JPH10311901A - 反射防止性物品、該物品を組込んだ光学機器および表示機器 - Google Patents
反射防止性物品、該物品を組込んだ光学機器および表示機器Info
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- JPH10311901A JPH10311901A JP9121062A JP12106297A JPH10311901A JP H10311901 A JPH10311901 A JP H10311901A JP 9121062 A JP9121062 A JP 9121062A JP 12106297 A JP12106297 A JP 12106297A JP H10311901 A JPH10311901 A JP H10311901A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 帯電現象の発生を抑え、帯電現象に起因する
ごみ等の付着のない反射防止物品を提供する。 【解決手段】 含フッ素脂肪環構造を有する重合体の薄
膜からなる低屈折率層３を有する反射防止性物品であっ
て、前記低屈折率層３の下層に、透明導電性フィラーを
含む透明樹脂からなる帯電防止層２を有することを特徴
とする。
ごみ等の付着のない反射防止物品を提供する。 【解決手段】 含フッ素脂肪環構造を有する重合体の薄
膜からなる低屈折率層３を有する反射防止性物品であっ
て、前記低屈折率層３の下層に、透明導電性フィラーを
含む透明樹脂からなる帯電防止層２を有することを特徴
とする。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、レンズ、フィルタ
ー等の光学物品、ＣＲＴ、液晶表示装置等の表示パネル
等の反射防止性を付与する必要のある、種々の光学物品
に関し、特に含フッ素脂肪環構造有する重合体からなる
低屈折率層を有する反射防止性物品に関する。
ー等の光学物品、ＣＲＴ、液晶表示装置等の表示パネル
等の反射防止性を付与する必要のある、種々の光学物品
に関し、特に含フッ素脂肪環構造有する重合体からなる
低屈折率層を有する反射防止性物品に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、薄膜の光干渉を利用して基材表面
の光の反射を低減させたり透過光を向上させることを目
的として、ガラスやプラスチック等の光学物品等の基材
表面に光反射防止コートを設けることが行われている。
これらの光反射防止コートの多くは、真空蒸着法やスパ
ッタリング法によって形成されているが、これらの装置
の機能上及びコストの面から、これらの方法を適用でき
る物品が比較的小型の物品に限定されている。
の光の反射を低減させたり透過光を向上させることを目
的として、ガラスやプラスチック等の光学物品等の基材
表面に光反射防止コートを設けることが行われている。
これらの光反射防止コートの多くは、真空蒸着法やスパ
ッタリング法によって形成されているが、これらの装置
の機能上及びコストの面から、これらの方法を適用でき
る物品が比較的小型の物品に限定されている。
【０００３】この欠点を解決する光反射防止物品とし
て、含フッ素脂肪環構造を有する低屈折率重合体を反射
防止層とすることが提案されている。（特開平２−０１
９８０１） 含フッ素脂肪環構造を有する低屈折率重合体は、種々の
溶媒に可溶のため、その膜形成法としては、ディッピン
グコート法、スピンコート法、スプレーコート法等の比
較的容易な方法を用いることができ、種々の物品に制約
なく反射防止層を形成することができる。
て、含フッ素脂肪環構造を有する低屈折率重合体を反射
防止層とすることが提案されている。（特開平２−０１
９８０１） 含フッ素脂肪環構造を有する低屈折率重合体は、種々の
溶媒に可溶のため、その膜形成法としては、ディッピン
グコート法、スピンコート法、スプレーコート法等の比
較的容易な方法を用いることができ、種々の物品に制約
なく反射防止層を形成することができる。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記従
来の技術の技術に記載の含フッ素脂肪環構造を有する重
合体からなる反射防止層を有する反射防止性物品には、
次のような問題点がある。
来の技術の技術に記載の含フッ素脂肪環構造を有する重
合体からなる反射防止層を有する反射防止性物品には、
次のような問題点がある。
【０００５】含フッ素脂肪環構造を有する重合体は、そ
の分子構造上極めて帯電現象が起こりやすい。その帯電
現象により、空気中に浮遊するごみ、水分等が引き付け
られ付着し、それが反射防止性物品表面の汚れとして観
察される。
の分子構造上極めて帯電現象が起こりやすい。その帯電
現象により、空気中に浮遊するごみ、水分等が引き付け
られ付着し、それが反射防止性物品表面の汚れとして観
察される。
【０００６】またその帯電現象は、透明基材が透明樹脂
である場合、より顕著に発生する。また、含フッ素脂肪
環構造を有する重合体の表面摩擦係数（μ）を低減さ
せ、表面の耐摩耗性を向上する目的で、含フッ素脂肪環
構造を有する重合体との相溶性の良いフッ素置換オイル
等の低表面エネルギー物質をその表面にコートした場
合、さらにその帯電現象は顕著になる。
である場合、より顕著に発生する。また、含フッ素脂肪
環構造を有する重合体の表面摩擦係数（μ）を低減さ
せ、表面の耐摩耗性を向上する目的で、含フッ素脂肪環
構造を有する重合体との相溶性の良いフッ素置換オイル
等の低表面エネルギー物質をその表面にコートした場
合、さらにその帯電現象は顕著になる。
【０００７】本発明者等の検討によれば、帯電防止の手
法として、表面に界面活性剤等を塗布したところその帯
電現象を一時的に低減することができるが、その効果の
持続性は極めて低い。また、界面活性剤等の塗布によ
り、光学物品全体としての透過率が低下するという問題
も発生した。
法として、表面に界面活性剤等を塗布したところその帯
電現象を一時的に低減することができるが、その効果の
持続性は極めて低い。また、界面活性剤等の塗布によ
り、光学物品全体としての透過率が低下するという問題
も発生した。
【０００８】本発明の目的は、含フッ素脂肪環構造を有
する重合体層を有する反射防止物品において、反射防止
物品としての透過率を保ち、かつその帯電現象を低減
し、表面帯電によるごみ等の付着をなくすことにある。
する重合体層を有する反射防止物品において、反射防止
物品としての透過率を保ち、かつその帯電現象を低減
し、表面帯電によるごみ等の付着をなくすことにある。
【０００９】
【課題を解決するための手段】前記の目的は以下の手段
によって達成される。
によって達成される。
【００１０】すなわち、本発明は、含フッ素脂肪環構造
を有する重合体の薄膜からなる低屈折率層を有する反射
防止性物品であって、前記低屈折率層の下層に、透明導
電性フィラーを含む透明樹脂からなる帯電防止層を有す
ることを特徴とする、反射防止性物品を提案するもので
あり、前記反射防止性物品の基材が透明高分子樹脂であ
ること、前記、透明導電性フィラーの１次粒子の粒子径
が１〜１００ｎｍの範囲内であること、前記、透明導電
性フィラーを含む透明樹脂からなる帯電防止層の固形分
中に含まれる、透明導電性フィラーが２０〜９０重量％
の範囲内であること、前記、透明導電性フィラーを含む
透明樹脂からなる帯電防止層の屈折率が、前記、含フッ
素脂肪環構造を有する重合体からなる低屈折率層の屈折
率より高いこと、前記、含フッ素脂肪環構造を有する重
合体からなる低屈折率層と、前記、透明導電性フィラー
を含む透明樹脂からなる帯電防止層との間に、プライマ
ー層を有することを含む。
を有する重合体の薄膜からなる低屈折率層を有する反射
防止性物品であって、前記低屈折率層の下層に、透明導
電性フィラーを含む透明樹脂からなる帯電防止層を有す
ることを特徴とする、反射防止性物品を提案するもので
あり、前記反射防止性物品の基材が透明高分子樹脂であ
ること、前記、透明導電性フィラーの１次粒子の粒子径
が１〜１００ｎｍの範囲内であること、前記、透明導電
性フィラーを含む透明樹脂からなる帯電防止層の固形分
中に含まれる、透明導電性フィラーが２０〜９０重量％
の範囲内であること、前記、透明導電性フィラーを含む
透明樹脂からなる帯電防止層の屈折率が、前記、含フッ
素脂肪環構造を有する重合体からなる低屈折率層の屈折
率より高いこと、前記、含フッ素脂肪環構造を有する重
合体からなる低屈折率層と、前記、透明導電性フィラー
を含む透明樹脂からなる帯電防止層との間に、プライマ
ー層を有することを含む。
【００１１】また本発明は前記の反射防止性物品を組込
んだことを特徴とする光学機器及び表示機器を提案する
ものであり、光学機器は撮影レンズ、投影レンズ、電子
写真機器のうちの一つであること、表示機器はディスプ
レーであることを含む。
んだことを特徴とする光学機器及び表示機器を提案する
ものであり、光学機器は撮影レンズ、投影レンズ、電子
写真機器のうちの一つであること、表示機器はディスプ
レーであることを含む。
【００１２】
【発明の実施の形態】以下、本発明をさらに詳細に説明
する。
する。
【００１３】図１は本発明の反射防止性物品の層構成を
示す断面図である。
示す断面図である。
【００１４】本発明の反射防止性物品は図１のように光
学基板１上に透明導電フィラー含有樹脂からなる帯電防
止層２と含フッ素脂肪環構造を有する、重合体の薄膜か
らなる低屈折率層３と順次積層してなるものである。
学基板１上に透明導電フィラー含有樹脂からなる帯電防
止層２と含フッ素脂肪環構造を有する、重合体の薄膜か
らなる低屈折率層３と順次積層してなるものである。
【００１５】光学基板１としては特に制約はないが、ポ
リスチレン、ポリカーボネート、ポリスチレン誘導体、
ポリカーボネート誘導体、ポリメチルメタクリレート誘
導体等の透明高分子樹脂、そしてもちろん種々のガラス
基材にも適応できる。
リスチレン、ポリカーボネート、ポリスチレン誘導体、
ポリカーボネート誘導体、ポリメチルメタクリレート誘
導体等の透明高分子樹脂、そしてもちろん種々のガラス
基材にも適応できる。
【００１６】光学基板１の厚みは０．５〜３０μｍの範
囲が好ましい。また導電フィラー含有樹脂層２のベース
樹脂としては熱可塑性アクリル樹脂、ポリスチレン樹
脂、ポリエチレンテレフタレート樹脂等の透明な樹脂が
挙げられる。透明導電性フィラーとしては、透明性のあ
る金属酸化物、たとえば酸化スズ、酸化インジウム、ア
ンチモン含有酸化スズ、スズ含有酸化インジウム等のう
ち、１種類、もしくは数種類のものを用いるのが好まし
い。
囲が好ましい。また導電フィラー含有樹脂層２のベース
樹脂としては熱可塑性アクリル樹脂、ポリスチレン樹
脂、ポリエチレンテレフタレート樹脂等の透明な樹脂が
挙げられる。透明導電性フィラーとしては、透明性のあ
る金属酸化物、たとえば酸化スズ、酸化インジウム、ア
ンチモン含有酸化スズ、スズ含有酸化インジウム等のう
ち、１種類、もしくは数種類のものを用いるのが好まし
い。
【００１７】また、上記透明導電性フィラーの１次粒子
径は１〜１００ｎｍの範囲にあることが好ましい。粒子
径が、上記範囲内にあることにより、光学物品の透明性
を維持することが可能となる。また、透明導電性フィラ
ーを実際に使用する際には、１次分散している必要はな
い。
径は１〜１００ｎｍの範囲にあることが好ましい。粒子
径が、上記範囲内にあることにより、光学物品の透明性
を維持することが可能となる。また、透明導電性フィラ
ーを実際に使用する際には、１次分散している必要はな
い。
【００１８】また、透明導電性フィラーを含む透明樹脂
からなる帯電防止層固形分中の、導電性フィラーの含有
率は、２０〜９０重量％の範囲内であることが好まし
い。フィラー含有率が２０重量％に満たないと、所望の
帯電防止効果を得ることができず、一方、９０重量％を
超えると帯電防止層を構成する樹脂の強度が保たれず、
使用上、膜強度が不十分となる。帯電防止層２の厚みは
５〜５００ｎｍの範囲が好ましい。
からなる帯電防止層固形分中の、導電性フィラーの含有
率は、２０〜９０重量％の範囲内であることが好まし
い。フィラー含有率が２０重量％に満たないと、所望の
帯電防止効果を得ることができず、一方、９０重量％を
超えると帯電防止層を構成する樹脂の強度が保たれず、
使用上、膜強度が不十分となる。帯電防止層２の厚みは
５〜５００ｎｍの範囲が好ましい。
【００１９】また、前記帯電防止層２の屈折率は、前記
含フッ素脂肪環構造を有する低屈折率層３の屈折率より
も高いことが好ましい。屈折率を上記のように制御する
ことで、より低反射の光学物品を提供することができ
る。層３の厚みは５０〜１５０ｎｍの範囲が好ましい。
含フッ素脂肪環構造を有する低屈折率層３の屈折率より
も高いことが好ましい。屈折率を上記のように制御する
ことで、より低反射の光学物品を提供することができ
る。層３の厚みは５０〜１５０ｎｍの範囲が好ましい。
【００２０】また、上記含フッ素脂肪環構造を有する低
屈折率層３と、上記帯電防止層２中には、両者の接着を
補助するプライマー層を適宜形成してもよい。このこと
により膜剥がれの発生しない光学物品を提供できる。
屈折率層３と、上記帯電防止層２中には、両者の接着を
補助するプライマー層を適宜形成してもよい。このこと
により膜剥がれの発生しない光学物品を提供できる。
【００２１】また、上記に記載した以外の層を、光学物
品中に形成してもよい。より低反射率を実現するための
膜を形成する際、その必要性ある場合もある。
品中に形成してもよい。より低反射率を実現するための
膜を形成する際、その必要性ある場合もある。
【００２２】本発明において、含フッ素脂肪環構造を有
する低屈折率層３は、表面の摩擦、空気の流れとの接触
等の要因により極めて帯電現象を起こしやすい。しかし
ながら、上記、透明導電性フィラーを含む透明樹脂から
なる帯電防止層２を下層に形成することにより、層全体
としての静電容量が大きくなり、その結果として、光学
物品の帯電現象は押さえられる。
する低屈折率層３は、表面の摩擦、空気の流れとの接触
等の要因により極めて帯電現象を起こしやすい。しかし
ながら、上記、透明導電性フィラーを含む透明樹脂から
なる帯電防止層２を下層に形成することにより、層全体
としての静電容量が大きくなり、その結果として、光学
物品の帯電現象は押さえられる。
【００２３】また、前記帯電防止層２の効果は、光学物
品基材１による制約はないが、特に光学物品基材１が樹
脂の場合にその効果が顕著に現れる。光学物品基材１が
樹脂の場合、含フッ素脂肪環構造を有する低屈折率層３
の帯電現象と同時に、基材の帯電現象も発生する。その
結果、光学物品の表面帯電量は極めて大きくなる。その
際、前記帯電防止層２は、光学物品基材１の帯電現象も
同時に吸収し、結果として光学物品の帯電量は押さえら
れるものである。
品基材１による制約はないが、特に光学物品基材１が樹
脂の場合にその効果が顕著に現れる。光学物品基材１が
樹脂の場合、含フッ素脂肪環構造を有する低屈折率層３
の帯電現象と同時に、基材の帯電現象も発生する。その
結果、光学物品の表面帯電量は極めて大きくなる。その
際、前記帯電防止層２は、光学物品基材１の帯電現象も
同時に吸収し、結果として光学物品の帯電量は押さえら
れるものである。
【００２４】
【実施例】以下、光学物品層構成図、及び実験結果の表
を参照しながら、実験例について説明するが、本発明が
それによってなんら拘束されるものではない。（実施例
１）実施例１の実験例を（実施例１の実験例）の表１を
参照しながら説明する。比較例１ 光学物品基材としてＰＭＭＡ（三菱レイヨン（株）社製
アクリペットＶＨ００１）成形物を用い、その上に、
非晶質フッ素樹脂（旭硝子（株）社製 サイトップ）の
２重量％溶液を、ディップコート法により塗装し、８０
℃に加熱し成膜した。その際の、非晶質フッ素樹脂の厚
みは約１２５ｎｍであり、５００ｎｍの光線透過率は約
９８．５％であった。
を参照しながら、実験例について説明するが、本発明が
それによってなんら拘束されるものではない。（実施例
１）実施例１の実験例を（実施例１の実験例）の表１を
参照しながら説明する。比較例１ 光学物品基材としてＰＭＭＡ（三菱レイヨン（株）社製
アクリペットＶＨ００１）成形物を用い、その上に、
非晶質フッ素樹脂（旭硝子（株）社製 サイトップ）の
２重量％溶液を、ディップコート法により塗装し、８０
℃に加熱し成膜した。その際の、非晶質フッ素樹脂の厚
みは約１２５ｎｍであり、５００ｎｍの光線透過率は約
９８．５％であった。
【００２５】そのようにして作成した光学物品を、市販
のティッシュペーパーで３０往復こすった後の帯電量は
約−５ｋＶであった。
のティッシュペーパーで３０往復こすった後の帯電量は
約−５ｋＶであった。
【００２６】また、６０℃、２０％の環境下に５日間放
置し、その後のゴミの付着状態を観察したところ、光学
物品表面にクモリ状のゴミが観察された。その際の５０
０ｎｍの光線透過率は９６．５％であり透過率の低下が
観察された。実験例１ 光学物品基材としてＰＭＭＡ（三菱レイヨン（株）社製
アクリペットＶＨ００１）成形物を用い、その上に、
エタノール／ＭＥＫ混合溶媒中に熱可塑性アクリル樹脂
をバインダーとして、酸化スズ微粒子（１次粒子径：３
０ｎｍ）を分散させた塗料（固形分２．５重量％）をデ
ィップコート法により塗装し、８０℃に加熱し乾燥さ
せ、帯電防止層とした。また、その際の膜成分中の酸化
スズ含有量は５０重量％になるように調整した。その上
に、非晶質フッ素樹脂（旭硝子（株）社製 サイトッ
プ）の２重量％溶液を、ディップコート法により塗装
し、８０℃に加熱し成膜した。その際の、非晶質フッ素
樹脂の厚みは約１２５ｎｍであり、５００ｎｍの光線透
過率は約９８．５％であった。
置し、その後のゴミの付着状態を観察したところ、光学
物品表面にクモリ状のゴミが観察された。その際の５０
０ｎｍの光線透過率は９６．５％であり透過率の低下が
観察された。実験例１ 光学物品基材としてＰＭＭＡ（三菱レイヨン（株）社製
アクリペットＶＨ００１）成形物を用い、その上に、
エタノール／ＭＥＫ混合溶媒中に熱可塑性アクリル樹脂
をバインダーとして、酸化スズ微粒子（１次粒子径：３
０ｎｍ）を分散させた塗料（固形分２．５重量％）をデ
ィップコート法により塗装し、８０℃に加熱し乾燥さ
せ、帯電防止層とした。また、その際の膜成分中の酸化
スズ含有量は５０重量％になるように調整した。その上
に、非晶質フッ素樹脂（旭硝子（株）社製 サイトッ
プ）の２重量％溶液を、ディップコート法により塗装
し、８０℃に加熱し成膜した。その際の、非晶質フッ素
樹脂の厚みは約１２５ｎｍであり、５００ｎｍの光線透
過率は約９８．５％であった。
【００２７】そのようにして作成した光学物品を、市販
のティッシュペーパーで３０往復こすった後の帯電量は
０Ｖであり、帯電防止層の効果により、帯電現象が抑え
られた。
のティッシュペーパーで３０往復こすった後の帯電量は
０Ｖであり、帯電防止層の効果により、帯電現象が抑え
られた。
【００２８】また、６０℃、２０％の環境下に５日間放
置し、その後のゴミの付着状態を観察したところ、光学
物品表面にゴミの付着は観察されなかった。その際の５
００ｎｍの光線透過率は９８．５％であり透過率の変化
は認められなかった。比較例２ 光学物品基材としてガラス（ＢＫ−７）を用い、その上
に、非晶質フッ素樹脂（旭硝子（株）社製 サイトッ
プ）の２重量％溶液を、ディップコート法により塗装
し、８０℃に加熱し成膜した。その際の、非晶質フッ素
樹脂の厚みは約１２５ｎｍであり、５００ｎｍの光線透
過率は約９８．５％であった。
置し、その後のゴミの付着状態を観察したところ、光学
物品表面にゴミの付着は観察されなかった。その際の５
００ｎｍの光線透過率は９８．５％であり透過率の変化
は認められなかった。比較例２ 光学物品基材としてガラス（ＢＫ−７）を用い、その上
に、非晶質フッ素樹脂（旭硝子（株）社製 サイトッ
プ）の２重量％溶液を、ディップコート法により塗装
し、８０℃に加熱し成膜した。その際の、非晶質フッ素
樹脂の厚みは約１２５ｎｍであり、５００ｎｍの光線透
過率は約９８．５％であった。
【００２９】そのようにして作成した光学物品を、市販
のティッシュペーパーで３０往復こすった後の帯電量は
約−５ＫＶであった。
のティッシュペーパーで３０往復こすった後の帯電量は
約−５ＫＶであった。
【００３０】また、６０℃、２０％の環境下に５日間放
置し、その後のゴミの付着状態を観察したところ、光学
物品表面に多少のクモリ状のゴミが観察された。しかし
その際の５００ｎｍの光線透過率は９６．５％であり透
過率の低下は観察されなかった。実験例２ 光学物品基材としてガラス（ＢＫ−７）を用い、その上
に、エタノール／ＭＥＫ混合溶媒中に熱可塑性アクリル
樹脂をバインダーとして、酸化スズ微粒子（１次粒子
径：３０ｎｍ）を分散させた塗料（固形分２．５％）を
ディップコート法により塗装し、８０℃に加熱し乾燥さ
せ、帯電防止層とした。また、その際の膜成分中の酸化
スズ含有量は５０重量％になるように調整した。その上
に、非晶質フッ素樹脂（旭硝子（株）社製 サイトッ
プ）の２％溶液を、ディップコート法により塗装し、８
０℃に加熱し成膜した。その際の、非晶質フッ素樹脂の
厚みは約１２５ｎｍであり、５００ｎｍの光線透過率は
約９８．５％であった。
置し、その後のゴミの付着状態を観察したところ、光学
物品表面に多少のクモリ状のゴミが観察された。しかし
その際の５００ｎｍの光線透過率は９６．５％であり透
過率の低下は観察されなかった。実験例２ 光学物品基材としてガラス（ＢＫ−７）を用い、その上
に、エタノール／ＭＥＫ混合溶媒中に熱可塑性アクリル
樹脂をバインダーとして、酸化スズ微粒子（１次粒子
径：３０ｎｍ）を分散させた塗料（固形分２．５％）を
ディップコート法により塗装し、８０℃に加熱し乾燥さ
せ、帯電防止層とした。また、その際の膜成分中の酸化
スズ含有量は５０重量％になるように調整した。その上
に、非晶質フッ素樹脂（旭硝子（株）社製 サイトッ
プ）の２％溶液を、ディップコート法により塗装し、８
０℃に加熱し成膜した。その際の、非晶質フッ素樹脂の
厚みは約１２５ｎｍであり、５００ｎｍの光線透過率は
約９８．５％であった。
【００３１】そのようにして作成した光学物品を、市販
のティッシュペーパーで３０往復こすった後の帯電量は
０Ｖであり、帯電防止層の効果により、帯電現象が抑え
られた。
のティッシュペーパーで３０往復こすった後の帯電量は
０Ｖであり、帯電防止層の効果により、帯電現象が抑え
られた。
【００３２】また、６０℃、２０％の環境下に５日間放
置し、その後のゴミの付着状態を観察したところ、光学
物品表面にゴミの付着は観察されなかった。その際の５
００ｎｍの光線透過率は９８．５％であり透過率の変化
は認められなかった。
置し、その後のゴミの付着状態を観察したところ、光学
物品表面にゴミの付着は観察されなかった。その際の５
００ｎｍの光線透過率は９８．５％であり透過率の変化
は認められなかった。
【００３３】
【表１】 （実施例２）実施例２の実験例を（実施例２の結果）の
グラフを参照しながら説明する。実験例３〜実験例６の光学物品作成方法 ：光学物品基材
としてＰＭＭＡ（三菱レイヨン（株）社製 アクリルペ
ットＶＨ００１）成形物を用い、その上に、エタノール
／ＭＥＫ混合溶媒中に熱可塑性アクリル樹脂をバインダ
ーとして、酸化スズ微粒子を分散させた塗料（固形分
２．５重量％）をディップコート法により塗装し、８０
℃に加熱し乾燥させ、帯電防止層とした。また、その際
の膜成分中の酸化スズ含有量は５０重量％になるように
調整した。その上に、非晶質フッ素樹脂（旭硝子（株）
社製 サイトップ）の２％溶液を、ディップコート法に
より塗装し、８０℃に加熱し成膜した。
グラフを参照しながら説明する。実験例３〜実験例６の光学物品作成方法 ：光学物品基材
としてＰＭＭＡ（三菱レイヨン（株）社製 アクリルペ
ットＶＨ００１）成形物を用い、その上に、エタノール
／ＭＥＫ混合溶媒中に熱可塑性アクリル樹脂をバインダ
ーとして、酸化スズ微粒子を分散させた塗料（固形分
２．５重量％）をディップコート法により塗装し、８０
℃に加熱し乾燥させ、帯電防止層とした。また、その際
の膜成分中の酸化スズ含有量は５０重量％になるように
調整した。その上に、非晶質フッ素樹脂（旭硝子（株）
社製 サイトップ）の２％溶液を、ディップコート法に
より塗装し、８０℃に加熱し成膜した。
【００３４】上記作成方法により作成した光学物品の、
５００ｎｍにおける光線透過率を示したものが（実施例
２の結果）のグラフである。但し、導電性フィラーとし
ての酸化スズの１次粒子径はそれぞれ以下の通りであ
る。 実験例３：１０ｎｍ ５００ｎｍのける光線透過率：９８．５％ 実験例４：５０ｎｍ ：９８．５％ 実験例５：１００ｎｍ ：９８．０％ 実験例６：１２０ｎｍ ：９４．５％ 酸化スズ微粒子の一次粒子径が１２０ｎｍである、実験
例６の光学物品は、５００ｎｍにおける光線透過率が９
５％を下回り、反射防止性物品として用いるのには不適
であった。 （実施例３）実施例３の実験例を（実施例３の実験例）
の表２を参照しながら説明する。実験例７〜実験例１１の光学物品作成方法 ：光学物品基
材としてＰＭＭＡ（三菱レイヨン（株）社製 アクリル
ペットＶＨ００１）成形物を用い、その上に、エタノー
ル／ＭＥＫ混合溶媒中に熱可塑性アクリル樹脂をバイン
ダーとして、酸化スズ微粒子（３０ｎｍ）を分散させた
塗料（固形分２．５重量％）をディップコート法により
塗装し、８０℃に加熱し乾燥させ、帯電防止層とした。
その上に、非晶質フッ素樹脂（旭硝子（株）社製 サイ
トップ）の２重量％溶液を、ディップコート法により塗
装し、８０℃に加熱し成膜した。
５００ｎｍにおける光線透過率を示したものが（実施例
２の結果）のグラフである。但し、導電性フィラーとし
ての酸化スズの１次粒子径はそれぞれ以下の通りであ
る。 実験例３：１０ｎｍ ５００ｎｍのける光線透過率：９８．５％ 実験例４：５０ｎｍ ：９８．５％ 実験例５：１００ｎｍ ：９８．０％ 実験例６：１２０ｎｍ ：９４．５％ 酸化スズ微粒子の一次粒子径が１２０ｎｍである、実験
例６の光学物品は、５００ｎｍにおける光線透過率が９
５％を下回り、反射防止性物品として用いるのには不適
であった。 （実施例３）実施例３の実験例を（実施例３の実験例）
の表２を参照しながら説明する。実験例７〜実験例１１の光学物品作成方法 ：光学物品基
材としてＰＭＭＡ（三菱レイヨン（株）社製 アクリル
ペットＶＨ００１）成形物を用い、その上に、エタノー
ル／ＭＥＫ混合溶媒中に熱可塑性アクリル樹脂をバイン
ダーとして、酸化スズ微粒子（３０ｎｍ）を分散させた
塗料（固形分２．５重量％）をディップコート法により
塗装し、８０℃に加熱し乾燥させ、帯電防止層とした。
その上に、非晶質フッ素樹脂（旭硝子（株）社製 サイ
トップ）の２重量％溶液を、ディップコート法により塗
装し、８０℃に加熱し成膜した。
【００３５】また、その際の膜成分中の酸化スズ含有量
はそれぞれ以下のように調整した。 実験例７ １０重量％ 実験例８ ３０重量％ 実験例９ ５０重量％ 実験例１０ ８０重量％ 実験例１１ ９５重量％ 上記のように調整し作成した反射防止性物品について、
帯電量と膜強度についての検討を行った結果を（実施例
３の実施例）の表２に示す。実験例７（導電性フィラー
含有量１０重量％）の場合、帯電防止効果が少ない。実
験例１１（導電性フィラー含有量９５重量％）の場合、
帯電防止層の膜強度が低く、光学物品として用いるのに
十分でない。
はそれぞれ以下のように調整した。 実験例７ １０重量％ 実験例８ ３０重量％ 実験例９ ５０重量％ 実験例１０ ８０重量％ 実験例１１ ９５重量％ 上記のように調整し作成した反射防止性物品について、
帯電量と膜強度についての検討を行った結果を（実施例
３の実施例）の表２に示す。実験例７（導電性フィラー
含有量１０重量％）の場合、帯電防止効果が少ない。実
験例１１（導電性フィラー含有量９５重量％）の場合、
帯電防止層の膜強度が低く、光学物品として用いるのに
十分でない。
【００３６】
【表２】 （実施例４）実施例４の実験例を（実施例４の実験例）
の表３を参照しながら説明する。実験例１２ ：光学物品基材としてＰＭＭＡ（三菱レイヨ
ン（株）社製 アクリペットＶＨ００１）成形物を用
い、その上に、エタノール／ＭＥＫ混合溶媒中に熱可塑
性アクリル樹脂をバインダーとして、酸化スズ微粒子
（１次粒子径：３０ｎｍ）を分散させた塗料（固形分
２．５重量％）をディップコート法により塗装し、８０
℃に加熱し乾燥させ、帯電防止層とした。また、その際
の膜成分中の酸化スズ含有量は５０重量％になるように
調整した。上記帯電防止層上に、非晶質フッ素樹脂層と
の接着を補助するプライマー（旭硝子（株）製 ＣＴ−
Ｐ７０）の１重量％溶液を塗布、乾燥し、その上に、非
晶質フッ素樹脂（旭硝子（株）社製サイトップ）の２重
量％溶液を、ディップコート法により塗装し、８０℃に
加熱成膜した。その際の、非晶質フッ素樹脂の厚みは約
１２５ｎｍであり、５００ｎｍの光線透過率は約９８．
５％であった。そのようにして作成した光学物品は、プ
ライマー層のない光学物品に比べ、膜剥がれの度合いが
少なかった。 （実施例５）実施例４の実験例１２に記載の反射防止物
品を、液晶プロジクターの投影レンズと用い、耐久試験
を行った。その結果、３５℃、８０％環境下、１５℃、
１０％の環境下それぞれに１０００時間投入しても、帯
電現象に起因する、レンズへのゴミの付着、及びレンズ
表面のくもり現象は発生しなかった。
の表３を参照しながら説明する。実験例１２ ：光学物品基材としてＰＭＭＡ（三菱レイヨ
ン（株）社製 アクリペットＶＨ００１）成形物を用
い、その上に、エタノール／ＭＥＫ混合溶媒中に熱可塑
性アクリル樹脂をバインダーとして、酸化スズ微粒子
（１次粒子径：３０ｎｍ）を分散させた塗料（固形分
２．５重量％）をディップコート法により塗装し、８０
℃に加熱し乾燥させ、帯電防止層とした。また、その際
の膜成分中の酸化スズ含有量は５０重量％になるように
調整した。上記帯電防止層上に、非晶質フッ素樹脂層と
の接着を補助するプライマー（旭硝子（株）製 ＣＴ−
Ｐ７０）の１重量％溶液を塗布、乾燥し、その上に、非
晶質フッ素樹脂（旭硝子（株）社製サイトップ）の２重
量％溶液を、ディップコート法により塗装し、８０℃に
加熱成膜した。その際の、非晶質フッ素樹脂の厚みは約
１２５ｎｍであり、５００ｎｍの光線透過率は約９８．
５％であった。そのようにして作成した光学物品は、プ
ライマー層のない光学物品に比べ、膜剥がれの度合いが
少なかった。 （実施例５）実施例４の実験例１２に記載の反射防止物
品を、液晶プロジクターの投影レンズと用い、耐久試験
を行った。その結果、３５℃、８０％環境下、１５℃、
１０％の環境下それぞれに１０００時間投入しても、帯
電現象に起因する、レンズへのゴミの付着、及びレンズ
表面のくもり現象は発生しなかった。
【００３７】
【表３】
【００３８】
【発明の効果】以上述べたように、含フッ素脂肪環構造
を有する低屈折率重合体を反射防止層として有する光学
物品において、低屈折率層の下層に透明導電性フィラー
を含む透明樹脂からなる帯電防止層を形成することによ
り、帯電現象の発生を抑え、帯電現象に起因するごみ等
の付着のない反射防止物品を提供することができる。
を有する低屈折率重合体を反射防止層として有する光学
物品において、低屈折率層の下層に透明導電性フィラー
を含む透明樹脂からなる帯電防止層を形成することによ
り、帯電現象の発生を抑え、帯電現象に起因するごみ等
の付着のない反射防止物品を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の反射防止性物品の層構成を示す断面図
である。
である。
【図２】実施例２の結果を示すグラフである。
１ 光学基板 ２ 帯電防止層 ３ 低屈折率層
Claims (10)
- 【請求項１】 含フッ素脂肪環構造を有する重合体の薄
膜からなる低屈折率層を有する反射防止性物品であっ
て、前記低屈折率層の下層に、透明導電性フィラーを含
む透明樹脂からなる帯電防止層を有することを特徴とす
る、反射防止性物品。 - 【請求項２】 前記反射防止性物品の基材が透明高分子
樹脂である請求項１に記載の反射防止性物品。 - 【請求項３】 前記、透明導電性フィラーの１次粒子の
粒子径が１〜１００ｎｍの範囲内である請求項１に記載
の、反射防止性物品。 - 【請求項４】 前記、透明導電性フィラーを含む透明樹
脂からなる帯電防止層の固形分中に含まれる、透明導電
性フィラーが２０〜９０重量％の範囲内である請求項１
に記載の、反射防止性物品。 - 【請求項５】 前記、透明導電性フィラーを含む透明樹
脂からなる帯電防止層の屈折率が、前記、含フッ素脂肪
環構造を有する重合体からなる低屈折率層の屈折率より
高い請求項１〜４のうちいずれか１項に記載の、反射防
止性物品。 - 【請求項６】 前記、含フッ素脂肪環構造を有する重合
体からなる低屈折率層と、前記、透明導電性フィラーを
含む透明樹脂からなる帯電防止層との間に、プライマー
層を有する請求項１〜５のうちいずれか１項に記載の、
反射防止性物品。 - 【請求項７】 請求項１〜６のうちいずれか１項に記載
の反射防止性物品を組込んだことを特徴とする光学機
器。 - 【請求項８】 請求項１〜６のうちいずれか１項に記載
の反射防止性物品を組込んだことを特徴とする表示機
器。 - 【請求項９】 前記光学機器が撮影レンズ、投影レン
ズ、電子写真機器のうちの一つである請求項９に記載の
光学機器。 - 【請求項１０】 前記表示機器がディスプレーである請
求項８に記載の表示機器。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9121062A JPH10311901A (ja) | 1997-05-12 | 1997-05-12 | 反射防止性物品、該物品を組込んだ光学機器および表示機器 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9121062A JPH10311901A (ja) | 1997-05-12 | 1997-05-12 | 反射防止性物品、該物品を組込んだ光学機器および表示機器 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10311901A true JPH10311901A (ja) | 1998-11-24 |
Family
ID=14801904
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9121062A Pending JPH10311901A (ja) | 1997-05-12 | 1997-05-12 | 反射防止性物品、該物品を組込んだ光学機器および表示機器 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH10311901A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003132737A (ja) * | 2001-10-30 | 2003-05-09 | Mitsui Chemicals Inc | 保護フィルム付き透明導電性フィルム、及びそれを用いたディスプレイ用光学フィルター、及びその製造方法 |
| WO2004101277A1 (en) * | 2003-05-12 | 2004-11-25 | 3M Innovative Properties Company | Static dissipative optical construction |
| JP2005316426A (ja) * | 2004-03-31 | 2005-11-10 | Dainippon Printing Co Ltd | 帯電防止層と低屈折率層とを有する反射防止積層体およびそれを用いた画像表示装置 |
| JP2014063125A (ja) * | 2012-08-31 | 2014-04-10 | Fujifilm Corp | 低屈折率膜、低屈折率膜形成用硬化性組成物、光学部材及びこれを用いた固体撮像素子 |
-
1997
- 1997-05-12 JP JP9121062A patent/JPH10311901A/ja active Pending
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003132737A (ja) * | 2001-10-30 | 2003-05-09 | Mitsui Chemicals Inc | 保護フィルム付き透明導電性フィルム、及びそれを用いたディスプレイ用光学フィルター、及びその製造方法 |
| WO2004101277A1 (en) * | 2003-05-12 | 2004-11-25 | 3M Innovative Properties Company | Static dissipative optical construction |
| US7041365B2 (en) | 2003-05-12 | 2006-05-09 | 3M Innovative Properties Company | Static dissipative optical construction |
| US7794780B2 (en) | 2003-05-12 | 2010-09-14 | 3M Innovative Properties Company | Static dissipative optical construction |
| US8057613B2 (en) | 2003-05-12 | 2011-11-15 | 3M Innovative Properties Company | Static dissipative optical construction |
| JP2005316426A (ja) * | 2004-03-31 | 2005-11-10 | Dainippon Printing Co Ltd | 帯電防止層と低屈折率層とを有する反射防止積層体およびそれを用いた画像表示装置 |
| JP2014063125A (ja) * | 2012-08-31 | 2014-04-10 | Fujifilm Corp | 低屈折率膜、低屈折率膜形成用硬化性組成物、光学部材及びこれを用いた固体撮像素子 |
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