JPH10333601A - Electroluminescent element and its manufacture - Google Patents
Electroluminescent element and its manufactureInfo
- Publication number
- JPH10333601A JPH10333601A JP9143836A JP14383697A JPH10333601A JP H10333601 A JPH10333601 A JP H10333601A JP 9143836 A JP9143836 A JP 9143836A JP 14383697 A JP14383697 A JP 14383697A JP H10333601 A JPH10333601 A JP H10333601A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- electroluminescent
- thin film
- substrate
- adhesive
- film transistor
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 15
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 98
- 239000010409 thin film Substances 0.000 claims abstract description 77
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 claims abstract description 72
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 claims abstract description 72
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 claims description 23
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 23
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims description 14
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 claims description 12
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims description 11
- 239000003989 dielectric material Substances 0.000 claims description 10
- 238000005401 electroluminescence Methods 0.000 claims description 10
- 239000003086 colorant Substances 0.000 claims description 8
- 229910021420 polycrystalline silicon Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 229920005591 polysilicon Polymers 0.000 claims description 7
- 238000004020 luminiscence type Methods 0.000 claims description 6
- 239000006087 Silane Coupling Agent Substances 0.000 claims description 5
- 239000012212 insulator Substances 0.000 claims description 5
- 239000000615 nonconductor Substances 0.000 claims description 5
- 229910021417 amorphous silicon Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 229910021419 crystalline silicon Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 229910021424 microcrystalline silicon Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 239000011368 organic material Substances 0.000 claims description 4
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 2
- 238000007645 offset printing Methods 0.000 abstract description 5
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 abstract description 3
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 3
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 3
- 238000000576 coating method Methods 0.000 abstract description 3
- 238000007650 screen-printing Methods 0.000 abstract description 3
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 abstract description 3
- 239000004332 silver Substances 0.000 abstract description 3
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 2
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 2
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 abstract description 2
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 abstract description 2
- 239000010949 copper Substances 0.000 abstract description 2
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 abstract description 2
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 abstract 1
- 239000010408 film Substances 0.000 description 21
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 16
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 16
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 15
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 15
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 14
- 239000000463 material Substances 0.000 description 11
- 238000013508 migration Methods 0.000 description 7
- 230000005012 migration Effects 0.000 description 7
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 6
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 5
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 4
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010405 anode material Substances 0.000 description 3
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 3
- 230000005284 excitation Effects 0.000 description 3
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 3
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 2
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 101100489584 Solanum lycopersicum TFT1 gene Proteins 0.000 description 2
- 101100214488 Solanum lycopersicum TFT2 gene Proteins 0.000 description 2
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 2
- -1 aromatic tertiary amine Chemical class 0.000 description 2
- 238000004040 coloring Methods 0.000 description 2
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 2
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 2
- 238000002161 passivation Methods 0.000 description 2
- 238000000623 plasma-assisted chemical vapour deposition Methods 0.000 description 2
- 239000002985 plastic film Substances 0.000 description 2
- 229920006255 plastic film Polymers 0.000 description 2
- 230000027756 respiratory electron transport chain Effects 0.000 description 2
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 2
- 125000000022 2-aminoethyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])N([H])[H] 0.000 description 1
- HXLAEGYMDGUSBD-UHFFFAOYSA-N 3-[diethoxy(methyl)silyl]propan-1-amine Chemical compound CCO[Si](C)(OCC)CCCN HXLAEGYMDGUSBD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SJECZPVISLOESU-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropan-1-amine Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCN SJECZPVISLOESU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001316 Ag alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004986 Cholesteric liquid crystals (ChLC) Substances 0.000 description 1
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004988 Nematic liquid crystal Substances 0.000 description 1
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 description 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004990 Smectic liquid crystal Substances 0.000 description 1
- WGLPBDUCMAPZCE-UHFFFAOYSA-N Trioxochromium Chemical compound O=[Cr](=O)=O WGLPBDUCMAPZCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 description 1
- 125000000732 arylene group Chemical group 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005605 benzo group Chemical group 0.000 description 1
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 1
- 125000000837 carbohydrate group Chemical group 0.000 description 1
- 239000010406 cathode material Substances 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 1
- 229910000423 chromium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 150000004985 diamines Chemical class 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 238000010292 electrical insulation Methods 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 1
- 239000004744 fabric Substances 0.000 description 1
- TWYVVGMYFLAQMU-UHFFFAOYSA-N gelgreen Chemical compound [I-].[I-].C1=C(N(C)C)C=C2[N+](CCCCCC(=O)NCCCOCCOCCOCCCNC(=O)CCCCC[N+]3=C4C=C(C=CC4=CC4=CC=C(C=C43)N(C)C)N(C)C)=C(C=C(C=C3)N(C)C)C3=CC2=C1 TWYVVGMYFLAQMU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052736 halogen Chemical group 0.000 description 1
- 150000002367 halogens Chemical group 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 1
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 1
- 230000007774 longterm Effects 0.000 description 1
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 1
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 1
- 229910001507 metal halide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000005309 metal halides Chemical class 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- MQWFLKHKWJMCEN-UHFFFAOYSA-N n'-[3-[dimethoxy(methyl)silyl]propyl]ethane-1,2-diamine Chemical compound CO[Si](C)(OC)CCCNCCN MQWFLKHKWJMCEN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000013110 organic ligand Substances 0.000 description 1
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 239000003973 paint Substances 0.000 description 1
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 1
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 1
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 description 1
- 230000006798 recombination Effects 0.000 description 1
- 238000005215 recombination Methods 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000679 solder Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 1
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 description 1
- BPSIOYPQMFLKFR-UHFFFAOYSA-N trimethoxy-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOCC1CO1 BPSIOYPQMFLKFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K59/00—Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
- H10K59/10—OLED displays
- H10K59/12—Active-matrix OLED [AMOLED] displays
- H10K59/127—Active-matrix OLED [AMOLED] displays comprising two substrates, e.g. display comprising OLED array and TFT driving circuitry on different substrates
- H10K59/1275—Electrical connections of the two substrates
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Electroluminescent Light Sources (AREA)
- Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)
Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、表示装置、発光光
源又は電子写真プリンタのプリンタ・ヘッドに適用可能
なエレクトロ・ルミネセンス素子及びその製造法に関す
る。特に、本発明は、大画面のフルカラー表示に適した
有機エレクトロ・ルミネセンス体を用いた素子及びその
製造法に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an electroluminescent device applicable to a display device, a light source, or a printer head of an electrophotographic printer, and a method of manufacturing the same. In particular, the present invention relates to a device using an organic electroluminescent body suitable for full-color display on a large screen and a method for manufacturing the same.
【0002】[0002]
【従来の技術】有機エレクトロ・ルミネセンス体とし
て、例えば特開昭特開平6−256759号公報、特開
平6−136360号公報、特開平6−188074号
公報、特開平6−192654号公報や特開平8−41
452号公報に開示されたものが知られている。2. Description of the Related Art Japanese Patent Application Laid-Open Nos. 6-256759, 6-136360, 6-1888074 and 6-192654 disclose organic electroluminescent materials. Kaihei 8-41
No. 452 is known.
【0003】また、これらの有機エレクトロ・ルミネセ
ンス体は、例えば特開平8−241048号公報に記載
の薄膜トランジスタによって駆動することが知られてい
る。Further, it is known that these organic electroluminescent bodies are driven by, for example, a thin film transistor described in JP-A-8-241048.
【0004】[0004]
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、有機エ
レクトロ・ルミネセンス体を薄膜トランジスタによって
駆動するために、薄膜トランジスタのドレイン電極パッ
ド毎に有機エレクトロ・ルミネセンス体を設けることを
必要とし、特にフルカラー表示の場合には、青色、緑色
及び赤色の三原色をエレクトロ・ルミネセンス発光させ
る3種のエレクトロ・ルミネセンス体を薄膜トランジス
タ基板上で、パターニング形成することが必要であった
が、薄膜トランジスタ表面は、エレクトロ・ルミネセン
ス体薄膜と比較し、大きい凹凸面を形成しているため、
エレクトロ・ルミネセンス体薄膜を高精細・高密度でパ
ターニングするのが困難であり、更に薄膜トランジスタ
基板上にトランジスタとエレクトロ・ルミネセンス体と
の2種の機能素子を集中させたことに基づく低レベルの
生産性に問題点を持っていた。However, in order to drive the organic electroluminescent element by the thin film transistor, it is necessary to provide the organic electroluminescent element for each drain electrode pad of the thin film transistor. It was necessary to pattern three electroluminescent bodies for emitting blue, green and red primary colors on a thin film transistor substrate. Because it has a large uneven surface compared to the body thin film,
It is difficult to pattern the electroluminescent thin film with high definition and high density, and furthermore, the low level based on the concentration of the two kinds of functional elements of the transistor and the electroluminescent body on the thin film transistor substrate. Had problems with productivity.
【0005】本発明の目的は、上記問題点を解決する大
画面のフルカラー表示に適した有機エレクトロ・ルミネ
センス体を用いた素子及びその製造法を提供することに
ある。An object of the present invention is to provide an element using an organic electroluminescent body suitable for full-color display on a large screen which solves the above problems, and a method for manufacturing the same.
【0006】[0006]
【課題を解決するための手段】本発明は、第1に、複数
の行及び列に沿って配置した薄膜トランジスタ、行毎
に、該行上の複数の薄膜トランジスタのゲートを共通に
接続したゲート線、列毎に、該列上の複数の薄膜トラン
ジスタのソースを共通に接続したソース線、薄膜トラン
ジスタの各ドレイン毎に接続したドレイン電極パッド、
及び該ドレイン電極パッドと並列接続したコンデンサを
備えたトランジスタ基板、並びに複数の行及び列に沿っ
て配置し、一対の電極及び該一対の電極間に配置したエ
レクトロ・ルミネセンス体を備えたエレクトロ・ルミネ
センス基板を有し、ドレイン電極パッドとエレクトロ・
ルミネセンス体とが対向する様に、薄膜トランジスタ基
板とエレクトロ・ルミネセンス基板とを配向配置し、ド
レイン電極パッドと一対の電極の一方の電極とを接着性
電気接続体を通して接続してなるエレクトロ・ルミネセ
ンス素子に、第1の特徴を有し、第2に、複数の行及び
列に沿って配置した第1薄膜トランジスタ、行毎に、該
行上の複数の第1薄膜トランジスタのゲートを共通に接
続したゲート線、列毎に、該列上の複数の第1薄膜トラ
ンジスタのソースを共通に接続したソース線、第1薄膜
トランジスタの各ドレイン毎に接続した第2薄膜トラン
ジスタ、及び該第2薄膜トランジスタと並列接続したコ
ンデンサを備え、該第2薄膜トランジスタのゲートを第
1薄膜トランジスタのドレインに接続させ、該第2薄膜
トランジスタの各ドレイン毎にドレイン電極パッドを接
続させ、そして第2薄膜トランジスタのソースと該コン
デンサの一方の電極とを接続させてなるトランジスタ基
板、並びに複数の行及び列に沿って配置し、一対の電極
及び該一対の電極間に配置したエレクトロ・ルミネセン
ス体を備えたエレクトロ・ルミネセンス基板を有し、ド
レイン電極パッドとエレクトロ・ルミネセンス体とが対
向する様に、薄膜トランジスタ基板とエレクトロ・ルミ
ネセンス基板とを配向配置し、ドレイン電極パッドと一
対の電極の一方の電極とを接着性電気接続体を通して接
続してなるエレクトロ・ルミネセンス素子に、第2の特
徴を有し、第3に、複数の行及び列に沿って配置した薄
膜トランジスタ、行毎に、該行上の複数の薄膜トランジ
スタのゲートを共通に接続したゲート線、列毎に、該列
上の複数の薄膜トランジスタのソースを共通に接続した
ソース線、薄膜トランジスタの各ドレイン毎に接続した
ドレイン電極パッド、及び該ドレイン電極パッドと並列
接続したコンデンサを備えたトランジスタ基板を用意
し、複数の行及び列に沿って配置し、一対の電極及び該
一対の電極間に配置したエレクトロ・ルミネセンス体を
備えたエレクトロ・ルミネセンス基板を用意し、トラン
ジスタ基板のドレイン電極パッド及びエレクトロ・ルミ
ネセンス体のうち少なくとも一方に接着性電気接続体を
配置し、ドレイン電極パッドとエレクトロ・ルミネセン
ス体とが対向する様に、薄膜トランジスタ基板とエレク
トロ・ルミネセンス基板とを配向配置し、重ね合せるエ
レクトロ・ルミネセンス素子の製造法に、第3の特徴を
有し、第4に、複数の行及び列に沿って配置した薄膜ト
ランジスタ、行毎に、該行上の複数の薄膜トランジスタ
のゲートを共通に接続したゲート線、列毎に、該列上の
複数の薄膜トランジスタのソースを共通に接続したソー
ス線、薄膜トランジスタの各ドレイン毎に接続したドレ
イン電極パッド、及び該ドレイン電極パッドと並列接続
したコンデンサを備えたトランジスタ基板を用意する工
程、複数の行及び列に沿って配置し、一対の電極及び該
一対の電極間に配置したエレクトロ・ルミネセンス体を
備えたエレクトロ・ルミネセンス基板を用意する工程、
トランジスタ基板のドレイン電極パッド及びエレクトロ
・ルミネセンス体のうちの少なくとも一方に接着性電気
接続体を配置する工程、トランジスタ基板のドレイン電
極パッド及びエレクトロ・ルミネセンス体のうちの少な
くとも一方に接着性電気絶縁体を該接着性電気接続体の
外周部となる位置に配置する工程、並びにドレイン電極
パッドとエレクトロ・ルミネセンス体とが対向する様
に、薄膜トランジスタ基板とエレクトロ・ルミネセンス
基板とを配向配置し、重ね合せる工程を有するエレクト
ロ・ルミネセンス素子の製造法に、第4の特徴を有し、
第5に、複数の行及び列に沿って配置した薄膜トランジ
スタ、行毎に、該行上の複数の薄膜トランジスタのゲー
トを共通に接続したゲート線、列毎に、該列上の複数の
薄膜トランジスタのソースを共通に接続したソース線、
薄膜トランジスタの各ドレイン毎に接続したドレイン電
極パッド、及び該ドレイン電極パッドと並列接続したコ
ンデンサを備えたトランジスタ基板を用意する工程、複
数の行及び列に沿って配置し、一対の電極及び該一対の
電極間に配置したエレクトロ・ルミネセンス体を備えた
エレクトロ・ルミネセンス基板を用意する工程、トラン
ジスタ基板のドレイン電極パッド及びエレクトロ・ルミ
ネセンス体のうちの少なくとも一方に接着性電気接続体
を配置する工程、トランジスタ基板のドレイン電極パッ
ド及びエレクトロ・ルミネセンス体のうちの少なくとも
一方に接着性電気絶縁体を該接着性電気接続体の外周部
となる位置に配置する工程、ドレイン電極パッドとエレ
クトロ・ルミネセンス体とが対向する様に、薄膜トラン
ジスタ基板とエレクトロ・ルミネセンス基板とを配向配
置し、重ね合せる工程、並びに薄膜トランジスタ基板と
エレクトロ・ルミネセンス基板との間を真空排気し、接
着性電気接続体及び接着性静電気絶縁体を加熱硬化させ
る工程を有するエレクトロ・ルミネセンス素子の製造法
に、第5の特徴を有する。According to the present invention, there are firstly provided a thin film transistor arranged along a plurality of rows and columns, a gate line commonly connecting the gates of a plurality of thin film transistors on the row for each row, For each column, a source line commonly connected to sources of a plurality of thin film transistors on the column, a drain electrode pad connected to each drain of the thin film transistor,
And a transistor substrate having a capacitor connected in parallel with the drain electrode pad, and an electro-luminescent device having a pair of electrodes and an electro-luminescent body disposed between the pair of electrodes, arranged along a plurality of rows and columns. Having a luminescence substrate, a drain electrode pad and an electro-
An electroluminescent device in which a thin film transistor substrate and an electroluminescent substrate are oriented so that the luminescent body faces each other, and a drain electrode pad and one electrode of a pair of electrodes are connected through an adhesive electrical connector. The sense element has the first feature, and secondly, the first thin film transistors arranged along a plurality of rows and columns, and for each row, the gates of the plurality of first thin film transistors on the row are commonly connected. A gate line, a source line commonly connecting the sources of the plurality of first thin film transistors on the column, a second thin film transistor connected to each drain of the first thin film transistor, and a capacitor connected in parallel with the second thin film transistor for each column Wherein the gate of the second thin film transistor is connected to the drain of the first thin film transistor; A transistor substrate formed by connecting a drain electrode pad for each rain and connecting a source of the second thin film transistor to one electrode of the capacitor; and a plurality of rows and columns, and a pair of electrodes and the pair of electrodes. Having an electroluminescent substrate having an electroluminescent body disposed between the electrodes, and orienting the thin film transistor substrate and the electroluminescent substrate such that the drain electrode pad and the electroluminescent body face each other. An electroluminescent element, which is disposed and connected between the drain electrode pad and one of the pair of electrodes through an adhesive electrical connector, has a second feature, and thirdly, a plurality of rows and columns. Thin film transistors arranged along a row, and a gate in which the gates of a plurality of thin film transistors on the row are connected in common for each row. A transistor substrate including, for each line and column, a source line commonly connecting the sources of a plurality of thin film transistors on the column, a drain electrode pad connected to each drain of the thin film transistor, and a capacitor connected in parallel with the drain electrode pad And preparing an electroluminescent substrate having a pair of electrodes and an electroluminescent body disposed between the pair of electrodes, arranged along a plurality of rows and columns, and a drain electrode pad of a transistor substrate. An adhesive electrical connection is arranged on at least one of the electroluminescent body, and the thin film transistor substrate and the electroluminescent substrate are oriented and arranged so that the drain electrode pad and the electroluminescent body face each other. There is a third feature in the manufacturing method of the electroluminescent element to be superimposed. And fourthly, a thin film transistor arranged along a plurality of rows and columns, a gate line commonly connecting the gates of the plurality of thin film transistors on the row for each row, and a plurality of thin film transistors on the column for each column. Preparing a transistor substrate having a source line commonly connected to the source, a drain electrode pad connected to each drain of the thin film transistor, and a capacitor connected in parallel with the drain electrode pad, along a plurality of rows and columns. Disposing, preparing a pair of electrodes and an electroluminescent substrate having an electroluminescent body disposed between the pair of electrodes,
Disposing an adhesive electrical connection on at least one of the drain electrode pad and the electroluminescent body of the transistor substrate; and providing an adhesive electrical insulation on at least one of the drain electrode pad and the electroluminescent body of the transistor substrate. A step of arranging a body at a position to be an outer peripheral portion of the adhesive electrical connection body, and a thin film transistor substrate and an electro luminescence substrate oriented and arranged so that the drain electrode pad and the electro luminescence body face each other; The method for manufacturing an electroluminescent element having a step of overlapping has a fourth feature,
Fifth, thin film transistors arranged along a plurality of rows and columns, a gate line commonly connecting the gates of the plurality of thin film transistors on the row for each row, and a source of the plurality of thin film transistors on the column for each column A source line connected in common,
A step of preparing a transistor substrate provided with a drain electrode pad connected to each drain of the thin film transistor and a capacitor connected in parallel with the drain electrode pad, arranged along a plurality of rows and columns, and a pair of electrodes and the pair of electrodes; Providing an electroluminescent substrate having an electroluminescent body disposed between electrodes, and arranging an adhesive electrical connection on at least one of a drain electrode pad of the transistor substrate and the electroluminescent body Disposing an adhesive electric insulator on at least one of a drain electrode pad and an electroluminescent body of a transistor substrate at a position to be an outer peripheral portion of the adhesive electric connection body; The thin film transistor substrate and the element are Having a step of aligning and aligning the toro-luminescence substrate and overlapping, and a step of evacuating the thin-film transistor substrate and the electro-luminescence substrate to heat and cure the adhesive electrical connection body and the adhesive electrostatic insulator. The method for manufacturing an electroluminescent element has a fifth feature.
【0007】前記エレクトロ・クロシック体としては、
青色、緑色及び赤色の三原色を発光する媒体であって、
有機エレクトロ・ルミネセンス体が好ましい。[0007] As the electro-crosic body,
A medium that emits three primary colors of blue, green and red,
Organic electroluminescent bodies are preferred.
【0008】前記接着性電気接続体としては、導電性粒
子を接着剤中に分散含有させ、特にシランカップリング
剤を含有させたものが好ましい。[0008] As the above-mentioned adhesive electric connection body, one in which conductive particles are dispersed and contained in an adhesive, particularly a silane coupling agent is preferably contained.
【0009】前記接着性電気接続体の外周部は、接着性
電気絶縁体を配置した接着構造を採用するのが好まし
い。[0009] It is preferable that an outer peripheral portion of the adhesive electrical connection body adopts an adhesive structure in which an adhesive electrical insulator is disposed.
【0010】前記薄膜トランジスタは、ポリシリコン半
導体、結晶シリコン半導体、微結晶シリコン半導体又は
アモルファスシリコン半導体を用いるのが好ましい。Preferably, the thin film transistor uses a polysilicon semiconductor, a crystalline silicon semiconductor, a microcrystalline silicon semiconductor or an amorphous silicon semiconductor.
【0011】前記エレクトロ・ルミネセンス体をはさむ
一対の電極のうち、少なくとも一方の電極は、テクスチ
ャ構造をもつZnO透明電極であるのが好ましい。It is preferable that at least one of a pair of electrodes sandwiching the electroluminescent body is a ZnO transparent electrode having a texture structure.
【0012】[0012]
【発明の実施の形態】本発明を図面に沿って説明する。
以下、上記薄膜トランジスタを「TFT」と記載し、上
記エレクトロ・ルミネセンス体を「EL」と記憶する。DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The present invention will be described with reference to the drawings.
Hereinafter, the thin film transistor is described as “TFT”, and the electroluminescent body is stored as “EL”.
【0013】図1は能動マトリックス4端子TFT−E
L素子の概略図を示す。各画素の素子は2つのTFTと
記憶コンデンサとEL素子とを含む。4端子方式の主な
特徴はEL励起信号からのアドレッシング信号を分離す
る能力である。EL素子は論理TFT(T1)を介して
選択され、EL素子に対する励起電力は電力TFT(T
2)により制御される。記憶コンデンサはそれがいった
ん選択されたアドレスされたEL素子に励起電力を留め
ることを可能にする。斯くして回路はEL素子がアドレ
ッシングに対して割り当てられた時間を無視して100
%に近いデュティサイクルで動作することを許容する。FIG. 1 shows an active matrix 4-terminal TFT-E.
1 shows a schematic view of an L element. The element of each pixel includes two TFTs, a storage capacitor, and an EL element. A key feature of the four-terminal scheme is the ability to separate the addressing signal from the EL excitation signal. The EL element is selected via the logic TFT (T1), and the excitation power for the EL element is the power TFT (T1).
Controlled by 2). The storage capacitor allows it to retain the excitation power on the addressed EL element once selected. Thus, the circuit ignores the time that the EL element is allocated for addressing and
% To operate with a duty cycle close to%.
【0014】ゲートラインYj ,Yj+1 は、好ましくは
640本、1120本などの様に多数本数配線し、順次
ゲートパルスが印加される。ゲートパルスは、インター
レース走査またはノン・インタレース走査の何れであっ
てもよい。The gate lines Y j and Y j + 1 are preferably arranged in a large number such as 640 lines and 1120 lines, and gate pulses are sequentially applied. The gate pulse may be interlaced scanning or non-interlaced scanning.
【0015】ソース・ラインXj ,Xj+1 ,Xj+2 は、
好ましくは840本、1280本などの様に多数本数配
線し、ゲートパルスと同期させて、映像データに応じて
設定した電圧の情報信号パルスが印加される。The source lines X j , X j + 1 , X j + 2 are
Preferably, a large number of wires such as 840 wires or 1280 wires are wired, and an information signal pulse of a voltage set according to video data is applied in synchronization with a gate pulse.
【0016】図中のRELは赤色発光EL、GELは緑
色発光EL、BELは青色発光ELで、ソースラインX
j には赤色の情報信号パルス、Xj+1 には緑色情報パル
ス、Xj+2 には赤色情報パルスが印加される。これによ
ってフルカラー表示が行なわれる。In the figure, REL is a red light emitting EL, GEL is a green light emitting EL, BEL is a blue light emitting EL, and the source line X
A red information signal pulse is applied to j , a green information pulse is applied to X j + 1 , and a red information pulse is applied to X j + 2 . Thus, full-color display is performed.
【0017】図2は、本発明のTFT基板3の代表例を
示す平面図である。TFT1は図1のT1に対応し、T
FT2は図1のT2に対応し、コンデンサ21は図1の
Csに対応し、ドレイン電極パッド22は図1の各EL
毎のT2 のドレイン接続電極に対応している。FIG. 2 is a plan view showing a typical example of the TFT substrate 3 of the present invention. TFT1 corresponds to T1 in FIG.
FT2 corresponds to T2 in FIG. 1, capacitor 21 corresponds to Cs in FIG. 1, and drain electrode pad 22 corresponds to each EL in FIG.
Corresponds to the drain connection electrode of the T 2 of the respective.
【0018】図3は、図2のA−A′断面図である。図
4は、図2のB−B′断面図である。FIG. 3 is a sectional view taken along line AA 'of FIG. FIG. 4 is a sectional view taken along the line BB 'of FIG.
【0019】本発明で用いたTFT1及びTFT2とし
ては、ソースバス24をn+ ポリシリコンに接続し、ド
レインをn+ ポリシリコンに接続し、I型ポリシリコン
膜をはさんで配置したゲート絶縁膜にPECVD(プラ
ズマ増強CVD)−SiO2膜32を配置し、ゲートバ
スをn+ ポリシリコンに接続したトランジスタ構造を採
用した。Examples of the TFT1 and TFT2 used in the present invention, to connect the source bus 24 to the n + polysilicon, and a drain connected to the n + polysilicon, a gate insulating film disposed across the I-type polycrystalline silicon film (Plasma-enhanced CVD) -SiO 2 film 32 was arranged, and a transistor structure in which a gate bus was connected to n + polysilicon was adopted.
【0020】本発明は、上述したトランジスタ構造に限
定されることなく、アモルファスシリコンC微結晶シリ
コン半導体を用いたスタガー構造又はコプレナー構造の
何れをも適用することができる。The present invention is not limited to the transistor structure described above, but can be applied to either a staggered structure using an amorphous silicon C microcrystalline silicon semiconductor or a coplanar structure.
【0021】また、本発明は、結晶シリコンを用いたS
O1(シリコン・オン・インシュレータ)構造のMOS
トランジスタに適用することができる。Further, the present invention relates to an S-type semiconductor device using crystalline silicon.
MOS with O1 (silicon on insulator) structure
It can be applied to a transistor.
【0022】コンデンサCsは、図4の一対のコンデン
サ電極41と42及び該一対のコンデンサ電極間に設け
たSiO2 膜33によって形成される。コンデンサ電極
は、Al等によって成膜され、グランドバス25と接続
配線され、コンデンサ電極42はn+ ポリシリコン膜に
よって成膜され、TFT2のドレインに接続される。The capacitor Cs is formed by the pair of capacitor electrodes 41 and 42 of FIG. 4 and the SiO 2 film 33 provided between the pair of capacitor electrodes. The capacitor electrode is formed of Al or the like and is connected to the ground bus 25, and the capacitor electrode 42 is formed of an n + polysilicon film and is connected to the drain of the TFT2.
【0023】ゲートバス23及びソースバス24は、ク
ロム/アルミ積層配線が好ましく用いられる。As the gate bus 23 and the source bus 24, a chromium / aluminum laminated wiring is preferably used.
【0024】パシベーション34としては、プラズマC
VDによってチッ化シリコン膜が適している。As passivation 34, plasma C
Depending on the VD, a silicon nitride film is suitable.
【0025】ドレイン電極パット22としては、反射性
能を持たせるために、アルミニウム、銀などの金属膜を
用いることができるが、ITOやZnOの様な透明導電
膜であってもよい。As the drain electrode pad 22, a metal film such as aluminum or silver can be used in order to give a reflection performance, but a transparent conductive film such as ITO or ZnO may be used.
【0026】図5は、本発明で用いたEL基板6の平面
図で、図6のは、図5のC−C′断面図である。FIG. 5 is a plan view of the EL substrate 6 used in the present invention, and FIG. 6 is a sectional view taken along the line CC 'of FIG.
【0027】EL基板6は、ガラス基板61、ガラス基
板61上に設けた一対の電極である透明電極51と反射
面を形成するアルミニウムなどのEL電極パッド62及
び該一対の電極間に設けたELによって構成される。The EL substrate 6 includes a glass substrate 61, a transparent electrode 51 as a pair of electrodes provided on the glass substrate 61, an EL electrode pad 62 of aluminum or the like forming a reflection surface, and an EL provided between the pair of electrodes. Composed of
【0028】EL52としては、有機ELが好ましく、
特にREL、GEL及びBELを構成するものが配置さ
れる。As the EL 52, an organic EL is preferable.
In particular, components constituting REL, GEL and BEL are arranged.
【0029】具体的なREL、GEL及びBELを下記
に列挙するが、本発明はこれらに限定されるものではな
く、また有機ELの代わりに無機ELを適用することも
できる。Specific REL, GEL and BEL are listed below, but the present invention is not limited to these, and inorganic EL can be applied instead of organic EL.
【0030】本発明の有機ELでの材料は、Scozz
afavaのEPA349,265(1990);Ta
ngのアメリカ特許第4,356,429号;VanS
lyke等のアメリカ特許第4,539,507号;V
anSlyke等のアメリカ特許第4,720,43
2;Tang等のアメリカ特許第4,769,292
号;Tang等のアメリカ特許第4,885,211
号;Perry等のアメリカ特許第4,950,95
0;Littman等のアメリカ特許第5,059,8
61号;VanSlykeのアメリカ特許第5,04
7,687号;Scozzafava等のアメリカ特許
第5,073,446号;VanSlyke等のアメリ
カ特許第5,059,862号;VanSlyke等の
アメリカ特許第5,061,617号;VanSlyk
eのアメリカ特許第5,151,629号;Tang等
のアメリカ特許第5,294,869号;Tang等の
アメリカ特許第5,294,870号)に開示のものを
用いることができる。EL層は陽極と接触する有機ホー
ル注入及び移動帯と、有機ホール注入及び移動帯と接合
を形成する電子注入及び移動帯とからなる。ホール注入
及び移動帯は単一の材料又は複数の材料から形成され
え、陽極及び、ホール注入層と電子注入及び移動帯の間
に介装される連続的なホール移動層と接触するホール注
入層からなる。同様に電子注入及び移動帯は単一材料又
は複数の材料から形成されえ、陽極及び、電子注入層と
ホール注入及び移動帯の間に介装される連続的な電子移
動層と接触する電子注入層からなる。ホールと電子の再
結合とルミネセンスは電子注入及び移動帯とホール注入
及び移動帯の接合に隣接する電子注入及び移動帯内で発
生する。有機EL層を形成する化合物は典型的には蒸着
により堆積されるが、他の従来技術によりまた堆積され
うる。The material for the organic EL of the present invention is Scozz
afava's EPA 349, 265 (1990); Ta
ng U.S. Pat. No. 4,356,429; VanS.
lyke et al., US Pat. No. 4,539,507;
U.S. Patent No. 4,720,43 to AnSlyke et al.
2; U.S. Patent No. 4,769,292 to Tang et al.
No .: U.S. Pat. No. 4,885,211 to Tang et al.
No. 4,950,95 to Perry et al.
0; U.S. Pat. No. 5,059,8 to Littman et al.
No. 61; VanSlyke U.S. Pat. No. 5,044.
U.S. Pat. No. 5,073,446; VanSlyke et al., U.S. Pat. No. 5,059,862; VanSlyke et al., U.S. Pat. No. 5,061,617; VanSlyk.
e, U.S. Pat. No. 5,151,629; Tang et al., U.S. Pat. No. 5,294,869; Tang et al., U.S. Pat. No. 5,294,870) can be used. The EL layer includes an organic hole injection / migration band that contacts the anode, and an electron injection / migration band that forms a junction with the organic hole injection / migration band. The hole injection and transfer zone may be formed from a single material or a plurality of materials, and is in contact with the anode and a continuous hole transfer layer interposed between the hole injection layer and the electron injection and transfer zone. Consists of Similarly, the electron injection and transfer zone can be formed from a single material or multiple materials, and the electron injection contacting the anode and a continuous electron transfer layer interposed between the electron injection layer and the hole injection and transfer zone. Consists of layers. The recombination and luminescence of holes and electrons occurs in the electron injection and migration bands adjacent to the junction of the electron injection and migration bands and the hole injection and migration bands. The compound forming the organic EL layer is typically deposited by evaporation, but can also be deposited by other conventional techniques.
【0031】好ましい実施例ではホール注入層からなる
有機材料は以下のような一般的な式を有する:In a preferred embodiment, the organic material comprising the hole injection layer has the following general formula:
【0032】[0032]
【外1】 [Outside 1]
【0033】ここで:QはN又はC−R Mは金属、金属酸化物、又は金属ハロゲン化物 T1、T2は水素を表すか又はアルキル又はハロゲンの
ような置換器を含む不飽和六員環を共に満たす。好まし
いアルキル部分は約1から6の炭素原子を含む一方でフ
ェニルは好ましいアリル部分を構成する。Wherein: Q is N or C—R M is a metal, metal oxide, or metal halide T1, T2 represents hydrogen or an unsaturated six-membered ring containing a substituent such as alkyl or halogen. Meet together. Preferred alkyl moieties contain about 1 to 6 carbon atoms while phenyl constitutes a preferred allyl moiety.
【0034】好ましい実施例ではホール移動層は芳香族
第三アミンである。芳香族第三アミンの好ましいサブク
ラスは以下の式を有するテトラアリルジアミンを含む:In a preferred embodiment, the hole transfer layer is an aromatic tertiary amine. A preferred subclass of aromatic tertiary amines includes tetraallyl diamine having the formula:
【0035】[0035]
【外2】 [Outside 2]
【0036】ここでAreはアリレン群であり、nは1
から4の整数であり、Ar、R7 ,R8 ,R9 はそれぞ
れ選択されたアリル群である。好ましい実施例ではルミ
ネセンス、電子注入及び移動帯は金属オキシノイド(o
xinoid)化合物を含む。金属オキシノイド化合物
の好ましい例は以下の一般的な式を有する:Here, Are is an arylene group, and n is 1
To 4, and Ar, R 7 , R 8 , and R 9 are each selected allyl groups. In a preferred embodiment, the luminescence, electron injection and migration bands are metal oxinoid (o
xinoid) compounds. Preferred examples of metal oxinoid compounds have the following general formula:
【0037】[0037]
【外3】 [Outside 3]
【0038】ここでR2 −R7 は置き換え可能性を表
す。他の好ましい実施例では金属オキシノイド化合物は
以下の式を有する:Here, R 2 -R 7 represent the possibility of substitution. In another preferred embodiment, the metal oxinoid compound has the formula:
【0039】[0039]
【外4】 [Outside 4]
【0040】ここでR2 −R7 は上記で定義されたもの
であり、L1−L5は集中的に12又はより少ない炭素
原子を含み、それぞれ別々に1から12の炭素原子の水
素又は炭水化物群を表し、L1,L2は共に、又はL
2,L3は共に連合されたベンゾ環を形成しうる。他の
好ましい実施例では金属オキシノイド化合物は以下の式
である。Wherein R 2 -R 7 are as defined above, and L 1 -L 5 contain 12 or fewer carbon atoms intensively and each independently represents a hydrogen or carbohydrate group of 1 to 12 carbon atoms. L1 and L2 together or L
2, L3 may together form an associated benzo ring. In another preferred embodiment, the metal oxinoid compound has the formula:
【0041】[0041]
【外5】 [Outside 5]
【0042】ここでR2 −R6 は水素又は他の置き換え
可能性を表す。上記例は単にエレクトロルミネセンス層
内で用いられるある好ましい有機材料を表すのみであ
る。それらは本発明の視野を制限することを意図するも
のではなく、これは一般に有機エレクトロルミネセンス
層を指示するものである。上記例からわかるように有機
EL材料は有機リガンドを有する配位化合物を含む。Where R 2 -R 6 represent hydrogen or other substitutability. The above examples merely represent certain preferred organic materials used in the electroluminescent layer. They are not intended to limit the field of view of the invention, which is generally indicative of an organic electroluminescent layer. As can be seen from the above example, the organic EL material contains a coordination compound having an organic ligand.
【0043】次のプロセス段階ではEL陽極84はデバ
イスの表面上に堆積される。EL陽極はどのような導電
性の材料でも良いが、好ましくは4eV以下の仕事関数
を有する材料で作られる(Tang等のアメリカ国特許
等4885211号を参照)。低い仕事関数材料は陽極
に好ましい。何故ならばそれらは電子移動層内に容易に
電子を放出するからである。最も低い仕事関数の金属は
アルカリ金属であるが、しかしながらそれらの空気中で
の不安定性はそれらの使用をある条件下で実際的でなく
している。陽極材料は典型的には化学蒸着により堆積さ
れるが、他の適切堆積技術も適用可能である。EL陽極
に対して特に好ましい材料は10:1(原子比で)マグ
ネシウム:銀合金であることが見いだされた。好ましく
は陽極は表示パネルの全表面にわたる連続層として適用
される。他の実施例ではEL陽極は有機電子注入及び移
動帯に隣接した低い仕事関数の金属のより低い層からな
り、低い仕事関数の金属をオーバーレイし、低い仕事関
数の金属を酸素及び湿度から保護する保護層とからな
る。In the next process step, EL anode 84 is deposited on the surface of the device. The EL anode is made of any conductive material, but is preferably made of a material having a work function of 4 eV or less (see U.S. Pat. No. 4,885,211 to Tang et al.). Low work function materials are preferred for the anode. Because they readily emit electrons into the electron transfer layer. The lowest work function metals are alkali metals, however, their instability in air makes their use impractical under certain conditions. The anode material is typically deposited by chemical vapor deposition, but other suitable deposition techniques are applicable. A particularly preferred material for the EL anode has been found to be a 10: 1 (atomic ratio) magnesium: silver alloy. Preferably, the anode is applied as a continuous layer over the entire surface of the display panel. In another embodiment, the EL anode comprises a lower layer of low work function metal adjacent to the organic electron injection and transfer zone, overlaying the low work function metal and protecting the low work function metal from oxygen and humidity. And a protective layer.
【0044】典型的には陽極材料は透明であり、陰極材
料は不透明であり、それにより光は陽極材料を通して透
過する。しかしながら代替実施例では光は陽極よりもむ
しろ陰極を等して放射される。この場合には陰極は光透
過性であり、陽極は不透明である。光透過と技術的伝導
性の実際的なバランスは典型的には5−25nmの範囲
の厚さである。Typically, the anode material is transparent and the cathode material is opaque, so that light is transmitted through the anode material. However, in an alternative embodiment, light is emitted on the cathode rather than the anode. In this case, the cathode is light transmissive and the anode is opaque. The practical balance between light transmission and technical conductivity is typically a thickness in the range of 5-25 nm.
【0045】また、本発明では、EL基板6に用いたガ
ラス基板61に代えて、プラスチックフィルムを用いる
ことができ、また透明電極51としてITO、ZnOを
用いることができる。In the present invention, a plastic film can be used in place of the glass substrate 61 used for the EL substrate 6, and ITO and ZnO can be used for the transparent electrode 51.
【0046】透明電極51は、EL52の表面積を増大
させるために、その表面を微細な凹凸をもつテクスチャ
ー構造を採用することができる。好適なテクスチャー構
造を形成するためには、ZnOを堆積する時の基板温度
を250℃−300℃の様な比較的高湿度とした条件下
でのスパッタ法を用いることができる。In order to increase the surface area of the EL 52, the transparent electrode 51 can adopt a texture structure having fine irregularities on the surface. In order to form a suitable texture structure, it is possible to use a sputtering method in which the substrate temperature at the time of depositing ZnO is set at a relatively high humidity such as 250 ° C. to 300 ° C.
【0047】また、透明電極51の非EL52領域は、
遮光マスク(図示せず)を設けることができる。この際
の遮光マスクとしては、アルミニウム膜、クロス膜の様
な金属膜、またはこれら金属膜による反射光の発生を防
止するための酸化クロム膜や酸化アルミニウム膜を単独
で、あるいは金属膜に積層させて設けることができる。
金属膜は透明電極51の抵抗を実質的に低下させるの
で、透明電極51の上に金属膜を積層し、さらにこの上
に酸化金属膜を設けるのが好ましい。The non-EL 52 region of the transparent electrode 51 is
A light shielding mask (not shown) can be provided. As a light-shielding mask at this time, a metal film such as an aluminum film or a cloth film, or a chromium oxide film or an aluminum oxide film for preventing the generation of light reflected by these metal films is used alone or is laminated on the metal film. Can be provided.
Since the metal film substantially lowers the resistance of the transparent electrode 51, it is preferable to stack a metal film on the transparent electrode 51 and further provide a metal oxide film thereon.
【0048】透明電極51は、本発明のEL素子に駆動
中は、アースまたは所定のDC電圧に設定される。The transparent electrode 51 is set to ground or a predetermined DC voltage while the EL element of the present invention is being driven.
【0049】図7は、本発明のEL素子の断面図であ
る。EL素子は、TFT基板3とEL基板6とが互いに
対向し、これによってEL基板6側のEL電極パッド6
2とTFT基板3側のドレイン電極パッド22とを対向
配置し、両方の電極間を接着性電気接続体71によって
電気的な接続を行なう。FIG. 7 is a sectional view of the EL device of the present invention. In the EL element, the TFT substrate 3 and the EL substrate 6 are opposed to each other.
2 and the drain electrode pad 22 on the TFT substrate 3 side are arranged to face each other, and an electrical connection is made between both electrodes by an adhesive electric connection body 71.
【0050】接着性電気接続体71は、エポキシ系又は
フェノール系熱硬化接着剤中にカーボン粒子、銀粒子や
銅粒子の様な導電性粒子が分散含有された導電性接着剤
を用い、これをスクリーン印刷法、オフセット印刷法又
はディスペンサー塗布法などの採用によって、EL基板
6またはTFT基板3、あるいはその両方の所定位置に
塗布し、乾燥させることによって得られる。The adhesive electrical connection 71 is made of a conductive adhesive in which conductive particles such as carbon particles, silver particles and copper particles are dispersed and contained in an epoxy or phenolic thermosetting adhesive. By adopting a screen printing method, an offset printing method, a dispenser coating method, or the like, it can be obtained by applying to a predetermined position of the EL substrate 6 or the TFT substrate 3 or both of them and drying.
【0051】上述の導電性接着剤中には、界面接着力を
増強するために、N−(2−アミノエチル)−3−アミ
ノプロピルメチルジメトキシシラン、N−(2−アミノ
エチル)−3−アミノプロピルトリメトキシシラン、3
−アミノプロピルトリメトキシシラン、3−アミノプロ
ピルメチルジエトキシシラン、3−グリシドキシプロピ
ルトリメトキシシランなどのシランカップリング剤を含
有させることができる。In the above-mentioned conductive adhesive, N- (2-aminoethyl) -3-aminopropylmethyldimethoxysilane and N- (2-aminoethyl) -3-in order to enhance interfacial adhesive strength. Aminopropyltrimethoxysilane, 3
A silane coupling agent such as -aminopropyltrimethoxysilane, 3-aminopropylmethyldiethoxysilane, or 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane.
【0052】接着性電気接続体71の他の例としては、
ハンダなどが挙げられる。As another example of the adhesive electric connection body 71,
And solder.
【0053】上述の接着性電気接続体71の外周部に
は、接着性電気絶縁体72が設けられる。接着性電気絶
縁体72は、エポキシ系又はフェノール系絶縁接着剤を
EL基板6またはTFT基板、あるいはその両方の所定
位置に、オフセット印刷法、スクリーン印刷法又はディ
スペンサー塗布法などの方法によって、塗布し、乾燥さ
せることによって得られる。この際、絶縁接着剤及び導
電性接着剤の塗布に当って、EL基板6またはTFT基
板3の一方の基板に対して絶縁接着剤を設け、この絶縁
接着剤を設けていない方の基板に対して導電性接着剤を
設ける製造方法を用いるのが好適である。An adhesive electric insulator 72 is provided on the outer peripheral portion of the above-mentioned adhesive electric connection body 71. The adhesive electric insulator 72 is formed by applying an epoxy-based or phenol-based insulating adhesive to predetermined positions of the EL substrate 6 and / or the TFT substrate by a method such as an offset printing method, a screen printing method, or a dispenser coating method. , Dried. At this time, when applying the insulating adhesive and the conductive adhesive, an insulating adhesive is provided on one of the EL substrate 6 and the TFT substrate 3, and the substrate on which the insulating adhesive is not provided is provided. It is preferable to use a manufacturing method in which a conductive adhesive is provided.
【0054】また、本発明では、上述の接着性電気絶縁
体72に代えて、接着力を持っていない絶縁体、例えば
有機溶媒、特に高沸点有機溶媒やネマチック液晶、コレ
ステリック液晶、スメクチック液晶の様な液晶などの液
体絶縁体を用いることもできる。Further, in the present invention, instead of the above-mentioned adhesive electric insulator 72, an insulator having no adhesive force, for example, an organic solvent, particularly a high-boiling organic solvent, a nematic liquid crystal, a cholesteric liquid crystal, a smectic liquid crystal or the like can be used. A liquid insulator such as a liquid crystal can also be used.
【0055】また、上述の接着性電気絶縁体72または
非接着性電気絶縁体には、遮光硬化を併せ持つ様に、着
色顔料や塗料などの着色体を含有させることもできる。Further, the above-mentioned adhesive electric insulator 72 or non-adhesive electric insulator may contain a coloring material such as a coloring pigment or a paint so as to also have light-shielding curing.
【0056】本発明のEL素子の製造に当って、TFT
基板3のドレイン電極パッド22の上に導電性接着剤を
例えばオフセット印刷法を用いて塗布し、EL基板6の
EL電極パッド62以外の領域(EL電極パッド62の
外周部)に絶縁接触剤を例えばオフセット印刷法を用い
て塗布し、ドレイン電極パッド22とEL電極パッド6
2とが相対向する様に、TFT基板3とEL基板6とを
重ね合せ、次いでTFT基板3とEL基板6との間隔の
空気を通常の方法で排気し、両基板3と6とに対し圧着
加熱を付加し、密着固定する方法を採用することができ
る。In manufacturing the EL device of the present invention, a TFT
A conductive adhesive is applied on the drain electrode pad 22 of the substrate 3 using, for example, an offset printing method, and an insulating contact agent is applied to a region other than the EL electrode pad 62 of the EL substrate 6 (the outer peripheral portion of the EL electrode pad 62). For example, by applying an offset printing method, the drain electrode pad 22 and the EL electrode pad 6
The TFT substrate 3 and the EL substrate 6 are overlapped such that the two oppose each other, and then the air between the TFT substrate 3 and the EL substrate 6 is evacuated by a normal method. It is possible to adopt a method of applying pressure bonding heating and fixing closely.
【0057】図8は、上記間隔の空気を排気した時に用
いた真空排気装置である。TFT基板3とEL基板6と
を重ね合せた状態で、ステージ81の上に載置し、周囲
に配置固定された一対O−リング82と83との間にプ
ラスチックフィルムなどのシート83によって、図示の
如く覆い、しかる後に真空排気ポンプ84を作動させ、
シート83内の空気を排気する。FIG. 8 shows a vacuum exhaust device used when the air at the above intervals is exhausted. The TFT substrate 3 and the EL substrate 6 are placed on a stage 81 in a superposed state, and are shown by a sheet 83 such as a plastic film between a pair of O-rings 82 and 83 arranged and fixed around the stage 81. And then operate the evacuation pump 84,
The air in the seat 83 is exhausted.
【0058】図9は、本発明の別のEL素子の等価回路
である。FIG. 9 is an equivalent circuit of another EL element of the present invention.
【0059】[0059]
【発明の効果】本発明によれば、高精細で、且つ高密度
のEL画素を大面積に亘って、高い生産性をもって得る
ことができた。According to the present invention, high-definition and high-density EL pixels can be obtained with high productivity over a large area.
【0060】また、本発明によれば、高輝度の発光を得
ることができ、高精細で、高密度でしかも高輝度発光の
カラーディスプレイを高い生産性を持って得ることがで
きた。According to the present invention, high-luminance light emission can be obtained, and a high-definition, high-density and high-luminance color display can be obtained with high productivity.
【0061】さらに、本発明によれば、衝撃に対する安
定性、長期間の使用における表示安定性を実現したカラ
ーディスプレイを得ることができた。Further, according to the present invention, it was possible to obtain a color display realizing stability against impact and display stability during long-term use.
【図1】本発明のEL素子の等価回路図である。FIG. 1 is an equivalent circuit diagram of an EL element of the present invention.
【図2】本発明のEL素子で用いたTFT基板側におけ
るEL画素の平面図である。FIG. 2 is a plan view of an EL pixel on a TFT substrate side used in the EL element of the present invention.
【図3】図2のA−A′断面図である。FIG. 3 is a sectional view taken along line AA ′ of FIG. 2;
【図4】図3のB−B′断面図である。FIG. 4 is a sectional view taken along line BB ′ of FIG. 3;
【図5】本発明のEL素子で用いたEL基板側における
EL画素の平面図である。FIG. 5 is a plan view of an EL pixel on the EL substrate side used in the EL element of the present invention.
【図6】図5のC−C′断面図である。FIG. 6 is a sectional view taken along the line CC ′ of FIG. 5;
【図7】本発明のEL素子の断面図である。FIG. 7 is a cross-sectional view of the EL element of the present invention.
【図8】本発明の方法で用いた真空排気装置の断面図で
ある。FIG. 8 is a sectional view of an evacuation apparatus used in the method of the present invention.
【図9】本発明の別のEL素子の等価回路図である。FIG. 9 is an equivalent circuit diagram of another EL element of the present invention.
T1 第1薄膜トランジスタ T2 第2薄膜トランジスタ Cs コンデンサ REL 赤色発光EL GEL 緑色発光EL BEL 青色発光EL 21 コンデンサ 22 ドレイン電極パッド 23 ゲートバス 24 ソースバス 25 グランドバス 3 TFT基板 31 ガラス基板 32 PECVD膜 33 SiO2 膜 34 パシベーション膜 41、42 コンデンサ電極 6 EL基板 51 透明電極 52 EL 61 ガラス基板 62 EL電極パッド 71 接着性電気接続体 72 接着性電気絶縁体 81 ステージ 82、83 O−リング 83 シート 84 真空排気ポンプT1 first TFT T2 second TFT Cs capacitor REL red light emitting EL GEL green light emitting EL BEL blue emitting EL 21 capacitor 22 drain electrode pad 23 gate bus 24 source bus 25 ground bus 3 TFT substrate 31 glass substrate 32 PECVD film 33 SiO 2 film 34 passivation film 41, 42 capacitor electrode 6 EL substrate 51 transparent electrode 52 EL 61 glass substrate 62 EL electrode pad 71 adhesive electrical connector 72 adhesive electrical insulator 81 stage 82, 83 O-ring 83 sheet 84 vacuum pump
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 橋本 雄一 東京都大田区下丸子3丁目30番2号キヤノ ン株式会社内 (72)発明者 妹尾 章弘 東京都大田区下丸子3丁目30番2号キヤノ ン株式会社内 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continuing on the front page (72) Inventor Yuichi Hashimoto 3-30-2 Shimomaruko, Ota-ku, Tokyo Inside Canon Inc. (72) Inventor Akihiro Senoo 3-30-2 Shimomaruko, Ota-ku, Tokyo Inside the corporation
Claims (30)
ランジスタ、行毎に、該行上の複数の薄型トランジスタ
のゲートを共通に接続したゲート線、列毎に、該列上の
複数の薄膜トランジスタのソースを共通に接続したソー
ス線、薄膜トランジスタの各ドレイン毎に接続したドレ
イン電極パッド、及び該ドレイン電極パッドと並列接続
したコンデンサを備えたトランジスタ基板、並びに複数
の行及び列に沿って配置し、一対の電極及び該一対の電
極間に配置したエレクトロ・ルミネセンス体を備えたエ
レクトロ・ルミネセンス基板を有し、ドレイン電極パッ
ドとエレクトロ・ルミネセンス体とが対向する様に、薄
膜トランジスタ基板とエレクトロ・ルミネセンス基板と
を配向配置し、ドレイン電極パッドと一対の電極の一方
の電極とを接着性電気接続体を通して接続してなるエレ
クトロ・ルミネセンス素子。1. A thin film transistor arranged along a plurality of rows and columns, a gate line commonly connecting the gates of a plurality of thin transistors on the row for each row, and a plurality of thin film transistors on the column for each column A source line commonly connected to the source, a drain electrode pad connected to each drain of the thin film transistor, and a transistor substrate having a capacitor connected in parallel with the drain electrode pad, and arranged along a plurality of rows and columns, An electroluminescent substrate having a pair of electrodes and an electroluminescent body disposed between the pair of electrodes; and a thin film transistor substrate and an electroluminescent substrate, such that the drain electrode pad and the electroluminescent body face each other. The luminescent substrate is aligned and the drain electrode pad and one of the pair of electrodes An electroluminescent element connected through a gas connector.
色、緑色及び赤色の三原色を発光する媒体を備えたこと
を特徴とする請求項1記載のエレクトロ・ルミネセンス
素子。2. The electroluminescent device according to claim 1, wherein the electroluminescent body includes a medium emitting three primary colors of blue, green and red.
色、緑色及び赤色の三原色を発光する有機物質媒体を備
えたことを特徴とする請求項1記載のエレクトロ・ルミ
ネセンス素子。3. The electroluminescent device according to claim 1, wherein the electroluminescent body includes an organic medium emitting three primary colors of blue, green and red.
接着剤中に分散含有させてなることを特徴とする請求項
1記載のエレクトロ・ルミネセンス素子。4. The electroluminescent device according to claim 1, wherein the adhesive electrical connection body is formed by dispersing and containing conductive particles in an adhesive.
接着剤中に分散含有させ、そしてシランカップリング剤
を含有させてなることを特徴とする請求項1記載のエレ
クトロ・ルミネセンス素子。5. The electroluminescent device according to claim 1, wherein the adhesive electrical connection body comprises conductive particles dispersed in an adhesive and a silane coupling agent. .
縁体を配置したことを特徴とする請求項1記載のエレク
トロ・ルミネセンス素子。6. The electroluminescent device according to claim 1, wherein an electric insulator is arranged on an outer peripheral portion of the adhesive electric connection body.
電気絶縁体を配置したことを特徴とする請求項1記載の
エレクトロ・ルミネセンス素子。7. The electroluminescent device according to claim 1, wherein an adhesive electric insulator is arranged on an outer peripheral portion of the adhesive electric connection body.
を含有した電気絶縁体を配置したことを特徴とする請求
項1記載のエレクトロ・ルミネセンス素子。8. The electroluminescent element according to claim 1, wherein an electrical insulator containing a colored body is arranged on an outer peripheral portion of said adhesive electrical connection body.
電気絶縁体を配置したことを特徴とする請求項1記載の
エレクトロ・ルミネセンス素子。9. The electroluminescent device according to claim 1, wherein a liquid electrical insulator is disposed on an outer peripheral portion of said adhesive electrical connection body.
ン半導体層を有することを特徴とする請求項1記載のエ
レクトロ・ルミネセンス素子。10. The electroluminescent device according to claim 1, wherein said thin film transistor has a polysilicon semiconductor layer.
スシリコン半導体又は微結晶シリコン半導体を有するこ
とを特徴とする請求項1記載のエレクトロ・ルミネセン
ス素子。11. The electroluminescent device according to claim 1, wherein said thin film transistor comprises an amorphous silicon semiconductor or a microcrystalline silicon semiconductor.
ン半導体を有することを特徴とする請求項1記載のエレ
クトロ・ルミネセンス素子。12. The electroluminescent device according to claim 1, wherein said thin film transistor comprises a crystalline silicon semiconductor.
さむ一対の電極のうち、少なくとも一方の電極は、テク
スチャ構造をもつ透明電極である請求項1記載のエレク
トロ・ルミネセンス素子。13. The electroluminescent element according to claim 1, wherein at least one of the pair of electrodes sandwiching the electroluminescent body is a transparent electrode having a texture structure.
さむ一対の電極のうち、少なくとも一方の電極は、テク
スチャ構造をもつZnO透明電極である請求項1記載の
エレクトロ・ルミネセンス素子。14. The electroluminescent device according to claim 1, wherein at least one of the pair of electrodes sandwiching the electroluminescent body is a ZnO transparent electrode having a texture structure.
薄膜トランジスタ、行毎に、該行上の複数の第1薄膜ト
ランジスタのゲートを共通に接続したゲート線、列毎
に、該列上の複数の第1薄膜トランジスタのソースを共
通に接続したソース線、第1薄膜トランジスタの各ドレ
イン毎に接続した第2薄膜トランジスタ、及び該第2薄
膜トランジスタと並列接続したコンデンサを備え、該第
2薄膜トランジスタのゲートを第1薄膜トランジスタの
ドレインに接続させ、該第2薄膜トランジスタの各ドレ
イン毎にドレイン電極パッドと接続させ、そして第2薄
膜トランジスタのソースと該コンデンサの一方の電極と
を接続させてなるトランジスタ基板、並びに複数の行及
び列に沿って配置し、一対の電極及び該一対の電極間に
配置したエレクトロ・ルミネセンス体を備えたエレクト
ロ・ルミネセンス基板を有し、ドレイン電極パッドとエ
レクトロ・ルミネセンス体とが対向する様に、薄膜トラ
ンジスタ基板とエレクトロ・ルミネセンス基板とを配向
配置し、ドレイン電極パッドと一対の電極の一方の電極
とを接着性電気接続体を通して接続してなるエレクトロ
・ルミネセンス素子。15. A first arrangement arranged along a plurality of rows and columns.
A thin film transistor, a gate line commonly connecting the gates of the plurality of first thin film transistors on the row, a source line commonly connecting the sources of the plurality of first thin film transistors on the column, A second thin film transistor connected to each drain of the thin film transistor; and a capacitor connected in parallel with the second thin film transistor. A gate of the second thin film transistor is connected to a drain of the first thin film transistor. A transistor substrate connected to the drain electrode pad, and connected to the source of the second thin film transistor and one electrode of the capacitor; and a transistor substrate arranged along a plurality of rows and columns, between the pair of electrodes and the pair of electrodes. Electroluminescent group with electroluminescent body arranged in The thin film transistor substrate and the electroluminescent substrate are oriented and arranged so that the drain electrode pad and the electroluminescent body face each other, and the drain electrode pad and one of the pair of electrodes are adhered to each other by an adhesive electrode. An electroluminescent element connected through a connector.
青色、緑色及び赤色の三原色を発光する媒体を備えたこ
とを特徴とする請求項15記載のエレクトロ・ルミネセ
ンス素子。16. The electroluminescent body,
The electroluminescent device according to claim 15, further comprising a medium that emits three primary colors of blue, green, and red.
青色、緑色及び赤色の三原色を発光する有機物質媒体を
備えたことを特徴とする請求項15記載のエレクトロ・
ルミネセンス素子。17. The electroluminescent body,
The electro-optical device according to claim 15, further comprising an organic material medium that emits three primary colors of blue, green, and red.
Luminescent element.
を接着剤中に分散含有させてなることを特徴とする請求
項15記載のエレクトロ・ルミネセンス素子。18. The electroluminescent device according to claim 15, wherein the adhesive electrical connection body is formed by dispersing conductive particles in an adhesive.
を接着剤中に分散含有させ、そしてシランカップリング
剤を含有させてなることを特徴とする請求項15記載の
エレクトロ・ルミネセンス素子。19. The electroluminescent device according to claim 15, wherein said adhesive electric connection body contains conductive particles dispersed in an adhesive and a silane coupling agent. .
性電気絶縁体を配置したことを特徴とする請求項15記
載のエレクトロ・ルミネセンス素子。20. The electroluminescent device according to claim 15, wherein an adhesive electric insulator is arranged on an outer peripheral portion of the adhesive electric connection body.
ン半導体層を有することを特徴とする請求項請求項15
記載のエレクトロ・ルミネセンス素子。21. The thin film transistor has a polysilicon semiconductor layer.
An electroluminescent device according to claim 1.
スシリコン半導体又は微結晶シリコン半導体を有するこ
とを特徴とする請求項15記載のエレクトロ・ルミネセ
ンス素子。22. The electroluminescent device according to claim 15, wherein said thin film transistor comprises an amorphous silicon semiconductor or a microcrystalline silicon semiconductor.
ン半導体を有することを特徴とする請求項15記載のエ
レクトロ・ルミネセンス素子。23. The electroluminescent device according to claim 15, wherein said thin film transistor has a crystalline silicon semiconductor.
トランジスタ、行毎に、該行上の複数の薄膜トランジス
タのゲートを共通に接続したゲート線、列毎に、該列上
の複数の薄膜トランジスタのソースを共通に接続したソ
ース線、薄膜トランジスタの各ドレイン毎に接続したド
レイン電極パッド、及び該ドレイン電極パッドと並列接
続したコンデンサを備えたトランジスタ基板を用意し、
複数の行及び列に沿って配置し、一対の電極及び該一対
の電極間に配置したエレクトロ・ルミネセンス体を備え
たエレクトロ・ルミネセンス基板を用意し、トランジス
タ基板のドレイン電極パッド及びエレクトロ・ルミネセ
ンス体のうちの少なくとも一方に接着性電気接続体を配
置し、ドレイン電極パッドとエレクトロ・ルミネセンス
体とが対向する様に、薄膜トランジスタ基板とエレクト
ロ・ルミネセンス基板とを配向配置し、重ね合せること
を特徴とするエレクトロ・ルミネセンス素子の製造法。24. A thin film transistor arranged along a plurality of rows and columns, a gate line commonly connecting the gates of a plurality of thin film transistors on the row for each row, and a plurality of thin film transistors on the column for each column. Prepare a transistor substrate having a source line commonly connected to a source, a drain electrode pad connected to each drain of the thin film transistor, and a capacitor connected in parallel with the drain electrode pad,
An electroluminescent substrate, which is disposed along a plurality of rows and columns and includes a pair of electrodes and an electroluminescent body disposed between the pair of electrodes, is provided, and a drain electrode pad of the transistor substrate and an electroluminescent substrate are provided. An adhesive electrical connection body is arranged on at least one of the sense bodies, and the thin film transistor substrate and the electroluminescence board are oriented and arranged so that the drain electrode pad and the electroluminescence body face each other, and are superposed. A method for producing an electroluminescent device, comprising:
青色、緑色及び赤色の三原色を発光する媒体を備えたこ
とを特徴とする請求項24記載のエレクトロ・ルミネセ
ンス素子の製造法。25. The electroluminescent body,
The method for manufacturing an electroluminescent device according to claim 24, further comprising a medium emitting three primary colors of blue, green and red.
青色、緑色及び赤色の三原色を発光する有機物質媒体を
備えたことを特徴とする請求項24記載のエレクトロ・
ルミネセンス素子の製造法。26. The electroluminescent body,
The electro-optical device according to claim 24, further comprising an organic material medium that emits three primary colors of blue, green, and red.
A method for manufacturing a luminescence element.
を接着剤中に分散含有させてなることを特徴とする請求
項24記載のエレクトロ・ルミネセンス素子の製造法。27. The method for manufacturing an electroluminescent device according to claim 24, wherein said adhesive electrical connection body is formed by dispersing and containing conductive particles in an adhesive.
を接着剤中に分散含有させ、そしてシランカップリング
剤を含有させてなることを特徴とする請求項27記載の
エレクトロ・ルミネセンス素子の製造法。28. The electroluminescent device according to claim 27, wherein the adhesive electric connection body contains conductive particles dispersed in an adhesive and a silane coupling agent. Manufacturing method.
トランジスタ、行毎に、該行上の複数の薄膜トランジス
タのゲートを共通に接続したゲート線、列毎に、該列上
の複数の薄膜トランジスタのソースを共通に接続したソ
ース線、薄膜トランジスタの各ドレイン毎に接続したド
レイン電極パッド、及び該ドレイン電極パッドと並列接
続したコンデンサを備えたトランジスタ基板を用意する
工程、複数の行及び列に沿って配置し、一対の電極及び
該一対の電極間に配置したエレクトロ・ルミネセンス体
を備えたエレクトロ・ルミネセンス基板を用意する工
程、トランジスタ基板のドレイン電極パッド及びエレク
トロ・ルミネセンス体のうちの少なくとも一方に接着性
電気接続体を配置する工程、トランジスタ基板のドレイ
ン電極パッド及びエレクトロ・ルミネセンス体のうちの
少なくとも一方に接着性電気絶縁体を該接着性電気接続
体の外周部となる位置に配置する工程、並びにドレイン
電極パッドとエレクトロ・ルミネセンス体とが対向する
様に、薄膜トランジスタ基板とエレクトロ・ルミネセン
ス基板とを配向配置し、重ね合せる工程を有することを
特徴とするエレクトロ・ルミネセンス素子の製造法。29. A thin film transistor arranged along a plurality of rows and columns, a gate line commonly connecting the gates of a plurality of thin film transistors on the row for each row, and a plurality of thin film transistors on the column for each column. A step of preparing a transistor substrate having a source line commonly connected to a source, a drain electrode pad connected to each drain of the thin film transistor, and a capacitor connected in parallel with the drain electrode pad, arranged along a plurality of rows and columns Providing a pair of electrodes and an electroluminescent substrate having an electroluminescent body disposed between the pair of electrodes, wherein at least one of a drain electrode pad and an electroluminescent body of a transistor substrate is provided. The step of arranging the adhesive electrical connection, the drain electrode pad of the transistor substrate, and the element; A step of arranging an adhesive electrical insulator on at least one of the electroluminescent body at a position to be an outer peripheral portion of the adhesive electrical connection body, and so that the drain electrode pad and the electroluminescence body face each other. And a process of aligning and arranging a thin film transistor substrate and an electroluminescence substrate, and superposing them on each other.
トランジスタ、行毎に、該行上の複数の薄膜トランジス
タのゲートを共通に接続したゲート線、列毎に、該列上
の複数の薄膜トランジスタのソースを共通に接続したソ
ース線、薄膜トランジスタの各ドレイン毎に接続したド
レイン電極パッド、及び該ドレイン電極パッドと並列接
続したコンデンサを備えたトランジスタ基板を用意する
工程、複数の行及び列に沿って配置し、一対の電極及び
該一対の電極間に配置したエレクトロ・ルミネセンス体
を備えたエレクトロ・ルミネセンス基板を用意する工
程、トランジスタ基板のドレイン電極パッド及びエレク
トロ・ルミネセンス体のうち少なくとも一方に接着性電
気接続体を配置する工程、トランジスタ基板のドレイン
電極パッド及びエレクトロ・ルミネセンス体のうちの少
なくとも一方に接着性電気絶縁体を該接着性電気接続体
の外周部となる位置に配置する工程、ドレイン電極パッ
ドとエレクトロ・ルミネセンス体とが対向する様に、薄
膜トランジスタ基板とエレクトロ・ルミネセンス基板と
を配向配置し、重ね合せる工程、並びに薄膜トランジス
タ基板とエレクトロ・ルミネセンス基板との間を真空排
気し、接着性電気接続体及び接着性静電気絶縁体を加熱
硬化させる工程を有することを特徴とするエレクトロ・
ルミネセンス素子の製造法。30. A thin film transistor arranged along a plurality of rows and columns, a gate line commonly connecting the gates of a plurality of thin film transistors on the row for each row, and a plurality of thin film transistors on the column for each column. A step of preparing a transistor substrate having a source line commonly connected to a source, a drain electrode pad connected to each drain of the thin film transistor, and a capacitor connected in parallel with the drain electrode pad, arranged along a plurality of rows and columns Preparing an electroluminescent substrate having a pair of electrodes and an electroluminescent body disposed between the pair of electrodes; bonding the electroluminescent substrate to at least one of a drain electrode pad and an electroluminescent body of the transistor substrate; Arranging conductive electrical connection body, drain electrode pad of transistor substrate, and electrode A step of arranging an adhesive electric insulator on at least one of the toro-luminescent body at a position to be an outer peripheral portion of the adhesive electric connection body, such that the drain electrode pad and the electro-luminescence body are opposed to each other; A process of aligning and arranging the thin film transistor substrate and the electro-luminescence substrate, and evacuating the thin film transistor substrate and the electro-luminescence substrate to heat and cure the adhesive electric connection body and the adhesive electrostatic insulator. Electro-process characterized by having a process
A method for manufacturing a luminescence element.
Priority Applications (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP9143836A JPH10333601A (en) | 1997-06-02 | 1997-06-02 | Electroluminescent element and its manufacture |
US09/084,994 US6175345B1 (en) | 1997-06-02 | 1998-05-28 | Electroluminescence device, electroluminescence apparatus, and production methods thereof |
EP09172441A EP2151865A1 (en) | 1997-06-02 | 1998-05-29 | Electroluminescence device, electroluminescence apparatus, and production methods thereof |
EP98304275A EP0883191A3 (en) | 1997-06-02 | 1998-05-29 | Electroluminescence device, electroluminescence apparatus, and production methods thereof |
US09/694,274 US6373455B1 (en) | 1997-06-02 | 2000-10-24 | Electroluminescence device, electroluminescence apparatus, and production methods thereof |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP9143836A JPH10333601A (en) | 1997-06-02 | 1997-06-02 | Electroluminescent element and its manufacture |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH10333601A true JPH10333601A (en) | 1998-12-18 |
Family
ID=15348084
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP9143836A Pending JPH10333601A (en) | 1997-06-02 | 1997-06-02 | Electroluminescent element and its manufacture |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH10333601A (en) |
Cited By (31)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001035663A (en) * | 1999-07-27 | 2001-02-09 | Pioneer Electronic Corp | Organic electroluminescence element display device and its manufacture |
JP2001093661A (en) * | 1999-09-22 | 2001-04-06 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | El display device and electronic device |
JP2003157029A (en) * | 2001-09-06 | 2003-05-30 | Sharp Corp | Display device and its manufacturing method |
KR20030086165A (en) * | 2002-05-03 | 2003-11-07 | 엘지.필립스 엘시디 주식회사 | The organic electro-luminescence device and method for fabricating of the same |
KR20030086166A (en) * | 2002-05-03 | 2003-11-07 | 엘지.필립스 엘시디 주식회사 | The organic electro-luminescence device and method for fabricating of the same |
JP2004006343A (en) * | 2002-05-03 | 2004-01-08 | Lg Phillips Lcd Co Ltd | Organic electroluminescent element and its of manufacturing process |
KR100426964B1 (en) * | 2002-03-20 | 2004-04-13 | 엘지.필립스 엘시디 주식회사 | Organic Electroluminescent Device and Method for Fabricating the same |
KR100460210B1 (en) * | 2002-10-29 | 2004-12-04 | 엘지.필립스 엘시디 주식회사 | Dual Panel Type Organic Electroluminescent Device and Method for Fabricating the same |
KR100464864B1 (en) * | 2002-04-25 | 2005-01-06 | 엘지.필립스 엘시디 주식회사 | Organic Electroluminescent Device and Method for Fabricating the same |
KR100474000B1 (en) * | 2002-08-13 | 2005-03-10 | 엘지.필립스 엘시디 주식회사 | Dual Panel Type Organic Electroluminescent Device and Method for Fabricating the same |
KR100472853B1 (en) * | 2002-07-10 | 2005-03-10 | 엘지.필립스 엘시디 주식회사 | Method for fabricating of OLED |
KR100474001B1 (en) * | 2002-08-14 | 2005-03-10 | 엘지.필립스 엘시디 주식회사 | Dual Panel Type Organic Electroluminescent Device and Method for Fabricating the same |
KR100479002B1 (en) * | 2002-09-04 | 2005-03-30 | 엘지.필립스 엘시디 주식회사 | Dual Panel Type Organic Electroluminescent Device and Method for Fabricating the same |
KR100482161B1 (en) * | 2002-08-13 | 2005-04-14 | 엘지.필립스 엘시디 주식회사 | Dual Panel Type Organic Electroluminescent Device and Method for Fabricating the same |
KR100482166B1 (en) * | 2002-08-26 | 2005-04-14 | 엘지.필립스 엘시디 주식회사 | Dual Panel Type Organic Electroluminescent Device and Method for Fabricating the same |
KR100489591B1 (en) * | 2002-11-13 | 2005-05-16 | 엘지.필립스 엘시디 주식회사 | The organic electro-luminescence device and method for fabricating of the same |
JP2005209651A (en) * | 2004-01-20 | 2005-08-04 | Lg Electronics Inc | Organic electro-luminescent element and its manufacturing method |
KR100512900B1 (en) * | 2002-08-14 | 2005-09-07 | 엘지.필립스 엘시디 주식회사 | Organic Electroluminescent Device and Method for Fabricating the same |
KR100553248B1 (en) * | 2003-12-15 | 2006-02-20 | 엘지.필립스 엘시디 주식회사 | Electroluminescent Display Device and Method of Fabricating the same |
KR100653265B1 (en) | 2004-04-19 | 2006-12-06 | 엘지.필립스 엘시디 주식회사 | Dual Panel Type Organic Electroluminescent Device and Method for Fabricating the same |
US7222981B2 (en) | 2001-02-15 | 2007-05-29 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | EL display device and electronic device |
KR100731044B1 (en) | 2003-12-30 | 2007-06-22 | 엘지.필립스 엘시디 주식회사 | Dual Panel Type Electroluminescent Device and Method for Fabricating the same |
US7402446B2 (en) | 2003-11-17 | 2008-07-22 | Seiko Epson Corporation | Method of manufacturing an electroluminescence device |
US7550774B2 (en) | 2001-12-18 | 2009-06-23 | Seiko Epson Corporation | Light emission device, method of manufacturing same, electro-optical device and electronic device |
KR100904523B1 (en) | 2002-12-26 | 2009-06-25 | 엘지디스플레이 주식회사 | Thin Film Transistor for Active Matrix type Organic Light Emitting Diode Device |
KR100963406B1 (en) | 2003-12-29 | 2010-06-14 | 엘지디스플레이 주식회사 | Active Matrix type Organic Electro luminescence Device and fabrication method thereof |
US7755279B2 (en) | 2002-02-22 | 2010-07-13 | Lg Display Co., Ltd. | Organic electroluminescent device and fabricating method thereof |
JP2010192451A (en) * | 2003-09-19 | 2010-09-02 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | Light-emitting device |
US20120224251A1 (en) * | 2010-03-22 | 2012-09-06 | Hong Wang-Su | Electrophoretic display device and method for manufacturing same |
JP2016191921A (en) * | 1999-10-21 | 2016-11-10 | 株式会社半導体エネルギー研究所 | Semiconductor device, display module and electronic apparatus |
CN109273588A (en) * | 2018-09-20 | 2019-01-25 | 京东方科技集团股份有限公司 | A kind of thin film sensor and preparation method thereof |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0275193A (en) * | 1988-09-08 | 1990-03-14 | Tosoh Corp | Sealing method for thin film el panel |
JPH0431299U (en) * | 1990-07-06 | 1992-03-13 | ||
JPH07288183A (en) * | 1994-03-08 | 1995-10-31 | Planar Syst Inc | Electroluminescence device, tfel device, and formation of thih film light absorbing layer |
JPH08171988A (en) * | 1994-12-20 | 1996-07-02 | Showa Shell Sekiyu Kk | Electroluminescent element |
JPH08180974A (en) * | 1994-12-26 | 1996-07-12 | Nippondenso Co Ltd | El element and manufacture thereof |
-
1997
- 1997-06-02 JP JP9143836A patent/JPH10333601A/en active Pending
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0275193A (en) * | 1988-09-08 | 1990-03-14 | Tosoh Corp | Sealing method for thin film el panel |
JPH0431299U (en) * | 1990-07-06 | 1992-03-13 | ||
JPH07288183A (en) * | 1994-03-08 | 1995-10-31 | Planar Syst Inc | Electroluminescence device, tfel device, and formation of thih film light absorbing layer |
JPH08171988A (en) * | 1994-12-20 | 1996-07-02 | Showa Shell Sekiyu Kk | Electroluminescent element |
JPH08180974A (en) * | 1994-12-26 | 1996-07-12 | Nippondenso Co Ltd | El element and manufacture thereof |
Cited By (41)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001035663A (en) * | 1999-07-27 | 2001-02-09 | Pioneer Electronic Corp | Organic electroluminescence element display device and its manufacture |
JP2001093661A (en) * | 1999-09-22 | 2001-04-06 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | El display device and electronic device |
JP2016191921A (en) * | 1999-10-21 | 2016-11-10 | 株式会社半導体エネルギー研究所 | Semiconductor device, display module and electronic apparatus |
US7222981B2 (en) | 2001-02-15 | 2007-05-29 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | EL display device and electronic device |
JP2003157029A (en) * | 2001-09-06 | 2003-05-30 | Sharp Corp | Display device and its manufacturing method |
US7550774B2 (en) | 2001-12-18 | 2009-06-23 | Seiko Epson Corporation | Light emission device, method of manufacturing same, electro-optical device and electronic device |
US8101946B2 (en) | 2001-12-18 | 2012-01-24 | Seiko Epson Corporation | Light-emission device, method of manufacturing same, electro-optical device and electronic device |
US7755279B2 (en) | 2002-02-22 | 2010-07-13 | Lg Display Co., Ltd. | Organic electroluminescent device and fabricating method thereof |
KR100426964B1 (en) * | 2002-03-20 | 2004-04-13 | 엘지.필립스 엘시디 주식회사 | Organic Electroluminescent Device and Method for Fabricating the same |
KR100464864B1 (en) * | 2002-04-25 | 2005-01-06 | 엘지.필립스 엘시디 주식회사 | Organic Electroluminescent Device and Method for Fabricating the same |
JP2004006343A (en) * | 2002-05-03 | 2004-01-08 | Lg Phillips Lcd Co Ltd | Organic electroluminescent element and its of manufacturing process |
US7312099B2 (en) | 2002-05-03 | 2007-12-25 | Lg.Philips Lcd Co., Ltd. | Organic electroluminescent device and fabricating method thereof |
JP2009015344A (en) * | 2002-05-03 | 2009-01-22 | Lg Display Co Ltd | Organic electroluminescent device and manufacturing method thereof |
KR20030086165A (en) * | 2002-05-03 | 2003-11-07 | 엘지.필립스 엘시디 주식회사 | The organic electro-luminescence device and method for fabricating of the same |
KR20030086166A (en) * | 2002-05-03 | 2003-11-07 | 엘지.필립스 엘시디 주식회사 | The organic electro-luminescence device and method for fabricating of the same |
JP2004006341A (en) * | 2002-05-03 | 2004-01-08 | Lg Phillips Lcd Co Ltd | Organic electroluminescent element and method of manufacturing the element |
KR100465883B1 (en) * | 2002-05-03 | 2005-01-13 | 엘지.필립스 엘시디 주식회사 | The organic electro-luminescence device and method for fabricating of the same |
KR100472853B1 (en) * | 2002-07-10 | 2005-03-10 | 엘지.필립스 엘시디 주식회사 | Method for fabricating of OLED |
KR100474000B1 (en) * | 2002-08-13 | 2005-03-10 | 엘지.필립스 엘시디 주식회사 | Dual Panel Type Organic Electroluminescent Device and Method for Fabricating the same |
KR100482161B1 (en) * | 2002-08-13 | 2005-04-14 | 엘지.필립스 엘시디 주식회사 | Dual Panel Type Organic Electroluminescent Device and Method for Fabricating the same |
KR100512900B1 (en) * | 2002-08-14 | 2005-09-07 | 엘지.필립스 엘시디 주식회사 | Organic Electroluminescent Device and Method for Fabricating the same |
KR100474001B1 (en) * | 2002-08-14 | 2005-03-10 | 엘지.필립스 엘시디 주식회사 | Dual Panel Type Organic Electroluminescent Device and Method for Fabricating the same |
KR100482166B1 (en) * | 2002-08-26 | 2005-04-14 | 엘지.필립스 엘시디 주식회사 | Dual Panel Type Organic Electroluminescent Device and Method for Fabricating the same |
KR100479002B1 (en) * | 2002-09-04 | 2005-03-30 | 엘지.필립스 엘시디 주식회사 | Dual Panel Type Organic Electroluminescent Device and Method for Fabricating the same |
KR100460210B1 (en) * | 2002-10-29 | 2004-12-04 | 엘지.필립스 엘시디 주식회사 | Dual Panel Type Organic Electroluminescent Device and Method for Fabricating the same |
US6982524B2 (en) | 2002-11-13 | 2006-01-03 | Lg.Philips Lcd Co., Ltd. | Dual panel-type organic electroluminescent display device and method of fabricating the same |
KR100489591B1 (en) * | 2002-11-13 | 2005-05-16 | 엘지.필립스 엘시디 주식회사 | The organic electro-luminescence device and method for fabricating of the same |
KR100904523B1 (en) | 2002-12-26 | 2009-06-25 | 엘지디스플레이 주식회사 | Thin Film Transistor for Active Matrix type Organic Light Emitting Diode Device |
JP2010192451A (en) * | 2003-09-19 | 2010-09-02 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | Light-emitting device |
US8129900B2 (en) | 2003-09-19 | 2012-03-06 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Display device and method for manufacturing the same |
US8970106B2 (en) | 2003-09-19 | 2015-03-03 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Display device and method for manufacturing the same |
US7402446B2 (en) | 2003-11-17 | 2008-07-22 | Seiko Epson Corporation | Method of manufacturing an electroluminescence device |
KR100553248B1 (en) * | 2003-12-15 | 2006-02-20 | 엘지.필립스 엘시디 주식회사 | Electroluminescent Display Device and Method of Fabricating the same |
KR100963406B1 (en) | 2003-12-29 | 2010-06-14 | 엘지디스플레이 주식회사 | Active Matrix type Organic Electro luminescence Device and fabrication method thereof |
KR100731044B1 (en) | 2003-12-30 | 2007-06-22 | 엘지.필립스 엘시디 주식회사 | Dual Panel Type Electroluminescent Device and Method for Fabricating the same |
JP2005209651A (en) * | 2004-01-20 | 2005-08-04 | Lg Electronics Inc | Organic electro-luminescent element and its manufacturing method |
KR100653265B1 (en) | 2004-04-19 | 2006-12-06 | 엘지.필립스 엘시디 주식회사 | Dual Panel Type Organic Electroluminescent Device and Method for Fabricating the same |
US20120224251A1 (en) * | 2010-03-22 | 2012-09-06 | Hong Wang-Su | Electrophoretic display device and method for manufacturing same |
US8446662B2 (en) * | 2010-03-22 | 2013-05-21 | Samsung Display Co., Ltd. | Electrophoretic display device and method for manufacturing same |
CN109273588A (en) * | 2018-09-20 | 2019-01-25 | 京东方科技集团股份有限公司 | A kind of thin film sensor and preparation method thereof |
CN109273588B (en) * | 2018-09-20 | 2023-10-24 | 京东方科技集团股份有限公司 | Thin film sensor and preparation method thereof |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JPH10333601A (en) | Electroluminescent element and its manufacture | |
US6373455B1 (en) | Electroluminescence device, electroluminescence apparatus, and production methods thereof | |
JPH113048A (en) | Electroluminescent element and device and their production | |
US8026667B2 (en) | Electroluminescence display device having electrode power supply line | |
CN106328671B (en) | Flexible organic LED display device and its manufacturing method | |
CN100585868C (en) | Semiconductor device and method for manufacturing the same | |
US6215244B1 (en) | Stacked organic light emitting device with specific electrode arrangement | |
US7466294B2 (en) | Light emitting device and electric appliance | |
US8957579B2 (en) | Low image sticking OLED display | |
US7214966B2 (en) | Electrical conductors in an electroluminescent display device | |
US7629743B2 (en) | Organic light-emitting display device | |
US20060012296A1 (en) | Organic Electroluminescent Display And Its Production Method | |
US20070194303A1 (en) | Method for manufacturing organic light-emitting element, organic light-emitting device and organic EL panel | |
CN1638570A (en) | Organic electroluminescence device | |
JPH10241860A (en) | Multicolor luminescent device | |
JP3466876B2 (en) | Manufacturing method of electroluminescence device | |
TW200303504A (en) | Light emitting device | |
GB2393314A (en) | Display and method for manufacturing the same | |
JP3492153B2 (en) | ELECTROLUMINESCENCE ELEMENT AND APPARATUS AND ITS MANUFACTURING METHOD | |
JP2012506566A (en) | Display devices and backplane | |
JP4718761B2 (en) | Method for manufacturing light emitting device | |
JP2002189447A (en) | Electroluminescence element and device and their manufacturing method | |
JP3775325B2 (en) | Organic EL display | |
US7023140B2 (en) | Organic EL display apparatus and method of driving the same | |
JP4090743B2 (en) | Method for manufacturing light-emitting device |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20011218 |