JPH1065348A - Manufacture of multi-layer printed wiring board - Google Patents

Manufacture of multi-layer printed wiring board

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JPH1065348A
JPH1065348A JP22018596A JP22018596A JPH1065348A JP H1065348 A JPH1065348 A JP H1065348A JP 22018596 A JP22018596 A JP 22018596A JP 22018596 A JP22018596 A JP 22018596A JP H1065348 A JPH1065348 A JP H1065348A
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JP
Japan
Prior art keywords
insulating material
interlayer insulating
board
wiring board
substrate
Prior art date
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Pending
Application number
JP22018596A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Yasushi Inagaki
靖 稲垣
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Ibiden Co Ltd
Original Assignee
Ibiden Co Ltd
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Publication date
Application filed by Ibiden Co Ltd filed Critical Ibiden Co Ltd
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Publication of JPH1065348A publication Critical patent/JPH1065348A/en
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  • Production Of Multi-Layered Print Wiring Board (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To reduce a formation time of an inter-layer insulating layer, without causing any defect by inserting a wiring board between a couple of coating rolls while the board stands upright, in the case of forming the inter-layer insulating layer to both sides of the wiring board and applying an inter-layer insulating material to both the sides at the same time. SOLUTION: While a wiring board 4 stands upright, the board 4 is inserted between a couple of coating rolls of a roll coater, and the board is carried from the down side toward the up side to apply an inter-layer insulating material 3 to both sides of the board 4 at the same time. The roll coater used in this case is provided with a doctor bar 2 which allows each roll 1 to make a complete contact with a coated face or to approach the face at a prescribed gap of 0.6mm or below. When each roll 2 is turned, the inter-layer insulating material 3 put in a varnish pool enters the grooves of each roll 1, and when the roll 1 is in contact with the board 4, the material 3 is transferred and applied onto the board. Thus, the forming time of the inter-layer insulating material is reduced, without causing any discrepancy.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、多層プリント配線
板の製造方法に関し、とくに、基板の反りや層間絶縁材
層へのゴミ混入などの不具合を招くことなく、層間絶縁
材層の形成時間の短縮を図り、生産性のより一層の改善
を図ろうとするものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for manufacturing a multilayer printed wiring board, and more particularly to a method for manufacturing an interlayer insulating material layer without causing problems such as warpage of a substrate and mixing of dust into the interlayer insulating material layer. The aim is to reduce the time and further improve the productivity.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、多層プリント配線板の高密度化と
いう要請から、いわゆるビルドアップ多層プリント配線
板が注目されている。このビルドアップ多層プリント配
線板は、例えば、特開平6−81154 号公報に開示されて
いるような方法により製造される。即ち、コア基板上
に、未硬化の層間絶縁材(無電解めっき用接着剤)をロ
ールコータ等により塗布し、これを乾燥、硬化(露光,
現像,硬化)させて、バイアホール用開口を有する層間
絶縁材層を形成する。次いで、この層間絶縁材層の表面
を粗化したのち、その粗化面にめっきレジストを設け、
その後、レジスト非形成部分に無電解めっきを施してバ
イアホールを含む導体回路パターンを形成する。そし
て、このような工程を複数回繰り返すことにより、多層
化したビルドアップ多層プリント配線板が得られるので
ある。
2. Description of the Related Art In recent years, so-called build-up multilayer printed wiring boards have been receiving attention due to demands for higher density of the multilayer printed wiring boards. This build-up multilayer printed wiring board is manufactured by a method as disclosed in, for example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 6-81154. That is, an uncured interlayer insulating material (adhesive for electroless plating) is applied on a core substrate by a roll coater or the like, and dried and cured (exposure, exposure, etc.).
(Development and curing) to form an interlayer insulating material layer having a via hole opening. Next, after roughening the surface of the interlayer insulating material layer, a plating resist is provided on the roughened surface,
Thereafter, electroless plating is performed on the resist non-formed portion to form a conductive circuit pattern including via holes. By repeating such a process a plurality of times, a multilayered build-up multilayer printed wiring board can be obtained.

【0003】このようなビルドアップ多層プリント配線
板の製造方法において、基板の両面に配線層を形成しよ
うとすると、該基板の両面には、層間絶縁材層を形成さ
せることが必要となる。この層間絶縁材層は、まず基板
の片面に未硬化の層間絶縁材を塗布し、これを乾燥さ
せ、次いで該基板を裏返して反対面に未硬化の層間絶縁
材を塗布し、これを乾燥させ、その後、該基板の両面に
塗布した層間絶縁材を硬化させることにより、基板両面
に形成するのが一般的であった。
In such a method of manufacturing a build-up multilayer printed wiring board, if an attempt is made to form wiring layers on both surfaces of a substrate, it is necessary to form an interlayer insulating material layer on both surfaces of the substrate. This interlayer insulating material layer is formed by first applying an uncured interlayer insulating material to one surface of a substrate and drying it, then turning the substrate upside down and applying an uncured interlayer insulating material to the other surface and drying it. Thereafter, the interlayer insulating material applied on both surfaces of the substrate is generally cured to form the insulating material on both surfaces of the substrate.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、このよ
うな従来の方法では、基板の両面に層間絶縁材層を形成
する際に、塗布、乾燥という一連の処理を表裏2回繰り
返して行う必要があり、生産性を向上させる観点からは
不利であり、層間絶縁材層の形成時間の短縮を図ること
が重要な課題となっている。
However, in such a conventional method, when forming an interlayer insulating material layer on both surfaces of a substrate, it is necessary to repeat a series of processes of coating and drying twice on both sides. However, it is disadvantageous from the viewpoint of improving the productivity, and shortening the formation time of the interlayer insulating material layer is an important issue.

【0005】また一方で、上記従来の方法では、層間絶
縁材を片面に塗布した基板は、層間絶縁材の乾燥処理を
終えた後、層間絶縁材が未硬化の状態(Bステージ状
態)のまま、他方の面にも層間絶縁材が塗布される。こ
のため、基板の両面に層間絶縁材層を形成する際に、層
間絶縁材層の形成面にゴミが付着するという不具合を招
きやすく、多層プリント配線板の不良の原因となった。
On the other hand, in the above-mentioned conventional method, a substrate coated with an interlayer insulating material on one side is left uncured (B-stage state) after the interlayer insulating material is dried. The other surface is coated with an interlayer insulating material. For this reason, when the interlayer insulating material layers are formed on both surfaces of the substrate, a problem that dust adheres to the surface on which the interlayer insulating material layers are formed is likely to occur, which causes a failure of the multilayer printed wiring board.

【0006】さらに、上記従来の方法では、層間絶縁材
を片面にのみ塗布した基板は、層間絶縁材を乾燥する際
に、溶剤の揮発に伴う絶縁樹脂の収縮によって反る、と
いう不具合があった。このため、バイアホールの形成位
置にずれが生じやすく、多層プリント配線板の不良の原
因となった。
Further, the conventional method has a disadvantage that a substrate coated with only one surface of an interlayer insulating material is warped due to shrinkage of an insulating resin due to evaporation of a solvent when drying the interlayer insulating material. . For this reason, the via hole is likely to be displaced in the formation position, causing a failure of the multilayer printed wiring board.

【0007】本発明の目的は、従来技術が抱える上記課
題を解消することにあり、特に、多層プリント配線板の
製造方法において、層間絶縁材層の形成時間を何の不具
合を伴わずに短縮することができる方法を提案すること
にある。
An object of the present invention is to solve the above-mentioned problems of the prior art, and in particular, in a method for manufacturing a multilayer printed wiring board, the formation time of an interlayer insulating material layer is reduced without any trouble. The idea is to propose a way that you can.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】発明者は、上記目的の実
現に向け鋭意検討した結果、以下に示す内容を発明の要
旨構成とする方法を完成するに至った。すなわち、本発
明は、多層プリント配線板を製造するに当たって、配線
基板の両面に層間絶縁材層を形成する際に、前記基板を
垂直に立てた状態で一対の塗布用ロールのロール間に挟
み、層間絶縁材を両面同時に塗布することを特徴とする
多層プリント配線板の製造方法である。
Means for Solving the Problems As a result of intensive studies for realizing the above-mentioned object, the inventor has completed a method for making the following contents the gist of the present invention. That is, the present invention, in producing a multilayer printed wiring board, when forming an interlayer insulating material layer on both sides of the wiring board, sandwiched between a pair of coating rolls in a state where the board is vertically standing, A method for manufacturing a multilayer printed wiring board, characterized in that an interlayer insulating material is simultaneously applied to both surfaces.

【0009】このような本発明の方法において、前記塗
布用ロールのロール長さは、基板の幅よりも短いものを
用いることが望ましく、また、前記層間絶縁材として、
酸あるいは酸化剤に難溶性の未硬化の耐熱性樹脂中に酸
あるいは酸化剤に可溶性の硬化処理された耐熱性樹脂粒
子が分散された無電解めっき用接着剤を用いることが望
ましい。
In the method of the present invention, it is preferable that the length of the coating roll is shorter than the width of the substrate.
It is preferable to use an adhesive for electroless plating in which hardened heat-resistant resin particles soluble in an acid or an oxidizing agent are dispersed in an uncured heat-resistant resin hardly soluble in an acid or an oxidizing agent.

【0010】[0010]

【発明の実施の形態】本発明にかかる多層プリント配線
板の製造方法は、配線基板の両面に層間絶縁材層を形成
する際に、前記基板を垂直に立てた状態で一対の塗布用
ロールのロール間に挟み、層間絶縁材を両面同時に塗布
する、という点に特徴がある。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The method for manufacturing a multilayer printed wiring board according to the present invention is characterized in that, when forming an interlayer insulating material layer on both surfaces of a wiring board, a pair of coating rolls is formed in a state where the board is set upright. It is characterized in that it is sandwiched between rolls and an interlayer insulating material is applied simultaneously on both sides.

【0011】このような本発明の方法によれば、基板を
垂直に立てた状態にして層間絶縁材を両面同時に塗布す
るので、片面づつ塗布する従来技術の場合に比べて、よ
り短い時間で層間絶縁材層を形成することができる。ま
た本発明の方法によれば、基板に塗布した層間絶縁材を
両面同時に乾燥処理することができるので、溶剤の揮発
に伴う絶縁樹脂の収縮が基板の両面で同時に起きる結
果、基板の反りは生じない。さらに本発明の方法によれ
ば、片面づつ塗布する従来技術の場合のように、層間絶
縁材が未硬化の状態(Bステージ状態)のまま基板を反
転させる必要がないので、層間絶縁材の塗布面が搬送機
械等に接触せず、ゴミが付着するという不具合が生じに
くい。
According to the method of the present invention, the interlayer insulating material is simultaneously applied to both sides while the substrate is set upright, so that the interlayer insulating material is applied in a shorter time than in the conventional technique in which one side is applied one by one. An insulating material layer can be formed. Further, according to the method of the present invention, the interlayer insulating material applied to the substrate can be simultaneously dried on both sides, so that the insulating resin shrinks due to the evaporation of the solvent occurs on both sides of the substrate at the same time. Absent. Further, according to the method of the present invention, unlike the prior art in which the coating is performed one by one, the substrate does not need to be turned over while the interlayer insulating material is in an uncured state (B-stage state). The problem that the surface does not contact the transporting machine or the like and dust adheres hardly occurs.

【0012】以上説明したように本発明によれば、多層
プリント配線板を製造するに当たって、層間絶縁材層の
形成時間を何の不具合を伴わずに短縮することができ
る。
As described above, according to the present invention, in manufacturing a multilayer printed wiring board, the formation time of the interlayer insulating material layer can be reduced without any trouble.

【0013】[0013]

【実施例】以下に、本発明にかかる多層プリント配線板
の製造方法について説明する。 (1)まず、コア基板の表面に、内層銅パターンを形成す
る。この基板への銅パターンの形成は、銅張積層板をエ
ッチングして行うか、あるいは、ガラスエポキシ基板や
ポリイミド基板、セラミック基板、金属基板などの基板
に無電解めっき用接着剤層を形成し、この接着剤層表面
を粗化して粗化面とし、ここに無電解めっきを施して行
う方法がある。なお、コア基板には、スルーホールが形
成され、このスルーホールを介して表面と裏面の配線層
を電気的に接続することができる。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS A method for manufacturing a multilayer printed wiring board according to the present invention will be described below. (1) First, an inner layer copper pattern is formed on the surface of the core substrate. The formation of a copper pattern on this substrate is performed by etching a copper-clad laminate, or an adhesive layer for electroless plating is formed on a substrate such as a glass epoxy substrate, a polyimide substrate, a ceramic substrate, and a metal substrate, There is a method in which the surface of the adhesive layer is roughened to a roughened surface, and electroless plating is performed thereon. Note that a through hole is formed in the core substrate, and the wiring layer on the front surface and the back surface can be electrically connected through the through hole.

【0014】(2)次に、前記 (1)で内層銅パターンを形
成した基板の上に、層間絶縁材層を形成する。特に、本
発明では、配線基板の両面に層間絶縁材層を形成する際
に、前記基板を垂直に立てた状態で一対の塗布用ロール
のロール間に挟み、層間絶縁材を両面同時に塗布するこ
とを特徴とする。
(2) Next, an interlayer insulating material layer is formed on the substrate on which the inner layer copper pattern has been formed in (1). In particular, in the present invention, when forming an interlayer insulating material layer on both sides of the wiring board, the board is sandwiched between a pair of coating rolls in a state where the board is vertically erected, and the interlayer insulating material is simultaneously applied to both sides. It is characterized by.

【0015】この層間絶縁材層を構成する層間絶縁材と
しては、エポキシ樹脂、ポリイミド樹脂、ビスマレイミ
ドトリアジン樹脂、フェノール樹脂などの熱硬化性樹脂
やこれらを感光化した感光性樹脂、あるいはポリエーテ
ルスルフォンなどの熱可塑性樹脂、熱可塑性樹脂と熱硬
化性樹脂の複合体、感光性樹脂と熱可塑性樹脂の複合体
を使用することができる。これらの層間絶縁材はいずれ
も未硬化の絶縁樹脂であり、例えば一対の塗布用ロール
を有するロールコータを用いて基板の両面に同時に塗布
される。この概念図を図1に記載する。
As the interlayer insulating material constituting the interlayer insulating material layer, a thermosetting resin such as an epoxy resin, a polyimide resin, a bismaleimide triazine resin, a phenol resin, a photosensitive resin obtained by sensitizing the resin, or a polyether sulfone is used. For example, a thermoplastic resin, a composite of a thermoplastic resin and a thermosetting resin, and a composite of a photosensitive resin and a thermoplastic resin can be used. Each of these interlayer insulating materials is an uncured insulating resin, and is simultaneously applied to both surfaces of the substrate using, for example, a roll coater having a pair of application rolls. This conceptual diagram is shown in FIG.

【0016】この図1に示すように、本発明の方法で
は、配線基板を垂直に立てた状態でロールコータの一対
の塗布用ロール間に挟み、下側から上側へ搬送させて基
板の両面に層間絶縁材を同時に塗布する。ここで用いら
れるロールコータには、各ロールに対して塗布面側で完
全に接触させるかあるいは 0.6mm以下の一定の隙間を有
する、ドクターバーが設けられている。また、このドク
ターバーは、各ロールとの間で未硬化の層間絶縁材を溜
めておくワニス溜めを形造っている。一方、各ロールの
表面は、ゴムあるいはウレタンなどの樹脂で構成し、こ
の樹脂表面には図2に示すように回転方向に無数の溝が
形成されている。このため、ロールが回転すると、ワニ
ス溜めに溜められた層間絶縁材がロールの溝の中に入り
込み、さらにこの層間絶縁材が基板に接触すると基板側
に転写されて基板への層間絶縁材の塗布が行われる。
As shown in FIG. 1, according to the method of the present invention, the wiring board is sandwiched between a pair of coating rolls of a roll coater in a state of being erected vertically, and is conveyed from the lower side to the upper side to be applied to both sides of the substrate. An interlayer insulating material is applied simultaneously. The roll coater used here is provided with a doctor bar that makes complete contact with each roll on the application surface side or that has a certain gap of 0.6 mm or less. The doctor bar also forms a varnish reservoir for storing uncured interlayer insulating material between each roll. On the other hand, the surface of each roll is made of resin such as rubber or urethane, and countless grooves are formed on the surface of the resin in the rotating direction as shown in FIG. For this reason, when the roll rotates, the interlayer insulating material stored in the varnish reservoir enters the groove of the roll, and when the interlayer insulating material contacts the substrate, it is transferred to the substrate side and the interlayer insulating material is applied to the substrate. Is performed.

【0017】なお、基板の搬送は、図1に示すように、
下側から上側へ搬送させる方法は、基板の上方両側縁部
を支持することにより、次の工程である乾燥炉へ容易に
搬送できる点で、上側から下側へ搬送させる方法に比べ
て好適である。搬送速度は、0.5 〜5m/分であること
が望ましい。
The substrate is transported as shown in FIG.
The method of transferring from the lower side to the upper side is more preferable than the method of transferring from the upper side to the lower side in that the upper side edges of the substrate can be easily transferred to the drying furnace, which is the next step. is there. The conveying speed is desirably 0.5 to 5 m / min.

【0018】本発明の方法において、前記塗布用ロール
のロール長さは、基板の幅よりも短いものを用いること
が望ましい。この理由は、図3に示すように、基板の両
側縁部に、層間絶縁材のない把持部を設けることができ
るからである。この把持部が設けられていると、この把
持部を持ってハンドリングができ、またこの把持部に搬
送治具を固定して搬送できるようになる。その結果、ハ
ンドリング時や搬送時に作業者の手や搬送機械器具等が
層間絶縁材層に接触せず、層間絶縁材層へのゴミ等の付
着は生じない。上記ロール長さは、基板の幅より1〜3
cm短いことが望ましい。これにより、基板の両側縁部に
0.5〜1.5 cmの層間絶縁材のない把持部を設けることが
できるからである。
In the method of the present invention, it is preferable that the length of the coating roll is shorter than the width of the substrate. The reason for this is that, as shown in FIG. 3, gripping portions without interlayer insulating material can be provided on both side edges of the substrate. When the grip portion is provided, handling can be performed by holding the grip portion, and a transport jig can be fixed to the grip portion and transported. As a result, at the time of handling or transporting, the hand of the worker or the transporting machine / equipment does not come into contact with the interlayer insulating material layer, and no dust or the like adheres to the interlayer insulating material layer. The roll length is 1 to 3 from the width of the substrate.
It is desirable to be shorter by cm. As a result, both sides of the substrate
This is because a grip portion having a thickness of 0.5 to 1.5 cm without an interlayer insulating material can be provided.

【0019】本発明の方法では、上述したように基板の
両面に層間絶縁材を同時に塗布するので、乾燥炉による
層間絶縁材の乾燥処理もまた、両面同時に行うことにな
る。その結果、溶剤の揮発に伴う絶縁樹脂の収縮が基板
の両面で同時に起きるので、基板の反りは生じない。そ
れ故に、層間絶縁材層に形成されるバイアホールの位置
ずれや導体パターンの位置ずれを防止することができ
る。
In the method of the present invention, since the interlayer insulating material is simultaneously applied to both surfaces of the substrate as described above, the drying process of the interlayer insulating material by the drying furnace is also performed on both surfaces simultaneously. As a result, the shrinkage of the insulating resin accompanying the volatilization of the solvent occurs simultaneously on both surfaces of the substrate, so that the substrate does not warp. Therefore, it is possible to prevent the via hole formed in the interlayer insulating material layer from being displaced and the conductor pattern from being displaced.

【0020】本発明の方法では、前記層間絶縁材とし
て、無電解めっき用接着剤を用いることが望ましい。こ
の無電解めっき用接着剤は、酸あるいは酸化剤に難溶性
の未硬化の耐熱性樹脂中に酸あるいは酸化剤に可溶性の
硬化処理された耐熱性樹脂粒子が分散されてなるものが
最適である。これは、酸あるいは酸化剤に可溶性の耐熱
性樹脂粒子を粗化して除去することにより、表面に蛸壺
状のアンカーを形成でき、導体回路との密着性を改善で
きるからである。
In the method of the present invention, it is desirable to use an adhesive for electroless plating as the interlayer insulating material. As the adhesive for electroless plating, an adhesive obtained by dispersing cured heat-resistant resin particles soluble in an acid or an oxidizing agent in an uncured heat-resistant resin hardly soluble in an acid or an oxidizing agent is optimal. . This is because by roughening and removing the heat-resistant resin particles soluble in an acid or an oxidizing agent, an octopus-shaped anchor can be formed on the surface and the adhesion to the conductor circuit can be improved.

【0021】上記無電解めっき用接着剤において、酸あ
るいは酸化剤に難溶性の耐熱性樹脂としては、感光化し
た熱硬化性樹脂、感光化した熱硬化性樹脂と熱可塑性樹
脂の複合体が望ましい。感光化することにより、露光、
現像により、バイアホールを容易に形成できるからであ
る。また、熱可塑性樹脂と複合化することにより靱性を
向上させることができ、導体回路のピール強度の向上、
ヒートサイクルによるバイアホール部分のクラック発生
を防止できるからである。具体的には、エポキシ樹脂を
アクリル酸やメタクリル酸などと反応させたエポキシア
クリレートやエポキシアクリレートとポリエーテルスル
ホンとの複合体がよい。エポキシアクリレートは、全エ
ポキシ基の20〜80%がアクリル酸やメタクリル酸などと
反応したものが望ましい。
In the above-mentioned adhesive for electroless plating, the heat-resistant resin which is hardly soluble in an acid or an oxidizing agent is preferably a sensitized thermosetting resin or a composite of a sensitized thermosetting resin and a thermoplastic resin. . Exposure by photosensitization,
This is because via holes can be easily formed by development. In addition, by forming a composite with a thermoplastic resin, the toughness can be improved, and the peel strength of the conductor circuit can be improved,
This is because the occurrence of cracks in the via holes due to the heat cycle can be prevented. Specifically, epoxy acrylate obtained by reacting an epoxy resin with acrylic acid, methacrylic acid, or the like, or a composite of epoxy acrylate and polyether sulfone is preferable. The epoxy acrylate is preferably one in which 20 to 80% of all epoxy groups have reacted with acrylic acid or methacrylic acid.

【0022】上記無電解めっき用接着剤において、前記
耐熱性樹脂粒子としては、平均粒径が10μm以下の耐
熱性樹脂粉末、平均粒径が2μm以下の耐熱性樹脂粉
末を凝集させて平均粒径2〜10μmの大きさとした凝集
粒子、平均粒径が10μm以下の耐熱性樹脂粉末と平均
粒径が2μm以下の耐熱性樹脂粉末との混合物、平均
粒径が2〜10μmの耐熱性樹脂粉末の表面に平均粒径が
2μm以下の耐熱性樹脂粉末または無機粉末のいずれか
少なくとも1種を付着させてなる疑似粒子から選ばれる
ことが望ましい。これらは、複雑なアンカーを形成でき
るからである。耐熱性樹脂粒子の樹脂としては、エポキ
シ樹脂、アミノ樹脂(メラミン樹脂、尿素樹脂、グアナ
ミン樹脂)などがよい。特に、エポキシ樹脂は、そのオ
リゴマーの種類、硬化剤の種類、架橋密度を変えること
により任意に酸や酸化剤に対する溶解度を変えることが
できる。例えば、ビスフェノールA型エポキシ樹脂オリ
ゴマーをアミン系硬化剤で硬化処理したものは、酸化剤
に溶解しやすい。しかし、ノボラックエポキシ樹脂オリ
ゴマーをイミダゾール系硬化剤で硬化させたものは、酸
化剤に溶解しにくい。
In the above-mentioned adhesive for electroless plating, the heat-resistant resin particles include a heat-resistant resin powder having an average particle diameter of 10 μm or less and a heat-resistant resin powder having an average particle diameter of 2 μm or less. Agglomerated particles having a size of 2 to 10 μm, a mixture of a heat-resistant resin powder having an average particle size of 10 μm or less and a heat-resistant resin powder having an average particle size of 2 μm or less, and a heat-resistant resin powder having an average particle size of 2 to 10 μm It is desirable to select from pseudo particles obtained by adhering at least one of a heat-resistant resin powder and an inorganic powder having an average particle diameter of 2 μm or less on the surface. These are because they can form complex anchors. As the resin of the heat-resistant resin particles, epoxy resin, amino resin (melamine resin, urea resin, guanamine resin) and the like are preferable. Particularly, the solubility of an epoxy resin in an acid or an oxidizing agent can be arbitrarily changed by changing the type of the oligomer, the type of the curing agent, and the crosslinking density. For example, a bisphenol A-type epoxy resin oligomer cured with an amine-based curing agent is easily dissolved in an oxidizing agent. However, the novolak epoxy resin oligomer cured with an imidazole-based curing agent is hardly dissolved in the oxidizing agent.

【0023】なお、本発明の方法では、上記層間絶縁材
層は、1回の塗布で形成される必要はなく、複数回塗布
することにより形成してもよい。この場合、最初に未硬
化の樹脂絶縁材を本発明の方法に従って塗布し、これを
乾燥した後、さらに無電解めっき用接着剤を本発明の方
法に従って塗布して2層構造の層間絶縁材層とすること
ができる。
In the method of the present invention, the interlayer insulating material layer does not need to be formed by one application, but may be formed by applying a plurality of times. In this case, first, an uncured resin insulating material is applied according to the method of the present invention, and after drying, an adhesive for electroless plating is further applied according to the method of the present invention to form a two-layered interlayer insulating material layer. It can be.

【0024】(3) 上記(2) で形成した層間絶縁材層を乾
燥した後、感光性樹脂の場合は、露光、現像することに
より、また、熱硬化性樹脂の場合は、熱硬化したのちレ
ーザー加工することにより、バイアホール用の開口部を
設ける。
(3) After drying the interlayer insulating material layer formed in the above (2), the photosensitive resin is exposed and developed, and the thermosetting resin is thermally cured. An opening for a via hole is provided by laser processing.

【0025】(4) 上記(3) でバイアホール用の開口部を
設けた層間絶縁材層の表面を酸あるいは酸化剤で粗化処
理した後、触媒核を付与する。ここで、上記粗化処理に
使用できる酸としては、リン酸、塩酸、硫酸、あるいは
蟻酸や酢酸などの有機酸があるが、特に有機酸が望まし
い。粗化処理した場合に、バイアホールから露出する金
属導体層を腐食させにくいからである。一方、酸化剤と
しては、クロム酸、過マンガン酸塩(過マンガン酸カリ
ウムなど)が望ましい。特に、アミノ樹脂を溶解除去す
る場合は、酸と酸化剤で交互に粗化処理することが望ま
しい。また、上記触媒核の付与には、貴金属イオンや貴
金属コロイドなどを用いることが望ましく、一般的に
は、塩化パラジウムやパラジウムコロイドを使用する。
なお、触媒核を固定するために加熱処理を行うことが望
ましい。このような触媒核としてはパラジウムがよい。
(4) After roughening the surface of the interlayer insulating material layer provided with the opening for via hole in (3) with an acid or an oxidizing agent, a catalyst nucleus is provided. Here, examples of the acid that can be used for the above-mentioned roughening treatment include phosphoric acid, hydrochloric acid, sulfuric acid, and organic acids such as formic acid and acetic acid, and organic acids are particularly desirable. This is because when the roughening treatment is performed, the metal conductor layer exposed from the via hole is hardly corroded. On the other hand, as the oxidizing agent, chromic acid and permanganate (such as potassium permanganate) are desirable. In particular, in the case of dissolving and removing the amino resin, it is preferable to perform a roughening treatment alternately with an acid and an oxidizing agent. In addition, it is desirable to use a noble metal ion or a noble metal colloid for providing the catalyst nucleus. Generally, palladium chloride or a palladium colloid is used.
Note that it is desirable to perform a heat treatment to fix the catalyst core. Palladium is preferred as such a catalyst core.

【0026】(5) 上記(4) で触媒核を付与した後、めっ
きレジストを形成する。このめっきレジストとしては、
市販品を使用してもよく、エポキシ樹脂をアクリル酸や
メタクリル酸などと反応させたエポキシアクリレートと
イミダゾール硬化剤からなる組成物、あるいはエポキシ
アクリレート、ポリエーテルスルホンおよびイミダゾー
ル硬化剤からなる組成物でもよい。ここで、エポキシア
クリレートとポリエーテルスルホンの比率は、50/50〜
80/20程度が望ましい。エポキシアクリレートが多過ぎ
ると可撓性が低下し、少な過ぎると感光性、耐塩基性、
耐酸性、耐酸化剤特性が低下するからである。エポキシ
アクリレートは、全エポキシ基の20〜80%がアクリル酸
やメタクリル酸などと反応したものが望ましい。アクリ
ル化率が高過ぎるとOH基による親水性が高くなり吸湿性
が上がり、アクリル化率が低過ぎると解像度が低下する
からである。基本骨格樹脂であるエポキシ樹脂として
は、ノボラック型エポキシ樹脂が望ましい。架橋密度が
高く、硬化物の吸水率が 0.1%以下に調整でき、耐塩基
性に優れるからである。ノボラック型エポキシ樹脂とし
ては、クレゾールノボラック型、フェノールノボラック
型がある。
(5) After providing the catalyst nucleus in the above (4), a plating resist is formed. As this plating resist,
A commercially available product may be used, or a composition comprising an epoxy acrylate and an imidazole curing agent obtained by reacting an epoxy resin with acrylic acid or methacrylic acid, or a composition comprising an epoxy acrylate, polyether sulfone and an imidazole curing agent may be used. . Here, the ratio of epoxy acrylate to polyether sulfone is 50 / 50-
About 80/20 is desirable. If the amount of epoxy acrylate is too large, the flexibility is reduced, and if the amount is too small, photosensitivity, base resistance,
This is because the acid resistance and antioxidant properties are reduced. The epoxy acrylate is preferably one in which 20 to 80% of all epoxy groups have reacted with acrylic acid or methacrylic acid. If the acrylate ratio is too high, the hydrophilicity due to the OH group increases and the hygroscopicity increases, and if the acrylate ratio is too low, the resolution decreases. As the epoxy resin as the basic skeleton resin, a novolak type epoxy resin is desirable. This is because the crosslinking density is high, the water absorption of the cured product can be adjusted to 0.1% or less, and the base resistance is excellent. Novolak type epoxy resins include cresol novolak type and phenol novolak type.

【0027】(6) 上記(5) の処理でめっきレジストが形
成されなかった部分に一次めっきを施す。このとき、銅
パターンだけでなく、バイアホールを形成する。この一
次めっきとしては、銅、ニッケル、コバルトおよびリン
から選ばれる少なくとも2種以上の金属イオンを使用し
た合金めっきであることが望ましい。この理由は、これ
らの合金は強度が高く、ピール強度を向上させることが
できるからである。上記一次めっきの無電解めっき液に
おいて、銅、ニッケルおよびコバルトから選ばれる少な
くとも2種以上の金属イオンを使用することが必要であ
るが、この理由は、これらの合金は強度が高く、ピール
強度を向上させることができるからである。上記一次め
っきの無電解めっき液において、銅、ニッケル、コバル
トイオンと塩基性条件下で安定した錯体を形成する錯化
剤としては、ヒドロキシカルボン酸を用いることが望ま
しい。上記一次めっきの無電解めっき液において、金属
イオンを還元して金属元素にするための還元剤は、アル
デヒド、次亜リン酸塩(ホスフィン酸塩と呼ばれる)、
水素化ホウ素塩、ヒドラジンから選ばれる少なくとも1
種であることが望ましい。これらの還元剤は、水溶性で
あり、還元力に優れるからである。特に、ニッケルを析
出させる点では次亜リン酸塩が望ましい。上記一次めっ
きの無電解めっき液において、塩基性条件下に調整する
ためのpH調整剤としては、水酸化ナトリウム、水酸化
カリウム、水酸化カルシウムから選ばれる少なくとも1
種の塩基性化合物を用いることが望ましい。塩基性条件
下において、ヒドロキシカルボン酸はニッケルイオンな
どと錯体を形成するからである。このヒドロキシカルボ
ン酸としては、クエン酸、リンゴ酸、酒石酸などが望ま
しい。これらは、ニッケル、コバルト、銅と錯体を形成
しやすいからである。前記ヒドロキシカルボンの濃度が
0.1〜0.8 Mであることが望ましい。 0.1Mより少ない
と十分な錯体が形成できず、異常析出や液の分解が生じ
る。一方、0.8 Mを超えると析出速度が遅くなったり、
水素の発生が多くなったりするなどの不具合が発生する
からである。上記一次めっきの無電解めっき液は、ビピ
リジルを含有してなることが望ましい。この理由は、ビ
ピリジルはめっき浴中の金属酸化物の発生を抑制してノ
ジュールの発生を抑制できるからである。なお、銅イオ
ン、ニッケルイオン、コバルトイオンは、硫酸銅、硫酸
ニッケル、硫酸コバルト、塩化銅、塩化ニッケル、塩化
コバルトなどの銅、ニッケル、コバルト化合物を溶解さ
せることにより供給する。
(6) Primary plating is applied to the portion where the plating resist has not been formed in the process (5). At this time, not only a copper pattern but also a via hole is formed. The primary plating is desirably an alloy plating using at least two or more metal ions selected from copper, nickel, cobalt and phosphorus. This is because these alloys have high strength and can improve the peel strength. In the electroless plating solution for the primary plating, it is necessary to use at least two kinds of metal ions selected from copper, nickel and cobalt. The reason for this is that these alloys have high strength and peel strength. This is because it can be improved. In the electroless plating solution for the primary plating, it is desirable to use a hydroxycarboxylic acid as a complexing agent that forms a stable complex with copper, nickel, and cobalt ions under basic conditions. In the electroless plating solution for the primary plating, reducing agents for reducing metal ions to metal elements include aldehydes, hypophosphites (called phosphinates),
At least one selected from borohydride salts and hydrazine
Desirably a seed. This is because these reducing agents are water-soluble and have excellent reducing power. In particular, hypophosphite is desirable in terms of depositing nickel. In the electroless plating solution for the primary plating, at least one selected from sodium hydroxide, potassium hydroxide, and calcium hydroxide is used as a pH adjuster for adjusting under basic conditions.
It is desirable to use some basic compounds. This is because under basic conditions, hydroxycarboxylic acid forms a complex with nickel ions and the like. As the hydroxycarboxylic acid, citric acid, malic acid, tartaric acid and the like are desirable. This is because these easily form a complex with nickel, cobalt, and copper. The concentration of the hydroxy carboxyl is
Desirably, it is 0.1 to 0.8M. If the amount is less than 0.1 M, a sufficient complex cannot be formed, resulting in abnormal precipitation or decomposition of the liquid. On the other hand, when the concentration exceeds 0.8 M, the precipitation rate becomes slow,
This is because problems such as increased generation of hydrogen occur. The electroless plating solution for the primary plating desirably contains bipyridyl. The reason for this is that bipyridyl can suppress the generation of metal oxides in the plating bath and the generation of nodules. Note that copper ions, nickel ions, and cobalt ions are supplied by dissolving copper, nickel, and cobalt compounds such as copper sulfate, nickel sulfate, cobalt sulfate, copper chloride, nickel chloride, and cobalt chloride.

【0028】このような無電解めっき液により形成され
た一次めっき膜は、無電解めっき用接着剤層の粗化面に
対する追従性に優れ、粗化面の形態をそのままトレース
する。そのため、一次めっき膜は、粗化面と同様にアン
カーを持つ。従って、この一次めっき膜上に形成される
二次めっき膜は、このアンカーにより、密着性が確保さ
れるのである。従って、一次めっき膜は、ピール強度を
支配するために、上述したような無電解めっき液によっ
て析出する強度が高いめっき膜が望ましく、一方、二次
めっき膜は、電気導電性が高く、析出速度が早いことが
望ましいので、複合めっきよりも単純な銅めっき液によ
って析出するめっき膜が望ましい。
The primary plating film formed by such an electroless plating solution has excellent followability to the roughened surface of the adhesive layer for electroless plating, and traces the form of the roughened surface as it is. Therefore, the primary plating film has an anchor like the roughened surface. Therefore, the adhesion of the secondary plating film formed on the primary plating film is secured by the anchor. Therefore, in order to control the peel strength, the primary plating film is desirably a plating film having a high strength to be deposited by the electroless plating solution as described above, while the secondary plating film has a high electric conductivity and a high deposition rate. Therefore, a plating film deposited with a simple copper plating solution is more desirable than composite plating.

【0029】(7) 上記(6) で形成した一次めっき膜の上
に二次めっきを施して、一次めっき膜と二次めっき膜か
らなるバイアホールを含む導体回路を形成する。この二
次めっきによるめっき膜は、銅めっき膜であることが望
ましい。上記二次めっきの無電解めっき液は、銅イオ
ン、トリアルカノールアミン、還元剤、pH調整剤から
なる無電解めっき液において、銅イオンの濃度が 0.005
〜0.015mol/l、pH調整剤の濃度が、0.25〜0.35 mol
/lであり、還元剤の濃度が0.01〜0.04 mol/lである
無電解めっき液を用いることが望ましい。このめっき液
は、浴が安定であり、ノジュールなどの発生が少ないか
らである。上記二次めっきの無電解めっき液において、
トリアルカノールアミンの濃度は0.1〜0.8 Mであるこ
とが望ましい。この範囲でめっき析出反応が最も進行し
やすいからである。このトリアルカノールアミンは、ト
リエタノールアミン、トリイソパノールアミン、トリメ
タノールアミン、トリプロパノールアミンから選ばれる
少なくとも1種であることが望ましい。水溶性だからで
ある。上記二次めっきの無電解めっき液において、還元
剤は、アルデヒド、次亜リン酸塩、水素化ホウ素塩、ヒ
ドラジンから選ばれる少なくとも1種であることが望ま
しい。水溶性であり、塩基性条件下で還元力を持つから
である。pH調整剤は、水酸化ナトリウム、水酸化カリ
ウム、水酸化カルシウムから選ばれる少なくとも1種で
あることが望ましい。
(7) Secondary plating is performed on the primary plating film formed in (6) to form a conductor circuit including a via hole composed of the primary plating film and the secondary plating film. The plating film formed by the secondary plating is preferably a copper plating film. The electroless plating solution for the above-mentioned secondary plating has a copper ion concentration of 0.005 in an electroless plating solution comprising copper ions, trialkanolamine, a reducing agent and a pH adjuster.
~ 0.015mol / l, concentration of pH adjuster is 0.25 ~ 0.35mol
/ L, and it is preferable to use an electroless plating solution having a reducing agent concentration of 0.01 to 0.04 mol / l. This is because the plating solution has a stable bath and generates little nodules and the like. In the above electroless plating solution for secondary plating,
Desirably, the concentration of trialkanolamine is 0.1-0.8M. This is because the plating precipitation reaction most easily proceeds in this range. The trialkanolamine is desirably at least one selected from triethanolamine, triisopanolamine, trimethanolamine, and tripropanolamine. Because it is water-soluble. In the above electroless plating solution for secondary plating, the reducing agent is desirably at least one selected from aldehyde, hypophosphite, borohydride, and hydrazine. This is because it is water-soluble and has a reducing power under basic conditions. The pH adjuster is desirably at least one selected from sodium hydroxide, potassium hydroxide, and calcium hydroxide.

【0030】(8)こうして得られた多層プリント配線板
の表層は、層間絶縁剤層の表面が粗化され、その粗化面
にめっきレジストが形成され、このめっきレジストの非
形成面に導体回路が露出した状態で設けられた構造にな
っている。このため、露出した上記導体回路は、はんだ
層を形成する部分に開口を有するソルダーレジストで被
覆して保護する。
(8) In the surface layer of the multilayer printed wiring board thus obtained, the surface of the interlayer insulating layer is roughened, a plating resist is formed on the roughened surface, and a conductive circuit is formed on the non-formed surface of the plating resist. Is provided in an exposed state. Therefore, the exposed conductor circuit is protected by covering with a solder resist having an opening in a portion where a solder layer is to be formed.

【0031】(9)そして、上記ソルダーレジスト開口部
のはんだ層を形成する部分(パッド部分)に、ニッケル
−金めっきを施し、この部分に、はんだ転写法やスクリ
ーン印刷法などにより、はんだ層を形成する。なお、は
んだ転写法は、フィルム上にはんだパターンを形成し、
このはんだパターンをパッドに接触させながら加熱リフ
ローしてはんだをパッドに転写する方法である。なお、
はんだ層ははんだバンプであってもよい。
(9) Then, nickel-gold plating is applied to a portion (pad portion) of the solder resist opening where the solder layer is to be formed, and the solder layer is formed on this portion by a solder transfer method or a screen printing method. Form. In the solder transfer method, a solder pattern is formed on a film,
In this method, the solder pattern is heated and reflowed while being in contact with the pad to transfer the solder to the pad. In addition,
The solder layer may be a solder bump.

【0032】(10)最後に、配線基板に設けた把持部を切
断除去する。また、量産の場合は、一つのワークサイズ
の基板から複数の製品ピースをダイシングマシンなどに
よる加工で切り出すが、この加工の際に前記把持部を切
断除去することができる。
(10) Finally, the grip provided on the wiring board is cut and removed. In the case of mass production, a plurality of product pieces are cut out from a substrate of one work size by processing with a dicing machine or the like. In this processing, the grip portion can be cut and removed.

【0033】[0033]

【発明の効果】以上説明したように本発明によれば、基
板の反りや層間絶縁材層へのゴミ混入などの不具合を招
くことなく、層間絶縁材層の形成時間の短縮を図り、多
層プリント配線板の生産性をより一層改善することがで
きる。
As described above, according to the present invention, it is possible to reduce the time required for forming an interlayer insulating layer without causing problems such as warpage of a substrate and mixing of dust into the interlayer insulating layer. The productivity of the wiring board can be further improved.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の製造方法における層間絶縁材層の形成
方法を示す図である。
FIG. 1 is a view showing a method of forming an interlayer insulating material layer in a manufacturing method of the present invention.

【図2】本発明の製造方法に用いる塗布用ロールの表面
構造を示す図である。
FIG. 2 is a view showing the surface structure of a coating roll used in the production method of the present invention.

【図3】基板の両側縁部に層間絶縁材のない把持部を設
けた状態を示す図である。
FIG. 3 is a diagram showing a state in which grip portions without interlayer insulating material are provided on both side edges of the substrate.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 ロール 2 ドクターバー 3 層間絶縁材 4 配線基板 5 把持部 Reference Signs List 1 roll 2 doctor bar 3 interlayer insulating material 4 wiring board 5 gripper

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 多層プリント配線板を製造するに当たっ
て、配線基板の両面に層間絶縁材層を形成する際に、前
記基板を垂直に立てた状態で一対の塗布用ロールのロー
ル間に挟み、層間絶縁材を両面同時に塗布することを特
徴とする多層プリント配線板の製造方法。
In manufacturing a multilayer printed wiring board, when forming an interlayer insulating material layer on both sides of a wiring board, the board is sandwiched between a pair of coating rolls in a state where the board is set upright. A method for manufacturing a multilayer printed wiring board, characterized in that an insulating material is simultaneously applied to both surfaces.
【請求項2】 前記塗布用ロールのロール長さは、基板
の幅よりも短いものを用いる請求項1に記載の製造方
法。
2. The method according to claim 1, wherein the length of the coating roll is shorter than the width of the substrate.
【請求項3】 前記層間絶縁材として、酸あるいは酸化
剤に難溶性の未硬化の耐熱性樹脂中に酸あるいは酸化剤
に可溶性の硬化処理された耐熱性樹脂粒子が分散された
無電解めっき用接着剤を用いる請求項1に記載の製造方
法。
3. An electroless plating method in which, as the interlayer insulating material, hardened heat-resistant resin particles soluble in an acid or an oxidizing agent are dispersed in an uncured heat-resistant resin hardly soluble in an acid or an oxidizing agent. The method according to claim 1, wherein an adhesive is used.
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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2002028555A (en) * 2000-07-13 2002-01-29 Ibiden Co Ltd Resin supply apparatus
JP2007012852A (en) * 2005-06-30 2007-01-18 Victor Co Of Japan Ltd Production method of buildup multilayer printed wiring board
JP2007180325A (en) * 2005-12-28 2007-07-12 Victor Co Of Japan Ltd Method and device for manufacturing build-up type multilayer printed circuit board
JP7153167B1 (en) * 2021-03-25 2022-10-13 株式会社カネカ Manufacturing method of flexible printed circuit board

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002028555A (en) * 2000-07-13 2002-01-29 Ibiden Co Ltd Resin supply apparatus
JP2007012852A (en) * 2005-06-30 2007-01-18 Victor Co Of Japan Ltd Production method of buildup multilayer printed wiring board
JP4593386B2 (en) * 2005-06-30 2010-12-08 株式会社メイコー Manufacturing method of build-up type multilayer printed wiring board
JP2007180325A (en) * 2005-12-28 2007-07-12 Victor Co Of Japan Ltd Method and device for manufacturing build-up type multilayer printed circuit board
JP7153167B1 (en) * 2021-03-25 2022-10-13 株式会社カネカ Manufacturing method of flexible printed circuit board

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