JPH113048A - Electroluminescent element and device and their production - Google Patents

Electroluminescent element and device and their production

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Publication number
JPH113048A
JPH113048A JP9152309A JP15230997A JPH113048A JP H113048 A JPH113048 A JP H113048A JP 9152309 A JP9152309 A JP 9152309A JP 15230997 A JP15230997 A JP 15230997A JP H113048 A JPH113048 A JP H113048A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
electroluminescent
thin film
film transistor
substrate
electroluminescent device
Prior art date
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Pending
Application number
JP9152309A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Masaki Kuribayashi
正樹 栗林
Eiju Tsuzuki
英寿 都築
Kazunori Ueno
和則 上野
Yuichi Hashimoto
雄一 橋本
Akihiro Senoo
章弘 妹尾
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Canon Inc
Original Assignee
Canon Inc
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Publication date
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Priority to EP09172441A priority patent/EP2151865A1/en
Priority to EP98304275A priority patent/EP0883191A3/en
Publication of JPH113048A publication Critical patent/JPH113048A/en
Priority to US09/694,274 priority patent/US6373455B1/en
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    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02BCLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES RELATED TO BUILDINGS, e.g. HOUSING, HOUSE APPLIANCES OR RELATED END-USER APPLICATIONS
    • Y02B20/00Energy efficient lighting technologies, e.g. halogen lamps or gas discharge lamps
    • Y02B20/30Semiconductor lamps, e.g. solid state lamps [SSL] light emitting diodes [LED] or organic LED [OLED]

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To realize the continuous light emission for long time by disposing oppositely a thin film transistor substrate and an electroluminescent substrate and connecting electrode pads and electrodes of one side of one pair of electrodes through adhesive electric connecting bodies. SOLUTION: Relating to an electroluminescent body (EL) element a thin film transistor(TFT) substrate 3 and an EL substrate 6 are faced each other and the EL electrode pad 62 of the EL substrate 6 side and the drain electrode pad 22 of the TFT substrate side are oppositely disposed and electrical connection between both electrodes is performed with an adhesive electric connecting body 71. This adhesive electric connecting body 71 is obtained by using conductive adhesive in which conductive particles such as carbon particles, silver particles, cupper particles and so forth are dispersedly incorporated in epoxy or phenolic thermal hardening adhesive and by coating it on the EL substrate 6 or the TFT substrate or on prescribed positions of both substrates and by drying it. Moreover, adhesive electric insulator 72 is provided at the outside part of the adhesive electric connecting body 71.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、表示装置、発光光
源又は電子写真プリンタのプリンタ・ヘッドに適用可能
なエレクトロ・ルミネセンス素子及び装置、並びにその
製造法に関する。特に、本発明は、大画面のフルカラー
表示に適した有機エレクトロ・ルミネセンス体を用いた
素子及び装置、並びにその製造法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an electroluminescent element and a device applicable to a display device, a light emitting source or a printer head of an electrophotographic printer, and a method of manufacturing the same. In particular, the present invention relates to an element and an apparatus using an organic electroluminescent body suitable for full-color display on a large screen, and a method for manufacturing the same.

【0002】[0002]

【従来の技術】有機エレクトロ・ルミネセンス体とし
て、例えば特開平6−256759号公報、特開平6−
136360号公報、特開平6−188074号公報、
特開平6−192654号公報や特開平8−41452
号公報に開示されたものが知られている。
2. Description of the Related Art For example, Japanese Patent Application Laid-Open Nos.
136360, JP-A-6-188074,
JP-A-6-192654 and JP-A-8-41452
The one disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open Publication No. H10-260, 1993 is known.

【0003】また、これらの有機エレクトロ・ルミネセ
ンス体は、例えば特開平8−241048号公報に記載
の薄膜トランジスタによって駆動することが知られてい
る。
Further, it is known that these organic electroluminescent bodies are driven by, for example, a thin film transistor described in JP-A-8-241048.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、有機エ
レクトロ・ルミネセンス体を薄膜トランジスタによって
駆動するために、薄膜トランジスタのドレイン電極パッ
ド毎に有機エレクトロ・ルミネセンス体を設けることを
必要とし、特にフルカラー表示の場合には、青色、緑色
及び赤色の三原色をエレクトロ・ルミネセンス発光させ
る3種のエレクトロ・ルミネセンス体を薄膜トランジス
タ基板上で、パターニング形成することが必要であった
が、薄膜トランジスタ表面は、エレクトロ・ルミネセン
ス体薄膜と比較し、大きい凹凸面を形成しているため、
エレクトロ・ルミネセンス体薄膜を高精細・高密度でパ
ターニングするのが困難であり、更に薄膜トランジスタ
基板上にトランジスタとエレクトロ・ルミネセンス体と
の2種の機能素子を集中させたことに基づく低レベルの
生産性に問題点を持っていた。
However, in order to drive the organic electroluminescent element by the thin film transistor, it is necessary to provide the organic electroluminescent element for each drain electrode pad of the thin film transistor. It was necessary to pattern three electroluminescent bodies for emitting blue, green and red primary colors on a thin film transistor substrate. Because it has a large uneven surface compared to the body thin film,
It is difficult to pattern the electroluminescent thin film with high definition and high density, and furthermore, the low level based on the concentration of the two kinds of functional elements of the transistor and the electroluminescent body on the thin film transistor substrate. Had problems with productivity.

【0005】また、有機エレクトロ・ルミネセンス体
は、長時間の直流電圧の印加によって、連続発光時間が
短縮される問題点を生じていた。特に、特開平8−24
1048号公報等に開示の薄膜トランジスタによって駆
動する場合では、有機エレクトロ・ルミネセンス体に直
流電圧が印加され続けてしまい、有機エレクトロ・ルミ
ネセンス体の劣化を早めてしまう問題点を生じていた。
[0005] In addition, the organic electroluminescent body has a problem that the continuous light emission time is shortened by applying a long-time DC voltage. In particular, JP-A-8-24
In the case of driving by the thin film transistor disclosed in Japanese Patent No. 1048, etc., a direct current voltage is continuously applied to the organic electroluminescent element, which causes a problem that deterioration of the organic electroluminescent element is accelerated.

【0006】本発明の目的は、上記問題点を解決する大
画面のフルカラー表示に適した有機エレクトロ・ルミネ
センス体を用いた素子及びその製造法を提供することに
ある。
An object of the present invention is to provide an element using an organic electroluminescence body suitable for full-color display on a large screen which solves the above problems, and a method for manufacturing the same.

【0007】また、本発明の目的は、長時間の連続発光
を可能にしたエレクトロ・ルミネセンス装置を提供する
ことにある。
Another object of the present invention is to provide an electroluminescent device which enables continuous light emission for a long time.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】本発明は、第1に、複数
の行及び列に沿って配置した薄膜トランジスタ、行毎
に、該行上の複数の薄膜トランジスタのゲートを共通に
接続したゲート線、列毎に、該列上の複数の薄膜トラン
ジスタのソースを共通に接続したソース線、薄膜トラン
ジスタの各ドレイン毎に接続したドレイン電極パッド、
及び該ドレイン電極パッドに接続したコンデンサを備え
たトランジスタ基板、並びに複数の行及び列に沿って配
置し、一対の電極及び該一対の電極間に配置したエレク
トロ・ルミネセンス体を備えたエレクトロ・ルミネセン
ス基板を有し、ドレイン電極パッドとエレクトロ・ルミ
ネセンス体とが対向する様に、薄膜トランジスタ基板と
エレクトロ・ルミネセンス基板とを対向配置し、ドレイ
ン電極パッドと一対の電極の一方の電極とを接着性電気
接続体を通して接続してなるエレクトロ・ルミネセンス
素子に、第1の特徴を有し、第2に、複数の行及び列に
沿って配置した第1薄膜トランジスタ、行毎に、該行上
の複数の第1薄膜トランジスタのゲートを共通に接続し
たゲート線、列毎に、該列上の複数の第1薄膜トランジ
スタのソースを共通に接続したソース線、第1薄膜トラ
ンジスタの各ドレイン毎に接続した第2薄膜トランジス
タ、及び該第2薄膜トランジスタに接続したコンデンサ
を備え、該第2薄膜トランジスタのゲートを第1薄膜ト
ランジスタのドレインに接続させ、該第2薄膜トランジ
スタの各ドレイン毎にドレイン電極パッドを接続させ、
そして第2薄膜トランジスタのソースと該コンデンサの
一方の電極とを接続させてなるトランジスタ基板、並び
に複数の行及び列に沿って配置し、一対の電極及び該一
対の電極間に配置したエレクトロ・ルミネセンス体を備
えたエレクトロ・ルミネセンス基板を有し、ドレイン電
極パッドとエレクトロ・ルミネセンス体とが対向する様
に、薄膜トランジスタ基板とエレクトロ・ルミネセンス
基板とを配向配置し、ドレイン電極パッドと一対の電極
の一方の電極とを接着性電気接続体を通して接続してな
るエレクトロ・ルミネセンス素子に、第2の特徴を有
し、第3に、複数の行及び列に沿って配置した薄膜トラ
ンジスタ、行毎に、該行上の複数の薄膜トランジスタの
ゲートを共通に接続したゲート線、列毎に、該列上の複
数の薄膜トランジスタのソースを共通に接続したソース
線、薄膜トランジスタの各ドレイン毎に接続したドレイ
ン電極パッド、及び該ドレイン電極パッドに接続したコ
ンデンサを備えたトランジスタ基板を用意し、複数の行
及び列に沿って配置し、一対の電極及び該一対の電極間
に配置したエレクトロ・ルミネセンス体を備えたエレク
トロ・ルミネセンス基板を用意し、トランジスタ基板の
ドレイン電極パッド及びエレクトロ・ルミネセンス体の
うち少なくとも一方に接着性電気接続体を配置し、ドレ
イン電極パッドとエレクトロ・ルミネセンス体とが対向
する様に、薄膜トランジスタ基板とエレクトロ・ルミネ
センス基板とを対向配置し、重ね合せるエレクトロ・ル
ミネセンス素子の製造法に、第3の特徴を有し、第4
に、複数の行及び列に沿って配置した薄膜トランジス
タ、行毎に、該行上の複数の薄膜トランジスタのゲート
を共通に接続したゲート線、列毎に、該列上の複数の薄
膜トランジスタのソースを共通に接続したソース線、薄
膜トランジスタの各ドレイン毎に接続したドレイン電極
パッド、及び該ドレイン電極パッドに接続したコンデン
サを備えたトランジスタ基板を用意する工程、複数の行
及び列に沿って配置し、一対の電極及び該一対の電極間
に配置したエレクトロ・ルミネセンス体を備えたエレク
トロ・ルミネセンス基板を用意する工程、トランジスタ
基板のドレイン電極パッド及びエレクトロ・ルミネセン
ス体のうちの少なくとも一方に接着性電気接続体を配置
する工程、トランジスタ基板のドレイン電極パッド及び
エレクトロ・ルミネセンス体のうちの少なくとも一方に
接着性電気絶縁体を該接着性電気接続体の外周部となる
位置に配置する工程、並びにドレイン電極パッドとエレ
クトロ・ルミネセンス体とが対向する様に、薄膜トラン
ジスタ基板とエレクトロ・ルミネセンス基板とを対向配
置し、重ね合せる工程を有するエレクトロ・ルミネセン
ス素子の製造法に、第4の特徴を有し、第5に、複数の
行及び列に沿って配置した薄膜トランジスタ、行毎に、
該行上の複数の薄膜トランジスタのゲートを共通に接続
したゲート線、列毎に、該列上の複数の薄膜トランジス
タのソースを共通に接続したソース線、薄膜トランジス
タの各ドレイン毎に接続したドレイン電極パッド、及び
該ドレイン電極パッドに接続したコンデンサを備えたト
ランジスタ基板を用意する工程、複数の行及び列に沿っ
て配置し、一対の電極及び該一対の電極間に配置したエ
レクトロ・ルミネセンス体を備えたエレクトロ・ルミネ
センス基板を用意する工程、トランジスタ基板のドレイ
ン電極パッド及びエレクトロ・ルミネセンス体のうちの
少なくとも一方に接着性電気接続体を配置する工程、ト
ランジスタ基板のドレイン電極パッド及びエレクトロ・
ルミネセンス体のうちの少なくとも一方に接着性電気絶
縁体を該接着性電気接続体の外周部となる位置に配置す
る工程、ドレイン電極パッドとエレクトロ・ルミネセン
ス体とが対向する様に、薄膜トランジスタ基板とエレク
トロ・ルミネセンス基板とを対向配置し、重ね合せる工
程、並びに薄膜トランジスタ基板とエレクトロ・ルミネ
センス基板との間を真空排気し、接着性電気接続体及び
接着性静電気絶縁体を加熱硬化させる工程を有するエレ
クトロ・ルミネセンス素子の製造法に、第5の特徴を有
し、第6に、複数の行及び列に沿って配置した第1スィ
ッチング素子、行毎に、行上の複数の第1スィッチング
素子の第1端子を共通に接続した第1配線、列毎に、列
上の複数の第1スィッチング素子の第2端子を共通に接
続した第2配線、第1スィッチング素子の各第3端子毎
に接続した一方の電極、他方の電極及び一方と他方との
電極間に設けたエレクトロ・ルミネセンス体を有するエ
レクトロ・ルミネセンス要素、各第3端子毎に接続した
コンデンサ、エレクトロ・ルミネセンス要素の一方の電
極と第1スィッチング素子の第3端子間に設けた第2ス
ィッチング素子、エレクトロ・ルミネセンス要素の一方
の電極に接続した第3配線、該第3配線中に設けた第3
スィッチング素子、並びに、所定行の第1配線に第1ス
ィッチング素子をオンとするための第1オン信号パルス
を印加し、他行の第1配線に第1スィッチング素子をオ
フとするための第1オフ信号パルスを印加し、第1オン
信号パルスに同期させて第2配線に情報に応じた順バイ
アスの情報信号パルスを印加し、前記所定行のための第
1オン信号パルス印加時、その前で、又はその後で第2
スィッチング素子をオンとするための第2オン信号パル
スを第2スィッチング素子の制御線に所定期間にわたっ
て印加し、これによって、該行上の各エレクトロ・ルミ
ネセンス体への書込みを作動させ、そして、該所定期間
後に第2スィッチング素子をオフとするための第2オフ
信号パルスを該制御線に印加し、該第2オフ信号パルス
印加時、その前で、又はその後で第3スィッチング素子
をオンとするための第3オン信号パルスを第3スィッチ
ング素子の制御線に印加し、これによって、前記第3配
線とエレクトロ・ルミネセンス要素の他方の電極との間
で逆バイアス電圧が印加される様に設定する逆バイアス
印加手段を作動させる駆動手段を有するエレクトロ・ル
ミネセンス装置に、第6の特徴を有し、第7に、複数の
行及び列に沿って配置した第1薄膜トランジスタ、行毎
に、行上の複数の第1薄膜トランジスタのゲートを共通
に接続した第1配線、列毎に、列上の複数の第1薄膜ト
ランジスタのソースを共通に接続した第2配線、第1薄
膜トランジスタの各ドレイン毎に接続した一方の電極、
他方の電極及び一方と他方との電極間に設けたエレクト
ロ・ルミネセンス体を有するエレクトロ・ルミネセンス
要素、該ドレインと該エレクトロ・ルミネセンス要素の
一方の電極との間に設けられ、ゲートで接続した第2薄
膜トランジスタ、各ドレイン毎に接続したコンデンサ、
エレクトロ・ルミネセンス要素の一方の電極と第2薄膜
トランジスタのドレイン端子との間に設けた第1スィッ
チング素子、エレクトロ・ルミネセンス要素の一方の電
極に接続した第3配線、該第3配線中に設けた第2スィ
ッチング素子、並びに、所定行の第1配線に第1薄膜ト
ランジスタをオンとするための第1オン信号パルスを印
加し、他行の第1配線に第1薄膜トランジスタをオフと
するための第1オフ信号パルスを印加し、第1オン信号
パルスに同期させて第2配線に情報に応じた順バイアス
の情報信号パルスを印加し、前記所定行のための第1オ
ン信号パルス印加時、その前で、又はその後で第1スィ
ッチング素子をオンとするための第2オン信号パルスを
第1スィッチング素子の制御線に所定期間にわたって印
加し、これによって、該行上の各エレクトロ・ルミネセ
ンス体への書込みを作動させ、そして、該所定期間後に
第1スィッチング素子をオフとするための第2オフ信号
パルスを該制御線に印加し、該第2オフ信号パルス印加
時、その前で、又はその後で第2スィッチング素子をオ
ンとするための第3オン信号パルスを第3スィッチング
素子の制御線に印加し、これによって、前記第3配線と
エレクトロ・ルミネセンス要素の他方の電極との間で逆
バイアス電圧が印加される様に設定する逆バイアス印加
手段を作動させる駆動手段を有するエレクトロ・ルミネ
センス装置に、第7の特徴を有し、第8に、複数の行及
び列に沿って配置したスィッチング素子、行毎に、行上
の複数のスィッチング素子の第1端子を共通に接続した
第1配線、列毎に、列上の複数のスィッチング素子の第
2端子を共通に接続した第2配線、及びスィッチング素
子の各第3端子毎に接続した一方の電極、他方の電極及
び一方と他方との電極間に設けたエレクトロ・ルミネセ
ンス体を有するエレクトロ・ルミネセンス要素、並びに
前記複数の行のうち少なくとも1つの行を選択する走査
選択パルスを、その選択された行に対応する第1配線に
印加し、走査選択信号に同期させて第2配線に情報に応
じ、エレクトロ・ルミネセンス体に対して順バイアス状
態を生じさせる情報信号パルスを、第2配線毎に印加
し、前記選択された行に対応する第1配線への次の走査
選択信号又は、その後の走査選択信号の印加の開始前
で、エレクトロ・ルミネセンス体に対して逆バイアス状
態を生じさせるバイアス電圧を、第3配線を通して、該
エレクトロ・ルミネセンス体に印加する駆動手段を有す
るエレクトロ・ルミネセンス装置に、第8の特徴を有す
る。
According to the present invention, there are firstly provided a thin film transistor arranged along a plurality of rows and columns, a gate line commonly connecting the gates of a plurality of thin film transistors on the row for each row, For each column, a source line commonly connected to sources of a plurality of thin film transistors on the column, a drain electrode pad connected to each drain of the thin film transistor,
And a transistor substrate provided with a capacitor connected to the drain electrode pad, and an electroluminescent device provided along a plurality of rows and columns, including a pair of electrodes and an electroluminescent body disposed between the pair of electrodes. A thin-film transistor substrate and an electro-luminescence substrate are arranged so that the drain electrode pad and the electro-luminescence body face each other, and the drain electrode pad and one of the pair of electrodes are bonded. An electroluminescent element connected through a conductive electrical connector having a first characteristic, and secondly, a first thin film transistor arranged along a plurality of rows and columns, and for each row, The gate lines connecting the gates of the plurality of first thin film transistors in common, and the source of the plurality of first thin film transistors on the column are shared for each column. A second thin film transistor connected to each drain of the first thin film transistor, and a capacitor connected to the second thin film transistor. The gate of the second thin film transistor is connected to the drain of the first thin film transistor, 2. Connect a drain electrode pad to each drain of the thin film transistor,
And a transistor substrate formed by connecting the source of the second thin film transistor to one electrode of the capacitor; and a pair of electrodes arranged along a plurality of rows and columns, and an electroluminescence disposed between the pair of electrodes. A thin-film transistor substrate and an electro-luminescence substrate, such that the drain electrode pad and the electro-luminescence body face each other, and a drain electrode pad and a pair of electrodes. An electroluminescent element formed by connecting one of the electrodes through an adhesive electrical connector has a second feature, and thirdly, a thin film transistor arranged along a plurality of rows and columns, A gate line commonly connecting the gates of a plurality of thin film transistors on the row, and a plurality of thin film transistors on the column for each column. A source line commonly connected to the source, a drain electrode pad connected to each drain of the thin film transistor, and a transistor substrate provided with a capacitor connected to the drain electrode pad are prepared and arranged along a plurality of rows and columns. Preparing an electroluminescent substrate having a pair of electrodes and an electroluminescent body disposed between the pair of electrodes, and providing an adhesive electrode to at least one of a drain electrode pad of the transistor substrate and the electroluminescent body. A third method of manufacturing an electroluminescent device in which a thin film transistor substrate and an electroluminescent substrate are arranged so as to face each other so that a connection body is arranged and a drain electrode pad and an electroluminescent body face each other, and are overlapped with each other. And the fourth feature
Thin film transistors arranged along a plurality of rows and columns, a gate line commonly connecting the gates of the plurality of thin film transistors on the row for each row, and a common source for the plurality of thin film transistors on the column for each column. Preparing a transistor substrate having a source line connected to each drain, a drain electrode pad connected to each drain of the thin film transistor, and a capacitor connected to the drain electrode pad, arranged along a plurality of rows and columns, Providing an electroluminescent substrate comprising an electrode and an electroluminescent body disposed between the pair of electrodes; providing an adhesive electrical connection to at least one of a drain electrode pad of the transistor substrate and the electroluminescent body; Arranging body, drain electrode pad of transistor substrate and electro-luminescence Arranging an adhesive electrical insulator on at least one of the insulator bodies at a position to be an outer peripheral portion of the adhesive electrical connection body; and And a method of manufacturing an electroluminescent element having a process of superposing and superposing an electroluminescent substrate on a substrate, the fourth method being characterized in that the thin film transistor is arranged along a plurality of rows and columns. , Line by line,
A gate line commonly connecting the gates of the plurality of thin film transistors on the row, a source line commonly connecting the sources of the plurality of thin film transistors on the column for each column, a drain electrode pad connected to each drain of the thin film transistor, And preparing a transistor substrate having a capacitor connected to the drain electrode pad, comprising a pair of electrodes arranged along a plurality of rows and columns, and a pair of electrodes and an electroluminescent body disposed between the pair of electrodes. Providing an electroluminescent substrate, arranging an adhesive electrical connection on at least one of the drain electrode pad of the transistor substrate and the electroluminescent body,
Arranging an adhesive electrical insulator on at least one of the luminescent bodies at a position to be an outer peripheral portion of the adhesive electrical connection body; And the step of superposing the electroluminescent substrate and the overlapping, and the step of evacuating the space between the thin film transistor substrate and the electroluminescent substrate to heat and cure the adhesive electrical connection body and the adhesive electrostatic insulator. The fifth aspect of the present invention relates to a method for manufacturing an electroluminescent element having a fifth feature. Sixth, a first switching element arranged along a plurality of rows and columns, and a plurality of first switching elements on a row for each row. A first wiring commonly connecting the first terminals of the elements, a second wiring commonly connecting the second terminals of the plurality of first switching elements on the column for each column, One electrode connected to each third terminal of one switching element, the other electrode and an electroluminescent element having an electroluminescent body provided between one and the other electrode, connected to each third terminal , A second switching element provided between one electrode of the electroluminescent element and the third terminal of the first switching element, a third wiring connected to one electrode of the electroluminescent element, and the third wiring The third provided inside
A first on signal pulse for turning on the first switching element is applied to the switching element and the first wiring in the predetermined row, and a first on signal pulse for turning off the first switching element is applied to the first wiring in another row. An off signal pulse is applied, a forward biased information signal pulse corresponding to the information is applied to the second wiring in synchronization with the first on signal pulse, and when the first on signal pulse for the predetermined row is applied, Or later
Applying a second ON signal pulse to the control line of the second switching element for a predetermined period of time to turn on the switching element, thereby activating writing to each electroluminescent body on the row; and After the predetermined period, a second off signal pulse for turning off the second switching element is applied to the control line, and the third switching element is turned on when, before or after the application of the second off signal pulse. To the control line of the third switching element, whereby a reverse bias voltage is applied between the third wiring and the other electrode of the electroluminescent element. An electroluminescent device having driving means for operating a reverse bias applying means for setting has a sixth feature, and seventhly, a plurality of rows and columns. A first thin film transistor arranged, a first line in which the gates of the plurality of first thin film transistors on the row are connected in common for each row, and a second line in which the sources of the plurality of first thin film transistors in the column are connected in common for each column Wiring, one electrode connected to each drain of the first thin film transistor,
An electroluminescent element having the other electrode and an electroluminescent body provided between one and the other electrodes, provided between the drain and one electrode of the electroluminescent element, connected by a gate; A second thin film transistor, a capacitor connected to each drain,
A first switching element provided between one electrode of the electroluminescent element and a drain terminal of the second thin film transistor, a third wiring connected to one electrode of the electroluminescent element, provided in the third wiring; A first on signal pulse for turning on the first thin film transistor is applied to the second switching element and the first wiring in a predetermined row, and a second on signal pulse for turning off the first thin film transistor is applied to the first wiring in another row. Applying a 1-off signal pulse, applying a forward-biased information signal pulse corresponding to the information to the second wiring in synchronization with the first on-signal pulse, and applying the first on-signal pulse for the predetermined row. Before or after, a second ON signal pulse for turning on the first switching element is applied to the control line of the first switching element for a predetermined period of time. Activating a write to each electroluminescent body on the row, and applying a second off signal pulse to the control line after the predetermined period to turn off the first switching element; At the time of applying the off signal pulse, before or after that, a third on signal pulse for turning on the second switching element is applied to the control line of the third switching element. An electroluminescence device having a driving means for operating a reverse bias applying means for setting a reverse bias voltage to be applied to the other electrode of the luminescence element, wherein the electroluminescence device has a seventh feature, A plurality of switching elements arranged along a plurality of rows and columns, a first wiring commonly connecting the first terminals of a plurality of switching elements on a row for each row, and a plurality of switches on a column for each column. A second wiring connecting the second terminals of the switching elements in common; an electrode connected to each third terminal of the switching elements, the other electrode, and an electroluminescent body provided between one and the other electrodes; And a scanning selection pulse for selecting at least one of the plurality of rows is applied to a first wiring corresponding to the selected row, and the scanning is performed in synchronization with a scanning selection signal. An information signal pulse for causing a forward bias state to the electroluminescent element in accordance with the information on the two lines is applied to each second line, and the next scan to the first line corresponding to the selected row is performed. Before the start of the application of the selection signal or the subsequent scanning selection signal, a bias voltage that causes a reverse bias state to the electroluminescent element is applied through the third wiring to the element. An electroluminescence device having a driving means for applying a voltage to the electroluminescence device has an eighth feature.

【0009】前記エレクトロクロミック体としては、青
色、緑色及び赤色の三原色を発光する媒体であって、有
機エレクトロ・ルミネセンス体が好ましい。
The electrochromic material is a medium that emits light of three primary colors of blue, green and red, and is preferably an organic electroluminescent material.

【0010】前記接着性電気接続体としては、導電性粒
子を接着剤中に分散含有させ、特にシランカップリング
剤を含有させたものが好ましい。
[0010] The adhesive electric connection body preferably contains conductive particles dispersed and contained in an adhesive, and particularly contains a silane coupling agent.

【0011】前記接着性電気接続体の外周部には、接着
性電気絶縁体を配置した接着構造を採用するのが好まし
い。
It is preferable to adopt an adhesive structure in which an adhesive electrical insulator is disposed on the outer periphery of the adhesive electrical connection body.

【0012】前記薄膜トランジスタは、ポリシリコン半
導体、結晶シリコン半導体、微結晶シリコン半導体又は
アモルファスシリコン半導体を用いるのが好ましい。
Preferably, the thin film transistor uses a polysilicon semiconductor, a crystalline silicon semiconductor, a microcrystalline silicon semiconductor or an amorphous silicon semiconductor.

【0013】前記エレクトロ・ルミネセンス体をはさむ
一対の電極のうち、少なくとも一方の電極は、テクスチ
ャ構造をもつZnO透明電極であるのが好ましい。
It is preferable that at least one of the pair of electrodes sandwiching the electroluminescent body is a ZnO transparent electrode having a texture structure.

【0014】本発明の第6、第7及び第8の特徴によれ
ば、アクティブマトリクス駆動において、エレクトロ・
ルミネセンス要素に交流電圧を印加することを可能と
し、これによって、特に、有機エレクトロ・ルミネセン
ス体の長期間にわたる連続発光時間を大幅に延長させる
ことができた。
According to the sixth, seventh, and eighth features of the present invention, in active matrix driving, an
It was possible to apply an alternating voltage to the luminescent element, which, in particular, could greatly extend the long-term continuous emission time of the organic electroluminescent body.

【0015】本発明で用いた所定期間は、一垂直走査期
間(一フレーム期間又は一フィールド期間)の1/4〜
3/4の期間、好ましくは1/3〜2/3の期間、特に
最適には、約1/2の期間である。
The predetermined period used in the present invention is 1/4 to one vertical scanning period (one frame period or one field period).
The period is 3/4, preferably 1/3 to 2/3, and most preferably about 1/2.

【0016】本発明で用いた順バイアス電圧と逆バイア
ス電圧との時間平均電圧は、約零に設定されているの好
ましい。
The time average voltage of the forward bias voltage and the reverse bias voltage used in the present invention is preferably set to about zero.

【0017】[0017]

【発明の実施の形態】本発明を図面に沿って説明する。
以下、上記薄膜トランジスタを「TFT」と記載し、上
記エレクトロ・ルミネセンス体を「EL」と記憶する。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The present invention will be described with reference to the drawings.
Hereinafter, the thin film transistor is described as “TFT”, and the electroluminescent body is stored as “EL”.

【0018】図1は能動マトリックス4端子TFT−E
L素子の概略図を示す。各画素の素子は2つのTFTと
記憶コンデンサとEL素子とを含む。4端子方式の主な
特徴はEL励起信号からのアドレッシング信号を分離す
る能力である。EL素子は論理TFT(T1)を介して
選択され、EL素子に対する励起電力は電力TFT(T
2)により制御される。記憶コンデンサはそれがいった
ん選択されたアドレスされたEL素子に励起電力を留め
ることを可能にする。斯くして回路はEL素子がアドレ
ッシングに対して割り当てられた時間を無視して100
%に近いデュティサイクルで動作することを許容する。
FIG. 1 shows an active matrix 4-terminal TFT-E.
1 shows a schematic view of an L element. The element of each pixel includes two TFTs, a storage capacitor, and an EL element. A key feature of the four-terminal scheme is the ability to separate the addressing signal from the EL excitation signal. The EL element is selected via the logic TFT (T1), and the excitation power for the EL element is the power TFT (T1).
Controlled by 2). The storage capacitor allows it to retain the excitation power on the addressed EL element once selected. Thus, the circuit ignores the time that the EL element is allocated for addressing and
% To operate with a duty cycle close to%.

【0019】ゲートラインYj ,Yj+1 は、好ましくは
640本、1120本などの様に多数本数配線し、順次
ゲートパルスが印加される。ゲートパルスは、インター
レース走査またはノン・インタレース走査の何れであっ
てもよい。
The gate lines Y j and Y j + 1 are preferably arranged in a large number such as 640 lines, 1120 lines, and gate pulses are sequentially applied. The gate pulse may be interlaced scanning or non-interlaced scanning.

【0020】ソース・ラインXj ,Xj+1 ,Xj+2 は、
好ましくは840本、1280本などの様に多数本数配
線し、ゲートパルスと同期させて、映像データに応じて
設定した電圧の情報信号パルスが印加される。
The source lines X j , X j + 1 , X j + 2 are
Preferably, a large number of wires such as 840 wires or 1280 wires are wired, and an information signal pulse of a voltage set according to video data is applied in synchronization with a gate pulse.

【0021】図中のRELは赤色発光EL、GELは緑
色発光EL、BELは青色発光ELで、ソースラインX
j には赤色の情報信号パルス、Xj+1 には緑色情報パル
ス、Xj+2 には赤色情報パルスが印加される。これによ
ってフルカラー表示が行なわれる。
In the figure, REL is a red light emitting EL, GEL is a green light emitting EL, BEL is a blue light emitting EL, and the source line X
A red information signal pulse is applied to j , a green information pulse is applied to X j + 1 , and a red information pulse is applied to X j + 2 . Thus, full-color display is performed.

【0022】図2は、本発明のTFT基板3の代表例を
示す平面図である。TFT1は図1のT1に対応し、T
FT2は図1のT2に対応し、コンデンサ21は図1の
Csに対応し、ドレイン電極パッド22は図1の各EL
毎のT2 のドレイン接続電極に対応している。
FIG. 2 is a plan view showing a typical example of the TFT substrate 3 of the present invention. TFT1 corresponds to T1 in FIG.
FT2 corresponds to T2 in FIG. 1, capacitor 21 corresponds to Cs in FIG. 1, and drain electrode pad 22 corresponds to each EL in FIG.
Corresponds to the drain connection electrode of the T 2 of the respective.

【0023】図3は、図2のA−A′断面図である。図
4は、図2のB−B′断面図である。
FIG. 3 is a sectional view taken along line AA 'of FIG. FIG. 4 is a sectional view taken along the line BB 'of FIG.

【0024】本発明で用いたTFT1及びTFT2とし
ては、ソースバス24をn+ ポリシリコンに接続し、ド
レインをn+ ポリシリコンに接続し、I型ポリシリコン
膜をはさんで配置したゲート絶縁膜にPECVD(プラ
ズマ増強CVD)−SiO2膜32を配置し、ゲートバ
スをn+ ポリシリコンに接続したトランジスタ構造を採
用した。
[0024] As TFT1 and TFT2 used in the present invention has a source connected to the bus 24 to the n + polysilicon, and a drain connected to the n + polysilicon, a gate insulating film disposed across the I-type polycrystalline silicon film (Plasma-enhanced CVD) -SiO 2 film 32 was arranged, and a transistor structure in which a gate bus was connected to n + polysilicon was adopted.

【0025】本発明は、上述したトランジスタ構造に限
定されることなく、アモルファスシリコンや微結晶シリ
コン半導体を用いたスタガー構造又はコプレナー構造の
何れをも適用することができる。
The present invention is not limited to the transistor structure described above, but can be applied to any of a staggered structure and a coplanar structure using amorphous silicon or microcrystalline silicon semiconductor.

【0026】また、本発明は、結晶シリコンを用いたS
O1(シリコン・オン・インシュレータ)構造のMOS
トランジスタに適用することができる。
Further, according to the present invention, S
MOS with O1 (silicon on insulator) structure
It can be applied to a transistor.

【0027】コンデンサCsは、図4の一対のコンデン
サ電極41と42及び該一対のコンデンサ電極間に設け
たSiO2 膜33によって形成される。コンデンサ電極
は、Al等によって成膜され、グランドバス25と接続
配線され、コンデンサ電極42はn+ ポリシリコン膜に
よって成膜され、TFT2のドレインに接続される。
The capacitor Cs is formed by the pair of capacitor electrodes 41 and 42 of FIG. 4 and the SiO 2 film 33 provided between the pair of capacitor electrodes. The capacitor electrode is formed of Al or the like and is connected to the ground bus 25, and the capacitor electrode 42 is formed of an n + polysilicon film and is connected to the drain of the TFT2.

【0028】ゲートバス23及びソースバス24は、ク
ロム/アルミ積層配線が好ましく用いられる。
As the gate bus 23 and the source bus 24, a chromium / aluminum laminated wiring is preferably used.

【0029】パシベーション34としては、プラズマC
VDによってチッ化シリコン膜が適している。
As passivation 34, plasma C
Depending on the VD, a silicon nitride film is suitable.

【0030】ドレイン電極パット22としては、反射性
能を持たせるために、アルミニウム、銀などの金属膜を
用いることができるが、ITOやZnOの様な透明導電
膜であってもよい。
As the drain electrode pad 22, a metal film such as aluminum or silver can be used in order to have a reflection performance, but a transparent conductive film such as ITO or ZnO may be used.

【0031】図5は、本発明で用いたEL基板6の平面
図で、図6のは、図5のC−C′断面図である。
FIG. 5 is a plan view of the EL substrate 6 used in the present invention, and FIG. 6 is a sectional view taken along the line CC 'of FIG.

【0032】EL基板6は、ガラス基板61、ガラス基
板61上に設けた一対の電極である透明電極51と反射
面を形成するアルミニウムなどのEL電極パッド62及
び該一対の電極間に設けたELによって構成される。
The EL substrate 6 includes a glass substrate 61, a transparent electrode 51 which is a pair of electrodes provided on the glass substrate 61, an EL electrode pad 62 made of aluminum or the like forming a reflection surface, and an EL provided between the pair of electrodes. Composed of

【0033】EL52としては、有機ELが好ましく、
特にREL、GEL及びBELを構成するものが配置さ
れる。
As the EL 52, an organic EL is preferable.
In particular, components constituting REL, GEL and BEL are arranged.

【0034】具体的なREL、GEL及びBELを下記
に列挙するが、本発明はこれらに限定されるものではな
く、また有機ELの代わりに無機ELを適用することも
できる。
Specific REL, GEL and BEL are listed below, but the present invention is not limited to these, and inorganic EL can be applied instead of organic EL.

【0035】本発明の有機ELでの材料は、Scozz
afavaのEPA349,265(1990);Ta
ngのアメリカ特許第4,356,429号;VanS
lyke等のアメリカ特許第4,539,507号;V
anSlyke等のアメリカ特許第4,720,43
2;Tang等のアメリカ特許第4,769,292
号;Tang等のアメリカ特許第4,885,211
号;Perry等のアメリカ特許第4,950,95
0;Littman等のアメリカ特許第5,059,8
61号;VanSlykeのアメリカ特許第5,04
7,687号;Scozzafava等のアメリカ特許
第5,073,446号;VanSlyke等のアメリ
カ特許第5,059,862号;VanSlyke等の
アメリカ特許第5,061,617号;VanSlyk
eのアメリカ特許第5,151,629号;Tang等
のアメリカ特許第5,294,869号;Tang等の
アメリカ特許第5,294,870号)に開示のものを
用いることができる。EL層は陽極と接触する有機ホー
ル注入及び移動帯と、有機ホール注入及び移動帯と接合
を形成する電子注入及び移動帯とからなる。ホール注入
及び移動帯は単一の材料又は複数の材料から形成され、
陽極及び、ホール注入層と電子注入及び移動帯の間に介
装される連続的なホール移動層と接触するホール注入層
からなる。同様に電子注入及び移動帯は単一材料又は複
数の材料から形成され、陽極及び、電子注入層とホール
注入及び移動帯の間に介装される連続的な電子移動層と
接触する電子注入層からなる。ホールと電子の再結合と
ルミネセンスは電子注入及び移動帯とホール注入及び移
動帯の接合に隣接する電子注入及び移動帯内で発生す
る。有機EL層を形成する化合物は典型的には蒸着によ
り堆積されるが、他の従来技術によりまた堆積されう
る。
The material for the organic EL of the present invention is Scozz
afava's EPA 349, 265 (1990); Ta
ng U.S. Pat. No. 4,356,429; VanS.
lyke et al., US Pat. No. 4,539,507;
U.S. Patent No. 4,720,43 to AnSlyke et al.
2; U.S. Patent No. 4,769,292 to Tang et al.
No .: U.S. Pat. No. 4,885,211 to Tang et al.
No. 4,950,95 to Perry et al.
0; U.S. Pat. No. 5,059,8 to Littman et al.
No. 61; VanSlyke U.S. Pat. No. 5,044.
U.S. Pat. No. 5,073,446; VanSlyke et al., U.S. Pat. No. 5,059,862; VanSlyke et al., U.S. Pat. No. 5,061,617; VanSlyk.
e, U.S. Pat. No. 5,151,629; Tang et al., U.S. Pat. No. 5,294,869; Tang et al., U.S. Pat. No. 5,294,870) can be used. The EL layer includes an organic hole injection / migration band that contacts the anode, and an electron injection / migration band that forms a junction with the organic hole injection / migration band. The hole injection and migration zone is formed from a single material or multiple materials,
An anode and a hole injection layer in contact with a continuous hole transfer layer interposed between the hole injection layer and the electron injection and transfer zone. Similarly, the electron injection and transfer zone is formed from a single material or multiple materials and is in contact with the anode and a continuous electron transfer layer interposed between the electron injection layer and the hole injection and transfer zone. Consists of The recombination and luminescence of holes and electrons occurs in the electron injection and migration bands adjacent to the junction of the electron injection and migration bands and the hole injection and migration bands. The compound forming the organic EL layer is typically deposited by evaporation, but can also be deposited by other conventional techniques.

【0036】好ましい実施例ではホール注入層からなる
有機材料は以下のような一般的な式を有する:
In a preferred embodiment, the organic material comprising the hole injection layer has the following general formula:

【0037】[0037]

【外1】 [Outside 1]

【0038】ここで:QはN又はC−R Mは金属、金属酸化物、又は金属ハロゲン化物 T1、T2は水素を表すか又はアルキル又はハロゲンの
ような置換器を含む不飽和六員環を共に満たす。好まし
いアルキル部分は約1から6の炭素原子を含む一方でフ
ェニルは好ましいアリル部分を構成する。
Where: Q is N or C—R M is a metal, metal oxide, or metal halide T1, T2 represents hydrogen or an unsaturated six-membered ring containing a substituent such as alkyl or halogen. Meet together. Preferred alkyl moieties contain about 1 to 6 carbon atoms while phenyl constitutes a preferred allyl moiety.

【0039】好ましい実施例ではホール移動層は芳香族
第三アミンである。芳香族第三アミンの好ましいサブク
ラスは以下の式を有するテトラアリルジアミンを含む:
In a preferred embodiment, the hole transfer layer is an aromatic tertiary amine. A preferred subclass of aromatic tertiary amines includes tetraallyl diamine having the formula:

【0040】[0040]

【外2】 [Outside 2]

【0041】ここでAreはアリレン群であり、nは1
から4の整数であり、Ar、R7 ,R8 ,R9 はそれぞ
れ選択されたアリル群である。好ましい実施例ではルミ
ネセンス、電子注入及び移動帯は金属オキシノイド(o
xinoid)化合物を含む。金属オキシノイド化合物
の好ましい例は以下の一般的な式を有する:
Where Are is an arylene group and n is 1
To 4, and Ar, R 7 , R 8 , and R 9 are each selected allyl groups. In a preferred embodiment, the luminescence, electron injection and migration bands are metal oxinoid (o
xinoid) compounds. Preferred examples of metal oxinoid compounds have the following general formula:

【0042】[0042]

【外3】 [Outside 3]

【0043】ここでR2 −R7 は置き換え可能性を表
す。他の好ましい実施例では金属オキシノイド化合物は
以下の式を有する:
Here, R 2 -R 7 represent the possibility of substitution. In another preferred embodiment, the metal oxinoid compound has the formula:

【0044】[0044]

【外4】 [Outside 4]

【0045】ここでR2 −R7 は上記で定義されたもの
であり、L1−L5は集中的に12又はより少ない炭素
原子を含み、それぞれ別々に1から12の炭素原子の水
素又は炭水化物群を表し、L1,L2は共に、又はL
2,L3は共に連合されたベンゾ環を形成しうる。他の
好ましい実施例では金属オキシノイド化合物は以下の式
である。
Wherein R 2 -R 7 are as defined above, wherein L 1 -L 5 contain 12 or fewer carbon atoms intensively and each independently represents a hydrogen or carbohydrate group of 1 to 12 carbon atoms. L1 and L2 together or L
2, L3 may together form an associated benzo ring. In another preferred embodiment, the metal oxinoid compound has the formula:

【0046】[0046]

【外5】 [Outside 5]

【0047】ここでR2 −R6 は水素又は他の置き換え
可能性を表す。上記例は単にエレクトロルミネセンス層
内で用いられるある好ましい有機材料を表すのみであ
る。それらは本発明の視野を制限することを意図するも
のではなく、これは一般に有機エレクトロルミネセンス
層を指示するものである。上記例からわかるように有機
EL材料は有機リガンドを有する配位化合物を含む。
Here, R 2 -R 6 represent hydrogen or other substitutability. The above examples merely represent certain preferred organic materials used in the electroluminescent layer. They are not intended to limit the field of view of the invention, which is generally indicative of an organic electroluminescent layer. As can be seen from the above example, the organic EL material contains a coordination compound having an organic ligand.

【0048】次のプロセス段階ではEL陽極62はデバ
イスの表面上に堆積される。EL陽極はどのような導電
性の材料でも良いが、好ましくは4eV以下の仕事関数
を有する材料で作られる(Tang等のアメリカ国特許
等4885211号を参照)。低い仕事関数材料は陽極
に好ましい。何故ならばそれらは電子移動層内に容易に
電子を放出するからである。最も低い仕事関数の金属は
アルカリ金属であるが、しかしながらそれらの空気中で
の不安定性はそれらの使用をある条件下で実際的でなく
している。陽極材料は典型的には化学蒸着により堆積さ
れるが、他の適切堆積技術も適用可能である。EL陽極
に対して特に好ましい材料は10:1(原子比で)マグ
ネシウム:銀合金であることが見いだされた。好ましく
は陽極は表示パネルの全表面にわたる連続層として適用
される。他の実施例ではEL陽極は有機電子注入及び移
動帯に隣接した低い仕事関数の金属のより低い層からな
り、低い仕事関数の金属をオーバーレイし、低い仕事関
数の金属を酸素及び湿度から保護する保護層とからな
る。
In the next process step, the EL anode 62 is deposited on the surface of the device. The EL anode is made of any conductive material, but is preferably made of a material having a work function of 4 eV or less (see U.S. Pat. No. 4,885,211 to Tang et al.). Low work function materials are preferred for the anode. Because they readily emit electrons into the electron transfer layer. The lowest work function metals are alkali metals, however, their instability in air makes their use impractical under certain conditions. The anode material is typically deposited by chemical vapor deposition, but other suitable deposition techniques are applicable. A particularly preferred material for the EL anode has been found to be a 10: 1 (atomic ratio) magnesium: silver alloy. Preferably, the anode is applied as a continuous layer over the entire surface of the display panel. In another embodiment, the EL anode comprises a lower layer of low work function metal adjacent to the organic electron injection and transfer zone, overlaying the low work function metal and protecting the low work function metal from oxygen and humidity. And a protective layer.

【0049】典型的には陽極材料は不透明であり、陰極
材料は透明であり、それにより光は陰極材料を通して透
過する。光透過と技術的伝導性の実際的なバランスは典
型的には5−25nmの範囲の厚さである。
Typically, the anode material is opaque and the cathode material is transparent, so that light is transmitted through the cathode material. The practical balance between light transmission and technical conductivity is typically a thickness in the range of 5-25 nm.

【0050】また、本発明では、EL基板6に用いたガ
ラス基板61に代えて、プラスチックフィルムを用いる
ことができ、また透明電極51としてITO、ZnOを
用いることができる。
In the present invention, a plastic film can be used instead of the glass substrate 61 used for the EL substrate 6, and ITO and ZnO can be used for the transparent electrode 51.

【0051】透明電極51は、EL52の表面積を増大
させるために、その表面を微細な凹凸をもつテクスチャ
ー構造を採用することができる。好適なテクスチャー構
造を形成するためには、ZnOを堆積する時の基板温度
を250℃−300℃の様な比較的高湿度とした条件下
でのスパッタ法を用いることができる。
In order to increase the surface area of the EL 52, the transparent electrode 51 can adopt a texture structure having fine irregularities on the surface. In order to form a suitable texture structure, it is possible to use a sputtering method in which the substrate temperature at the time of depositing ZnO is set at a relatively high humidity such as 250 ° C. to 300 ° C.

【0052】また、透明電極51の非EL52領域は、
遮光マスク(図示せず)を設けることができる。この際
の遮光マスクとしては、アルミニウム膜、クロス膜の様
な金属膜、またはこれら金属膜による反射光の発生を防
止するための酸化クロム膜や酸化アルミニウム膜を単独
で、あるいは金属膜に積層させて設けることができる。
金属膜は透明電極51の抵抗を実質的に低下させるの
で、透明電極51の上に金属膜を積層し、さらにこの上
に酸化金属膜を設けるのが好ましい。
The non-EL 52 region of the transparent electrode 51
A light shielding mask (not shown) can be provided. As a light-shielding mask at this time, a metal film such as an aluminum film or a cloth film, or a chromium oxide film or an aluminum oxide film for preventing the generation of light reflected by these metal films is used alone or is laminated on the metal film. Can be provided.
Since the metal film substantially lowers the resistance of the transparent electrode 51, it is preferable to stack a metal film on the transparent electrode 51 and further provide a metal oxide film thereon.

【0053】透明電極51は、本発明のEL素子に駆動
中は、アースまたは所定のDC電圧に設定される。
The transparent electrode 51 is set to ground or a predetermined DC voltage while the EL element of the present invention is being driven.

【0054】図7は、本発明のEL素子の断面図であ
る。EL素子は、TFT基板3とEL基板6とが互いに
対向し、これによってEL基板6側のEL電極パッド6
2とTFT基板3側のドレイン電極パッド22とを対向
配置し、両方の電極間を接着性電気接続体71によって
電気的な接続を行なう。
FIG. 7 is a sectional view of the EL device of the present invention. In the EL element, the TFT substrate 3 and the EL substrate 6 are opposed to each other.
2 and the drain electrode pad 22 on the TFT substrate 3 side are arranged to face each other, and an electrical connection is made between both electrodes by an adhesive electric connection body 71.

【0055】接着性電気接続体71は、エポキシ系又は
フェノール系熱硬化接着剤中にカーボン粒子、銀粒子や
銅粒子の様な導電性粒子が分散含有された導電性接着剤
を用い、これをスクリーン印刷法、オフセット印刷法又
はディスペンサー塗布法などの採用によって、EL基板
6またはTFT基板3、あるいはその両方の所定位置に
塗布し、乾燥させることによって得られる。
The adhesive electrical connector 71 is made of a conductive adhesive in which conductive particles such as carbon particles, silver particles and copper particles are dispersed and contained in an epoxy or phenolic thermosetting adhesive. By adopting a screen printing method, an offset printing method, a dispenser coating method, or the like, it can be obtained by applying to a predetermined position of the EL substrate 6 or the TFT substrate 3 or both of them and drying.

【0056】上述の導電性接着剤中には、界面接着力を
増強するために、N−(2−アミノエチル)−3−アミ
ノプロピルメチルジメトキシシラン、N−(2−アミノ
エチル)−3−アミノプロピルトリメトキシシラン、3
−アミノプロピルトリメトキシシラン、3−アミノプロ
ピルメチルジエトキシシラン、3−グリシドキシプロピ
ルトリメトキシシランなどのシランカップリング剤を含
有させることができる。
In the above-mentioned conductive adhesive, N- (2-aminoethyl) -3-aminopropylmethyldimethoxysilane and N- (2-aminoethyl) -3-in order to enhance the interfacial adhesive strength. Aminopropyltrimethoxysilane, 3
A silane coupling agent such as -aminopropyltrimethoxysilane, 3-aminopropylmethyldiethoxysilane, or 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane.

【0057】接着性電気接続体71の他の例としては、
ハンダなどが挙げられる。
As another example of the adhesive electric connection body 71,
And solder.

【0058】上述の接着性電気接続体71の外周部に
は、接着性電気絶縁体72が設けられる。接着性電気絶
縁体72は、エポキシ系又はフェノール系絶縁接着剤を
EL基板6またはTFT基板、あるいはその両方の所定
位置に、オフセット印刷法、スクリーン印刷法又はディ
スペンサー塗布法などの方法によって、塗布し、乾燥さ
せることによって得られる。この際、絶縁接着剤及び導
電性接着剤の塗布に当って、EL基板6またはTFT基
板3の一方の基板に対して絶縁接着剤を設け、この絶縁
接着剤を設けていない方の基板に対して導電性接着剤を
設ける製造方法を用いるのが好適である。
An adhesive electric insulator 72 is provided on the outer periphery of the above-mentioned adhesive electric connection body 71. The adhesive electric insulator 72 is formed by applying an epoxy-based or phenol-based insulating adhesive to predetermined positions of the EL substrate 6 and / or the TFT substrate by a method such as an offset printing method, a screen printing method, or a dispenser coating method. , Dried. At this time, when applying the insulating adhesive and the conductive adhesive, an insulating adhesive is provided on one of the EL substrate 6 and the TFT substrate 3, and the substrate on which the insulating adhesive is not provided is provided. It is preferable to use a manufacturing method in which a conductive adhesive is provided.

【0059】また、本発明では、上述の接着性電気絶縁
体72に代えて、接着力を持っていない絶縁体、例えば
有機溶媒、特に高沸点有機溶媒やネマチック液晶、コレ
ステリック液晶、スメクチック液晶の様な液晶などの液
体絶縁体を用いることもできる。
In the present invention, instead of the above-mentioned adhesive electric insulator 72, an insulator having no adhesive force, for example, an organic solvent, particularly a high-boiling organic solvent, a nematic liquid crystal, a cholesteric liquid crystal, a smectic liquid crystal, etc. A liquid insulator such as a liquid crystal can also be used.

【0060】また、上述の接着性電気絶縁体72または
非接着性電気絶縁体には、遮光硬化を併せ持つ様に、着
色顔料や塗料などの着色体を含有させることもできる。
Further, the above-mentioned adhesive electric insulator 72 or non-adhesive electric insulator may contain a coloring material such as a coloring pigment or a paint so as to have light-shielding curing.

【0061】本発明のEL素子の製造に当って、TFT
基板3のドレイン電極パッド22の上に導電性接着剤を
例えばオフセット印刷法を用いて塗布し、EL基板6の
EL電極パッド62以外の領域(EL電極パッド62の
外周部)に絶縁接触剤を例えばオフセット印刷法を用い
て塗布し、ドレイン電極パッド22とEL電極パッド6
2とが相対向する様に、TFT基板3とEL基板6とを
重ね合せ、次いでTFT基板3とEL基板6との間隔の
空気を通常の方法で排気し、両基板3と6とに対し圧着
加熱を付加し、密着固定する方法を採用することができ
る。
In manufacturing the EL device of the present invention, a TFT
A conductive adhesive is applied on the drain electrode pad 22 of the substrate 3 using, for example, an offset printing method, and an insulating contact agent is applied to a region other than the EL electrode pad 62 of the EL substrate 6 (the outer peripheral portion of the EL electrode pad 62). For example, by applying an offset printing method, the drain electrode pad 22 and the EL electrode pad 6
The TFT substrate 3 and the EL substrate 6 are overlapped such that the two oppose each other, and then the air between the TFT substrate 3 and the EL substrate 6 is evacuated by a normal method. It is possible to adopt a method of applying pressure bonding heating and fixing closely.

【0062】図8は、上記間隔の空気を排気した時に用
いた真空排気装置である。TFT基板3とEL基板6と
を重ね合せた状態で、ステージ81の上に載置し、周囲
に配置固定された一対O−リング82と83との間にプ
ラスチックフィルムなどのシート83によって、図示の
如く覆い、しかる後に真空排気ポンプ84を作動させ、
シート83内の空気を排気する。
FIG. 8 shows an evacuation apparatus used when the air at the above intervals is exhausted. The TFT substrate 3 and the EL substrate 6 are placed on a stage 81 in a superposed state, and are shown by a sheet 83 such as a plastic film between a pair of O-rings 82 and 83 arranged and fixed around the stage 81. And then operate the evacuation pump 84,
The air in the seat 83 is exhausted.

【0063】図9は、本発明の別のEL素子の等価回路
である。
FIG. 9 is an equivalent circuit of another EL element of the present invention.

【0064】図10及び11は、本発明の第6、第7及
び第8の特徴事項に対応する実施例である。
FIGS. 10 and 11 show an embodiment corresponding to the sixth, seventh and eighth features of the present invention.

【0065】G1,G2,…Gn(n本のゲート走査線)
は、薄膜トランジスタで構成したスィッチング素子Tr
1のゲートに接続したゲート線に、順次印加するゲート
オンパルス(ハイ・レベル電圧)であって、このゲート
オンパルスの順次印加によって、書込み行の選択がなさ
れる。この走査選択信号となるゲートオンパルスG1
2,…Gnは、インターレース走査方式による印加であ
ってもよく、ノンーインターレース走査方式による印加
であってもよい。また、インターレース走査方式による
駆動のときには、1本飛越し、又は2本以上の飛越しに
よるインターレース走査であってもよい。
G 1 , G 2 ,... G n (n gate scanning lines)
Is a switching element Tr composed of thin film transistors
A gate line connected to the first gate, a gate-on pulses sequentially applied (high level voltage), by sequential application of the gate-on pulse, the selection of the write line is performed. The gate-on pulse G 1 serving as the scan selection signal,
G 2 ,..., G n may be applied by an interlaced scanning method or may be applied by a non-interlaced scanning method. In the case of driving by the interlaced scanning method, interlaced scanning may be performed by skipping one line or two or more lines.

【0066】S11,S21,…Sn1は、ELの発光時間を
制御するための制御パルスであり、所定発光期間中に、
薄膜トランジスタで構成したスィッチング素子Tr3
ゲートに印加され、G1,G2,…Gnのゲートオンパル
ス(ハイ・レベル電圧)の印加時、又はその前で、又は
その後で、印加され、この時のELは、順バイアス状態
に設定される。
S 11 , S 21 ,... S n1 are control pulses for controlling the EL light emission time.
Is applied to the gate of the switching devices Tr 3 was a thin film transistor, G 1, G 2, ... upon application of a gate-on pulse of G n (high level voltage), or before it, or after, is applied, the EL at that time is set to a forward bias state.

【0067】S12,S22,…Sn2は、ELの発光を中断
させ、その代わりに、バイアス制御線RB1,RB2…P
nからELに対して逆バイアスを印加するために、ス
ィッチング素子Tr3へのゲートオフパルス(ロー・レ
ベル電圧)の印加時、又はその前で、又はその後で、薄
膜トランジスタで構成したスィッチング素子Tr4のゲ
ートに対して、ゲートオンパルス(ハイ・レベル電圧)
として印加される。
[0067] S 12, S 22, ... S n2 is allowed to interrupt the light emission of the EL, but instead, the bias control line RB 1, RB 2 ... P
To apply a reverse bias to the EL from B n, upon application of a gate-off pulse to the switching devices Tr 3 (low level voltage), or before it, or after, switching devices Tr which is a thin film transistor Gate on pulse (high level voltage) for 4 gates
Is applied.

【0068】バイアス制御線RB1,RB2…PBnは、
図12に図示する様に、EL基板6に設置するのが良
い。この際、バイアス制御線RB1,RB2…PBnは、
アクティブマトリクス駆動素子となる複数のスィッチン
グ素子Tr1の各行に対して、平行にさせた透明電極5
11、512…51nを設け、各透明電極511、51
2…51n毎に、ゲートアレイ121を通して、独立に
アース及び逆バイアス電圧VRの何れか一方に切換える
ように設定する。これによって、EL発光時には、EL
が順バイアス状態となるように電位設定させて駆動す
る。
[0068] bias control line RB 1, RB 2 ... PB n is,
As shown in FIG. 12, it is preferable to install on the EL substrate 6. At this time, the bias control line RB 1, RB 2 ... PB n is
A transparent electrode 5 is set in parallel with each row of the plurality of switching elements Tr 1 serving as an active matrix driving element.
11, 512... 51n are provided, and the respective transparent electrodes 511, 51 are provided.
Every 2 ... 51n, through the gate array 121, set to switch to one of the ground independently and the reverse bias voltage V R. Thereby, at the time of EL emission, EL
Are driven by setting the potential so that the device becomes a forward bias state.

【0069】図10のD1、D2、D3、D4、…Dm(m
本の情報線)は、列上のスィッチング素子Tr1のソー
スに情報に応じて印加する情報に応じた情報信号パルス
であり、EL(BEL、GEL、REL)に対して順バ
イアス状態を設定する。
D 1 , D 2 , D 3 , D 4 ,... D m (m
This information line) is an information signal pulses corresponding to data to be applied in accordance with the information on the source of the switching devices Tr 1 on the column, setting a forward bias state with respect to EL (BEL, GEL, REL) .

【0070】本発明の第6、第7及び第8の特徴事項に
よれば、各ELには、交流電圧が印加され、連続長時間
発光の表示を実現できた。
According to the sixth, seventh and eighth features of the present invention, an AC voltage is applied to each EL, and a continuous long-time light emission display can be realized.

【0071】本発明は、発光表示層に適用するのが適し
ているが、電子写真プリンタ用光信号発生器として用い
られているレーザ信号又はLED信号や液晶シャッタア
レイ信号(固体スキャナ信号)に代えて、使用すること
もできる。
The present invention is suitable for application to a light-emitting display layer. Instead of using a laser signal or an LED signal or a liquid crystal shutter array signal (solid-state scanner signal) used as an optical signal generator for an electrophotographic printer. Can also be used.

【0072】[0072]

【発明の効果】本発明によれば、高精細で、且つ高密度
で、長寿命のEL画素を大面積に亘って、高い生産性を
もって得ることができた。
According to the present invention, a high-definition, high-density, long-life EL pixel can be obtained over a large area with high productivity.

【0073】また、本発明によれば、高輝度のEL発光
を得ることができ、高精細で、高密度でしかも長時間連
続高輝度発光のELカラーディスプレイを高い生産性に
基いて、EL素子を得ることができた。
Further, according to the present invention, it is possible to obtain high-luminance EL light emission, and to obtain a high-definition, high-density EL color display that emits light with high luminance continuously for a long time based on high productivity. Could be obtained.

【0074】さらに、本発明によれば、衝撃に対する安
定性、長期間の使用における表示安定性を実現したEL
カラーディスプレイを得ることができた。
Further, according to the present invention, an EL which realizes stability against impact and display stability in long-term use.
A color display was obtained.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明のEL素子の等価回路図である。FIG. 1 is an equivalent circuit diagram of an EL element of the present invention.

【図2】本発明のEL素子で用いたTFT基板側におけ
るEL画素の平面図である。
FIG. 2 is a plan view of an EL pixel on a TFT substrate side used in the EL element of the present invention.

【図3】図2のA−A′断面図である。FIG. 3 is a sectional view taken along line AA ′ of FIG. 2;

【図4】図3のB−B′断面図である。FIG. 4 is a sectional view taken along line BB ′ of FIG. 3;

【図5】本発明のEL素子で用いたEL基板側における
EL画素の平面図である。
FIG. 5 is a plan view of an EL pixel on the EL substrate side used in the EL element of the present invention.

【図6】図5のC−C′断面図である。FIG. 6 is a sectional view taken along the line CC ′ of FIG. 5;

【図7】本発明のEL素子の断面図である。FIG. 7 is a cross-sectional view of the EL element of the present invention.

【図8】本発明の方法で用いた真空排気装置の断面図で
ある。
FIG. 8 is a sectional view of an evacuation apparatus used in the method of the present invention.

【図9】本発明の別のEL素子の等価回路図である。FIG. 9 is an equivalent circuit diagram of another EL element of the present invention.

【図10】本発明のEL装置の別の実施例で用いた等価
回路図である。
FIG. 10 is an equivalent circuit diagram used in another embodiment of the EL device of the present invention.

【図11】本発明で用いた駆動のタイミングチャート図
である。
FIG. 11 is a timing chart of driving used in the present invention.

【図12】本発明で用いたEL基板の平面図である。FIG. 12 is a plan view of an EL substrate used in the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

T1 第1薄膜トランジスタ T2 第2薄膜トランジスタ Cs コンデンサ REL 赤色発光EL GEL 緑色発光EL BEL 青色発光EL 21 コンデンサ 22 ドレイン電極パッド 23 ゲートバス 24 ソースバス 25 グランドバス 3 TFT基板 31 ガラス基板 32 PECVD膜 33 SiO2膜 34 パシベーション膜 41、42 コンデンサ電極 6 EL基板 51、511、512、51n 透明電極 52 EL 61 ガラス基板 62 EL電極パッド 71 接着性電気接続体 72 接着性電気絶縁体 81 ステージ 82、83 O−リング 83 シート 84 真空排気ポンプ 121 ゲートアレイ RB1、RB2、…PBn バイアス制御線 VR 逆バイアス電位T1 first TFT T2 second TFT Cs capacitor REL red light emitting EL GEL green light emitting EL BEL blue emitting EL 21 capacitor 22 drain electrode pad 23 gate bus 24 source bus 25 ground bus 3 TFT substrate 31 glass substrate 32 PECVD film 33 SiO 2 film 34 passivation film 41, 42 capacitor electrode 6 EL substrate 51, 511, 512, 51n transparent electrode 52 EL 61 glass substrate 62 EL electrode pad 71 adhesive electrical connector 72 adhesive electrical insulator 81 stage 82, 83 O-ring 83 sheet 84 vacuum pump 121 gate array RB 1, RB 2, ... PB n bias control line V R reverse bias potential

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 橋本 雄一 東京都大田区下丸子3丁目30番2号キヤノ ン株式会社内 (72)発明者 妹尾 章弘 東京都大田区下丸子3丁目30番2号キヤノ ン株式会社内 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continuing on the front page (72) Inventor Yuichi Hashimoto 3-30-2 Shimomaruko, Ota-ku, Tokyo Inside Canon Inc. (72) Inventor Akihiro Senoo 3-30-2 Shimomaruko, Ota-ku, Tokyo Inside the corporation

Claims (58)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 複数の行及び列に沿って配置した薄膜ト
ランジスタ、行毎に、該行上の複数の薄膜トランジスタ
のゲートを共通に接続したゲート線、列毎に、該列上の
複数の薄膜トランジスタのソースを共通に接続したソー
ス線、薄膜トランジスタの各ドレイン毎に接続したドレ
イン電極パッド、及び該ドレイン電極パッドに接続した
コンデンサを備えたトランジスタ基板、並びに複数の行
及び列に沿って配置し、一対の電極及び該一対の電極間
に配置したエレクトロ・ルミネセンス体を備えたエレク
トロ・ルミネセンス基板を有し、ドレイン電極パッドと
エレクトロ・ルミネセンス体とが対向する様に、薄膜ト
ランジスタ基板とエレクトロ・ルミネセンス基板とを対
向配置し、ドレイン電極パッドと一対の電極の一方の電
極とを接着性電気接続体を通して接続してなるエレクト
ロ・ルミネセンス素子。
1. A thin film transistor arranged along a plurality of rows and columns, a gate line commonly connecting gates of a plurality of thin film transistors on the row for each row, and a plurality of thin film transistors on the column for each column. A source line having a source connected in common, a drain electrode pad connected to each drain of the thin film transistor, and a transistor substrate having a capacitor connected to the drain electrode pad, and a plurality of rows and columns are arranged, and a pair of An electroluminescent substrate having an electrode and an electroluminescent body disposed between the pair of electrodes; and a thin film transistor substrate and an electroluminescent substrate such that the drain electrode pad and the electroluminescent body face each other. The substrate is opposed to the substrate, and an adhesive electrical connection is made between the drain electrode pad and one of the pair of electrodes. An electroluminescent element connected through a continuum.
【請求項2】 前記エレクトロ・ルミネセンス体は、青
色、緑色及び赤色の三原色を発光する媒体を備えたこと
を特徴とする請求項1記載のエレクトロ・ルミネセンス
素子。
2. The electroluminescent device according to claim 1, wherein the electroluminescent body includes a medium emitting three primary colors of blue, green and red.
【請求項3】 前記エレクトロ・ルミネセンス体は、青
色、緑色及び赤色の三原色を発光する有機物質媒体を備
えたことを特徴とする請求項1記載のエレクトロ・ルミ
ネセンス素子。
3. The electroluminescent device according to claim 1, wherein the electroluminescent body includes an organic medium emitting three primary colors of blue, green and red.
【請求項4】 前記接着性電気接続体は、導電性粒子を
接着剤中に分散含有させてなることを特徴とする請求項
1記載のエレクトロ・ルミネセンス素子。
4. The electroluminescent device according to claim 1, wherein the adhesive electrical connection body is formed by dispersing and containing conductive particles in an adhesive.
【請求項5】 前記接着性電気接続体は、導電性粒子を
接着剤中に分散含有させ、そしてシランカップリング剤
を含有させてなることを特徴とする請求項1記載のエレ
クトロ・ルミネセンス素子。
5. The electroluminescent device according to claim 1, wherein the adhesive electrical connection body comprises conductive particles dispersed in an adhesive and a silane coupling agent. .
【請求項6】 前記接着性電気接続体の外周部に電気絶
縁体を配置したことを特徴とする請求項1記載のエレク
トロ・ルミネセンス素子。
6. The electroluminescent device according to claim 1, wherein an electric insulator is arranged on an outer peripheral portion of the adhesive electric connection body.
【請求項7】 前記接着性電気接続体の外周部に接着性
電気絶縁体を配置したことを特徴とする請求項1記載の
エレクトロ・ルミネセンス素子。
7. The electroluminescent device according to claim 1, wherein an adhesive electric insulator is arranged on an outer peripheral portion of the adhesive electric connection body.
【請求項8】 前記接着性電気接続体の外周部に着色体
を含有した電気絶縁体を配置したことを特徴とする請求
項1記載のエレクトロ・ルミネセンス素子。
8. The electroluminescent element according to claim 1, wherein an electrical insulator containing a colored body is arranged on an outer peripheral portion of said adhesive electrical connection body.
【請求項9】 前記接着性電気接続体の外周部に液体状
電気絶縁体を配置したことを特徴とする請求項1記載の
エレクトロ・ルミネセンス素子。
9. The electroluminescent device according to claim 1, wherein a liquid electrical insulator is disposed on an outer peripheral portion of said adhesive electrical connection body.
【請求項10】 前記薄膜トランジスタは、ポリシリコ
ン半導体層を有することを特徴とする請求項1記載のエ
レクトロ・ルミネセンス素子。
10. The electroluminescent device according to claim 1, wherein said thin film transistor has a polysilicon semiconductor layer.
【請求項11】 前記薄膜トランジスタは、アモルファ
スシリコン半導体又は微結晶シリコン半導体を有するこ
とを特徴とする請求項1記載のエレクトロ・ルミネセン
ス素子。
11. The electroluminescent device according to claim 1, wherein said thin film transistor comprises an amorphous silicon semiconductor or a microcrystalline silicon semiconductor.
【請求項12】 前記薄膜トランジスタは、結晶シリコ
ン半導体を有することを特徴とする請求項1記載のエレ
クトロ・ルミネセンス素子。
12. The electroluminescent device according to claim 1, wherein said thin film transistor comprises a crystalline silicon semiconductor.
【請求項13】 前記エレクトロ・ルミネセンス体をは
さむ一対の電極のうち、少なくとも一方の電極は、テク
スチャ構造をもつ透明電極である請求項1記載のエレク
トロ・ルミネセンス素子。
13. The electroluminescent element according to claim 1, wherein at least one of the pair of electrodes sandwiching the electroluminescent body is a transparent electrode having a texture structure.
【請求項14】 前記エレクトロ・ルミネセンス体をは
さむ一対の電極のうち、少なくとも一方の電極は、テク
スチャ構造をもつZnO透明電極である請求項1記載の
エレクトロ・ルミネセンス素子。
14. The electroluminescent device according to claim 1, wherein at least one of the pair of electrodes sandwiching the electroluminescent body is a ZnO transparent electrode having a texture structure.
【請求項15】 複数の行及び列に沿って配置した第1
薄膜トランジスタ、行毎に、該行上の複数の第1薄膜ト
ランジスタのゲートを共通に接続したゲート線、列毎
に、該列上の複数の第1薄膜トランジスタのソースを共
通に接続したソース線、第1薄膜トランジスタの各ドレ
イン毎に接続した第2薄膜トランジスタ、及び該第2薄
膜トランジスタに接続したコンデンサを備え、該第2薄
膜トランジスタのゲートを第1薄膜トランジスタのドレ
インに接続させ、該第2薄膜トランジスタの各ドレイン
毎にドレイン電極パッドを接続させ、そして第2薄膜ト
ランジスタのソースと該コンデンサの一方の電極とを接
続させてなるトランジスタ基板、並びに複数の行及び列
に沿って配置し、一対の電極及び該一対の電極間に配置
したエレクトロ・ルミネセンス体を備えたエレクトロ・
ルミネセンス基板を有し、ドレイン電極パッドとエレク
トロ・ルミネセンス体とが対向する様に、薄膜トランジ
スタ基板とエレクトロ・ルミネセンス基板とを対向配置
し、ドレイン電極パッドと一対の電極の一方の電極とを
接着性電気接続体を通して接続してなるエレクトロ・ル
ミネセンス素子。
15. A first arrangement arranged along a plurality of rows and columns.
A thin film transistor, a gate line commonly connecting the gates of the plurality of first thin film transistors on the row, a source line commonly connecting the sources of the plurality of first thin film transistors on the column, A second thin film transistor connected to each drain of the thin film transistor; and a capacitor connected to the second thin film transistor, wherein a gate of the second thin film transistor is connected to a drain of the first thin film transistor, and a drain is connected to each drain of the second thin film transistor. An electrode pad is connected, and a transistor substrate formed by connecting the source of the second thin film transistor and one electrode of the capacitor, and a plurality of rows and columns are arranged, and a pair of electrodes and a pair of electrodes are provided. An electro-luminescent device with an arranged electro-luminescent body
A thin film transistor substrate and an electroluminescent substrate are disposed so that a drain electrode pad and an electroluminescent body are opposed to each other, and a drain electrode pad and one electrode of a pair of electrodes are provided. An electroluminescent element connected through an adhesive electrical connector.
【請求項16】 前記エレクトロ・ルミネセンス体は、
青色、緑色及び赤色の三原色を発光する媒体を備えたこ
とを特徴とする請求項15記載のエレクトロ・ルミネセ
ンス素子。
16. The electroluminescent body,
The electroluminescent device according to claim 15, further comprising a medium that emits three primary colors of blue, green, and red.
【請求項17】 前記エレクトロ・ルミネセンス体は、
青色、緑色及び赤色の三原色を発光する有機物質媒体を
備えたことを特徴とする請求項15記載のエレクトロ・
ルミネセンス素子。
17. The electroluminescent body,
The electro-optical device according to claim 15, further comprising an organic material medium that emits three primary colors of blue, green, and red.
Luminescent element.
【請求項18】 前記接着性電気接続体は、導電性粒子
を接着剤中に分散含有させてなることを特徴とする請求
項15記載のエレクトロ・ルミネセンス素子。
18. The electroluminescent device according to claim 15, wherein the adhesive electrical connection body is formed by dispersing conductive particles in an adhesive.
【請求項19】 前記接着性電気接続体は、導電性粒子
を接着剤中に分散含有させ、そしてシランカップリング
剤を含有させてなることを特徴とする請求項15記載の
エレクトロ・ルミネセンス素子。
19. The electroluminescent device according to claim 15, wherein said adhesive electric connection body contains conductive particles dispersed in an adhesive and a silane coupling agent. .
【請求項20】 前記接着性電気接続体の外周部に接着
性電気絶縁体を配置したことを特徴とする請求項15記
載のエレクトロ・ルミネセンス素子。
20. The electroluminescent device according to claim 15, wherein an adhesive electric insulator is arranged on an outer peripheral portion of the adhesive electric connection body.
【請求項21】 前記薄膜トランジスタは、ポリシリコ
ン半導体層を有することを特徴とする請求項15記載の
エレクトロ・ルミネセンス素子。
21. The electroluminescent device according to claim 15, wherein said thin film transistor has a polysilicon semiconductor layer.
【請求項22】 前記薄膜トランジスタは、アモルファ
スシリコン半導体又は微結晶シリコン半導体を有するこ
とを特徴とする請求項15記載のエレクトロ・ルミネセ
ンス素子。
22. The electroluminescent device according to claim 15, wherein said thin film transistor comprises an amorphous silicon semiconductor or a microcrystalline silicon semiconductor.
【請求項23】 前記薄膜トランジスタは、結晶シリコ
ン半導体を有することを特徴とする請求項15記載のエ
レクトロ・ルミネセンス素子。
23. The electroluminescent device according to claim 15, wherein said thin film transistor has a crystalline silicon semiconductor.
【請求項24】 複数の行及び列に沿って配置した薄膜
トランジスタ、行毎に、該行上の複数の薄膜トランジス
タのゲートを共通に接続したゲート線、列毎に、該列上
の複数の薄膜トランジスタのソースを共通に接続したソ
ース線、薄膜トランジスタの各ドレイン毎に接続したド
レイン電極パッド、及び該ドレイン電極パッドに接続し
たコンデンサを備えたトランジスタ基板を用意し、複数
の行及び列に沿って配置し、一対の電極及び該一対の電
極間に配置したエレクトロ・ルミネセンス体を備えたエ
レクトロ・ルミネセンス基板を用意し、トランジスタ基
板のドレイン電極パッド及びエレクトロ・ルミネセンス
体のうちの少なくとも一方に接着性電気接続体を配置
し、ドレイン電極パッドとエレクトロ・ルミネセンス体
とが対向する様に、薄膜トランジスタ基板とエレクトロ
・ルミネセンス基板とを対向配置し、重ね合せることを
特徴とするエレクトロ・ルミネセンス素子の製造法。
24. A thin film transistor arranged along a plurality of rows and columns, a gate line commonly connecting the gates of a plurality of thin film transistors on the row for each row, and a plurality of thin film transistors on the column for each column. A source line commonly connected to a source, a drain electrode pad connected to each drain of the thin film transistor, and a transistor substrate provided with a capacitor connected to the drain electrode pad are prepared, arranged along a plurality of rows and columns, An electroluminescent substrate including a pair of electrodes and an electroluminescent body disposed between the pair of electrodes is provided. At least one of a drain electrode pad of the transistor substrate and the electroluminescent body is adhered to the electroluminescent substrate. Arrange the connection body, and place it so that the drain electrode pad and the electroluminescence body face each other. A method for manufacturing an electroluminescence device, comprising: arranging a film transistor substrate and an electroluminescence substrate so as to face each other and superimposing them.
【請求項25】 前記エレクトロ・ルミネセンス体は、
青色、緑色及び赤色の三原色を発光する媒体を備えたこ
とを特徴とする請求項24記載のエレクトロ・ルミネセ
ンス素子の製造法。
25. The electroluminescent body,
The method for manufacturing an electroluminescent device according to claim 24, further comprising a medium emitting three primary colors of blue, green and red.
【請求項26】 前記エレクトロ・ルミネセンス体は、
青色、緑色及び赤色の三原色を発光する有機物質媒体を
備えたことを特徴とする請求項24記載のエレクトロ・
ルミネセンス素子の製造法。
26. The electroluminescent body,
The electro-optical device according to claim 24, further comprising an organic material medium that emits three primary colors of blue, green, and red.
A method for manufacturing a luminescence element.
【請求項27】 前記接着性電気接続体は、導電性粒子
を接着剤中に分散含有させてなることを特徴とする請求
項24記載のエレクトロ・ルミネセンス素子の製造法。
27. The method for manufacturing an electroluminescent device according to claim 24, wherein said adhesive electrical connection body is formed by dispersing and containing conductive particles in an adhesive.
【請求項28】 前記接着性電気接続体は、導電性粒子
を接着剤中に分散含有させ、そしてシランカップリング
剤を含有させてなることを特徴とする請求項27記載の
エレクトロ・ルミネセンス素子の製造法。
28. The electroluminescent device according to claim 27, wherein the adhesive electric connection body contains conductive particles dispersed in an adhesive and a silane coupling agent. Manufacturing method.
【請求項29】 複数の行及び列に沿って配置した薄膜
トランジスタ、行毎に、該行上の複数の薄膜トランジス
タのゲートを共通に接続したゲート線、列毎に、該列上
の複数の薄膜トランジスタのソースを共通に接続したソ
ース線、薄膜トランジスタの各ドレイン毎に接続したド
レイン電極パッド、及び該ドレイン電極パッドに接続し
たコンデンサを備えたトランジスタ基板を用意する工
程、複数の行及び列に沿って配置し、一対の電極及び該
一対の電極間に配置したエレクトロ・ルミネセンス体を
備えたエレクトロ・ルミネセンス基板を用意する工程、
トランジスタ基板のドレイン電極パッド及びエレクトロ
・ルミネセンス体のうちの少なくとも一方に接着性電気
接続体を配置する工程、トランジスタ基板のドレイン電
極パッド及びエレクトロ・ルミネセンス体のうちの少な
くとも一方に接着性電気絶縁体を該接着性電気接続体の
外周部となる位置に配置する工程、並びにドレイン電極
パッドとエレクトロ・ルミネセンス体とが対向する様
に、薄膜トランジスタ基板とエレクトロ・ルミネセンス
基板とを対向配置し、重ね合せる工程を有することを特
徴とするエレクトロ・ルミネセンス素子の製造法。
29. A thin film transistor arranged along a plurality of rows and columns, a gate line commonly connecting the gates of a plurality of thin film transistors on the row for each row, and a plurality of thin film transistors on the column for each column. A step of preparing a transistor substrate having a source line commonly connected to a source, a drain electrode pad connected to each drain of the thin film transistor, and a capacitor connected to the drain electrode pad, arranged along a plurality of rows and columns; Providing a pair of electrodes and an electroluminescent substrate comprising an electroluminescent body disposed between the pair of electrodes,
Disposing an adhesive electrical connection on at least one of the drain electrode pad and the electroluminescent body of the transistor substrate; and providing an adhesive electrical insulation on at least one of the drain electrode pad and the electroluminescent body of the transistor substrate. Arranging a body at a position to be an outer peripheral portion of the adhesive electric connection body, and a thin-film transistor substrate and an electro-luminescence substrate are arranged to face each other such that the drain electrode pad and the electro-luminescence body are opposed to each other; A method for producing an electroluminescent element, comprising a step of superposing.
【請求項30】 複数の行及び列に沿って配置した薄膜
トランジスタ、行毎に、該行上の複数の薄膜トランジス
タのゲートを共通に接続したゲート線、列毎に、該列上
の複数の薄膜トランジスタのソースを共通に接続したソ
ース線、薄膜トランジスタの各ドレイン毎に接続したド
レイン電極パッド、及び該ドレイン電極パッドに接続し
たコンデンサを備えたトランジスタ基板を用意する工
程、複数の行及び列に沿って配置し、一対の電極及び該
一対の電極間に配置したエレクトロ・ルミネセンス体を
備えたエレクトロ・ルミネセンス基板を用意する工程、
トランジスタ基板のドレイン電極パッド及びエレクトロ
・ルミネセンス体のうちの少なくとも一方に接着性電気
接続体を配置する工程、トランジスタ基板のドレイン電
極パッド及びエレクトロ・ルミネセンス体のうちの少な
くとも一方に接着性電気絶縁体を該接着性電気接続体の
外周部となる位置に配置する工程、ドレイン電極パッド
とエレクトロ・ルミネセンス体とが対向する様に、薄膜
トランジスタ基板とエレクトロ・ルミネセンス基板とを
対向配置し、重ね合せる工程、並びに薄膜トランジスタ
基板とエレクトロ・ルミネセンス基板との間を真空排気
し、接着性電気接続体及び接着性静電気絶縁体を加熱硬
化させる工程を有することを特徴とするエレクトロ・ル
ミネセンス素子の製造法。
30. A thin film transistor arranged along a plurality of rows and columns, a gate line commonly connecting the gates of a plurality of thin film transistors on the row for each row, and a plurality of thin film transistors on the column for each column. A step of preparing a transistor substrate having a source line commonly connected to a source, a drain electrode pad connected to each drain of the thin film transistor, and a capacitor connected to the drain electrode pad, arranged along a plurality of rows and columns; Providing a pair of electrodes and an electroluminescent substrate comprising an electroluminescent body disposed between the pair of electrodes,
Disposing an adhesive electrical connection on at least one of the drain electrode pad and the electroluminescent body of the transistor substrate; and providing an adhesive electrical insulation on at least one of the drain electrode pad and the electroluminescent body of the transistor substrate. Arranging the thin film transistor substrate and the electroluminescent substrate so that the drain electrode pad and the electroluminescent body are opposed to each other; Manufacturing an electroluminescent device, comprising a step of combining and a step of evacuating the thin film transistor substrate and the electroluminescent substrate and heating and curing the adhesive electric connection body and the adhesive electrostatic insulator. Law.
【請求項31】 複数の行及び列に沿って配置した第1
スィッチング素子、行毎に、行上の複数の第1スィッチ
ング素子の第1端子を共通に接続した第1配線、列毎
に、列上の複数の第1スィッチング素子の第2端子を共
通に接続した第2配線、第1スィッチング素子の各第3
端子毎に接続した一方の電極、他方の電極及び一方と他
方との電極間に設けたエレクトロ・ルミネセンス体を有
するエレクトロ・ルミネセンス要素、各第3端子毎に接
続したコンデンサ、エレクトロ・ルミネセンス要素の一
方の電極と第1スィッチング素子の第3端子間に設けた
第2スィッチング素子、エレクトロ・ルミネセンス要素
の一方の電極に接続した第3配線、該第3配線中に設け
た第3スィッチング素子、並びに、所定行の第1配線に
第1スィッチング素子をオンとするための第1オン信号
パルスを印加し、他行の第1配線に第1スィッチング素
子をオフとするための第1オフ信号パルスを印加し、第
1オン信号パルスに同期させて第2配線に情報に応じた
順バイアスの情報信号パルスを印加し、前記所定行のた
めの第1オンパルス印加時、その前で、又はその後で第
2スィッチング素子をオンとするための第2オン信号パ
ルスを第2スィッチング素子の制御線に所定期間にわた
って印加し、これによって、該行上の各エレクトロ・ル
ミネセンス体への書込みを作動させ、そして、該所定期
間後に第2スィッチング素子をオフとするための第2オ
フ信号パルスを該制御線に印加し、該第2オフ信号パル
ス印加時、その前で、又はその後で第3スィッチング素
子をオンとするための第3オン信号パルスを第3スィッ
チング素子の制御線に印加し、これによって、前記第3
配線とエレクトロ・ルミネセンス要素の他方の電極との
間で逆バイアス電圧が印加される様に設定していた逆バ
イアス印加手段を作動させる駆動手段を有するエレクト
ロ・ルミネセンス装置。
31. A first arrangement arranged along a plurality of rows and columns.
A switching element, for each row, a first wiring in which the first terminals of a plurality of first switching elements on a row are connected in common, and for each column, a second terminal for a plurality of first switching elements in a column are connected in common. Of each of the second wiring and the first switching element
An electroluminescent element having one electrode connected to each terminal, the other electrode and an electroluminescent body provided between the one and the other electrodes, a capacitor connected to each third terminal, and electroluminescence A second switching element provided between one electrode of the element and a third terminal of the first switching element, a third wiring connected to one electrode of the electroluminescent element, and a third switching provided in the third wiring A first on signal pulse for turning on the first switching element is applied to the element and the first wiring of the predetermined row, and a first off signal for turning off the first switching element is applied to the first wiring of another row. A signal pulse is applied, a forward biased information signal pulse corresponding to information is applied to the second wiring in synchronization with the first ON signal pulse, and the first ON pulse for the predetermined row is applied. At the time of application, before or after that, a second ON signal pulse for turning on the second switching element is applied to the control line of the second switching element for a predetermined period, whereby each of the electro- Activating the writing to the luminescence body, and applying a second off signal pulse for turning off the second switching element to the control line after the predetermined period, and when the second off signal pulse is applied, Or after that, a third ON signal pulse for turning on the third switching element is applied to the control line of the third switching element, whereby the third switching element is turned on.
An electroluminescence device having driving means for operating a reverse bias applying means set so that a reverse bias voltage is applied between the wiring and the other electrode of the electroluminescence element.
【請求項32】 前記エレクトロ・ルミネセンス体は、
青色、緑色及び赤色の三原色を発光する媒体を備えたこ
とを特徴とする請求項31記載のエレクトロ・ルミネセ
ンス装置。
32. The electroluminescent body,
The electroluminescent device according to claim 31, further comprising a medium that emits three primary colors of blue, green, and red.
【請求項33】 前記エレクトロ・ルミネセンス体は、
青色、緑色及び赤色の三原色を発光する有機物質媒体を
備えたことを特徴とする請求項31記載のエレクトロ・
ルミネセンス装置。
33. The electroluminescent body,
The electro-optical device according to claim 31, further comprising an organic material medium emitting three primary colors of blue, green, and red.
Luminescence device.
【請求項34】 前記第1、第2及び第3スィッチング
素子は、薄膜トランジスタであることを特徴とする請求
請31記載のエレクトロ・ルミネセンス装置。
34. The electroluminescent device according to claim 31, wherein said first, second and third switching elements are thin film transistors.
【請求項35】 前記第1、第2及び第3スィッチング
素子は、薄膜トランジスタで、前記第1端子は、ゲート
端子で、前記第2端子はソース端子で、前記第3端子は
ドレイン端子であることを特徴とする請求項31記載の
エレクトロ・ルミネセンス装置。
35. The first, second, and third switching elements are thin film transistors, the first terminal is a gate terminal, the second terminal is a source terminal, and the third terminal is a drain terminal. The electroluminescent device according to claim 31, wherein:
【請求項36】 前記所定期間は、一垂直走査期間の1
/4〜3/4の期間である請求項31記載のエレクトロ
・ルミネセンス装置。
36. The predetermined period is one of one vertical scanning period.
The electroluminescent device according to claim 31, wherein the period is / 4 to 3/4.
【請求項37】 前記所定期間は、一垂直走査期間の1
/3〜2/3の期間である請求項31記載のエレクトロ
・ルミネセンス装置。
37. The predetermined period is one of one vertical scanning period.
32. The electroluminescent device according to claim 31, wherein the period is / 3 to 2/3.
【請求項38】 前記所定期間は、一垂直走査期間の約
1/2の期間である請求項31記載のエレクトロ・ルミ
ネセンス装置。
38. The electroluminescence device according to claim 31, wherein the predetermined period is a period that is about a half of one vertical scanning period.
【請求項39】 前記所定期間は、一フレーム期間又は
一フィールド期間の1/4〜3/4の期間である請求項
31記載のエレクトロ・ルミネセンス装置。
39. The electroluminescent device according to claim 31, wherein the predetermined period is a period of 1 / to / of one frame period or one field period.
【請求項40】 前記所定期間は、一フレーム期間又は
一フィールド期間の1/3〜2/3の期間である請求項
31記載のエレクトロ・ルミネセンス装置。
40. The electroluminescent device according to claim 31, wherein the predetermined period is one third to two thirds of one frame period or one field period.
【請求項41】 前記所定期間は、一フレーム期間又は
一フィールド期間の約1/2の期間である請求項31記
載のエレクトロ・ルミネセンス装置。
41. The electroluminescent device according to claim 31, wherein the predetermined period is approximately one half of one frame period or one field period.
【請求項42】 前記順バイアス電圧と逆バイアス電圧
との時間平均電圧は、約零に設定されている請求項31
記載のエレクトロ・ルミネセンス装置。
42. The time average voltage of the forward bias voltage and the reverse bias voltage is set to about zero.
An electroluminescent device as described.
【請求項43】 複数の行及び列に沿って配置した第1
薄膜トランジスタ、行毎に、行上の複数の第1薄膜トラ
ンジスタのゲートを共通に接続した第1配線、列毎に、
列上の複数の第1薄膜トランジスタのソースを共通に接
続した第2配線、第1薄膜トランジスタの各ドレイン毎
に接続した一方の電極、他方の電極及び一方と他方との
電極間に設けたエレクトロ・ルミネセンス体を有するエ
レクトロ・ルミネセンス要素、該ドレインと該エレクト
ロ・ルミネセンス要素の一方の電極との間に設けられ、
ゲートで接続した第2薄膜トランジスタ、各ドレイン毎
に接続したコンデンサ、エレクトロ・ルミネセンス要素
の一方の電極と第2薄膜トランジスタのドレイン端子と
の間に設けた第1スィッチング素子、エレクトロ・ルミ
ネセンス要素の一方の電極に接続した第3配線、該第3
配線中に設けた第2スィッチング素子、並びに、所定行
の第1配線に第1薄膜トランジスタをオンとするための
第1オン信号パルスを印加し、他行の第1配線に第1薄
膜トランジスタをオフとするための第1オフ信号パルス
を印加し、第1オン信号パルスに同期させて第2配線に
情報に応じた順バイアスの情報信号パルスを印加し、前
記所定行のための第1オン信号パルス印加時、その前
で、又はその後で第1スィッチング素子をオンとするた
めの第2オン信号パルスを第1スィッチング素子の制御
線に所定期間にわたって印加し、これによって、該行上
の各エレクトロ・ルミネセンス体への書込みを作動さ
せ、そして、該所定期間後に第1スィッチング素子をオ
フとするための第2オフ信号パルスを該制御線に印加
し、該第2オフ信号パルス印加時、その前で、又はその
後で第2スィッチング素子をオンとするための第3オン
信号パルスを第3スィッチング素子の制御線に印加し、
これによって、前記第3配線とエレクトロ・ルミネセン
ス要素の他方の電極との間で逆バイアス電圧が印加され
る様に設定していた逆バイアス印加手段を作動させる駆
動手段を有するエレクトロ・ルミネセンス装置。
43. A first arrangement arranged along a plurality of rows and columns.
For each thin film transistor, for each row, a first wiring commonly connecting the gates of a plurality of first thin film transistors on the row, for each column,
A second wiring commonly connecting the sources of the plurality of first thin film transistors on the column, one electrode connected to each drain of the first thin film transistor, the other electrode, and electroluminescence provided between one and the other electrode; An electroluminescent element having a sense body, provided between the drain and one electrode of the electroluminescent element;
A second thin film transistor connected by a gate, a capacitor connected to each drain, a first switching element provided between one electrode of the electroluminescence element and a drain terminal of the second thin film transistor, and one of the electroluminescence elements A third wiring connected to the third electrode,
A first on signal pulse for turning on the first thin film transistor is applied to the second switching element provided in the wiring and the first wiring in a predetermined row, and the first thin film transistor is turned off to the first wiring in another row. A first off signal pulse for the predetermined row is applied in synchronization with the first on signal pulse, and a forward bias information signal pulse corresponding to the information is applied to the second wiring. At the time of application, before or after that, a second ON signal pulse for turning on the first switching element is applied to the control line of the first switching element for a predetermined period, whereby each of the electro- Activating the writing to the luminescence body, and applying a second off signal pulse for turning off the first switching element to the control line after the predetermined period, the second off signal pulse Upon application, it is applied in the previous, or the third on-signal pulse for the second switching devices turned on by subsequent control line of the third switching devices,
Thereby, an electroluminescence device having a driving means for operating a reverse bias applying means which is set so that a reverse bias voltage is applied between the third wiring and the other electrode of the electroluminescence element. .
【請求項44】 前記エレクトロ・ルミネセンス体は、
青色、緑色及び赤色の三原色を発光する媒体を備えたこ
とを特徴とする請求項43記載のエレクトロ・ルミネセ
ンス装置。
44. The electroluminescent body,
44. The electroluminescent device according to claim 43, further comprising a medium emitting three primary colors of blue, green and red.
【請求項45】 前記エレクトロ・ルミネセンス体は、
青色、緑色及び赤色の三原色を発光する有機物質媒体を
備えたことを特徴とする請求項43記載のエレクトロ・
ルミネセンス装置。
45. The electroluminescent body,
The electro-optical device according to claim 43, further comprising an organic material medium that emits three primary colors of blue, green, and red.
Luminescence device.
【請求項46】 前記第1及び第2スィッチング素子
は、薄膜トランジスタであることを特徴とする請求請4
3記載のエレクトロ・ルミネセンス装置。
46. The method according to claim 4, wherein the first and second switching elements are thin film transistors.
3. The electroluminescent device according to 3.
【請求項47】 前記第2薄膜トランジスタのソースと
前記コンデンサの一方の電極とは、同一電圧に設定され
ている請求項43記載のエレクトロ・ルミネセンス装
置。
47. The electroluminescent device according to claim 43, wherein the source of the second thin film transistor and one electrode of the capacitor are set to the same voltage.
【請求項48】 前記第2薄膜トランジスタのソースと
前記コンデンサの一方の電極とは、第4配線で接続さ
れ、該第4配線に電圧を印加する手段を有している請求
項43記載のエレクトロ・ルミネセンス装置。
48. The electro-optical device according to claim 43, wherein a source of said second thin film transistor and one electrode of said capacitor are connected by a fourth wiring, and further comprising means for applying a voltage to said fourth wiring. Luminescence device.
【請求項49】 前記所定期間は、一垂直走査期間の1
/4〜3/4の期間である請求項43記載のエレクトロ
・ルミネセンス装置。
49. The predetermined period is one of one vertical scanning period.
44. The electroluminescent device according to claim 43, wherein the period is / 4 to 3/4.
【請求項50】 前記所定期間は、一垂直走査期間の1
/3〜2/3の期間である請求項43記載のエレクトロ
・ルミネセンス装置。
50. The predetermined period is one of one vertical scanning period.
44. The electroluminescent device according to claim 43, wherein the period is / 3 to 2/3.
【請求項51】 前記所定期間は、一垂直走査期間の約
1/2の期間である請求項40記載のエレクトロ・ルミ
ネセンス装置。
51. The electroluminescent device according to claim 40, wherein the predetermined period is a period of about one half of one vertical scanning period.
【請求項52】 前記所定期間は、一フレーム期間又は
一フィールド期間の1/4〜3/4の期間である請求項
43記載のエレクトロ・ルミネセンス装置。
52. The electroluminescent device according to claim 43, wherein said predetermined period is a period of 1 / to / of one frame period or one field period.
【請求項53】 前記所定期間は、一フレーム期間又は
一フィールド期間の1/3〜2/3の期間である請求項
43記載のエレクトロ・ルミネセンス装置。
53. The electroluminescent device according to claim 43, wherein the predetermined period is one third to two thirds of one frame period or one field period.
【請求項54】 前記所定期間は、一フレーム期間又は
一フィールド期間の約1/2の期間である請求項43記
載のエレクトロ・ルミネセンス装置。
54. The electroluminescent device according to claim 43, wherein the predetermined period is a period of about one half of one frame period or one field period.
【請求項55】 前記順バイアス電圧と逆バイアス電圧
との時間平均電圧は、約零に設定されている請求項43
記載のエレクトロ・ルミネセンス装置。
55. A time average voltage of the forward bias voltage and the reverse bias voltage is set to about zero.
An electroluminescent device as described.
【請求項56】 複数の行及び列に沿って配置したスィ
ッチング素子、行毎に、行上の複数のスィッチング素子
の第1端子を共通に接続した第1配線、列毎に、列上の
複数のスィッチング素子の第2端子を共通に接続した第
2配線、及びスィッチング素子の各第3端子毎に接続し
た一方の電極、他方の電極及び一方と他方との電極間に
設けたエレクトロ・ルミネセンス体を有するエレクトロ
・ルミネセンス要素、並びに前記複数の行のうち少なく
とも1つの行を選択する走査選択パルスを、その選択さ
れた行に対応する第1配線に印加し、走査選択信号に同
期させて第2配線に情報に応じ、エレクトロ・ルミネセ
ンス体に対して順バイアス状態を生じさせる情報信号パ
ルスを、第2配線毎に印加し、前記選択された行に対応
する第1配線への次の走査選択信号又は、その後の走査
選択信号の印加の開始前で、エレクトロ・ルミネセンス
体に対して逆バイアス状態を生じさせるバイアス電圧
を、第3配線を通して、該エレクトロ・ルミネセンス体
に印加する駆動手段を有するエレクトロ・ルミネセンス
装置。
56. A switching element arranged along a plurality of rows and columns, a first wiring commonly connecting the first terminals of a plurality of switching elements on a row for each row, and a plurality of switching elements on a column for each column. Wiring commonly connected to the second terminals of the switching element, and one electrode connected to each third terminal of the switching element, the other electrode, and electroluminescence provided between the one and the other electrodes Applying an electroluminescent element having a body, and a scan selection pulse for selecting at least one of the plurality of rows to a first wiring corresponding to the selected row, and synchronizing with a scan selection signal. An information signal pulse for generating a forward bias state for the electroluminescent element in accordance with the information on the second wiring is applied to each second wiring, and an information signal pulse is applied to the first wiring corresponding to the selected row. Before the start of the application of the scan selection signal or the subsequent scan selection signal, a bias voltage that causes a reverse bias state to the electroluminescent body is applied to the electroluminescent body through the third wiring. An electroluminescent device having a driving means.
【請求項57】 前記第3端子は、コンデンサを接続さ
せている請求項56記載のエレクトロ・ルミネセンス装
置。
57. The electroluminescent device according to claim 56, wherein the third terminal is connected to a capacitor.
【請求項58】 前記順バイアスと逆バイアスとの時間
平均電圧は、約零に設定されている請求項56記載のエ
レクトロ・ルミネセンス装置。
58. The electroluminescent device according to claim 56, wherein a time average voltage of the forward bias and the reverse bias is set to about zero.
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