JPH1075333A - イメージセンサ及び画像読取装置 - Google Patents

イメージセンサ及び画像読取装置

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JPH1075333A
JPH1075333A JP8228613A JP22861396A JPH1075333A JP H1075333 A JPH1075333 A JP H1075333A JP 8228613 A JP8228613 A JP 8228613A JP 22861396 A JP22861396 A JP 22861396A JP H1075333 A JPH1075333 A JP H1075333A
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JP
Japan
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scanning direction
pixel
image sensor
main scanning
light
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Withdrawn
Application number
JP8228613A
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English (en)
Inventor
Hiroshi Iwata
弘 岩田
Akira Oi
亮 大井
Takashi Ozeki
高志 大関
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Toshiba Corp
Toshiba Development and Engineering Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
Toshiba Electronic Engineering Co Ltd
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Publication date
Application filed by Toshiba Corp, Toshiba Electronic Engineering Co Ltd filed Critical Toshiba Corp
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Abstract

(57)【要約】 (修正有) 【課題】 主走査方向と副走査方向の解像度が等しいイ
メージセンサを提供する。 【解決手段】 本発明のイメージセンサは、高抵抗基板
101上に、画素電極102a、102b、102c、
a−Si半導体膜104、透明共通電極105を積層し
た構成の光電変換素子アレイが列設されており、副走査
方向にn列並列配置された複数の画素からなる主走査方
向の長さと副走査方向の長さとがほぼ等しい絵素が、こ
の絵素の主走査方向の長さとほぼ等しいピッチで主走査
方向に列設された線状の検出領域を有することを特徴と
する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明はa−Si半導体を光
電変換素子に用いたイメージセンサ、画像読取り装置に
関し、特に密着型イメージセンサ、カラー画像読取り装
置に関する。
【0002】
【従来の技術】イメージセンサおよびイメージセンサを
用いた画像読取り装置は、例えばイメージスキャナ、金
融端末機器、ファクシミリ装置、ディジタル複写機電子
黒板、印刷機器等において印刷物や記載事項等の画像情
報を読み取るために幅広く用いられている。
【0003】一般に画像読取装置としては縮小型と密着
型が存在しその特徴により使用されている。
【0004】縮小型(縮小光学型)センサは例えばファ
クシミリやイメージスキャナなどの画像読取によく用い
られている。CCDセンサ(CCD:Charge C
oupled Device)では、例えばA4幅(約
210mm)の原稿を幅約30mmのCCDチップから
なる光電変換部に結像する構成となっている。CCDセ
ンサの画素サイズは非常に小さく、縮小光学系の倍率に
よって高精細の読み取りが可能である。
【0005】しかしながら、被検出画像をCCDセンサ
の素子列の幅に縮小するための縮小光学レンズを必要と
するため、原稿からセンサまでの距離が長くなり、画像
読取装置が大型となるという問題がある。さらに良好な
読取り画像を得るためには被検出画像をCCDセンサへ
結像する光学系及びCCDセンサの取付精度を高くしな
ければならないという問題があり、さらに取り付け精度
を高くするための機構を要するためコストが高くなると
いう問題がある。
【0006】一方、密着型センサは被検出画像を等倍、
すなわち1:1で光電変換素子(画素)に結像して画像
読取を行うものであり、例えばa−Si半導体(a−S
i:非晶質シリコン)を光電変換素子に用いた密着型イ
メージセンサ等が用いられている。この密着型センサは
小型または取付性の簡便さ等が要求される分野において
よく用いられている。
【0007】この密着型イメージセンサはガラス基板な
どの高抵抗基体上に、原稿の画素に対応した読み取り単
位となる分離された画素電極を形成し、その上にa−S
i半導体層を一様に形成し、この半導体層上に透明な共
通電極を画素電極と対向して形成した構造となってい
る。そして原稿面からセンサに導かれた光情報の強度に
対応してa−Si半導体層で発生する電荷を蓄積し、電
気信号として読み出すことにより画像情報の読み取りが
行われる。
【0008】金融および各種印刷等の産業機器分野にお
いても画像読取装置を用いた検査が多く用いられてお
り、紙幣の鑑別などもその用途の1例である。このよう
な分野では、高速の読み取りを要するために、原稿の文
字情報を画像として認識する場合と比較して、より大き
な画素での透過及び反射光量の情報により画像読み取り
を行っている。このような分野では、a−Si半導体を
用いた密着型イメージセンサが多く用いられており、例
えば紙幣鑑別用のセンサでは絵素のピッチは1〜3[p
el/mm]程度である。ここで[pel/mm]は1
mmあたりの絵素の配設数である。
【0009】一方、近年になってカラーイメージの読み
取りも盛んに行われるようになり、産業機器分野におい
ても紙幣の判別精度を上げる等の目的でカラー読み取り
を行うためのイメージセンサの開発が行われている。
【0010】従来のカラーイメージセンサは色分割の方
向をセンサの主走査方向としている。このため色分割数
をnとし、それぞれの画素のピッチがモノクロの場合と
同一とした場合、主走査方向の解像度は1/n倍(色分
割の数が3の場合は1/3倍)となってしまうという問
題があった。
【0011】また例えば、CCD、マルチチップセンサ
のインライン型のように色分割の方向を副走査方向と
し、分割した各色の情報を検出する画素を副走査方向に
配列した構造では、絵素の副走査方向の長さが主走査方
向の長さよりも大きくなってしまう。このため、色分割
した複数の画素の情報を同一絵素の情報とするために
は、各画素列の信号読みだしを遅延する等の信号処理を
行わなくてはならないという問題がある。また、同一絵
素の情報を導くために、各素子列毎にレンズ、プリズ
ム、回折格子等の光学的手段を配設する必要があるとい
う問題がある。
【0012】従来のa−Si密着イメージセンサにおけ
るカラー読み取りは上述したカラーセンサの構成に見ら
れるように、色分割方向を主走査方向および副走査方向
とした読み取り方法が知られている。
【0013】前述したように、色分割を主走査方向とし
た場合は原稿の主走査方向の解像度はセンサ画素ピッチ
が同一であればモノクロの場合に比べ1/(色分割数)
倍に低下してしまうという問題がある。
【0014】多くの光電変換素子、例えばCCDセンサ
等においては光電変換出力が画素面積に比例するため、
色分割を副走査方向とした場合の各素子列の間隔は主走
査方向の画素ピッチの1倍以上となる。このため、同一
絵素の情報とするためには、各素子列の信号読みだしを
遅延する等の信号処理を行わなくてはならないという問
題がある。また同一原稿画素の光情報を導くため、各素
子列毎にレンズ、プリズム、回折格子等の光学的手段を
用いる必要があり、装置が大型きくなったり、コストが
高くなるといった問題がある。
【0015】さらに、各画素からの配線を主走査方向の
画素の間から引き出す必要があるため、クロストーク、
すなわち配線部分での光電変換を防止するため配線部分
の光入射側に遮光マスクを取り付けなければならないと
いう問題がある。
【0016】a−Si半導体の分光感度特性は図8に示
すように可視光量域全体に対しては良好な感度特性を持
っているが、それぞれの色(波長域)に分解した場合そ
の感度は一様ではないという問題がある。また、カラー
フィルタの透過率特性についても同様なことがいえる。
このため、絵素全体として良好な読取りを行うために
は、カラーフィルタ部分にNDフィルタを重ねる等の光
学的補正、またはセンサにより得られた信号の電気的補
正などの補正手段を必要とするという問題がある。
【0017】図17は従来の画像読取り装置の構造を概
略的に示す図であり、図18はこの画像読取り装置の断
面を概略的に示す図である。
【0018】押し出し成型などにより一体的に形成した
ハウジング902に光源905、例えばセルフォックレ
ンズなどの光学系904、イメージセンサモジュール9
03を固定した構造となっている。ハウジング902は
1対の側板901とともに画像読取装置の筐体を構成す
る。
【0019】光源光は被読取り面で反射し、光学系90
4を通じてイメージセンサモジュールの光電変換素子を
備えた画素に入射する。したがって、ハウジング902
には、光学系904を出射した光を通すための長穴90
8を設ける必要がある。
【0020】このようなイメージセンサモジュール90
3、光学系904、光源905からなる画像読み取り装
置を形成する場合、光学系とイメージセンサの位置決め
をするのにハウジング902を押し出し成形で作り、そ
のハウジング902にイメージセンサモジュール903
に結像するための光を通す長穴908を形成し、ハウジ
ング902にイメージセンサモジュール903、光学系
904を保持固定する方法がある。
【0021】図17、図18に例示した構造の画像読取
り装置の場合、光学系904とイメージセンサモジュー
ル903の距離は、ハウジング902の出来上がり精度
に依存することになる。イメージセンサの解像度が例え
ば、8pel/mm以上のように高くなった場合、また
は読み取り長(主走査方向の読取り幅)が、例えば20
0mm程度のように長くなった場合、ハウジングの精度
が不足し、十分な解像度を得ることが困難であるという
問題がある。また、長穴908の加工がコスト上昇に大
きく跳ね返るという問題点がある。
【0022】十分な解像度を確保するために、光学系9
04の取り付け位置を調整するための機構を設けること
も行われている。図19はこのような光学系904の取
り付け位置を調整するための機構の例を概略的に示す図
である。
【0023】図19(a)、図19(b)に示すよう
に、光学系904の取り付け位置を調整するための機構
として光学系904の保持を兼ねた位置調整用の板バネ
931とネジ932を設けたり(図19(a))、光学
系904とネジ932の間にさらに楔933を設ける
(図19(b))ことにより、イメージセンサ903と
光学系904との位置関係を、被検出面で反射した光源
光が正しくイメージセンサへ投射されるように調節する
ものである。ここでは板バネ931とネジ932を設け
た例を示したが、ネジの代わりにコイルを設けたものも
ある。
【0024】ハウジング902の精度の不足を補うため
に、図19に例示したような光学系904とイメージセ
ンサモジュール903との位置を調節する機構を設ける
と、機構が複雑となるため組立工数が多くなり生産性が
低下し、コスト上昇が避けられないという問題がある。
また、ネジ932などにより光学系904の焦点合せの
工程が必要となるなど生産性が低下し、コスト上昇が避
けられないという問題もある。さらに、機構が複雑にな
るために、部品点数が多くなり、またリサイクルに要す
る手間も増大することから、対環境性に弱くなるという
問題がある。
【0025】
【発明が解決しようとする課題】本発明はこのような問
題点を解決するためになされたものである。すなわち本
発明は、解像度を低下させることなくカラー画像を読み
取ることのできるイメージセンサ、画像読み取り装置を
提供することを目的とする。また、コンパクトで解像度
が高く安価な画像読み取り装置を提供することを目的と
する。
【0026】また本発明は、主走査方向と副走査方向の
解像度が等しいカラーイメージセンサ、カラー画像読取
装置を提供することを目的とする。さらに、読みだし信
号の遅延処理や、画素毎にレンズ、プリズム、回折格子
等の光学的手段を配設することのない、主走査方向と副
走査方向の解像度が等しいカラーイメージセンサおよび
カラー画像読取装置を提供することを目的とする。画素
間のクロストークを低減した、にじみの少ないイメージ
センサ、画像読取り装置を提供することを目的とする。
また本発明はa−Si半導体の分光感度特性にかかわら
ず、絵素全体として良好な読取りを行うことができるイ
メージセンサおよび画像読取り装置を提供することを目
的とする。
【0027】本発明は、簡易な構造で高精度の読取りを
行える画像読取装置を提供することを目的とする。ま
た、光学系に調節機構を設けることなく、簡易な構造で
高精度の読取りを行える画像読取装置を提供することを
目的とする。また、製造が容易でコストの安い画像読取
装置を提供することを目的とする。さらにリサイクルが
容易で対環境性の高い画像読取装置を提供することを目
的とする。また、高解像度のイメージセンサを用いる場
合でも十分な読取り精度を持つ安価な画像読取り装置を
提供することを目的とする。
【0028】
【課題を解決するための手段】本発明のイメージセンサ
は、副走査方向にn列並列配置された複数の画素からな
る主走査方向の長さLm と副走査方向の長さLs とがほ
ぼ等しい絵素が、この絵素の主走査方向の長さLm とほ
ぼ等しいピッチで主走査方向に列設された線状の検出領
域を有することを特徴とする。
【0029】また本発明のイメージセンサは、主走査方
向の長さと副走査方向の長さがほぼ等しい絵素が、この
絵素の主走査方向の長さとほぼ等しいピッチで主走査方
向に列設された線状の検出領域と、前記絵素内の副走査
方向にn列並列配置され、主走査方向の長さと副走査方
向の長さとの比がほぼn:1である、第1の中心波長を
有する光を検出する第1の画素と第2の中心波長を有す
る光を検出する第2の画素とを具備したことを特徴とす
る。
【0030】ここで本発明において、絵素内にn列並列
配置される画素の列数は、第1の画素、第2の画素とし
て説明している場合であっても2列に限ることはなく、
3列、4列、またはそれ以上並列配置するようにしても
よい。このことは以下特に述べない場合も同様である。
絵素内に少なくとも3個の画素を並列配置し、例えばR
GB、CMYなどの波長成分を有する光を検出すること
によりカラー画像の読み取りを行うことができる。
【0031】また本発明のイメージセンサは、副走査方
向に画素をn列並列配置し、副捜査方向の画素の配設ピ
ッチPmと、主走査方向の画素の配設ピッチPsが1:
nとなることを特徴とする。
【0032】また本発明のイメージセンサは、主走査方
向の長さLm 、副走査方向の長さLs の絵素が主走査方
向に線状に形成されたイメージセンサであって、前記絵
素は、副走査方向にn列並列配置された、主走査方向の
長さがほぼLm 、副走査方向の長さがほぼLs /nであ
る、光電変換素子を有する画素から構成されたことを特
徴とする。
【0033】また本発明のイメージセンサは、光電変換
素子を備えた画素が主走査方向にm列副走査方向にn列
(n≧2)マトリクス状に配設されたイメージセンサで
あって、前記画素は、主走査方向の配設ピッチをLm 、
副走査方向の配設ピッチをLs としたとき、Lm /Ls
がほぼnになるように調節して配設されたことを特徴と
する。
【0034】本発明のイメージセンサは、副走査方向に
n列並列配置された第1の中心波長を有する光を検出す
る第1の画素と第2の中心波長を有する光を検出する第
2の画素とからなる、主走査方向の長さLm と副走査方
向の長さLs がほぼ等しい絵素領域が、この絵素の主走
査方向の長さLm とほぼ等しいピッチで主走査方向に列
設された線状の検出領域を有する絶縁性基板と、この絶
縁性基板上の第1および第2の画素に、第1および第2
の画素間および絵素間で相互に絶縁を保つように形成さ
れた導体薄膜からなる画素電極と、前記画素電極上に形
成された半導体膜と、前記半導体膜上に前記画素電極と
対向するように形成された透明導電体膜とを具備したこ
とを特徴とする。
【0035】また本発明のイメージセンサは、副走査方
向にn列並列配置された第1の中心波長を有する光を検
出する第1の画素と第2の中心波長を有する光を検出す
る第2の画素とからなる、主走査方向の長さLm と副走
査方向の長さLs がほぼ等しい絵素が、この絵素の主走
査方向の長さLm とほぼ等しいピッチで主走査方向に列
設された線状の検出領域を有する絶縁性基板と、この絶
縁性基板上の第1および第2の画素に、第1および第2
の画素間および絵素間で相互に絶縁を保つように形成さ
れた導体薄膜からなる画素電極と、前記絶縁性基板上
に、前記画素電極と接続するように形成された導体配線
と、前記画素電極および導体配線上に形成された半導体
膜と、前記画素電極と対応する領域を覆うとともに前記
導体配線に対応する領域に除去領域を有するように、前
記半導体膜上に形成された透明導電体膜とを具備したこ
とを特徴とする。
【0036】また本発明のイメージセンサは、副走査方
向にn列並列配置された第1の中心波長を有する光を検
出する第1の画素と第2の中心波長を有する光を検出す
る第2の画素とからなる、主走査方向の長さLm と副走
査方向の長さLs がほぼ等しい絵素が、この絵素の主走
査方向の長さLm とほぼ等しいピッチで主走査方向に列
設された線状の検出領域を有する絶縁性基板と、この絶
縁性基板上の前記検出領域に、第1の画素と第2の画素
との間および絵素間で相互に絶縁を保つように形成され
た画素電極と、この画素電極上に形成された半導体膜
と、前記半導体膜上に前記画素電極と対向するように形
成された透明導電体膜と、第1の画素と第2の画素との
色感度差を緩和するように、前記透明導電体膜上の第1
の画素に対応する領域に形成された光を透過する第1の
フィルタ手段と、第2の画素に対応する領域に形成され
た光を透過する第2のフィルタ手段とを具備したことを
特徴とする。
【0037】また本発明のイメージセンサは、副走査方
向にn列並列配置された第1の中心波長を有する光を検
出する第1の画素と第2の中心波長を有する光を検出す
る第2の画素とからなる、主走査方向の長さLm と副走
査方向の長さLs とがほぼ等しい絵素が、主走査方向に
ピッチLm で列設された線状の検出領域を有する絶縁性
基板と、前記絶縁性基板上の第1の画素内に形成された
第1の画素電極および第2の画素内に形成された第2の
画素電極と、前記検出領域の主走査方向に対して関して
一方の側に配設された第1の画素電極を駆動する第1の
駆動回路と、前記検出領域の主走査方向に関して第1の
駆動回路と反対側に配設された第2の画素電極を駆動す
る第2の駆動回路と第1の画素電極と第1の駆動回路と
を接続する第1の導体配線と、第2の画素電極と第2の
駆動回路とを接続する第2の導体配線とを具備したこと
を特徴とする。
【0038】また本発明のイメージセンサは、副走査方
向にn(n≧2)列配置したa−Si半導体膜を有する
画素(光電変換素子)と、この画素アレイ上に画素列に
対応して配置したカラーフィルタとを具備したa−Si
カラー画像読み取り装置において、光画素列の間隔を主
走査方向の画素間隔のおよそ1/nとし、画素の透明共
通電極を主走査方向の画素に対応して櫛状とし、光電変
換素子に導かれる光の光量分布に対応して各色の色感度
が均一になるように色フィルタを配置したものである。
【0039】これら本発明のイメージセンサの光電変換
素子構成する前記半導体膜は、非晶質シリコン膜を形成
するようにしてもよい。
【0040】また、前記絵素の主走査方向の配設ピッチ
はほぼ0.3mm以上に形成するようにしてもよい。こ
のようなピッチで形成することにより、1絵素の面積が
ほぼ0.1mm2 以上に形成されることになり、画素電
極と共通電極との間に形成される容量を、配線等により
形成される浮遊容量よりも十分大きくなる。したがっ
て、画素サイズによらずほぼ一定の出力が得られる。
【0041】本発明の画像読取装置は、光源と、副走査
方向にn列並列配置された第1の中心波長を有する光を
検出する第1の画素と第2の中心波長を有する光を検出
する第2の画素とからなる、主走査方向の長さLm と副
走査方向の長さLs がほぼ等しい絵素が、この絵素の主
走査方向の長さLm とほぼ等しいピッチで主走査方向に
列設された線状の検出領域を有するイメージセンサと、
光を被検出体の前記検出領域に対応する被検出領域に照
射する光源と、前記被検出領域で反射した前記光源光を
前記検出領域に導く光学系と、前記光学系と前記検出領
域との間に、第1の画素に対応する領域では第1の波長
を有する光を透過し、第2の画素に対応する領域では第
2の波長を有する光を透過するように形成されたフィル
タ手段とを具備したことを特徴とする。
【0042】フィルタ手段は、光学系から第1の画素へ
導かれる光の強度が第2の画素へ導かれる光の強度より
大きいとき、第1の波長を有する光の色感度は第2の波
長を有する光の色感度よりも低くなるように配列するこ
とが好適である。
【0043】本発明の画像読取装置は、光源と、光学系
と、光電変換素子が列設された画素アレイを有するイメ
ージセンサモジュールとが筐体に固定され、光源光を被
検出領域で反射させ、この反射光を前記光学系により前
記イメージセンサモジュールの前記画素アレイに導いて
画像を読み取る画像読取り装置において、前記イメージ
センサモジュールの前記光電変換素子の列設方向と垂直
に配設された、前記イメージセンサモジュールを介して
相互に対向する、前記筐体を構成する1対の側板と、前
記側板にそれぞれ形成された、前記イメージセンサモジ
ュールを端持する第1の保持部材と、前記側板にそれぞ
れ形成された、前記第1の保持部材により端持される前
記イメージセンサモジュールと前記光学系との位置関係
を、前記被検出領域で反射した光源光が前記光学系によ
り前記イメージセンサの光電変換素子に1:1に結像す
るように規定する第2の保持部材とを具備したことを特
徴とする。
【0044】また本発明の画像読取装置は、光源と、光
学系と、光電変換素子が列設された画素アレイを有する
イメージセンサモジュールとが筐体に固定され、光源光
を被検出領域で反射させ、この反射光を前記光学系によ
り前記イメージセンサモジュールの前記画素アレイに導
いて画像を読み取る画像読取り装置において、前記イメ
ージセンサモジュールの前記光電変換素子の列設方向と
垂直に配設された、前記イメージセンサモジュールを介
して相互に対向する、前記筐体を構成する1対の側板
と、前記イメージセンサモジュールの前記光電変換素子
の列設方向と平行に配設された、前記イメージセンサモ
ジュールを介して相互に対向する、前記筐体を構成する
第1のハウジングおよび第2のハウジングと、前記側板
にそれぞれ形成された、前記イメージセンサモジュール
を端持する第1の保持部材と、前記側板にそれぞれ形成
された、前記第1の保持部材により端持される前記イメ
ージセンサモジュールと前記光学系との位置関係を、前
記被検出領域で反射した光源光が前記光学系により前記
イメージセンサの光電変換素子に1:1に結像するよう
に規定する第2の保持部材とを具備したことを特徴とす
る。
【0045】前記第1の保持部材および前記第2の保持
部材は接着剤、粘着テープまたはネジにより前記側板に
固定するようにしてもよい。
【0046】また本発明の画像読取り装置は、支持板
と、高抵抗基体と、この高抵抗基体上に規則的に配列さ
れる透明電極、アモルファスシリコンおよび金属電極か
らなる複数の光電変換素子(画素)と、この複数の光電
変換素子を駆動する駆動手段と、前記駆動手段を載置し
たプリント配線基板とからなるイメージセンサモジュー
ルと、被読取り物に光を照射する光源と、被読取り物か
らの反射光を1対1で光電変換素子上に結像する光学系
と、前記光学系とイメージセンサモジュールの位置関係
を規定する支持部材と、光源、イメージセンサモジュー
ル、光学系、前記支持部材を固定保持する2分割された
ハウジングとからなることを特徴とする。
【0047】また本発明の画像読取り装置は、イメージ
センサモジュールと被読取り物からの反射光を1対1で
光電変換素子上に結像する光学系との位置関係を規定す
る支持部材と、前記支持部材とイメージセンサモジュー
ル、光学系、光源を保持固定する2分割型ハウジング
と、イメージセンサモジュール、光学系、光源からなる
ことを特徴とする。
【0048】すなわち、本発明のイメージセンサは主走
査方向Lm と副走査方向Ls の長さとがほぼ等しい絵素
を副捜査方向にn分割された画素により構成し、この絵
素を、絵素の主走査方向の長さとほぼ同じピッチで列設
した画素アレイを検出領域として有するイメージセンサ
である。そして1絵素を構成するn個の画素の主走査方
向の長さをLm とほぼ等しく、副走査方向の長さをLs
/nとほぼ等しくなるように調節して配設している。
【0049】前述のように、1絵素内にn列並列配置す
る画素は、第1の画素、第2の画素として説明する場合
にも2列に限ることはなく、3列、4列、またはそれ以
上並列配置するようにしてもよい。絵素内に少なくとも
3個の画素を並列配置し、例えばRGB、CMYなどの
波長成分を有する光を検出することによりカラー画像の
読み取りを行うことができる。
【0050】絵素を構成する画素は、通常、画素電極と
透明共通電極との間にa−Siなどの半導体膜を挟持し
た光電変換素子として構成されるから、上述した画素の
大きさは画素電極の大きさと実質的に同じである。画素
電極の大きさにより、配線などにより形成される浮遊容
量と画素容量の比率が変化し、出力が画素面積の大きさ
で変わる。画素面積が小さい場合には出力が低下するか
ら、出力を大きくするための増幅回路などを要するため
構成が複雑になる。画素面積を大きくし、画素容量が配
線等により形成される浮遊容量よりも十分に大きな構成
にすることにより、画素面積による感度変化が少なく、
また出力を増幅するための複雑な増幅回路を不要とした
イメージセンサが得られる。
【0051】また本発明においては、画素容量を配線等
により形成される浮遊容量よりも十分に大きくする観点
から、画素を副走査方向に2列並列配置する場合には
(n=2)、画素面積を約0.05mm2 以上に形成す
ることが好適である。主走査方向の配設ピッチについて
も、約0.3mmより大きなピッチで配設することが好
適である。例えば3pel(3絵素/mm)の場合には
絵素の主走査方向の配設ピッチはほぼ0.33mmとな
る。画素を副走査方向に3列並列配置する場合には(n
=3)、画素面積を約0.03mm2 以上に形成するこ
とが好適である。この場合にも、主走査方向の配設ピッ
チについても、約0.3mmより大きなピッチで配設す
ることが好適である。例えば3pel(3絵素/mm)
の場合には絵素の主走査方向の配設ピッチはほぼ0.3
3mmとなる。またここでほぼ等しくとは、例えばLm
とほぼ等しい値といった場合、絵素内および絵素間にお
いて画素電極および画素配線の絶縁が保たれる範囲で、
最大限Lm に近い値という意味である。したがって、こ
の値はLm より大きくなることはない。Ls 、Ls /n
についても同様である。
【0052】図1は本発明のイメージセンサの検出領域
の構成の1例を模式的に示した図である。
【0053】主走査方向の長さLm 、副走査方向の長さ
Ls の絵素が配設ピッチLm で線状に列設されている。
各絵素は、副走査方向に2列並列配置された第1の画素
領域と第2の画素領域から構成されており、各画素領域
内には画素領域間および絵素間で絶縁を保つように画素
電極が形成されている。副走査方向に並列配置した列数
をn列としたとき、各画素の主走査方向の長さは副走査
方向の長さのほぼn倍(この場合2倍)になるように調
節されている。
【0054】画素を列設した検出領域をこのように構成
することにより、絵素を分割した場合においても、主走
査方向の解像度と副走査方向の解像度とを実質的に等し
くすることができ、解像度が低下することはない。
【0055】図2は本発明のイメージセンサの検出領域
の構成の別の1例を模式的に示した図である。図1は画
素領域または画素電極を副走査方向に2列並列配置した
が、図2の例では3列並列配置した構成となっている。
【0056】各絵素内に3列並列配置した画素でそれぞ
れR(赤)、G(緑)、B(青)の各色に対応する波長
領域の光を検出するようにすれば、カラー画像を読み取
ることができる。各画素で検出する光はRBGにかぎら
ずC(シアン)、M(マゼンタ)、Y(イエロー)など
を検出するようにしてもよい。
【0057】各画素で所定波長の光を検出するには、各
画素に対応するカラーフィルタを設けるようにしてもよ
いし、画素を構成する光入射側の透光性電極を着色する
ようにしてもよい。また、装置サイズの制約を満たす場
合には光路上に分光器を設けるようにしてもよい。
【0058】また、各画素と駆動回路とを接続する画素
配線は、線状の検出領域の片側一方に引き出すようにし
てもよいし、両側に引き出すようにしてもよい。図3は
両側に配線を引き出した構成の1例を示す図である。主
走査方向に対して一方の側に引き出した画素配線を第1
の駆動ICに接続し、もう一方の側に引き出した画素配
線を第2の駆動ICに接続することにより、例えば画素
電極を部分的に駆動して、モノクロ画像を読み取った
り、またグレイスケールで画像を読み取ることもでき
る。
【0059】原稿の読み取り解像度は、主走査方向につ
いては光電変換素子を備えた画素から構成される絵素の
配設ピッチに依存する。一方、絵素を構成するn個の画
素の副走査方向の配設ピッチLs を、主走査方向の絵素
の配設ピッチLm のほぼ1/nとしているから、紙送り
ピッチをLm (あるいはLs でも同じ)として、n個の
画素を1つの絵素として処理すれば、副走査方向の解像
度と主走査方向の解像度とが実質的に同一の解像度とみ
なすことができるのである。
【0060】したがって、従来のイメージセンサに見ら
れるように光電変換素子列毎に電気信号を遅延させた
り、メモリ機能を付加する必要がなく、副走査方向にも
主走査方向と同一な解像度を持ったカラー画像読み取り
装置を得ることができる。
【0061】また、本発明のイメージセンサにおいて
は、光電変換素子を構成する例えばITOなどからなる
透明共通電極の、画素配線と対向する領域を除去するこ
とにより、透明共通電極と画素配線とこれらに挟持され
る半導体膜により光電変換素子が形成されることを防止
し、クロストーク、すなわち色にじみなどが低減する。
したがって、読みとり画像の品質が大きく向上する。ま
た、従来配線部分での光電変換による電子の発生を防ぐ
ために形成していた遮光膜が不要になる。
【0062】本発明のイメージセンサは上記のような構
成により、光電変換素子を有する画素を1絵素内にn列
並列配置し、その配設ピッチを主走査方向の絵素の配設
ピッチの1/nとしたことにより、副走査方向の解像度
が主走査方向解像度と同一な光電素子列として扱うこと
ができる。このため各素子列の信号読みだしを遅延する
等の信号処理を行う必要はない。また、1絵素を構成す
る各画素には、原稿の絵素に対応する被検出領域の光情
報が導かれるため、各画素毎にレンズ、プリズム、回折
格子等の光学的手段を設ける必要はない。
【0063】さらに、等倍レンズ等から光電変換素子列
に導かれる光の光量分布特性に対応して、光の強度が強
い部分には光電変換素子の感度、カラーフィルタの透過
率を含めた光感度の低い色のカラーフィルタを配置し、
順に光の強度が弱くなるほど前記光感度の高い色のカラ
ーフィルタを配置することにより、色感度がより均一に
なるようなカラー画像読み取り装置を提供できる。この
ことは色感度の光学的な補正手段や電気的な補正手段を
省略もしくは簡略にすることができる。
【0064】さらに、駆動用ICを光電変換素子列の両
側に配置し、任意の素子列からの引き出し配線を片側の
駆動用ICに接続することにより、任意の素子列の色も
しくはモノクロ情報を単独に駆動、処理できる。また、
複雑な処理回路等が不要となり、他の色の素子列と同時
に必要な画像情報を得ることができる。
【0065】また本発明の画像読取装置においては、2
分割型ハウジングの一方にイメージセンサモジュールと
被読取り物からの反射光を1対1で光電変換素子上に結
像する光学系との位置関係を規定する支持部材がネジあ
るいは接着剤あるいは両面テープで固定されている。そ
して支持部材に光学系とイメージセンサモジュールを突
き当てることにより、その位置関係を被読取り物からの
反射光が1対1で正しく光電変換素子上に結像するよう
にネジあるいは接着剤あるいは両面テープで固定保持す
る。光学系は第1のハウジングに固定してもよいし、側
板に固定してもよい。もう一方のハウジング(第2のハ
ウジング)には、光源がネジあるいは、接着剤あるいは
両面テープなどにより固定されている。そして、光源を
固定した第2のハウジングを、光学系、イメージセンサ
モジュールを固定した第1のハウジングと組み込みネジ
あるいは接着剤で固定することにより対環境性に強く、
製造が容易で、安価な画像読取り装置が得られる。
【0066】
【発明の実施の形態】以下に本発明について図に基づい
て詳細に説明する。
【0067】(実施例1)図4は本発明のイメージセン
サの構成の1例を概略的に示す平面図であり、図5は図
4に例示した本発明のイメージセンサのAA方向の構造
を概略的に示す断面図である。
【0068】ここでは、本発明のイメージセンサをa−
Si密着型カラー画像読み取り装置に適用した例につい
て説明する。このイメージセンサ100は、例えば低ア
ルカリもしくは無アルカリのガラス板などからなる高抵
抗の基板(絶縁性基板)101上に、画素電極102
a、102b、102c、a−Si半導体膜104、透
明共通電極105を積層した構成となっている。103
は透明共通電極105の引き出し配線である。画素電極
は、図2に例示したように、1絵素内の副走査方向に3
列並列配置した構成となっている。この例では画素電極
102a、102b、102cの引き出し配線である画
素配線121は、主走査方向に対して一方の側に形成さ
れている。画素電極102と透明共通電極105と、こ
れらに挟持されたa−Si半導体層104から構成され
る画素に光が入射すると、入射した光の強度に比例した
光電子が発生し、画素電極102と透明共通電極105
との間に生じる電圧差を出力として検出するものであ
る。
【0069】そして、カラー画像の読取りを可能にする
ための、例えばRGBなどのカラーフィルタ107a、
107b、107cが形成された、例えばガラスなどの
透明絶縁性材からなる対向基板106が、画素電極10
2a、102b、102cとカラーフィルタ107a、
107b、107cとが対向するように、シリコーン樹
脂あるいはエポキシ樹脂等からなる透明接着剤108に
より貼り付けられている。
【0070】したがって、1絵素に入射する光のうち、
画素電極102aに対応する画素にはカラーフィルタ1
07aを透過した光が、画素電極102bに対応する画
素にはカラーフィルタ107bを透過した光が、また画
素電極102cに対応する画素には107cを透過した
光が入射することになる。したがって、カラーフィルタ
107a、107b、107cを、例えばRGB(赤、
緑、青)、CMY(シアン、マゼンタ、イエロー)など
の3原色にすることにより、カラー画像の読取りを行う
ことができる。
【0071】高抵抗基体101にはSiO2 などの薄膜
コーティングを施すようにしてもよい。SiO2 などの
薄膜をコーティングすることにより、アルカリガラスを
用いる場合でも、半導体層などへのアルカリ成分の拡散
を防止することができる。
【0072】画素電極102a、102b、102cお
よび共通電極引き出し線103の形成は、例えば高抵抗
基体101上にクローム(Cr)などを蒸着し、さらに
フォトレジスト、エッチング工程により形成するように
すればよい。また、画素電極102a、102b、10
2cおよび共通電極引き出し線103のI/O部分はア
ルミニウム(Al)の導電薄膜を形成するようにしても
よい。各画素電極102a、102b、102cは主走
査方向に原稿の読み取り幅にライン状に並べられ、副走
査方向に3列並べられる。
【0073】次いで、画素電極上に例えばCVD(Ce
mical Vapor Deposition)法な
どによりa−Si半導体層104を形成し、さらに共通
電極引き出し線103およびa−Si半導体層104上
にスパッタリング工程によりITO(Indium T
in Oxide)からなる透明導電膜(透明共通電
極)105を形成し、画素電極102a、102b、1
02cの引き出し配線である画素配線121上をフォト
レジストエッチング工程にて取り除き櫛状とし、光電変
換素子を形成する。透明共通電極105の形状は画素間
より引き出された画素配線121の少なくともa−Si
半導体層104が掛かっている部分に対向した部分を取
り除いた櫛状となり、画素配線121上での光電変換に
よる色にじみを抑制し色の分解能を向上することができ
る。
【0074】このように形成された光電変換素子を有す
る高抵抗基体101と光電変換素子を駆動するための駆
動IC110を搭載したPCΒ111を例えばAl板な
どの支持板112に取り付けた後、例えばボンディング
ワイヤ109などにより画素配線121とと駆動IC1
10のILBパッドとを接続して、画素電極102と駆
動ICとの電気的接続を確立する(図6)。
【0075】この後特定の波長の光を反射または透過す
るカラーフィルタ107を光電変換素子列と同様にライ
ン状に形成した例えばガラス等の透明基体106をカラ
ーフィルタ107と画素電極102とが対向するよう
に、シリコーン樹脂あるいはエポキシ樹脂等からなる透
明接着剤108を用いて高抵抗基体に接着し、イメージ
センサ100を備えたモジュール150が完成する(図
6)。
【0076】図7は本発明のイメージセンサ100を備
えた画像読み取り装置160の構造を概略的に示す図で
ある。
【0077】原稿読み取りの際には、イメージセンサモ
ジュール150と、例えば冷陰極管等のカラー画像の読
み取りに必要な波長を照射することができる光源11
5、原稿面118の画像を等倍にイメージセンサ100
の絵素上に結像するレンズ114、原稿面118とレン
ズの間に配設される例えばガラス板のような透明基体1
17、そしてこれらを保持する例えばアルミニウム(A
l)もしくは樹脂成形によってなる筐体116から構成
されたカラー画像読み取り装置160が用いられる。レ
ンズ114は、例えばセルフォックレンズなどのライン
状のレンズアレイのような光学系を用いるようにしても
よい。118bは原稿面118の被検出領域である。
【0078】前述のようにうにa−Si半導体の分光感
度特性は図8に示すように可視光量域全体に対して良好
な感度特性を持っているが、それぞれの色(波長域)に
分解した場合その感度は一様ではなく、カラーフィルタ
の透過率特性についても同様なことがいえる。本発明に
おいては、光源115の発光波長分布、カラーフィルタ
107の透過波長分布、かつセンサの感度分布(図8参
照)を掛け合わせた場合の装置全体の色感度に対して、
色感度の最も低い色、例えば青色のカラーフィルタΒを
レンズの光軸中心に1番近いカラーフィルタ107bと
して画素電極102bに対応して配置し、順に色感度が
高くなるにつれて例えば緑色のカラーフィルタG、赤色
のカラーフィルタRを光軸から離れたカラーフィルタ1
07c、107aとして画素電極102c、102aに
対応して配置する。
【0079】密着型カラーセンサに到達する光の強度は
レンズの焦点面上での分布により、光軸中心では強く、
光軸から副走査方向にずれる位置につれて弱くなる。し
たがって、画素電極102bが構成する画素へ入射する
光の強度は強く、光軸から副走査方向にずれた画素電極
102c、102aが構成する画素へ入射する光の強度
は、画素電極102bが構成する画素へ入射する光の強
度よりもて弱いものとなる。
【0080】したがって前述のように装置全体の色感度
に対応してカラーフィルタの配設位置を最適化すること
により、カラー画像読み取り装置全体での色感度を著し
く向上することができる。
【0081】なお、レンズ114以外の光学系として例
えばプリズムミラーや回折格子等を用いる場合でも、セ
ンサ面上の光量分布に合わせて各色のカラーフィルタの
位置を最適化して配置することにより同様な効果を得る
ことができる。したがって、本発明によれば、カラーフ
ィルタ部分にNDフィルタを重ねる等の光学的補正、ま
たはセンサにより得られた信号の電気的補正などの補正
を行う必要がなく、装置の構成を単純なものにすること
ができ、装置の信頼性、生産性を向上することができ
る。
【0082】a−Si半導体を用いたイメージセンサに
おいては、画素電極102と透明共通電極105と、こ
れらに挟持されたa−Si半導体層104から構成され
る画素に入射する光の強度に比例した光電子が発生し、
画素電極102と透明共通電極105との間に生じる電
圧差を出力として検出するものである。同一のa−Si
半導体層104では、配線等の浮遊容量が画素電極と共
通電極との間の容量に対して十分小さい場合には、画素
の面積によらずほぼ一定の出力を得ることができる。本
発明のイメージセンサにおいては半導体層104をa−
Siで形成することにより画素サイズを大きく形成し
(ほぼ0.1mm2 以上)、画素電極と共通電極との間
に形成される容量を浮遊容量よりも十分に大きくするこ
とができ、画素の面積によらずほぼ一定の出力を得るこ
とができる。また、とくに例えば3pelのように絵素
の主走査方向の配設ピッチが0.3mmよりも大きいよ
うな場合であっても、光電変換素子としてa−Siを採
用することにより特性の均一な画素を形成し、均一で信
頼度の高い画像読取りを行うことができる。
【0083】図20は画素面積と感度との関係を概略的
に示す図である。センサ電流をIS、照度をEV センサ
容量をCS 、IC入力容量をCIC、配線容量をCC 、カ
バーガラス透過率をTとしたときの感度R[V・lx-1
・sec-1]は、 R=(T・IS )/{EV ・(CS +CIC+2CC )} のように表わすことができる。図20に示した画素面積
Sと感度Rとの関係は、a−Si半導体膜を光電変換素
子として用い、センサ電流(照度EV )をIS =43.
5[nA/mm](ただし量子効率を1、50lx、G
54(λ=540nm))、センサ容量をCS (=εε
0 (S/d))=52.7[pF/mm]、IC入力容
量をCIC=0.6pF、カバーガラス透過率をT=0.
91にした場合について示したものであり、配線容量を
C =0、0.05×CS 、0.1×CS の3つの場合
についてそれぞれ示している。
【0084】図9、図10は本発明のイメージセンサの
主走査方向と副走査方向の解像度を説明するための図で
あり、イメージセンサの画素電極形状を示している。図
9に示すように、原稿の読み取り解像度は、主走査方向
については光電変換素子を備えた画素から構成される絵
素の配設ピッチに依存する。一方、絵素を構成する画素
の副走査方向の配設ピッチLを、主走査方向の絵素の配
設ピッチLmのほぼ1/3としているから、紙送りピッ
チをLm として、画素102a、102b、102cを
1つの絵素として処理すれば、副走査方向の解像度と主
走査方向の解像度とが実質的に同一の解像度とみなすこ
とができる。したがって、従来のイメージセンサに見ら
れるように光電変換素子列毎に電気信号を遅延させた
り、メモリ機能を付加する必要がなく、副走査方向にも
主走査方向と同一な解像度を持ったカラー画像読み取り
装置を得ることができる。
【0085】例えば、図10に比較のために示すよう
に、絵素を分割しない場合には絵素ピッチと紙送りピッ
チとをほぼ等しくすることにより副走査方向の解像度と
主走査方向の解像度とを等しくすることができる。しか
しこのような構成ではモノクロ画像を読み取ることはで
きてもカラー画像を読み取ることはできない。
【0086】(実施例2)図11は、絵素を主走査方向
に列設した線状の検出領域の両側に駆動ICを配設した
イメージセンサの構成例を示す図である。図12は図1
1のイメージセンサのBB方向の断面構造を概略的に示
す図である。
【0087】すなわち、画素電極102b、102cの
引き出し配線である画素配線121bと、画素電極10
2aの引き出し配線である画素配線121aとは、主走
査方向に対して両側に引き出されている。そして画素電
極102b、102cは、第2の駆動IC110bによ
り駆動され、画素電極102aは、第1の駆動IC11
0aにより駆動される。
【0088】このように、外側の画素電極からの引き出
し線を他の2列の素子列とは反対側に引き出し駆動用I
C110bに接続することにより、隣接する絵素と絵素
との間隔を小さくして、単位検出面積あたりの画素の配
設密度を大きくすることができる。また、画素電極10
2b、102cbまたは、画素電極102aのみを単独
駆動することもできる。例えば、カラーフィルタをはず
して画素102aのみを駆動IC110aにより単独駆
動すればモノクロ画像の読取りを行うこともできる。ま
たモノクロ、カラーの切り替え読み取りも可能である。
【0089】(実施例3)図13は本発明の画像読取り
装置が備えることができるイメージセンサモジュールの
構成を概略的に示す図である。図14は図13のイメー
ジセンサモジュールのCC方向の断面構造を概略的に示
す図である。
【0090】例えばアルミニウムなどからなる支持板2
10上には、光電変換素子を備えた画素が主走査方向に
列設されたイメージセンサ211が形成された高抵抗基
体212及び駆動手段である駆動用IC213をマウン
トするプリント配線基板214が設けられている。
【0091】イメージセンサ211は、例えば低アルカ
リもしくは無アルカリのガラス板などからなる高抵抗の
基板(絶縁性基板)212上に、画素電極216、a−
Si半導体膜218、透明共通電極220を積層した構
成となっている。217は透明共通電極220の引き出
し配線である。画素電極216と透明共通電極220
と、これらに挟持されたa−Si半導体層218から構
成される画素に光が入射すると、入射した光の強度に比
例した光電子が発生し、画素電極216と透明共通電極
220との間に生じる電圧差を出力として検出するもの
である。
【0092】画素216は画素配線216により駆動I
C213と接続されている。この例では、画素配線21
6のOLBパッド216cと駆動IC213のILBパ
ッド221とをボンディングワイヤ221により接続し
ている。
【0093】このようなイメージセンサ211は例えば
以下のように形成される。まずガラスなどの高抵抗基体
212上に蒸着、フォトレジスト、エッチングの各工程
により形成されたI/O部分がアルミニウム(Al)の
導電薄膜で被覆されたクロム(Cr)からなる画素電極
216と、透明共通電極引出線217を形成する。つい
で画素電極216上にCVD(Chemical Va
por Deposition)法などによりa−Si
(アモルファスシリコン)からなる半導体層218を形
成し、さらに共通電極引出線217及び半導体層218
上にスパッタリング工程によりITO(Indium
Tin Oxide)からなる透明導電膜220を成膜
して、イメージセンサ211を形成する。
【0094】このように形成した光電変換素子を有する
画素が列設されたイメージセンサ211を有する高抵抗
基体212を支持板210に取付け、さらに、ボンディ
ングワイヤ221にてイメージセンサ211の画素電極
216を駆動用IC213と接続したものがイメージセ
ンサモジュール203である。なお当然ながら、イメー
ジセンサ211は図13、図14に示したものだけでは
なく、例えば図1、図2、図3、図4、図5、図6、図
9、図11、図12などに例示したよういなものを用い
るようにしてもよい。
【0095】図15は本発明の画像読取り装置の構造を
概略的に示す図であり、図16はこの画像読取り装置の
断面を概略的に示す図である。図16(a)は側板30
1付近の断面を示し、図16(b)では光学系304の
長手方向の中心付近の断面を示す図である。
【0096】本発明の画像読取り装置は、光源305、
例えばセルフォックレンズなどの光学系304、イメー
ジセンサモジュール203を配設するハウジングが分割
構造になっている。すなわち、第1のハウジング302
aと第2のハウジング302bとに、イメージセンサモ
ジュール203の画素の列設方向(主走査方向)に分割
されており、光源は第2のハウジング302bに配設さ
れている。この第1のハウジング302aおよび第2の
ハウジング302bは、イメージセンサモジュール20
3を介して対向配置され、イメージセンサモジュール2
03の画素の列設方向と垂直に配設される1対の側板3
01とともに、画像読取装置の筐体を構成する。
【0097】側板301にはイメージセンサモジュール
203を端持する第1の保持部材307と、この第1の
保持部材306により端持されるイメージセンサモジュ
ール203と光学系304との位置関係を、被検出領域
で反射した光源光が光学系304によりイメージセンサ
211の光電変換素子に1:1に結像するように規定す
る第2の保持部材307とが形成されている。
【0098】すなわち、本発明の画像読取り装置におい
てはイメージセンサモジュール203と光学系304と
の位置関係は、第1の保持部材306と第2の保持部材
307により規定され、従来のようにハウジングの精度
に依存することはない。また、ハウジングが第1のハウ
ジング302aと第2のハウジング302bとに分割さ
れ、第1のハウジング302aと第2のハウジング30
2bとの間隙に第2の保持部材により端持された光学系
304が配設される。したがって、従来のように長穴9
08を設ける必要がない。
【0099】本発明の画像読取り装置はこのような構成
をとることにより、簡易な構造で高精度の読取りを実現
することができる。構造が従来よりも単純なので製造が
容易でコストも安く、さらにリサイクルも容易であり対
環境性の高い画像読取り装置である。また、高解像度の
イメージセンサ(例えば8[pel/mm]以上)でも
十分な読取り精度を持つ安価な画像読取り装置が実現で
きる。
【0100】このような構造の画像読取り装置は例えば
以下のように製造することができる。まず、側板301
に第1の保持部材306と第2の保持部材をネジ、接着
剤あるいは両面粘着テープなどにより固定する。このと
き、第1の保持部材306と第2の保持部材307と
は、第1の保持部材306にイメージセンサモジュール
203をに突き当てて配設し、かつ第2の保持部材に光
学系304を突き当てて配設したとき、被検出領域で反
射した光源光が光学系304によりイメージセンサ21
1の光電変換素子に1:1に結像するように側板301
に固定する。光学系304は第2の保持部材307に突
き当てて端持するとともに、第1のハウジング302a
との接する面を接着剤あるいは両面テープなどにより固
定するのが好適である。光学系304と第1のハウジン
グ302aとの接する面を接着剤あるいは両面テープな
どにより固定することにより、光学系304および第1
のハウジング302aの撓みなどによる精度の低下を抑
制することができる。
【0101】なお第1の保持部材306とイメージセン
サモジュール203の突き当てであるが、図15、図1
6に例示するようにイメージセンサモジュール203の
イメージセンサ211を配設した側の面を突き当てるよ
うにしてもよいし、イメージセンサ211を配設した側
の面と反対側の面を突き当てるようにしてもよい。
【0102】そして、2分割型ハウジングの一方の第1
のハウジング302aにイメージセンサモジュール20
3と側板301をネジ、接着剤あるいは両面テープなど
により固定する。このとき、側板301と第1のハウジ
ング302aとの位置関係を第1の保持部材306と第
2の保持部材307とにより規定するのが好適である。
すなわち、第1の保持部材306および第2の保持部材
307のイメージセンサの主走査方向と平行な端面30
6b、307bに第1のハウジング302aを突き当て
ることにより側板と第1のハウジング302aとの位置
関係を規定すればよい。したがって、第1の保持部材3
06と第2の保持部材307とにより、光学系304と
イメージセンサモジュール203との位置関係が規定さ
れるとともに、これらと第1のハウジング302aとの
位置関係も規定される。
【0103】もう一方のハウジング302bに光源30
5をネジ、接着剤あるいは両面テープなどにより固定す
る。続いて光源を固定したハウジング302bを光学系
304、イメージセンサモジュール203を固定したハ
ウジング202aに、例えば組み込みネジ、接着剤ある
いは両面テープなどにより固定する。
【0104】本発明の画像読取り装置はこのような構成
をとることにより、簡易な構造で高精度の読取りを実現
することができる。構造が従来よりも単純なので製造が
容易でコストも安く、さらにリサイクルも容易であり対
環境性の高い画像読取り装置である。また、高解像度の
イメージセンサ(例えば8[pel/mm]以上)でも
十分な読取り精度を持つ安価な画像読取り装置が実現で
きる。
【0105】
【発明の効果】以上説明したように本発明のイメージセ
ンサによれば、絵素ないにn列並列配置した光電変換素
子を有する画素の配設ピッチを主走査方向の画素ピッチ
Lm の1/nとしているから、n個の読み取り画素を1
つの絵素として処理することにより、副走査方向の解像
度を主走査方向の解像度と実質的の等しくすることがで
きる。したがって、従来のイメージセンサのように画素
毎の電気信号の遅延やメモリ機能を付加する必要がなく
副走査方向にも主走査方向と同一な解像度を持ったカラ
ー画像読み取り装置を得ることができる。このため各画
素列の信号読みだしを遅延する等の信号処理が不要とな
り、また同一原稿画素の光情報を導くため、各画素列毎
のレンズ、プリズム、回折格子等の光学的手段が不要と
なるため安価でコンパクトなカラー画像読み取り装置を
提供することができる。
【0106】また、透明共通電極の画素電極の間から引
き出された画素配線に対応する部分を除去することによ
り、配線部分での光電変換を防ぐことができる。このた
め、従来使用されていた遮光マスクを不要にすることが
できる。さらに、遮光マスクの形成により生ずる欠陥を
完全に無くすることができる。したがって、製造に際し
ても歩留まりが大幅に向上することができ、色にじみの
無い良好な特性を有するイメージセンサを低コストで提
供することができる。
【0107】さらに、等倍レンズ等の光学系から画素に
導かれる光の光量分布特性に対応して、光の強度が強い
部分には光電変換素子の感度、カラーフィルタの透過率
を含めた光感度の低い色のカラーフィルタを配置し、順
に光の強度が弱くなるほど前記光感度の高い色のカラー
フィルタを配置することにより、従来に比べ色感度をよ
り均一にすることができる。したがって、色感度の光学
的な補正手段や電気的な補正手段を省略もしくは簡略化
することができ、安価で色補正手段の容易なイメージセ
ンサを提供することができる。
【0108】本発明の画像読取り装置はこのような構成
をとることにより、簡易な構造で高精度の読取りを実現
することができる。構造が従来よりも単純なので製造が
容易でコストも安く、さらにリサイクルも容易であり対
環境性の高い画像読取り装置である。また、高解像度の
イメージセンサ(例えば8[pel/mm]以上)でも
十分な読取り精度を持つ安価な画像読取り装置を提供す
ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明のイメージセンサの検出領域の構成の1
例を模式的に示す図。
【図2】本発明のイメージセンサの検出領域の構成の別
の1例を模式的に示す図。
【図3】本発明のイメージセンサの検出領域の構成の別
の1例を模式的に示す図。
【図4】本発明のイメージセンサの構成の1例を概略的
に示す平面図。
【図5】図4に例示した本発明のイメージセンサのAA
方向の構造を概略的に示す断面図。
【図6】モジュール化された本発明のイメージセンサの
1例を概略的に示す図。
【図7】本発明のイメージセンサを備えた画像読取装置
の構造を概略的に示す図。
【図8】a−Si光電変換膜の波長感度分布を示す図。
【図9】本発明のイメージセンサの解像度を説明するた
めの図。
【図10】本発明のイメージセンサの解像度を説明する
ための図。
【図11】検出領域の両側に駆動ICを配設した本発明
のイメージセンサの構成の1例を概略的に示す平面図。
【図12】図10に例示した本発明のイメージセンサモ
ジュールのBB方向の構造を概略的に示す断面図。
【図13】イメージセンサモジュールの構成を概略的に
示す平面図。
【図14】図12に例示した本発明のイメージセンサモ
ジュールのCC方向の構造を概略的に示す断面図。
【図15】本発明の画像読取装置の構造を概略的に示す
図。
【図16】本発明の画像読取装置の構造を概略的に示す
断面図。
【図17】従来の画像読取装置の構造を概略的に示す
図。
【図18】従来の画像読取装置の構造を概略的に示す断
面図。
【図19】従来の画像読取装置が備える光学系調整機構
の例を概略的に示す図。
【図20】画素面積と感度との関係を概略的に示す図。
【符号の説明】
100……イメージセンサ、101……高抵抗基体 102a,102b,102c……画素電極、103…
…共通電極引出線 104……a−Si半導体層、105……透明共通電
極、106……透明基体 107a,107b,107c……カラーフィルタ、1
08……透明接着剤、109……ボンディングワイヤ、
110……駆動用IC 111……PCB、112……支持板、114……セル
フォックレンズ 115……光源、116……筐体、117……カバーガ
ラス、118……原稿面 118b……被検出領域、121……画素配線 150……イメージセンサモジュール、203……イメ
ージセンサモジュール 211……ラインセンサ 300……画像読取装置、301……側板、302a…
…第1のハウジング 302b……第2のハウジング、304……光学系、3
05……光源、 306……第1の保持部材、307……第2の保持部材 901……遮光板、902……ハウジング 903……イメージセンサモジュール、904……光学
系 905……光源、908……長穴、931……板バネ、
932……調整用ネジ 933……楔
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 大関 高志 神奈川県横浜市磯子区新杉田町8番地 株 式会社東芝横浜事業所内

Claims (13)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 副走査方向にn列並列配置された複数の
    画素からなる主走査方向の長さLm と副走査方向の長さ
    Ls とがほぼ等しい絵素が、この絵素の主走査方向の長
    さLm とほぼ等しいピッチで主走査方向に列設された線
    状の検出領域を有することを特徴とするイメージセン
    サ。
  2. 【請求項2】 主走査方向の長さと副走査方向の長さが
    ほぼ等しい絵素が、この絵素の主走査方向の長さとほぼ
    等しいピッチで主走査方向に列設された線状の検出領域
    と、 前記絵素内の副走査方向にn列並列配置され、主走査方
    向の長さと副走査方向の長さとの比がほぼn:1であ
    る、第1の中心波長を有する光を検出する第1の画素と
    第2の中心波長を有する光を検出する第2の画素と、を
    具備したことを特徴とするイメージセンサ。
  3. 【請求項3】 副走査方向にn列並列配置された第1の
    中心波長を有する光を検出する第1の画素と第2の中心
    波長を有する光を検出する第2の画素とからなる、主走
    査方向の長さLm と副走査方向の長さLs がほぼ等しい
    絵素が、この絵素の主走査方向の長さLm とほぼ等しい
    ピッチで主走査方向に列設された線状の検出領域を有す
    る絶縁性基板と、 この絶縁性基板上の第1および第2の画素に、第1およ
    び第2の画素間および絵素間で相互に絶縁を保つように
    形成された導体薄膜からなる画素電極と、 前記画素電極上に形成された半導体膜と、 前記半導体膜上に前記画素電極と対向するように形成さ
    れた透明導電体膜とを具備したことを特徴とするイメー
    ジセンサ。
  4. 【請求項4】 副走査方向にn列並列配置された第1の
    中心波長を有する光を検出する第1の画素と第2の中心
    波長を有する光を検出する第2の画素とからなる、主走
    査方向の長さLm と副走査方向の長さLs がほぼ等しい
    絵素が、この絵素の主走査方向の長さLm とほぼ等しい
    ピッチで主走査方向に列設された線状の検出領域を有す
    る絶縁性基板と、 この絶縁性基板上の第1および第2の画素に、隣接する
    画素間および絵素間で相互に絶縁を保つように形成され
    た導体薄膜からなる画素電極と、 前記絶縁性基板上に、前記画素電極と接続するように形
    成された導体配線と、 前記画素電極および導体配線上に形成された半導体膜
    と、 前記画素電極と対応する領域を覆うとともに前記導体配
    線に対応する領域に除去領域を有するように、前記半導
    体膜上に形成された透明導電体膜とを具備したことを特
    徴とするイメージセンサ。
  5. 【請求項5】 副走査方向にn列並列配置された第1の
    中心波長を有する光を検出する第1の画素と第2の中心
    波長を有する光を検出する第2の画素とからなる、主走
    査方向の長さLm と副走査方向の長さLs がほぼ等しい
    絵素が、この絵素の主走査方向の長さLm とほぼ等しい
    ピッチで主走査方向に列設された線状の検出領域を有す
    る絶縁性基板と、 この絶縁性基板上の前記検出領域に、隣接する画素間お
    よび絵素間で相互に絶縁を保つように形成された画素電
    極と、 この画素電極上に形成された半導体膜と、 前記半導体膜上に前記画素電極と対向するように形成さ
    れた透明導電体膜と、 第1の画素と第2の画素との色感度差を緩和するよう
    に、前記透明導電体膜上の第1の画素に対応する領域に
    形成された光を透過する第1のフィルタ手段と、第2の
    画素に対応する領域に形成された光を透過する第2のフ
    ィルタ手段とを具備したことを特徴とするイメージセン
    サ。
  6. 【請求項6】 副走査方向にn列並列配置された第1の
    中心波長を有する光を検出する第1の画素と第2の中心
    波長を有する光を検出する第2の画素とからなる、主走
    査方向の長さLm と副走査方向の長さLs とがほぼ等し
    い絵素が、主走査方向にピッチLm で列設された線状の
    検出領域を有する絶縁性基板と、 前記絶縁性基板上の第1の画素内に形成された第1の画
    素電極および第2の画素内に形成された第2の画素電極
    と、 前記検出領域の主走査方向に対して関して一方の側に配
    設された第1の画素電極を駆動する第1の駆動回路と、 前記検出領域の主走査方向に関して第1の駆動回路と反
    対側に配設された第2の画素電極を駆動する第2の駆動
    回路と第1の画素電極と第1の駆動回路とを接続する第
    1の導体配線と、 第2の画素電極と第2の駆動回路とを接続する第2の導
    体配線とを具備したことを特徴とするイメージセンサ。
  7. 【請求項7】 前記画素は前記絵素内に2列、3列また
    は4列並列配置されたことを特徴とする請求項1乃至6
    のいずれかに記載のイメージセンサ。
  8. 【請求項8】 前記絵素の主走査方向の配設ピッチは
    0.3mm以上であることを特徴とする請求項1乃至7
    のいずれかに記載のイメージセンサ。
  9. 【請求項9】 前記半導体膜は非晶質シリコン膜である
    ことを特徴とする請求項3乃至8のいずれかに記載のイ
    メージセンサ。
  10. 【請求項10】 光源と、 副走査方向に並列配置された第1の中心波長を有する光
    を検出する第1の画素と第2の中心波長を有する光を検
    出する第2の画素とからなる、主走査方向の長さLm と
    副走査方向の長さLs がほぼ等しい絵素が、この絵素の
    主走査方向の長さLm とほぼ等しいピッチで主走査方向
    に列設された線状の検出領域を有するイメージセンサ
    と、 光を被検出体の前記検出領域に対応する被検出領域に照
    射する光源と、 前記被検出領域で反射した前記光源光を前記検出領域に
    導く光学系と、 前記光学系と前記検出領域との間に、第1の画素に対応
    する領域では第1の波長を有する光を透過し、第2の画
    素に対応する領域では第2の波長を有する光を透過する
    ように形成されたフィルタ手段とを具備したことを特徴
    とする画像読取装置。
  11. 【請求項11】 前記フィルタ手段は、光学系から第1
    の画素へ導かれる光の強度が第2の画素へ導かれる光の
    強度より大きいとき、第1の波長を有する光の色感度は
    第2の波長を有する光の色感度よりも低くなるように配
    列されたことを特徴とする請求項10記載の画像読取装
    置。
  12. 【請求項12】 光源と、光学系と、光電変換素子が列
    設された画素アレイを有するイメージセンサモジュール
    とが筐体に固定され、光源光を被検出領域で反射させ、
    この反射光を前記光学系により前記イメージセンサモジ
    ュールの前記画素アレイに導いて画像を読み取る画像読
    取り装置において、 前記イメージセンサモジュールの前記光電変換素子の列
    設方向と垂直に配設された、前記イメージセンサモジュ
    ールを介して相互に対向する、前記筐体を構成する1対
    の側板と、 前記側板にそれぞれ形成された、前記イメージセンサモ
    ジュールを端持する第1の保持部材と、 前記側板にそれぞれ形成された、前記第1の保持部材に
    より端持される前記イメージセンサモジュールと前記光
    学系との位置関係を、前記被検出領域で反射した光源光
    が前記光学系により前記イメージセンサの光電変換素子
    に1:1に結像するように規定する第2の保持部材とを
    具備したことを特徴とする画像読取り装置。
  13. 【請求項13】 前記第1の保持部材および前記第2の
    保持部材は接着剤、粘着テープまたはネジにより前記側
    板に固定されていることを特徴とする請求項12に記載
    の画像読取り装置。
JP8228613A 1996-08-29 1996-08-29 イメージセンサ及び画像読取装置 Withdrawn JPH1075333A (ja)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2017138370A1 (ja) * 2016-02-09 2017-08-17 ソニー株式会社 固体撮像素子およびその製造方法、並びに電子機器
JP2019149731A (ja) * 2018-02-27 2019-09-05 株式会社リコー 画像読取装置、画像形成装置、画像読取方法、およびプログラム

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2017138370A1 (ja) * 2016-02-09 2017-08-17 ソニー株式会社 固体撮像素子およびその製造方法、並びに電子機器
JPWO2017138370A1 (ja) * 2016-02-09 2018-11-29 ソニー株式会社 固体撮像素子およびその製造方法、並びに電子機器
US10942304B2 (en) 2016-02-09 2021-03-09 Sony Corporation Solid-state imaging element, manufacturing method of the same, and electronic device
JP2019149731A (ja) * 2018-02-27 2019-09-05 株式会社リコー 画像読取装置、画像形成装置、画像読取方法、およびプログラム

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