JPH1067536A - オキシハライドレーザガラス - Google Patents
オキシハライドレーザガラスInfo
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- 239000000087 laser glass Substances 0.000 title claims abstract description 53
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims abstract description 52
- -1 rare earth metal ions Chemical class 0.000 claims abstract description 47
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 claims abstract description 31
- 229910052761 rare earth metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 27
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 claims abstract description 23
- 150000004820 halides Chemical class 0.000 claims abstract 5
- 229910052691 Erbium Inorganic materials 0.000 claims description 38
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims description 38
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 20
- UYAHIZSMUZPPFV-UHFFFAOYSA-N erbium Chemical compound [Er] UYAHIZSMUZPPFV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 18
- 229910018072 Al 2 O 3 Inorganic materials 0.000 claims description 14
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 claims description 13
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims description 12
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 claims description 9
- 239000002019 doping agent Substances 0.000 claims description 8
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 6
- 229910000272 alkali metal oxide Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 229910000287 alkaline earth metal oxide Inorganic materials 0.000 claims description 4
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims description 4
- 150000002910 rare earth metals Chemical class 0.000 claims description 4
- 229910005191 Ga 2 O 3 Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910005793 GeO 2 Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 claims description 3
- BPQQTUXANYXVAA-UHFFFAOYSA-N Orthosilicate Chemical compound [O-][Si]([O-])([O-])[O-] BPQQTUXANYXVAA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910052661 anorthite Inorganic materials 0.000 claims description 2
- GWWPLLOVYSCJIO-UHFFFAOYSA-N dialuminum;calcium;disilicate Chemical compound [Al+3].[Al+3].[Ca+2].[O-][Si]([O-])([O-])[O-].[O-][Si]([O-])([O-])[O-] GWWPLLOVYSCJIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 3
- 239000013078 crystal Substances 0.000 claims 2
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims 1
- 230000008034 disappearance Effects 0.000 claims 1
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 claims 1
- 238000010791 quenching Methods 0.000 abstract description 14
- 230000000171 quenching effect Effects 0.000 abstract description 14
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 3
- PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N Fluorine Chemical compound FF PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 2
- 229910018404 Al2 O3 Inorganic materials 0.000 abstract 1
- 229910000323 aluminium silicate Inorganic materials 0.000 abstract 1
- 229910052681 coesite Inorganic materials 0.000 abstract 1
- 229910052906 cristobalite Inorganic materials 0.000 abstract 1
- HNPSIPDUKPIQMN-UHFFFAOYSA-N dioxosilane;oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Si]=O.O=[Al]O[Al]=O HNPSIPDUKPIQMN-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 1
- 230000009931 harmful effect Effects 0.000 abstract 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 abstract 1
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 abstract 1
- 229910052682 stishovite Inorganic materials 0.000 abstract 1
- 229910052905 tridymite Inorganic materials 0.000 abstract 1
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 8
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 8
- 239000011449 brick Substances 0.000 description 3
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 3
- 230000002939 deleterious effect Effects 0.000 description 3
- 239000006066 glass batch Substances 0.000 description 3
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 2
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 2
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 2
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 239000000075 oxide glass Substances 0.000 description 2
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000005368 silicate glass Substances 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N Boron Chemical compound [B] ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GYHNNYVSQQEPJS-UHFFFAOYSA-N Gallium Chemical group [Ga] GYHNNYVSQQEPJS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052779 Neodymium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000003321 amplification Effects 0.000 description 1
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N argon Substances [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000004891 communication Methods 0.000 description 1
- 125000001153 fluoro group Chemical group F* 0.000 description 1
- 229910052733 gallium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052732 germanium Inorganic materials 0.000 description 1
- GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N germanium atom Chemical compound [Ge] GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007496 glass forming Methods 0.000 description 1
- 230000014759 maintenance of location Effects 0.000 description 1
- 239000000155 melt Substances 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 1
- QEFYFXOXNSNQGX-UHFFFAOYSA-N neodymium atom Chemical compound [Nd] QEFYFXOXNSNQGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000003199 nucleic acid amplification method Methods 0.000 description 1
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000005258 radioactive decay Effects 0.000 description 1
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 1
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 1
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 1
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C3/00—Glass compositions
- C03C3/04—Glass compositions containing silica
- C03C3/062—Glass compositions containing silica with less than 40% silica by weight
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C3/00—Glass compositions
- C03C3/04—Glass compositions containing silica
- C03C3/076—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight
- C03C3/11—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing halogen or nitrogen
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C3/00—Glass compositions
- C03C3/04—Glass compositions containing silica
- C03C3/076—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight
- C03C3/11—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing halogen or nitrogen
- C03C3/112—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing halogen or nitrogen containing fluorine
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C4/00—Compositions for glass with special properties
- C03C4/0071—Compositions for glass with special properties for laserable glass
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/14—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range characterised by the material used as the active medium
- H01S3/16—Solid materials
- H01S3/1601—Solid materials characterised by an active (lasing) ion
- H01S3/1603—Solid materials characterised by an active (lasing) ion rare earth
- H01S3/1608—Solid materials characterised by an active (lasing) ion rare earth erbium
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/14—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range characterised by the material used as the active medium
- H01S3/16—Solid materials
- H01S3/17—Solid materials amorphous, e.g. glass
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/14—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range characterised by the material used as the active medium
- H01S3/16—Solid materials
- H01S3/17—Solid materials amorphous, e.g. glass
- H01S3/173—Solid materials amorphous, e.g. glass fluoride glass, e.g. fluorozirconate or ZBLAN [ ZrF4-BaF2-LaF3-AlF3-NaF]
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2201/00—Glass compositions
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- C03C2201/30—Doped silica-based glasses containing metals
- C03C2201/34—Doped silica-based glasses containing metals containing rare earth metals
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- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/14—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range characterised by the material used as the active medium
- H01S3/16—Solid materials
- H01S3/1601—Solid materials characterised by an active (lasing) ion
- H01S3/1603—Solid materials characterised by an active (lasing) ion rare earth
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
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- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
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- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 希土類ドープトレーザガラスにおいて、濃度
クエンチングを抑圧する。 【解決手段】 45−70モル%のSiO2 、15−35モル%
のX、および15−35モル%のYからなるモルで表したバ
ッチ組成を有する。Xが、アルカリ金属酸化物、アルカ
リ土類金属酸化物、およびZnOからなる群より選択さ
れる金属酸化物であり、Yが、アルミニウム酸化物およ
びアルミニウムハロゲン化物からなる群より選択された
アルミニウム化合物であり、少なくとも10モル%のYが
アルミニウムハロゲン化物である。
クエンチングを抑圧する。 【解決手段】 45−70モル%のSiO2 、15−35モル%
のX、および15−35モル%のYからなるモルで表したバ
ッチ組成を有する。Xが、アルカリ金属酸化物、アルカ
リ土類金属酸化物、およびZnOからなる群より選択さ
れる金属酸化物であり、Yが、アルミニウム酸化物およ
びアルミニウムハロゲン化物からなる群より選択された
アルミニウム化合物であり、少なくとも10モル%のYが
アルミニウムハロゲン化物である。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は希土類元素がドープ
されたオキシハライドレーザガラスに関するものであ
る。
されたオキシハライドレーザガラスに関するものであ
る。
【0002】
【従来の技術】シリカガラスに希土類元素をドープする
ことによりレーザガラスを製造することが従来技術にお
いて知られている。このような希土類がドープされたレ
ーザガラスのレーザ特性は、ガラス中にドープされた希
土類元素の励起イオンの誘発発光により行なわれた光増
幅に由来するものであり、ドープされたイオンの蛍光寿
命に依存している。さらに、レーザガラスのレーザ出力
がガラス中に存在する希土類イオンの数に依存すること
が知られている。
ことによりレーザガラスを製造することが従来技術にお
いて知られている。このような希土類がドープされたレ
ーザガラスのレーザ特性は、ガラス中にドープされた希
土類元素の励起イオンの誘発発光により行なわれた光増
幅に由来するものであり、ドープされたイオンの蛍光寿
命に依存している。さらに、レーザガラスのレーザ出力
がガラス中に存在する希土類イオンの数に依存すること
が知られている。
【0003】従来技術における問題点は、濃度クエンチ
ング(concentration quenching )の現象のために、レ
ーザガラス中の希土類イオンの使用可能な最大濃度に急
速に到達してしまうことであった。濃度クエンチング
は、近隣の非励起希土類イオンに近すぎる励起希土類イ
オンの非放射性崩壊によるものである。励起希土類イオ
ンは、双極子結合により近隣の非励起希土類イオンにエ
ネルギーを伝え、最終的に光は出力されない。レーザガ
ラス中の希土類イオンの濃度が増加するにつれて、希土
類イオンが近隣の希土類イオンと互いに密集する傾向に
あり、その結果、レーザ出力の原因となる実際に励起可
能な希土類イオンが増加することがなく、希土類イオン
の蛍光寿命が減少する。
ング(concentration quenching )の現象のために、レ
ーザガラス中の希土類イオンの使用可能な最大濃度に急
速に到達してしまうことであった。濃度クエンチング
は、近隣の非励起希土類イオンに近すぎる励起希土類イ
オンの非放射性崩壊によるものである。励起希土類イオ
ンは、双極子結合により近隣の非励起希土類イオンにエ
ネルギーを伝え、最終的に光は出力されない。レーザガ
ラス中の希土類イオンの濃度が増加するにつれて、希土
類イオンが近隣の希土類イオンと互いに密集する傾向に
あり、その結果、レーザ出力の原因となる実際に励起可
能な希土類イオンが増加することがなく、希土類イオン
の蛍光寿命が減少する。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】従来技術が直面した課
題は、イオンが密集して希土類イオンの蛍光寿命を減少
させることなく、希土類イオンが比較的高濃度にドープ
されているガラス組成物を提供することにあった。
題は、イオンが密集して希土類イオンの蛍光寿命を減少
させることなく、希土類イオンが比較的高濃度にドープ
されているガラス組成物を提供することにあった。
【0005】エルビウムドープトレーザガラスが光通信
システムに使用されている光の1.55μmの波長を効果的
に増幅できるので、現在エルビウムがドーピングレーザ
ガラスによく使用されている希土類元素となっている。
ネオジミウムもまたレーザガラス中の希土類ドーパント
として用いられている。したがって、本発明の目的は、
従来技術の問題を克服するレーザガラスを提供すること
にある。
システムに使用されている光の1.55μmの波長を効果的
に増幅できるので、現在エルビウムがドーピングレーザ
ガラスによく使用されている希土類元素となっている。
ネオジミウムもまたレーザガラス中の希土類ドーパント
として用いられている。したがって、本発明の目的は、
従来技術の問題を克服するレーザガラスを提供すること
にある。
【0006】したがって、密集に対して抵抗性を有する
励起可能なエルビウムイオンを比較的高濃度で含有し、
プレーナ光増幅器および短い路程に亘り高濃度の励起可
能なイオンを必要とする他のコンパクトなレーザ製品の
ようなレーザ用途に好ましく使用できるガラス組成物を
提供することが、本発明の目的である。
励起可能なエルビウムイオンを比較的高濃度で含有し、
プレーナ光増幅器および短い路程に亘り高濃度の励起可
能なイオンを必要とする他のコンパクトなレーザ製品の
ようなレーザ用途に好ましく使用できるガラス組成物を
提供することが、本発明の目的である。
【0007】
【課題を解決するための手段】要するに、本発明は、濃
度クエンチングの有害な影響がなく、希土類ドーパント
濃度を増大できるオキシハライドガラス組成物に関する
ものである。
度クエンチングの有害な影響がなく、希土類ドーパント
濃度を増大できるオキシハライドガラス組成物に関する
ものである。
【0008】別の形態において、本発明は、エルビウム
イオンを都合よく分散させて、双極子結合を防いで、蛍
光寿命を長くしたオキシハライドレーザガラス組成物に
関するものである。
イオンを都合よく分散させて、双極子結合を防いで、蛍
光寿命を長くしたオキシハライドレーザガラス組成物に
関するものである。
【0009】さらに別の形態において、本発明はオキシ
フルオライドアルミナシリケートレーザガラスに関する
ものである。
フルオライドアルミナシリケートレーザガラスに関する
ものである。
【0010】さらなる形態において、本発明は、濃度ク
エンチングの有害な影響を抑制するのに十分なフッ素を
含有するオキシフルオライドレーザガラスに関するもの
である。
エンチングの有害な影響を抑制するのに十分なフッ素を
含有するオキシフルオライドレーザガラスに関するもの
である。
【0011】本発明のさらなる目的は、酸化物ガラス中
の希土類ドーパントの濃度クエンチングを抑制する方法
を開示することにある。
の希土類ドーパントの濃度クエンチングを抑制する方法
を開示することにある。
【0012】本発明の組成物により、濃度クエンチング
の有害な影響がない、エルビウムイオンの濃度が増大し
たオキシハライドガラスを提供する。本発明のオキシハ
ライドガラス組成物は、エルビウムイオンが互いに近す
ぎて位置する場合に生じる濃度クエンチングの双極子結
合を抑制するように、近隣のエルビウムイオンから離し
てエルビウムイオンを都合よく分散させるガラスの化学
構造を提供する。本発明の組成物は、ガラス中の全エル
ビウム濃度を最大にしつつ、近隣のエルビウムイオン間
の距離を最大にする。本発明の組成物により、有用な蛍
光寿命が得られる一方で、エルビウム濃度が比較的大き
くなる。
の有害な影響がない、エルビウムイオンの濃度が増大し
たオキシハライドガラスを提供する。本発明のオキシハ
ライドガラス組成物は、エルビウムイオンが互いに近す
ぎて位置する場合に生じる濃度クエンチングの双極子結
合を抑制するように、近隣のエルビウムイオンから離し
てエルビウムイオンを都合よく分散させるガラスの化学
構造を提供する。本発明の組成物は、ガラス中の全エル
ビウム濃度を最大にしつつ、近隣のエルビウムイオン間
の距離を最大にする。本発明の組成物により、有用な蛍
光寿命が得られる一方で、エルビウム濃度が比較的大き
くなる。
【0013】本発明のオキシフルオライドレーザガラス
は、アルミナシリケートガラス中の酸素をフッ素に置き
換えることからなる。ガラス中のエルビウムドーパント
の分布は、2SiO2 ・Al2 O3 ・CaOの一般的な
モルで表したバッチ組成物中のある比率のAl2 O3 を
Al2 F6 に置き換えることにより改善される。本発明
の一般的なモルで表したバッチ組成は、約45−70%のS
iO2 、約15−35%のCaO、約10−25%のAl
2 O3 、約4−15%のAl2 F6 および約0.001 −2%
のEr2 O3 の範囲に亘る。本発明のバッチ組成物を、
少なくとも6重量%のFを有するオキシフルオライドガ
ラスを提供する条件下で溶融して形成する。
は、アルミナシリケートガラス中の酸素をフッ素に置き
換えることからなる。ガラス中のエルビウムドーパント
の分布は、2SiO2 ・Al2 O3 ・CaOの一般的な
モルで表したバッチ組成物中のある比率のAl2 O3 を
Al2 F6 に置き換えることにより改善される。本発明
の一般的なモルで表したバッチ組成は、約45−70%のS
iO2 、約15−35%のCaO、約10−25%のAl
2 O3 、約4−15%のAl2 F6 および約0.001 −2%
のEr2 O3 の範囲に亘る。本発明のバッチ組成物を、
少なくとも6重量%のFを有するオキシフルオライドガ
ラスを提供する条件下で溶融して形成する。
【0014】本発明のオキシハライドガラスは、50%の
SiO2 、25%のCaOおよび25%のAl2 O3 の一般
的なモルで表したバッチ組成を有するガラス中の酸素を
フッ素と置き換えて、約11モル%のAl2 O3 がAl2
F6 として配合され、ガラス中にドープされたエルビウ
ムの分布が改良されることにより形成されている。本発
明の一般的なモルで表したバッチ組成は、約45−70%の
SiO2 、約15−35%のCaO、約10−25%のAl2 O
3 、約4−15%のAl2 F6 および約0.001 −2%のE
r2 O3 の範囲に亘る。このように2SiO2 ・Al2
O3 ・CaOガラス系中でフッ素と置換することによ
り、濃度クエンチングがほとんどまたは全くなく、約6
ミリ秒(ms)以上の有用な蛍光寿命を示す、0.01モル
%から1.2モル%までのEr2 O3 (500 ppmから5.6
8重量%までのEr2 O3 )を含有するエルビウムレー
ザガラスが製造される。
SiO2 、25%のCaOおよび25%のAl2 O3 の一般
的なモルで表したバッチ組成を有するガラス中の酸素を
フッ素と置き換えて、約11モル%のAl2 O3 がAl2
F6 として配合され、ガラス中にドープされたエルビウ
ムの分布が改良されることにより形成されている。本発
明の一般的なモルで表したバッチ組成は、約45−70%の
SiO2 、約15−35%のCaO、約10−25%のAl2 O
3 、約4−15%のAl2 F6 および約0.001 −2%のE
r2 O3 の範囲に亘る。このように2SiO2 ・Al2
O3 ・CaOガラス系中でフッ素と置換することによ
り、濃度クエンチングがほとんどまたは全くなく、約6
ミリ秒(ms)以上の有用な蛍光寿命を示す、0.01モル
%から1.2モル%までのEr2 O3 (500 ppmから5.6
8重量%までのEr2 O3 )を含有するエルビウムレー
ザガラスが製造される。
【0015】本発明および比較例のバッチ組成物を、約
1600℃で約6時間に亘り、蓋をした白金るつぼ内で溶融
し、次いで、スチールプレート上に注ぎ入れ、4インチ
×4インチ×1/2 インチのガラスブリックを形成した。
このガラスブリックを続いて550 ℃でアニールした。こ
れらのガラスブリックに筋をつけて破断することによ
り、ガラス試験試料を作成し、これらの試料の蛍光寿命
をミリ秒(ms)で測定して、ガラスのレーザ特性を決
定した。
1600℃で約6時間に亘り、蓋をした白金るつぼ内で溶融
し、次いで、スチールプレート上に注ぎ入れ、4インチ
×4インチ×1/2 インチのガラスブリックを形成した。
このガラスブリックを続いて550 ℃でアニールした。こ
れらのガラスブリックに筋をつけて破断することによ
り、ガラス試験試料を作成し、これらの試料の蛍光寿命
をミリ秒(ms)で測定して、ガラスのレーザ特性を決
定した。
【0016】このようなガラス成形条件に関しては、5
−11モル%のAl2 F6 (7−15重量%のF)のフッ素
バッチ組成範囲が特に好ましい。本発明の溶融物のフッ
素維持率は、初期のフッ素濃度および溶融温度に依存し
て、50%から80%までの間で変化する。例えば、30重量
%のFを配合する場合、溶融後には、ガラス中で約15重
量%のFが実際に分析される。例えば、10重量%のFを
配合する場合、溶融後には、ガラス中で約7重量%のF
が実際に分析される。ガラス中で維持されるFの百分率
は、溶融温度が減少するにつれて増加する。
−11モル%のAl2 F6 (7−15重量%のF)のフッ素
バッチ組成範囲が特に好ましい。本発明の溶融物のフッ
素維持率は、初期のフッ素濃度および溶融温度に依存し
て、50%から80%までの間で変化する。例えば、30重量
%のFを配合する場合、溶融後には、ガラス中で約15重
量%のFが実際に分析される。例えば、10重量%のFを
配合する場合、溶融後には、ガラス中で約7重量%のF
が実際に分析される。ガラス中で維持されるFの百分率
は、溶融温度が減少するにつれて増加する。
【0017】本発明の一般的な重量百分率で表したバッ
チ組成は、30−45重量%のSiO2、25−45重量%のA
l2 O3 、10−25重量%のCaO、0.005 −10重量%の
Er2 O3 、および7−35重量%のF(Al2 F6 とし
てバッチに配合)であり、溶融後に分析したフッ素の重
量%は6.2 −20重量%であった。
チ組成は、30−45重量%のSiO2、25−45重量%のA
l2 O3 、10−25重量%のCaO、0.005 −10重量%の
Er2 O3 、および7−35重量%のF(Al2 F6 とし
てバッチに配合)であり、溶融後に分析したフッ素の重
量%は6.2 −20重量%であった。
【0018】本発明の好ましい重量百分率で表したバッ
チ組成は、37−40重量%のSiO2、30−40重量%のA
l2 O3 、15−19重量%のCaO、0.005 −6重量%の
Er2 O3 、および9−30重量%のF(Al2 F6 とし
てバッチに配合)であり、溶融後に分析したフッ素の重
量%は6.5 −15重量%であった。
チ組成は、37−40重量%のSiO2、30−40重量%のA
l2 O3 、15−19重量%のCaO、0.005 −6重量%の
Er2 O3 、および9−30重量%のF(Al2 F6 とし
てバッチに配合)であり、溶融後に分析したフッ素の重
量%は6.5 −15重量%であった。
【0019】
【実施例】以下、実施例を参照して本発明を詳細に説明
する。
する。
【0020】表1は、重量%で表した、試料1−10にお
いて実施した本発明の組成を列記している。表1はま
た、重量%で表した、試料2,4,5,6,7,8,9
および10の溶融並びに成形後に存在するフッ素(F)も
列記している。
いて実施した本発明の組成を列記している。表1はま
た、重量%で表した、試料2,4,5,6,7,8,9
および10の溶融並びに成形後に存在するフッ素(F)も
列記している。
【0021】表1はまた、本発明のフッ素含有ガラスに
匹敵するように製造した、重量%で表した、フッ素を含
まない比較例11、12,13,14,15,16,17および19の組
成も列記している。
匹敵するように製造した、重量%で表した、フッ素を含
まない比較例11、12,13,14,15,16,17および19の組
成も列記している。
【0022】
【表1】
【0023】アルゴンイオンレーザビーム(514 nm)
で試料を励起することにより、試料1−19の蛍光寿命を
測定した。試料からの蛍光放射をGeフォトダイオード
で検出し、蛍光寿命をそれから計算した。図1は、1c
m3 当たりのエルビウムイオンで示した試料1−19のエ
ルビウムドーパント密度に対するミリ秒(ms)で示し
た試料1−19のエルビウムイオンの蛍光寿命を示してい
る。図1は明らかに、試料11から試料19までの曲線によ
り略記したフッ素を含まない試料に匹敵する、本発明の
優れた蛍光寿命性能を示している。図1に示したよう
に、エルビウムの重量%が、試料11における0.0055重量
%のEr2 O3 から試料19における4.21重量%のEr2
O3 (1018未満から1020より大きいErイオン/c
m3 )まで増加するにつれて、蛍光寿命が7.5 msから
3msまで指数的に減少している。エルビウム濃度のこ
の同一の範囲に亘り、本発明のフッ素含有試料では、そ
の寿命が著しく改良されている。本発明の組成により、
6ms以上の有用な蛍光寿命を維持する一方で、エルビ
ウムドーパント濃度を1020イオン/cm3 より大きくす
ることができる。本発明の組成物に関して、エルビウム
濃度が試料1(0.005 重量%のEr2 O3 に配合した)
から試料6(0.995 重量%のEr2 O3 に配合した)ま
で増加するにつれ、蛍光寿命は上昇し続ける。エルビウ
ムドーパントが1020イオン/cm3 を越えて増加する
と、8から9msの範囲で水平になり、試料10に関して
6msまで減少する。試料10の6msの寿命は、特に高
エルビウム濃度であることを考慮すると、利用可能なレ
ベルである。試料18(4.05重量%のEr2 O3 が配合さ
れ、6.7 重量%のFが配合され、4.9 重量%のFが分析
された)を試料8,9および10と比較すると、試料18中
で分析された4.9 重量%のFは、このように大きいエル
ビウム濃度では、濃度クエンチングを抑制するのに十分
ではないことが分かる。
で試料を励起することにより、試料1−19の蛍光寿命を
測定した。試料からの蛍光放射をGeフォトダイオード
で検出し、蛍光寿命をそれから計算した。図1は、1c
m3 当たりのエルビウムイオンで示した試料1−19のエ
ルビウムドーパント密度に対するミリ秒(ms)で示し
た試料1−19のエルビウムイオンの蛍光寿命を示してい
る。図1は明らかに、試料11から試料19までの曲線によ
り略記したフッ素を含まない試料に匹敵する、本発明の
優れた蛍光寿命性能を示している。図1に示したよう
に、エルビウムの重量%が、試料11における0.0055重量
%のEr2 O3 から試料19における4.21重量%のEr2
O3 (1018未満から1020より大きいErイオン/c
m3 )まで増加するにつれて、蛍光寿命が7.5 msから
3msまで指数的に減少している。エルビウム濃度のこ
の同一の範囲に亘り、本発明のフッ素含有試料では、そ
の寿命が著しく改良されている。本発明の組成により、
6ms以上の有用な蛍光寿命を維持する一方で、エルビ
ウムドーパント濃度を1020イオン/cm3 より大きくす
ることができる。本発明の組成物に関して、エルビウム
濃度が試料1(0.005 重量%のEr2 O3 に配合した)
から試料6(0.995 重量%のEr2 O3 に配合した)ま
で増加するにつれ、蛍光寿命は上昇し続ける。エルビウ
ムドーパントが1020イオン/cm3 を越えて増加する
と、8から9msの範囲で水平になり、試料10に関して
6msまで減少する。試料10の6msの寿命は、特に高
エルビウム濃度であることを考慮すると、利用可能なレ
ベルである。試料18(4.05重量%のEr2 O3 が配合さ
れ、6.7 重量%のFが配合され、4.9 重量%のFが分析
された)を試料8,9および10と比較すると、試料18中
で分析された4.9 重量%のFは、このように大きいエル
ビウム濃度では、濃度クエンチングを抑制するのに十分
ではないことが分かる。
【0024】表2および図2のプロットは、本発明の増
大した蛍光寿命に対する成形後のガラス中に分析された
フッ素含有量の関係、並びに濃度クエンチングを抑制す
る本発明の能力を示している。表2は、重量%で表し
た、表1からの試料15および5とともに、試料20−24の
組成を示しており、その全てが0.01モル%のEr2 O3
のバッチ組成を有している。図2は明らかに、それらの
蛍光寿命に対するガラスのフッ素濃度の関係を示してい
る。
大した蛍光寿命に対する成形後のガラス中に分析された
フッ素含有量の関係、並びに濃度クエンチングを抑制す
る本発明の能力を示している。表2は、重量%で表し
た、表1からの試料15および5とともに、試料20−24の
組成を示しており、その全てが0.01モル%のEr2 O3
のバッチ組成を有している。図2は明らかに、それらの
蛍光寿命に対するガラスのフッ素濃度の関係を示してい
る。
【0025】
【表2】
【0026】0.01モル%のEr2 O3 を有するバッチ組
成物で分析された重量%で表したFが、Fを含まない試
料15から6.17重量%のFを有する試料21まで上昇する場
合でも、蛍光寿命は一定で、6.8 −7msの範囲にあ
る。約1重量%のFが増加すると、試料22の蛍光寿命は
8msまで上昇する。試料5,23および24の増大した重
量%のFでも増大した寿命は達成できる。この6%と7
%との間の重量%Fのしきい値は、試料18の4.9 重量%
のFと試料8の6.7 重量%のFとの間のフッ素含有量の
しきい値と相関関係にある。
成物で分析された重量%で表したFが、Fを含まない試
料15から6.17重量%のFを有する試料21まで上昇する場
合でも、蛍光寿命は一定で、6.8 −7msの範囲にあ
る。約1重量%のFが増加すると、試料22の蛍光寿命は
8msまで上昇する。試料5,23および24の増大した重
量%のFでも増大した寿命は達成できる。この6%と7
%との間の重量%Fのしきい値は、試料18の4.9 重量%
のFと試料8の6.7 重量%のFとの間のフッ素含有量の
しきい値と相関関係にある。
【0027】本発明の組成は、エルビウムイオンが互い
に離れて好ましく分布されているガラス化学構造を提供
することにより、エルビウムイオンの濃度クエンチング
を防いでいる。本発明の組成のフッ素含有量により、有
用な蛍光寿命を提供する一方で、エルビウムイオンの濃
度を増大させることができる。
に離れて好ましく分布されているガラス化学構造を提供
することにより、エルビウムイオンの濃度クエンチング
を防いでいる。本発明の組成のフッ素含有量により、有
用な蛍光寿命を提供する一方で、エルビウムイオンの濃
度を増大させることができる。
【0028】図3の組成重量パーセント図に示したよう
に、本発明の一般的な酸化物ガラス組成区域101 は、灰
長石(CaO・Al2 O3 ・2SiO2 )の結晶相およ
びゲイラナイト(2CaO・Al2 O3 ・SiO2 )の
結晶相の一般的な化学量論値と相関関係にあり、エルビ
ウムおよびフッ素を加えることにより、適切な蛍光寿命
を有するレーザ特性を付与する。
に、本発明の一般的な酸化物ガラス組成区域101 は、灰
長石(CaO・Al2 O3 ・2SiO2 )の結晶相およ
びゲイラナイト(2CaO・Al2 O3 ・SiO2 )の
結晶相の一般的な化学量論値と相関関係にあり、エルビ
ウムおよびフッ素を加えることにより、適切な蛍光寿命
を有するレーザ特性を付与する。
【0029】バッチ組成中のCaOをZnO、MgO、
BaOおよびNa2 Oのようなアルカリ酸化物およびア
ルカリ土類酸化物により置き換えることにより、エルビ
ウムをドープしたオキシフルオライドアルミナシリケー
トガラスを製造した。希土類イオンの濃度クエンチング
を抑えるために、本発明のフッ素含有量の利点を備えた
そのようなガラス組成は、同様のレーザ特性を示すべき
である。
BaOおよびNa2 Oのようなアルカリ酸化物およびア
ルカリ土類酸化物により置き換えることにより、エルビ
ウムをドープしたオキシフルオライドアルミナシリケー
トガラスを製造した。希土類イオンの濃度クエンチング
を抑えるために、本発明のフッ素含有量の利点を備えた
そのようなガラス組成は、同様のレーザ特性を示すべき
である。
【0030】本発明のガラス組成はさらに、バッチ組成
中のAl2 O3 がGa2 O3 により置き換えられてい
る。バッチ組成中のAl2 O3 の全てをガリウムで置き
換えても差支えない。本発明のガラスバッチ組成には、
0−25モルパーセントのGa2O3 を含めても差支えな
い。
中のAl2 O3 がGa2 O3 により置き換えられてい
る。バッチ組成中のAl2 O3 の全てをガリウムで置き
換えても差支えない。本発明のガラスバッチ組成には、
0−25モルパーセントのGa2O3 を含めても差支えな
い。
【0031】本発明のガラス組成はさらに、バッチ組成
中のSiO2 がGeO2 で置き換えられている。ガラス
組成中のSiO2 の全てをゲルマニウムで置き換えても
差支えない。本発明のガラスバッチ組成には、0−50モ
ルパーセントのGeO2 を含めても差支えない。
中のSiO2 がGeO2 で置き換えられている。ガラス
組成中のSiO2 の全てをゲルマニウムで置き換えても
差支えない。本発明のガラスバッチ組成には、0−50モ
ルパーセントのGeO2 を含めても差支えない。
【0032】本発明のガラス組成はさらに、バッチ組成
中のAl2 O3 がB2 O3 で置き換えられている。バッ
チ組成中のアルミニウムがホウ素で置き換えられていて
もよい。本発明のガラスバッチ組成に0−15モルパーセ
ントのB2 O3 を含めても差支えない。
中のAl2 O3 がB2 O3 で置き換えられている。バッ
チ組成中のアルミニウムがホウ素で置き換えられていて
もよい。本発明のガラスバッチ組成に0−15モルパーセ
ントのB2 O3 を含めても差支えない。
【0033】上述した実施例に加え、本発明の範囲およ
び精神から逸脱せずに、本発明に様々な変更を行なえる
ことが当業者には明確である。
び精神から逸脱せずに、本発明に様々な変更を行なえる
ことが当業者には明確である。
【図1】エルビウムイオンの濃度に対する蛍光寿命のプ
ロットを示すグラフ
ロットを示すグラフ
【図2】0.01重量パーセントのEr2 O3 がドープされ
たガラスに分析されたフッ素重量パーセントに対する蛍
光寿命のプロットを示すグラフ
たガラスに分析されたフッ素重量パーセントに対する蛍
光寿命のプロットを示すグラフ
【図3】本発明の組成重量パーセント図
Claims (20)
- 【請求項1】 複数の希土類イオンがドープされたオキ
シハライドレーザガラスであって、少なくとも約6ミリ
秒の蛍光寿命を有し、前記希土類イオンの濃度消滅を防
ぐのに十分なハロゲン化物濃度を有することを特徴とす
るレーザガラス。 - 【請求項2】 前記ハロゲン化物濃度が少なくとも6.2
重量%のFからなることを特徴とする請求項1記載のレ
ーザガラス。 - 【請求項3】 前記希土類イオンがエルビウムであるこ
とを特徴とする請求項1記載のレーザガラス。 - 【請求項4】 前記オキシハライドレーザガラスがオキ
シフルオライドアルミナシリケートレーザガラスである
ことを特徴とする請求項1記載のレーザガラス。 - 【請求項5】 45−70モル%のSiO2 、15−35モル%
のX、および15−35モル%のYからなるモルで表したバ
ッチ組成を有する希土類ドープトレーザガラスであっ
て、 Xが、アルカリ金属酸化物、アルカリ土類金属酸化物、
およびZnOからなる群より選択される金属酸化物であ
り、 Yが、アルミニウム酸化物およびアルミニウムハロゲン
化物からなる群より選択されたアルミニウム化合物であ
り、少なくとも10モル%のYがアルミニウムハロゲン化
物であることを特徴とするレーザガラス。 - 【請求項6】 前記レーザガラスにエルビウムがドープ
されていることを特徴とする請求項5記載のレーザガラ
ス。 - 【請求項7】 XがCaOであることを特徴とする請求
項5記載のレーザガラス。 - 【請求項8】 前記アルニウムハロゲン化物がAl2 F
6 であることを特徴とする請求項5記載のレーザガラ
ス。 - 【請求項9】 前記レーザガラスが、少なくとも6ミリ
秒の蛍光寿命を有することを特徴とする請求項5記載の
レーザガラス。 - 【請求項10】 30−45重量%のSiO2 、25−45重量
%のAl2 O3 、10−25重量%のCaO、0.005 −10重
量%のEr2 O3 、および7−35重量%のFからなる重
量%で表したバッチ組成を有するレーザガラスであっ
て、該ガラスが、少なくとも6.2 重量%のFの分析され
た含有量を有することを特徴とするレーザガラス。 - 【請求項11】 FがAl2 F6 としてバッチに配合さ
れていることを特徴とする請求項10記載のレーザガラ
ス。 - 【請求項12】 37−40重量%のSiO2 、30−40重量
%のAl2 O3 、0.005 −6重量%のEr2 O3 、およ
び9−30重量%のFからなる重量%のバッチ組成を有す
るレーザガラスであって、該ガラスが、少なくとも6.5
重量%のFの分析された含有量を有することを特徴とす
るレーザガラス。 - 【請求項13】 複数のエルビウムイオンがドープされ
たオキシハライドレーザガラスであって、前記エルビウ
ムイオンが少なくとも1×1017イオン/cm3 の濃度で
含まれ、該ガラスが少なくとも6.2 重量%のフッ素の分
析されたフッ素重量%含有量を有し、該ガラスが少なく
とも7.6 ミリ秒の蛍光寿命を有することを特徴とするレ
ーザガラス。 - 【請求項14】 前記エルビウムイオンが少なくとも1
×1020イオン/cm3 の濃度で含まれていることを特徴
とする請求項13記載のレーザガラス。 - 【請求項15】 少なくとも13重量%のF、および少な
くとも2重量%のEr2 O3 からなるバッチ組成を有す
るオキシハライドレーザガラスであって、該ガラスが少
なくとも6ミリ秒の蛍光寿命を有することを特徴とする
オキシハライドレーザガラス。 - 【請求項16】 前記レーザガラスが、灰長石結晶相ま
たはゲイラナイト結晶相の化学量論値を有することを特
徴とする請求項15記載のレーザガラス。 - 【請求項17】 30−45重量%のSiO2 、25−45重量
%のAl2 O3 、10−25重量%のCaO、0.005 −10重
量%のEr2 O3 、および7−35重量%のFからなる重
量%で表したバッチ組成を有するレーザガラスから形成
した光増幅器であって、該ガラスが、少なくとも6.2 重
量%のFの分析された含有量を有することを特徴とする
光増幅器。 - 【請求項18】 レーザガラス内における希土類ドーパ
ントの濃度消滅を抑制する方法であって、該レーザガラ
ス中の酸素イオンをハロゲンイオンで置換する工程を含
むことを特徴とする方法。 - 【請求項19】 45−70モル%のSiO2 、15−35モル
%のX、および15−35モル%のYから実質的になるモル
で表したバッチ組成を有する希土類ドープトレーザガラ
スであって、 Xが、アルカリ金属酸化物、アルカリ土類金属酸化物、
およびZnOからなる群より選択される金属酸化物であ
り、 Yが、アルミニウム酸化物およびアルミニウムハロゲン
化物からなる群より選択されるアルミニウム化合物であ
り、少なくとも10モル%のYがアルミニウムハロゲン化
物であることを特徴とするレーザガラス。 - 【請求項20】 45−70モル%のA、15−35モル%の
X、および15−35モル%のYからなるモルで表したバッ
チ組成を有する希土類ドープトレーザガラスであって、 Aが、SiO2 およびGeO2 からなる群より選択され
る化合物であり、 Xが、アルカリ金属酸化物、アルカリ土類金属酸化物、
およびZnOからなる群より選択される金属酸化物であ
り、 Yが、アルミニウム酸化物、アルミニウムハロゲン化
物、Ga2 O3 、およびB2 O3 からなる群より選択さ
れるアルミニウム化合物であり、少なくとも10モル%の
Yがアルミニウムハロゲン化物であることを特徴とする
レーザガラス。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US1580196P | 1996-04-17 | 1996-04-17 | |
US015801 | 1996-04-17 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH1067536A true JPH1067536A (ja) | 1998-03-10 |
Family
ID=21773723
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP9100092A Pending JPH1067536A (ja) | 1996-04-17 | 1997-04-17 | オキシハライドレーザガラス |
Country Status (9)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5798306A (ja) |
EP (1) | EP0802169B1 (ja) |
JP (1) | JPH1067536A (ja) |
KR (1) | KR970069923A (ja) |
CN (1) | CN1180670A (ja) |
AU (1) | AU1775697A (ja) |
CA (1) | CA2201576A1 (ja) |
DE (1) | DE69702417T2 (ja) |
TW (1) | TW404934B (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002506791A (ja) * | 1998-03-19 | 2002-03-05 | ザ ユニバーシティ オブ リーズ | エルビウム添加光学ガラス |
Families Citing this family (31)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6766183B2 (en) | 1995-11-22 | 2004-07-20 | Medtronic Minimed, Inc. | Long wave fluorophore sensor compounds and other fluorescent sensor compounds in polymers |
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DE69702417D1 (de) | 2000-08-10 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20040302 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
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|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20071002 |