JPH10326699A - 荷電粒子照射装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 本発明は、構造を簡素化しつつ照射位置精度
を向上させることを目的とするものである。 【解決手段】 回転可能なガイドリング１２とこれと一
体に回転する放射線遮蔽壁１４との間に複数のサイクロ
トロン支持部材１５を架設し、そのサイクロトロン支持
部材１５でサイクロトロン１６を支持し、サイクロトロ
ン１６の径方向外側のスペースを利用して、ビームモニ
タ等の機器１８〜２０を配置した。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】この発明は、例えばガン治療
装置などとして用いられる荷電粒子照射装置に関するも
のである。

【０００２】

【従来の技術】図１１は例えば「ＴＷＥＬＦＴＨ ＩＮ
ＴＥＲＮＡＴＩＯＮＡＬ ＣＯＮＦＥＲＥＮＣＥ ＯＮ
ＣＹＣＬＯＴＲＯＮＳ ＡＮＤ ＴＨＥＩＲ ＡＰＰ
ＬＩＣＡＴＩＯＮＳ」（１９８９）に示された従来のガ
ン治療装置の断面図である。図において、１は治療室、
２はサイクロトロン設置室、３は治療室１とサイクロト
ロン設置室２との間に回転可能に設けられている放射線
遮蔽ディスク、４は放射線遮蔽ディスク３を支持する回
転支持部である。

【０００３】５は放射線遮蔽ディスク３の回転軸から偏
心した位置に設けられ、放射線遮蔽ディスク３と一体に
回転するサイクロトロンであり、このサイクロトロン５
の一側は放射線遮蔽ディスク３に支持され、他側は放射
線遮蔽ディスク３の回転軸上に設けられた回転支持部６
に支持されている。また、サイクロトロン５は、２５０
ＭｅＶの陽子線を発生する装置である。７はサイクロト
ロン５で発生した陽子線を治療室１内に導入するビーム
輸送系であり、このビーム輸送系７の中間部は、放射線
遮蔽ディスク３に固定されている。また、ビーム輸送系
７は、真空ダクト、偏向電磁石及び４極電磁石などを有
している。８はビーム輸送系７の先端部に設けられ、ビ
ームをスキャンする照射部、９は患者である。

【０００４】このようなガン治療装置では、放射線遮蔽
ディスク３が３６０度回転することによってサイクロト
ロン５及びビーム輸送系７が放射線遮蔽ディスク３の回
転軸を中心として一体に回転し、照射部８も患者９を中
心として回転する。これにより、患者９に対する陽子線
の照射角度を変えることができる。サイクロトロン５で
加速された陽子は、ビーム輸送系７の真空ダクト中を通
過し、ダクトの周囲に配置された電磁石で軌道を１８０
度変えられ、放射線遮蔽ディスク３を貫通して治療室１
へ導かれる。放射線遮蔽ディスク３は、鉄及びコンクリ
ートで構成されており、サイクロトロン５で発生する放
射線から治療室１を遮蔽する。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】上記のように構成され
た従来の荷電粒子照射装置においては、サイクロトロン
５の回転支持部６が放射線遮蔽ディスク３の回転軸上に
設けられているため、サイクロトロン５からその径方向
へ突出するビームモニタや冷凍機、サイクロトロン５内
の機器の位置調整装置等を設置するスペースが小さいと
いう問題点があった。また、サイクロトロン５が放射線
遮蔽ディスク３の回転軸から偏心しており、かつ回転軸
とサイクロトロン５の中心軸とが直交するように配置さ
れているので、放射線遮蔽ディスク３を厚くする必要が
あり、回転体全体の重量が増加する。

【０００６】さらに、サイクトロン５の中心軸の周囲の
磁性体がサイクロトロン５の中心軸に対して対称に配置
されていないため、サイクロトロン５の漏れ磁場によっ
て周囲の磁性体が磁化され、サイクロトロン５の磁場の
周期性が乱れ、ビームを安定に加速することが難しかっ
た。特に、リターンヨークを用いない空芯の超電導サイ
クロトロンの場合は漏れ磁場が大きいので、周囲の磁性
体が磁化され易く、周囲の磁性体による影響が大きかっ
た。

【０００７】さらにまた、サイクロトロン５からの漏れ
磁場がビーム輸送系７の電磁石の磁場を乱すため、ビー
ム輸送時の磁場分布の調整が難しく、ビームの質を落と
さずに輸送することが難しかった。従って、ビーム輸送
系７の電磁石をシールドする必要があった。

【０００８】また、サイクロトロン５の回転とともに放
射線遮蔽ディスク３も回転するが、従来の放射線遮蔽リ
ング３はその重量が数十トンにもなるため、回転部全体
の重量が大きくなり、大きな駆動力が必要で、かつ構造
が複雑になり、回転後の位置決め精度も低下してしま
う。さらに、従来は装置を回転軸上で支持していたの
で、回転時の撓みやねじれの影響が大きく、照射部８の
センタが患部からずれ易く、ビーム輸送系７や回転支持
部４には大きな剛性が要求されていた。

【０００９】この発明は、上記のような問題点を解決す
ることを課題としてなされたものであり、構成を簡素化
しつつ照射位置精度を向上させることができる荷電粒子
照射装置を得ることを目的とする。

【００１０】

【課題を解決するための手段】請求項１の発明に係る荷
電粒子照射装置は、設置室に回転可能に設けられている
ガイドリングと、このガイドリングに対向して設置室内
に設けられ、ガイドリングとともに回転する放射線遮蔽
壁と、ガイドリングと放射線遮蔽壁との間に架設されて
いる複数のサイクロトロン支持部材と、ガイドリングの
回転中心から偏心した位置でサイクロトロン支持部材に
支持され、かつ中心軸がガイドリングの回転中心に対し
て直交する方向へ延びており、ガイドリングとともに回
転するサイクロトロンと、このサイクロトロンに接続さ
れ、ガイドリングとともに回転するビーム輸送系とを備
えたものである。

【００１１】請求項２の発明に係る荷電粒子照射装置
は、設置室に回転可能に設けられ、中心軸が回転中心と
平行なサイクロトロンと、このサイクロトロンとともに
回転する放射線遮蔽壁と、サイクロトロンに接続され、
サイクロトロンとともに回転するビーム輸送系とを備え
たものである。

【００１２】請求項３の発明に係る荷電粒子照射装置
は、サイクロトロンの中心軸を回転中心と同軸とし、回
転中心回りの重量バランスをとるためのバランサをサイ
クロトロンに接続したものである。

【００１３】請求項４の発明に係る荷電粒子照射装置
は、回転中心回りの重量バランスをとるようにサイクロ
トロンを回転中心に対して偏心して配置したものであ
る。

【００１４】請求項５の発明に係る荷電粒子照射装置
は、設置室に回転可能に設けられている磁性体製の容器
と、この容器内に収容され、容器とともに回転するサイ
クロトロンと、このサイクロトロンとともに回転するビ
ーム輸送系とを備えたものである。

【００１５】請求項６の発明に係る荷電粒子照射装置
は、容器の回転軸方向へ延び、収納時にサイクロトロン
を案内するガイド部材を、容器に固定したものである。

【００１６】請求項７の発明に係る荷電粒子照射装置
は、容器の径方向へのサイクロトロンの位置決めをする
ための複数のピンを、容器に設けたものである。

【００１７】請求項８の発明に係る荷電粒子照射装置
は、設置室に回転可能に設けられているサイクロトロン
と、このサイクロトロンに接続され、かつ磁性体部分を
有しており、サイクロトロンとともに回転するビーム輸
送系と、サイクロトロンに対して固定されている磁性体
製のアームとを備え、磁性体部分及びアームがサイクロ
トロンの中心軸の回りに対称に配置されているものであ
る。

【００１８】請求項９の発明に係る荷電粒子照射装置
は、設置室内に固定されている放射線遮蔽壁と、この放
射線遮蔽壁の一側に回転可能に設けられているサイクロ
トロンと、このサイクロトロンに接続され、放射線遮蔽
壁の周縁部に沿ってサイクロトロンの回転中心を中心と
してサイクロトロンとともに回転するビーム輸送系とを
備えたものである。

【００１９】請求項１０の発明に係る荷電粒子照射装置
は、設置室内に回転可能に設けられているガイドリング
と、このガイドリングの内側に固定され、ガイドリング
とともに回転するサイクロトロンと、このサイクロトロ
ンに接続され、ガイドリングとともに回転するビーム輸
送系と、ガイドリングの外側に設けられ、ガイドリング
を回転させる駆動部とを備えたものである。

【００２０】

【発明の実施の形態】以下、この発明の実施の形態を図
について説明する。 実施の形態１．図１はこの発明の実施の形態１による荷
電粒子照射装置を示す側面図、図２は図１の正面図であ
る。図において、１１は設置室、１２は設置室１１内に
回転可能に設けられているガイドリング、１３はガイド
リング１２を回転させるための駆動装置、１４は設置室
１１内にガイドリング１２に対向して設けられ、ガイド
リング１２とともに回転する放射線遮蔽壁であり、この
放射線遮蔽壁１４は、ガイドリング１２と同心の円板状
のものである。１５はガイドリング１２と放射線遮蔽壁
１４との間に架設されている複数のサイクロトロン支持
部材である。

【００２１】１６はガイドリング１２の回転中心から偏
心した位置でサイクロトロン支持部材１５に支持されて
いるサイクロトロンであり、このサイクロトロン１６の
中心軸は、ガイドリング１２の回転中心に対して直交す
る方向へ延びている。１７は放射線遮蔽壁１４とサイク
ロトロン１６との間に設けられている固定部材、１８は
ビームモニタ、１９はサイクロトロン１６内に設置した
装置を駆動するための機器、２０は冷凍機であり、これ
らの機器１８〜２０は、それぞれサイクロトロン１６の
側面部から径方向外側へ突出している。

【００２２】２１は設置室１１内に設けられている照射
室としての治療室、２２はサイクロトロン１６で発生し
た荷電粒子を治療室２１内に導入するビーム輸送系であ
り、このビーム輸送系２２は、真空ダクト、偏向電磁石
２２ａ及び４極電磁石２２ｂなどを有している。２３は
ビーム輸送系２２の先端部に設けられ、ビームをスキャ
ンする照射部、２４は患者、２５は設置室１１内に設け
られている回転支持部、２６は一端部が放射線遮蔽壁１
４に固定され、他端部が回転支持部２５に回転可能に支
持されており、治療室２１を囲む筒状の回転部材であ
り、この回転部材２６に照射部２３が固定されている。

【００２３】次に、動作について説明する。サイクロト
ロン１６で所定のエネルギーに加速された荷電粒子は、
ビーム輸送系２２を通して治療室２１まで導かれ、患者
２４の所定の位置に照射される。機器１８〜２０は、ビ
ーム調整等を行う際に遠隔操作で駆動される。また、駆
動装置１３でガイドリング１２を回転させることによ
り、装置全体が３６０度回転し、患部の位置に応じて照
射角度を変更することができる。

【００２４】このような荷電粒子照射装置では、ガイド
リング１２と放射線遮蔽壁１４との間に組まれたサイク
ロトロン支持部材１５によりサイクロトロン１６が支持
されているため、サイクロトロン１６の径方向外側に十
分なスペースを確保することができ、機器１８〜２０を
容易に配置することができる。また、ガイドリング１２
の回転中心に対してサイクロトロン１６が偏心している
ので、従来必要であったバランス重りが不用になる。さ
らに、サイクロトロン１６の軸方向両面に容易にアクセ
スできるので保守が容易になる。

【００２５】実施の形態２．次に、図３はこの発明の実
施の形態２による荷電粒子照射装置を示す側面図、図４
は図３の装置を示す正面図である。図において、４２は
設置室１１内に設けられている駆動装置、４３ａは駆動
装置４２により中心軸を回転中心として回転される円筒
状の容器、４３は容器４３ａ内に収容され、容器４３ａ
と一体に回転されるサイクロトロンである。

【００２６】４４はサイクロトロン４３と回転部材２６
との間に固定されている円板状の放射線遮蔽壁であり、
この放射線遮蔽壁４４は容器４３ａ及びサイクロトロン
４３の回転中心を中心としてサイクロトロン４３ととも
に回転される。４９容器４３ａ及び回転部材２６に取り
付けられ、回転中心の反対側に位置するビーム輸送系２
２や照射部２３等の機器との重量バランスをとるバラン
サである。

【００２７】８１は設置室１１内に固定されている固定
ビーム輸送系であり、この固定ビーム輸送系８１は、偏
向電磁石８１ａ及び４極電磁石８１ｂなどを有してい
る。８２は固定ビーム輸送系８１の先端部に設けられ、
ビームをスキャンする照射部である。他の構成は、上記
実施の形態１と同様である。

【００２８】次に、動作について説明する。駆動装置４
２は、モータとこのモータにより回転される金属リング
とを有しており、金属リングを容器４３ａの外周面と接
触させることにより容器４３ａ及びサイクロトロン４３
が一体に回転される。サイクロトロン４３は、ビーム輸
送系２２、照射部２３、回転部材２６、放射線遮蔽壁４
４及びバランサ４９と一体に３６０度回転可能であり、
これにより患者２４に対して全方向からのビームの照射
が可能となっている。

【００２９】また、ビーム輸送系２２のビーム軌道が固
定ビーム輸送系８１の軌道と重なっているときに、照射
部２３に隣接する偏向電磁石２２ａの励磁を解除するこ
とにより、荷電粒子が直進し固定ビーム輸送系８１に進
入する。これにより、治療室２１Ａ内の患者２４Ａに対
しても荷電粒子が照射される。但し、この構造では、照
射部８２は固定されている。

【００３０】一般に、荷電粒子をターゲットに当てた場
合、ビーム進行方向の放射線量に比べて、ビーム進行方
向に対して９０度の方向の放射線量は１０００分の１程
度に落ちる。また、サイクロトロンではビームは半径方
向に径を拡大しながら取り出され、ビームは特に取り出
し部での損失が大きくなる。従って、サイクロトロンの
軸方向は半径方向に比べて放射線量が少なくなる。

【００３１】上記のような荷電粒子照射装置では、サイ
クロトロン４３をその中心軸が回転軸と平行（ここでは
同軸）になるように配置したので、治療室２１への放射
線量を減らすことができる。このために、従来の装置に
比べて放射線遮蔽壁４４の厚みを小さくすることがで
き、回転部分の重量を減らすことができる。従って、回
転時の駆動力を小さくすることができるとともに、ビー
ム照射位置の位置決め精度を向上させることができる。

【００３２】また、バランサ４９を設けたため、回転部
分を安定して回転させることができ、照射位置精度をさ
らに向上させることができる。さらに、回転部分の一端
が回転支持部２５により支持され、他端が駆動装置４２
により支持されているため、これによっても回転を安定
させることができ、照射位置精度を向上させることがで
きる。さらにまた、サイクロトロン４３を容器４３ａの
軸方向から搬入できるため、据付作業が容易になる。

【００３３】なお、上記の例では、図３の下方へ向けて
重力が働いているが、図３の平面に垂直な方向へ重力が
働くように装置全体を配置してもよい。この場合、照射
室２１Ａでは、ベッドだけでなく椅子を用いて患者２４
Ａを固定してもよい。

【００３４】実施の形態３．次に、図５はこの発明の実
施の形態３による荷電粒子照射装置を示す側面図であ
る。この例では、サイクロトロン４３を収容した容器４
３ａが、円筒状のサイクロトロン支持部材４１内に収容
されている。サイクロトロン支持部材４１は、駆動装置
４２に支持されている。サイクロトロン４３に接続され
たビーム輸送系２２は、サイクロトロン支持部材４１に
固定され、サイクロトロン支持部材４１とともに回転さ
れる。また、容器４３ａ及びサイクロトロン４３は、そ
れぞれの中心軸が回転中心と平行に延びるように配置さ
れている。さらに、サイクロトロン４３は、回転中心回
りの重量バランスをとるように回転中心に対して偏心し
て配置されている。他の構成は、上記実施の形態２と同
様である。

【００３５】このような荷電粒子照射装置では、サイク
ロトロン４３を偏心させることにより、回転中心回りの
重量バランスをとるようにしたので、バランサを不要と
する（又は小さくする）ことができ、回転部分全体を軽
量化することができる。これにより、駆動装置４２を小
形化できるとともに、照射位置精度を向上させることが
できる。

【００３６】実施の形態４．次に、図６はこの発明の実
施の形態４による荷電粒子照射装置の要部を示す構成図
である。図において４５はリターンヨークを持たない空
芯の超電導サイクロトロン４６を収容する磁性体製の円
筒状の容器、４７は容器４５に固定され、超電導サイク
ロトロン４６を容器４５内に精度よく収納するために超
電導サイクロトロン４６をガイドする複数のガイド部
材、４８は容器４５に固定され超電導サイクロトロン４
６の位置決めをするための複数のピンである。また、図
６では省略したが、超電導サイクロトロン４６には、一
体に回転するビーム輸送系が接続されている。

【００３７】このように、磁性体からなる円筒状の容器
４５により外部への漏れ磁場を小さくすることができる
ため、サイクロトロンとしてリターンヨークを用いない
空芯の超電導サイクロトロン４６やリターンヨークを小
形化したものを用いても、ビーム輸送系への漏れ磁場の
影響を小さくすることができ、ビームの質の悪化を防止
することができるとともに、回転部分の大幅な軽量化を
図ることができる。従って、回転駆動源の小形化を図る
こともできる。

【００３８】また、容器４５にガイド部材４７及びピン
４８を設けることにより、保守組立時の作業を容易にす
ることができるとともに、超電導サイクロトロン４６の
位置決め精度を向上させることができる。また、ガイド
部材４７として磁性体を使用する場合には、それらを回
転対称に配置することによりビームを安定させることが
できる。

【００３９】なお、実施の形態４ではサイクロトロンと
して超電導サイクロトロン４６を示したが、他のサイク
ロトロンにもこの発明は適用できる。また、他の実施の
形態の容器にガイド部材４７やピン４８を設けてもよ
い。

【００４０】実施の形態５．次に、図７はこの発明の実
施の形態５による荷電粒子照射装置の要部を示す正面図
である。図において５１は空芯の超電導サイクロトロ
ン、５２は放射線遮蔽壁、５３は超電導サイクロトロン
５１に接続されているビーム輸送系、５４は超電導サイ
クロトロン５１に固定されている磁性体製の複数本のア
ームであり、これらのアーム５４は、超電導サイクロト
ロン５１及びビーム輸送系５３を含む平面内においてビ
ーム輸送系５３が超電導サイクロトロン５１に対して回
転対称となるように配置されている。

【００４１】このような装置では、ビーム輸送系５３の
磁性体部分に対して回転対称となるようにアーム５４が
配置されているので、ビームを安定して加速することが
できる。なお、実施の形態５では、サイクロトロンとし
て超電導サイクロトロン５１を示したが、他のサイクロ
トロンにもこの発明は適用できる。

【００４２】実施の形態６．次に、図８はこの発明の実
施の形態６による荷電粒子照射装置を示す側面図であ
る。図において６１は設置室、６２は設置室６１内に立
設（固定）されている放射線遮蔽壁、６３ａは放射線遮
蔽壁６２に対して治療室２１とは反対側に回転可能に設
けられている容器、６３は容器６３ａ内に収容されてい
るサイクロトロンであり、このサイクロトロン６３は、
その中心軸を回転中心として駆動装置６４，６５により
容器６３ａと一体に回転される。６６はバランサであ
る。

【００４３】このような装置では、駆動装置６４，６５
を同期制御することにより、容器６３ａ及びサイクロト
ロン６３が回転される。このとき、サイクロトロン６３
と治療室２１とを隔てる放射線遮蔽壁６２は固定されて
おり回転しない。このため、回転部分の重量が小さくな
り、回転時の駆動力を小さくして位置決め精度を向上さ
せることができる。また、放射線遮蔽壁６２を回転させ
ない構造であっても、２７０度程度の回転角を確保する
ことができる。

【００４４】実施の形態７．次に、図９はこの発明の実
施の形態７による荷電粒子照射装置の要部を示す正面図
であり、図８の左方から見た図である。上記実施の形態
６では放射線遮蔽壁６２を設置室６１の床部から立設し
たが、この例では、設置室６１（建屋）の側壁で放射線
遮蔽壁６２を支えている。このような構造であっても、
実施の形態６とほぼ同様の効果を得ることができる。

【００４５】実施の形態８．次に、図１０はこの発明の
実施の形態８による荷電粒子照射装置を示す正面図であ
る。図において、７１は回転可能なガイドリング、７２
は壁を円形にくり抜いた構造の放射線遮蔽壁、７３はコ
ンクリート遮蔽部、７４はガイドリング７１と同心に設
けられ、中心軸を中心としてガイドリング７１と一体に
回転するサイクロトロン（又はその容器）、７５はサイ
クロトロン７４に接続されているとともにガイドリング
７１に固定されているビーム輸送系、７６はサイクロト
ロン７４とガイドリング７１との間に固定されているバ
ランス用重り、７７はガイドリング７１の外側に設けら
れ、ガイドリング７１を回転させる駆動部、７８はガイ
ドリングガイドローラ部であり、ビーム輸送系７５及び
バランス用重り７６はガイドリング７１と一体に回転さ
れる。

【００４６】このような構成により装置全体を安定して
回転させることができ、構成を簡素化しつつ照射位置精
度を向上させることができる。なお、実施の形態８で
は、放射線遮蔽壁７２の開口部の内側でガイドリング７
１を回転させたが、放射線遮蔽壁７２の代わりに設置室
内に外側リングを固定し、その外側リングの内側にガイ
ドリング７１を設け、外側リングに設けた駆動部により
ガイドリング７１を回転させてもよい。

【００４７】

【発明の効果】以上説明したように、請求項１の発明の
荷電粒子照射装置は、ガイドリングと放射線遮蔽壁との
間に架設された複数のサイクロトロン支持部材によりサ
イクロトロンを支持するようにしたので、サイクロトロ
ンの径方向外側に十分なスペースを確保することがで
き、ビームモニタ等の機器を容易に配置することがで
き、全体を小形化することができる。

【００４８】請求項２の発明の荷電粒子照射装置は、サ
イクロトロンをその中心軸が回転軸と平行になるように
配置したので、照射室への放射線量を減らすことがで
き、放射線遮蔽壁の厚みを小さくすることができ、回転
部分の重量を減らすことができる。従って、回転時の駆
動力を小さくすることができるとともに、ビーム照射位
置の位置決め精度を向上することができる。

【００４９】請求項３の発明の荷電粒子照射装置は、サ
イクロトロンの中心軸を回転中心と同軸とし、回転中心
回りの重量バランスをとるためのバランサをサイクロト
ロンに取り付けたので、回転部分全体を安定して回転さ
せることができ、照射位置精度を向上させることができ
る。

【００５０】請求項４の発明の荷電粒子照射装置は、回
転中心回りの重量バランスをとるようにサイクロトロン
を回転中心に対して偏心して配置したので、回転部分全
体を軽量化することができ、これにより駆動装置を小形
化できるとともに、照射位置精度を向上させることがで
きる。

【００５１】請求項５の発明の荷電粒子照射装置は、サ
イクロトロンを磁性体製の容器に収納したので、空芯又
はリターンヨークを小形化したサイクロトロンを用いて
も、ビーム輸送系への漏れ磁場の影響を小さくすること
ができ、ビームの質の悪化を防止することができるとと
もに、回転部分の大幅な軽量化を図ることができる。

【００５２】請求項６の発明の荷電粒子照射装置は、容
器にガイド部材を設けたので、保守組立時の作業を容易
にすることができる。

【００５３】請求項７の発明の荷電粒子照射装置は、容
器に位置決め用の複数のピンを設けたので、サイクロト
ロンの位置決め精度を向上させることができる。

【００５４】請求項８の発明の荷電粒子照射装置は、ビ
ーム輸送系の磁性体部分及び磁性体製のアームをサイク
ロトロンの中心軸の回りに対称に配置したので、ビーム
を安定して加速することができる。

【００５５】請求項９の発明の荷電粒子照射装置は、放
射線遮蔽壁を設置室内に固定したので、回転部分の重量
が小さくなり、回転時の駆動力を小さくしてビームの位
置決め精度を向上させることができる。

【００５６】請求項１０の発明の荷電粒子照射装置は、
設置室内に回転可能に設けられているガイドリングと、
このガイドリングの内側に固定され、ガイドリングとと
もに回転するサイクロトロンと、このサイクロトロンに
接続され、ガイドリングとともに回転するビーム輸送系
と、ガイドリングの外側に設けられ、ガイドリングを回
転させる駆動部とを備えたので、装置全体をスムーズに
回転させることができ、ビームの位置決め精度を向上さ
せることができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】 この発明の実施の形態１による荷電粒子照射
装置を示す側面図である。

【図２】 図１の正面図である。

【図３】 この発明の実施の形態２による荷電粒子照射
装置を示す側面図である。

【図４】 図３の装置を示す正面図である。

【図５】 この発明の実施の形態３による荷電粒子照射
装置を示す側面図である。

【図６】 この発明の実施の形態４による荷電粒子照射
装置の要部を示す構成図である。

【図７】 この発明の実施の形態５による荷電粒子照射
装置の要部を示す正面図である。

【図８】 この発明の実施の形態６による荷電粒子照射
装置を示す側面図である。

【図９】 この発明の実施の形態７による荷電粒子照射
装置の要部を示す正面図である。

【図１０】 この発明の実施の形態８による荷電粒子照
射装置を示す正面図である。

【図１１】 従来の荷電粒子照射装置の一例を示す断面
図である。

【符号の説明】

１１，６１ 設置室、１２，７１ ガイドリング、１
４，４４，６２，７２放射線遮蔽壁、１５ サイクロト
ロン支持部材、１６，４３，６３，７４ サイクロトロ
ン、１８〜２０ 機器、２１ 治療室（照射室）、２
２，５３，７５ビーム輸送系、４５ 容器、４６，５１
超電導サイクロトロン、４７ ガイド部材、４８ ピ
ン、５４ アーム。

Claims (10)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 設置室に回転可能に設けられているガイ
   ドリングと、 このガイドリングに対向して上記設置室内に設けられ、
   上記ガイドリングとともに回転する放射線遮蔽壁と、 上記ガイドリングと上記放射線遮蔽壁との間に架設され
   ている複数のサイクロトロン支持部材と、 上記ガイドリングの回転中心から偏心した位置で上記サ
   イクロトロン支持部材に支持され、かつ中心軸が上記ガ
   イドリングの回転中心に対して直交する方向へ延びてお
   り、上記ガイドリングとともに回転するサイクロトロン
   と、 このサイクロトロンに接続され、上記ガイドリングとと
   もに回転するビーム輸送系とを備えていることを特徴と
   する荷電粒子照射装置。
2. 【請求項２】 設置室に回転可能に設けられ、中心軸が
   回転中心と平行なサイクロトロンと、このサイクロトロ
   ンとともに回転する放射線遮蔽壁と、上記サイクロトロ
   ンに接続され、上記サイクロトロンとともに回転するビ
   ーム輸送系とを備えていることを特徴とする荷電粒子照
   射装置。
3. 【請求項３】 サイクロトロンの中心軸が回転中心と同
   軸であり、上記回転中心回りの重量バランスをとるため
   のバランサが上記サイクロトロンに接続されていること
   を特徴とする請求項２記載の荷電粒子照射装置。
4. 【請求項４】 サイクロトロンは、回転中心回りの重量
   バランスをとるように上記回転中心に対して偏心して配
   置されていることを特徴とする請求項２記載の荷電粒子
   照射装置。
5. 【請求項５】 設置室に回転可能に設けられている磁性
   体製の容器と、この容器内に収容され、上記容器ととも
   に回転するサイクロトロンと、このサイクロトロンに接
   続され、上記サイクロトロンとともに回転するビーム輸
   送系とを備えていることを特徴とする荷電粒子照射装
   置。
6. 【請求項６】 容器には、上記容器の回転軸方向へ延
   び、収納時にサイクロトロンを案内するガイド部材が固
   定されていることを特徴とする請求項５記載の荷電粒子
   照射装置。
7. 【請求項７】 容器には、上記容器の径方向へのサイク
   ロトロンの位置決めをするための複数のピンが設けられ
   ていることを特徴とする請求項５又は請求項６に記載の
   荷電粒子照射装置。
8. 【請求項８】 設置室に回転可能に設けられているサイ
   クロトロンと、このサイクロトロンに接続され、かつ磁
   性体部分を有しており、上記サイクロトロンとともに回
   転するビーム輸送系と、上記サイクロトロンに対して固
   定されている磁性体製のアームとを備え、上記磁性体部
   分及び上記アームが上記サイクロトロンの中心軸の回り
   に対称に配置されていることを特徴とする荷電粒子照射
   装置。
9. 【請求項９】 設置室内に固定されている放射線遮蔽壁
   と、この放射線遮蔽壁の一側に回転可能に設けられてい
   るサイクロトロンと、このサイクロトロンに接続され、
   上記放射線遮蔽壁の周縁部に沿って上記サイクロトロン
   の回転中心を中心として上記サイクロトロンとともに回
   転するビーム輸送系とを備えていることを特徴とする荷
   電粒子照射装置。
10. 【請求項１０】 設置室内に回転可能に設けられている
    ガイドリングと、このガイドリングの内側に固定され、
    上記ガイドリングとともに回転するサイクロトロンと、
    このサイクロトロンに接続され、上記ガイドリングとと
    もに回転するビーム輸送系と、上記ガイドリングの外側
    に設けられ、上記ガイドリングを回転させる駆動部とを
    備えていることを特徴とする荷電粒子照射装置。