酸基)
が、好ましくは0.2〜4、さらに好ましくは0.5〜
1.5、特に好ましくは0.7〜1.2となるような割
合で用いられる。配合比がこの範囲外である場合は、加
熱硬化後に未反応のエポキシ樹脂またはフェノール樹脂
が残留し、剪断強度や熱湿条件下後の剥離強度が不充分
となるおそれがある。
The phenolic resin (C) has a ratio of an epoxy group to a phenolic hydroxyl group (epoxy group / phenolic hydroxyl group) based on the epoxy resin (B).
However, preferably 0.2 to 4, more preferably 0.5 to
It is used at a ratio of 1.5, particularly preferably 0.7 to 1.2. If the compounding ratio is out of this range, unreacted epoxy resin or phenol resin remains after heat curing, and the shear strength or peel strength after hot and humid conditions may be insufficient.

【0035】次に、本発明において必要において用いら
れる(D)成分、すなわち、熱活性型潜在性エポキシ樹
脂硬化剤(以下、D1と略記する)およびエポキシ硬化
促進剤(以下、D2と略記する)について説明する。
Next, the component (D) used as necessary in the present invention, ie, a heat-activated latent epoxy resin curing agent (hereinafter abbreviated as D1) and an epoxy curing accelerator (hereinafter abbreviated as D2). Will be described.

【0036】熱活性型潜在性エポキシ樹脂硬化剤(D
1)とは、室温ではエポキシ樹脂と反応せず、ある温度
以上の加熱により活性化し、エポキシ樹脂と反応するタ
イプの硬化剤である。
A heat-activated latent epoxy resin curing agent (D
1) is a type of curing agent that does not react with the epoxy resin at room temperature, is activated by heating at a certain temperature or higher, and reacts with the epoxy resin.

【0037】熱活性型潜在性エポキシ樹脂硬化剤(D
1)の活性化方法には、加熱による化学反応で活性種
(アニオン、カチオン)を生成する方法;室温付近では
エポキシ樹脂(B-1) 中に安定に分散しており高温でエポ
キシ樹脂と相溶・溶解し、硬化反応を開始する方法;モ
レキュラーシーブ封入タイプの硬化剤で高温で溶出して
硬化反応を開始する方法;マイクロカプセルによる方法
等が存在する。
A heat-active latent epoxy resin curing agent (D
The activation method of 1) is a method in which active species (anions and cations) are generated by a chemical reaction by heating; it is dispersed in the epoxy resin (B-1) stably at around room temperature, There is a method of dissolving and dissolving to initiate a curing reaction; a method of eluting at a high temperature with a molecular sieve sealing type curing agent to initiate a curing reaction; a method using microcapsules, and the like.

【0038】本発明において使用される熱活性型潜在性
エポキシ樹脂硬化剤(D1)の具体例としては各種オニ
ウム塩や、二塩基酸ジヒドラジド化合物、ジシアンジア
ミド、アミンアダクト硬化剤、イミダゾール化合物等の
高融点活性水素化合物等を挙げることができる。
Specific examples of the thermally active latent epoxy resin curing agent (D1) used in the present invention include various onium salts, dibasic acid dihydrazide compounds, dicyandiamide, amine adduct curing agents, and high melting points such as imidazole compounds. Active hydrogen compounds and the like can be mentioned.

【0039】これら熱活性型潜在性エポキシ樹脂硬化剤
は、1種単独で、または2種以上を組み合わせて用いる
ことができる。上記のような熱活性型潜在性エポキシ樹
脂硬化剤(D1)は、エポキシ樹脂(B)100重量部
に対して、好ましくは0.1〜20重量部、さらに好ま
しくは0.2〜10重量部、特に好ましくは0.3〜5
重量部の割合で用いられる。
These heat-active latent epoxy resin curing agents can be used alone or in combination of two or more. The heat-active latent epoxy resin curing agent (D1) as described above is preferably 0.1 to 20 parts by weight, more preferably 0.2 to 10 parts by weight, based on 100 parts by weight of the epoxy resin (B). And particularly preferably 0.3 to 5
Used in parts by weight.

【0040】エポキシ樹脂硬化促進剤(D2)として
は、たとえば、Ti、Al、Zr等の原子にアルコキシ
基、フェノキシ基、アシルオキシ基、β-ジケトナト
基、o-カルボニルフェノラト基等が結合した錯体化合物
が挙げられる。
As the epoxy resin curing accelerator (D2), for example, a complex in which an atom such as Ti, Al, or Zr is bonded to an alkoxy group, a phenoxy group, an acyloxy group, a β-diketonato group, an o-carbonylphenolate group, or the like. Compounds.

【0041】前記錯体化合物のうちで、最も好ましいの
は有機アルミニウム化合物である。その具体例として
は、例えば、トリスメトキシアルミニウム、トリスエト
キシアルミニウム、トリスイソプロポキシアルミニウ
ム、トリスフェノキシアルミニウム、トリスパラメチル
フェノキシアルミニウム、イソプロポキシジエトキシア
ルミニウム、トリスブトキシアルミニウム、トリスアセ
トキシアルミニウム、トリスステアラトアルミニウム、
トリスブチラトアルミニウム、トリスプロピオナトアル
ミニウム、トリスイソプロピオナトアルミニウム、トリ
スアセチルアセトナトアルミニウム、トリストリフルオ
ロアセチルアセトナトアルミニウム、トリスヘキサフル
オロアセチルアセトナトアルミニウム、トリスエチルア
セトアセタトアルミニウム、トリスサリチルアルデヒダ
トアルミニウム、トリスジエチルマロラトアルミニウ
ム、トリスプロピルアセトアセタトアルミニウム、トリ
スブチルアセトアセタトアルミニウム、トリスジピバロ
イルメタナトアルミニウム、ジアセチルアセトナトジピ
バロイルメタナトアルミニウム、ビス(エチルアセトア
セタト)(アセチルアセトナト)アルミニウム、ジイソ
プロポキシ(エチルアセトアセタト)アルミニウム等が
挙げられる。
Among the above complex compounds, the most preferred is an organoaluminum compound. Specific examples thereof include, for example, trismethoxyaluminum, trisethoxyaluminum, trisisopropoxyaluminum, trisphenoxyaluminum, trisparamethylphenoxyaluminum, isopropoxydiethoxyaluminum, trisbutoxyaluminum, trisacetoxyaluminum, trisstearatoaluminum,
Aluminum trisbutyrate, aluminum trispropionate, aluminum trisisopropionate, aluminum trisacetylacetonato, aluminum tristrifluoroacetylacetonato, aluminum trishexafluoroacetylacetonato, aluminum trisethylacetoacetate, aluminum trissalicylaldehyde, Tris diethylmalolato aluminum, trispropyl acetoacetato aluminum, tris butyl acetoacetato aluminum, tris dipivaloyl methanato aluminum, diacetylacetonato dipivaloyl methanato aluminum, bis (ethylacetoacetato) (acetylacetonato) Aluminum, diisopropoxy (ethylacetoacetato) aluminum, and the like.

【0042】これら錯体化合物は、1種単独で、または
2種以上を組み合わせて用いることができる。上記のよ
うなエポキシ樹脂硬化促進剤(D2)は、エポキシ樹脂
(B)100重量部に対して、好ましくは0.1〜10
重量部、さらに好ましくは0.2〜8重量部、特に好ま
しくは0.3〜5重量部の割合で用いられる。
These complex compounds can be used alone or in combination of two or more. The epoxy resin curing accelerator (D2) as described above is preferably used in an amount of 0.1 to 10 with respect to 100 parts by weight of the epoxy resin (B).
Parts by weight, more preferably 0.2 to 8 parts by weight, particularly preferably 0.3 to 5 parts by weight.

【0043】本発明の粘接着テープの粘接着層は、上記
のような(A)エネルギー線硬化型粘着成分と、(B)
エポキシ樹脂と、(C)フェノール系樹脂とを必須成分
とし、さらに必要に応じ(D)成分を加えることにより
硬化反応を温和な条件で行うことができる。
The adhesive layer of the adhesive tape of the present invention comprises (A) the energy ray-curable adhesive component as described above and (B)
The curing reaction can be performed under mild conditions by using the epoxy resin and the phenolic resin (C) as essential components, and further adding the component (D) as necessary.

【0044】上記のような各成分からなる粘接着層はエ
ネルギー線硬化性と加熱硬化性とを有し、ダイシングの
際にはウェハ固定用粘着剤として使用することができ、
マウントの際にはチップとリードフレームとを接着する
接着剤として使用することができる。そして熱硬化を経
て最終的には耐衝撃性の高い硬化物を与えることがで
き、しかも剪断強度と剥離強度とのバランスにも優れ、
厳しい熱湿条件下においても充分な接着物性を保持しう
る。
The adhesive layer composed of each of the above components has energy ray curability and heat curability, and can be used as an adhesive for fixing a wafer during dicing.
At the time of mounting, it can be used as an adhesive for bonding the chip and the lead frame. And finally it can give a cured product with high impact resistance through thermal curing, and also has excellent balance between shear strength and peel strength,
Sufficient adhesive properties can be maintained even under severe hot and humid conditions.

【0045】また、本発明の粘接着テープの粘接着層に
は、上述した成分の他にも、下記のような各種の添加剤
が配合されていてもよい。たとえば、上記粘接着層に
は、さらに、ダイボンド後の導電性の付与を目的とし
て、金、銀、銅、ニッケル、アルミニウム、ステンレ
ス、カーボン、またはセラミック、あるいはニッケル、
アルミニウム等を銀で被覆したもののような導電性フィ
ラーを添加してもよく、また熱伝導性の付与を目的とし
て、金、銀、銅、ニッケル、アルミニウム、ステンレ
ス、シリコン、ゲルマニウム等の金属材料やそれらの合
金等の熱伝導性物質を添加してもよい。
The adhesive layer of the adhesive tape of the present invention may contain the following various additives in addition to the above-mentioned components. For example, the adhesive layer further includes, for the purpose of imparting conductivity after die bonding, gold, silver, copper, nickel, aluminum, stainless steel, carbon, or ceramic, or nickel,
A conductive filler such as aluminum or the like coated with silver may be added, and for the purpose of imparting thermal conductivity, metal materials such as gold, silver, copper, nickel, aluminum, stainless steel, silicon, and germanium may be used. A thermally conductive material such as an alloy thereof may be added.

【0046】さらに、本発明の粘接着テープの粘接着層
には、硬化後の可とう性を付与する目的で、特願平7−
45648号に記載の可とう性成分を添加してもよい。
可とう性成分は、硬化後の粘接着剤中に均一に分散し
て、粘接着層の脆質性を改善し、外部応力に対し抵抗を
有するようになる。
Furthermore, the adhesive layer of the adhesive tape of the present invention is provided with a flexibility after curing, which is disclosed in Japanese Patent Application No. Hei.
A flexible component described in No. 45648 may be added.
The flexible component is uniformly dispersed in the cured adhesive, improving the brittleness of the adhesive layer, and having resistance to external stress.

【0047】さらに、硬化後における被着物との接着性
・密着性を向上させる目的で、粘接着層に特願平7−2
56090号に記載のカップリング剤を添加することも
できる。カップリング剤は、有機官能基がエポキシ樹脂
(B)と反応すると考えられ、硬化物の耐熱性を損なわ
ずに、接着性、密着性を向上させることができ、さらに
耐水性(耐湿熱性)も向上する。
Further, in order to improve the adhesiveness / adhesiveness to the adherend after curing, the adhesive layer is coated on the adhesive layer as disclosed in Japanese Patent Application No. 7-2.
No. 56090 may be added. The coupling agent is considered to have an organic functional group that reacts with the epoxy resin (B), and can improve adhesiveness and adhesion without impairing the heat resistance of the cured product, and also has a high water resistance (moisture and heat resistance). improves.

【0048】カップリング剤としては、その汎用性とコ
ストメリットなどからシラン系(シランカップリング
剤)が好ましい。また、上記粘接着層には、エネルギー
線照射前の初期接着力および凝集力を調節するために、
有機多価イソシアナート化合物、有機多価イミン化合物
等を添加することもできる。
As the coupling agent, a silane type (silane coupling agent) is preferable from the viewpoint of its versatility and cost advantages. Further, in the adhesive layer, in order to adjust the initial adhesive force and cohesive force before irradiation with energy rays,
Organic polyvalent isocyanate compounds, organic polyvalent imine compounds, and the like can also be added.

【0049】上記有機多価イソシアナート化合物として
は、芳香族多価イソシアナート化合物、脂肪族多価イソ
シアナート化合物、脂環族多価イソシアナート化合物お
よびこれらの多価イソシアナート化合物の三量体、なら
びにこれら多価イソシアナート化合物とポリオール化合
物とを反応させて得られる末端イソシアナートウレタン
プレポリマー等をあげることができる。有機多価イソシ
アナート化合物のさらに具体的な例としては、たとえば
2,4−トリレンジイソシアナート、2,6−トリレン
ジイソシアナート、1,3−キシリレンジイソシアナー
ト、1,4−キシレンジイソシアナート、ジフェニルメ
タン−4,4’−ジイソシアナート、ジフェニルメタン
−2,4’−ジイソシアナート、3−メチルジフェニル
メタンジイソシアナート、ヘキサメチレンジイソシアナ
ート、イソホロンジイソシアナート、ジシクロヘキシル
メタン−4,4’−ジイソシアナート、ジシクロヘキシ
ルメタン−2,4’−ジイソシアナート、リジンイソシ
アナートなどがあげられる。
The organic polyvalent isocyanate compound includes an aromatic polyvalent isocyanate compound, an aliphatic polyvalent isocyanate compound, an alicyclic polyvalent isocyanate compound, and a trimer of these polyvalent isocyanate compounds. And urethane prepolymers having terminal isocyanate obtained by reacting these polyvalent isocyanate compounds with polyol compounds. More specific examples of the organic polyvalent isocyanate compound include, for example, 2,4-tolylene diisocyanate, 2,6-tolylene diisocyanate, 1,3-xylylene diisocyanate, 1,4-xylene diisocyanate Notate, diphenylmethane-4,4'-diisocyanate, diphenylmethane-2,4'-diisocyanate, 3-methyldiphenylmethane diisocyanate, hexamethylene diisocyanate, isophorone diisocyanate, dicyclohexylmethane-4,4 ' -Diisocyanate, dicyclohexylmethane-2,4'-diisocyanate, lysine isocyanate and the like.

【0050】上記有機多価イミン化合物の具体例として
は、N,N'-ジフェニルメタン-4,4'-ビス(1-アジリジンカ
ルボキシアミド)、トリメチロールプロパン-トリ-β-ア
ジリジニルプロピオナート、テトラメチロールメタン-
トリ-β-アジリジニルプロピオナート、N,N'-トルエン-
2,4-ビス(1-アジリジンカルボキシアミド)トリエチレン
メラミン等をあげることができる。
Specific examples of the organic polyvalent imine compound include N, N'-diphenylmethane-4,4'-bis (1-aziridinecarboxamide), trimethylolpropane-tri-β-aziridinylpropionate. , Tetramethylolmethane-
Tri-β-aziridinyl propionate, N, N'-toluene-
2,4-bis (1-aziridinecarboxamide) triethylenemelamine and the like can be mentioned.

【0051】さらにまた、上記粘接着層中に、エネルギ
ー線照射により着色する化合物を含有させることもでき
る。このようなエネルギー線照射により、着色する化合
物を粘接着層に含ませることによって、粘接着テープに
エネルギー線が照射された後には該テープは着色され、
したがって光センサーによってウェハチップを検出する
際に検出精度が高まり、ウェハチップのピックアップ時
に誤動作が生ずることがない。また粘接着テープにエネ
ルギー線が照射されたか否かが目視により直ちに判明す
るという効果が得られる。
Further, a compound which is colored by irradiation with energy rays can be contained in the above-mentioned adhesive layer. By such energy ray irradiation, by including a compound to be colored in the adhesive layer, after the adhesive tape is irradiated with energy rays, the tape is colored,
Therefore, the detection accuracy when detecting the wafer chip by the optical sensor is enhanced, and no malfunction occurs when the wafer chip is picked up. Further, there is obtained an effect that whether or not the adhesive tape has been irradiated with the energy ray can be immediately visually determined.

【0052】また、上記の粘接着層中にエキスパンディ
ング剤を添加することもできる。エキスパンディング剤
を添加することにより、粘接着層の重合硬化後のエキス
パンドがさらに容易になる。
Further, an expanding agent can be added to the above-mentioned adhesive layer. By adding the expanding agent, the expansion after the polymerization and curing of the adhesive layer is further facilitated.

【0053】さらに上記の粘接着層中に帯電防止剤を添
加することもできる。帯電防止剤を添加することによ
り、エキパンド時あるいはピックアップ時に発生する静
電気を抑制できるため、チップの信頼性が向上する。
Further, an antistatic agent can be added to the above-mentioned adhesive layer. By adding an antistatic agent, static electricity generated at the time of expansion or at the time of pickup can be suppressed, so that the reliability of the chip is improved.

【0054】本発明の粘接着テープは、上記のような成
分からなる粘接着層を有しており、このような粘接着層
を有する本発明の粘接着テープは、支持体を用いずに、
上記の成分からなる組成物の薄膜であっても良いし、ま
た支持体上に上記の組成物を用いて形成した粘接着層と
からなる多層構造であってもよい。
The pressure-sensitive adhesive tape of the present invention has a pressure-sensitive adhesive layer composed of the above-mentioned components. Without using
It may be a thin film of a composition comprising the above components, or may have a multilayer structure comprising an adhesive layer formed on a support using the above composition.

【0055】本発明の粘接着シートの支持体としては、
たとえばエネルギー線として紫外線を用いる場合には、
ポリエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルム、ポリ
ブテンフィルム、ポリブタジエンフィルム、ポリメチル
ペンテンフィルム、ポリ塩化ビニルフィルム、塩化ビニ
ル共重合体フィルム、ポリエチレンテレフタレートフィ
ルム、ポリブチレンテレフタレートフィルム、ポリウレ
タンフィルム、エチレン酢ビフィルム、アイオノマー樹
脂フィルム、エチレン・(メタ)アクリル酸共重合体フ
ィルム、エチレン・(メタ)アクリル酸エステル共重合
体フィルム、ポリスチレンフィルム、ポリカーボネート
フィルム等の透明フィルムが用いられる。またこれらの
架橋フィルムも用いられる。さらにこれらの積層フィル
ムであってもよい。また、エネルギー線として電子線を
用いる場合には、透明である必要はないので、上記の透
明フィルムの他、これらを着色した不透明フィルム、フ
ッ素樹脂フィルム等を用いることができる。
As the support of the adhesive sheet of the present invention,
For example, when using ultraviolet rays as energy rays,
Polyethylene film, polypropylene film, polybutene film, polybutadiene film, polymethylpentene film, polyvinyl chloride film, vinyl chloride copolymer film, polyethylene terephthalate film, polybutylene terephthalate film, polyurethane film, ethylene vinyl acetate film, ionomer resin film, ethylene -Transparent films such as (meth) acrylic acid copolymer film, ethylene / (meth) acrylic acid ester copolymer film, polystyrene film and polycarbonate film are used. Further, these crosslinked films are also used. Furthermore, these laminated films may be used. When an electron beam is used as the energy beam, it is not necessary to be transparent. Therefore, in addition to the above-mentioned transparent films, an opaque film, a fluororesin film, or the like obtained by coloring them can be used.

【0056】さらに支持体の表面張力は、好ましくは4
0dyne/cm 以下、さらに好ましくは37dyne/cm 以下、
特に好ましくは35dyne/cm 以下であることが望まし
い。このような表面張力に低い支持体は、材質を適宜に
選択して得ることが可能であるし、また支持体の表面に
シリコーン樹脂等を塗布して離型処理を施すことで得る
こともできる。
The surface tension of the support is preferably 4
0 dyne / cm or less, more preferably 37 dyne / cm or less,
Particularly preferably, it is desirably 35 dyne / cm or less. Such a support having a low surface tension can be obtained by appropriately selecting the material, or can be obtained by applying a silicone resin or the like to the surface of the support and subjecting it to a release treatment. .

【0057】このような支持体の膜厚は、通常は10〜
300μm、好ましくは20〜200μm、特に好まし
くは50〜150μm程度である。さらに本発明では、
支持体中に砥粒が分散されていてもよい。砥粒を支持体
中に含ませることによって、切断ブレードが支持体中に
切り込んできて、切断ブレードに粘着剤が付着しても砥
粒の研磨効果により、目づまりを簡単に除去することが
できる。
The thickness of such a support is usually from 10 to
It is about 300 μm, preferably about 20 to 200 μm, particularly preferably about 50 to 150 μm. Further, in the present invention,
Abrasive grains may be dispersed in the support. By including the abrasive grains in the support, even if the cutting blade cuts into the support and an adhesive adheres to the cutting blade, clogging can be easily removed by the polishing effect of the abrasive grains.

【0058】本発明に係る粘接着テープは、離型シート
上に上記成分からなる粘接着剤組成物をコンマコータ
ー、グラビアコーター、ダイコーター、リバースコータ
ーなど一般に公知の方法にしたがって塗工し、乾燥させ
て粘接着層を形成し、離型シートを除去することによっ
て得ることができる。また、上記の支持体を用いる場合
には、該支持体上に粘接着剤組成物を同様の方法で塗工
し、乾燥させて粘接着層を形成することに粘接着テープ
を製造することができる。なお、上記の粘接着剤組成物
は、必要に応じ、溶剤に溶解し、若しくは分散させて塗
布することができる。
The pressure-sensitive adhesive tape according to the present invention is obtained by coating a pressure-sensitive adhesive composition comprising the above components on a release sheet according to a generally known method such as a comma coater, a gravure coater, a die coater, or a reverse coater. , Dried to form an adhesive layer, and the release sheet is removed. When the above-mentioned support is used, a pressure-sensitive adhesive tape is produced by applying a pressure-sensitive adhesive composition on the support in the same manner and drying to form a pressure-sensitive adhesive layer. can do. The above-mentioned adhesive composition can be applied by dissolving or dispersing it in a solvent, if necessary.

【0059】このようにして形成される粘接着層の厚さ
は、通常は、3〜100μm、好ましくは10〜60μ
mであることが望ましい。上記のようにして得られた粘
接着テープは、次のようにして使用される。
The thickness of the adhesive layer thus formed is usually 3 to 100 μm, preferably 10 to 60 μm.
m is desirable. The adhesive tape obtained as described above is used as follows.

【0060】シリコンウェハの一方の面に本発明の粘接
着テープを貼着した後、ダイシングソーなどの切断手段
を用いて、上記のシリコンウェハと粘接着テープとを切
断してICチップを得る。この際のシリコンウェハと粘
接着テープとの接着力は、通常50〜2000g/25m
m、好ましくは100〜1500g/25mmであり、他
方、粘接着テープの粘接着層と支持体との接着力は通常
500g/25mm以下である。
After sticking the adhesive tape of the present invention on one surface of the silicon wafer, the silicon wafer and the adhesive tape are cut using a cutting means such as a dicing saw to form an IC chip. obtain. At this time, the adhesive force between the silicon wafer and the adhesive tape is usually 50 to 2000 g / 25 m.
m, preferably 100 to 1500 g / 25 mm, while the adhesive force between the adhesive layer of the adhesive tape and the support is usually 500 g / 25 mm or less.

【0061】次いで、上記のようにして得られたICチ
ップに貼着した粘接着テープにエネルギー線を照射す
る。本発明において使用することができるエネルギー線
としては、紫外線(中心波長=約365nm)および電子
線等が挙げられる。エネルギー線として紫外線を使用す
る場合、通常、照度は20〜500mW/cm2、さらに照
射時間は0.1〜150秒の範囲内に設定される。ま
た、たとえば電子線を照射する場合にも、上記の紫外線
照射の場合に準じて諸条件を設定することができる。な
お、上記のようなエネルギー線照射の際に補助的に加熱
することもできる。
Next, the adhesive tape adhered to the IC chip obtained as described above is irradiated with energy rays. Energy rays that can be used in the present invention include ultraviolet rays (center wavelength = about 365 nm), electron beams, and the like. When using ultraviolet rays as energy rays, the illuminance is usually set in the range of 20 to 500 mW / cm 2 , and the irradiation time is set in the range of 0.1 to 150 seconds. Also, for example, when irradiating an electron beam, various conditions can be set according to the above-described case of irradiating an ultraviolet ray. In addition, it is also possible to perform auxiliary heating during energy beam irradiation as described above.

【0062】このようにエネルギー線の照射を行なうこ
とにより、エネルギー線硬化型粘着成分(A)が硬化
し、シリコンウェハと粘接着層との接着力は、通常50
〜4000g/25mm、好ましくは100〜3000g/
25mmに増加する。他方、粘接着テープの粘接着層と支持
体との接着力は通常1〜500g/25mmとなり、好まし
くは100g/25mm以下である。
By irradiating the energy ray in this manner, the energy ray-curable adhesive component (A) is cured, and the adhesive force between the silicon wafer and the adhesive layer is usually 50
~ 4000g / 25mm, preferably 100 ~ 3000g /
Increase to 25mm. On the other hand, the adhesive strength between the adhesive layer of the adhesive tape and the support is usually 1 to 500 g / 25 mm, preferably 100 g / 25 mm or less.

【0063】したがって、上記のようにしてエネルギー
線の照射を行なうことにより、粘接着層をICチップの
片面に固着残存させて支持体から剥離することができ
る。なお、エネルギーの照射は、ダイシング工程の前に
行なわれていてもよい。
Therefore, by irradiating with the energy beam as described above, the adhesive layer can be fixed and left on one side of the IC chip and can be peeled off from the support. Note that the energy irradiation may be performed before the dicing step.

【0064】このようにして粘接着層が固着されている
ICチップをリードフレームに載置し、次いで加熱する
ことにより粘接着層中のエポキシ樹脂を硬化させ、IC
チップとリードフレームとの接着を行なう。この場合の
加熱温度は、通常は100〜300℃程度、好ましくは
150〜250℃程度であり、加熱時間は、通常は、1
〜120分間、好ましくは5〜60分間である。このよ
うな加熱により、加熱硬化型接着成分が硬化し、ICチ
ップとリードフレームとを強固に接着することができ
る。
The IC chip to which the adhesive layer is fixed in this way is placed on a lead frame, and then heated to cure the epoxy resin in the adhesive layer, and
The chip and the lead frame are bonded. The heating temperature in this case is usually about 100 to 300 ° C., preferably about 150 to 250 ° C., and the heating time is usually 1 to 30 ° C.
120120 minutes, preferably 5-60 minutes. By such heating, the thermosetting adhesive component is cured, and the IC chip and the lead frame can be firmly bonded.

【0065】そして、最終的に硬化した粘接着層は高い
耐熱性を有するとともに、硬化物は剪断強度と剥離強度
の一方が極端に低くなることはなく、バランスに優れ、
高い耐衝撃性を有する。また、厳しい熱湿条件下におい
ても充分な接着物性を保持しうる。
The finally cured adhesive layer has high heat resistance, and the cured product has an excellent balance without one of shear strength and peel strength being extremely low.
Has high impact resistance. Further, even under severe hot and humid conditions, sufficient adhesive properties can be maintained.

【0066】[0066]

【発明の効果】本発明によれば、エネルギー線硬化性と
加熱硬化性とを有し、ダイシングの際にはダイシングテ
ープとして使用することができ、マウントの際には接着
剤として使用することができる粘接着テープが提供され
る。さらに本発明によれば、このような粘接着テープの
使用方法が提供される。
According to the present invention, it has energy ray curability and heat curability, can be used as a dicing tape at the time of dicing, and can be used as an adhesive at the time of mounting. A possible adhesive tape is provided. Further, according to the present invention, there is provided a method of using such an adhesive tape.

【0067】[0067]

【実施例】以下本発明を実施例により説明するが、本発
明はこれら実施例に限定されるものではない。
EXAMPLES The present invention will be described below with reference to examples, but the present invention is not limited to these examples.

【0068】なお、以下の実施例および比較例におい
て、「剪断強度」および「剥離強度」は次のようにして
評価した。剪断強度 厚み350μm、♯2000研摩のシリコンウェハの裏
面に粘接着テープを貼付し、紫外線照射後、4mm×4mm
にダイシングし、粘接着層とともにピックアップし、得
られた粘接着層付シリコンチップを30mm×30mm、厚
み300μmの銅板に貼着し、表1に記載の硬化条件で
硬化させ、サンプルとした。
In the following Examples and Comparative Examples, "shear strength" and "peel strength" were evaluated as follows. Adhesive tape is attached to the back surface of a silicon wafer with a shear strength of 350 μm and a thickness of 2000 mm, and after irradiation with ultraviolet rays, 4 mm × 4 mm
And the silicon chip with the adhesive layer was adhered to a copper plate having a thickness of 30 mm × 30 mm and a thickness of 300 μm and cured under the curing conditions described in Table 1 to obtain a sample. .

【0069】横型荷重測定機(アイコーエンジニアリン
グ社製)を用い、サンプルの剪断接着強度(kg/4mm x 4m
m)を測定した。なお、測定時には250℃のホットプレ
ート上で30秒間保持し、そのままの状態で、荷重速度
は12mm/分で測定した。剥離強度 厚み350μm、♯2000研摩のシリコンウェハの裏
面に粘接着テープを貼付し、紫外線照射後、5mm×10
mmにダイシングし、粘接着層とともにピックアップし、
得られた粘接着層付シリコンチップを厚み150μmの
銅板に貼着し、表1に記載の硬化条件で硬化させ、サン
プルとした。
Using a horizontal load measuring device (manufactured by Aiko Engineering Co., Ltd.), the shear adhesive strength of the sample (kg / 4 mm × 4 m
m) was measured. During the measurement, the sample was held on a hot plate at 250 ° C. for 30 seconds, and the measurement was performed at a load speed of 12 mm / min as it was. Adhesive tape is applied to the back surface of a silicon wafer with a peel strength of 350 μm and polished at # 2000, and after irradiation with ultraviolet rays, 5 mm × 10
Dicing to mm, picking up with adhesive layer,
The obtained silicon chip with an adhesive layer was adhered to a copper plate having a thickness of 150 μm and cured under the curing conditions shown in Table 1 to obtain a sample.

【0070】このサンプルのシリコンチップ側を接着固
定し、銅板を90°ピールにより剥離させた時の接着強
度(g/5mm) を測定した。なお、剥離速度は、10mm/分
に統一した。
The silicon chip side of this sample was bonded and fixed, and the bonding strength (g / 5 mm) when the copper plate was peeled off by 90 ° peel was measured. In addition, the peeling speed was unified to 10 mm / min.

【0071】また、上記と同様にして調製したサンプル
を85℃、85%RHの熱湿条件下に168時間放置し
た後、上記と同様にして接着強度を測定した。また、以
下の実施例において、(A)エネルギー線硬化型粘着成
分、(B)エポキシ樹脂、(C)フェノール系樹脂とし
て以下のものを用いた。(A)エネルギー線硬化型粘着成分 (メタ)アクリル酸エステル共重合体として、ブチルア
クリレート55重量部とメチルメタクリレート10重量
部とグリシジルメタクリレート20重量部と2−ヒドロ
キシエチルアクリレート15重量部とを共重合してなる
重量平均分子量900,000、ガラス転移温度−28
℃の共重合体100重量部と、エネルギー線重合型化合
物として、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート
100重量部と、光重合開始剤として、1-ヒドロキシシ
クロヘキシルフェニルケトン3重量部との混合物。(B)エポキシ樹脂 アクリルゴム微粒子(可とう性成分)分散液状ビスフェ
ノールF型樹脂(エポキシ当量:205〜215)62
重量部と、固形ビスフェノールA型樹脂(エポキシ当
量:800〜900)17重量部と、o-クレゾールノボ
ラック型樹脂(エポキシ当量:215〜225)21重
量部との混合物。
A sample prepared in the same manner as above was left under hot and humid conditions of 85 ° C. and 85% RH for 168 hours, and then the adhesive strength was measured in the same manner as above. In the following examples, the following were used as (A) an energy ray-curable adhesive component, (B) an epoxy resin, and (C) a phenolic resin. (A) 55 parts by weight of butyl acrylate, 10 parts by weight of methyl methacrylate, 20 parts by weight of glycidyl methacrylate, and 15 parts by weight of 2-hydroxyethyl acrylate as an energy ray-curable adhesive component (meth) acrylate copolymer. Weight average molecular weight 900,000, glass transition temperature -28
A mixture of 100 parts by weight of a copolymer at 100C, 100 parts by weight of dipentaerythritol hexaacrylate as an energy ray-polymerizable compound, and 3 parts by weight of 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone as a photopolymerization initiator. (B) Epoxy resin acrylic rubber fine particles (flexible component) dispersed liquid bisphenol F type resin (epoxy equivalent: 205 to 215) 62
A mixture of parts by weight, 17 parts by weight of a solid bisphenol A type resin (epoxy equivalent: 800 to 900), and 21 parts by weight of an o-cresol novolak type resin (epoxy equivalent: 215 to 225).

【0072】なお、混合エポキシ樹脂のエポキシ当量は
310〜330であり、また混合物中の可とう性成分含
量は12.5重量%であった。(C)フェノール系樹脂 フェノールノボラック(水酸基当量118)(D)熱活性型潜在性エポキシ樹脂硬化剤および/また
は硬化促進剤 D-1-1:2-フェニル-4,5- ジヒドロキシメチルイミダゾ
ール D-1-2:ジシアンジアミド D−2:トリスアセチルアセトナトアルミニウム (E)芳香族多価イソシアナート
The epoxy equivalent of the mixed epoxy resin was 310 to 330, and the content of the flexible component in the mixture was 12.5% by weight. (C) phenolic resin phenol novolak (hydroxyl equivalent 118) (D) heat-active latent epoxy resin curing agent and / or
Is a curing accelerator D-1-1: 2-phenyl-4,5-dihydroxymethylimidazole D-1-2: dicyandiamide D-2: trisacetylacetonatoaluminum (E) aromatic polyvalent isocyanate

【0073】[0073]

【実施例1】表1に記載の割合で各成分を混合し、エポ
キシ基とフェノール性水酸基との比が0.92の粘接着
剤組成物を得た。この粘接着剤組成物を、可塑化ポリ塩
化ビニル層とエチレン/メタクリル酸共重合体層とを積
層してなる厚み90μmの積層フィルムのエチレン/メ
タクリル酸共重合体層側(表面張力35dyn/cm2)に塗
布、乾燥し粘接着テープを得た。
Example 1 The components were mixed at the ratios shown in Table 1 to obtain an adhesive composition having a ratio of epoxy groups to phenolic hydroxyl groups of 0.92. This adhesive composition is coated with a plasticized polyvinyl chloride layer and an ethylene / methacrylic acid copolymer layer on a side of an ethylene / methacrylic acid copolymer layer (surface tension 35 dyn / cm 2 ) and dried to obtain an adhesive tape.

【0074】得られた粘接着テープを用いて「剪断強
度」および「剥離強度」を上記のようにして評価した。
結果を表1に示す。
Using the obtained adhesive tape, "shear strength" and "peel strength" were evaluated as described above.
Table 1 shows the results.

【0075】[0075]

【実施例2〜4および比較例1〜4】各成分の配合割合
を表1に記載のように変更した以外は、実施例1と同様
の操作を行なった。結果を表1および表2に示す。
Examples 2 to 4 and Comparative Examples 1 to 4 The same operation as in Example 1 was performed except that the mixing ratio of each component was changed as shown in Table 1. The results are shown in Tables 1 and 2.

【0076】[0076]

【表1】 [Table 1]

フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 C09J 7/02 JKE C09J 7/02 JKE H01L 21/52 H01L 21/52 E 21/301 21/78 M Continued on the front page (51) Int.Cl. 6 Identification number Reference number in the agency FI Technical indication location C09J 7/02 JKE C09J 7/02 JKE H01L 21/52 H01L 21/52 E 21/301 21/78 M

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 (A)エネルギー線硬化型粘着成分と、
(B)エポキシ樹脂と、(C)フェノール系樹脂とから
形成されている粘接着層を有する粘接着テープ。
(A) an energy ray-curable pressure-sensitive adhesive component;
An adhesive tape having an adhesive layer formed of (B) an epoxy resin and (C) a phenolic resin.
【請求項2】 該フェノール系樹脂(C)が、該エポキ
シ樹脂(B)に対し、エポキシ基とフェノール性水酸基
との比(エポキシ基/フェノール性水酸基)が、0.2
〜4となる割合で粘接着層に含有されてなることを特徴
とする請求項1に記載の粘接着テープ。
2. The phenolic resin (C) has a ratio of an epoxy group to a phenolic hydroxyl group (epoxy group / phenolic hydroxyl group) of 0.2 to the epoxy resin (B).
The adhesive tape according to claim 1, wherein the adhesive tape is contained in the adhesive layer in a ratio of 接着 4.
【請求項3】 該粘接着層が、さらに(D)熱活性型潜
在性エポキシ樹脂硬化剤および/またはエポキシ樹脂硬
化促進剤を含有することを特徴とする請求項1または2
に記載の粘接着テープ。
3. The adhesive layer according to claim 1, wherein said adhesive layer further comprises (D) a heat-active latent epoxy resin curing agent and / or an epoxy resin curing accelerator.
3. The adhesive tape according to item 1.
【請求項4】 請求項1〜3のいずれかに記載の粘接着
テープの粘接着層にICチップを貼付し、エネルギー線
を照射して該粘接着層に該ICチップを固着させた後、
該ICチップをリードフレーム上に該粘接着層を介して
載置し、次いで加熱することにより該粘接着層に接着力
を発現させて該ICチップとリードフレームとを接着す
ることを特徴とする粘接着テープの使用方法。
4. An IC chip is attached to the adhesive layer of the adhesive tape according to claim 1, and the IC chip is fixed to the adhesive layer by irradiating an energy ray. After
The IC chip is mounted on a lead frame via the adhesive layer, and then heated to cause the adhesive layer to exhibit an adhesive force and bond the IC chip to the lead frame. How to use adhesive tape.
【請求項5】 照射するエネルギー線が紫外線であるこ
とを特徴とする請求項4に記載の粘接着テープの使用方
法。
5. The method according to claim 4, wherein the energy beam to be irradiated is ultraviolet rays.
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