JPH10513098A - 介入処置用のｍｒｉシステム及びカテーテル - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 ＭＲ装置及びカテーテルからなる介入処置用のＭＲシステムである。ＭＲ装置は、対象の一部分の画像を獲得するよう配置されている。カテーテル全体は、カテーテルの表面の下で互いにある距離に配置され、実質的にカテーテルの全体の長さに沿って伸びる２つの非磁性体の導線からなる導線のループを設けることにより、ＭＲ画像の中にイメージ化されうる。更に、カテーテルには導線及びカテーテル上の場所にコイルが設けられてもよい。導線のループ及びコイルを通る電流の別々の調節により、カテーテル上の場所を、カテーテルの残る部分からそれたコントラストによってイメージ化することが可能である。

Description

【発明の詳細な説明】 介入処置用のＭＲＩシステム及びカテーテル 本発明は、対象の一部分の画像を獲得するよう配置され、 ａ） 一様な磁界を発生させる磁石と、 ｂ） 一時傾斜磁界を発生させる手段と、 ｃ） 追加的な磁界を発生させる手段からなるカテーテルとからなるＭＲ装置か らなる介入処置用のＭＲシステムに関する。本発明はまた、そのようなシステム と協働するカテーテルに関する。 この種類のＭＲシステムは、米国特許第４，５７２，１９８号によって既知で ある。既知のＭＲシステムでは、カテーテルは、そのためにカテーテルが設計さ れた介入処置を、対象に対して受けさせるよう、ＭＲ装置と協働して配置される 。これは例えば、患者のバルーン式血管形成である。更に、既知のＭＲシステム では、画像処理ユニットは、対象の中のカテーテルの先端の位置を、患者の２つ の連続するＭＲ画像を基に決定する。第１の画像の再構築のためのＭＲ画像の発 生の間、追加的な磁界はスイッチオフされ、一方、次の画像の再構築のためのＭ Ｒ画像の発生の間は、スイッチオンされる。カテーテルの先端に設けられたコイ ルによって発生した追加的な磁界は、ＭＲ装置によって発生した磁界を乱し、そ れにより２つのＭＲ画像の間に差が生じる。処理ユニットは、２つのＭＲ画像の 間の差を基にカテーテルの先端の位置を決定する。続いて、カテーテルの先端の 位置は、カーソルを通じてモニタ上に表示されるよう人体のＭＲ画像の上に重ね られる。 ＭＲ画像の中にカテーテルの先端のみがイメージ化されることは既知のシステ ムの欠点である。 本発明はなかでも、カテーテルが対象の中に存在する限り、カ テーテル全体をイメージ化することを目的とする。 このために、本発明によるＭＲシステムは、追加的な磁界を発生させる手段が 、実質的にカテーテルの長さに沿って伸びる２つの非磁性体の離開した導線を有 する導線のループからなることを特徴とする。 追加的な磁界を発生させる導線の構成の結果、ＭＲ装置によって発生した磁界 は、カテーテルに沿って伸びる小さな領域の中で乱される。カテーテル全体は、 カテーテルの中の導線のループによる追加的な磁界の副次的な適用によってＭＲ 画像内にイメージ化されうる。本特許出願の文中においては、カテーテルは、例 えばガイドワイヤ及び生検針といった器具といった、その位置調節が重要である 他の器具もまた意味すると理解されることにもまた注意すべきである。追加的な 磁界の強さは、導線のループを通る電流の調節によって調節されうる。所望のコ ントラストはこのように調節されるか、又はコントラストは調整されうる。その 利点は、カテーテルの同じコントラストが、追加的な磁界によって起こった乱れ 、又は静的な磁界に関するカテーテルの異なる位置によって起こった乱れに対し て異なる感度を有する異なるイメージ化技術に対して調節されうることからなる 。追加的な磁界の強さもまた、導線のループの２つの導線間の距離によって決定 される。 米国特許第４，５７２，１９８号によって既知であるカテーテルに対しての相 違点は、既知のカテーテルでは、ＭＲ装置の磁界に対する乱れの影響は、カテー テルに沿ってカテーテルの先端のコイルまで伸びる対になった導線を使用するこ とによって消され、それによりカテーテルの先端の近隣の磁界の乱れのみがＭＲ 画像の中でイメージ化されることである。 ＭＲ画像の中でやはり全体としてイメージ化されうるカテーテルは、米国特許 第４，９８９，６０８号によって既知である。しかしながら、この既知のカテー テルでは、永久磁界はカテーテルの長さ に亘って分布された強磁性の粒子によって発生する。乱れを起こす磁界の強さは 調節されえず、それによりカテーテルがＭＲ画像の中でイメージ化されるコント ラストは、カテーテルの近隣の組織の特質、一様な磁界に関するカテーテルの位 置、及び使用されるイメージ化パルスシーケンスのみに依存することは、この既 知のカテーテルの欠点である。感度が、あるイメージ化パルスシーケンスに対し て高すぎ、一方他のイメージ化シーケンスではＭＲ画像の中のカテーテルの視覚 化のためには低すぎることは、更なる欠点である。 本発明によるＭＲシステムの特別な実施例は、導線のループが可変電圧電源に 接続されていることを特徴とする。 可変電圧電源の使用の結果として、導線のループの中の電流は単純に調節され え、従って画像内のカテーテルのコントラストの調節を可能にする。 本発明によるＭＲシステムの他の実施例は、カテーテルには、第１の追加的な 磁界からずれている第２の追加的な磁界を発生させるコイルが設けられているこ とを特徴とする。カテーテルの場所の中のコイルの存在の結果、第２の追加的な 磁界は、コイルの場所の近隣の磁界に第２の乱れを発生させることができ、それ によりＭＲ画像では、この場所は、カテーテルの残る部分のコントラストからず れたコントラストによってイメージ化されうる。 本発明によるＭＲシステムの他の実施例は、カテーテルに沿った導線間の距離 は、カテーテルのある部分においては異なることを特徴とする。距離を変化させ 、それによりカテーテルに沿った乱れの強さを変化させることにより、ある種類 のパターンがＭＲ画像の中で視覚化されえ、それによりカテーテルはよりよく認 識可能である。 本発明の他の実施例は、導線のループの導線が螺旋形状に巻かれていることを 特徴とする。結果として導線のループの中で誘導されたＲＦ電流は減少され、こ のＲＦ電流はＭＲシステムの中のＲＦ信 号の発生の間に誘導される。 本発明の他の実施例は、導線のループの導線が非平行の螺旋形状に巻かれてい ることを特徴とする。結果として、導線の上の電磁力が一様な磁界の中の直流に よって存在するとき、カテーテルに対するねじり力は減少される。 本発明によるＭＲシステムの更なる実施例は、ＭＲ装置が、 ａ） 一時的な連続する第１及び第２のＭＲ画像を決定するためにＭＲ信号を発 生させる段階と、 ｂ） 第２のＭＲ画像の決定のためのＭＲ信号の発生の間に、第１及び／又は第 ２の追加的な磁界を発生させる段階と、 ｃ） 発生したＭＲ信号を受信する段階と、 ｄ） 第１及び第２のＭＲ画像を形成するよう受信されたＭＲ信号を処理する段 階と、 ｅ） 第１及び第２のＭＲ画像を基に対象の中のカテーテルの位置を決定する段 階とを実行するよう配置されていることを特徴とする。 この段階は、２つのＭＲ画像の間の差からの、カテーテルの位置の正確な決定 を可能にする。ＭＲ画像の間の差は、第１の画像の再構築のためのＭＲ画像の発 生の間、追加的な磁界はスイッチオフされ、一方第２の画像の再構築のためのＭ Ｒ画像の発生の間は、スイッチオンされることによって起こされる。 本発明によるＭＲシステムの更なる実施例は、いわゆるキーホール技術によっ てＭＲ信号から画像を得るよう配置されていることを特徴とする。この段階は、 ２つの一時的な連続する画像の露光時間の現象を提示する。この技術は、中でも 欧州特許出願第５４３４６８号によって既知である。引用された特許出願明細書 によるキーホール技術は、第１の画像を獲得するよう、完全なｋ空間と関連する ＭＲ信号セットを使用する。続いて、ｋ空間の一部分のみが、続いてｋ空間の当 該部分と関連する前もって獲得されたＭＲ信号セットのＭＲ信号の位置に置き換 えられる、新たなＭＲ信号を発生させ るために使用される。この更新されたＭＲ信号セットから、一時的な続く画像が 決定される。この方法は、説明された方法で準リアルタイム画像を形成すること が可能であり、それによりカテーテルは、対象の中での転位の間に追跡されうる 。 本発明によるＭＲシステムの更なる実施例は、制御ユニットが、カテーテルが 存在する、イメージ化されるべき領域の位置を、決定されたカテーテルの位置に 対して適合させるよう配置されていることを特徴とする。この段階の結果として 、イメージ化されるべき領域は、対象の中のカテーテルを追う。位置が迅速に決 定され、更にイメージ化されるべき領域の位置が調節されると、カテーテルは、 転位の間にＭＲ画像の中で連続的にイメージ化されるよう、連続的に追跡される 。 本発明はまた、追加的な磁界を発生させるため、カテーテルには、実質的にそ の全体の長さに沿って伸び、互いに所与の距離に配置され、カテーテルの端で相 互接続され、それにより導線のループを形成する非磁性材料の導線が設けられて いることを特徴とする。 本発明によるカテーテルの更なる実施例は、導線のループの導線が非平行の螺 旋形状に巻かれていることを特徴とする。 本発明によるカテーテルの更なる実施例は、導線のループの導線が螺旋形状に 巻かれていることを特徴とする。 本発明によるカテーテルの更なる実施例は、導線のループが可変電圧電源に接 続されていることを特徴とする。本発明によるカテーテルの更なる実施例は、第 １の追加的な磁界からずれている第２の追加的な磁界を発生させるコイルからな ることを特徴とする。 本発明の、上記の及び他の面は以下説明される実施例を参照して明らかとなり 、説明される。 図中、 図１はＭＲシステムを示し、 図２は導線のループからなるカテーテルを示し、 図３は導線のループ及びコイルからなるカテーテルを示し、 図４は１次元の陽子密度形状を使用した位置決定作用を示し、 図５は互いの間に２つの異なる距離を有する導線によって形成された導線のル ープを示し、 図６は平行螺旋形状に巻かれた導線のループを示し、 図７は非平行螺旋形状に巻かれた導線のループを示し、 図８は平行螺旋形状の導線上の電磁力の方向を示し、 図９は非平行螺旋形状の導線上の電磁力の方向を示す。 図１は、ＭＲ装置１及びカテーテル１５からなる磁気共鳴システム１を示す。 ＭＲ装置１は、静的な磁界を発生する第１の磁石システム２と、傾斜磁界を発生 する第２の磁気システム３と、第１の磁石システム２及び第２の磁石システム３ のための電源ユニット４とからなる。示された座標系のｚ方向は、磁石システム ２の中の一様な磁界の方向に対応する。ＲＦ送信器コイル５は、ＲＦ磁界を発生 するために作用し、ＲＦソース及び変調器６に接続されている。受信器コイル８ は、例えば患者である検査されるべき対象７の中のＲＦ磁界によって発生された ＭＲ信号を受信するよう作用する。受信器コイル８及びＲＦ送信器コイル５は、 単一の同じコイルであり得る。磁石システム２は、検査されるべき患者を収容す るのに充分大きい検査空間を囲む。ＲＦ送信器コイル５は、検査空間の中の患者 の一部分の周りに配置される。ＲＦ送信器コイル５は、送信器／受信器回路９を 通って信号増幅及び復調ユニット１０に接続される。そこから得られた位相及び 振幅は更に処理される。画像再構築ユニット１１は、画像を形成するよう与えら れた信号を処理する。この画像は、例えばモニタ１４上の画像処理ユニット１２ を通って表示される。制御ユニット１３は、ＲＦ送信器用の変調器６と、傾斜磁 界用の電源ユニット４と、画像処理ユニット１２とを制御する。図１はまた、カ テーテル用電源ユニット１７に接続した導線のルー プ１６からなる本発明によるカテーテル１５を示す。 図２は、本発明による導線のループ１６を有するカテーテル１５を示す。カテ ーテル１５は、電子的に適当に絶縁する、低い磁化率を有する材料でできている 。カテーテル１５は、例えば０．３ｍｍ乃至３ｍｍである一定の直径と、また例 えば１１０ｃｍ又は１５０ｃｍである一定の長さとを有する。残る部分では、カ テーテル１５は、通常の形状及び構成を有し、例えば患者の血管に導入される遠 位端２３からなる。カテーテル１５はまた、それを通って例えば器具が患者の中 に導入されうるか、又はそれを通って例えばカテーテル１５を制御するより細い カテーテル又はガイドワイヤが挿入されうる通常の導管２４及び近位端２５とか らなる。更に、コントラスト媒体又は血栓溶解液といった活性物質もまたカテー テル１５を通じて与えられうる。導線のループ１６は、表面の直下及びカテーテ ル１５の中の導管２４に隣接して設けられている。導線のループ１６は、例えば ０．１ｍｍである直径を有する非磁性伝導性材料からなる。導線のループ１６は 、実質的にカテーテル１５の全体の長さに沿って表面の直下に設けられている。 導線のループ１６は、第１の可変抵抗１８及び第１のスイッチ２２を通って電圧 ソース１９に接続される。追加的な磁界は、可変抵抗１８による導線のループ１ ６を通る電流の調節によって調節される。更に、追加的な磁界の強さは、導線の ループ１６の第１の導線２０及び第２の導線２１の間の距離によって決定される 。 本発明の更なる実施例では、カテーテルは、導線のループ１６に加えてコイル ３１からなる。コイルの画像のコントラストは、電流が別々の導線を通じてコイ ルに供給されたときは、カテーテルのコントラストとは別に調節されうる。この 種類のカテーテルは、図３を参照して詳述される。図３は、例えば遠位端２３の 近くの、カテーテル１５の表面の下に設けられたコイル３１を示す。コイル３１ は、例えばカテーテルの外側の近くに設けられたサドルコイルと して構成されうる。コイル３１は、別々の導線２７，２８及び第２の可変抵抗２ ９及び第２のスイッチ３０を通って電圧ソース１９に接続される。第２の追加的 な磁界は、第２の可変抵抗２９によるコイル３１を通る電流の調節によって調節 される。他の可能性は、コイル３１を導線１６と直列又は並行に接続し、コイル の巻き数及び巻きの直径及びコイルの形がカテーテルの残る部分に対するコント ラストの差を決定することからなり；しかしながらその場合、コイルのコントラ ストの別々の制御は、カテーテルの残る部分のコントラストに関して可能でない 。更に、幾つかの他のコイルはカテーテルの上の異なる場所に設けられることが でき、該他のコイルの夫々は、ＭＲ画像の中に様々な位置がイメージ化されうる よう、追加的な磁界を発生する。 カテーテル１５の位置は、様々な方法で決定されうる。第１の方法は、例えば ＭＲ画像から導線のループ１６を有するカテーテル１５の位置を決定することに よる。第２の方法は、例えば遠位端２３である、その中にコイル３１が設けられ ているカテーテルの場所の位置を、連続する一次元の投射信号から決定すること による。 第１の方法によれば、電流は、ＭＲ画像の再構築のためのＭＲ信号の発生の間 に導線のループ１６を通って調節される。これは導線のループの近隣に第１の追 加的な磁界を生じさせる。第１の追加的な磁界による乱れが充分大きければ、乱 れ、ゆえにカテーテルはＭＲ画像の中にイメージ化される。カテーテルが取り巻 く組織に対してイメージ化されたコントラストは、例えば導線のループを通る電 流の値を増加させることにより調節されうる。乱れが目に見えなければ、カテー テル１５の画像は、画像処理ユニット１２による２つの連続する画像から得るこ とができる。これにより、第１の画像を決定するためのＭＲ信号の発生の間、カ テーテルの中の導線のループ１６に沿った追加的な磁界は欠除しており、一方次 の画像を決定するＭＲ信号の発生の間は存在する。カテーテル１５の画像及び位 置は、画像処理ユニット１２によって２つのＭＲ画像の間の差から得られる。続 いて、カテーテルの画像は、モニタ１４上の第１のＭＲ画像の中で再生されうる 。ＭＲ信号の発生の間、導線のループ１６の追加的な磁界は、このためにカテー テル制御ユニット１７に接続された制御ユニット１３からの制御信号によって作 動されうる。１５の位置調節の精密度は、第１の画像のためのＭＲ信号の発生の 間に、乱れが第１の方向の電流の影響下にある追加的な磁界によって引き起こさ れ、次に画像のためのＭＲ信号の発生の間に、乱れが該第１の方向と逆の方向の 電流の影響下にある追加的な磁界によって引き起こされるときに、更に改善され うる。ＭＲ画像を基にした介入の間のカテーテルの転位を追跡するため、決定さ れたカテーテルの位置は、イメージ化されるべき次のＭＲ画像の領域を調節する ために使用されうる。それにより、位置は制御ユニット１３に供給される。 ＭＲ画像獲得時間は、例えばいわゆるキーホール方法を使用することにより減 少されうる。キーホール方法は、欧州特許出願第２５ ５４３４６８号によって 既知である。この特許出願によって開示されたキーホール方法によれば、完全な ｋ空間に関連づけられたＭＲ信号セットは、第１の基準画像を獲得するために使 用される。次の画像を獲得するため、ｋ空間の一部分に対してのみ新たなＭＲ信 号が発生される。受信されたＭＲ信号は、続いて前もって獲得され、画像再構築 ユニット１１のメモリに記憶されたｋ空間のこの部分と関連するＭＲ信号の位置 に置き換えられる。画像再構築ユニット１１は続いて、更新されたＭＲ信号セッ トから次の画像を決定する。 連続する一次元の投射信号からカテーテル１５の遠位端２３の位置を決定する ため、制御ユニット１３は、例えばｘ軸、ｙ軸、及びｚ軸である３つの直交する 主軸に対する３つの一次元の投射信号の連続するシリーズを発生させるため連続 的に制御信号を発生し、コイル３１を通る電流は、一次元の投射信号の第１のシ リーズの発生 の間はスイッチオフされ、一方コイル３１を通る電流は、一次元の投射信号の第 ２のシリーズの発生の間はスイッチオンされる。陽子密度形状は、連続する一次 元のフーリエ変換によって獲得される。 図４は、同じ主軸に沿った２つの一時的な連続する陽子密度形状４０及び４１ の例を示す。第１の陽子密度形状４０は乱れを含まず、一方第２の陽子密度形状 ４１は乱れを含む。例えば第１の主軸に沿った偏向の位置４２は、陽子密度形状 ４０及び４１の間の差から決定される。他の２つの主軸上の偏向の位置は同様の 方法で決定され、人体７の中のカテーテル１５の遠位端２３の位置はこのように 決定される。一次元のフーリエ変換及び陽子密度形状の間の差の決定は、画像再 構築ユニット１１によって実行される。このように決定されたカテーテル１５の 遠位端２３の位置は、カーソルによってモニタ１４上で視覚化されえ；更に、Ｍ Ｒ画像の中でカテーテル１５を連続的に追跡するためにも使用されうる。それに より、カテーテル１５の位置は、制御ユニット１３に供給される。制御ユニット １３は続いて、例えばカテーテル１５の遠位端２３が画像の中で目に見えるまま であるように、イメージ化されるべき人体の領域の位置を適合させる。カテーテ ルのある部分における導線間の距離を変化させることにより、磁界は所定のパタ ーンで乱されうる。このパターンは、ＭＲ画像の中のカテーテルのよりよい認識 可能性を可能にし、導線のある部分の間の距離の差を有するカテーテルは、図５ に示されている。図５は、本発明による導線のループ５１を有するカテーテル５ ０を示す。更に第１の部分５２の第１の導線５４及び第２の導線５５の間の距離 と、第２の部分５３の第１の導線５４及び第２の導線５５の間の距離とは等しい が、２つの部分５２，５３の外側の導線の距離とは異なる。従って、第１の部分 ５２及び第２の部分５３の近くの過剰な磁界は、カテーテル５０の残りの部分の 近くの過剰な磁界とは異なる。続いて、カテーテルの周りのパターンは、ＭＲ画 像の中で目に見えるようになる。更に、可変抵抗５６ 及び電源５７は、カテーテル５０と接続されている。可変抵抗５６により、導線 のループ５１を通る電流、従ってＭＲ画像の中のカテーテルのコントラストは制 御されうる。ＨＦ乱れを減少させるため、両方の導線もまたカテーテルの長軸の 周りに巻かれうる。 例えば、螺旋形状に巻かれた導線からなる導線のループ１７を有するカテーテ ルを例に取る。これらの螺旋形状の導線のループを有するカテーテルは、図６， ７，８及び９を参照して説明される。 図６は、導線のループの両方の導線６０，６１は互いに平行である平行螺旋形 状を有する導線のループ１７を有するカテーテル１５を示す。 図７は、導線７０，７１が互いに交差する非平行螺旋形状の導線のループ１７ を有するカテーテル１５を示す。非平行螺旋形状の利点は、導線７０，７１に対 する電磁力によるカテーテルへのねじり力は、平行螺旋形状の導線６０，６１に 対する電磁力によるカテーテルへのねじり力に関して減少されていることである 。これらの電磁力は、電流が静的な磁界の中の導線のループを通って方向付けら れているときに発生される。 図８は、平行螺旋形状の導線のループ１６の導線６０，６１に対する力を示す 。矢印８０，８１は、導線のループの中に直流が発生されたときに発生される電 磁力の方向を示す。力の方向は、逆の方向に指されており、カテーテル上にねじ り力を導入する。 図９は、非平行螺旋に巻かれた導線のループの導線７０，７１上の力の方向を 示す。矢印９０，９１は、直流が導線のループを通って方向付けられているとき の力の方向を示す。導線７０，７１上の力３７，３８の方向は同じ方向に指され ているため、カテーテル１５上のねじり力は実質的に減少される。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １． 対象（７）の一部分の画像を獲得するよう配置され、 ａ） 一様な磁界を発生させる磁石（２）と、 ｂ） 一時傾斜磁界を発生させる手段（６）と、 ｃ） 追加的な磁界を発生させる手段からなるカテーテル（１５）とからなるＭ Ｒ装置１からなる介入処置用のＭＲシステムであって、 追加的な磁界を発生させる手段は、実質的にカテーテルの長さに沿って伸びる ２つの非磁性体の離開した導線を有する導線のループからなることを特徴とする ＭＲシステム。 ２． 導線のループは、可変電圧電源に接続されていることを特徴とする請求項 １記載のＭＲシステム。 ３． カテーテルには、第１の追加的な磁界からずれている第２の追加的な磁界 を発生させるコイルが設けられていることを特徴とする請求項１又は２記載のＭ Ｒシステム。 ４． カテーテルに沿った導線間の距離は、カテーテルのある部分に対しては異 なることを特徴とする請求項１乃至３のうちいずれか１項記載のＭＲシステム。 ５． 導線のループの導線は、螺旋形状に巻かれていることを特徴とする請求項 １乃至４のうちいずれか１項記載のＭＲシステム。 ６． 導線のループの導線は、非平行の螺旋形状に巻かれていることを特徴とす る請求項１乃至５のうちいずれか１項記載のＭＲシステム。 ７． ＭＲ装置は、 ａ） 一時的な連続する第１及び第２のＭＲ画像を決定するためにＭＲ信号を発 生させる段階と、 ｂ） 第２のＭＲ画像の決定のためのＭＲ信号の発生の間に、第１及び／又は第 ２の追加的な磁界を発生させる段階と、 ｃ） 発生したＭＲ信号を受信する段階と、 ｄ） 第１及び第２のＭＲ画像を形成するよう受信されたＭＲ信号を処理する段 階と、 ｅ） 第１及び第２のＭＲ画像を基に対象の中のカテーテルの位置を決定する段 階とを実行するよう配置されていることを特徴とする請求項１乃至６のうちいず れか１項記載のＭＲシステム。 ８． ＭＲ装置はまた、いわゆるキーホール技術によってＭＲ信号から画像を得 るよう配置されていることを特徴とする請求項７記載のＭＲシステム。 ９． 制御ユニット（１３）は、カテーテル（１５）が存在する、イメージ化さ れるべき領域の位置を、決定されたカテーテルの位置に対して適合させるよう配 置されていることを特徴とする請求項１乃至８のうちいずれか１項記載のＭＲシ ステム。 １０． 追加的な磁界を発生させる手段は、実質的にカテーテルの長さに沿って 伸びる２つの非磁性体の離開した導線を有する導線のループからなることを特徴 とするＭＲ装置と共同して使用されるカテーテル。 １１． 導線のループは可変電圧電源に接続されていることを特徴とする請求項 １０記載のカテーテル。 １２． 導線のループの導線は、螺旋形状に巻かれていることを特徴とする請求 項１０又は１１記載のカテーテル。 １３． 導線のループの導線は、非平行の螺旋形状に巻かれていることを特徴と する請求項１０乃至１２のうちいずれか１項記載のカテーテル。 １４． 第１の追加的な磁界からずれている第２の追加的な磁界を発生させるコ イルからなることを特徴とする請求項１０乃至１２のうちいずれか１項記載のカ テーテル。