JPH1064790A5 - - Google Patents

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101484435B1 (ko) 2003-04-09 2015-01-19 가부시키가이샤 니콘 노광 방법 및 장치, 그리고 디바이스 제조 방법
EP1670041A4 (en) 2003-08-28 2007-10-17 Nikon Corp METHOD AND APPARATUS FOR EXPOSURE, AND METHOD FOR MANUFACTURING ASSOCIATED DEVICE
TWI628698B (zh) 2003-10-28 2018-07-01 尼康股份有限公司 照明光學裝置、曝光裝置、曝光方法以及元件製造方法
TWI612338B (zh) 2003-11-20 2018-01-21 尼康股份有限公司 光學照明裝置、曝光裝置、曝光方法、以及元件製造方法
JP4552428B2 (ja) * 2003-12-02 2010-09-29 株式会社ニコン 照明光学装置、投影露光装置、露光方法及びデバイス製造方法
TWI614795B (zh) 2004-02-06 2018-02-11 Nikon Corporation 光學照明裝置、曝光裝置、曝光方法以及元件製造方法
KR101328356B1 (ko) 2004-02-13 2013-11-11 가부시키가이샤 니콘 노광 방법 및 장치, 그리고 디바이스 제조 방법
EP2660853B1 (en) 2005-05-12 2017-07-05 Nikon Corporation Projection optical system, exposure apparatus and exposure method
JP5414968B2 (ja) * 2005-11-14 2014-02-12 カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー 光学撮像システムの測定装置および操作方法
US7903234B2 (en) 2006-11-27 2011-03-08 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus, device manufacturing method and computer program product
SG143178A1 (en) * 2006-11-27 2008-06-27 Asml Netherlands Bv Lithographic apparatus, device manufacturing method and computer program product
US7829249B2 (en) * 2007-03-05 2010-11-09 Asml Netherlands B.V. Device manufacturing method, computer program and lithographic apparatus
JP5329520B2 (ja) 2007-03-27 2013-10-30 カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー 低角度で入射する補正光を用いる補正光学素子
JP2009010131A (ja) 2007-06-27 2009-01-15 Canon Inc 露光装置及びデバイス製造方法
EP2048540A1 (en) * 2007-10-09 2009-04-15 Carl Zeiss SMT AG Microlithographic projection exposure apparatus
JP5267029B2 (ja) 2007-10-12 2013-08-21 株式会社ニコン 照明光学装置、露光装置及びデバイスの製造方法
US8379187B2 (en) 2007-10-24 2013-02-19 Nikon Corporation Optical unit, illumination optical apparatus, exposure apparatus, and device manufacturing method
US9116346B2 (en) 2007-11-06 2015-08-25 Nikon Corporation Illumination apparatus, illumination method, exposure apparatus, and device manufacturing method
JP4553066B2 (ja) * 2010-01-14 2010-09-29 株式会社ニコン 偏光変換部材、照明光学装置、投影露光装置、露光方法及びデバイス製造方法
JP4626719B2 (ja) * 2010-01-14 2011-02-09 株式会社ニコン 照明光学装置、投影露光装置、露光方法及びデバイス製造方法
NL2007498A (en) 2010-12-23 2012-06-27 Asml Netherlands Bv Lithographic apparatus and method of modifying a beam of radiation within a lithographic apparatus.
NL2011592A (en) 2012-10-31 2014-05-06 Asml Netherlands Bv Compensation for patterning device deformation.
JP7390804B2 (ja) * 2019-05-17 2023-12-04 キヤノン株式会社 露光装置、露光方法、決定方法および物品製造方法

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