JPH1049687A - 画像処理装置及びその方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 多値情報を有するイメージ画像からベクトル
化された図形で構成されたイメージ画像を作成する際
に、操作者が所望するようなベクトル化が施されない場
合が多く、ひいては作成されたイメージ画像の画質が低
下してしまうことがあった。 【解決手段】 方向エッジ検出部１１３において多値情
報を有するイメージ画像からそのエッジ情報を検出す
る。また、ユーザ指定処理部１１４において操作者はベ
クトル化の基準となる図形を指定し、かつ、多値情報を
有するイメージ画像におけるベクトル化の対象図形（領
域）を指示する。そして標本点選定部１１５において、
指定されたベクトル化対象図形から標本点画素を選定
し、図形近似部１１６において該標本点を前記ベクトル
化基準図形に近似することにより、ベクトル化が施され
る。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は画像処理装置及びそ
の方法に関し、例えば、多値情報を有する画像からベク
トル化された図形で構成される画像を作成する画像処理
装置及びその方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】一般に、イメージスキャナや電子スチー
ルカメラ等の画像入力装置から入力された画像は、該画
像を構成する各画素が階調等の多値情報を有しているた
め、かかる画像を記憶保持するために大容量の記憶装置
が必要であった。

【０００３】従って、例えば文書作成装置を利用して文
書を作成する際に、該文書中に複数枚のイメージ画像を
挿入したいという要求が発生した場合でも、これらのイ
メージ画像が多値情報を有する画像であった場合には、
挿入したい全てのイメージ画像を記憶するに十分な記憶
装置の容量が確保できないことから、実現が困難な場合
がある。

【０００４】また、前記画像入力装置から入力されたイ
メージ画像には、該画像中において重要である対象物の
画像情報の他に、影や背景等の余分な画像情報が含まれ
ている。従って、該イメージ画像において重要な対象物
が視認しにくいという問題点があった。

【０００５】これに対し、ベクトル化された図形で構成
されたイメージ画像は、データ量が少なく、また余分な
情報を含んでいないため、対象物を視認し易いという特
徴がある。ここでベクトル化された図形とは、数式表現
された直線や曲線、円弧、多角形等を指す。

【０００６】そこでイメージ画像を取り扱う際に、記憶
容量を削減したい場合や、必要な対象物情報のみを扱い
たい場合には、多値情報を有するイメージ画像を使用す
るのではなく、かかる画像に基づいてベクトル化された
図形で構成されたイメージ画像を作成し、多値情報を有
するイメージ画像に代えて使用することが有効である。

【０００７】以上説明した様に、多値情報を有するイメ
ージ画像から、ベクトル化された図形で構成されたイメ
ージ画像を作成する従来の方法を以下に示す。

【０００８】まず、多値情報を有するイメージ画像にお
いて、近隣画素間の明暗あるいは色相の差に基づいて輪
郭を抽出し、次に抽出された輪郭画像を細線化して線画
図形を得る。そして該線画図形を数式表現された直線や
曲線に自動的に近似する自動ベクトル化処理を施す。こ
れにより、ベクトル化された図形で構成されたイメージ
画像を得ることができる。

【０００９】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら上記従来
の方法によれば、自動ベクトル化処理によって自動的に
ベクトル化が行われるため、例えば１本の線（ベクト
ル）で表現したい部分が複数の線（ベクトル）の組合せ
で表現されていたり、また、曲線で表現したい部分が直
線で表現されていたりする等、ユーザが所望するような
ベクトル化が施されない場合が多く、ひいては作成され
たイメージ画像の画質が低下してしまうことがあった。

【００１０】本発明は、上述した課題を解決するために
なされたものであり、多値情報を有するイメージ画像に
基づいて、ユーザの所望する様な高精度なベクトル化が
なされた図形で構成されるイメージ画像を作成すること
を可能とする画像処理装置及びその方法を提供すること
を目的とする。

【００１１】

【課題を解決するための手段】上述した目的を達成する
ための一手段として、本発明の画像処理装置は以下の構
成を備える。

【００１２】即ち、多値情報を有する画像のエッジ情報
を検出するエッジ検出手段と、ベクトル化の基準となる
図形の種類を指定する基準図形指定手段と、前記多値情
報を有する画像においてベクトル化対象となる図形を指
定する対象図形指定手段と、前記基準図形及び前記エッ
ジ情報に基づいて前記対象図形からベクトル化に使用さ
れる標本点画素を選定する標本点選定手段と、前記基準
図形及び前記標本点画素に基づいて前記対象図形のベク
トル化を行うベクトル化手段とを有することを特徴とす
る。

【００１３】例えば、前記基準図形指定手段は、ベクト
ル化対象となる図形として直線を指定可能であることを
特徴とする。

【００１４】例えば、前記基準図形指定手段は、ベクト
ル化対象となる図形として円弧を指定可能であることを
特徴とする。

【００１５】例えば、前記基準図形指定手段は、ベクト
ル化対象となる図形としてベジェ曲線を指定可能である
ことを特徴とする。

【００１６】例えば、前記対象図形指定手段は、ベクト
ル化対象となる図形の近傍画素を指定することを特徴と
する。

【００１７】例えば、前記標本点選定手段は、前記対象
図形指定手段によって指定された近傍画素から標本点画
素を選定することを特徴とする。

【００１８】例えば、前記エッジ検出手段は、前記多値
情報を有する画像の各画素毎にエッジ強度として近隣画
素との明暗差を検出することを特徴とする。

【００１９】例えば、前記エッジ検出手段は、前記多値
情報を有する画像の各画素毎にエッジ強度として近隣画
素との色相差を検出することを特徴とする。

【００２０】例えば、前記対象図形指定手段は、ベクト
ル化対象となる図形の近傍画素を指定し、前記標本点選
定手段は、前記近傍画素のうち、前記エッジ強度が所定
値以上である画素を標本点として選定することを特徴と
する。

【００２１】更に、前記エッジ検出手段は、前記多値情
報を有する画像の各画素毎にエッジ方向を検出すること
を特徴とする。

【００２２】例えば、前記標本点選定手段は、前記近傍
画素のうち、前記エッジ方向が特定の方向である画素を
標本点として選定することを特徴とする。

【００２３】例えば、前記特定の方向は、前記対象図形
指定手段によって指定されたベクトル化対象となる図形
の近傍画素に基づいて算出されることを特徴とする。

【００２４】また、上述した目的を達成するための一手
法として、本発明の画像処理方法は以下の工程を備え
る。

【００２５】即ち、多値情報を有する画像のエッジ情報
を検出するエッジ検出工程と、ベクトル化の基準となる
図形の種類を指定する基準図形指定工程と、前記多値情
報を有する画像においてベクトル化対象となる図形を指
定する対象図形指定工程と、前記基準図形及び前記エッ
ジ情報に基づいて前記対象図形からベクトル化に使用さ
れる標本点画素を選定する標本点選定工程と、前記基準
図形及び前記標本点画素に基づいて前記対象図形のベク
トル化を行うベクトル化工程とを有することを特徴とす
る。

【００２６】

【発明の実施の形態】以下、本発明に係る一実施形態に
ついて、添付図面を参照して詳細に説明する。

【００２７】図１は本実施形態を適用する画像処理装置
の構成を示すブロック図である。

【００２８】本実施形態の画像処理装置においては、多
値情報を有するイメージ画像（以降、多値画像と称す
る）から、ベクトル化された図形で構成されるイメージ
画像（以降、ベクトル画像と称する）を作成することが
可能である。

【００２９】図１において、１０１は本体制御部であ
る。本体制御部１０１には中央処理装置（ＣＰＵ）１０
１ａおよびメインメモリ１０１ｂが備えられている。こ
の本体制御部１０１がシステムバス１１１を介して、デ
ィスプレイ制御部１０２、画像入力装置制御部１０５、
キーボード／マウス制御部１０８、ディスク制御部１０
９の各入出力制御部に接続されており、これら各入出力
制御部を介して、ディスプレイ１０３、画像入力装置１
０４、キーボード１０６、マウス１０７、ディスク装置
１１０等の入出力装置が接続されている。

【００３０】上述した本体制御部１０１の詳細ブロック
構成を図２に示し、以下説明する。図２において、１１
２は画像入力装置制御部１０５を介して画像入力装置１
０４から画像を入力するための画像入力処理部、１１３
は入力された多値画像に方向エッジ検出を施す方向エッ
ジ検出部である。１１４は、キーボード／マウス制御部
１０８を通じて、キーボード１０６、マウス１０７によ
るユーザの入力を制御して、ユーザによる図形の種類の
指定、およびベクトル化したい図形の指定を制御するユ
ーザ指定処理部である。１１５は、ユーザの指定した図
形の種類およびユーザの指定した画素の位置情報、およ
び方向エッジの情報に基づいて、図形近似のための標本
点とする画素を選定する標本点選定部であり、１１６
は、ユーザの指定した図形の種類の情報と標本点選定部
１１５で選ばれた標本点に基づいて、図形近似を行う図
形近似部である。

【００３１】これら図２に示す各構成において実現され
る機能は、本体制御部１０１内のメインメモリ１０１ｂ
に制御プログラムとして格納されており、該プログラム
がＣＰＵ１０１ａで実行される。

【００３２】図３に、本実施形態の特徴である、多値画
像からベクトル画像を作成する処理概要のフローチャー
トを示す。

【００３３】まずステップＳ２０１において、画像入力
処理部１１２は画像入力装置１０４から多値画像を読み
込み、ディスク装置１１０に記憶する。尚、ディスク装
置１１０に既に処理対象となる画像が格納されている場
合には、ステップＳ２０１はもちろん省略することがで
きる。

【００３４】次にステップＳ２０２に進み、ディスク装
置１１０に格納された多値画像に対して、方向エッジ検
出部１１３において方向エッジ検出処理を施す。ここで
方向エッジ検出処理とは、近隣画素間の明暗の差である
エッジの強さとともに、エッジの方向も同時に検出する
手法である。本実施形態においては、最適あてはめによ
るエッジ検出と呼ばれる手法を用いてエッジ検出を実現
する。最適あてはめによるエッジ検出は、例えば「コン
ピュータ画像処理入門（ｐ．１２２）」（田村秀行監
修、総研出版）に詳細に記載されている。

【００３５】また本実施形態のエッジ検出においては、
図４に矢印で示す８通りのエッジ方向を検出する。尚、
図４においてエッジ方向を示す矢印の向きは、明暗値の
低い部分から高い部分への方向を示す。本実施形態にお
いては、画素ｘにおけるエッジの方向をDir(x)で表し、
図４に示す様に、該方向が８本の矢印のどれに対応する
かによって、それぞれのDir(x)の値を定めた。

【００３６】このように、方向エッジ検出部１１３で得
られた多値画像の各画素におけるエッジの強さ及びDir
(x)の値は、ディスク装置１１０に記憶される。

【００３７】次にステップＳ２０３において、ベクトル
化を行う基準図形の種類（ベクトル化基準図形）をユー
ザが指定する。本実施形態では、「直線」，「円弧」，
「ベジェ曲線」の３通りの基準図形により、ベクトル化
を行うことが可能であるとした。またこのとき、ディス
プレイ１０３には図５に示す様な基準図形の種類を選択
するアイコン４０１，４０２，４０３が表示されてお
り、ユーザは、直線を基準としてベクトル化したい場合
には「直線」のアイコン４０１を選択し、円弧を基準と
してベクトル化したい場合には「円弧」のアイコン４０
２を選択し、ベジェ曲線を基準としてベクトル化したい
場合には「ベジェ曲線」のアイコン４０３を選択する。

【００３８】そして次にステップＳ２０４において、ユ
ーザはベクトル化を施す対象となるベクトル化対象図形
を指定する。このとき図５に示す様に、ディスプレイ１
０３には多値画像４０４が表示されており、ユーザはこ
の多値画像上でベクトル化したい図形をベクトル対象図
形として指定する。但し、図５における多値画像４０４
は、電子スチールカメラ等で撮影した自然画像を示して
いるものとする。

【００３９】以下、ステップＳ２０４におけるベクトル
対象図形の指定方法について説明する。まず、前段のス
テップＳ２０３において、ベクトル化基準図形として
「直線」が選択された場合には、ベクトル化したい輪郭
や線の始点及び終点の近傍の任意の画素を、ユーザがマ
ウス１０７等のポインティングデバイスを使用して指定
することにより、ベクトル化対象図形が指定できる。こ
の指定例を図６に示す。図６において、多値画像４０４
で表現されたカップの左側輪郭部分を直線でベクトル化
しようとした場合、「×」印が付された位置に対応する
画素が、即ちユーザが指定した輪郭の始点及び終点であ
る。このように、ユーザはベクトル化対象図形の始点と
終点を必ずしも正確に指定する必要はない。

【００４０】一方、ステップＳ２０３でベクトル化基準
図形として「円弧」あるいは「ベジェ曲線」が選択され
た場合には、ベクトル化したい輪郭や線の近傍の任意の
画素を、ユーザがポインティングデバイスを使用してな
ぞる様に指定する。この指定例を図７に示す。図７にお
いて、多値画像４０４で表現されたカップの下側輪郭を
示す円弧部分が、ユーザによって例えば点線で示す様に
なぞられる。このように、ユーザはベクトル化対象図形
を正確になぞる必要はない。

【００４１】またステップＳ２０４においては、ユーザ
によるベクトル化対象図形の指定と同時に、後段のステ
ップＳ２０５で行なう標本点の選定処理の際に使用する
指定画素配列 Ind[i]（iは配列の要素番号）を作成す
る。そして、作成された指定画素配列をディスク装置１
１０に格納する。

【００４２】以下、ステップＳ２０４におけるベクトル
対象図形の指定方法について説明する。まず、前段のス
テップＳ２０３において、ベクトル化基準図形として
「直線」が選択された場合には、指定画素配列の内容
は、ユーザが始点として指定した画素を Ind[0] とす
る。そして、該画素及び終点として指定した画素を端点
とする直線上にある画素について、Ind[0]で示される画
素（始点）に近い順に、Ind[1]，Ind[2]，…，Ind[M]
とする。即ち、Ind[M]はユーザが終点として指定した画
素であり、Ｍは指定画素配列中に存在する画素数であ
る。

【００４３】一方、ステップＳ２０３でベクトル化基準
図形として「円弧」あるいは「ベジェ曲線」が選択され
た場合には、指定画素配列の内容は、ユーザがなぞった
画素の順に、Ind[0]，Ind[1]，…，Ind[M] とする。即
ち、Ｍは指定配列画素配列中に存在する画素数である。

【００４４】以上説明した様にステップＳ２０４におい
てベクトル化対象図形の指定、及び指定画素配列の作成
が終了すると、次に処理はステップＳ２０５に進み、標
本点の選定処理を行う。即ち、ステップＳ２０４で指定
された指定画素配列に基づいて、後段のステップＳ２０
６で行なう図形の近似処理において使用する画素を選
ぶ。

【００４５】以下、ステップＳ２０５における標本点選
定処理について詳細に説明する。

【００４６】図８に、ステップＳ２０３でベクトル化基
準図形として「直線」あるいは「円弧」が選択された場
合の、標本点の選定処理のフローチャートを示す。図８
において、Ｋは指定画素配列における間引き数を表す所
定の正の整数であり、Ｒは２つの画素間の距離を表す所
定の正の整数である。

【００４７】まずステップＳ７０１において、画素番号
を示す変数ｊを「０」に初期化し、ステップＳ７０２で
下式に従って変数ｎを算出する。

【００４８】 ｎ＝ｊ×Ｋ (ｊ×Ｋ＜＝Ｍ) ・・・（１） ｎ＝Ｍ (ｊ×Ｋ＞Ｍ) ・・・（２） そしてステップＳ７０３において、エッジ方向を示す変
数 DirLmt1 及び DirLmt2 を定める。以下、DirLmt1 及
び DirLmt2 を求める方法について説明する。

【００４９】まず、以下に示すCASE1〜CASE3 の規則に
従って、ベクトル始点を示す画素ｘ0（以下、始点画
素），及びベクトル終点を示す画素ｘ1（以下、終点画
素）を求める。

【００５０】 CASE1 ｎ＝０の場合： ｘ0＝Ind[0]，ｘ1＝Ind[K] CASE2 ｎ＝Ｍの場合： ｘ0＝Ind[(J-1)×K]，ｘ1＝Ind[M] CASE3 CASE1，CASE2以外の場合： ｘ0＝Ind[(J-1)×K]，ｘ1＝Ind[(J+1)×K] 次に、図９に示す座標平面上に、得られた終点画素ｘ1
をプロットする。図９は、始点画素ｘ0を原点として水
平方向の画素位置ｘ及び垂直方向の画素位置ｙを示す座
標平面である。従って、終点画素ｘ1は、多値画像中の
始点画素ｘ0に対する相対位置にプロットされる。例え
ば、画像中において終点画素ｘ1が始点画素ｘ0から右方
向に３０画素、上方向に１０画素の位置にあれば、終点
画素ｘ1は図９に示す座標平面上のｘ＝３０，ｙ＝１０
の位置にプロットされる。

【００５１】図９に示すの座標平面は、以下の４式で示
される４本の直線によって８領域に分割されている。

【００５２】ｙ＝２ｘ， ｙ＝０．５ｘ， ｙ＝−０．５ｘ， ｙ＝−２ｘ そして、図９の座標平面上において終点画素ｘ1 がプロ
ットされた位置が８領域中のどの領域に属しているかに
よって、図に示す様に DirLmt1 及び DirLmt2を定め
る。例えば、終点画素ｘ1 がｘ＝３０，ｙ＝１０の位置
にプロットされた場合、図９によれば DirLmt1＝０，Di
rLmt2＝４として決定される。

【００５３】図８に戻り、続いて処理はステップＳ７０
４に進み、標本点を決定する。具体的には、画素 Ind
[n] から半径Ｒ以内にある画素の中で、該画素のエッジ
方向 Dir(x) が DirLmt1 あるいは DirLmt2 に等しいも
のだけを抽出し、標本点とする。そして、得られた標本
点はディスク装置１１０に記憶される。

【００５４】このように、標本点を特定のエッジ方向を
有する画素のみに限定することによって、不必要な画素
が標本点として抽出されないため、後段の図形近似処理
における精度を高めることができる。

【００５５】標本点が決定されると、次にステップＳ７
０５で変数ｊをインクリメントし、ステップＳ７０６で
(ｊ−１)×Ｋ＜Ｍであれば、ステップＳ７０２に戻っ
て、指定画素配列における次の画素について同様の処理
を繰り返す。

【００５６】一方、ステップＳ７０６で(ｊ−１)×Ｋ＝
＞ＭであればステップＳ７０７に進み、得られた標本点
からノイズによるものを除去する。即ち、ステップＳ７
０４で得られた標本点のうち、エッジの強さが所定の閾
値よりも小さいものを検出し、該標本点を除去する。

【００５７】以上説明したように、図８に示す手順に従
って標本点が選定される。

【００５８】尚、図８は、ベクトル化基準図形として
「直線」あるいは「円弧」が選択された場合の標本点の
選定処理のフローチャートであった。ステップＳ２０３
でベクトル化基準図形として「ベジェ曲線」が選択され
た場合には、図１０に示すフローチャートに従って、標
本点が選定される。

【００５９】図１０においてステップＳ９０１〜Ｓ９０
３は上述した図８におけるステップＳ７０１〜Ｓ７０３
と同様であるが、ステップＳ９０４において、ステップ
Ｓ７０４と同様の方法で得られる標本点のうち、更にエ
ッジの強さが最大となる画素のみを標本点とすることを
特徴とする。そして、ステップＳ７０７のノイズ除去処
理を行わない。

【００６０】図３に戻り、ステップＳ２０５で以上説明
した様にして標本点が選定されると、次にステップＳ２
０６の図形近似処理を行う。ここで図形近似処理とは、
ステップＳ２０３でユーザが指定したベクトル化基準図
形、及びステップＳ２０５で得られた標本点に基づい
て、近似図形によるベクトル化を行うことである。即
ち、標本点をベクトル化基準図形と同種の数式で表現可
能な図形に近似する。以下、この図形近似処理（ベクト
ル化処理）について説明する。

【００６１】ステップＳ２０３においてベクトル化基準
図形として「直線」あるいは「円弧」が選択された場合
には、ステップＳ２０５において図８のフローチャート
に従って求めた標本点を用いて、最小２乗法によるベク
トル化を行なう。

【００６２】一方、ステップ２０３でベクトル化基準図
形として「ベジェ曲線」が選択された場合には、ステッ
プＳ２０５において図１０のフローチャートに従って求
めた標本点を、ベジェ曲線で順番に結ぶことによってベ
クトル化を行なう。

【００６３】このようにステップＳ２０６でベクトル化
された図形は、ディスプレイ１０３上で、図５に示した
画像４０４に重ねて表示される。従って、画像４０４に
おいて、どの図形が既にベクトル化されたかをユーザが
確認することができる。また同時に、ステップＳ２０６
でベクトル化された図形における各パラメータは、ディ
スク装置１１０に保持される。

【００６４】以上説明した様にステップＳ２０３〜Ｓ２
０６で、一つのベクトル化対象図形のベクトル化処理が
行われる。従って、ステップＳ２０７で更に他の図形を
ベクトル化する場合にはステップＳ２０３に戻る。

【００６５】このようにして、画像４０４において所望
する全ての画像についてベクトル化処理を施す事によ
り、ディスク装置１１０にユーザの所望する正確なベク
トル画像が少ない容量で格納される。もちろん、各ベク
トル画像毎にベクトル化基準図形が異なっていても良
い。

【００６６】以上説明した様に本実施形態によれば、ユ
ーザが多値画像上でベクトル化対象図形及びベクトル化
基準図形を指示することによって、ユーザの所望する通
りのベクトル化が行わる。従って、高品質のベクトル画
像を生成することができる。

【００６７】また、ユーザはベクトル化対象図形を正確
に指示する必要がないため、所望する多値画像をベクト
ル化対象図形として容易に指定することができる。

【００６８】また、ノイズを含む画素を除去したベクト
ル化を行うことにより、高精度のベクトル化が可能とな
る。

【００６９】＜変形例１＞以下、上述した実施形態の一
変形例について説明する。

【００７０】上記実施形態においてステップＳ２０２で
説明した方向エッジ検出過程では、近隣画素間の明暗の
差をエッジの強さとして算出する例について説明した。

【００７１】しかしながら、画素間の明暗の差は小さい
が、色相が大きく異なるような場合も輪郭線として考え
られる。このような場合を考慮して、エッジ検出の過程
で近隣画素間の明暗の差に加えて色相の差も算出し、両
者にある比重を掛け合わせた上で、大きい方をその画素
におけるエッジの強さとすることも可能である。こうす
ることにより、明暗の差は小さいが色相の差が大きいと
いう特徴を有する輪郭線部も、高精度にベクトル化する
ことが可能となる。

【００７２】＜変形例２＞以下、上述した実施形態の第
２の変形例について説明する。

【００７３】上記実施形態においてステップＳ２０５で
説明した標本点選定過程では、パラメータＲを２つの画
素間の距離を表す固定値として説明を行なった。ここ
で、このパラメータＲを例えばキーボード１０６よりユ
ーザが任意に変更可能とすることも可能である。

【００７４】これにより、ユーザがベクトル化対象図形
を指定する際に、該対象図形の周囲に不要な輪郭や線が
存在しない場合には、Ｒの値を大きく設定することによ
り大まかな指定が可能となる。逆に、ベクトル化対象図
形の周囲に別の輪郭や線が存在する場合には、Ｒの値を
小さく設定することにより正確な指定か可能となる。

【００７５】このように、ベクトル対象図形の状況に応
じたきめの細かいユーザインターフェースを提供するこ
とが可能となる。

【００７６】＜他の実施形態＞尚、本発明は、複数の機
器（例えばホストコンピュータ，インタフェース機器，
リーダ，プリンタ等）から構成されるシステムに適用し
ても、１つの機器からなる装置（例えば、複写機やファ
クリミリ装置等）に適用しても良い。

【００７７】また、本発明の目的は、上述した実施形態
の機能を実現するソフトウェアのプログラムコードを記
録した記憶媒体を、システムあるいは装置に供給し、該
システム或は装置のコンピュータ（又はＣＰＵやＭＰＵ
等）が記憶媒体に格納されたプログラムコードを読み出
し、実行することによっても達成できることは言うまで
もない。

【００７８】この場合、記憶媒体から読み出されたプロ
グラムコード自体が上述した実施形態の機能を実現する
ことになり、該プログラムコードを格納した記憶媒体は
本発明を構成することになる。

【００７９】尚、プログラムコードを供給するための記
憶媒体としては、例えばフロッピディスク，ハードディ
スク，光ディスク，光磁気ディスク，ＣＤ−ＲＯＭ，Ｃ
Ｄ−Ｒ，磁気テープ，不揮発性のメモリカード，ＲＯＭ
等を用いることができる。

【００８０】また、コンピュータが読み出したプログラ
ムコードを実行することにより、上述した実施形態の機
能が実現されるだけでなく、該プログラムコードの指示
に基づき、コンピュータ上で稼動しているＯＳ等が実際
の処理の一部又は全部を行い、その処理によって上述し
た実施形態の機能が実現される場合も含まれることは言
うまでもない。

【００８１】更に、記憶媒体から読み出されたプログラ
ムコードが、コンピュータに挿入された機能拡張ボード
やコンピュータに接続された機能拡張ユニットに備わる
メモリに書き込まれた後、該プログラムコードの指示に
基づき、該機能拡張ボードや機能拡張ユニットに備わる
ＣＰＵ等が実際の処理の一部又は全部を行い、その処理
によって上述した実施形態の機能が実現される場合も含
まれることは言うまでもない。

【００８２】

【発明の効果】以上説明したように本発明によれば、ユ
ーザが多値画像上でベクトル化対象図形及びベクトル化
基準図形を指示することによって、多値情報を有するイ
メージ画像に基づいて、ユーザの所望するベクトル化が
なされた図形で構成されたイメージ画像を作成すること
が可能となる。

【００８３】また、ユーザはベクトル化対象図形を正確
に指示する必要がないため、所望する多値画像をベクト
ル化対象図形として容易に指定することができる。

【００８４】また、ノイズを含む画素を除去したベクト
ル化を行うことにより、高精度のベクトル化が可能とな
る。

【００８５】

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明に係る一実施形態における画像処理装置
の全体構成を示すブロック図である。

【図２】本実施形態における本体制御部の詳細構成を示
すブロック図である。

【図３】本実施形態におけるベクトル化処理を示すフロ
ーチャートである。

【図４】本実施形態における方向エッジ検出の際のエッ
ジ方向を示す図である。

【図５】本実施形態における表示画面例を示す図であ
る。

【図６】本実施形態において直線でベクトル化する際の
ベクトル化対象図形の指定方法を示す図である。

【図７】本実施形態において円弧でベクトル化する際の
ベクトル化対象図形の指定方法を示す図である。

【図８】本実施形態において直線あるいは円弧でベクト
ル化する際の標本点選定処理を示すフローチャートであ
る。

【図９】本実施形態におけるベクトル化の際に画素位置
を示すために使用される座標空間を示す図である。、

【図１０】本実施形態においてベジェ曲線でベクトル化
する際の標本点選定処理を示すフローチャートである。

【符号の説明】

１０１ 本体装置 １０１ａ 中央処理装置（ＣＰＵ） １０１ｂ メインメモリ １０２ ディスプレイ制御部 １０３ ディスプレイ １０４ 画像入力装置 １０５ 画像入力装置制御部 １０６ キーボード １０７ マウス １０８ キーボード／マウス制御部 １０９ ディスク制御部 １１０ ディスク装置 １１１ システムバス １１２ 画像入力処理部 １１３ 方向エッジ検出部 １１４ ユーザ指定処理部 １１５ 標本点選定部 １１６ 図形近似部

フロントページの続き (72)発明者 浅田 聡 東京都大田区下丸子３丁目30番２号 キヤ ノン株式会社内 (72)発明者 中村 卓 東京都大田区下丸子３丁目30番２号 キヤ ノン株式会社

Claims (24)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 多値情報を有する画像のエッジ情報を検
   出するエッジ検出手段と、 ベクトル化の基準となる図形の種類を指定する基準図形
   指定手段と、 前記多値情報を有する画像においてベクトル化対象とな
   る図形を指定する対象図形指定手段と、 前記基準図形及び前記エッジ情報に基づいて前記対象図
   形からベクトル化に使用される標本点画素を選定する標
   本点選定手段と、 前記基準図形及び前記標本点画素に基づいて前記対象図
   形のベクトル化を行うベクトル化手段と、を有すること
   を特徴とする画像処理装置。
2. 【請求項２】 前記基準図形指定手段は、ベクトル化対
   象となる図形として直線を指定可能であることを特徴と
   する請求項１記載の画像処理装置。
3. 【請求項３】 前記基準図形指定手段は、ベクトル化対
   象となる図形として円弧を指定可能であることを特徴と
   する請求項１記載の画像処理装置。
4. 【請求項４】 前記基準図形指定手段は、ベクトル化対
   象となる図形としてベジェ曲線を指定可能であることを
   特徴とする請求項１記載の画像処理装置。
5. 【請求項５】 前記対象図形指定手段は、ベクトル化対
   象となる図形の近傍画素を指定することを特徴とする請
   求項１記載の画像処理装置。
6. 【請求項６】 前記標本点選定手段は、前記対象図形指
   定手段によって指定された近傍画素から標本点画素を選
   定することを特徴とする請求項５記載の画像処理装置。
7. 【請求項７】 前記エッジ検出手段は、前記多値情報を
   有する画像の各画素毎にエッジ強度として近隣画素との
   明暗差を検出することを特徴とする請求項１記載の画像
   処理装置。
8. 【請求項８】 前記エッジ検出手段は、前記多値情報を
   有する画像の各画素毎にエッジ強度として近隣画素との
   色相差を検出することを特徴とする請求項１記載の画像
   処理装置。
9. 【請求項９】 前記対象図形指定手段は、ベクトル化対
   象となる図形の近傍画素を指定し、 前記標本点選定手段は、前記近傍画素のうち、前記エッ
   ジ強度が所定値以上である画素を標本点として選定する
   ことを特徴とする請求項７又は８記載の画像処理装置。
10. 【請求項１０】 更に、前記エッジ検出手段は、前記多
    値情報を有する画像の各画素毎にエッジ方向を検出する
    ことを特徴とする請求項９記載の画像処理装置。
11. 【請求項１１】 前記標本点選定手段は、前記近傍画素
    のうち、前記エッジ方向が特定の方向である画素を標本
    点として選定することを特徴とする請求項１０記載の画
    像処理装置。
12. 【請求項１２】 前記特定の方向は、前記対象図形指定
    手段によって指定されたベクトル化対象となる図形の近
    傍画素に基づいて算出されることを特徴とする請求項１
    １記載の画像処理装置。
13. 【請求項１３】 多値情報を有する画像のエッジ情報を
    検出するエッジ検出工程と、 ベクトル化の基準となる図形の種類を指定する基準図形
    指定工程と、 前記多値情報を有する画像においてベクトル化対象とな
    る図形を指定する対象図形指定工程と、 前記基準図形及び前記エッジ情報に基づいて前記対象図
    形からベクトル化に使用される標本点画素を選定する標
    本点選定工程と、 前記基準図形及び前記標本点画素に基づいて前記対象図
    形のベクトル化を行うベクトル化工程と、を有すること
    を特徴とする画像処理方法。
14. 【請求項１４】 前記基準図形指定工程においては、ベ
    クトル化対象となる図形として直線を指定可能であるこ
    とを特徴とする請求項１３記載の画像処理方法。
15. 【請求項１５】 前記基準図形指定工程においては、ベ
    クトル化対象となる図形として円弧を指定可能であるこ
    とを特徴とする請求項１３記載の画像処理方法。
16. 【請求項１６】 前記基準図形指定工程においては、ベ
    クトル化対象となる図形としてベジェ曲線を指定可能で
    あることを特徴とする請求項１３記載の画像処理方法。
17. 【請求項１７】 前記対象図形指定工程においては、ベ
    クトル化対象となる図形の近傍画素を指定することを特
    徴とする請求項１３記載の画像処理方法。
18. 【請求項１８】 前記標本点選定工程においては、前記
    対象図形指定工程において指定された近傍画素から標本
    点画素を選定することを特徴とする請求項１７記載の画
    像処理方法。
19. 【請求項１９】 前記エッジ検出工程においては、前記
    多値情報を有する画像の各画素毎にエッジ強度として近
    隣画素との明暗差を検出することを特徴とする請求項１
    ３記載の画像処理方法。
20. 【請求項２０】 前記エッジ検出工程においては、前記
    多値情報を有する画像の各画素毎にエッジ強度として近
    隣画素との色相差を検出することを特徴とする請求項１
    ３記載の画像処理方法。
21. 【請求項２１】 前記対象図形指定工程においては、ベ
    クトル化対象となる図形の近傍画素を指定し、 前記標本点選定工程においては、前記近傍画素のうち、
    前記エッジ強度が所定値以上である画素を標本点として
    選定することを特徴とする請求項１９又は２０記載の画
    像処理方法。
22. 【請求項２２】 更に、前記エッジ検出工程において
    は、前記多値情報を有する画像の各画素毎にエッジ方向
    を検出することを特徴とする請求項２１記載の画像処理
    方法。
23. 【請求項２３】 前記標本点選定工程においては、前記
    近傍画素のうち、前記エッジ方向が特定の方向である画
    素を標本点として選定することを特徴とする請求項２２
    記載の画像処理方法。
24. 【請求項２４】 前記特定の方向は、前記対象図形指定
    工程において指定されたベクトル化対象となる図形の近
    傍画素に基づいて算出されることを特徴とする請求項２
    ３記載の画像処理方法。