JPH105548A - ごみ焼却設備 - Google Patents
ごみ焼却設備Info
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- JPH105548A JPH105548A JP8166233A JP16623396A JPH105548A JP H105548 A JPH105548 A JP H105548A JP 8166233 A JP8166233 A JP 8166233A JP 16623396 A JP16623396 A JP 16623396A JP H105548 A JPH105548 A JP H105548A
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- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02E—REDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
- Y02E50/00—Technologies for the production of fuel of non-fossil origin
- Y02E50/30—Fuel from waste, e.g. synthetic alcohol or diesel
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- Exhaust Gas Treatment By Means Of Catalyst (AREA)
- Chimneys And Flues (AREA)
- Processing Of Solid Wastes (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 良好な触媒性能を長期間にわたって維持する
ことができる触媒充填塔を備えたごみ焼却設備を提供す
る。 【解決手段】 ごみ焼却炉１と、冷却塔２と、バグフィ
ルタ３と、触媒充填塔４と、ブロワ５，７とを含んで構
成されるごみ焼却設備に、ごみ焼却炉の余熱にて加熱さ
れた空気を排ガス煙道１１を介して触媒充填塔に導入
し、触媒を３５０℃以上に加熱する加熱ガス導入管２１
を備える。また、触媒充填塔で発生する脱着ガスを脱着
ガス排出管２３を介して導入し、脱着ガス中の油分を吸
着除去する吸着塔６を備える。さらには、触媒の加熱処
理時に排ガス煙道、冷却塔、バグフィルタ入口煙道１
２、バグフィルタを経て触媒充填塔入口煙道１４に流入
するガスを触媒充填塔を迂回して直接触媒充填塔出口煙
道１６に流すバイパス煙道２２を設ける。
ことができる触媒充填塔を備えたごみ焼却設備を提供す
る。 【解決手段】 ごみ焼却炉１と、冷却塔２と、バグフィ
ルタ３と、触媒充填塔４と、ブロワ５，７とを含んで構
成されるごみ焼却設備に、ごみ焼却炉の余熱にて加熱さ
れた空気を排ガス煙道１１を介して触媒充填塔に導入
し、触媒を３５０℃以上に加熱する加熱ガス導入管２１
を備える。また、触媒充填塔で発生する脱着ガスを脱着
ガス排出管２３を介して導入し、脱着ガス中の油分を吸
着除去する吸着塔６を備える。さらには、触媒の加熱処
理時に排ガス煙道、冷却塔、バグフィルタ入口煙道１
２、バグフィルタを経て触媒充填塔入口煙道１４に流入
するガスを触媒充填塔を迂回して直接触媒充填塔出口煙
道１６に流すバイパス煙道２２を設ける。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、触媒充填塔を備えたご
み焼却設備に係り、特に、触媒充填塔内に充填された触
媒の活性を随時回復するための手段に関する。
み焼却設備に係り、特に、触媒充填塔内に充填された触
媒の活性を随時回復するための手段に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来より、排ガス中の窒素酸化物及びダ
イオキシンを処理するための触媒充填塔が備えられたご
み焼却設備が知られている。一般のボイラ排ガス処理に
おいて触媒は、良好な活性を発現する３００〜４００℃
の温度範囲で使用されることが多いが、ごみ焼却炉の排
ガス処理では、ダストの被毒が大きいために触媒充填
塔の前段にバグフィルタを備える必要があり、バグフィ
ルタで塩化水素やダストを除去するためには排ガス温度
を１５０〜２００℃に冷却しなければならず、この温度
の排ガスをシステム内で常時３００℃以上に加熱するこ
とは事実上困難であること、触媒を３００〜４００℃
で使用すると煙道空間でダイオキシンが生成されたり再
生成されることなどから、通常２００〜３００℃の温度
範囲で使用される。
イオキシンを処理するための触媒充填塔が備えられたご
み焼却設備が知られている。一般のボイラ排ガス処理に
おいて触媒は、良好な活性を発現する３００〜４００℃
の温度範囲で使用されることが多いが、ごみ焼却炉の排
ガス処理では、ダストの被毒が大きいために触媒充填
塔の前段にバグフィルタを備える必要があり、バグフィ
ルタで塩化水素やダストを除去するためには排ガス温度
を１５０〜２００℃に冷却しなければならず、この温度
の排ガスをシステム内で常時３００℃以上に加熱するこ
とは事実上困難であること、触媒を３００〜４００℃
で使用すると煙道空間でダイオキシンが生成されたり再
生成されることなどから、通常２００〜３００℃の温度
範囲で使用される。
【０００３】ところで、燃料性状が不安定な廃棄物を燃
焼するごみ焼却炉においては、時折不完全燃焼を生じて
油分を含む未燃分を突出して発生する。また、燃焼が良
好に行われているときにも、ダイオキシンやダイオキシ
ン濃度の数百倍の濃度のクロロベンゼン類、クロロフェ
ノール類及びその他の芳香族炭化水素からなる油分が火
炉排ガス中に存在し、皆無になることはない。これらの
油分は、沸点が３５０℃以下のものがほとんどである。
焼するごみ焼却炉においては、時折不完全燃焼を生じて
油分を含む未燃分を突出して発生する。また、燃焼が良
好に行われているときにも、ダイオキシンやダイオキシ
ン濃度の数百倍の濃度のクロロベンゼン類、クロロフェ
ノール類及びその他の芳香族炭化水素からなる油分が火
炉排ガス中に存在し、皆無になることはない。これらの
油分は、沸点が３５０℃以下のものがほとんどである。
【０００４】触媒充填塔内に充填される触媒としては、
表面及び内部に微細孔を発達させ、内部表面積を大きく
して高い活性が得られるようにしたものが用いられる。
例えば、酸化チタン系の触媒は、数Åの微細孔が発達し
ており、これによって実現される大きな内部表面に脱硝
用のアンモニア及び処理すべき窒素酸化物並びにダイオ
キシンを吸着して反応させるようになっている。したが
って、２００〜３００℃の温度範囲で使用される高活性
な触媒には、ダイオキシンに類似した芳香族炭化水素か
らなる油分も良く吸着される。
表面及び内部に微細孔を発達させ、内部表面積を大きく
して高い活性が得られるようにしたものが用いられる。
例えば、酸化チタン系の触媒は、数Åの微細孔が発達し
ており、これによって実現される大きな内部表面に脱硝
用のアンモニア及び処理すべき窒素酸化物並びにダイオ
キシンを吸着して反応させるようになっている。したが
って、２００〜３００℃の温度範囲で使用される高活性
な触媒には、ダイオキシンに類似した芳香族炭化水素か
らなる油分も良く吸着される。
【０００５】触媒の油分吸着量が少量である場合には、
油分は触媒上で分解されてガス中に放出されるので、触
媒上に蓄積されることはない。ところが、触媒の一時的
な温度低下や一時的な排ガス中の油分濃度の上昇によっ
て吸着される油分量が分解処理される油分量よりも多く
なったり、あるいは分解されないタール分の吸着量が増
加すると、触媒の微細孔が閉塞されたり、微細孔の表面
が被膜されて触媒活性が低下し、最悪の場合には失活す
る。また、このように触媒上への油分の吸着量が増加す
ると、触媒に吸着された油分が自然発火しやすくなり、
触媒を損傷させる原因にもなる。
油分は触媒上で分解されてガス中に放出されるので、触
媒上に蓄積されることはない。ところが、触媒の一時的
な温度低下や一時的な排ガス中の油分濃度の上昇によっ
て吸着される油分量が分解処理される油分量よりも多く
なったり、あるいは分解されないタール分の吸着量が増
加すると、触媒の微細孔が閉塞されたり、微細孔の表面
が被膜されて触媒活性が低下し、最悪の場合には失活す
る。また、このように触媒上への油分の吸着量が増加す
ると、触媒に吸着された油分が自然発火しやすくなり、
触媒を損傷させる原因にもなる。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】従来のごみ焼却設備に
おいては、触媒に吸着した油分を除去するための配慮が
なされておらず、触媒寿命が短いという不都合がある。
本発明は、かかる従来技術の不都合を解決するためにな
されたものであって、その課題とするとことは、良好な
触媒性能を長期間にわたって維持することができる触媒
充填塔を備えたごみ焼却設備を提供することにある。
おいては、触媒に吸着した油分を除去するための配慮が
なされておらず、触媒寿命が短いという不都合がある。
本発明は、かかる従来技術の不都合を解決するためにな
されたものであって、その課題とするとことは、良好な
触媒性能を長期間にわたって維持することができる触媒
充填塔を備えたごみ焼却設備を提供することにある。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明は、前記の課題を
達成するため、ごみ焼却炉と、当該ごみ焼却炉で発生し
た排ガスを３００℃以下の温度で触媒に接触させ、排ガ
ス中の窒素酸化物及びダイオキシンを処理する触媒充填
塔とを備えたごみ焼却設備において、前記触媒充填塔中
に充填された触媒を随時３５０℃以上に加熱して当該触
媒に吸着された油分を分解し、当該触媒の活性を回復す
る触媒加熱手段を設けるという構成にした。
達成するため、ごみ焼却炉と、当該ごみ焼却炉で発生し
た排ガスを３００℃以下の温度で触媒に接触させ、排ガ
ス中の窒素酸化物及びダイオキシンを処理する触媒充填
塔とを備えたごみ焼却設備において、前記触媒充填塔中
に充填された触媒を随時３５０℃以上に加熱して当該触
媒に吸着された油分を分解し、当該触媒の活性を回復す
る触媒加熱手段を設けるという構成にした。
【０００８】前記したように、排ガス中に含まれる油分
は、沸点が３５０℃以下のものがほとんどであるので、
触媒充填塔内の触媒を３５０℃以上に加熱すれば、当該
触媒に吸着された油分を気化することができ、触媒表面
から取り除くことができる。触媒表面から油分を取り除
くと、微細孔による大面積の触媒表面が清浄化されて露
出するので、触媒の活性を回復することができる。ま
た、自然発火を起こしにくくなるので、過熱による触媒
の損傷も防止される。
は、沸点が３５０℃以下のものがほとんどであるので、
触媒充填塔内の触媒を３５０℃以上に加熱すれば、当該
触媒に吸着された油分を気化することができ、触媒表面
から取り除くことができる。触媒表面から油分を取り除
くと、微細孔による大面積の触媒表面が清浄化されて露
出するので、触媒の活性を回復することができる。ま
た、自然発火を起こしにくくなるので、過熱による触媒
の損傷も防止される。
【０００９】前記触媒加熱手段としては、ごみ供給停止
後に前記ごみ焼却炉内に継続して空気を導入し、当該空
気をごみ焼却炉の余熱で加熱することにより得られる加
熱ガスを前記触媒充填塔に随時導入する加熱ガス導入管
を備えることもできるし、電熱式空気ヒータと当該電熱
式空気ヒータで加熱された空気を前記触媒充填塔に随時
導入する加熱空気導入管を備えることもできる。ごみ供
給停止後にごみ焼却炉内に継続して空気を導入し、当該
空気をごみ焼却炉の余熱で加熱すると、燃焼排ガスに比
べて格段に清浄な３５０℃以上の加熱ガスが得られる。
したがって、前者の手段によれば、この加熱ガスを利用
することによって、他に特別な熱源を備えることなく触
媒活性の回復を行うことができる。一方、後者によれ
ば、ごみ焼却炉へのごみ供給を停止することなく、随時
触媒活性の回復操作を行うことができる。これらの触媒
活性の回復操作は、予め定められた一定期間ごとに、あ
るいは触媒の劣化に応じて不定期に行うことができる。
後に前記ごみ焼却炉内に継続して空気を導入し、当該空
気をごみ焼却炉の余熱で加熱することにより得られる加
熱ガスを前記触媒充填塔に随時導入する加熱ガス導入管
を備えることもできるし、電熱式空気ヒータと当該電熱
式空気ヒータで加熱された空気を前記触媒充填塔に随時
導入する加熱空気導入管を備えることもできる。ごみ供
給停止後にごみ焼却炉内に継続して空気を導入し、当該
空気をごみ焼却炉の余熱で加熱すると、燃焼排ガスに比
べて格段に清浄な３５０℃以上の加熱ガスが得られる。
したがって、前者の手段によれば、この加熱ガスを利用
することによって、他に特別な熱源を備えることなく触
媒活性の回復を行うことができる。一方、後者によれ
ば、ごみ焼却炉へのごみ供給を停止することなく、随時
触媒活性の回復操作を行うことができる。これらの触媒
活性の回復操作は、予め定められた一定期間ごとに、あ
るいは触媒の劣化に応じて不定期に行うことができる。
【００１０】なお、触媒を加熱しても触媒に吸着された
油分が全て酸化されるわけではないので、触媒から脱着
される油分を処理する必要がある。このための手段とし
ては、脱着ガスを前記ごみ焼却炉内に導入して焼却処理
する脱着ガス搬出管を備えることもできるし、当該脱着
ガスを脱着ガス排出管を介して導入し、吸着剤に吸着さ
せて無害化する吸着塔を備えることもできる。前者の手
段によれば、脱着ガスをごみ焼却炉で焼却処理するの
で、他に特別な脱着ガス処理装置を備えることなく触媒
活性の回復操作を行うことができる。一方、後者によれ
ば、活性炭等の吸着剤に脱着ガスを吸着させるので、油
分の除去効率を高めることができる。
油分が全て酸化されるわけではないので、触媒から脱着
される油分を処理する必要がある。このための手段とし
ては、脱着ガスを前記ごみ焼却炉内に導入して焼却処理
する脱着ガス搬出管を備えることもできるし、当該脱着
ガスを脱着ガス排出管を介して導入し、吸着剤に吸着さ
せて無害化する吸着塔を備えることもできる。前者の手
段によれば、脱着ガスをごみ焼却炉で焼却処理するの
で、他に特別な脱着ガス処理装置を備えることなく触媒
活性の回復操作を行うことができる。一方、後者によれ
ば、活性炭等の吸着剤に脱着ガスを吸着させるので、油
分の除去効率を高めることができる。
【００１１】
【発明の実施の形態】図１に、本発明に係るごみ焼却設
備の第１例を示す。この図において、１はごみ焼却炉、
２はごみ焼却炉１の排ガス温度を調節する冷却塔、３は
排ガス中のダストや酸性ガスを除去するバグフィルタ、
４は排ガス中の窒素酸化物やダイオキシン等を除去する
触媒充填塔、５は排ガスを吸引して大気に放出するブロ
ワ、６は活性炭等の吸着剤が充填された吸着塔、７は触
媒充填塔４で発生する脱着ガスを吸引して吸着塔６に導
入するブロワを示している。
備の第１例を示す。この図において、１はごみ焼却炉、
２はごみ焼却炉１の排ガス温度を調節する冷却塔、３は
排ガス中のダストや酸性ガスを除去するバグフィルタ、
４は排ガス中の窒素酸化物やダイオキシン等を除去する
触媒充填塔、５は排ガスを吸引して大気に放出するブロ
ワ、６は活性炭等の吸着剤が充填された吸着塔、７は触
媒充填塔４で発生する脱着ガスを吸引して吸着塔６に導
入するブロワを示している。
【００１２】ごみ焼却炉１で発生した排ガスは、排ガス
煙道１１を通って冷却塔２に導入され、廃熱回収若しく
は水が噴霧されて約２００℃まで冷却される。冷却され
た排ガスは、バグフィルタ入口煙道１２において消石灰
供給管１３より供給された塩化水素処理用の消石灰が添
加され、バグフィルタ３に導入されて塩化水素等の酸性
ガスとダストとが除去される。バグフィルタ３を通過し
た排ガスは、触媒充填塔入口煙道１４においてアンモニ
ア供給管１５より供給されたアンモニアが添加され、触
媒充填塔４において窒素酸化物の還元除去とダイオキシ
ンの分解とが行われる。触媒充填塔４を通過した排ガス
は、ブロワ５に吸引され、触媒充填塔出口煙道１６及び
大気放出管１７を通って大気中に放出される。ここまで
の構成は、従来より知られている都市ごみ焼却設備と何
ら変わるものではない。
煙道１１を通って冷却塔２に導入され、廃熱回収若しく
は水が噴霧されて約２００℃まで冷却される。冷却され
た排ガスは、バグフィルタ入口煙道１２において消石灰
供給管１３より供給された塩化水素処理用の消石灰が添
加され、バグフィルタ３に導入されて塩化水素等の酸性
ガスとダストとが除去される。バグフィルタ３を通過し
た排ガスは、触媒充填塔入口煙道１４においてアンモニ
ア供給管１５より供給されたアンモニアが添加され、触
媒充填塔４において窒素酸化物の還元除去とダイオキシ
ンの分解とが行われる。触媒充填塔４を通過した排ガス
は、ブロワ５に吸引され、触媒充填塔出口煙道１６及び
大気放出管１７を通って大気中に放出される。ここまで
の構成は、従来より知られている都市ごみ焼却設備と何
ら変わるものではない。
【００１３】本発明の特徴とするところは、ごみ焼却
炉１の余熱にて加熱された空気を排ガス煙道１１を介し
て触媒充填塔４に導入し、触媒を３５０℃以上に加熱す
る加熱ガス導入管２１を備えたこと、触媒充填塔４で
発生する脱着ガスを脱着ガス排出管２３を介して導入
し、脱着ガス中の油分を吸着除去する吸着塔６を備えた
こと、触媒の加熱処理時に排ガス煙道１１、冷却塔
２、バグフィルタ入口煙道１２、バグフィルタ３を経て
触媒充填塔入口煙道１４に流入するガスを触媒充填塔４
を迂回して直接触媒充填塔出口煙道１６に流すバイパス
煙道２２を設けたことにある。
炉１の余熱にて加熱された空気を排ガス煙道１１を介し
て触媒充填塔４に導入し、触媒を３５０℃以上に加熱す
る加熱ガス導入管２１を備えたこと、触媒充填塔４で
発生する脱着ガスを脱着ガス排出管２３を介して導入
し、脱着ガス中の油分を吸着除去する吸着塔６を備えた
こと、触媒の加熱処理時に排ガス煙道１１、冷却塔
２、バグフィルタ入口煙道１２、バグフィルタ３を経て
触媒充填塔入口煙道１４に流入するガスを触媒充填塔４
を迂回して直接触媒充填塔出口煙道１６に流すバイパス
煙道２２を設けたことにある。
【００１４】ごみ焼却炉１には、図示しないごみ供給機
から圧送されたごみをごみ焼却炉１内に供給するごみ供
給管４１と、炉内のごみを流動化して燃焼する空気を炉
内に供給する流動空気配管４２とが設けられている。ご
み供給管４１からのごみの供給を停止した後も流動空気
配管４２からの流動空気の供給を継続すると、当該流動
空気はごみ焼却炉１の余熱によって３５０℃以上に加熱
され、燃焼排ガスよりも格段に清浄な加熱ガスが発生す
る。そこで、触媒充填塔入口煙道１４及び触媒充填塔出
口煙道１６に備えられた開閉弁３２，３３を閉じると共
にバイパス煙道２２及び加熱ガス導入管２１に備えられ
た開閉弁３４，３１を開くと、冷却塔２にて冷却され、
バグフィルタ４を通過した加熱ガスは、バイパス煙道２
２及び大気放出管１７を通って大気中に放出され、排ガ
ス煙道１１から加熱ガス導入管２１に導入された高温の
加熱ガスは、触媒充填塔４に直接導入される。
から圧送されたごみをごみ焼却炉１内に供給するごみ供
給管４１と、炉内のごみを流動化して燃焼する空気を炉
内に供給する流動空気配管４２とが設けられている。ご
み供給管４１からのごみの供給を停止した後も流動空気
配管４２からの流動空気の供給を継続すると、当該流動
空気はごみ焼却炉１の余熱によって３５０℃以上に加熱
され、燃焼排ガスよりも格段に清浄な加熱ガスが発生す
る。そこで、触媒充填塔入口煙道１４及び触媒充填塔出
口煙道１６に備えられた開閉弁３２，３３を閉じると共
にバイパス煙道２２及び加熱ガス導入管２１に備えられ
た開閉弁３４，３１を開くと、冷却塔２にて冷却され、
バグフィルタ４を通過した加熱ガスは、バイパス煙道２
２及び大気放出管１７を通って大気中に放出され、排ガ
ス煙道１１から加熱ガス導入管２１に導入された高温の
加熱ガスは、触媒充填塔４に直接導入される。
【００１５】触媒充填塔４内の触媒は、触媒充填塔４内
に導入された高温の加熱ガスによって３５０℃以上に加
熱される。前記したように、触媒に吸着される油分の沸
点はそのほとんどが３５０℃以下であるので、この加熱
処理によって触媒に吸着された油分はそのほとんどが分
解し、触媒から除去される。これによって、触媒の活性
が回復され、触媒に吸着された油分の自然発火も防止さ
れる。触媒充填塔４で発生した脱着ガスは、ブロワ７に
よって吸引され、脱着ガス排出管２３を介して吸着塔６
に導入される。吸着塔６内には活性炭等の吸着剤が充填
されており、脱着ガス中の油分は当該吸着剤に吸着され
て除去される。吸着処理後のガスは、ブロワ７によって
吸引され、処理ガス排出管２４を介して大気放出管１７
に導入される。
に導入された高温の加熱ガスによって３５０℃以上に加
熱される。前記したように、触媒に吸着される油分の沸
点はそのほとんどが３５０℃以下であるので、この加熱
処理によって触媒に吸着された油分はそのほとんどが分
解し、触媒から除去される。これによって、触媒の活性
が回復され、触媒に吸着された油分の自然発火も防止さ
れる。触媒充填塔４で発生した脱着ガスは、ブロワ７に
よって吸引され、脱着ガス排出管２３を介して吸着塔６
に導入される。吸着塔６内には活性炭等の吸着剤が充填
されており、脱着ガス中の油分は当該吸着剤に吸着され
て除去される。吸着処理後のガスは、ブロワ７によって
吸引され、処理ガス排出管２４を介して大気放出管１７
に導入される。
【００１６】本例のごみ焼却設備は、触媒を加熱処理す
るための熱源としてごみ焼却炉１の余熱を利用するの
で、触媒加熱処理用の特別な熱源を必要とせず、構造が
簡単で安価に実施できるという特徴がある。また、触媒
充填塔４で発生した脱着ガスを吸着塔６に導入して吸着
処理するので、脱着ガスの清浄化効果が高いという特徴
もある。
るための熱源としてごみ焼却炉１の余熱を利用するの
で、触媒加熱処理用の特別な熱源を必要とせず、構造が
簡単で安価に実施できるという特徴がある。また、触媒
充填塔４で発生した脱着ガスを吸着塔６に導入して吸着
処理するので、脱着ガスの清浄化効果が高いという特徴
もある。
【００１７】図２に、本発明に係るごみ焼却設備の第２
例を示す。この図において、５１は電熱式空気ヒータ、
５２は電熱式空気ヒータ５１より発生した加熱空気を触
媒充填塔４に導入する加熱空気導入管、５３は加熱空気
導入管５２に備えられた開閉弁、５４は触媒充填塔４で
発生した脱着ガスをごみ焼却炉１に導入する脱着ガス搬
出管、５５は脱着ガス搬出管５４に備えられたブロワを
示し、その他前出の図１と対応する部分にはそれと同一
の符号が表示されている。
例を示す。この図において、５１は電熱式空気ヒータ、
５２は電熱式空気ヒータ５１より発生した加熱空気を触
媒充填塔４に導入する加熱空気導入管、５３は加熱空気
導入管５２に備えられた開閉弁、５４は触媒充填塔４で
発生した脱着ガスをごみ焼却炉１に導入する脱着ガス搬
出管、５５は脱着ガス搬出管５４に備えられたブロワを
示し、その他前出の図１と対応する部分にはそれと同一
の符号が表示されている。
【００１８】この図から明らかなように、本例のごみ焼
却設備は、触媒を加熱処理するための熱源として、電熱
式空気ヒータ５１を用いることを特徴とする。触媒の加
熱処理に際しては、電熱式空気ヒータ５１を起動した状
態で触媒充填塔入口煙道１４及び触媒充填塔出口煙道１
６に備えられた開閉弁３２，３３を閉じ、加熱空気導入
管５２に備えられた開閉弁５３を開く。これによって、
電熱式空気ヒータ５１にて加熱された空気が加熱空気導
入管２１を介して触媒充填塔４に導入され、触媒充填塔
４内の触媒が３５０℃以上に加熱されて、触媒に吸着さ
れた油分が除去される。また、触媒充填塔４で発生した
脱着ガスは、ブロワ５５によって吸引され、脱着ガス搬
出管５４を介してごみ焼却炉１に導入され、ごみ焼却炉
１で焼却されて無害化される。その他の部分について
は、第１実施形態例に係るごみ焼却設備と同じであるの
で、重複を避けるために説明を省略する。
却設備は、触媒を加熱処理するための熱源として、電熱
式空気ヒータ５１を用いることを特徴とする。触媒の加
熱処理に際しては、電熱式空気ヒータ５１を起動した状
態で触媒充填塔入口煙道１４及び触媒充填塔出口煙道１
６に備えられた開閉弁３２，３３を閉じ、加熱空気導入
管５２に備えられた開閉弁５３を開く。これによって、
電熱式空気ヒータ５１にて加熱された空気が加熱空気導
入管２１を介して触媒充填塔４に導入され、触媒充填塔
４内の触媒が３５０℃以上に加熱されて、触媒に吸着さ
れた油分が除去される。また、触媒充填塔４で発生した
脱着ガスは、ブロワ５５によって吸引され、脱着ガス搬
出管５４を介してごみ焼却炉１に導入され、ごみ焼却炉
１で焼却されて無害化される。その他の部分について
は、第１実施形態例に係るごみ焼却設備と同じであるの
で、重複を避けるために説明を省略する。
【００１９】本例のごみ焼却設備は、電熱式空気ヒータ
５１で発生する加熱空気により触媒を加熱処理するの
で、ごみ焼却炉１におけるごみの焼却処理を継続的に行
いつつ随時触媒の加熱処理を行うことができるという特
徴がある。また、触媒充填塔４で発生した脱着ガスをご
み焼却炉１に導入して焼却処理するので、吸着塔などの
特別な脱着ガス処理装置を必要とせず、安価に実施でき
るという特徴もある。
５１で発生する加熱空気により触媒を加熱処理するの
で、ごみ焼却炉１におけるごみの焼却処理を継続的に行
いつつ随時触媒の加熱処理を行うことができるという特
徴がある。また、触媒充填塔４で発生した脱着ガスをご
み焼却炉１に導入して焼却処理するので、吸着塔などの
特別な脱着ガス処理装置を必要とせず、安価に実施でき
るという特徴もある。
【００２０】図３に、本発明に係るごみ焼却設備の第３
例を示す。この図において、５１は電熱式空気ヒータ、
５２は電熱式空気ヒータ５１より発生した加熱空気を触
媒充填塔４に導入する加熱空気導入管、５３は加熱空気
導入管５２に備えられた開閉弁を示し、その他前出の図
１と対応する部分にはそれと同一の符号が表示されてい
る。
例を示す。この図において、５１は電熱式空気ヒータ、
５２は電熱式空気ヒータ５１より発生した加熱空気を触
媒充填塔４に導入する加熱空気導入管、５３は加熱空気
導入管５２に備えられた開閉弁を示し、その他前出の図
１と対応する部分にはそれと同一の符号が表示されてい
る。
【００２１】この図から明らかなように、本例のごみ焼
却設備は、触媒を加熱処理するための熱源として電熱式
空気ヒータ５１を用いると共に、脱着ガスの処理装置と
して吸着塔６を用いたことを特徴とする。触媒の加熱処
理に際しては、電熱式空気ヒータ５１を起動した状態で
触媒充填塔入口煙道１４及び触媒充填塔出口煙道１６に
備えられた開閉弁３２，３３を閉じ、加熱空気導入管５
２に備えられた開閉弁５３を開く。これによって、電熱
式空気ヒータ５１にて加熱された空気が加熱空気導入管
５２を介して触媒充填塔４に導入され、触媒充填塔４内
の触媒が３５０℃以上に加熱されて、触媒に吸着された
油分が除去される。また、触媒充填塔４で発生した脱着
ガスは、ブロワ７によって吸引され、脱着ガス排出管２
３を介して吸着塔６に導入される。そして、脱着ガス中
の油分が活性炭等の吸着剤に吸着され、無害化される。
その他の部分については、第１実施形態例に係るごみ焼
却設備と同じであるので、重複を避けるために説明を省
略する。
却設備は、触媒を加熱処理するための熱源として電熱式
空気ヒータ５１を用いると共に、脱着ガスの処理装置と
して吸着塔６を用いたことを特徴とする。触媒の加熱処
理に際しては、電熱式空気ヒータ５１を起動した状態で
触媒充填塔入口煙道１４及び触媒充填塔出口煙道１６に
備えられた開閉弁３２，３３を閉じ、加熱空気導入管５
２に備えられた開閉弁５３を開く。これによって、電熱
式空気ヒータ５１にて加熱された空気が加熱空気導入管
５２を介して触媒充填塔４に導入され、触媒充填塔４内
の触媒が３５０℃以上に加熱されて、触媒に吸着された
油分が除去される。また、触媒充填塔４で発生した脱着
ガスは、ブロワ７によって吸引され、脱着ガス排出管２
３を介して吸着塔６に導入される。そして、脱着ガス中
の油分が活性炭等の吸着剤に吸着され、無害化される。
その他の部分については、第１実施形態例に係るごみ焼
却設備と同じであるので、重複を避けるために説明を省
略する。
【００２２】本例のごみ焼却設備は、電熱式空気ヒータ
５１で発生する加熱空気により触媒を加熱処理するの
で、ごみ焼却炉１におけるごみの焼却処理を継続的に行
いつつ随時触媒の加熱処理を行うことができるという特
徴がある。また、触媒充填塔４で発生した脱着ガスを吸
着塔６に導入して吸着処理するので、脱着ガスの清浄化
効果が高いという特徴もある。
５１で発生する加熱空気により触媒を加熱処理するの
で、ごみ焼却炉１におけるごみの焼却処理を継続的に行
いつつ随時触媒の加熱処理を行うことができるという特
徴がある。また、触媒充填塔４で発生した脱着ガスを吸
着塔６に導入して吸着処理するので、脱着ガスの清浄化
効果が高いという特徴もある。
【００２３】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によると、
ごみ焼却設備に必要に応じて触媒充填塔内の触媒を３５
０℃以上に加熱可能な触媒加熱処理手段を設けたので、
触媒に吸着された油分を分解して除去することができ、
油分を吸着することによって低下した触媒の活性を回復
させることができると共に、触媒に吸着した油分の自然
発火が防止され、触媒の長寿命化を図ることができる。
ごみ焼却設備に必要に応じて触媒充填塔内の触媒を３５
０℃以上に加熱可能な触媒加熱処理手段を設けたので、
触媒に吸着された油分を分解して除去することができ、
油分を吸着することによって低下した触媒の活性を回復
させることができると共に、触媒に吸着した油分の自然
発火が防止され、触媒の長寿命化を図ることができる。
【図１】第１実施例に係るごみ焼却設備のフロー図であ
る。
る。
【図２】第２実施例に係るごみ焼却設備のフロー図であ
る。
る。
【図３】第３実施例に係るごみ焼却設備のフロー図であ
る。
る。
１ ごみ焼却炉 ２ 冷却塔 ３ バグフィルタ ４ 触媒充填塔 ５ ブロワ ６ 吸着塔 ７ ブロワ １１ 排ガス煙道 １２ バグフィルタ入口煙道 １３ 消石灰供給管 １４ 触媒充填塔入口煙道 １５ アンモニア供給管 １６ 触媒充填塔出口煙道 １７ 大気放出管 ２１ 加熱ガス導入管 ２２ バイパス煙道 ２３ 脱着ガス排出管 ２４ 処理ガス排出管 ３１，３２，３３，３４ 開閉弁 ４１ ごみ供給管 ４２ 流動空気配管 ５１ 電熱式空気ヒータ ５２ 加熱空気導入管 ５３ 開閉弁 ５４ 脱着ガス搬出管 ５５ ブロワ
フロントページの続き (72)発明者 森田 勇人 広島県呉市宝町６番９号 バブコック日立 株式会社呉工場内
Claims (5)
- 【請求項１】 ごみ焼却炉と、当該ごみ焼却炉で発生し
た排ガスを３００℃以下の温度で触媒に接触させ、排ガ
ス中の窒素酸化物及びダイオキシンを処理する触媒充填
塔とを備えたごみ焼却設備において、前記触媒充填塔中
に充填された触媒を随時３５０℃以上に加熱して当該触
媒に吸着された油分を分解し、当該触媒の活性を回復す
る触媒加熱手段を設けたことを特徴とするごみ焼却設
備。 - 【請求項２】 請求項１に記載のごみ焼却設備におい
て、前記触媒加熱手段として、ごみ供給停止後に前記ご
み焼却炉内に継続して空気を導入し、当該空気をごみ焼
却炉の余熱で加熱することにより得られる加熱ガスを、
前記触媒充填塔に随時導入する加熱ガス導入管を備えた
ことを特徴とするごみ焼却設備。 - 【請求項３】 請求項１に記載のごみ焼却設備におい
て、前記触媒加熱手段として、電熱式空気ヒータと当該
電熱式空気ヒータで加熱された空気を前記触媒充填塔に
随時導入する加熱空気導入管を備えたことを特徴とする
ごみ焼却設備。 - 【請求項４】 請求項１又は２に記載のごみ焼却設備に
おいて、前記触媒充填塔から発生した脱着ガスを、前記
ごみ焼却炉内に導入して焼却処理する脱着ガス搬出管を
備えたことを特徴とするごみ焼却設備。 - 【請求項５】 請求項１又は２に記載のごみ焼却設備に
おいて、前記触媒充填塔から発生した脱着ガスを脱着ガ
ス排出管を介して導入し、吸着剤に吸着させて無害化す
る吸着塔を備えたことを特徴とするごみ焼却設備。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16623396A JP3874454B2 (ja) | 1996-06-26 | 1996-06-26 | ごみ焼却設備 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16623396A JP3874454B2 (ja) | 1996-06-26 | 1996-06-26 | ごみ焼却設備 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH105548A true JPH105548A (ja) | 1998-01-13 |
| JP3874454B2 JP3874454B2 (ja) | 2007-01-31 |
Family
ID=15827587
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP16623396A Expired - Fee Related JP3874454B2 (ja) | 1996-06-26 | 1996-06-26 | ごみ焼却設備 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3874454B2 (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2010194435A (ja) * | 2009-02-24 | 2010-09-09 | Babcock Hitachi Kk | 脱硝触媒保護方法及び脱硝触媒保護装置 |
| JP2012011346A (ja) * | 2010-07-02 | 2012-01-19 | Iwamoto:Kk | 消臭消煙装置 |
| JP2018065089A (ja) * | 2016-10-19 | 2018-04-26 | 株式会社プランテック | 排ガス処理装置 |
| JP2021534961A (ja) * | 2018-08-22 | 2021-12-16 | シエル・インターナシヨナル・リサーチ・マートスハツペイ・ベー・ヴエー | 選択的触媒還元プロセスおよびそのプロセスの不活性化触媒のオフライン再生 |
-
1996
- 1996-06-26 JP JP16623396A patent/JP3874454B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2010194435A (ja) * | 2009-02-24 | 2010-09-09 | Babcock Hitachi Kk | 脱硝触媒保護方法及び脱硝触媒保護装置 |
| JP2012011346A (ja) * | 2010-07-02 | 2012-01-19 | Iwamoto:Kk | 消臭消煙装置 |
| JP2018065089A (ja) * | 2016-10-19 | 2018-04-26 | 株式会社プランテック | 排ガス処理装置 |
| JP2021534961A (ja) * | 2018-08-22 | 2021-12-16 | シエル・インターナシヨナル・リサーチ・マートスハツペイ・ベー・ヴエー | 選択的触媒還元プロセスおよびそのプロセスの不活性化触媒のオフライン再生 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3874454B2 (ja) | 2007-01-31 |
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