JPH1067718A - 4−ヒドロキシアニリン類の製法 - Google Patents
4−ヒドロキシアニリン類の製法Info
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Abstract
せ、続いて還元することにより4−ヒドロキシアニリン
類が製造される。
Description
アゾニウム塩と反応させ、ついで還元する2,3−ジ置
換4−ヒドロキシアニリンの製造法に関する。
は、作物保護剤の製造における重要な中間体であり、独
国特許公報第40040853号に記述されている。
単な精製及び処理工程、並びに穏やかな反応条件を提供
し、しかも副生物及び不活性な異性体を生成しない2,
3−ジ置換4−ヒドロキシアニリンの新規な製法が発見
された。
ン、アルコキシ及びCNを表す]の化合物を製造する際
に、 a)式(II)
−ルを式(III)
ン、アルキル、NO2、COOH、CN及びSO3Hを表
し、但しn≧2の場合Zは随時異なる意味を有してもよ
く、そしてA-は対イオンを表す]のジアゾニウム塩と
反応させ、そして b)ついで反応工程a)で製造した式(IV)
る、該式(I)の化合物の製造法を提供する。
ジアゾニウム塩の溶液を、式(II)のフェノ−ルの水溶
液に添加することによって行われる。反応は0〜50
℃、好ましくは0〜20℃の温度で行われる。溶液のp
H値は、好ましくは式(II)のフェノ−ルのpKs値よ
りも高い。
≦7のpH値に調節し、そして式(IV)のジアゼンを、
水と混和しない有機溶媒、例えば酢酸エチル又はブタノ
−ルで抽出する。
式(IV)のジアゼンを、不活性な溶媒、例えば好ましく
は水、アルコ−ル例えばメタノ−ル、エタノ−ル又はブ
タノ−ル、炭化水素例えばトルエン又はジオキサン、ピ
リジン、ジメチルホルムアミド又はこれらの溶媒の混合
物の存在下に水素化することによって好ましく行われ
る。
は更に精製することなしに工程b)で直接反応せしめら
れる。
適当ならば助剤の存在下に水素又はヒドラジンを用い
て、或いはナトリウムジチオナイト又は次亜よう素酸を
用いて行われる。必要ならば、反応溶液を水素化に先立
って鉱酸により中和(pH〜7)しなければならない。
例は、本発明に参考文献として引用される独国特許公報
第4428535号に記述されている。水素化を、液相
中、ニッケル、コバルト及び貴金属からなる群からの少
なくとも1つの金属又は1つの金属化合物を含んでなる
触媒の存在下に及び式(V) R1−S(O)n−R2 (V) [式中、R1及びR2は互いに独立に、それぞれ直鎖又は
分岐鎖C1〜C12アルキル、ヒドロキシ−C1〜C12アル
キル、カルボキシ−C1〜C12アルキル又はフェニルを
表し、R1は更に水素又はCO−C1〜C12アルキルを表
してもよく、R1及びR2は一緒になって−CH=CH−
CH=CH−、−(CH2)4−、−(CH2)5−又は−
(CH2)2−X−(CH2)2を表してもよく、X=酸素
又は硫黄、そしてnは0又は1を表す]の少なくとも1
つの硫黄化合物の存在下に行う、触媒を用いる接触水素
化は好適である。
R2が同一で、ヒドロキシ−C1〜C6アルキルを表すも
のである。非常に特に好適なものは、ビス−(2−ヒド
ロキシエチル)スルフィドである。
ニウム、ロジウム、パラジウム、オスミウム、イリジウ
ム及び白金である。白金は好適である。ニッケル、コバ
ルト及び貴金属又はその化合物は随時担体上に存在して
もよい。好適な担体材料はカ−ボンである。
ができる。例えば式(IV)の化合物に基づいて0.02
〜3、好ましくは0.1〜1重量%の貴金属触媒が使用
できる。
例えば0.001〜0.125:1であってよい。好ま
しくは重量比は0.0025〜0.025、特に好まし
くは0.005〜0.0125:1である。
は種々の個々の化合物の混合物として使用できる。硫黄
化合物を溶液の形で用いるのは好適である。それは例え
ば水又はトルエン中0.01〜1重量%溶液の形で反応
混合物に添加しうる。硫黄化合物を、反応前に触媒と混
合することも可能である。
ル及びビス−(2−ヒドロキシエチル)スルフィドの存
在下に水素又はヒドラジン水和物を用いて、或いは塩酸
の存在下に鉄粉又は亜鉛粉を用いて行われる。
0〜50℃である。反応は好ましくは1〜100、特に
1〜20バ−ルの圧力で行われる。
依然存在するアニリンを留去し、鉱酸又は塩基を添加し
て適当なpH値を設定し(pH=ヒドロキシアニリンの
等電点)、そして粗生成物を洗浄又は不活性な溶媒例え
ば水又はトルエンからの再結晶で精製することによって
行われる。
とができる。
化合物1モルに基づいて1〜1.5モルである。水素は
一般にジアゼン化合物の量に基づいて2倍モル量で使用
され、過剰量で使用できる。金属及び鉱酸も、ジアゼン
化合物又は金属それぞれの量に基づいて少なくとも2倍
モル量で使用される。
素、メトキシ、エトキシ、及びCNを表す、式(II)の
化合物を使用することは好適である。
(II)の化合物を使用することは特に好適である。
が塩素、弗素、臭素、NO2、CN、COOH、SO
3H、メチル及びエチルを表し、但しn≧2の場合Zは
随時異なる意味を有してもよい、式(III)の化合物を
使用することは好適である。
用することは特に好適である。
ば式(IIIa)
アニリン1モルを、希鉱酸例えば15%塩酸中、0〜1
0℃において、ナイトライト化合物例えば及び好ましく
はNaNO21〜5、好ましくは1.5〜2モルと反応
させることによって得られる。
ヒドロキシアニリンを良好な収率及び高選択率及び純度
で与える。工程a)において、与えられた置換パタ−ン
に関し、専らOH基に対してパラ位で反応が起こると言
う事は非常に驚くべきことである。
述した通りである、工程a)で得られる式(IV)の化合
物も提供する。
明はこれらの実施例に限定されるものではない。
の2つ口フラスコ中0〜5℃において、H2O12ml
中NaNO27.6g(0.11モル)の溶液を水性H
Cl(15%)50ml及びアニリン9.8g(0,1
05モル)に滴下した。10分後、このジアゾニウム塩
を、5〜10℃下に、H2O200ml中2,3−ジク
ロロフェノ−ル16.3g(0.1モル)及びNaOH
20g(0.5モル)の溶液に添加した。この混合物を
室温まで暖め、更に4時間撹拌し、水性HClで中和
し、それぞれ酢酸エチル100mlで3回抽出した。一
緒にした有機相をNaCl溶液で洗浄し、NaSO4で
乾燥し、溶媒を回転蒸発器で留去した。(2,3−ジク
ロロ−4−ヒドロキシフェニル)フェニルジアゼン3
1.8gを得た。
lからの再結晶は、純粋なジアゼン(融点:277〜2
79℃)25.8g(理論量の96.6%)を与えた。
の3つ口フラスコにおいて、実施例1で得たような精製
してない(2、3−ジクロロ−4−ヒドロキシフェニ
ル)フェニルジアゼン31.8g(0.1モル)を、穏
やかに暖めながらメタノ−ル350mlに溶解した。フ
ラスコをアルゴンでフラッシュし、ラネ−ニッケル5g
及びビス−(2−ヒドロキシエチル)スルフィド25μ
lを添加した。ついで室温において、水素4640ml
(0.2モル)を、約1バ−ルの圧力で2.5時間にわ
たり適用した。この反応混合物を少量の活性炭と混合
し、更に15分間撹拌し、シリカゲル床を通して濾過し
た。そして溶媒を留去することにより、粗生成物28.
3gを得た。この粗生成物をトルエン100mlと共に
加熱し、吸引濾過し、固体を乾燥することにより、純粋
な4−ヒドロキシ−2,3−ジクロロアニリン(融点:
148〜150℃)17.0g(理論量の95.5%)
を単離した。
コにおいて、実施例1で得たような精製してない(2,
3−ジクロロ−4−ヒドロキシフェニル)フェニルジア
ゼン3.18g(0.01モル)を、穏やかに暖めなが
らメタノ−ル20mlに溶解した。鉄粉1.12g
(0.02モル)を添加し、濃水性HCl3.5ml
(0.04モル)を室温でゆっくり滴下した。この懸濁
液を室温で30分間撹拌し、NaOHで中和し、ついで
酢酸エチル3x10mlで抽出した。一緒にした有機層
をNa2SO4で乾燥し、溶媒を回転蒸発器で留去して、
粗生成物2.01gを得た。この粗生成物をトルエン1
0mlと共に加熱し、吸引濾過し、固体を乾燥すること
により、純粋な4−ヒドロキシ−2,3−ジクロロアニ
リン(融点:148〜150℃)1.62g(理論量の
91.0%)を単離した。
の2つ口フラスコ中0〜5℃において、H2O12ml
中NaNO27.6g(0.11モル)の溶液を水性H
Cl(15%)50ml及び2,3−ジクロロアニリン
17.0g(0,105モル)に滴下した。10分後、
このジアゾニウム塩溶液を、5〜10℃下に、H2O2
00ml中2,3−ジクロロフェノ−ル16.3g
(0.1モル)及びNaOH20g(0.5モル)の溶
液に添加した。この混合物を室温まで暖め、更に4時間
撹拌し、水性HClで中和し、それぞれ酢酸エチル20
0mlで3回抽出した。一緒にした有機相を珪藻土を通
して濾過し、NaCl溶液で洗浄し、NaSO4で乾燥
し、溶媒を回転蒸発器で留去した。ジアゼン29.5g
を得た。ついでトルエン200mlからの再結晶によ
り、純粋な(2,3−ジクロロ−4−ヒドロキシフェニ
ル)−2,3−ジクロロフェニルジアゼン(融点197
〜199℃)28.9g(理論量の86%)を得た。
の2つ口フラスコ中0〜5℃において、H2O12ml
中NaNO27.6g(0.11モル)の溶液を水性H
Cl(15%)50ml及びスルファニル酸18.1g
(0,105モル)に滴下した。1時間後、このジアゾ
ニウム塩溶液を、5〜10℃下に、H2O200ml中
2,3−ジクロロフェノ−ル16.3g(0.1モル)
及びNaOH20g(0.5モル)の溶液に添加した。
この混合物を室温まで暖め、更に4時間撹拌し、水性H
Clで中和し、沈殿した固体を吸引濾過器で濾別した。
トルエン200ml及びメタノ−ル20mlからの再結
晶により、純粋な(2,3−ジクロロ−4−ヒドロキシ
フェニル)−4−スルホニルフェニルジアゼン26.3
g(理論量の83.5%)を得た。
の2つ口フラスコ中0〜5℃において、H2O6ml中
NaNO23.8g(0.055モル)の溶液を水性H
Cl(15%)25ml及びアニリン4.9g(0,0
525モル)に滴下した。10分後、このジアゾニウム
塩溶液を、5〜10℃下に、H2O100ml中2,3
−ジクロロフェノ−ル8.15g(0.05モル)及び
NaOH10g(0.25モル)の溶液に添加した。こ
の混合物を室温まで暖め、更に1時間撹拌し、水性HC
lで中和した(pH=7)。内部温度計、撹拌機及びガ
ス導入管を備えた500mlの3つ口フラスコ中で、こ
の溶液をメタノ−ル300ml,ラネ−ニッケル2.5
g及びビス−(2−ヒドロキシエチル)スルフィド15
μlと混合し、そしてフラスコをアルゴンでフラッシュ
した。ついで40〜50℃において、水素2300ml
(0.1モル)を、約1バ−ルの圧力で1.5時間にわ
たり適用した。この反応混合物を少量の活性炭と混合
し、更に15分間撹拌し、シリカゲル床を通して濾過し
た。そしてメタノ−ルを留去し、純粋な4−ヒドロキシ
−2,3−ジクロロアニリンを水溶液から沈殿させた。
収率は83%であった。
の2つ口フラスコ中0〜5℃において、H2O6ml中
NaNO23.8g(0.055モル)の溶液を水性H
Cl(15%)25ml及びアニリン4.9g(0,0
525モル)に滴下した。10分後、このジアゾニウム
塩溶液を、5〜10℃下に、H2O100ml中2,3
−ジクロロフェノ−ル8.15g(0.05モル)及び
NaOH10g(0.25モル)の溶液に添加した。こ
の混合物を室温まで暖め、更に1時間撹拌し、水性HC
lで中和した(pH=7)。内部温度計、撹拌機及びガ
ス導入管を備えた500mlの3つ口フラスコ中で、こ
の溶液をメタノ−ル300ml,ラネ−ニッケル2.5
g及びビス−(2−ヒドロキシエチル)スルフィド15
μlと混合し、そしてフラスコをアルゴンでフラッシュ
した。ついで40〜50℃において、水素2300ml
(0.1モル)を、約1バ−ルの圧力で1.5時間にわ
たり適用した。この反応混合物を少量の活性炭と混合
し、更に15分間撹拌し、シリカゲル床を通して濾過
し、水性HClでpH=5.7に調節した。た。そして
メタノ−ルを留去し、純粋な4−ヒドロキシ−2、3−
ジクロロアニリン8.4g(理論量の94.4%)を水
溶液から沈殿させた。
lの2つ口フラスコ中0〜5℃において、H2O22m
l中NaNO27.3g(0.105モル)の溶液を水
性HCl(15%)50ml及びアニリン9.3g
(0,1モル)に滴下した。30分後、このジアゾニウ
ム塩溶液を、5〜10℃下に、H2O100ml中2,
3−ジクロロフェノ−ル16.4g(0.1モル)及び
NaOH12.4g(0.31モル)の溶液に添加し
た。この懸濁液を室温まで暖め、更に1時間撹拌し、つ
いでラネ−ニッケル0.5gを添加した。更にヒドラジ
ン水和物6g(0.06モル)を40〜50℃で2時間
にわたり添加した。この添加後、撹拌を1時間継続し、
溶液をシリカゲル床を通して濾過した。ついで溶液を冷
却しつつ、20%HClでpH=5.7に調節した。沈
殿した固体を水50ml及びトルエン50mlで洗浄
し、乾燥した。純粋な2,3−ジクロロ−4−ヒドロキ
シアニリン16.8g(理論量の94.3%)を得た。
の2つ口フラスコ中0〜5℃において、H2O5ml中
NaNO22.9g(0.042モル)の溶液を水性H
Cl(15%)20ml及びアニリン3.7g(0,0
4モル)に滴下した。10分後、このジアゾニウム塩
を、5〜10℃下に、H2O60ml中2,3−ジクロ
ロフェノ−ル5.0g(0.038モル)及びNaOH
6.1g(0.152モル)の溶液に添加した。この溶
液を室温まで暖め、更に4時間撹拌し、水性HClで中
和し、それぞれ酢酸エチル50mlで3回抽出した。一
緒にした有機相をNaCl溶液で洗浄し、NaSO4で
乾燥し、溶媒を回転蒸発器で留去した。(2,3−ジク
ロロ−4−ヒドロキシフェニル)フェニルジアゼン(融
点141℃)8.4g(理論量の94.5%)を得た。
の3つ口フラスコにおいて、(2,3−ジクロロ−4−
ヒドロキシフェニル)フェニルジアゼン3.5g(0.
015モル)を、室温下にメタノ−ル30mlに溶解し
た。フラスコをアルゴンでフラッシュし、ラネ−ニッケ
ル1.5g及びビス−(2−ヒドロキシエチル)スルフ
ィド25μlを添加した。ついで室温において、水素6
92ml(0.03モル)を、約1バ−ルの圧力で適用
した。この反応混合物を少量の活性炭と混合し、更に1
5分間撹拌し、シリカゲル床を通して濾過した。そして
溶媒を留去し、残渣をn−ヘキサンで洗浄することによ
り、純粋な4−ヒドロキシ−2,3−ジクロロアニリン
2.0g(理論量の91.9%)を得た。
Claims (13)
- 【請求項1】 式(I) 【化1】 [式中、X及びYは互いに独立にハロゲン、アルコキシ
及びCNを表す]の化合物を製造する際に、 a)式(II) 【化2】 [X及びYは上述の通りである]のフェノ−ルを式(II
I) 【化3】 [式中、nは数0〜5を表し、 Zはハロゲン、アルキル、NO2、COOH、CN及び
SO3Hを表し、但しn≧2の場合Zは随時異なる意味
を有してもよく、そしてA−は対イオンを表す]のジア
ゾニウム塩と反応させ、そして b)ついで反応工程a)で製造した式(IV) 【化4】 のジアゼンを還元して、目的の化合物を得る、該式
(I)の化合物の製造法。 - 【請求項2】 反応工程a)の反応を、水性媒体中0〜
50℃の温度で行う、請求項1の方法。 - 【請求項3】 反応工程b)の還元を、不活性な溶媒の
存在下における水素化で行う、請求項1の方法。 - 【請求項4】 水素化を、助剤の存在下及び0〜150
℃の温度下に水素又はヒドラジン水和物を用いて行う、
請求項3の方法。 - 【請求項5】 X及びYが互いに独立に塩素、臭素、弗
素、メトキシ、エトキシ及びCNを表す式(II)の化合
物を使用する、請求項1の方法。 - 【請求項6】 nが数0、1、2又は3を表し、そして
Zが塩素、弗素、臭素、NO2、COOH、CN、SO3
H、メチル及びエチルを表し、但しn≧2の場合Zは随
時異なる意味を有してもよい式(III)の化合物を使用
する、請求項1の方法。 - 【請求項7】 式(IV) 【化5】 [式中、X及びYは互いに独立にハロゲン、アルコキシ
及びCNを表し、 nは数0〜5を表し、そしてZはハロゲン、アルキル、
NO2、CN、COOH及びSO3Hを表し、但しn≧2
の場合Zは随時異なる意味を有してもよい]の化合物。 - 【請求項8】 X及びYが互いに独立に塩素、臭素、弗
素、メトキシ、エトキシ、CN及びNO2を表し、 nが数0、1、2又は3を表し、そしてZが塩素、弗
素、臭素、NO2、CN、COOH、SO3H、メチル及
びエチルを表し、但しn≧2の場合Zは随時異なる意味
を有してもよい、請求項7の化合物。 - 【請求項9】 Xが塩素を表し、及びYが塩素を表し、 nが数0、1、2又は3を表し、そしてZが塩素、弗
素、臭素、NO2、CN、COOH、SO3H、メチル及
びエチルを表し、但しn≧2の場合Zは随時異なる意味
を有してもよい、請求項7の化合物。 - 【請求項10】 nが数0を表す、請求項9の化合物。
- 【請求項11】 X及びYがそれぞれ弗素を表し、 nが数0、1、2又は3を表し、そしてZが塩素、弗
素、臭素、NO2、CN、COOH、SO3H、メチル及
びエチルを表し、但しn≧2の場合Zは随時異なる意味
を有してもよい、請求項7の化合物。 - 【請求項12】 nが数0を表す、請求項11の化合
物。 - 【請求項13】 式(IV) 【化6】 [式中、X、Y、Z及びnはそれぞれ請求項7に定義し
た通りである]の化合物を製造する際に、式(II) 【化7】 [式中、X及びYはそれぞれ上述した通りである]のフ
ェノ−ルを式(III) 【化8】 [式中、nは数0〜5を表し、 Zはハロゲン、アルキル、NO2、COOH、CN及び
SO3Hを表し、但しn≧2の場合Zは随時異なる意味
を有してもよく、そしてA-は対イオンを表す]のジア
ゾニウム塩と反応させる、該式(IV)の化合物の製造
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