【発明の詳細な説明】
ダスト清浄装置
技術分野
本発明はガスから粒子を分離するための清浄プラントに関する。本発明による
装置は所謂サイクロンにおいて燃焼プラントの高温ガスから高温粒子を分離する
ために使用される。
背景技術
ガスから粒子を分離するために通常サイクロンが使用される。そのようなサイ
クロンは典型的には、その下の第１のシェルと接続された円錐形シェルに変わる
上部円筒形シェルと、下方に向いた先端部とを備えた形状である。そこから粒子
を除去すべきガスはその周囲に対して接線方向に円筒形シェルの上部分に導入さ
れる。それによって、ガスと粒子とはサイクロンの壁内すなわち下方へテーパが
つき断面が円形の前述のシェル内で高いレベルから低いレベルまで螺旋形の運動
するよう、すなわち渦流を作るよう強制される。下方へ流れる間にガスの流速は
増大し、それによってガスの渦流内でより重い粒子はサイクロンの壁に向かって
投げ出され、次に、円錐形シェルの下方の最も狭くされた部分においてサイクロ
ンからのダスト出口を形成するサイクロン脚部中へ落下する。このように粒子か
ら清浄にされたガスはサイクロンの最上方部の円筒形部分の中央に位置した出口
で頂部からは排出される。
例えば、石炭のような非清浄な燃料を燃焼するプラントにおいては、ガスター
ビンを駆動するためのガスは、前述のサイクロンから構成しうるガス清浄装置に
おいて腐食性粒子から清浄にする必要がある。ガスタービンにおいては、タービ
ンの入口において最高の温度が目標とされる。このことは、ガスタービンまで通
される、例えば、燃焼ガスからダストを分離するガス清浄装置は燃焼ガスが燃焼
プラントにおける燃焼装置を出るときの燃焼ガスが有する温度で作動することを
意味する。
例えば、ＰＦＢＣ型の燃焼プラントは、９５０℃に達しうるガス温度で作動す
る。高温は燃焼ガスがタービンに供給される前に燃焼ガスを清浄にするサイクロ
ンにおいて著しい応力をもたらす。特に、サイクロンの最下方部とサイクロンの
脚部にあるサイクロンの出口とにおいて問題が大きい。大量のガスにおける極め
て腐食性で浸蝕性の粒子の高速と高温がサイクロンの材質の強度を低下させ摩擦
に対する抵抗性を劣化させる。このような環境においては腐食と浸蝕の組み合わ
せたものが頻繁に見られる。
サイクロンの冷却には種々の形態があり、かつサイクロンやサイクロンの脚部
の設計には種々変形が見られるが、ガス中のダストによるサイクロンの材質の摩
耗に関する問題は依然として残っている。従って、通常ライニングの形態でサイ
クロンに耐浸蝕性を付与することが必要であった。このライニングは化学材料か
ら形成し得るが、これは長期にわたり周知の技術である。既存のＰＦＢＣ型エネ
ルギプラントにおいては、サイクロンは、高抵抗性のセラミック材料で内部ライ
ニングされる。そのような装置がスエーデン国特許願第９００２９２４０号に記
載されている。
例えば、ＰＦＢＣ型プラントにおいてダストを分離している間の別の問題はサ
イクロン内部で火災が発生する可能性があることである。このことは、なかんず
く粒子、主として灰から清浄にすべき高温ガスがまた未燃焼の石炭の粒子を含ん
でおり、温度が高く、かつガスが酸素残留物を含有しているという事実から起因
する。
サイクロンにおける火災の場合、サイクロンの構成成分がある程度加熱され、
サイクロンの摩擦に対する抵抗性が更に低下する。サイクロンの構成成分の加熱
を低下させるためにはサイクロンを冷却すればよい。サイクロン冷却の一例がス
エーデン国特許第４５９９８６号に示されている。
サイクロンの材質が高温になり過ぎる危険性を下げるための別の方法は、火災
が発生しうるサイクロン内のガスの酸素のパーセントを低く保つことにより火災
の危険性を排除することである。
前述のように、サイクロンは通常、円筒部分、すなわち円錐部の先端に接続さ
れるサイクロン脚部への遷移部を備えた下方向にテーパに付いた円錐部を具備す
るように設計される。一般に、サイクロン脚部は円筒形のチューブから構成され
る。
サイクロンの設計により、ある場所、特に円錐部と円筒形のサイクロンの部分
との間の遷移部において乱流が発生し、そのためサイクロンの渦流におけるガス
と、ガスと共に流れている粒子との間に速度差が発生する。このため混合が起こ
り、未燃焼の粒子が酸素に近づくに従って、火災の危険性を増大する確率を増や
す。前述の乱流部分においては、ガス中の粒子は必ずしもサイクロン円錐部のシ
ェル面に沿って滑るとは限らず、時にはある衝撃角度でこの面と衝突する。粒子
の速度が速いため、これはサイクロン材質の浸蝕を著しく増加させる。
例えば、酸素、高温、未燃焼物質といった火災に対するすべての必要な条件は
サイクロンに存在し得る。ガスタービンまで通される高温の排ガスを清浄にする
ために使用されるサイクロンが一般に多少燃え易いのは多分この理由が故である
。しかしながら、サイクロンの設計を変えることにより、サイクロンが燃える程
度を変えることは可能である。
サイクロンの設計が変わった場合、ガスの流れにおけるガスと粒子との間の相
対速度は影響を受ける可能性がある。
このことは実験的な調査において示されており、例えば、サイクロンの脚部の
中央に導入された十字部は火災活動を増大させた。同様に、サイクロンの内部に
粗い壁面を設けた場合は、火災が増える。これらの双方の場合において、粒子が
遅くされたため増えたのはガスと粒子との間の相対速度であった。ガスと粒子と
の相対速度のこの増加はサイクロン内部での燃焼を増大させている。
サイクロン内での浸蝕に関しては、浸蝕は各種のパラメータによって影響を受
ける。粒子のサイズ、速度、密度、硬度および形状がこれらのパラメータの中の
あるものである。その他のパラメータとしては、例えば腐食性あるいは還元性で
ありうるガスの成分がある。サイクロンの材質の特性も重要である。例えば、酸
化物の層あるいはセラミックは浸蝕を阻止するという観点からはよく機能する。
別の重要な要素は粒子がサイクロンの面と衝突するときの、衝撃時のサイクロン
の内面に対する粒子の入射角度である。
サイクロンにおいて火災が発生すると、その結果酸素含有量が低くなり、還元
環境となる危険性がある。この還元環境においては、周りの金属面の表面層の金
属酸化物が劣化する。これらの酸化物は極めて固く、脆く、従って浸蝕作用に対
して抵抗性がある。多分、粒子と前述の金属面との間衝撃角度は一般に小さいの
で金属酸化物の良好な特性が浸蝕を阻止する手段として作用するのであろう。こ
のように、浸蝕の観点からもサイクロンにおいて火災ゾーンを排除することが望
ましく、かつ重要である。
粒子がサイクロンの壁に衝突するとき粒子が移動している高速において、衝突
時の粒子の入射角は浸蝕に対して顕著な影響を有する事が判明している。このた
め、入射角零以上でサイクロンの壁にたいして落下する粒子を出来るだけ排除す
るサイクロンの設計が望ましい。すなわち、粒子がサイクロンの壁に接触すると
しても、それが壁に対して平行の運動の中で行われるべきである。このことは、
ガスと、ガスに介在する粒子との間の速度差を無いようにして達成される。本発
明においては、サイクロンにおけるこれらの望ましい特性を備えた設計が示され
ており、従来のサイクロンに関わる前述の欠点を解決する。この解決法の原理は
サイクロン内の流れを出来るだけ乱さないようにすることである。
発明の要約
本発明によれば、排ガスを清浄するためのサイクロンは、ガスの流れからサイ
クロンの壁に対して零以上の入射角でサイクロンの壁に向かって流れる粒子が無
いように設計される。このことは、サイクロンの下方部分の必要な断面積の縮小
が均等、かつ連続的に行うようにすることにより達成される。サイクロンの最下
方部分におけるサイクロンの脚部より断面積が大きいサイクロンの最上方部分の
円筒形シェルの面からの遷移は、円形の断面積の減少に何ら断続性が無く均等に
テーパが付けられている遷移部分によってなされる。本発明によれば、サイクロ
ンの遷移部分のシェルの面は二重曲線面である。
サイクロン上方円筒形シェル面と遷移部分との間並びに下方円筒形シェル面と
遷移部分との間の領域においては、切頭円錐形のシェル面を適用し得る。この点
に関して、前述の円錐形シェル面の一方あるいは双方を遷移部分と相接させて設
けることができる。これらの円錐形のシェル面は設計を簡素化し、本発明による
サイクロンを安価にするために使用し得る。本発明によるサイクロンは従来のサ
イクロンよりもより複雑でかつ製作が高価につく。しかしながら、浸蝕に対する
寿命の延長は、前述の利点が、例えば、本発明を粒子を含有する高温ガスの清浄
に利用する場合、明らかに本発明を有利にする。
ガスの流速を一定に、かつ出来るだけ低く押さえるように選択され、前述のよ
うにサイクロンの面積を順次減少させることにより、浸蝕が最小となり、かつ火
災に対する危険性が最小となり、更に火災に対するサイクロン材質の抵抗性によ
り浸蝕がさらに低減する。浸蝕が低くなるのは粒子の速度が低くなり、かつ、例
えば、円筒形シェル面から円錐形シェル面への、あるいはその逆の遷移による断
続性を排除することによる。
図面の簡単な説明
第１図は本発明によるサイクロンの垂直断面図、
第２図は本発明のサイクロンの種々のレベルにおける浸蝕の分布と粒子速度と
の線図、
第３ａ図は２種類の材料から作られた面に対する粒子の入射角に対する浸蝕の
因果性を示す曲線を示す図、
第３ｂ図はサイクロンの壁に衝突する粒子の入射角を示す図、
第４図は側方から挿入したサイクロンの種々のレベルにおける浸蝕の分布と粒
子速度とを示す線図と共に示す従来技術によるサイクロンの断面図、
第５図はサイクロンの円錐部と脚部とに耐浸蝕性材料をライニングした、本発
明の代替実施例を示す図、
第６図は従来のサイクロンにおける円錐部分と脚部分との遷移部分におけるサ
イクロンの壁近傍での浸蝕性粒子の位置を示す図である。
種々の角度で粒子が衝突する面において発生する浸蝕を、粒子がそれに向かっ
て流れてきて、そこを貫流する面の２種類の材質について第３図に示している。
連続した線で示す曲線は軟質の金属材料の面に適用され、点線で示す曲線は例え
ば、セラミックのような硬質で脆い材質に適用される。図において、面に対する
粒子の入射角の関数としての浸蝕が示されている。曲線から判るように、浸蝕は
粒子の入射角が大きくなると大きく増大する。例えば、０．１度から１．０度ま
で粒子の入射角が増大すると、その浸蝕に対する影響は１０倍に増える。この因
果関係は特に、軟質の金属材料からなる面において顕著である。第３図に示す曲
線について最も興味ある点は入射角零では浸蝕は事実上存在しないことである。
本発明の目的は、粒子がサイクロンの面と接触するとき、零以上の粒子の入射角
を排除することである。このことは、シェルの面に近い粒子がこの面に沿って滑
ることを意味する。
本発明において、前述した形態の粒子が流れてくる面における浸蝕もまた粒子
の速度と大いに因果関係にある。このような状態を下記の関係で表わすことが出
来る。
浸蝕＝ｋ．ｖＰ
但し、ｐ＝２．５−３．５は前述のパラメータの組み合わせによって決まり、
ｖは粒子の速度、そしてｋは定数である。このパラメータｐは、サイクロンの円
錐部分のサイクロンの直径が減少するときガスと粒子の速度が大きく増加するの
で極めて厄介なものである。例えば、前記直径は８００ミリから１５０ミリまで
減少する可能性があるといえる。そのため、粒子の速度は何らピークが無くて低
いレベルに保つことが重要である。
第４図は十分試された技術によるサイクロンを示し、サイクロンの下方部分は
、サイクロンの脚部を構成する円筒形チューブに急に変化する円錐部分を備えた
ものとして設計されている。隣にある線図は、サイクロンにおける粒子の位置の
関数としてサイクロンを通るガスの流れにおける粒子の速度を再現する曲線を示
す。前記線図から明らかなように、Ａの領域において速度曲線は小さいピークを
示し、Ｂの領域で最大ピークを示す。Ａの領域において、粒子は、サイクロンへ
の入口がここに位置するという事実によって、零より著しい角度で、サイクロン
のシェル面に衝突する。その結果、粒子の速度は比較的遅いにもかかわらずこの
領域において浸蝕が発生する。しかしながら、この浸蝕は厄介な種類のものでは
ない。
Ｂの領域は、この領域において極めて大掛かりな浸蝕をもたらす、粒子速度が
強烈に最大であることを示す。しかしながら、線図から明らかなように、浸蝕は
、粒子の速度が最大である点の若干下方で発生する。粒子が曲線のピークＣで示
すこの大きな速度増加は、徐々に狭くなる周囲に沿って円錐部分におけるガスの
流れの粒子が強制的に螺旋状に流れるようにされるサイクロンの周囲が減少する
ことに伴って速度が増大するためである。その後、粒子が断面積が一定のサイク
ロ
ンの脚部へ進入すると、特に摩擦により粒子の速度は減少する。
サイクロンにおける円錐部分とチューブ部分（サイクロンの脚部）との間の比
較的急激な遷移部分において、サイクロンの対称性が急激に変化するところで円
錐部分のシェル面に沿って下方に螺旋状に摺動している粒子は、その慣性力によ
りシェルの面に近い所をすぐに離れ、再び遠心力によりサイクロンの脚部の円筒
形のシェル面の向かって外方に投げ出される。このため、Ｂの領域において円筒
形のシェル面に向かって運動している間サイクロンの壁と衝突している粒子が、
急に増大し零より著しく大きい入射角で壁に向かって落下するようにさせる。こ
のように増加した入射角と粒子の高速とによって、Ｂの領域において激しい浸蝕
をもたらす。この状態が第６図に示されており、典型的な粒子の位置は従来のサ
イクロンにおいて置いて円錐形のシェル面１ｂと円筒形のチューブと、サイクロ
ンの脚部１ｃとの間の境界においてマークされている。サイクロンの３種類の断
面積における粒子の位置が再現されているが、断面積Ｅにおいて円錐部分１ｂと
断面積Ｆにおける円筒部分１ｃとの間の鋭く印を付けた遷移部のすぐ下方でサイ
クロンの壁近くに位置した粒子は壁の近くを離れ、その後、チューブ１ｃにおけ
るガスの渦流の遠心力の作用により再び、断面積Ｇにおいて円筒状の壁の近くの
位置をとることが明らかである。概ね断面積Ｇにおいて、粒子は結果的に高速で
、かつ比較的大きい入射角でサイクロンの壁に向かって流れ、（Ｇにおける）こ
の領域においてサイクロンの壁に最大の浸蝕をもたらす。
断面積Ｅの周りの領域の場合と同様に、サイクロンの種々の部分（サイクロン
の円錐部と脚部）の間の鋭い遷移部において発生する別の問題は灰粒子のコーテ
ィング１５が断面積ＥとＧとの間で形成する傾向があり、このコーティング１５
は断面積Ｆにおいて最大であって、そこではコーティングは約３ミリの厚さに達
する可能性がある。第４図を参照されたい。コーティングは、分離されたサイク
ロンの灰を除去するためにサイクロンの下流側に設けられている排出系に問題を
発生させる可能性がある。コーティングはサイクロンを使用しているプラントの
停止に関連して簡単に剥がれることが判明している。そのような停止の場合、サ
イクロンは概ね室温まで冷却され、（通常何らかの種類のステンレス鋼から作ら
れている）サイクロンの材質とコーティング１５とは、これらの材料は線膨張係
数が異なるため、容積が変動して減少し、その結果コーティングに亀裂が入り、
サイクロンの壁からゆるんではがれる。このように、コーティングから落下する
断片が灰排出系を容易に停止させ、問題を起こす可能性がある。
前述の問題に対する解決策は、本発明によれば、サイクロンにおける円錐部分
から脚部分への遷移部分を前述のように、流れが乱されないように設計すること
である。本発明による前述の解決策により、浸蝕とコーティングとの双方に関わ
る問題が阻止される。
好適実施例の説明
本発明の好適実施例を添付図面を参照して以下説明する。
第１図は本発明のよるサイクロン１の垂直断面図である。このサイクロンはそ
の上部分において、従来の技術により清浄すべきガスの入口２を備えたものとし
て設計されている。サイクロン中へ流れてくるガスはケーシングにより回転させ
られる。ケーシングはサイクロンの上部分において円筒形部分１ａとして設計さ
れている。回転は入口２を円筒形部分１ａに対してその上部分において接線方向
に配置することによりもたらされる。次に、ケーシングは円錐形部分１ｂに変化
し、そこでガスが回転させられたとき発生したガスの渦流が、サイクロンの円錐
形部分１ｂにおける、その上をガスの流れが進行するサイクロンの円錐部の断面
積の周りが、ガスが円錐部分１ｂを下方へ運動するにつれて徐々に狭くなってく
るためより高い速度まで加速される。円錐部分１ｂがある場合、円筒形部分１ａ
はそのような円錐形部分１ｂと共に、本明細書で第１のシェル部分と称するもの
を構成する。サイクロン１の第１のシェル部分の下流側にはチューブ状のサイク
ロンの脚部１ｃがある。サクロンの最下方部分には出口３があり、そこでガスの
流れから除去された灰やその他の不純物が出される。第１のシェル部分とサイク
ロンの脚部１ｃとの間に、サイクロンは、円錐部分１ｂの断面積が最小のところ
からサイクロンの脚部１ｃの断面積まで断面積が均等に連続して減少する遷移部
分１ｄを有する。別の言い方をすれば、遷移部分１ｄは、サイクロンの対称軸の
周りを１回転した円弧によって形成された回転面として形成されたシェルから構
成されるため、二重曲線シェル面を有している。このように定義することにより
、遷移部分１ｄは、円弧の回転の間の各位置において、それぞれ第１のシェル部
分
１ａ，１ｂとサイクロンの脚部分１ｃとの母線と一致する回転円弧の終わりに対
する接線によりサイクロンの第１のシェル部分１ａ，１ｂとサイクロンの脚部１
ｃとに幾何学的に接続されている。従来技術によれば、円錐形部分１ｂとサイク
ロンの脚部１ｃとの間の接続部において前述の面積減少が断続的であった。本発
明の目的はこのような断続性を排除することである。
本発明の代替的な変形においては、円錐部分１ｂが省かれている。この場合、
遷移部分１ｄと円筒形部分１ａとの間の接続は何ら中間的な部分、この場合は円
錐部分１ｂを用いずに行われている。更に別の代替例においては、サイクロンは
該サイクロンをより簡単に、かつより安価にするために、円錐形部分１ｂを備え
たり、あるいは備えずに、遷移部分１ｄとサイクロンの脚部１ｃとの間に下方の
円錐形部分を備えたものとして設計されている。しかしながら、これは好適実施
例ではない。
清浄されたガスはサイクロンの頂部で第２の出口１１によりサイクロンから排
出される。
第２図の線図はガスがサイクロンの種々の部分を流れるときにガスの流速４が
変動する態様を示す。この線図から、なかんずくガスがサイクロン１の遷移部分
１ｄを流れるとき、流速が一定に、かつ比較的低く保たれていることが明らかで
ある。同じ線図における曲線５はサイクロンの種々の部分における浸蝕の大きさ
を示す。この浸蝕曲線から、浸蝕はサイクロンのテーパ部分において最大でない
ことが読み取れ、これは浸蝕が低レベルに保たれ、かつより大きい面に分配され
ていることを意味する。この説明した実施例においては、ガスの流れとガス中の
粒子との間の前述の相対速度は発生せず、その結果、火災の危険性が著しく低下
し、また前述のように浸蝕作用も減少させる。
遷移部分１ｄにおけるシェル面の材質は例えば、鋳鉄のような硬質の材料が好
ましい。サイクロン１における浸蝕に対する抵抗性の更なる改良は遷移部分１ｄ
を主としてセラミックによりライニングすることにより達成される。全ての部分
や面は絶対的に均一な面構造を取得するように機械加工される。サイクロン１の
種々の部分は接続部や空隙を最小にするために一緒にして機械加工される。
第５図によれば、遷移部分１ｄでサイクロン１は耐摩耗、耐熱および耐浸蝕性
の材料でライニングすればよい。ライニング６は気密のケーシング内側に配置さ
れる。その場合、ケーシング７はより単純で安価な構造のものとし得る。ケーシ
ング７はフランジ８によりサイクロン１の下方の円錐部分１ｂに接続される。フ
ランジ８は溶接フランジから構成してよく、あるいは他の何らかの方法により接
合すればよい。この意図するところは、内側ライニング６を備えたケーシング７
は保守作業のために容易に取り外し出来るようにすることである。ライニング６
はセラミックあるいは例えば、白色鋳鉄のような、何らかのその他の硬質材料か
ら作り、遷移部分１ｄに関して上述したような内部形状を有する。ライニング６
は６ａ−６ｃの部分のような任意の数、あるいは全体で１枚から構成する。ライ
ニングを部分で構成する場合、それらの部分にはフランジ９を備えさせ、種々の
接続が出来るようにする。ライニング部分６、６ａ−６ｃは代替的に、相互の上
に緩く積み重ねスエーデン国特許願第９００２９２４号に記載のような環状に配
置された支持点により支持させることが出来る。ライニング６とケーシング７と
の間には、空隙１０があり、これは、閉鎖するかあるいはライニング６および（
または）ケーシング７を冷却するために冷却空気が空隙１０を循環するようにし
得るよう配置すればよい。
本発明によるサイクロンの設計に関わる欠点はより高い投資コストをもたらす
ということであるが、これは、保守作業と要素交換との間の期間が長くて、作動
上のトラブルの危険性が大きく低下という形態で急速に元がとれる。
【手続補正書】特許法第１８４条の８第１項
【提出日】１９９６年１１月２５日
【補正内容】
請求の範囲
１．高温のガスから粒子を分離するサイクロン（１）であって、第１の円筒形
シェル部分（１ａ，１ｂ）と第２の円筒形部分（１ｃ）とからなるシェルを有し
、第１のシェル部分が円形断面で、これも円形断面を有する第２のシェル部分よ
りも面積が大きく、第１のシェル部分（１ａ）は高温の未清浄のガス用の接線方
向に配置された入口（２）と、清浄にされたガスのための出口（１１）とを有し
、一方第２のシェル部分（１ｃ）はその一端において分離された材料用の出口（
３）を有し、円形断面の第３のシェル部分は第１と第２のシェル部分の間で遷移
部分（１ｄ）を構成しているサイクロンにおいて、前記遷移部分（１ｄ）が第１
のシェル部分（１ｄ）が第１のシェル部分（１ａ，１ｂ）の断面積から第２のシ
ェル部分（１ｃ）の断面積まで断面積において不連続性がなく均一で連続した面
積減少を示しており、かつ遷移部分（１ｄ）と第２のシェル部分（１ｃ）との間
の少なくとも連結部が面積減少の不連続性がなく形成されており、遷移部分のシ
ェル面が二重曲線であることを特徴とする高温ガスから粒子を分離するサイクロ
ン。
２．第１のシェル部分が円筒形部分（１ａ）を含み、前記円筒形部分が円錐形
部分（１ｂ）へ変化し、そのため第１のシェル部分の円錐部分が遷移部分（１ｄ
）に接続されることを特徴とする請求の範囲第１項に記載のサイクロン。
３．前記遷移部分（１ｄ）が、本サイクロンの対称軸の周りで１回転した円弧
によって形成される回転面として構成されたシェルから構成され、遷移部分（１
ｄ）が、回転の間の円弧の夫々、各位置において、第１のシェル部分（１ａ，１
ｂ）と第２のシェル部分（１ｃ）の母線と一致する回転円弧の端部に対する接線
により、それぞれサイクロンの第１のシェル部分（１ａ，１ｂ）と第２のシェル
部分（１ｄ）とに接続されていることを特徴とする請求の範囲第１項および第２
項のいずれかに記載のサイクロン。
４．遷移部分（１ｄ）が旋削、フライス加工あるいはレーザ加工により機械加
工されて凸凹が無いことを特徴とする、請求の範囲第３項に記載のサイクロン。
５．遷移部分（１ｄ）が本サイクロンのケーシング（７）に対する内側ライニ
ング（６）であることを特徴とする請求の範囲第１項から第４項までのいずれか
１項に記載のサイクロン。
６．前記ライニング（６）が軸線方向にチューブ上部分（６ａ−６ｃ）に分割
されていることを特徴とする請求の範囲第５項に記載のサイクロン。
７．前記ライニングが例えば、セラミックあるいは白色鋳鉄のような、耐熱お
よび対浸蝕性材料から作られていることを特徴とする請求の範囲第５項あるいは
第６項に記載のサイクロン。