JPH10338705A - プロピレン単独重合体の製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 溶融張力が高く、成形加工性に優れ、特に大
型ブロー成形や厚物発泡体などの成形に好適に用いられ
るプロピレン単独重合体を安価に、かつ効率よく製造す
る方法を提供すること。 【解決手段】 （Ａ）特定のメタロセン系重合触媒を用
い、極限粘度〔η〕が0.００８〜0.８デシリットル／ｇ
又は3.３〜２０デシリットル／ｇのプロピレン単独重合
体を製造する第一反応工程、及び（Ｂ）上記第一反応工
程で得られた反応混合物の存在下、プロピレンの重合を
行う第二反応工程を順次施すことにより、ＭＩが0.００
５〜１０００ｇ／１０分で、かつ溶融張力ＭＳと〔η〕
とが、式 ｌｏｇＭＳ≧3.１７×ｌｏｇ〔η〕−0.６８ の関係を満たすプロピレン単独重合体を製造する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明はプロピレン単独重合
体の製造方法の改良に関し、さらに詳しくは、溶融張力
が高く、成形加工性に優れ、特に大型ブロー成形，厚物
発泡体，シートなどの成形に好適に用いられるプロピレ
ン単独重合体を安価に、かつ効率よく製造する方法に関
するものである。

【０００２】

【従来の技術】従来、ポリプロピレンは、（１）剛性な
どの機械的強度が高く、そのバランスに優れる、（２）
化学的に安定で、耐候性に優れ、化学薬品などに侵され
にくい、（３）高融点で耐熱性に優れる、などの特性を
有することから、各種成形体、例えばフィルム，射出成
形体などとして、様々な分野において広く用いられてい
る。しかしながら、このポリプロピレンの利用分野をさ
らに拡大するには、押出成形特性の改良が必要である。
すなわち、ポリプロピレンは、溶融押出しの際、溶融張
力が小さいため、ドローダウンが発生しやすく、大型ブ
ロー成形体を製造するには限界があった。また、成形体
の軽量化，断熱性，制振性などの要求が高まり、耐熱性
を有するポリプロピレン発泡成形体が望まれているが、
従来のポリプロピレンでは、溶融張力が不足し、充分に
満足しうる発泡成形体を得ることができないのが実状で
あった。

【０００３】ところで、ポリプロピレンの溶融張力を改
良し、溶融加工性を向上させる方法としては、これま
で、（１）溶融張力の高い高分子量の高密度ポリエチレ
ンを混合する方法（特公平６−５５８６８号公報）、
（２）クロム系触媒によって製造される溶融張力の高い
高密度ポリエチレンを混合する方法（特開平８−９２４
３８号公報）、（３）一般的な高圧ラジカル重合法によ
り製造される低密度ポリエチレンを混合する方法、
（４）一般的なポリプロピレンに光照射することにより
溶融張力を高める方法、（５）一般的なポリプロピレン
に架橋剤や過酸化物の存在下、光照射することにより溶
融張力を高める方法、（６）一般的なポリプロピレンに
スチレンなどのラジカル重合性モノマーをグラフトする
方法、（７）プロピレンとポリエンを共重合させる方法
（特開平５−１９４７７８号公報、特開平５−１９４７
９号公報）などが試みられている。

【０００４】しかしながら、前記（１）〜（３）の方法
においては、溶融張力を高める成分の弾性率，強度，耐
熱性が不足するために、ポリプロピレン本来の特徴が損
なわれるのを免れない。また、前記（４）及び（５）の
方法においては、副反応として起こる架橋反応を制御す
ることが困難であって、ゲルの発生により外観不良や機
械特性に悪影響が生じる上、成形加工性を任意に制御す
ることに限界があり、制御範囲が狭いという問題があ
る。さらに、前記（６）の方法においては、ポリプロピ
レンの化学的安定性が損なわれ、しかもスチレン系のグ
ラフト体では樹脂リサイクル性に問題が生じ、また、前
記（７）の方法においては、溶融張力の改良効果が小さ
く、充分な効果が発揮されない上、ゲルの発生も懸念さ
れる。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】本発明は、このような
状況下で、溶融張力が高く、成形加工性に優れ、特にシ
ート，大型ブロー成形体や厚物発泡体などの成形に好適
に用いられるプロピレン単独重合体を安価に、かつ効率
よく製造する方法を提供することを目的とするものであ
る。

【０００６】

【課題を解決するための手段】本発明者らは、前記目的
を達成するために鋭意研究を重ねた結果、特定の触媒系
を用いて、所定の範囲の極限粘度を有するプロピレン単
独重合体を製造する第一反応工程、及び上記第一反応工
程で得られた反応混合物の存在下、プロピレンの重合を
行う第二反応工程を順次施し、メルトインデックスが所
定の範囲にあり、かつ溶融張力ＭＳと極限粘度〔η〕と
が特定の関係にあるプロピレン単独重合体を製造するこ
とにより、その目的を達成しうることを見出した。本発
明は、かかる知見に基づいて完成したものである。

【０００７】すなわち、本発明は、（１）（Ａ）（ａ）
インデニル骨格を有する周期律表４族の遷移金属化合物
と、（ｂ）（イ）アルミニウムオキシ化合物及び（ロ）
上記遷移金属化合物と反応してカチオンに変換しうるイ
オン性化合物の中から選ばれた少なくとも一種とを含有
してなる重合触媒を用い、テトラリン溶媒中、温度１３
５℃において測定した極限粘度〔η〕が0.００８〜0.８
デシリットル／ｇのプロピレン単独重合体を製造する第
一反応工程、及び（Ｂ）上記第一反応工程で得られた反
応混合物の存在下、プロピレンの重合を行う第二反応工
程を順次施すことを特徴とする、メルトインデックスが
0.００５〜１０００ｇ／１０分の範囲にあり、かつ温度
２３０℃において測定した溶融張力ＭＳ（ｇ）と、テト
ラリン溶媒中、温度１３５℃において測定した極限粘度
〔η〕（デシリットル／ｇ）とが、式 ｌｏｇＭＳ≧3.１７×ｌｏｇ〔η〕−0.６８ （Ｉ） の関係を満たすプロピレン単独重合体の製造方法、並び
に（２）（Ａ')前記（Ａ）工程と同様にして極限粘度
〔η〕が3.３〜２０デシリットル／ｇのプロピレン単独
重合体を製造する第一反応工程、及び（Ｂ）上記第一反
応工程で得られた反応混合物の存在下、プロピレンの重
合を行う第二反応工程を順次施すことを特徴とする、前
記と同様の性状を有するプロピレン単独重合体の製造方
法、を提供するものである。

【０００８】

【発明の実施の形態】本発明の方法における（Ａ）工程
及び（Ａ')工程である第一反応工程においては、重合触
媒として、（ａ）インデニル骨格を有する周期律表４族
の遷移金属化合物と、（ｂ）（イ）アルミニウムオキシ
化合物及び（ロ）上記遷移金属化合物と反応してカチオ
ンに変換しうるイオン性化合物の中から選ばれた少なく
とも一種とを含有するものが用いられる。前記（ａ）成
分のインデニル骨格を有する周期律表４族の遷移金属化
合物としては、例えば以下に示す化合物を好ましく挙げ
ることができる。 （１）下記一般式（II) で表されるインデニル骨格を有
する遷移金属化合物及びそれに対応する４，５，６，７
−テトラヒドロインデニル骨格を有する遷移金属化合物

【０００９】

【化３】

【００１０】この遷移金属化合物は、ヘキスト，ＢＡＳ
Ｆ型錯体として知られている化合物である。前記一般式
（II) において、Ｒ¹ 〜Ｒ¹²は、それぞれ水素原子，ハ
ロゲン原子，炭素数１〜２０の炭化水素基又は炭素数１
〜２０のハロゲン含有炭化水素基を示す。ここで、ハロ
ゲン原子としては、塩素，臭素，フッ素，ヨウ素原子が
挙げられる。炭素数１〜２０の炭化水素基としては、例
えばメチル基，エチル基，ｎ−プロピル基，イソプロピ
ル基，ｎ−ブチル基，イソブチル基，ｔｅｒｔ−ブチル
基，ｎ−ヘキシル基などのアルキル基、フェニル基，１
−ナフチル基，２−ナフチル基などのアリール基、ベン
ジル基などのアラルキル基などが挙げられ、また炭素数
１〜２０のハロゲン含有炭化水素基としては、上記炭化
水素基の水素原子の１個以上が適当なハロゲン原子で置
換された基が挙げられる。このＲ¹ 〜Ｒ ¹²は、たがいに
同一であっても異なっていてもよく、また、隣接する
基、すなわちＲ³ とＲ⁴ ，Ｒ⁴ とＲ⁵ , Ｒ⁵ とＲ⁶ , Ｒ
⁹ とＲ¹⁰，Ｒ¹⁰とＲ¹¹及びＲ¹¹とＲ ¹²は、それぞれたが
いに結合して環を形成していてもよい。このような環を
形成したインデニル基としては、例えば４，５−ベンゾ
インデニル基，α−アセナフトインデニル基及びその炭
素数１〜１０のアルキル置換体などを挙げることができ
る。

【００１１】Ｘ¹ 及びＸ² それぞれ水素原子，ハロゲン
原子又は炭素数１〜２０の炭化水素基を示す。ここで、
ハロゲン原子としては、塩素，臭素，フッ素，ヨウ素原
子が挙げられ、炭素数１〜２０の炭化水素基としては、
例えばメチル基，エチル基，プロピル基，イソプロピル
基，ｎ−ブチル基，ｔｅｒｔ−ブチル基，ｎ−ヘキシル
基などのアルキル基、フェニル基などのアリール基、ベ
ンジル基などのアラルキル基などが挙げられる。Ｘ¹ 及
びＸ² はたがいに同一であっても異なってもよい。

【００１２】Ｙは二つの配位子を結合する二価の基であ
って、炭素数１〜２０の炭化水素基，炭素数１〜２０の
ハロゲン含有炭化水素基，珪素含有基又はゲルマニウム
若しくはスズ含有基を示す。ここで、炭素数１〜２０の
二価の炭化水素基としては、例えばメチレン基；ジメチ
ルメチレン基；１，２−エチレン基；ジメチル−１，２
−エチレン基；１，４−テトラメチレン基；１，２−シ
クロプロピレン基などのアルキレン基，ジフェニルメチ
レン基などのアリールアルキレン基などが挙げられ、炭
素１〜２０の二価のハロゲン含有炭化水素基としては、
例えばクロロエチレン基，クロロメチレン基などが挙げ
られる。また、二価の珪素含有基としては、例えばメチ
ルシリレン基，ジメチルシリレン基，ジエチルシリレン
基，ジフェニルシリレン基，メチルフェニルシリレン基
などが挙げられる。さらに、ゲルマニウム含有基，スズ
含有基としては、上記珪素含有基において、珪素をゲル
マニウム，スズに変換した基を挙げることができる。Ｍ
はチタニウム，ジルコニウム又はハフニウムである。 （２）下記一般式（III)で表されるインデニル骨格を有
する遷移遷移金属化合物及びそれに対応する４，５，
６，７−テトラヒドロインデニル骨格を有する遷移金属
化合物

【００１３】

【化４】

【００１４】この遷移金属化合物は二重架橋型錯体であ
る。前記一般式（III)において、Ｍ ¹ はチタニウム，ジ
ルコニウム又はハフニウムである。また、Ｘ³ はσ結合
性の配位子を示し、Ｘ³ が複数ある場合、複数のＸ³ は
同じでも異なっていてもよく、他のＸ³ 又はＹ¹ と架橋
していてもよい。このＸ³ の具体例としては、ハロゲン
原子，炭素数１〜２０の炭化水素基，炭素数１〜２０の
アルコキシ基，炭素数６〜２０のアリールオキシ基，炭
素数１〜２０のアミド基，炭素数１〜２０の珪素含有
基，炭素数１〜２０のホスフィド基，炭素数１〜２０の
スルフィド基，炭素数１〜２０のアシル基などが挙げら
れる。一方、Ｙ¹ はルイス塩基を示し、Ｙ ¹ が複数ある
場合、複数のＹ¹ は同じでも異なっていてもよく、他の
Ｙ¹ 又はＸ ³ と架橋していてもよい。このＹ¹ の具体例
としては、アミン類，エーテル類，ホスフィン類，チオ
エーテル類などを挙げることができる。次に、Ａ¹ 及び
Ａ² はそれぞれ炭素数１以上の炭化水素基からなる架橋
基を示し、それらはたがいに同一でも異なっていてもよ
い。このような架橋基としては、例えば一般式

【００１５】

【化５】

【００１６】（Ｒ²³及びＲ²⁴はそれぞれ水素原子又は炭
素数１〜２０の炭化水素基で、それらはたがいに同一で
も異なっていてもよく、またたがいに結合して環構造を
形成していてもよい。ｅは１〜４の整数を示す。）で表
されるものが挙げられ、その具体例としては、メチレン
基，エチレン基，エチリデン基，プロピリデン基，イソ
プロピリデン基，シクロヘキシリデン基，１，２−シク
ロヘキシレン基，ビニリデン基（ＣＨ₂ ＝Ｃ＝）などを
挙げることができる。これらの中で、メチレン基，エチ
レン基及びイソプロピリデン基が好適である。ｑは
〔（Ｍの原子価）−２〕を示し、ｒは０〜３の整数を示
す。さらに、Ｒ¹³〜Ｒ²²はそれぞれ水素原子，ハロゲン
原子，炭素数１〜２０の炭化水素基，炭素数１〜２０の
ハロゲン含有炭化水素基，珪素含有基又はヘテロ原子含
有基を示す。また、Ｒ¹³〜Ｒ²²はたがいに同一でも異な
っていてもよく、隣接する基同士がたがいに結合して環
を形成していてもよい。

【００１７】前記一般式（II) で表されるインデニル骨
格を有する遷移金属化合物の例としては、ジメチルシラ
ンジイル−ビス−１−（２−メチル−４−フェニルイン
デニル）−ジルコニウムジクロリド，ジメチルシランジ
イル−ビス−１−〔２−メチル−４−（１−ナフチル）
インデニル〕−ジルコニウムジクロリド，ジメチルシラ
ンジイル−ビス−１−（２−エチル−４−フェニルイン
デニル）−ジルコニウムジクロリド，ジメチルシランジ
イル−ビス−１−〔２−エチル−４−（１−ナフチル）
インデニル〕ジルコニウムジクロリド，フェニルメチル
シランジイル−ビス−１−（２−メチル−４−フェニル
インデニル）−ジルコニウムジクロリド，フェニルメチ
ルシランジイル−ビス−１−〔２−メチル−４−（１−
ナフチル）インデニル〕−ジルコニウムジクロリド，フ
ェニルメチルシランジイル−ビス−１−（２−エチル−
４−フェニルインデニル）−ジルコニウムジクロリド，
フェニルメチルシランジイル−ビス−１−〔２−エチル
−４−（１−ナフチル）インデニル〕−ジルコニウムジ
クロリド，ｒａｃ−ジメチルシリレン−ビス−１−（２
−メチル−４−エチルインデニル）−ジルコニウムジク
ロリド，ｒａｃ−ジメチルシリレン−ビス−１−（２−
メチル−４−イソプロピルインデニル）−ジルコニウム
ジクロリド，ｒａｃ−ジメチルシリレン−ビス−１−
（２−メチル−４−第三ブチルインデニル）−ジルコニ
ウムジクロリド，ｒａｃ−フェニルメチルシリレン−ビ
ス−１−（２−メチル−４−イソプロピルインデニル）
−ジルコニウムジクロリド，ｒａｃ−ジメチルシリレン
−ビス−１−（２−エチル−４−メチルインデニル）−
ジルコニウムジクロリド，ｒａｃ−ジメチルシリレン−
ビス−１−（２，４−ジメチルインデニル）−ジルコニ
ウムジクロリド，ｒａｃ−ジメチルシリレン−ビス−１
−（２−メチル−４−エチルインデニル）−ジルコニウ
ムジメチルなどの２，４−位置換体、ｒａｃ−ジメチル
シリレン−ビス−１−（４，７−ジメチルインデニル）
−ジルコニウムジクロリド，ｒａｃ−１，２−エタンジ
イル−ビス−１−（２−メチル−４，７−ジメチルイン
デニル）−ジルコニウムジクロリド，ｒａｃ−ジメチル
シリレン−ビス−１−（３，４，７−トリメチルインデ
ニル）−ジルコニウムジクロリド，ｒａｃ−１，２−エ
タンジイル−ビス−１−（４，７−ジメチルインデニ
ル）−ジルコニウムジクロリド，ｒａｃ−１，２−ブタ
ンジイル−ビス−１−（４，７−ジメチルインデニル）
−ジルコニウムジクロリドなどの４，７−位，２，４，
７−位又は３，４，７−位置換体，ジメチルシランジイ
ル−ビス−１−（２−メチル−４，６−ジイソプロピル
インデニル）−ジルコニウムジクロリド，フェニルメチ
ルシランジイル−ビス−１−（２−メチル−４，６−ジ
イソプロピルインデニル）−ジルコニウムジクロリド，
ｒａｃ−ジメチルシランジイル−ビス−１−（２−メチ
ル−４，６−ジイソプロピルインデニル）−ジルコニウ
ムジクロリド，ｒａｃ−１，２−エタンジイル−ビス−
１−（２−メチル−４，６−ジイソプロピルインデニ
ル）−ジルコニウムジクロリド，ｒａｃ−ジフェニルシ
ランジイル−ビス−１−（２−メチル−４，６−ジイソ
プロピルインデニル）−ジルコニウムジクロリド，ｒａ
ｃ−フェニルメチルシランジイル−ビス−１−（２−メ
チル−４，６−ジイソプロピルインデニル）−ジルコニ
ウムジクロリド，ｒａｃ−ジメチルシランジイル−ビス
−１−（２，４，６−トリメチルインデニル）−ジルコ
ニウムジクロリドなどの２，４，６−位置換体，ｒａｃ
−ジメチルシランジイル−ビス−１−（２，５，６−ト
リメチルインデニル）−ジルコニウムジクロリドなどの
２，５，６−位置換体，ジメチルシランジイル−ビス−
１−（２−メチル−４，５−ベンゾインデニル）ジルコ
ニウムジクロリド，フェニルメチルシランジイル−ビス
−１−（２−メチル−４，５−ベンゾインデニル）−ジ
ルコニウムジクロリド，ｒａｃ−ジメチルシランジイル
−ビス−１−（２−メチル−４，５−ベンゾインデニ
ル）−ジルコニウムジクロリド，ｒａｃ−フェニルメチ
ルシランジイル−ビス−１−（２−メチル−４，５−ベ
ンゾインデニル）−ジルコニウムジクロリド，ｒａｃ−
エタンジイル−ビス−１−（２−メチル−４，５−ベン
ゾインデニル）−ジルコニウムジクロリド，ｒａｃ−ブ
タンジイル−ビス−１−（２−メチル−４，５−ベンゾ
インデニル）−ジルコニウムジクロリド，ｒａｃ−ジメ
チルシランジイル−ビス−１−（４，５−ベンゾインデ
ニル）−ジルコニウムジクロリド，ｒａｃ−ジメチルシ
ランジイル−ビス−１−（２−メチル−α−メチル−α
−アセナフトインデニル）−ジルコニウムジクロリド，
ｒａｃ−フェニルメチルシランジイル−ビス−１−（２
−メチル−α−アセナフトインデニル）−ジルコニウム
ジクロリドなどのベンゾインデニル型又はアセナフトイ
ンデニル型化合物、及びこれらの化合物におけるジルコ
ニウムをチタニウム又はハフニウムに置換したものを挙
げることができる。

【００１８】また、前記一般式（II) で表されるインデ
ニル骨格を有する遷移金属化合物に対応する４，５，
６，７−テトラヒドロインデニル骨格を有する遷移金属
化合物の例としては、ｒａｃ−ジメチルシリレン−ビス
−（２−メチル−４，５，６，７−テトラヒドロ−１−
インデニル）−ジルコニウムジクロリド，ｒａｃ−エチ
レン−ビス−（２−メチル−４，５，６，７−テトラヒ
ドロ−１−インデニル）−ジルコニウムジクロリド，ｒ
ａｃ−ジメチルシリレン−ビス−（２−メチル−４，
５，６，７−テトラヒドロ−１−インデニル）−ジルコ
ニウムジメチル，ｒａｃ−エチレン−ビス−（２−メチ
ル−４，５，６，７−テトラヒドロ−１−インデニル）
−ジルコニウムジメチル，ｒａｃ−エチレン−ビス−
（４，７−ジメチル−４，５，６，７−テトラヒドロ−
１−インデニル）−ジルコニウムジクロリドなど、及び
これらの化合物におけるジルコニウムをチタニウム又は
ハフニウムに置換したものを挙げることができる。

【００１９】一方、前記一般式（III)で表されるインデ
ニル骨格を有する遷移金属化合物の例としては、（１，
２' −エチレン）（２，１' −エチレン）−ビス（イン
デニル）ジルコニウムジクロリド，（１，２’−メチレ
ン）（２，１’−メチレン）−ビス（インデニル）ジル
コニウムジクロリド，（１，２’−イソプロピリデン）
（２，１’−イソプロピリデン）−ビス（インデニル）
ジルコニウムジクロリド，（１，２’−エチレン）
（２，１’−エチレン）−ビス（３−メチルインデニ
ル）ジルコニウムジクロリド，（１，２’−エチレン）
（２，１’−エチレン）−ビス（４，５−ベンゾインデ
ニル）ジルコニウムジクロリド，（１，２’−エチレ
ン）（２，１’−エチレン）−ビス（４−イソプロピル
インデニル）ジルコニウムジクロリド，（１，２’−エ
チレン）（２，１’−エチレン）−ビス（５，６−ジメ
チルインデニル）ジルコニウムジクロリド，（１，２’
−エチレン）（２，１’−エチレン）−ビス（４，７−
ジイソプロピルインデニル）ジルコニウムジクロリド，
（１，２’−エチレン）（２，１’−エチレン）−ビス
（４−フェニルインデニル）ジルコニウムジクロリド，
（１，２’−エチレン）（２，１’−エチレン）−ビス
（３−メチル−４−イソプロピルインデニル）ジルコニ
ウムジクロリド，（１，２’−エチレン）（２，１’−
エチレン）−ビス（５，６−ベンゾインデニル）ジルコ
ニウムジクロリド，（１，２’−エチレン）（２，１’
−イソプロピリデン）−ビス（インデニル）ジルコニウ
ムジクロリド，（１，２’−メチレン）（２，１’−エ
チレン）−ビス（インデニル）ジルコニウムジクロリ
ド，（１，２’−メチレン）（２，１’−イソプロピリ
デン）−ビス（インデニル）ジルコニウムジクロリドな
ど及びこれらの化合物におけるジルコニウムをチタン又
はハフニウムに置換したものを挙げることができる。本
発明においては、この（ａ）成分の遷移金属化合物は一
種用いてもよく、二種以上を組み合わせて用いてもよ
い。一方、重合触媒における（ｂ）成分の中の（イ）ア
ルミニウムオキシ化合物としては、特に一般式（IV)

【００２０】

【化６】

【００２１】（式中、Ｒ²⁵は炭素数１〜２０、好ましく
は１〜１２のアルキル基，アルケニル基，アリール基，
アリールアルキル基などの炭化水素基あるいはハロゲン
原子を示し、ｗは平均重合度を示し、通常２〜５０、好
ましくは２〜４０の整数である。なお、各Ｒ²⁵は同じで
も異なっていてもよい。）で示される鎖状アルミノキサ
ン、及び一般式（Ｖ）

【００２２】

【化７】

【００２３】( 式中、Ｒ²⁵及びｗは前記一般式（IV）に
おけるものと同じである。)で示される環状アルミノキ
サンを好ましく挙げることができる。前記アルミノキサ
ンの製造法としては、アルキルアルミニウムと水などの
縮合剤とを接触させる方法が挙げられるが、その手段に
ついては特に限定はなく、公知の方法に準じて反応させ
ればよい。例えば、有機アルミニウム化合物を有機溶
剤に溶解しておき、これを水と接触させる方法、重合
時に当初有機アルミニウム化合物を加えておき、後に水
を添加する方法、金属塩などに含有されている結晶
水、無機物や有機物への吸着水を有機アルミニウム化合
物と反応させる方法、テトラアルキルジアルミノキサ
ンにトリアルキルアルミニウムを反応させ、さらに水を
反応させる方法などがある。なお、アルミノキサンとし
ては、トルエン不溶性のものであってもよい。これらの
アルミノキサンは一種用いてもよく、二種以上を組み合
わせて用いてもよい。

【００２４】また、（ｂ）成分の中で（ロ）前記（ａ）
成分の遷移金属化合物と反応してカチオンに変換しうる
イオン性化合物としては、特に制限はなく、様々な化合
物を用いることができるが、効率的に重合活性点を形成
できるなどの点から、次の一般式（VI),（VII)

【００２５】 （〔Ｌ¹ −Ｒ²⁶〕^h+）_a （〔Ｚ〕^- ）_b ・・・（VI) （〔Ｌ² 〕^h+）_a （〔Ｚ〕^- ）_b ・・・（VII) ( ただし、Ｌ² はＭ³ ，Ｒ²⁷Ｒ²⁸Ｍ⁴,Ｒ²⁹ ₃ Ｃ又はＲ³⁰
Ｍ⁴ である。) 〔（VI),（VII)式中、Ｌ¹ はルイス塩基、〔Ｚ〕^- は、
非配位性アニオン〔Ｚ¹〕^- 又は〔Ｚ² 〕^- 、ここで
〔Ｚ¹ 〕^- は複数の基が元素に結合したアニオンすなわ
ち〔Ｍ² Ｇ¹ Ｇ² ・・・Ｇ^f 〕（ここで、Ｍ² は周期律
表第５〜１５族元素、好ましくは周期律表第１３〜１５
族元素を示す。Ｇ¹ 〜Ｇ^f はそれぞれ水素原子，ハロゲ
ン原子，炭素数１〜２０のアルキル基，炭素数２〜４０
のジアルキルアミノ基，炭素数１〜２０のアルコキシ
基，炭素数６〜２０のアリール基，炭素数６〜２０のア
リールオキシ基，炭素数７〜４０のアルキルアリール
基，炭素数７〜４０のアリールアルキル基，炭素数１〜
２０のハロゲン置換炭化水素基，炭素数１〜２０のアシ
ルオキシ基，有機メタロイド基、又は炭素数２〜２０の
ヘテロ原子含有炭化水素基を示す。Ｇ¹ 〜Ｇ^f のうち２
つ以上が環を形成していてもよい。ｆは〔( 中心金属Ｍ
² の原子価) ＋１〕の整数を示す。) 、〔Ｚ² 〕^- は、
酸解離定数の逆数の対数（ｐＫ_a ) が−１０以下のブレ
ンステッド酸単独又はブレンステッド酸及びルイス酸の
組合わせの共役塩基、あるいは一般的に超強酸と定義さ
れる酸の共役塩基を示す。また、ルイス塩基が配位して
いてもよい。また、Ｒ²⁶は水素原子，炭素数１〜２０の
アルキル基，炭素数６〜２０のアリール基，アルキルア
リール基又はアリールアルキル基を示し、Ｒ²⁷及びＲ²⁸
はそれぞれシクロペンタジエニル基，置換シクロペンタ
ジエニル基，インデニル基又はフルオレニル基、Ｒ²⁹は
炭素数１〜２０のアルキル基，アリール基，アルキルア
リール基又はアリールアルキル基を示す。Ｒ³⁰はテトラ
フェニルポルフィリン，フタロシアニンなどの大環状配
位子を示す。ｈは〔Ｌ¹ −Ｒ²⁶〕，〔Ｌ² 〕のイオン価
数で１〜３の整数、ａは１以上の整数、ｂ＝（ｈ×ａ）
である。Ｍ³ は、周期律表第１〜３、１１〜１３、１７
族元素を含むものであり、Ｍ⁴ は、周期律表第７〜１２
族元素を示す。〕で表されるものを好適に使用すること
ができる。

【００２６】ここで、Ｌ¹ の具体例としては、アンモニ
ア，メチルアミン，アニリン，ジメチルアミン，ジエチ
ルアミン，Ｎ−メチルアニリン，ジフェニルアミン，
Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン，トリメチルアミン，トリエ
チルアミン，トリ−ｎ−ブチルアミン，メチルジフェニ
ルアミン，ピリジン，ｐ−ブロモ−Ｎ，Ｎ−ジメチルア
ニリン，ｐ−ニトロ−Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリンなどの
アミン類、トリエチルホスフィン，トリフェニルホスフ
ィン，ジフェニルホスフィンなどのホスフィン類、テト
ラヒドロチオフェンなどのチオエーテル類、安息香酸エ
チルなどのエステル類、アセトニトリル，ベンゾニトリ
ルなどのニトリル類などを挙げることができる。

【００２７】Ｒ²⁶の具体例としては水素，メチル基，エ
チル基，ベンジル基，トリチル基などを挙げることがで
き、Ｒ²⁷，Ｒ²⁸の具体例としては、シクロペンタジエニ
ル基，メチルシクロペンタジエニル基，エチルシクロペ
ンタジエニル基，ペンタメチルシクロペンタジエニル基
などを挙げることができる。Ｒ²⁹の具体例としては、フ
ェニル基，ｐ−トリル基，ｐ−メトキシフェニル基など
を挙げることができ、Ｒ³⁰の具体例としてはテトラフェ
ニルポルフィン，フタロシアニン，アリル，メタリルな
どを挙げることができる。また、Ｍ³ の具体例として
は、Ｌｉ，Ｎａ，Ｋ，Ａｇ，Ｃｕ，Ｂｒ，Ｉ，Ｉ₃ など
を挙げることができ、Ｍ⁴ の具体例としては、Ｍｎ，Ｆ
ｅ，Ｃｏ，Ｎｉ，Ｚｎなどを挙げることができる。ま
た、〔Ｚ¹ 〕^- 、すなわち〔Ｍ² Ｇ¹ Ｇ² ・・・Ｇ^f 〕
において、Ｍ² の具体例としてはＢ，Ａｌ，Ｓi ，Ｐ，
Ａｓ，Ｓｂなど、好ましくはＢ及びＡｌが挙げられる。
また、Ｇ¹ ，Ｇ² 〜Ｇ^f の具体例としては、ジアルキル
アミノ基としてジメチルアミノ基，ジエチルアミノ基な
ど、アルコキシ基若しくはアリールオキシ基としてメト
キシ基，エトキシ基，ｎ−ブトキシ基，フェノキシ基な
ど、炭化水素基としてメチル基，エチル基，ｎ−プロピ
ル基，イソプロピル基，ｎ−ブチル基，イソブチル基，
ｎ−オクチル基，ｎ−エイコシル基，フェニル基，ｐ−
トリル基，ベンジル基，４−ｔ−ブチルフェニル基，
３，５−ジメチルフェニル基など、ハロゲン原子として
フッ素，塩素，臭素，ヨウ素，ヘテロ原子含有炭化水素
基としてｐ−フルオロフェニル基，３，５−ジフルオロ
フェニル基，ペンタクロロフェニル基，３，４，５−ト
リフルオロフェニル基，ペンタフルオロフェニル基，
３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル基，ビス
（トリメチルシリル）メチル基など、有機メタロイド基
としてペンタメチルアンチモン基、トリメチルシリル
基，トリメチルゲルミル基，ジフェニルアルシン基，ジ
シクロヘキシルアンチモン基，ジフェニル硼素などが挙
げられる。

【００２８】また、非配位性のアニオン、すなわちｐＫ
ａが−１０以下のブレンステッド酸単独又はブレンステ
ッド酸及びルイス酸の組合わせの共役塩基〔Ｚ² 〕^- の
具体例としてはトリフルオロメタンスルホン酸アニオン
（ＣＦ₃ ＳＯ₃ ）^- ，ビス（トリフルオロメタンスルホ
ニル）メチルアニオン，ビス（トリフルオロメタンスル
ホニル）ベンジルアニオン，ビス（トリフルオロメタン
スルホニル）アミド，過塩素酸アニオン（Ｃｌ
Ｏ₄ ）^- ，トリフルオロ酢酸アニオン( ＣＦ₃ Ｃ
Ｏ₂)^-，ヘキサフルオロアンチモンアニオン( ＳｂＦ₆)
^- ，フルオロスルホン酸アニオン（ＦＳＯ₃ ）^- ，クロ
ロスルホン酸アニオン（ＣｌＳＯ₃ ）^- ，フルオロスル
ホン酸アニオン／５−フッ化アンチモン（ＦＳＯ₃ ／Ｓ
ｂＦ₅ ）^- ，フルオロスルホン酸アニオン／５−フッ化
砒素（ＦＳＯ₃ ／ＡｓＦ₅ ）^- ，トリフルオロメタンス
ルホン酸／５−フッ化アンチモン（ＣＦ₃ＳＯ₃ ／Ｓｂ
Ｆ₅)^- などを挙げることができる。

【００２９】このような前記（ａ）成分の遷移金属化合
物と反応してカチオンに変換しうるイオン性化合物の具
体例としては、テトラフェニル硼酸トリエチルアンモニ
ウム，テトラフェニル硼酸トリ−ｎ−ブチルアンモニウ
ム，テトラフェニル硼酸トリメチルアンモニウム，テト
ラフェニル硼酸テトラエチルアンモニウム，テトラフェ
ニル硼酸メチル（トリ−ｎ−ブチル）アンモニウム，テ
トラフェニル硼酸ベンジル（トリ−ｎ−ブチル）アンモ
ニウム，テトラフェニル硼酸ジメチルジフェニルアンモ
ニウム，テトラフェニル硼酸トリフェニル（メチル）ア
ンモニウム，テトラフェニル硼酸トリメチルアニリニウ
ム，テトラフェニル硼酸メチルピリジニウム，テトラフ
ェニル硼酸ベンジルピリジニウム，テトラフェニル硼酸
メチル（２−シアノピリジニウム），テトラキス（ペン
タフルオロフェニル）硼酸トリエチルアンモニウム，テ
トラキス（ペンタフルオロフェニル）硼酸トリ−ｎ−ブ
チルアンモニウム，テトラキス（ペンタフルオロフェニ
ル）硼酸トリフェニルアンモニウム，テトラキス（ペン
タフルオロフェニル）硼酸テトラ−ｎ−ブチルアンモニ
ウム，テトラキス（ペンタフルオロフェニル）硼酸テト
ラエチルアンモニウム，テトラキス（ペンタフルオロフ
ェニル）硼酸ベンジル（トリ−ｎ−ブチル）アンモニウ
ム，テトラキス（ペンタフルオロフェニル）硼酸メチル
ジフェニルアンモニウム，テトラキス（ペンタフルオロ
フェニル）硼酸トリフェニル（メチル）アンモニウム，
テトラキス（ペンタフルオロフェニル）硼酸メチルアニ
リニウム，テトラキス（ペンタフルオロフェニル）硼酸
ジメチルアニリニウム，テトラキス（ペンタフルオロフ
ェニル）硼酸トリメチルアニリニウム，テトラキス（ペ
ンタフルオロフェニル）硼酸メチルピリジニウム，テト
ラキス（ペンタフルオロフェニル）硼酸ベンジルピリジ
ニウム，テトラキス（ペンタフルオロフェニル）硼酸メ
チル（２−シアノピリジニウム），テトラキス（ペンタ
フルオロフェニル）硼酸ベンジル（２−シアノピリジニ
ウム），テトラキス（ペンタフルオロフェニル) 硼酸メ
チル( ４−シアノピリジニウム) ，テトラキス（ペンタ
フルオロフェニル）硼酸トリフェニルホスホニウム，テ
トラキス〔ビス（３，５−ジトリフルオロメチル）フェ
ニル〕硼酸ジメチルアニリニウム，テトラフェニル硼酸
フェロセニウム，テトラフェニル硼酸銀，テトラフェニ
ル硼酸トリチル，テトラフェニル硼酸テトラフェニルポ
ルフィリンマンガン，テトラキス（ペンタフルオロフェ
ニル）硼酸フェロセニウム，テトラキス（ペンタフルオ
ロフェニル）硼酸（１，１’−ジメチルフェロセニウ
ム) ，テトラキス（ペンタフルオロフェニル）硼酸デカ
メチルフェロセニウム，テトラキス（ペンタフルオロフ
ェニル）硼酸銀、テトラキス（ペンタフルオロフェニ
ル）硼酸トリチル，テトラキス（ペンタフルオロフェニ
ル）硼酸リチウム，テトラキス（ペンタフルオロフェニ
ル）硼酸ナトリウム，テトラキス（ペンタフルオロフェ
ニル）硼酸テトラフェニルポルフィリンマンガン，テト
ラフルオロ硼酸銀，ヘキサフルオロ燐酸銀，ヘキサフル
オロ砒素酸銀，過塩素酸銀，トリフルオロ酢酸銀，トリ
フルオロメタンスルホン酸銀などを挙げることができ
る。

【００３０】これらのイオン性化合物は一種用いてもよ
く、二種以上を組み合わせて用いてもよい。また、本発
明においては、重合触媒の（ｂ）成分として、前記のア
ルミニウムオキシ化合物のみを用いてよいし、前記のイ
オン性化合物のみを用いてもよく、あるいは、アルミニ
ウムオキシ化合物とイオン性化合物を組み合わせて用い
てもよい。本発明における重合触媒は、前記（ａ）成分
及び（ｂ）成分を主成分として含有するものであっても
よいし、また、（ａ) 成分、（ｂ）成分及び（ｃ）有機
アルミニウム化合物を主成分として含有するものであっ
てもよい。ここで、（ｃ）成分の有機アルミニウム化合
物としては、一般式（VIII) Ｒ³¹ _v ＡｌＱ_3-v ・・・（VIII) （式中、Ｒ³¹は炭素数１〜１０のアルキル基、Ｑは水素
原子、炭素数１〜２０のアルコキシ基，炭素数６〜２０
のアリール基又はハロゲン原子を示し、ｖは１〜３の整
数である）で示される化合物が用いられる。

【００３１】前記一般式（VIII) で示される化合物の具
体例としては、トリメチルアルミニウム，トリエチルア
ルミニウム，トリイソプロピルアルミニウム，トリイソ
ブチルアルミニウム，ジメチルアルミニウムクロリド，
ジエチルアルミニウムクロリド，メチルアルミニウムジ
クロリド，エチルアルミニウムジクロリド，ジメチルア
ルミニウムフルオリド，ジイソブチルアルミニウムヒド
リド，ジエチルアルミニウムヒドリド，エチルアルミニ
ウムセスキクロリド等が挙げられる。これらの有機アル
ミニウム化合物は一種用いてもよく、二種以上を組合せ
て用いてもよい。

【００３２】本発明で用いられる重合触媒における各成
分の使用割合については、（ｂ）成分として（イ）アル
ミニウムオキシ化合物〔（ｂ−イ）成分〕を用いた場合
には、（ａ）成分と（ｂ−イ）成分とのモル比は、好ま
しくは１：１〜１：１００００００の範囲、より好まし
くは１：１０〜１：１００００の範囲である。また
（ｂ）成分として、（ロ）イオン性化合物〔（ｂ−ロ）
成分〕を用いた場合には、（ａ）成分と（ｂ−ロ）成分
とのモル比は、好ましくは１０：１〜１：１００、より
好ましくは２：１〜１：１０の範囲である。さらに、
（ｃ）成分として、有機アルミニウム化合物を用いる場
合には、（ａ）成分と（ｃ）成分とのモル比は、好まし
くは１：１〜１：２００００、より好ましくは１：５〜
１：２０００、さらに好ましくは１：１０〜１：１００
０の範囲である。各触媒成分の割合が、上記範囲を逸脱
すると単位重量ポリマー当たりの触媒コストが高くな
り、実用的でない。

【００３３】本発明においては、触媒成分、すなわち
（ａ）成分，（ｂ）成分，及び場合により用いられる
（ｃ）成分の少なくとも一種を適当な担体に担持して用
いることができる。該担体の種類については特に制限は
なく、無機酸化物担体、それ以外の無機担体及び有機担
体のいずれも用いることができるが、特にモルホロジ−
制御の点から無機酸化物担体あるいはそれ以外の無機担
体が好ましい。無機酸化物担体としては、具体的には、
ＳｉＯ₂ ，Ａｌ₂ Ｏ₃ ，ＭｇＯ，ＺｒＯ₂ ，ＴｉＯ₂ ，
Ｆｅ₂ Ｏ₃ ，Ｂ₂ Ｏ₃ ，ＣａＯ，ＺｎＯ，ＢａＯ，Ｔｈ
Ｏ₂ やこれらの混合物、例えばシリカアルミナ，ゼオラ
イト，フェライト，グラスファイバーなどが挙げられ
る。これらの中では、特にＳｉＯ₂ またはＡｌ₂ Ｏ₃ が
好ましい。なお、上記無機酸化物担体は、少量の炭酸
塩，硝酸塩，硫酸塩などを含有してもよい。一方、上記
以外の担体として、ＭｇＣｌ₂ ，Ｍｇ（ＯＣ₂ Ｈ₅)₂ な
どのマグネシウム化合物などで代表される一般式ＭｇＲ
³² _X Ｘ⁴ _y で表されるマグネシウム化合物やその錯塩な
どを挙げることができる。ここで、Ｒ³²は炭素数１〜２
０のアルキル基、炭素数１〜２０のアルコキシ基又は炭
素数６〜２０のアリール基、Ｘ⁴ はハロゲン原子又は炭
素数１〜２０のアルキル基を示し、ｘは０〜２、ｙは０
〜２であり、かつｘ＋ｙ＝２である。各Ｒ³²及び各Ｘ⁴
はそれぞれ同一でもよく、また異なってもいてもよい。

【００３４】また、有機担体としては、ポリスチレン，
スチレン−ジビニルベンゼン共重合体，ポリエチレン，
ポリプロピレン，置換ポリスチレン，ポリアリレートな
どの重合体やスターチ，カーボンなどを挙げることがで
きる。本発明において用いられる担体としては、ＭｇＣ
ｌ₂ ，ＭｇＣｌ（ＯＣ₂ Ｈ₅），Ｍｇ（ＯＣ₂ Ｈ₅)₂ ，
ＳｉＯ₂ ，Ａｌ₂ Ｏ₃ などが好ましい。また担体の性状
は、その種類及び製法により異なるが、平均粒径は通常
１〜３００μｍ、好ましくは１０〜２００μｍ、より好
ましくは２０〜１００μｍである。粒径が小さいと重合
体中の微粉が増大し、粒径が大きいと重合体中の粗大粒
子が増大し嵩密度の低下やホッパーの詰まりの原因にな
る。

【００３５】また、担体の比表面積は、通常１〜１００
０ｍ² ／ｇ、好ましくは５０〜５００ｍ² ／ｇ、細孔容
積は通常0.１〜５ｃｍ³ ／ｇ、好ましくは0.３〜３ｃｍ
³ ／ｇである。比表面積又は細孔容積のいずれかが上記
範囲を逸脱すると、触媒活性が低下することがある。な
お、比表面積及び細孔容積は、例えばＢＥＴ法に従って
吸着された窒素ガスの体積から求めることができる
（Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ，第６０巻，第３０９ペ
ージ（１９８３年）参照）。さらに、上記担体は、通常
１５０〜１０００℃、好ましくは２００〜８００℃で焼
成して用いることが望ましい。触媒成分の少なくとも一
種を前記担体に担持させる場合、（ａ）触媒成分及び
（ｂ）触媒成分の少なくとも一方を、好ましくは（ａ）
触媒成分及び（ｂ）触媒成分の両方を担持させるのが、
モルホロジー制御、気相重合などプロセスへの適用性な
どの点から望ましい。

【００３６】該担体に、（ａ）成分及び（ｂ）成分の少
なくとも一方を担持させる方法については、特に制限さ
れないが、例えば（ａ）成分及び（ｂ）成分の少なく
とも一方と担体とを混合する方法、担体を有機アルミ
ニウム化合物又はハロゲン含有ケイ素化合物で処理した
のち、不活性溶媒中で（ａ）成分及び（ｂ）成分の少な
くとも一方と混合する方法、担体と（ａ）成分又は
（ｂ）成分あるいはその両方と有機アルミニウム化合物
又はハロゲン含有ケイ素化合物とを反応させる方法、
（ａ）成分又は（ｂ）成分を担体に担持させたのち、
（ｂ）成分又は（ａ）成分と混合する方法、（ａ）成
分と（ｂ）成分との接触反応物を担体と混合する方法、
（ａ）成分と（ｂ）成分との接触反応に際して、担体
を共存させる方法などを用いることができる。なお、上
記、及びの反応において、（ｃ）成分の有機アル
ミニウム化合物を添加することもできる。このようにし
て得られた触媒は、いったん溶媒留去を行って固体とし
て取り出してから重合に用いてもよく、そのまま重合に
用いてもよい。

【００３７】また、本発明においては、（ａ）成分及び
（ｂ）成分の少なくとも一方の担体への担持操作を重合
系内で行うことにより触媒を生成させることができる。
例えば（ａ）成分及び（ｂ）成分の少なくとも一方と担
体とさらに必要により前記（ｃ）成分の有機アルミニウ
ム化合物を加え、プロピレンを常圧〜２０ｋｇ／ｃｍ ²
加えて、−２０〜２００℃で１分〜２時間程度予備重合
を行い触媒粒子を生成させる方法を用いることができ
る。本発明においては、前記化合物（ｂ−イ）成分と担
体との使用割合は、重量比で好ましくは１：0.５〜１：
１０００、より好ましくは１：１〜１：５０とするのが
望ましく、（ｂ−ロ）成分と担体との使用割合は、重量
比で好ましくは１：５〜１：１００００、より好ましく
は１：１０〜１：５００とするのが望ましい。触媒成分
（ｂ）として二種を混合して用いる場合は、各（ｂ）成
分と担体との使用割合が重量比で上記範囲内にあること
が望ましい。また、（ａ）成分と担体との使用割合は、
重量比で、好ましくは１：５〜１：１００００、より好
ましくは１：１０〜１：５００とするのが望ましい。

【００３８】該（ｂ）成分〔（ｂ−イ）成分又は（ｂ−
ロ）成分〕と担体との使用割合、又は（ａ）成分と担体
との使用割合が上記範囲を逸脱すると、活性が低下する
ことがある。このようにして調製された本発明で用いる
重合触媒の平均粒径は、通常２〜２００μｍ、好ましく
は１０〜１５０μｍ、特に好ましくは２０〜１００μｍ
であり、比表面積は、通常２０〜１０００ｍ² ／ｇ、好
ましくは５０〜５００ｍ² ／ｇである。平均粒径が２μ
ｍ未満であると重合体中の微粉が増大することがあり、
２００μｍを超えると重合体中の粗大粒子が増大するこ
とがある。比表面積が２０ｍ² ／ｇ未満であると活性が
低下することがあり、１０００ｍ² ／ｇを超えると重合
体の嵩密度が低下することがある。また、この触媒にお
いて、担体１００ｇ中の遷移金属量は、通常0.０５〜１
０ｇ、特に0.１〜２ｇであることが好ましい。遷移金属
量が上記範囲外であると、活性が低くなることがある。
このように担体に担持することによって、工業的に有利
な高い嵩密度と優れた粒径分布を有する重合体を得るこ
とができる。

【００３９】本発明のプロピレン単独重合体の製造方法
は、（Ａ）前記重合触媒を用い、極限粘度〔η〕が0.０
０８〜0.８デシリットル／ｇのプロピレン単独重合体を
製造する第一反応工程、及び（Ｂ）上記第一反応工程で
得られた反応混合物の存在下、プロピレンの重合を行う
第二反応工程、並びに、（Ａ’）前記重合触媒を用い、
極限粘度〔η〕が3.３〜２０デシリットル／ｇのプロピ
レン単独重合体を製造する第一反応工程、及び（Ｂ）上
記第一反応工程で得られた反応混合物の存在下、プロピ
レンの重合を行う第二反応工程から構成されている。ま
ず、第一反応工程〔（Ａ），（Ａ’）工程〕について説
明する。

【００４０】この第一反応工程においては、前述の重合
触媒の存在下にプロピレンを重合させ、（Ａ）工程にお
いては、テトラリン溶媒中、温度１３５℃で測定した極
限粘度〔η〕が0.００８〜0.８デシリットル／ｇ、好ま
しくは0.０１２〜0.７デシリットル／ｇ、より好ましく
は0.０１６〜0.６デシリットル／ｇの範囲にあるプロピ
レン単独重合体を生成させる。このように、極限粘度
〔η〕が0.８デシリットル／ｇ未満では、重合反応性を
有するポリプロピレンが生成する。次工程の第二反応工
程において、この重合反応性を有するポリプロピレンと
プロピレンを共重合させ、生成ポリマーの分岐の数と長
さを制御することにより、溶融張力の向上したプロピレ
ン単独重合体が得られる。

【００４１】一方、（Ａ’）工程においては、該極限粘
度〔η〕が3.３〜２０デシリットル／ｇ、好ましくは3.
７〜１５デシリットル／ｇ、より好ましくは4.１〜１５
デシリットル／ｇの範囲にあるプロピレン単独重合体を
生成させる。このように極限粘度〔η〕が3.３デシリッ
トル／ｇ以上では、少量の長鎖分岐高分子量ポリマーが
生成し、このものが次の工程の第二反応工程において生
成する低分子量ポリマーと混合又は反応されることによ
り、溶融張力が向上したプロピレン単独重合体が得られ
る。この第一工程において生成したプロピレン単独重合
体の極限粘度〔η〕が0.８デシリットル／ｇより大き
く、3.３デシリットル／ｇ未満では、第二工程におい
て、溶融張力の向上したプロピレン単独重合体が得られ
にくい。この第一反応工程において生成したプロピレン
単独重合体はアタクチック，アイソタクチック，シンジ
オタクチックのいずれであってもよい。重合形式として
は、回分式，連続式のいずれであってもよく、また、ス
ラリー重合法，気相重合法，塊状重合法，溶液重合法な
どの中から、任意の方法を採用することができる。

【００４２】スラリー重合又は溶液重合を実施する場合
に使用する重合溶媒としては、例えばプロパン，ブタ
ン，ペンタン，ヘキサン，ヘプタン，オクタン，デカ
ン，ドデカン，灯油などの脂肪族炭化水素、シクロペン
タン，シクロヘキサン，メチルシクロヘキサンなどの脂
環式炭化水素、ベンゼン，トルエン，キシレンなどの芳
香族炭化水素、エチレンクロリド，クロロベンゼン，ジ
クロロメタン，クロロホルムなどのハロゲン化炭化水素
などが挙げられる。これらの溶媒は単独で用いてもよ
く、二種以上を混合して用いてもよい。重合条件につい
ては、重合温度は、通常−５０〜２００℃、好ましくは
−２０〜１５０℃、より好ましくは−１０〜１２０℃の
範囲である。重合圧力は、通常0.０１〜１００ｋｇ／ｃ
ｍ² Ｇ、好ましくは0.１〜８０ｋｇ／ｃｍ² Ｇ、より好
ましくは0.２〜６０ｋｇ／ｃｍ² Ｇの範囲である。ま
た、重合時間は、通常、１０秒〜１０時間、好ましくは
３０秒〜７時間、より好ましくは１分〜６時間の範囲で
ある。さらに、重合触媒の使用量は、原料モノマー／前
記（ａ）成分モル比が、好ましくは１〜１０⁸ 、より好
ましく１００〜１０⁷ となるように選ぶのが有利であ
る。

【００４３】生成するプロピレン単独重合体の極限粘度
の制御（分子量の制御）は、重合触媒の各成分の使用割
合や重合触媒の使用量，重合温度，重合圧力などを、前
記範囲で適宜選定することにより、行うことができる。
次に、第二反応工程〔（Ｂ）工程〕について説明する。
この第二反応工程においては、前記第一反応工程
〔（Ａ）工程，（Ａ’）工程〕で得られた反応混合物の
存在下、プロピレンを重合させて、以下に示す性状を有
するプロピレン単独重合体を製造する工程である。

【００４４】すなわち、この第二反応工程で得られるプ
ロピレン単独重合体は、まず、メルトインデックスＭＩ
が0.００５〜１０００ｇ／１０分の範囲にあることが必
要である。このＭＩが0.００５ｇ／１０分未満では溶融
流動性が不充分であり、１０００ｇ／１０分を超えると
機械物性が著しく低下する。溶融流動性及び機械物性の
バランスなどの面から、好ましいＭＩは0.０１〜８００
ｇ／１０分の範囲であり、特に0.０５〜６００ｇ／１０
分の範囲が好ましい。なお、このＭＩは、ＡＳＴＭ Ｄ
１２３８−Ｔ６５に準拠し、温度２３０℃，荷重2.１６
ｋｇの条件で測定した値である。

【００４５】次に、温度２３０℃において測定した溶融
張力ＭＳ（ｇ）と、テトラリン溶媒中、温度１３５℃に
おいて測定した極限粘度〔η〕（デシリットル／ｇ）と
が、 式 ｌｏｇＭＳ≧3.１７×ｌｏｇ〔η〕−0.６８ ・・・（Ｉ） の関係を満たすことが必要である。ｌｏｇＭＳが「3.１
７×ｌｏｇ〔η〕−0.６８」の値より小さい場合には、
溶融加工性に劣り、本発明の目的が達せられない。溶融
加工性の面から、好ましくは

【００４６】 ｌｏｇＭＳ≧3.１７×ｌｏｇ〔η〕−0.５７ より好ましくは ｌｏｇＭＳ≧3.１７×ｌｏｇ〔η〕−0.４６ 更に好ましくは ｌｏｇＭＳ≧3.１７×ｌｏｇ〔η〕−0.３５ である。なお、前記溶融張力ＭＳは、東洋精機社製キャ
ピログラフを用い、下記の条件で測定した値である。 キャピラリー ： 直径2.０９５ｍｍ，長さ8.０
ｍｍ，流入角９０度 シリンダー径 ： 9.０ｍｍ シリンダー押出速度 ： １０ｍｍ／分 巻き取り速度 ： 3.１４ｍ／分 温度 ： ２３０℃

【００４７】また、この第二反応工程で得られたプロピ
レン単独重合体においては、ゲルパーミエーションクロ
マトグラフィー（ＧＰＣ）法で測定したポリエチレン換
算の重量平均分子量Ｍｗと数平均分子量Ｍｎとの比Ｍｗ
／Ｍｎは、通常1.４〜３０の範囲にある。なお、このＭ
ｗ／Ｍｎは、下記の装置及び条件で測定した値である。 装置 ： 本体 ウォーターズ社製 ＡＬＣ／ＧＰＣ
１５０Ｃ カラム 東ソー製 ＴＳＫ ＭＨ＋ＧＭＨ６×２本 条件 ： 温度１３５℃ 溶媒 １，２，４−トリクロルベンゼン 流量 1.０ミリリットル／分 さらに、この第二反応工程で得られたプロピレン単独重
合体は、前記第一反応工程で生成した重合体を、0.１〜
４０重量％の範囲で含有するのが好ましい。この含有量
が0.１重量％未満では溶融張力の向上効果が充分に発揮
されないなおそれがあり、また、４０重量％を超えると
成形加工性が低下したり、弾性などの機械物性が低下す
る傾向がみられる。溶融張力，成形加工性及び機械物性
などを考慮すると、この第一反応工程で生成した重合体
の含有量は、第一反応工程で生成した重合体が極限粘度
〔η〕0.００８〜0.８デシリットル／ｇのもの〔（Ａ）
工程で生成したもの〕である場合には、より好ましくは
0.２〜３５重量％、さらに好ましくは0.３〜３０重量
％、特に好ましくは0.４〜２５重量％の範囲である。一
方、極限粘度〔η〕3.３〜２０デシリットル／ｇのもの
〔（Ａ’）工程で生成したもの〕である場合には、より
好ましくは0.１〜３０重量％、さらに好ましくは0.１５
〜２５重量％、特に好ましくは0.２〜２５重量％の範囲
である。

【００４８】この第二反応工程で得られるプロピレン単
独重合体はアタクチック，アイソタクチック，シンジオ
タクチックのいずれのものであってもよいが、特にアイ
ソタクチックのものが好ましい。このアイソタクチック
プロピレン単独重合体の場合、融点は通常８０℃以上、
好ましくは９０℃以上、より好ましくは１１０℃以上、
さらに好ましくは１１５℃以上、最も好ましくは１２０
〜１６７℃の範囲である。なお、この融点は、下記の方
法により測定した値である。すなわち、示差走査型熱量
計〔セイコー電子工業（株）製、ＤＳＣ２００型〕を用
い、室温から１０℃／分の速度で２００℃まで昇温し、
２００℃で３分間保持したのち、１０℃／分で３０℃ま
で降温する。３０℃で５分間保持したのち、１０℃／分
で昇温し、その際に現れる融解ピークの温度を融点とす
る。

【００４９】この第二反応工程においては、前記第一反
応工程で得られた反応混合物の存在下に、プロピレンの
重合が行われる。その重合形式としては特に制限はな
く、前記第一反応工程と同様に回分式，連続式のいずれ
であってもよく、また、スラリー重合法，気相重合法，
塊状重合法，溶液重合法などの中から、任意の方法を採
用することができる。この第二反応工程における重合形
式は、前記第一反応工程における重合形式と同一であっ
てもよく、異なっていてもよい。例えば第一反応工程の
重合形式と第二反応工程の重合形式の組合せとして、ス
ラリー重合とスラリー重合、スラリー重合と気相重合、
気相重合と気相重合、気相重合とスラリー重合などの組
合せを挙げることができる。

【００５０】スラリー重合又は溶液重合を実施する場合
に使用する重合溶媒としては、前記第一反応工程におい
て例示したものと同じものを挙げることができる。重合
条件については、重合温度は、通常０〜２００℃、好ま
しくは１０〜１５０℃、より好ましくは２０〜１５０℃
の範囲である。重合圧力は、通常0.１〜１００ｋｇ／ｃ
ｍ² Ｇ、好ましくは0.５〜８０ｋｇ／ｃｍ² Ｇ、より好
ましくは1.０〜６０ｋｇ／ｃｍ² Ｇの範囲である。ま
た、重合時間は、通常、１分〜１０時間、好ましくは２
分〜８時間、より好ましくは５分〜７時間の範囲であ
る。

【００５１】重合触媒は、第一反応工程で得られた反応
混合物中に含まれているので、新たに添加しなくてもよ
いが、必要に応じ、全触媒成分又は一部の触媒成分、例
えば（ｂ）成分や（ｃ）成分、あるいは（ａ）成分と
（ｂ）成分などを、適宜量添加してもよい。生成するプ
ロピレン単独重合体の分子量の調節は、例えば重合触媒
の各成分の使用割合や重合触媒の使用量，重合温度，重
合圧力などを、前記の範囲で適宜選定することにより、
あるいは水素導入量を制御することにより行うことがで
きるが、特に水素導入量又は重合温度の制御により行う
のが好ましい。

【００５２】

【実施例】次に、本発明を実施例によりさらに詳細に説
明するが、本発明は、これらの例によってなんら限定さ
れるものではない。なお、ポリプロピレンの各物性は、
明細書本文に記載している方法に従って測定した。 実施例１ （１）ポリプロピレンの製造 攪拌装置付き1.６リットルステンレス製耐圧オートクレ
ーブを８０℃に加熱し、充分に減圧乾燥したのち、乾燥
窒素で大気圧に戻して室温まで冷却した。このオートク
レーブに、乾燥窒素気流下、乾燥脱酸素トルエン４００
ミリリットル，メチルアルミノキサン〔東ソー・アクゾ
（株）製，トルエン溶液〕をアルミニウム原子換算で５
ミリモル投入したのち、５００ｒｐｍで攪拌を開始し、
９０℃まで５分間で昇温後、さらに５分間攪拌したまま
放置した。これに、ｒａｃ−ジメチルシリレンビス（２
−メチル−４−フェニル−インデニル）ジルコニウムジ
クロリド（ｒａｃ−Ｍｅ₂ Ｓｉ〔２−Ｍｅ−４−Ｐｈ−
Ｉｎｄ〕₂ ＺｒＣｌ₂ ）のトルエン溶液を２マイクロモ
ル投入した。プロピレンを圧力1.０ｋｇ／ｃｍ² Ｇで連
続的に供給し、９０℃で３０分間重合を行った。反応終
了後、素早く未反応プロピレンを脱圧し、乾燥窒素でプ
ロピレンをパージしたのち、反応混合物３０ミリリット
ルを採取した（第一反応工程）。

【００５３】次に、反応温度を１０分間要して５０℃ま
で下げたのち、プロピレンを圧力７ｋｇ／ｃｍ² Ｇに保
持し、５０℃で３０分間重合を行った。反応終了後、少
量のメタノールで触媒を失活させ、未反応のプロピレン
を脱圧により除去した。次いで、反応混合物を大量のメ
タノールに投入して洗浄したのち、固形物をろ取して乾
燥処理することにより、ポリプロピレン５2.６ｇを得た
（第二反応工程）。 （２）ポリプロピレンの評価 （イ）第一反応工程のポリプロピレン 採取した反応混合物をメタノールで失活させたのち、溶
媒を蒸発乾固し、残渣をメタノールに分散し、少量の塩
酸を加えて室温で２時間脱灰した。脱灰終了後、メタノ
ールで２回洗浄し、乾燥してポリプロピレン0.１５ｇを
得た。これから算出した第一反応工程／第二反応工程の
生成比は、重量比１：２8.４であった。

【００５４】また、第一反応工程で得られたポリプロピ
レンの１３５℃テトラリン中で測定した極限粘度〔η〕
は0.１４９デシリットル／ｇであった。 （ロ）第二反応工程のポリプロピレン 極限粘度〔η〕 ： 2.７６デシリットル／ｇ 溶融張力ＭＳ ： １1.５ｇ 分子量分布Ｍｗ／Ｍｎ ： ２２．０ 融点 ： １６0.５℃ メルトインデックスＭＩ： 0.０５ｇ／１０分 以上から、ｌｏｇＭＳ＝1.０６であり、一方、3.１７×
ｌｏｇ〔η〕−0.６８＝0.７２であり、式（Ｉ）の関係
を満足する。 実施例２ 実施例１−（１）において、第一反応工程のプロピレン
供給圧を2.０ｋｇ／ｃｍ² Ｇとし、かつ第二反応工程の
重合温度を６０℃とした以外は、実施例１−（１）と同
様にしてプロピレンの重合を実施したところ、ポリプロ
ピレン１１7.２ｇが得られた。結果を以下に示す。 第一反応工程のポリプロピレン 極限粘度〔η〕 ： 0.２９５デシリットル／ｇ 第二反応工程のポリプロピレン 極限粘度〔η〕 ： 1.７５デシリットル／ｇ 溶融張力ＭＳ ： 3.８ｇ 分子量分布Ｍｗ／Ｍｎ ： 4.３１ 融点 ： １６0.５℃ メルトインデックスＭＩ： 1.６５ｇ／１０分 第一反応工程／第二反応工程生成比：重量比１／9.４０ 以上から、ｌｏｇＭＳ＝0.５８であり、一方、3.１７×
ｌｏｇ〔η〕−0.６８＝0.０９であり、式（Ｉ）の関係
を満足する。

【００５５】実施例３ （１）シリカ担持メチルアルミノキサンの調製 ２００℃、減圧下で４時間焼成したＳｉＯ₂ 〔富士シリ
シア化学（株）製，ＣＡＲＩＡＣＴ Ｐ−１０〕4.６７
ｇを２００ミリリットルの乾燥トルエンに分散した。こ
れに、以下に示した方法で処理したメチルアルミノキサ
ン３０ミリリットルを０℃で６０分間にわたり、攪拌し
ながら滴下した。滴下終了後６０分間反応し、更に、２
０℃で３０分間、８０℃で１２０分間反応した。その
後、乾燥トルエン１００ミリリットルを用い６０℃で２
回、デカンテーション法により固体成分を洗浄した。更
に、ヘキサン１００ミリリットルで同様に一回洗浄し
た。これをヘキサンで全容量が２３０ミリリットルと
し、メチルアルミノキサンの担持されたＳｉＯ₂ を得
た。メチルアルミノキサンの処理方法：アルベマール社
製のメチルアルミノキサンのトルエン溶液〔1.４５モル
／リットル〕からトルエンを留去し、更に、４５℃で４
時間、減圧処理した。これに脱水トルエンをトルエン留
去前の容量になるまで加え攪拌しながら溶解した。その
後、一昼夜静置し、メチルアルミノキサンの完全に溶解
した上澄み部分を上記反応に用いた。

【００５６】（２）触媒成分の調製 ３０ミリリットルのフラスコに脱水ヘキサン１５ミリリ
ットル、上記（１）で調製した触媒成分2.７５ミリリッ
トルを窒素雰囲気下で投入した。これにｒａｃ−ジメチ
ルシリレンビス（２−メチル−４−フェニル−インデニ
ル）ジルコニウムジクロリド〔ｒａｃ−Ｍｅ₂ Ｓｉ（２
−Ｍｅ−４−Ｐｈ−ｌｎｄ）₂ ＺｒＣ１ ₂ 〕２マイクロ
モルのトルエン溶液を攪拌しながら滴下した。更に、２
０分間反応して触媒成分を調製した。 （３）ポリプロピレンの製造 攪拌装置付き1.６リットルステンレス製耐圧オートクレ
ーブを充分乾燥した後、乾燥窒素気流下、乾燥脱酸素ヘ
キサン４００ミリリットル、トリイソブチルアルミニウ
ム0.５ミリモルを加え５００ｒｐｍで攪拌を開始し、３
０℃で１５分間放置した。これに、上記（２）で調製し
た触媒成分全量を投入し、プロピレンを圧力5.０ｋｇ／
ｃｍ² Ｇで連続的に供給し、１４０分間反応した。反応
終了後、素早く未反応プロピレンを脱圧し、乾燥窒素で
プロピレンをパージした後、反応混合物３０ミリリット
ルを摂取した。（第一反応工程）次に反応温度を６０℃
とし、プロピレンの供給圧力を８ｋｇ／ｃｍ² Ｇで１８
０分間重合を実施した。実施例１と同様にしてポリプロ
ピレンを回収した結果、ポリマ収量は２２２ｇであっ
た。（第二反応工程）

【００５７】（４）ポリプロピレンの評価 （イ）第一反応工程のポリプロピレン 極限粘度〔η〕 ： 4.２７デシリットル／ｇ （ロ）第二反応工程のポリプロピレン 極限粘度〔η〕 ： 3.０１デシリットル／ｇ 溶融張力ＭＳ ： １6.２ｇ 分子量分布 ： 3.８ 融点 ： １４7.２℃ メルトインデックスＭＩ：0.０５ｇ／１０分 第一反応工程／第二反応工程生成比 ：重量比１／４1.
７ 以上から、ｌｏｇＭＳ＝1.２１であり、一方、3.１７×
ｌｏｇ〔η〕−0.６８＝0.８４であり、式（Ｉ）の関係
を満足する。

【００５８】比較例１ 実施例１において、第一反応工程を実施せずに第二反応
工程のみを実施した以外は、実施例１と同様にしてポリ
プロピレンを製造した。結果を第１表に示す。以上か
ら、ｌｏｇＭＳ＝0.５１であり、一方、3.１７×ｌｏｇ
〔η〕−0.６８＝0.６６であり、式（Ｉ）の関係を満足
しない。 比較例２ 実施例２において、第一反応工程を実施せずに第二反応
工程のみを実施した以外は、実施例２と同様にしてポリ
プロピレンを製造した。結果を第１表に示す。以上か
ら、ｌｏｇＭＳ＝−0.１０であり、一方、3.１７×ｌｏ
ｇ〔η〕−0.６８＝0.０７であり、式（Ｉ）の関係を満
足しない。

【００５９】

【表１】

【００６０】比較例３ 以下し示す条件にて、実施例１−（１）と同様にして二
段重合を実施した。 第一反応工程 プロピレン圧力 ： ７ｋｇ／ｃｍ² Ｇ 重合温度 ： ７０℃ ジルコニウム触媒成分 ： 0.５マイクロモル 重合時間 ： ５分 収量 ： 1.０５ｇ／３０ミリリット
ル 第二反応工程 プロピレン圧力 ： ７ｋｇ／ｃｍ² Ｇ 重合温度 ： ５０℃ 重合時間 ： ２０分 収量 ： １２０ｇ

【００６１】得られたポリプロピレンの評価結果を以下
に示す。 第一反応工程のポリプロピレン 極限粘度〔η〕 ： 1.１４デシリットル／ｇ 第二反応工程のポリプロピレン 極限粘度〔η〕 ： 1.６８デシリットル／ｇ 溶融張力ＭＳ ： 0.６ｇ 分子量分布Ｍｗ／Ｍｎ ： 5.３１ 融点 ： １５7.０℃ メルトインデックスＭＩ： １5.２ｇ／１０分 第一反応工程／第二反応工程生成比：重量比１／9.３ 以上から、ｌｏｇＭＳ＝−0.２２であり、一方、3.１７
×ｌｏｇ〔η〕−0.６８＝0.０３であり、式（Ｉ）の関
係を満足しない。

【００６２】

【発明の効果】本発明によれば、溶融張力が高く、成形
加工性に優れ、発泡成形，シート成形，ブロー成形など
に適用でき、特に大型ブロー成形や厚物発泡体などの成
形に好適に用いられるプロピレン単独重合体を安価に、
かつ効率よく製造することができる。

Claims (6)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 （Ａ）（ａ）インデニル骨格を有する周
   期律表４族の遷移金属化合物と、（ｂ）（イ）アルミニ
   ウムオキシ化合物及び（ロ）上記遷移金属化合物と反応
   してカチオンに変換しうるイオン性化合物の中から選ば
   れた少なくとも一種とを含有してなる重合触媒を用い、
   テトラリン溶媒中、温度１３５℃において測定した極限
   粘度〔η〕が0.００８〜0.８デシリットル／ｇのプロピ
   レン単独重合体を製造する第一反応工程、及び（Ｂ）上
   記第一反応工程で得られた反応混合物の存在下、プロピ
   レンの重合を行う第二反応工程を順次施すことを特徴と
   する、メルトインデックスが0.００５〜１０００ｇ／１
   ０分の範囲にあり、かつ温度２３０℃において測定した
   溶融張力ＭＳ（ｇ）と、テトラリン溶媒中、温度１３５
   ℃において測定した極限粘度〔η〕（デシリットル／
   ｇ）とが、式 ｌｏｇＭＳ≧3.１７×ｌｏｇ〔η〕−0.６８ （Ｉ） の関係を満たすプロピレン単独重合体の製造方法。
2. 【請求項２】 （Ａ’）（ａ）インデニル骨格を有する
   周期律表４族の遷移金属化合物と、（ｂ）（イ）アルミ
   ニウムオキシ化合物及び（ロ）上記遷移金属化合物と反
   応してカチオンに変換しうるイオン性化合物の中から選
   ばれた少なくとも一種とを含有してなる重合触媒を用
   い、テトラリン溶媒中、温度１３５℃において測定した
   極限粘度〔η〕が3.３〜２０デシリットル／ｇのプロピ
   レン単独重合体を製造する第一反応工程、及び（Ｂ）上
   記第一反応工程で得られた反応混合物の存在下、プロピ
   レンの重合を行う第二反応工程を順次施すことを特徴と
   する、メルトインデックスが0.００５〜１０００ｇ／１
   ０分の範囲にあり、かつ溶融張力ＭＳ（ｇ）と、テトラ
   リン溶媒中、温度１３５℃において測定した極限粘度
   〔η〕（デシリットル／ｇ）とが、式 ｌｏｇＭＳ≧3.１７×ｌｏｇ〔η〕−0.６８ （Ｉ） の関係を満たすプロピレン単独重合体の製造方法。
3. 【請求項３】 第二反応工程で得られたプロピレン単独
   重合体が、第一反応工程で生成したプロピレン単独重合
   体を0.１〜４０重量％の割合で含有するものである請求
   項１又は２記載のプロピレン単独重合体の製造方法。
4. 【請求項４】 重合触媒が、（ｃ）成分として有機アル
   ミニウム化合物を含有するものである請求項１又は２記
   載のプロピレン単独重合体の製造方法。
5. 【請求項５】 重合触媒における（ａ）成分の遷移金属
   化合物が、一般式（II) 【化１】 〔式中、Ｒ¹ 〜Ｒ¹²は、それぞれ独立に水素原子，ハロ
   ゲン原子，炭素数１〜２０の炭化水素基又は炭素数１〜
   ２０のハロゲン含有炭化水素基を示し、Ｒ³ とＲ ⁴,Ｒ⁴
   とＲ⁵ , Ｒ⁵ とＲ⁶ , Ｒ⁹ とＲ¹⁰，Ｒ¹⁰とＲ¹¹及びＲ¹¹
   とＲ¹²は、それぞれたがいに結合して環を形成していて
   もよい。Ｘ¹ 及びＸ² は、それぞれ独立に水素原子，ハ
   ロゲン原子又は炭素数１〜２０の炭化水素基を示し、Ｙ
   は二つの配位子を結合する二価の基であって、炭素数１
   〜２０の炭化水素基，炭素数１〜２０のハロゲン含有炭
   化水素基，珪素含有基又はゲルマニウム若しくはスズ含
   有基を示し、Ｍはチタニウム，ジルコニウム又はハフニ
   ウムを示す。〕で表されるインデニル骨格を有する遷移
   金属化合物及びそれに対応する４，５，６，７−テトラ
   ヒドロインデニル骨格を有する遷移金属化合物、並びに
   一般式（III) 【化２】 〔式中、Ｍ¹ はチタニウム，ジルコニウム又はハフニウ
   ム、Ｘ³ はσ結合性の配位子を示し、Ｘ³ が複数ある場
   合、複数のＸ³ は同じでも異なっていてもよく、他のＸ
   ³ 又はＹ¹ と架橋していてもよい。Ｙ¹ はルイス塩基を
   示し、Ｙ¹ が複数ある場合、複数のＹ¹ は同じでも異な
   っていてもよく、他のＹ¹ 又はＸ³ と架橋していてもよ
   く、Ａ¹ 及びＡ² はそれぞれ炭素数１以上の炭化水素基
   から成る架橋基を示し、それらはたがいに同一でも異な
   っていてもよい。ｑは〔（Ｍ¹ の原子価）−２〕を示
   し、ｒは０〜３の整数を示す。Ｒ¹³〜Ｒ²²は、それぞれ
   独立に水素原子，ハロゲン原子，炭素数１〜２０の炭化
   水素基，炭素数１〜２０のハロゲン含有炭化水素基，珪
   素含有基又はヘテロ原子含有基を示し、また隣接する基
   同士がたがいに結合して環を形成していてもよい。〕で
   表されるインデニル骨格を有する遷移金属化合物及びそ
   れに対応する４，５，６，７−テトラヒドロインデニル
   骨格を有する遷移金属化合物の中から選ばれた少なくと
   も一種である請求項１又は２記載のプロピレン単独重合
   体の製造方法。
6. 【請求項６】 重合触媒として、（ａ）成分，（ｂ）成
   分及び（ｃ）成分の少なくとも一種が担体に固定されて
   なる担持触媒を用いる請求項４記載のプロピレン単独重
   合体の製造方法。