JPH1070083A - 縦型炉 - Google Patents
縦型炉Info
- Publication number
- JPH1070083A JPH1070083A JP24408896A JP24408896A JPH1070083A JP H1070083 A JPH1070083 A JP H1070083A JP 24408896 A JP24408896 A JP 24408896A JP 24408896 A JP24408896 A JP 24408896A JP H1070083 A JPH1070083 A JP H1070083A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- furnace
- tube
- temperature
- vertical
- vertical furnace
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- Measuring Temperature Or Quantity Of Heat (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】高温領域での使用が継続しても正確な温度測定
が可能な縦型炉を提供する。 【解決手段】内部に熱電対１０が挿入された保護管１２
が炉内に立設され、前記熱電対を介して炉内の温度測定
が行われる縦型炉に於いて、前記保護管がセラミック製
の固定ブロック２０により支持され、又固定ブロックは
セラミック製であるので、高温下でも軟化し変形するこ
とがなく、固定ブロックに支持されている保護管が傾く
ことがなく、保護管が均熱管、反応管等の炉構成物に接
触して温度測定に影響を与えることがない。
が可能な縦型炉を提供する。 【解決手段】内部に熱電対１０が挿入された保護管１２
が炉内に立設され、前記熱電対を介して炉内の温度測定
が行われる縦型炉に於いて、前記保護管がセラミック製
の固定ブロック２０により支持され、又固定ブロックは
セラミック製であるので、高温下でも軟化し変形するこ
とがなく、固定ブロックに支持されている保護管が傾く
ことがなく、保護管が均熱管、反応管等の炉構成物に接
触して温度測定に影響を与えることがない。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は半導体デバイスを製
造する縦型拡散装置、縦型ＣＶＤ装置等の装置を具備す
る縦型炉に関するものである。
造する縦型拡散装置、縦型ＣＶＤ装置等の装置を具備す
る縦型炉に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】図３〜図５に於いて縦型炉の概略を説明
する。
する。
【０００３】中空のヒータ１内に均熱管２が立設され、
該均熱管２内に反応管３が設けられ、前記ヒータ１はヒ
ータベース７に立設されている。該反応管３内にボート
４が図示しないボートエレベータにより昇降され、装
入、引出しされる様になっており、前記ボート４はボー
トキャップ５を介して炉口蓋（図示せず）に立設され、
該炉口蓋はボートエレベータに支持されている。
該均熱管２内に反応管３が設けられ、前記ヒータ１はヒ
ータベース７に立設されている。該反応管３内にボート
４が図示しないボートエレベータにより昇降され、装
入、引出しされる様になっており、前記ボート４はボー
トキャップ５を介して炉口蓋（図示せず）に立設され、
該炉口蓋はボートエレベータに支持されている。
【０００４】前記ボート４には水平姿勢でウェーハ６が
多段に装填され、該ウェーハ６は前記ボート４に装填さ
れた状態で不純物拡散、薄膜生成が行われる。
多段に装填され、該ウェーハ６は前記ボート４に装填さ
れた状態で不純物拡散、薄膜生成が行われる。
【０００５】ウェーハへの不純物拡散、薄膜の生成等の
工程に於いて、温度管理は膜質の均一性、即ち製品品
質、歩留まりに大きく影響する。従って、ウェーハの温
度が測定され、測定温度が温度制御装置にフィードバッ
クされている。
工程に於いて、温度管理は膜質の均一性、即ち製品品
質、歩留まりに大きく影響する。従って、ウェーハの温
度が測定され、測定温度が温度制御装置にフィードバッ
クされている。
【０００６】前記ウェーハ６処理中の温度は直接測定す
ることは現実としてできないが、定常状態となった場合
には、ウェーハの温度と周囲との温度差は±０．５℃程
度以内となる為、図３に示される様に熱電対１０を前記
均熱管２と前記反応管３との間に挿入配設して、ウェー
ハ周囲の温度を検出している。
ることは現実としてできないが、定常状態となった場合
には、ウェーハの温度と周囲との温度差は±０．５℃程
度以内となる為、図３に示される様に熱電対１０を前記
均熱管２と前記反応管３との間に挿入配設して、ウェー
ハ周囲の温度を検出している。
【０００７】前記熱電対１０のリード線８，９は石英
製、又はアルミナ製の絶縁管１１に被覆されており、前
記被覆されたリード線８，９は更にＳｉＣ製の保護管１
２に挿入されている。該保護管１２は下端を金属製の固
定ブロック１３に支持され、前記均熱管２と前記反応管
３との間に立設されている。
製、又はアルミナ製の絶縁管１１に被覆されており、前
記被覆されたリード線８，９は更にＳｉＣ製の保護管１
２に挿入されている。該保護管１２は下端を金属製の固
定ブロック１３に支持され、前記均熱管２と前記反応管
３との間に立設されている。
【０００８】前記固定ブロック１３は中空の箱体であ
り、前記ヒータベース７に固着され、前記固定ブロック
１３の上面には保持管１４が複数立設されており、該保
持管１４に前記保護管１２の下端部を嵌合させることで
前記保持管１４が支持される。図４では前記保護管１２
の長さは同一としてあるが、該保護管１２の長さを変え
ることで縦方向の測定位置を変えることができ、炉内の
縦方向の温度分布が検出される。又、該保護管１２に挿
入する前記熱電対１０の長さを変えることで同様に炉内
の縦方向の温度分布が検出される。前記リード線８，９
の保護管１２から延出する部分は耐熱絶縁チューブ１５
で被覆されている。
り、前記ヒータベース７に固着され、前記固定ブロック
１３の上面には保持管１４が複数立設されており、該保
持管１４に前記保護管１２の下端部を嵌合させることで
前記保持管１４が支持される。図４では前記保護管１２
の長さは同一としてあるが、該保護管１２の長さを変え
ることで縦方向の測定位置を変えることができ、炉内の
縦方向の温度分布が検出される。又、該保護管１２に挿
入する前記熱電対１０の長さを変えることで同様に炉内
の縦方向の温度分布が検出される。前記リード線８，９
の保護管１２から延出する部分は耐熱絶縁チューブ１５
で被覆されている。
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】前述した縦型炉に於い
ては前記保護管１２を支持する前記固定ブロック１３が
金属製である為、温度が１１００℃以上の領域では軟化
する。又、１１００℃以下の領域であっても長時間荷重
が作用すると熱クリープ現象の為、経時的な変形を生ず
る。前記固定ブロック１３の保護管１２を支持する部分
が変形すると、変形に伴い該保護管１２が傾き前記均熱
管２、前記反応管３に接触し、正確な温度が測定できな
いという問題があった。
ては前記保護管１２を支持する前記固定ブロック１３が
金属製である為、温度が１１００℃以上の領域では軟化
する。又、１１００℃以下の領域であっても長時間荷重
が作用すると熱クリープ現象の為、経時的な変形を生ず
る。前記固定ブロック１３の保護管１２を支持する部分
が変形すると、変形に伴い該保護管１２が傾き前記均熱
管２、前記反応管３に接触し、正確な温度が測定できな
いという問題があった。
【００１０】本発明は斯かる実情に鑑み、高温領域での
使用が継続しても正確な温度測定が可能な縦型炉を提供
しようとするものである。
使用が継続しても正確な温度測定が可能な縦型炉を提供
しようとするものである。
【００１１】
【課題を解決するための手段】本発明は、内部に熱電対
が挿入された保護管が炉内に立設され、前記熱電対を介
して炉内の温度測定が行われる縦型炉に於いて、前記保
護管がセラミック製の固定ブロックにより支持されるこ
とを特徴とするものであり、固定ブロックをセラミック
材で成形した為、高温下でも軟化し変形することがな
く、固定ブロックに支持されている保護管が傾くことが
ないので、保護管が均熱管、反応管等の炉構成物に接触
して温度測定に影響を与えることがない。
が挿入された保護管が炉内に立設され、前記熱電対を介
して炉内の温度測定が行われる縦型炉に於いて、前記保
護管がセラミック製の固定ブロックにより支持されるこ
とを特徴とするものであり、固定ブロックをセラミック
材で成形した為、高温下でも軟化し変形することがな
く、固定ブロックに支持されている保護管が傾くことが
ないので、保護管が均熱管、反応管等の炉構成物に接触
して温度測定に影響を与えることがない。
【００１２】
【発明の実施の形態】以下、図面を参照しつつ本発明の
実施の形態を説明する。
実施の形態を説明する。
【００１３】図１、図２中、図４、図５中で示したもの
と同様のものには同符号を付してあり、縦型炉自体の構
成は前述した従来例と同様であるので説明は省略する。
と同様のものには同符号を付してあり、縦型炉自体の構
成は前述した従来例と同様であるので説明は省略する。
【００１４】中空箱体の固定ブロック２０はセラミック
材、好ましくは超高温耐熱用超繊維セラミック材で成形
され、該固定ブロック２０に超高温耐熱用超繊維セラミ
ック材で成形した保持管２１が複数立設される。該保持
管２１にＳｉＣ製の保護管１２の下端部を嵌合させ、該
保護管１２を立設支持する。前記固定ブロック２０はヒ
ータベースに固定されている。
材、好ましくは超高温耐熱用超繊維セラミック材で成形
され、該固定ブロック２０に超高温耐熱用超繊維セラミ
ック材で成形した保持管２１が複数立設される。該保持
管２１にＳｉＣ製の保護管１２の下端部を嵌合させ、該
保護管１２を立設支持する。前記固定ブロック２０はヒ
ータベースに固定されている。
【００１５】前記保護管１２にはリード線８，９がアル
ミナ製の絶縁管１１に被覆された熱電対１０が挿入され
ており、前記リード線８，９の長さは各保護管１２によ
り異なっており、縦型炉内部の縦方向の異なった位置で
の温度測定が可能となっている。前記リード線８，９は
図示しない増幅器等信号処理器を介して制御装置にフィ
ードバックされ、該制御装置は前記ヒータ１をゾーンコ
ントロールし炉内温度を均一化している。
ミナ製の絶縁管１１に被覆された熱電対１０が挿入され
ており、前記リード線８，９の長さは各保護管１２によ
り異なっており、縦型炉内部の縦方向の異なった位置で
の温度測定が可能となっている。前記リード線８，９は
図示しない増幅器等信号処理器を介して制御装置にフィ
ードバックされ、該制御装置は前記ヒータ１をゾーンコ
ントロールし炉内温度を均一化している。
【００１６】上記した様に前記固定ブロック２０をセラ
ミック材で成形したので、高温下でも軟化し変形するこ
とがなく、該固定ブロック２０に立設されている保護管
１２が傾くことがなく、前記保護管１２が前記均熱管
２、前記反応管３に接触して温度測定に影響を与えるこ
とがない。
ミック材で成形したので、高温下でも軟化し変形するこ
とがなく、該固定ブロック２０に立設されている保護管
１２が傾くことがなく、前記保護管１２が前記均熱管
２、前記反応管３に接触して温度測定に影響を与えるこ
とがない。
【００１７】尚、前記固定ブロック２０は必ずしも中空
箱体である必要はなく、又前記保護管１２を介すること
なく前記絶縁管１１を直接支持する構成であってもよ
い。
箱体である必要はなく、又前記保護管１２を介すること
なく前記絶縁管１１を直接支持する構成であってもよ
い。
【００１８】
【発明の効果】以上述べた如く本発明によれば、固定ブ
ロックをセラミック製とし、固定ブロックの熱変形を防
止したので、熱電対が内設されている保護管の傾斜が防
止され、位置変化がなくなり、温度測定の再現性が向上
し、又保護管の均熱管、反応管等炉内の構成物に接触す
ることが防止される等の優れた効果を発揮する。
ロックをセラミック製とし、固定ブロックの熱変形を防
止したので、熱電対が内設されている保護管の傾斜が防
止され、位置変化がなくなり、温度測定の再現性が向上
し、又保護管の均熱管、反応管等炉内の構成物に接触す
ることが防止される等の優れた効果を発揮する。
【図１】本発明の実施の形態の要部を示す斜視図であ
る。
る。
【図２】同前本発明の実施の形態の要部断面図である。
【図３】縦型炉の概要を示す立断面図である。
【図４】従来例の要部を示す斜視図である。
【図５】従来例の要部を示す断面図である。
１ ヒータ ２ 均熱管 ３ 反応管 ４ ボート ６ ウェーハ ７ ヒータベース １０ 熱電対 １１ 絶縁管 １２ 保護管 ２０ 固定ブロック ２１ 保持管
Claims (1)
- 【請求項１】 内部に熱電対が挿入された保護管が炉内
に立設され、前記熱電対を介して炉内の温度測定が行わ
れる縦型炉に於いて、前記保護管がセラミック製の固定
ブロックにより支持されることを特徴とする縦型炉。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP24408896A JPH1070083A (ja) | 1996-08-27 | 1996-08-27 | 縦型炉 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP24408896A JPH1070083A (ja) | 1996-08-27 | 1996-08-27 | 縦型炉 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1070083A true JPH1070083A (ja) | 1998-03-10 |
Family
ID=17113567
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP24408896A Pending JPH1070083A (ja) | 1996-08-27 | 1996-08-27 | 縦型炉 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH1070083A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001522138A (ja) * | 1997-11-03 | 2001-11-13 | エーエスエム アメリカ インコーポレイテッド | 長寿命高温プロセスチャンバ |
| EP1544900A1 (en) * | 2002-09-24 | 2005-06-22 | Tokyo Electron Limited | Heat treatment apparatus |
-
1996
- 1996-08-27 JP JP24408896A patent/JPH1070083A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001522138A (ja) * | 1997-11-03 | 2001-11-13 | エーエスエム アメリカ インコーポレイテッド | 長寿命高温プロセスチャンバ |
| EP1544900A1 (en) * | 2002-09-24 | 2005-06-22 | Tokyo Electron Limited | Heat treatment apparatus |
| EP1544900A4 (en) * | 2002-09-24 | 2008-08-13 | Tokyo Electron Ltd | HEAT TREATMENT DEVICE |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A977 | Report on retrieval |
Effective date: 20040713 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20040831 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20050104 |