JPH10325944A - 光変調素子およびその製造方法 - Google Patents
光変調素子およびその製造方法Info
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- JPH10325944A JPH10325944A JP10072615A JP7261598A JPH10325944A JP H10325944 A JPH10325944 A JP H10325944A JP 10072615 A JP10072615 A JP 10072615A JP 7261598 A JP7261598 A JP 7261598A JP H10325944 A JPH10325944 A JP H10325944A
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Abstract
折の影響が考慮されていなかったため、変調強度が十分
でなかったり、温度特性が大きかった。 【解決手段】所定の形状の光ファイバ11と、光ファイ
バ11を固定するための光ファイバ固定用溝を有する基
板19と、光ファイバ11の所定の箇所に設けられた光
学素子挿入用溝17に取り付けられた少なくとも偏光子
13、検光子14、電気光学素子15からなる光ファイ
バセンサにおいて、電気光学素子15が分極処理された
光ファイバからなり、電圧を印加しない時、電気光学素
子15を透過した光の各誘電主軸に対応する光の位相差
の絶対値が(m/2±1/6)π以内(ここでmが奇
数)となるように分極処理した電気光学素子を用いた光
ファイバセンサを作製する。この結果、温度特性の良好
なあるいは、波長板の不要な光ファイバセンサが実現可
能となる。
Description
線形光学効果を有する分極処理された光ファイバを電気
光学素子として用いた光変調素子及びその製造方法に関
する。
圧(または電界)測定用の電気光学素子として、2次の
非線形光学材料材料であるLiNbO3(LN)や、B
i12SiO20(BSO)や、Bi12GeO20(BG
O)、そしてBi4Ge3O12などの光学結晶が知られて
いた。例えば、大越孝敬編著「光ファイバセンサ」 オ
ーム社(1986年)pp149−153に示されるよ
うに、光ファイバ電圧センサは高い絶縁性を有し、特に
高電圧測定用の光ファイバセンサとして開発されてき
た。
学素子削減のため、レンズやミラーを省略し、光ファイ
バからなる光路途中に磁気光学素子または電気光学素子
を組み込んだ光ファイバセンサが検討されてきた(例え
ば特開平5−297086、特開平6−74979、特
開平8−219825等)。
理する事により2次の非線形光学効果が発現する事が明
らかになり、光ファイバを用いた光変調素子が作製され
るようになって来ている(例えばA.C.Liu 他:Opt. L
ett. Vol.19 pp.466-468(1994)、T. Fujiwara他:IE
EE Photonics Lett. Vol.7 PP.1177-1179(1995)、
特開平9−230293など)。
な2次の非線形光学材料であるLNを用いた光ファイバ
センサでは、特開平3−44562や大越孝敬編著「光
ファイバセンサ」オーム社(1986年)p153に示
すように、約0.1〜0.2度以下の軸ずれ角にする必要
があった。これは、次に述べる様な課題の発生を排除す
るためである。
上記課題について説明する。
イバ電圧(電界)センサの動作原理を示す図である。
搬したランダム偏光の入射光は、偏光子で直線偏光成分
のみが透過する。ここで、1/4波長板を透過した光
は、各誘電主軸に対する光の位相差がπ/2だけ発生し
て円偏光となる。
り、素子に印加された電圧に対応した位相差が発生し、
図11(a)に示す様な円偏光から直線偏光まで変化す
る。
態の変化が光強度の変化として観測される。
光出力の関係を表した模式図である。
電気光学効果と光学バイアス(波長板により決まる)で
与えられる光の位相差で決まるが、関数形はSIN関数
で表される。光学バイアスがπ/2(またはπ/2の奇
数倍)の時は、SIN関数の直線性のよい部分を使用出
来るのに対し、光学バイアスがπ/2からずれる(例え
ば光学バイアス3π/4)と出力波形が歪んだり、さら
に大きく光学バイアスがずれる(例えば光学バイアス
0)の場合は出力波形が大きく歪む他に変調度が著しく
小さくなることが分かる。
軸)から光が入射すると複屈折を感じないので、1/4
波長板によるπ/2の位相差のみであり、歪みのない設
計値通りの変調信号を得ることが出来る。
の大きな自然複屈折のため大きな位相差が発生し、本来
の光学バイアスからずれ変調度が小さかったり、波形が
歪んだり、あるいは複屈折の温度変化により大きな変調
度の温度変化が発生するという課題があった。
然複屈折のない結晶を用いる方法が考えられる。
(結晶)としては、BGO、BSO、そしてBi4Ge3
O12等が知られている。
光面が結 晶長に比例して回転する効果)のため結晶長
を長くできず、光の変調度を任意に設定できなかった
り、変調度を十分大きくできないという課題があった
(例えば大越孝敬編著「光ファイバセンサ」オーム社
(1986年)pp.152−153)。また、Bi4
Ge3O12は、高温でDCドリフトが存在するため、光
変調素子として安定した温度特性を実現できないという
課題があった(例えばO.Kamada他 Appl.Phys. Vol.32
(1993) pp.4288-4291)。
光学素子を配置した光ファイバセンサに於いては、レン
ズが省略されておりビーム広がりの影響を抑える必要か
ら十分長い結晶長がとることができず、比較的大きな電
気光学定数を有するLNを電気光学素子として用いた場
合でも光ファイバセンサとしての感度が小さいという課
題があった。また、液晶を用いた場合は応答速度が非常
に遅く電圧値の急速な変化が測定できなっかたり、低温
で液晶が固体化し使用出来なくなるなどの課題があっ
た。
電気光学素子として用いた場合、LN結晶を電気光学素
子として用いかつ入射光が光軸(Z軸)からずれた場合
に生じるものと同様の課題が発生することを本願発明者
が初めて発見した。すなわち、新たに発見された課題と
は、光ファイバを従来の方法で分極処理する事により、
非線形光学効果(電気光学効果)のみならず、屈折率の
異方性(自然複屈折)が発生するため、それを光ファイ
バセンサとして用いた場合、目的とする光学バイアスの
状態にする事が困難であという課題である。
屈折率変化を利用した従来の光変調器では、上記課題が
発生する余地が無かったため、上記課題自体は、まった
く認識されなかった。
ている光変調素子に於いても、電気光学効果のみしか考
慮されていないため、当然のことながら自然複屈折によ
る光学バイアスが考慮されておらず、直線性が悪い変調
素子となる。さらに上記例に於いては、光ファイバのク
ラッド部に電極挿入用孔が作製されており、この結果分
極処理により発生する自然複屈折以上に、光ファイバ断
面構造の異方性に起因する非常に大きな自然複屈折が発
生する。この結果、この光ファイバはいわゆる偏波面保
存ファイバと同様の機能を有し、誘電主軸(2対の孔を
結んだ直線およびそれに垂直な方向)以外に入射した光
の偏光状態は非常に不安定となり、温度や外圧が加わる
と著しく変化する光ファイバとなる。この結果特に上記
光ファイバを電気光学素子として用い誘電主軸とは異な
る方向に偏光方向をもつ光を入射した場合、例えば温度
が数℃変化しただけでも変調度が大きく変化し、著しく
温度特性の悪い、また歪み率の大きな電気光学素子にな
るという課題があった。
来に比べて自然複屈折の発生を抑えた光変調素子、及び
その製造方法を提供することを目的とする。
に、請求項1記載の本発明は、所定の形状の光ファイバ
と、前記光ファイバを固定するための光ファイバ固定用
溝を有する基板と、前記光ファイバの所定の箇所に設け
られた光学素子挿入用溝、又は前記光ファイバ固定用溝
に取り付けられた偏光子、電気光学素子、及び検光子と
を備えた光変調素子であって、前記電気光学素子が分極
処理された光ファイバを含み、前記電気光学素子に電界
が印加されない時に、前記電気光学素子を透過した光の
位相差の絶対値δが数1で表される光変調素子である。
学素子を透過した光の位相差の絶対値δが数2で表され
る請求項2記載の光変調素子である。
と、前記光ファイバを固定するための光ファイバ固定用
溝を有する基板と、前記光ファイバの所定の箇所に設け
られた光学素子挿入用溝、又は前記光ファイバ固定用溝
に取り付けられた偏光子、波長板、電気光学素子、及び
検光子とを備えた光変調素子であって、前記電気光学素
子が分極処理された光ファイバを含み、前記電気光学素
子に電界が印加されない時に、前記波長板及び電気光学
素子を透過した光の位相差の絶対値δが数3で表される
光変調素子である。
学素子及び波長板を透過した光の位相差の絶対値δが数
4で表される請求項3記載の光変調素子である。
なる2方向から分極処理されたものである請求項1又は
3記載の光変調素子である。
る2方向が、90度±10度の範囲で互いに実質上直交
している請求項5記載の光変調素子である。
形状が、直線である請求項1又は3記載の光変調素子で
ある。
形状が、底面がフラット形状のU字型である請求項1又
は請求項3記載の光変調素子である。
の光ファイバと、前記光ファイバを固定するための光フ
ァイバ固定用溝を有する基板と、前記光ファイバの所定
の箇所に設けられた光学素子挿入用溝、又は前記光ファ
イバ固定用溝に取り付けられた偏光子、電気光学素子、
及び検光子とを備えた光変調素子の製造方法であって、
前記光ファイバを分極処理することにより、前記電気光
学素子を作製するものであり、前記電気光学素子に電界
が印加されない時に前記電気光学素子を透過した光の位
相差の絶対値δが、数1又は数2を満たすように、前記
分極処理を行う光変調素子の製造方法である。
流電界を印加した時、前記検光子を透過した光の変調信
号の歪み率が、実質上極小になるように前記電気光学素
子の分極処理を行う請求項9記載の光変調素子の製造方
法である。
状の光ファイバと、前記光ファイバを固定するための光
ファイバ固定用溝を有する基板と、前記光ファイバの所
定の箇所に設けられた光学素子挿入用溝、又は前記光フ
ァイバ固定用溝に取り付けられた偏光子、波長板、電気
光学素子、及び検光子とを備えた光変調素子の製造方法
であって、前記光ファイバに電界を印加して分極処理す
ることにより、前記電気光学素子を作製するものであ
り、前記電気光学素子に電界が印加されない時、前記波
長板及び前記電気光学素子を透過した光の位相差の絶対
値δが、数3又は数4を満たす様に、前記分極処理を行
う光変調素子の製造方法である。
流電圧を印加した時、前各検光子を透過した直後の光の
変調信号の歪み率が、実質上極小になるように、前記電
気光学素子の分極処理を行う請求項11記載の光変調素
子の製造方法である。
処理は、前記電気光学素子を透過した光の偏光状態を観
測しながら行う請求項9又は11記載の光変調素子の製
造方法である。
2方向から前記光ファイバを分極処理する請求項9又は
11記載の光変調素子の製造方法である。
なる2方向が、90度±10度の範囲内で互いに実質上
直交するものである請求項14記載の光変調素子の製造
方法である。
の形状が、直線である請求項9又は11記載の光変調素
子の製造方法である。
の形状が、底面がフラット形状のU字型である請求項9
又は請求項11記載の光変調素子の製造方法である。
て、図面を参照しながら説明する。
線形光学効果(電気光学効果)と同時に、屈折率の異方
性を発生させる。図10(a)〜(b)に本発明による
光ファイバセンサ用電気光学素子作製の原理図を示す。
ラスブロック、または光ファイバなどの分極処理できる
材料に電極を取り付けたもの)からなる電気光学素子7
01と、x,y,z軸を示す。同図では説明が容易なよ
うに、x,y軸は直交して示してあるが、必ずしも直交
する必要はない。ただし、x、y軸を直交させた場合、
x軸の分極処理がy方向の分極処理の結果に影響を与え
にくくする事ができ、実用上は90度±10度以内にす
る事により容易に各屈折率成分コントロールできる。ま
た、z軸は、このx軸及びy軸に、90度±10度の範
囲内でほぼ直交している。
とにより電気光学素子作製するので、光の伝搬方向(光
ファイバの軸方向)がz軸となる。
に昇温し、次に、x軸方向に1×104〜1×106cm
/V程度の電界を印加し分極処理を行う。このとき、x
軸方向に分極処理すると、x軸方向の電子分極が大きく
なり、x軸方向に偏光した光(x軸方向に光電界が振動
する光)が感じる屈折率nxは増加する(図7(b)参
照)。図10(b)は、本実施の形態の分極処理による
屈折率変化を説明する図である。
(a),(b)の様な光学系(ただしこのとき1/4波
長板は配置しない、また入射光(直線偏光)の偏光面は
x軸からy軸に向かって45度の方向とする)を作製
し、偏光状態を観測する。
偏光、即ち、x軸およびy軸の誘電主軸を透過した光の
位相差が、π/2またはπ/2の奇数倍となるところで
分極処理を終了する。ここで作製した電気光学素子は、
電気光学効果と光学バイアスを与える素子(波長板)の
機能を持った素子である。したがって、この素子を用い
た場合、図11(a)の光学素子のなかで、1/4波長
板を用いなくとも直線性のよい光ファイバセンサを作製
することが可能となる。また、光学バイアスの大きさは
理想値π/2(またはその奇数倍)で有ることが望まし
い。しかし出力波形の歪みをさける必要が無い場合は、
位相差の絶対値δの理想値からのずれは±π/6程度ま
でなら変調度として大きな設計値からのずれがないの
で、使用可能である。したがって、光ファイバに分極処
理を行い電気光学素子を作製する場合、透過した光の位
相差の絶対値δが、数1で表される条件を満足する様に
分極することにより波長板の不要な光ファイバセンサを
実現する事が出来る。
温度変化により変調度の温度変化が大きくなるので、m
の数は少ない方が温度に対して安定な光ファイバセンサ
が実現できる。したがって、位相差の絶対値δが数2で
表される電気光学素子を用いた場合、より温度特性の安
定した光ファイバセンサを実現できる。
光学素子に交流電圧を印加し得られる光出力の歪み率が
ほぼ極小となったとき分極処理を終了しても、電気光学
素子を通過した光の位相差の絶対値δが数1又は数2を
満たした素子を作製するこができる。
じ要領で電界を印加することにより分極処理を行う(図
10(b)参照)。
つ光が感じる屈折率nyが大きくなる。このとき、同様
に図11(a)、(b)の様な光学系を作製し(この場
合、波長板を配置する)、電気光学素子の偏光状態を観
測する。分極処理時間や分極電圧を適当に選ぶことによ
り、電気光学素子を透過した光の偏光状態が円偏光にな
る事を確認するまで分極処理をおこなう。この時得られ
る波長板と電気光学素子で発生する合計の位相差の絶対
値δはπ/2の奇数倍である。この時電気光学素子のみ
で与えられる位相差の絶対値δはπ/2の偶数倍とな
る。
電気光学素子を作製する場合、波長板と電気光学素子を
透過した光の位相差の絶対値δが、数3で表される条件
で分極することにより電気光学素子としてはほぼ等方的
な素子を得るが出来る。
温度変化により変調度の温度変化が大きくなるので、n
の数は少ない方が温度に対して安定な光ファイバセンサ
が実現できる。したがって、より望ましくは電気光学素
子を透過した光の位相差の絶対値δが数4であらわせる
事が望ましい。
られが、原理的には必ずしも1/4波長板である必要は
ない。波長板と電気光学素子の両方を通過した光の位相
差の絶対値δが、数3または数4を満たしていれば、光
ファイバセンサとして機能する。しかし、特に波長板が
1/4波長板であり、δ≒π/2の時、電気光学素子
は、光の透過方向に対して自然複屈折のほとんどない状
態となる。この時、nx≒nyとなり、電気光学素子で発
生する複屈折は、z軸方向に伝搬する光(x偏光、y偏
光またはx軸とy軸の間に偏光方向を持つ光)に対して
はほぼゼロとすることが可能となる。
により、nzが小さくなるが、等方的なガラスを分極処
理した場合の複屈折量(屈折率の最大値と最小値の差)
は、通常0.001程度以下である。
る。0.09/0.001=90となることから、LN
の複屈折量は、本発明による非線形光学材料の複屈折量
より約2桁大きいと言える。従って、非線形光学材料に
入射する光の角度精度もLNの場合に比べて約2桁近く
大きくなり、電気光学素子の作製がきわめて容易にな
る。さらに、z軸方向に伝搬する光に関しては等方的で
あるため、nxとnyが等しくない場合に比べて、複屈折
率の温度変化は小さくなる。即ち温度変化により屈折率
が変化した場合でもnx≒nyの関係は保たれるため、電
気光学素子の光学バイアスの温度変化は小さくなり、温
度特性の非常に良好な光ファイバ電圧(電界)センサを
作製する事が可能となる。
ファイバセンサへの適応例を述べたが、光通信や光計測
用の光変調素子として用いることも可能である。この場
合、温度特性の良好な低歪みの光変調素子となる。
わりに、電気光学素子に交流電圧を印加して得られる光
出力の歪み率が極小となったとき、分極処理を終了して
も、波長板と電気光学素子を通過した光の位相差の絶対
値δが、(n/2−1/6)π≦δ≦(n/2+1/
6)πまたはπ/3≦δ≦2π/3の条件を満足する光
ファイバセンサを作製する事ができる。
場合、電気光学素子をレンズを用いずに長くする事が可
能であり、したがって変調度の大きな光ファイバセンサ
を実現できる。また、特に底面がフラットなU字型光フ
ァイバを用いた場合、光入射方向と光出射方向の光ファ
イバの向きを同じにすることが可能となるので、光ファ
イバセンサを小型化する事が可能となる。
方法として加温中に高電圧を印加し分極処理を行う方法
を示すが、紫外線を照射しながら室温で高電界を印加し
て分極処理を行う方法、コロナポーリングによる方法、
そして高真空・高温条件で分極を行う方法などを用いて
も本質的に同様の機能を得ることができる。
発明を説明する。
態を、図1及び図2(a)〜図2(c)用いて説明す
る。
理について説明する。
イバ心線21を用意する(図2(a))。光ファイバと
しては、石英ガラス系光ファイバであれば、シングルモ
ード光ファイバでもマルチモード光ファイバでもいずれ
でも用いることが出来るが、ここではLED光源を用い
た場合に光量を多くとる事の出来るマルチモード光ファ
イバを用いた。光ファイバは、石英系のコア系200μ
m、クラッド系250μmの光ファイバである。コア部
には屈折率を高めるためにGeO2がドープされてい
る。 次に、光ファイバ心線の被覆を一部除去し光ファ
イバ素線部22が見える状態にする(図2(b))。
素線部をヒータ23の上に固定し電極で挟み込む。最初
に分極処理する方向を図のようにx軸、それとほぼ直角
な方向(90度±10度以内で)をy軸、光の伝搬方向
をz軸とする。ここで、光ファイバを直線に保持しかつ
入射光はほぼコリメート光を入射させ、あらかじめファ
イバ伝搬中に偏光状態が乱れない事を確認した。その後
ヒータの分極処理部での温度を300℃とし、5kVの
電圧(電極間隔0.5mm)を30分〜100分印加し
x軸方向の分極処理を行った。このとき、分極用電圧の
印加を途中で中断し、電圧を印加しない時透過した光の
位相差が、(m/2±1/6)π以内であることを偏光
状態を観測しながら分極処理をくり返した(図2(c)
の状態)。 この様にして得られた光ファイバを用い
て、図1に示す直線型の光ファイバセンサを作製した。
理した光ファイバを直線型の光ファイバセンサに作製す
る手順を説明する。
ミックス、樹脂など、絶縁性の材料であればいずれの材
料でもよいが、加工性と絶縁性に優れるガラスエポキシ
基板19を用いた。
イバ固定用溝18を作製する。作製した溝に前記工程で
作製した光ファイバを接着固定した。
素子挿入用溝17を回転式ブレードソーで作製した。こ
の時、光ファイバ素線部12も同時に切断し光路途中に
光学素子を設置できるようにする。光学素子挿入用溝1
7には、偏光子13及び検光子14を挿入し接着固定し
た。
0を設置した。ここで、基板裏面の電極に関しては、電
極を接着する部分の基板の厚みを0.1mmまで薄くし
て、その電極を接着固定した。
0Vを印加して、出力光の変調度を測定したところ、変
調度は1.8%、歪み率は1%であった。
光の位相差の絶対値δがちょうどmπ/2からずれると
劣化したが、設定値に対して±π/6の範囲内では変調
信号の低下は少なく光ファイバセンサとして使用可能で
あった。
子の−20〜+80℃の範囲で温度特性を測定したとこ
ろ、室温での変調度を100と規格化して±5%以内の
結果を示した。この時、光ファイバが波長板と電気光学
素子の両方の役割をかねるので、波長板は必要がなかっ
た。
i4Ge3O12結晶を用いた場合問題となるDCドリフト
が観測されず安定した温度特性を実現を実現可能であっ
た。
態による、電気光学素子と波長板を組み合わせた場合の
例を図2(c)〜図2(d)及び図3を用いて説明す
る。
に保持し、あらかじめファイバ伝搬中に偏光状態が乱れ
ない事を確認した。
軸、それとほぼ直角な方向(90度±10度以内で)を
y軸、光の伝搬方向をz軸とする。その後ヒータの分極
処理部での温度を300℃とし、5kVの電圧(電極間
隔0.5mm)を100分印加しx軸方向の分極処理
い、x軸方向に分極処理を行った(図2(c))。
10度の範囲で回転し、同様に300℃で30分間の分
極処理を行った(図2(d))。
た状態で、光ファイバの左側端面から直線偏光の光を入
射させ、出射光の偏光状態を観測した。
軸に向かって45度の角度になる様に光を入射した。こ
こで、出射光の楕円率が大きい場合はさらに分極処理を
行い、試料を室温に戻す。
ぼ透過光が直線偏光になる状態で分極処理を終了した。
この状態で入射光側に1/4波長板を設置し、1000
Vの電圧を印加した場合、1.5%の変調度が得られる
事を確認した。
バに組みあげる手順は、実施の形態1と同様である。
尚、図3に示す、電極30〜基板39は、図1の電極1
0〜基板19にそれぞれ対応している。又、図1の偏光
子13は、図3では、偏光子と1/4波長板を張り合わ
せた素子33に対応する。この素子33は、入射光側に
偏光子ががくるように配置されている。
の交流電圧を印加した時1.4%の変調度信号が得られ
た。このときの歪み率は、0.8%以内と低歪みであっ
た。さらに、この素子の−20℃〜+80℃の温度範囲
での変調度の変化は、室温での変調度を100%に規格
化すると±1.5%と非常に良好であった。さらに70
℃以上の高温においても、Bi4Ge3O12結晶を用いた
場合問題となるDCドリフトが観測されず温度特性の安
定した光ファイバセンサを作製できた。
光の位相差の絶対値δがπ/2の奇数倍の時直線性がよ
く、δの設定値からのずれが±π/6以内であれば変調
信号を得ることが可能であり、光ファイバセンサとして
使用可能である事を確認した。また、温度特性は上記の
ようにδ=π/2の時最も良好であった。
長板の誘電主軸と電気光学素子の誘電主軸とが同じ方向
であれば、順序を入れ替える(即ち検光子の前に波長板
を張り付ける)事も可能であった。
バセンサへの応用例について述べたが、上記素子は、直
線状で低光損失に出来るため、光通信用の光変調素子や
光スイッチとして用いることが出来ることは勿論であ
る。
の形態を図4(a)〜図7(d)を用いて説明する。
イバを用い、基板上に偏光子、電気光学素子(波長板の
働きも兼ねる)、検光子、光ファイバ等をハイブリッド
に集積化した光ファイバセンサの例を示す。基板の材料
としては、後ほどの分極処理時の加温の事を考えてBK
7ガラス基板を用いた。通常のBK7ガラス基板49の
上に、回転式ブレードソーを用いて光ファイバ固定用溝
48、電極挿入用溝403を作製する(図4(b))。
上に接着固定する。このとき、接着材としては、アルミ
ナ、シリカを主成分とするセラミック系接着剤を用い
た。
を用いて示す。
除去し、光ファイバ素線部52が見える状態とし、この
光ファイバ素線部52に加熱処理にを行いう(図7
(c))。ここで、用いた光ファイバは石英系のコア径
200μm、クラッド径250μmであり、コア部部は
屈折率を高める為にGeO2がドープされている。この
ファイバの軟化点は900〜1000℃程度であるた
め、マイクロガスバーナを用いて加熱処理する事により
底面がフラットなU字型の光ファイバ(屈曲光ファイバ
56)を作製した。
用溝47を回転式ブレードソーで2本作製し、この溝に
偏光子43、検光子46を挿入する。
板からなる電極を2本挿入固定する(図6参照)。この
とき、電極の間隔は1mmである。次に電極からリード
線401を取り出し分極処理用電源又は変調度測定用電
源に接続する。
バと受光器からの光ファイバを接続し、光ファイバセン
サの変調信号を測定できる系を構成する。次にこのガラ
ス基板49の先端部にヒータを密着させ、乾燥雰囲気中
で200℃に加温し両端に10kVの電圧を印加し30
分放置した。ここで、一度分極処理を中断し、電極間に
1000Vの交流を印加し変調信号の歪み率を測定す
る。ここで、歪み率が大きい場合はさらに分極処理を続
けて、1000Vの交流電圧を印加した場合の歪み率が
1%以下となったところで、試料を室温にもどし、分極
処理を終了した。このとき、1000Vの印加電圧に対
して、光変調度1.0%、SIN波の交流波形に 対する
歪み率は0.8%の光ファイバセンサを得た。本構成の
センサに於いては、光ファイバの分極処理した部分が電
気光学素子と波長板の両方の役割をはたすため、波長板
がなくいても直線性のよい変調信号をえることができ
た。
の形態を図7、図8(a)〜図9(b)を用いて説明す
る。ここでは、底面がフイラットなU字型光ファイバ
(屈曲光ファイバ)を用い基板上に偏光子、波長板、電
気光学素子、検光子、光ファイバ等をハイブリッドに集
積化した光ファイバセンサの例を示す。光ファイバを分
極処理する方法は実施の形態1と同様にx軸及びy軸の
2方向から行った素子を用いた。即ち1/4波長板及び
光ファイバを透過した光の位相差がちょうどπ/2にな
る条件で分極処理したものを用いた。
(b)〜図7(d) に示すようにマイクロガスバーナ
ーで加熱して底面がフラットなU字型光ファイバ(屈曲
ファイバ)を作製した。この時分極処理した箇所に熱が
加わらないよう、各コーナの加工時間を10〜30秒と
し、さらに火炎は細く絞って使用した。
(a)〜図9(b)に示す手順に従って光ファイバセン
サを作製した。ガラスエポキシ基板69に作製した光フ
ァイバ固定用溝68に上記の分極処理した屈曲光ファイ
アバを接着固定した(図8(b)参照)。
素子挿入用溝67を回転式ブレードソーで作製した(図
9(a)参照)。
1/4波長板を一体化した偏光素子63を、また出射側
には検光子66を挿入し固定した。また、光ファイバの
分極した部分にステンレス薄板の電極を、同様にガラス
エポキシ基板69の裏面(電極を接着する部分の基板6
9の厚みは約0.2mmに薄く加工してある)にも同様
に電極を接着して光ファイバセンサを作製した(図9
(b)参照)。なお、図では、電極からのリード線は、
図面をわかりやすくするために省略してある。この光フ
ァイバセンサに交流電圧1000Vを印加したところ、
光の変調度1.4%であっ た。また、その時のSIN波
形の電圧に対する歪み率は0.5%以下であった。さら
にこのセンサを−20〜+80℃の範囲で温度特性を測
定したところ、室温での変調度を100と規格化して±
2%以内の良好な温度特性であった。これは、光ファイ
バの分極処理部の屈折率差がほぼゼロの複屈折のない状
態の電気光学素子が作製されたため、複屈折の温度特性
などによる光学バイアスのずれの発生がないことのため
である。更に、70℃以上の高温においても、Bi4G
e3O12結晶を用いた場合問題となるDCドリフトが観
測されず安定した温度特性を実現を実現可能であった。
の光損失を押さえる対策は特に施していないが、光損失
を極力小さくしたい場合など、光ファイバ屈曲部に光の
反射構造(誘電体多層膜や金属ペーストによるコーティ
ング膜)を作製してもよい。
る。
で、電気光学効果を有しかつ波長板の機能をかね備えた
電気光学素子を作製可能であり、その結果光ファイバセ
ンサを容易に作製する事ができる。
印加しない時の、透過光に対する位相差の絶対値δがほ
ぼπ/2の奇数倍となる用に分極処理することにより、
直線性のよい光ファイバセンサを実現できる。 (3)分極処理した光ファイバの、電圧を印加しない時
の、透過光に対する位相差の絶対値δがほぼゼロとなる
用に分極処理することにより、光学バイアスの温度によ
るずれなどがなく、良好な温度特性のかつ直線性の良好
な光ファイバセンサを実現できる。
3O12)などで問題となるDCドリフトの問題がない光
変調素子を実現できる。
とにより、電気光学素子の素子長を長くする事が可能と
なり、その結果、レンズがない集積型光ファイバセンサ
においても大きな感度を有した光ファイバセンサを作製
できる。
を用いることにより、光の入射方向と出射方向が平行
な、センサとして利用が容易な光ファイバセンサを実現
できる。
り、本発明の工業的価値は高い。
の形態では、光ファイバセンサとして利用する場合を中
心に述べたが、これに限らず例えば、光通信用や光計測
用の光源の変調素子や光スイッチ等にも適用出来るもの
である。
発明は、自然複屈折の発生を抑えた光変調素子を提供出
来るという長所を有する。
バセンサの構成を示す図
電気光学素子を作製する手順を示す図
バセンサの構成を示す図
態による光ファイバセンサの作製手順を示す図
態による光ファイバセンサの作製手順を示す図
バセンサの作製手順を示す図
の作製手順を示す図
態による光ファイバセンサの作製手順を示す図
態による光ファイバセンサの作製手順を示す図
電気光学素子作製の原理図
構成およびその動作原理を示す図
を張り合わせた素子 55 マイクロガスバーナ 56 屈曲光ファイバ 401 リード線 403 電極挿入用溝
に昇温し、次に、x軸方向に1×104〜1×10 6V/
cm程度の電界を印加し分極処理を行う。このとき、x
軸方向に分極処理すると、x軸方向の電子分極が大きく
なり、x軸方向に偏光した光(x軸方向に光電界が振動
する光)が感じる屈折率nxは増加する(図7(b)参
照)。図10(b)は、本実施の形態の分極処理による
屈折率変化を説明する図である。
Claims (17)
- 【請求項1】 所定の形状の光ファイバと、 前記光ファイバを固定するための光ファイバ固定用溝を
有する基板と、 前記光ファイバの所定の箇所に設けられた光学素子挿入
用溝、又は前記光ファイバ固定用溝に取り付けられた偏
光子、電気光学素子、及び検光子とを備えた光変調素子
であって、 前記電気光学素子が分極処理された光ファイバを含み、
前記電気光学素子に電界が印加されない時に、前記電気
光学素子を透過した光の位相差の絶対値δが数1で表さ
れる事を特徴とする光変調素子。 【数1】 (m/2−1/6)π≦δ≦(m/2+1/6)π ここでmは奇数。 - 【請求項2】 前記電気光学素子を透過した光の位相差
の絶対値δが数2で表される事を特徴とする請求項2記
載の光変調素子。 【数2】π/3≦δ≦2π/3 - 【請求項3】 所定の形状の光ファイバと、 前記光ファイバを固定するための光ファイバ固定用溝を
有する基板と、 前記光ファイバの所定の箇所に設けられた光学素子挿入
用溝、又は前記光ファイバ固定用溝に取り付けられた偏
光子、波長板、電気光学素子、及び検光子とを備えた光
変調素子であって、 前記電気光学素子が分極処理された光ファイバを含み、
前記電気光学素子に電界が印加されない時に、前記波長
板及び電気光学素子を透過した光の位相差の絶対値δが
数3で表される事を特徴とする光変調素子。 【数3】 (n/2−1/6)π≦δ≦(n/2+1/6)π ここでnは奇数。 - 【請求項4】 前記電気光学素子及び波長板を透過した
光の位相差の絶対値δが数4で表される事を特徴とする
請求項3記載の光変調素子。 【数4】π/3≦δ≦2π/3 - 【請求項5】 前記光ファイバは、相異なる2方向から
分極処理されたものである事を特徴とする請求項1又は
3記載の光変調素子。 - 【請求項6】 前記相異なる2方向が、90度±10度
の範囲で互いに実質上直交している事を特徴とする請求
項5記載の光変調素子。 - 【請求項7】 前記所定の形状が、直線である事を特徴
とする請求項1又は3記載の光変調素子。 - 【請求項8】 前記所定の形状が、底面がフラット形状
のU字型である事を特徴とする請求項1又は請求項3記
載の光変調素子。 - 【請求項9】 所定の形状の光ファイバと、 前記光ファイバを固定するための光ファイバ固定用溝を
有する基板と、 前記光ファイバの所定の箇所に設けられた光学素子挿入
用溝、又は前記光ファイバ固定用溝に取り付けられた偏
光子、電気光学素子、及び検光子とを備えた光変調素子
の製造方法であって、 前記光ファイバを分極処理することにより、前記電気光
学素子を作製するものであり、 前記電気光学素子に電界が印加されない時に前記電気光
学素子を透過した光の位相差の絶対値δが、数1又は数
2を満たすように、前記分極処理を行うことを特徴とす
る光変調素子の製造方法。 【数1】 (m/2−1/6)π≦δ≦(m/2+1/6)π ここでmは奇数。 【数2】π/3≦δ≦2π/3 - 【請求項10】 前記電気光学素子に交流電界を印加し
た時、前記検光子を透過した光の変調信号の歪み率が、
実質上極小になるように前記電気光学素子の分極処理を
行う事を特徴とする請求項9記載の光変調素子の製造方
法。 - 【請求項11】 所定の形状の光ファイバと、 前記光ファイバを固定するための光ファイバ固定用溝を
有する基板と、 前記光ファイバの所定の箇所に設けられた光学素子挿入
用溝、又は前記光ファイバ固定用溝に取り付けられた偏
光子、波長板、電気光学素子、及び検光子とを備えた光
変調素子の製造方法であって、 前記光ファイバに電界を印加して分極処理することによ
り、前記電気光学素子を作製するものであり、 前記電気光学素子に電界が印加されない時、前記波長板
及び前記電気光学素子を透過した光の位相差の絶対値δ
が、数3又は数4を満たす様に、前記分極処理を行うこ
とを特徴とする光変調素子の製造方法。 【数3】 (n/2−1/6)π≦δ≦(n/2+1/6)π ここでnは奇数。 【数4】π/3≦δ≦2π/3 - 【請求項12】 前記電気光学素子に交流電圧を印加し
た時、前各検光子を透過した直後の光の変調信号の歪み
率が、実質上極小になるように、前記電気光学素子の分
極処理を行う事を特徴とする請求項11記載の光変調素
子の製造方法。 - 【請求項13】 前記分極処理は、前記電気光学素子を
透過した光の偏光状態を観測しながら行う事を特徴とす
る請求項9又は11記載の光変調素子の製造方法。 - 【請求項14】 相異なる2方向から前記光ファイバを
分極処理する事を特徴とする請求項9又は11記載の光
変調素子の製造方法。 - 【請求項15】 前記相異なる2方向が、90度±10
度の範囲内で互いに実質上直交するものである事を特徴
とする請求項14記載の光変調素子の製造方法。 - 【請求項16】 前記所定の形状が、直線である事を特
徴とする請求項9又は11記載の光変調素子の製造方
法。 - 【請求項17】 前記所定の形状が、底面がフラット形
状のU字型である事を特徴とする請求項9又は請求項1
1記載の光変調素子の製造方法。
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