JPH107606A - フェニルトラン誘導体 - Google Patents

フェニルトラン誘導体

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JPH107606A
JPH107606A JP8155365A JP15536596A JPH107606A JP H107606 A JPH107606 A JP H107606A JP 8155365 A JP8155365 A JP 8155365A JP 15536596 A JP15536596 A JP 15536596A JP H107606 A JPH107606 A JP H107606A
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JP
Japan
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liquid crystal
substituted
compound
formula
phenyl
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Application number
JP8155365A
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English (en)
Inventor
Sadao Takehara
貞夫 竹原
Haruyoshi Takatsu
晴義 高津
Masashi Osawa
政志 大澤
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DIC Corp
Original Assignee
Dainippon Ink and Chemicals Co Ltd
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】 【構成】 一般式(I) 【化1】 (R:C1〜12のアルキル、X、Y:独立的にH原子
又はF原子)で表わされる化合物及びそれを含有する組
成物。 【効果】 この化合物は液晶性に優れ、汎用のホスト液
晶との相溶性にも優れる。しかも、誘電率異方性及び屈
折率異方性、特に屈折率異方性が非常に大きい。更に、
この化合物を含有する液晶組成物は、温度範囲が広く、
駆動電圧を低くすることが可能であるうえに、低温でも
結晶が析出し難いという特徴を有するため、実用的液晶
として極めて有用である。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は新規液晶性化合物で
ある、フェニルトラン誘導体及びそれを含有する液晶組
成物に関する。これらは電気光学的液晶表示用、特にネ
マチック液晶表示用材料として有用である。
【0002】
【従来の技術】液晶表示素子は、時計、電卓をはじめと
して、各種測定機器、自動車用パネル、ワープロ、電子
手帳、プリンター、コンピューター、テレビ等に用いら
れるようになっている。液晶表示方式としては、その代
表的なものにTN(捩れネマチック)型、STN(超捩
れネマチック)型、DS(動的光散乱)型、GH(ゲス
ト・ホスト)型あるいはFLC(強誘電性液晶)等があ
り、また駆動方式としても従来のスタティック駆動から
マルチプレックス駆動が一般的になり、さらに単純マト
リックス方式、最近では最も高精細の表示が可能なアク
ティブマトリックス方式が実用化されている。これらの
表示方式、駆動方式に応じて、液晶材料としても種々の
特性が要求されているが、(1)温度範囲が広いこと、
及び(2)粘性が小さいこと、(3)駆動電圧が低いこ
と、はすべての方式に共通して重要である。このうち
(1)には(1a)ネマチック相上限温度(TN−I)
が高いこと、及び(1b)融点が低く、結晶化あるいは
析出等の相分離を生じ難いことが含まれる。これらに加
えて、特にアクティブマトリックス駆動用としては、
(4)電圧保持率(HR)が高いこと、も必要である。
【0003】ところで、液晶素子の駆動電圧は液晶材料
の誘電率異方性(Δε)の平方根に逆比例するので、低
電圧駆動のためには液晶材料のΔεを大きくしなければ
ならない。そのために強い極性基を分子長軸方向に導入
する必要があるが、通常極性基としてはシアノ基が用い
られていた。しかしながら、シアノ基を含有する液晶化
合物では高いHRを得ることは困難であるので、アクテ
ィブマトリックス駆動用としてはシアノ基に換えて、フ
ッ素原子、塩素原子あるいはトリフルオロメトキシ基等
が用いられている。ところが、これらフッ素原子等によ
る極性はシアノ基と比較すると小さく、それだけでは充
分大きいΔεを得ることはできない。従って、分子中の
ベンゼン環にさらに1個以上のフッ素原子を同一方向に
導入する必要がある。そこで複数のフッ素原子で置換さ
れたフェニレン骨格を有する液晶化合物が多数開発され
ている。
【0004】一方、液晶材料にとって屈折率異方性(Δ
n)も非常に重要な特性である。特に高速の応答を達成
するためにセル厚を薄くする場合や、反射型の液晶素
子、あるいはポリマー分散型の液晶素子等の場合にはΔ
nの大きい液晶材料を必要とすることが多い。
【0005】これらの条件を比較的満足できる液晶化合
物として一般式(A)
【0006】
【化2】
【0007】(式中、Raはアルキル基を、Xa及びX
bはそれぞれ独立的にフッ素原子あるいは水素原子を表
わし、シクロヘキサン環はトランス配置である。)で表
わされるシクロヘキシルトラン誘導体が知られている。
しかしながら、この(A)のΔnは0.2程度であり、
決して満足できるものではない。従って、さらに大きい
Δnを有する液晶化合物が求められている。
【0008】一般式(B)
【0009】
【化3】
【0010】(式中、Rbはアルキル基を、Xc及びX
dはそれぞれ独立的にフッ素原子あるいは水素原子を表
わす。)で表わされるフェニルトラン誘導体はこの点を
改善した化合物であり、Δnが0.3程度と非常に大き
いうえに、大きいΔεを得ることができるので上記用途
には特に有用である。
【0011】ところが、このフェニルトラン誘導体
(B)には、融点が非常に高く他の液晶化合物との相溶
性が充分でないという問題点があった。そのため、Δε
が大きくて駆動電圧が低く、かつΔnが非常に大きく、
加えてネマチック相温度範囲が高温まで広くて低温に放
置しても相分離や析出の生じないような組成物の調製は
かなり困難であった。
【0012】従って、複数のフッ素原子で置換されたフ
ェニルトラン骨格を有しながら、TN−Iが高く、かつ
その融点が低下するか、あるいは低温でも結晶化し難く
他の液晶化合物の相溶性が改善された液晶性化合物が望
まれていた。
【0013】
【発明が解決しようとする課題】本発明が解決しようと
する課題は、以上の目的に応じるため、複数のフッ素原
子により置換されたフェニルトラン骨格を有する新規液
晶性化合物を提供し、さらにこれを用いて、Δεが大き
くて駆動電圧が低く、Δnが大きく、さらに液晶温度範
囲が広い、特に低温で析出、相分離等が生じにくい液晶
組成物を提供することにある。
【0014】
【課題を解決するための手段】本発明は、上記課題を解
決するために、一般式(I)
【0015】
【化4】
【0016】(式中、Rは炭素原子数1〜12のアルキ
ル基を表わし、X及びYはそれぞれ独立的に水素原子又
はフッ素原子を表わす。)で表わされるフッ素原子で置
換されたフェニルトラン誘導体を提供する。
【0017】上式中、Rは炭素原子数1〜7の直鎖状ア
ルキル基が好ましい。Yは水素原子が好ましく、Xはフ
ッ素原子が好ましい。一般式(I)の化合物は以下のよ
うにして製造することができる。
【0018】一般式(II)で表わされるフェニルアセ
チレン誘導体
【0019】
【化5】
【0020】(式中、R及びYは一般式(I)における
と同じ意味を表わす。)及び一般式(III)で表わさ
れるビフェニル誘導体
【0021】
【化6】
【0022】(式中、Xは一般式(I)におけると同じ
意味を表わし、Wは塩素、臭素又はヨウ素のハロゲン原
子を表わす。)を触媒存在下に反応させることにより得
ることができる。触媒としてはパラジウム(0)錯体ある
いはパラジウム(II)錯体等とヨウ化銅(I)等の銅(I)塩が
併用される。反応は溶媒中で行われるが、溶媒としては
N,N−ジメチルホルムアミド(DMF)等の非プロト
ン性極性溶媒が好ましく、トリエチルアミン等の塩基性
溶媒が通常併用される。
【0023】ここで、一般式(II)のフェニルアセチ
レン誘導体は、一般式(II’)
【0024】
【化7】
【0025】(式中、R及びYは一般式(I)における
と同じ意味を表わし、Zは塩素、臭素又はヨウ素のハロ
ゲン原子を表わす。)で表わされるハロゲン化ベンゼン
をパラジウム系触媒存在下に2−メチル−3−ブチン−
2−オールと反応させ、次いでアルカリ存在下に加熱す
ることにより容易に得ることができる。また、一般式
(III)のビフェニル誘導体は一般式(III’)の
ビフェニル誘導体
【0026】
【化8】
【0027】(式中、Xは一般式(I)におけると同じ
意味を表わす。)を直接ハロゲン化するか、一般式(I
V)
【0028】
【化9】
【0029】(式中、Xは一般式(I)におけると同じ
意味を表わし、MはMgBr、MgCl、MgI又はL
iを表わす。)で表わされる有機金属反応剤及び一般式
(V)
【0030】
【化10】
【0031】(式中、Wは一般式(III)におけると
同じ意味を表わす。)で表わされるヨードベンゼン誘導
体とをパラジウム(0)錯体、パラジウム(II)錯体あるい
はニッケル(II)錯体等の触媒存在下に反応させることに
より得ることができる。
【0032】かくして得られる本発明の一般式(I)の
化合物は大きいΔεを有し、前述の一般式(A)のシク
ロヘキシルトラン誘導体に対して大きいΔnを示し、一
般式(B)のフェニルトラン誘導体に対して改善された
相溶性を示す。また、シアノ基等の強い極性基が存在し
ないため、高いHRを得ることも容易である。従って、
駆動電圧が低く、温度範囲が広くかつ低温でも析出や相
分離の生じにくい組成物をより容易に調製することが可
能であり、アクティブマトリックス駆動用液晶材料とし
て特に有用である。
【0033】本発明の一般式(I)の化合物に相当する
式(I−1)の3,4,5−トリフルオロ−4’−[2
−(4−プロピル)フェニル]エチニルビフェニル
【0034】
【化11】
【0035】は76℃以下でSA(スメクチックA)相
を、107℃以下でN(ネマチック)相を示し、その融
点は82℃であった。この式(I−1)の化合物30重
量%及び汎用されているホスト液晶(H)
【0036】
【化12】
【0037】70重量%からなる液晶組成物(M−1)
を調製した。この(M−1)は109.5℃以下でネマ
チック相を示した。また、(M−1)を室温で保存した
ところ1週間以上経過しても結晶の析出や相分離は観察
できなかった。
【0038】次に(M−1)のΔεを測定したところ、
8.1であった。ホスト液晶(H)のΔεは4.8であ
るので3.3も大きくなった。また、(M−1)のΔn
は0.159であった。ホスト液晶(H)のΔnは0.
090であるので約0.07と非常に大きくすることが
できた。
【0039】次に、この(M−1)を厚さ6.0μmの
TNセルに封入してその閾値電圧(Vth)を測定したと
ころ、1.96Vであった。ホスト液晶(H)のVth
2.14Vであるので約0.2Vも低減されていること
がわかる。
【0040】これに対して、一般式(A)で表わされる
シクロヘキシルトラン誘導体であって、本発明の式(I
−1)と類似構造を有する式(A−1)
【0041】
【化13】
【0042】の化合物30重量%及びホスト液晶70重
量%からなる比較用液晶組成物(M−A)を調製した。
(M−A)は107.5℃以下でネマチック相を示し
た。このΔεを測定したところ、7.4で(M−1)よ
り小さくなった。
【0043】また、(M−A)のΔnは0.126であ
り、(M−1)に対して0.03以上も小さくなった。
また、一般式(B)で表わされる化合物であって、本発
明の式(I−1)と類似構造を有する式(B−1)
【0044】
【化14】
【0045】の化合物30重量%及びホスト液晶(H)
70重量%からなる比較用液晶組成物(M−B)を調製
した。(M−B)は111℃以下でネマチック相を示
し、Δnも0.155と大きい値を示したが、室温で放
置すると1日以内に結晶が析出してしまった。
【0046】以上のように、本発明の一般式(I)の化
合物は、本発明の化合物と類似構造を有する式(A)の
シクロヘキシルトラン誘導体と比較して大きいΔnと、
本発明の化合物と類似構造を有する式(B)のフェニル
トラン誘導体と比較して優れた相溶性とをあわせ有する
ことが理解できる。
【0047】次に、やはり本発明の一般式(I)の化合
物に相当する式(I−2)の3,4−ジフルオロ−4’
−[2−(4−プロピル)フェニル]エチニルビフェニ
【0048】
【化15】
【0049】は114℃以下で帰属不明のスメクチック
相を、131℃以下でSA相を、168℃以下でN相を
示し、その融点は118.5℃であった。この式(I−
2)の化合物20重量%及びホスト液晶(H)80重量
%からなる液晶組成物(M−2)を調製した。(M−
2)の特性値を以下に示す。
【0050】 N相の上限温度(TN−I) 119.0℃ Δε 5.7 Δn 0.140 従って、本発明の(M−2)もやはり大きいΔεとΔn
を有し、(M−1)より高いTN−Iを示していること
がわかる。
【0051】さらに(M−2)を室温で放置したが、3
日では結晶の析出等は観察されなかった。以上のよう
に、一般式(I)の化合物は、他のネマチック液晶化合
物との混合物の状態で、特にTN型あるいはSTN型と
いった電界効果型表示セルの材料として、好適に使用す
ることができる。特に、一般式(I)の化合物は、分子
内にシアノ基等の強い極性基を持たないので、大きい比
抵抗と高い電圧保持率を得ることが容易であり、アクテ
ィブマトリックス駆動用液晶材料の構成成分として、特
に有用である。
【0052】本発明はこのように一般式(I)で表わさ
れる化合物の少なくとも1種類をその構成成分として含
有する特にネマチック液晶組成物をも提供するものであ
り、好ましくはネマチック相を示す液晶組成物であり、
より好ましくは、アクティブマトリックス駆動用途に用
いられる液晶組成物である。
【0053】この組成物中において、一般式(I)の化
合物と混合して使用することのできるネマチック液晶化
合物の好ましい代表例としては、例えば、4−置換安息
香酸4−置換フェニル、4−置換シクロヘキサンカルボ
ン酸4−置換フェニル、4−置換シクロヘキサンカルボ
ン酸4’−置換ビフェニリル、4−(4−置換シクロヘ
キサンカルボニルオキシ)安息香酸4−置換フェニル、
4−(4−置換シクロヘキシル)安息香酸4−置換フェ
ニル、4−(4−置換シクロヘキシル)安息香酸4−置
換シクロヘキシル、4,4’−置換ビフェニル、1−
(4−置換シクロヘキシル)−4−置換ベンゼン、4,
4’−置換ビシクロヘキサン、1−[2−(4−置換シ
クロヘキシル)エチル]−4−置換ベンゼン、1−(4
−置換シクロヘキシル)−2−(4−置換シクロヘキシ
ル)エタン、4,4”−置換テルフェニル、4−(4−
置換シクロヘキシル)−4’−置換ビフェニル、4−
[2−(4−置換シクロヘキシル)エチル]−4’−置
換ビフェニル、4−(4−置換フェニル)−4’−置換
ビシクロヘキサン、4−[2−(4−置換シクロヘキシ
ル)エチル]−4’−置換ビフェニル、4−[2−(4
−置換シクロヘキシル)エチル]シクロヘキシル−4’
−置換ベンゼン、4−[2−(4−置換フェニル)エチ
ル]−4’−置換ビシクロヘキサン、1−(4−置換フ
ェニルエチニル)−4−置換ベンゼン、1−(4−置換
フェニルエチニル)−4−(4−置換シクロヘキシル)
ベンゼン、2−(4−置換フェニル)−5−置換ピリミ
ジン、2−(4’−置換ビフェニリル)−5−置換ピリ
ミジン及び上記各化合物においてベンゼン環が側方置換
基を有する化合物等を挙げることができる。 このうち
アクティブマトリックス駆動用としては4,4’−置換
ビフェニル、1−(4−置換シクロヘキシル)−4−置
換ベンゼン、4,4’−置換ビシクロヘキサン、1−
[2−(4−置換シクロヘキシル)エチル]−4−置換
ベンゼン、1−(4−置換シクロヘキシル)−2−(4
−置換シクロヘキシル)エタン、4,4”−置換テルフ
ェニル、4−(4−置換シクロヘキシル)−4’−置換
ビフェニル、4−[2−(4−置換シクロヘキシル)エ
チル]−4’−置換ビフェニル、4−(4−置換フェニ
ル)−4’−置換ビシクロヘキサン、4−[2−(4−
置換シクロヘキシル)エチル]−4’−置換ビフェニ
ル、4−[2−(4−置換シクロヘキシル)エチル]シ
クロヘキシル−4’−置換ベンゼン、4−[2−(4−
置換フェニル)エチル]−4’−置換ビシクロヘキサ
ン、1−(4−置換フェニルエチニル)−4−置換ベン
ゼン、1−(4−置換フェニルエチニル)−4−(4−
置換シクロヘキシル)ベンゼン及び上記においてベンゼ
ン環がフッ素置換されている化合物が適している。
【0054】
【実施例】以下に本発明の実施例を示し、本発明を更に
説明する。しかしながら、本発明はこれらの実施例に限
定されるものではない。
【0055】化合物の構造は、核磁気共鳴スペクトル
(NMR)、質量スペクトル(MS)及び赤外吸収スペ
クトル(IR)により確認した。また転移温度の測定は
ホットステージを備えた偏光顕微鏡及び示差走査熱量計
(DSC)を併用して行った。なお、組成物中の「%」
は『重量%』を表わす。 (参考例1) 3,4,5−トリフルオロ−4’−ブ
ロモビフェニルの合成
【0056】
【化16】
【0057】乾燥したテトラヒドロフラン(THF)8
ml中に削り状マグネシウム3.9gを加えた。これに
1−ブロモ−3,4,5−トリフルオロベンゼン28g
のTHF120ml溶液を、穏やかな還流が持続する速
度で滴下した。さらに還流温度で1時間加熱撹拌した。
室温に放冷後、過剰未反応のマグネシウムを濾別した。
【0058】1−ヨード−4−ブロモベンゼン25g及
びテトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム
(0)2.0gをTHF100mlに溶解した。これに
上記で得られたグリニヤール反応剤を室温で3時間で滴
下し、さらに1時間室温で撹拌した。稀塩酸を水層が酸
性になるまで加え、次に酢酸エチル300mlを加え
た。有機層を分離後、水で洗滌し、無水硫酸ナトリウム
で脱水乾燥した。溶媒を溜去後、シリカゲルカラムクロ
マトグラフィー(ヘキサン)を用いて精製して3,4,
5−トリフルオロ−4’−ブロモビフェニルの白色結晶
20.2gを得た。 融点:68℃ MS:m/e=286(M+)、288 (実施例1) 3,4,5−トリフルオロ−4’−
[2−(4−プロピル)フェニル]エチニルビフェニル
(本発明の式(I−1)の化合物)の合成
【0059】
【化17】
【0060】参考例1で得た3,4,5−トリフルオロ
−4’−ブロモビフェニル10.0gと4−プロピル−
1−エチニルベンゼン6.6gをジメチルホルムアミド
(DMF)50ml及びトリエチルアミン10mlに溶
解した。テトラキストリフェニルホスフィンパラジウム
(0)0.40g及びヨウ化銅(I)0.10gを加え、75
℃で2時間攪拌した。トルエン50mlを加え、水、飽
和食塩水で順次洗滌した。無水硫酸ナトリウムで脱水乾
燥した後、溶媒を溜去して、得られた粗生成物をシリカ
ゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキサン)を用いて精
製して、さらにエタノールから再結晶して3,4,5−
トリフルオロ−4’−[2−(4−プロピル)フェニ
ル]エチニルビフェニルの白色結晶5.9gを得た。こ
の化合物の融点は82℃であり、107℃までN(ネマ
チック)相を示した。また、N相からの冷却時、76℃
以下でSA(スメクチックA)相を示した。
【0061】同様にして以下の化合物を得た。 3,4,5−トリフルオロ−4’−[2−(4−メチ
ル)フェニル]エチニルビフェニル 3,4,5−トリフルオロ−4’−[2−(4−エチ
ル)フェニル]エチニルビフェニル 3,4,5−トリフルオロ−4’−[2−(4−ブチ
ル)フェニル]エチニルビフェニル 3,4,5−トリフルオロ−4’−[2−(4−ペンチ
ル)フェニル]エチニルビフェニル (実施例2) 3,4−ジフルオロ−4’−[2−
(4−プロピル)フェニル]エチニルビフェニル(本発
明の式(I−2)の化合物)の合成 参考例1において1−ブロモ−3,4,5−トリフルオ
ロベンゼンに換えて、1−ブロモ−3,4−ジフルオロ
ベンゼンを用いた以外は参考例1と同様にして、3,4
−ジフルオロ−4’−ブロモビフェニルを得た。
【0062】次に、実施例1において3,4,5−トリ
フルオロ−4’−ブロモビフェニルに換えて、上記で得
た3,4−ジフルオロ−4’−ブロモビフェニルを用い
た以外は実施例1と同様にして、3,4−ジフルオロ−
4’−[2−(4−プロピル)フェニル]エチニルビフ
ェニルの白色結晶を得た。
【0063】この化合物の融点は118.5℃であり、
131℃までSA相を示し、168℃までN(ネマチッ
ク)相を示した。また、SA相からの冷却時、114℃
以下で帰属不明のスメクチック相を示した。
【0064】同様にして以下の化合物を得た。 3,4−ジフルオロ−4’−[2−(4−エチル)フェ
ニル]エチニルビフェニル 3,4−ジフルオロ−4’−[2−(4−ブチル)フェ
ニル]エチニルビフェニル 3,4−ジフルオロ−4’−[2−(4−ペンチル)フ
ェニル]エチニルビフェニル 3,4,5−トリフルオロ−4’−[2−(2−フルオ
ロ−4−エチル)フェニル]エチニルビフェニル 3,4,5−トリフルオロ−4’−[2−(2−フルオ
ロ−4−プロピル)フェニル]エチニルビフェニル 3,4,5−トリフルオロ−4’−[2−(2−フルオ
ロ−4−ブチル)フェニル]エチニルビフェニル 3,4,5−トリフルオロ−4’−[2−(2−フルオ
ロ−4−ペンチル)フェニル]エチニルビフェニル 3,4−ジフルオロ−4’−[2−(2−フルオロ−4
−エチル)フェニル]エチニルビフェニル 3,4−ジフルオロ−4’−[2−(2−フルオロ−4
−プロピル)フェニル]エチニルビフェニル 3,4−ジフルオロ−4’−[2−(2−フルオロ−4
−ブチル)フェニル]エチニルビフェニル 3,4−ジフルオロ−4’−[2−(2−フルオロ−4
−ペンチル)フェニル]エチニルビフェニル (実施例3) 液晶組成物の調製(1) 現在、汎用されているホスト液晶(H)
【0065】
【化18】
【0066】を調製した。このホスト液晶(H)は11
6.7℃以下でネマチック相を示し、その融点は11℃
であった。その物性値及びこれを用いて作成したセル厚
6μmのTNセルの閾値電圧(Vth)は以下の通りであ
った。
【0067】 誘電率異方性(Δε) 4.8 屈折率異方性(Δn) 0.090 閾値電圧(Vth) 2.14V このホスト液晶(H)70重量%及び実施例1で得た式
(I−1)の3,4,5−トリフルオロ−4’−[2−
(4−プロピル)フェニル]エチニルビフェニル
【0068】
【化19】
【0069】30重量%からなる液晶組成物(M−1)
を調製した。同様にして測定したN相の上限温度(TN
−I)及びその特性値は以下の通りとなった。
【0070】 TN−I 109.5℃ Δε 8.1 Δn 0.159 Vth 1.96V 従って、Δεはホスト液晶(H)と比較して3.3も大
きくなり、Δnはホスト液晶(H)と比較して約0.0
7と非常に大きくすることができた。さらにTN−Iは
約7゜上昇しているうえに、Vthは約0.2Vも低減さ
れていることがわかる。
【0071】次に、この(M−1)を室温で保存したと
ころ1週間以上経過しても結晶の析出や相分離は観察で
きなかった。従って、式(I−1)の化合物はホスト液
晶(H)に対して良好な相溶性を有していることが理解
できる。 (比較例1)前述の一般式(A)で表わされるシクロヘ
キシルトラン誘導体であって、本発明の式(I−1)の
化合物と類似構造を有する式(A−1)
【0072】
【化20】
【0073】の化合物30重量%及びホスト液晶70重
量%からなる比較用液晶組成物(M−A)を調製した。
(M−A)は107.5℃以下でネマチック相を示し
た。
【0074】このΔεを測定したところ、7.4で(M
−1)より小さくなった。また、(M−A)のΔnは
0.126であり、(M−1)に対して0.03以上も
小さくなった。
【0075】従って、本発明の(I)の化合物のΔn増
大効果は一般式(A)の化合物よりはるかに優れること
がわかる。 (比較例2)前述の一般式(B)で表わされるフェニル
トラン誘導体であって、本発明の式(I−1)の化合物
と類似構造を有する(B−1)
【0076】
【化21】
【0077】の化合物30重量%及びホスト液晶(H)
70重量%からなる比較用液晶組成物(M−B)を調製
した。(M−B)は111℃以下でネマチック相を示
し、Δnも0.155と大きい値を示したが、室温で放
置すると1日以内に結晶が析出してしまった。
【0078】従って、本発明の一般式(I)の化合物は
一般式(B)のフェニルトラン誘導体と比較して非常に
改善された相溶性を有することがわかる。 (実施例4) 液晶組成物の調製(2) ホスト液晶(H)の80重量%及び実施例2で得た式
(I−2)の3,4−ジフルオロ−4’−[2−(4−
プロピル)フェニル]エチニルビフェニル
【0079】
【化22】
【0080】20重量%からなる液晶組成物(M−2)
を調製した。同様にして測定したN相の上限温度(TN
−I)及びその特性値は以下の通りとなった。
【0081】 N相の上限温度(TN−I) 119.0℃ Δε 5.7 Δn 0.140 従って、やはり大きいΔεとΔnを有し、(M−1)よ
り高いTN−Iを示していることがわかる。さらに(M
−2)を室温で放置したが、3日では結晶の析出等は観
察されなかった。
【0082】
【発明の効果】本発明の一般式(I)で表わされるフェ
ニルトラン誘導体は、実施例にも示したように工業的に
も容易に製造することができる。また、得られたフェニ
ルトラン誘導体は液晶性に優れ、汎用のホスト液晶との
相溶性にも優れる。しかも誘電率異方性及び屈折率異方
性、特に屈折率異方性が非常に大きいという特徴を示
す。
【0083】また、本発明の一般式(I)で表わされる
フェニルトラン誘導体を含有する液晶組成物は、温度範
囲が広く、駆動電圧を低くすることが可能であるうえ
に、低温でも結晶が析出し難いという特徴を有するた
め、実用的液晶として極めて有用である。
【0084】さらに、大きい比抵抗と高い電圧保持率が
容易に得られるので、特にアクティブマトリックス用液
晶材料として好適である。

Claims (7)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 一般式(I) 【化1】 (式中、Rは炭素原子数1〜12のアルキル基を表わ
    し、X及びYはそれぞれ独立的に水素原子又はフッ素原
    子を表わす。)で表わされる化合物。
  2. 【請求項2】 Yが水素原子を表わすところの請求項1
    記載の一般式(I)の化合物。
  3. 【請求項3】 Xがフッ素原子を表わすところの請求項
    2記載の一般式(I)の化合物。
  4. 【請求項4】 Rが炭素原子数1〜7の直鎖状アルキル
    基を表わすところの請求項3記載の一般式(I)の化合
    物。
  5. 【請求項5】 請求項1記載の一般式(I)で表わされ
    る化合物を含有する液晶組成物。
  6. 【請求項6】 ネマチック相を示す請求項5記載の液晶
    組成物。
  7. 【請求項7】 アクティブマトリックス駆動用途に用い
    られる請求項6記載の液晶組成物。
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN104178179A (zh) * 2014-07-17 2014-12-03 北京大学 一种宽温域低粘度的向列相液晶材料
US10934486B2 (en) 2016-10-07 2021-03-02 Nitto Denko Corporation Liquid crystal composition, liquid crystal mixture, reverse-mode polymer dispersed liquid crystal element, and associated selectively dimmable device

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US10934486B2 (en) 2016-10-07 2021-03-02 Nitto Denko Corporation Liquid crystal composition, liquid crystal mixture, reverse-mode polymer dispersed liquid crystal element, and associated selectively dimmable device

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