JPH10306368A - Co series cast target and its production - Google Patents

Co series cast target and its production

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JPH10306368A
JPH10306368A JP11225797A JP11225797A JPH10306368A JP H10306368 A JPH10306368 A JP H10306368A JP 11225797 A JP11225797 A JP 11225797A JP 11225797 A JP11225797 A JP 11225797A JP H10306368 A JPH10306368 A JP H10306368A
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target
group
casting
present
magnetic flux
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JP11225797A
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Inventor
Takashi Hada
貴 葉田
Hiroshi Takashima
洋 高島
Akira Kawakami
章 川上
Junji Kurumi
順治 来海
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HMY Ltd
Proterial Ltd
Original Assignee
Hitachi Metals Ltd
HMY Ltd
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To produce an inexpensive and easily producible Co cast target in which the dispersion of the magnetic properties of the target itself is suppressed and to provide the method for producing the same. SOLUTION: This target is the one essentially consisting of Co, contg. the group 4A or 5A elements forming intermetallic compounds with Co by above the solid solution limits and subjected to precision casting substantially into a target shape. It preferably applys to a target contg. Pt in particular. Furthermore, the dispersion of leakage magnetic flux density measured in the sputtering face of the target is preferably regulated to <=2%.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、磁気記録膜の形成
等に用いられるCo系鋳造ターゲットおよびその製造方
法に関するものである。
[0001] 1. Field of the Invention [0002] The present invention relates to a Co-based casting target used for forming a magnetic recording film and the like, and a method of manufacturing the same.

【0002】[0002]

【従来の技術】コンピュータ等の情報記憶媒体等に使用
されるCo系磁性膜は、媒体の高記録密度化の要求等よ
り、高い保磁力を有する膜の開発が求められている。ま
た、記録再生特性としてS/N比も重要である。このよ
うな特性を得るために、純Coではなく様々な添加元素
を含有するCo系磁性膜が開発されている。たとえば、
Co−Cr−Ta系、Co−Ni−Cr系、Co−Cr
−Ta−Pt系、Co−Ni−Cr−Pt系、その他
B,Ti,W,Moなど様々な添加元素を含有させた薄
膜が知られている。上述した薄膜の作製は、通常マグネ
トロンスパッタリングという手法によって製造される。
この方法は、たとえばねらいの組成となるように調整し
たスパッタリングターゲットを用い、このターゲット表
面に漏洩磁束を生じさせ、この漏洩磁束によってAr等
のプラズマをターゲット表面に集中させ、効率よくター
ゲット表面をスパッタするものである。そして、プラズ
マによって叩き出されたスパッタ粒子を基板上に付着さ
せることで、基板上に薄膜を得ることができる。
2. Description of the Related Art Development of a Co-based magnetic film used for an information storage medium such as a computer having a high coercive force has been demanded due to a demand for a high recording density of the medium. The S / N ratio is also important as the recording / reproducing characteristics. In order to obtain such characteristics, a Co-based magnetic film containing various additive elements instead of pure Co has been developed. For example,
Co-Cr-Ta, Co-Ni-Cr, Co-Cr
Thin films containing various additives such as -Ta-Pt-based, Co-Ni-Cr-Pt-based, and B, Ti, W, and Mo are known. The above-mentioned thin film is usually manufactured by a technique called magnetron sputtering.
In this method, for example, a sputtering target adjusted so as to have a desired composition is used, a leakage magnetic flux is generated on the target surface, and plasma such as Ar is concentrated on the target surface by the leakage magnetic flux, and the target surface is efficiently sputtered. Is what you do. Then, a thin film can be obtained on the substrate by attaching the sputtered particles sputtered by the plasma to the substrate.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】近年、記録媒体から情
報を抽出する磁気ヘッドの改良が進み、従来よりさらに
狭い範囲の磁気記録面積であっても、情報を抽出できる
ようになってきた。そのため、情報を記録する媒体に対
しては、より高密度で記録しても情報が劣化しない、高
保磁力の薄膜を製造することが要求されている。上述し
たCrやTa等の添加元素は、主として薄膜の保磁力を
高めるためのものであり、これらの添加元素量を増量す
ることが保磁力を高める一つの対策として行われてい
る。CrやTa等の添加量を増加した薄膜を得るには、
スパッタリングターゲットとしても添加元素を増量した
合金ターゲットを製造する必要がある。
In recent years, magnetic heads for extracting information from a recording medium have been improved, and it has become possible to extract information even with a magnetic recording area of a smaller range than before. Therefore, it is required for a medium for recording information to produce a thin film having a high coercive force in which the information is not deteriorated even when recording is performed at a higher density. The above-mentioned additional elements such as Cr and Ta are mainly for increasing the coercive force of the thin film, and increasing the amount of these additional elements is performed as one measure for increasing the coercive force. In order to obtain a thin film with an increased amount of Cr, Ta or the like,
As a sputtering target, it is necessary to manufacture an alloy target in which an additive element is increased.

【0004】しかし、CrやTa等の増量は、ターゲッ
トを得る上での塑性加工性を劣化し、熱間加工を困難に
する。一般に、塑性加工が困難な合金をターゲットとす
る場合は、溶湯を鋳型に鋳造して、鋳造インゴットを製
造し、得られたインゴットをスライスし、次いで、くり
抜き等の機械加工を行って、ターゲットを複数枚製造す
る方法が適用されている。また、粉末焼結法を用いて、
所定の寸法に焼結した焼結インゴットを機械加工する手
法も使用されている。
[0004] However, an increase in the amount of Cr, Ta or the like deteriorates plastic workability in obtaining a target, and makes hot working difficult. In general, when using an alloy that is difficult to plastically process as a target, the molten metal is cast into a mold to produce a cast ingot, and the obtained ingot is sliced. The method of manufacturing a plurality of sheets is applied. Also, using the powder sintering method,
A technique of machining a sintered ingot sintered to a predetermined size has also been used.

【0005】本発明者等は、4Aおよび5A族、すなわ
ちTi,Zr,Hf,V,Nb,Taを増量したターゲ
ットは、Coと金属間化合物を生成することになり、こ
の化合物が割れの起点になりやすいため、塑性加工がよ
り困難であることを確認した。そして、このような金属
間化合物を生成するターゲットに対して、コストの高い
焼結法ではなく、鋳造法でインゴットを作製し、スライ
スとくり抜き加工によりターゲットを製造することを試
みた。しかし、上述した金属間化合物が生成するCo系
スパッタリングターゲットを一般的な鋳造法により製造
したインゴットから機械加工でターゲットを得た場合、
スパッタリングターゲット自身が持つ磁気特性が、ター
ゲットのスパッタリング面内において、ばらつきを生ず
るという新たな問題が発生した。
[0005] The present inventors have reported that a target with an increased amount of the 4A and 5A groups, that is, Ti, Zr, Hf, V, Nb, and Ta, forms an intermetallic compound with Co, and this compound is a starting point of cracking. Therefore, it was confirmed that plastic working was more difficult. Then, an ingot was produced by a casting method instead of a costly sintering method for a target that generates such an intermetallic compound, and an attempt was made to produce the target by slicing and hollowing. However, when a target is obtained by machining from an ingot produced by a general casting method, a Co-based sputtering target produced by the above-mentioned intermetallic compound,
There is a new problem that the magnetic properties of the sputtering target itself vary within the sputtering surface of the target.

【0006】上述したように、マグネトロンスパッタリ
ングにおいては、漏洩磁束によりプラズマを集中する必
要があるが、ターゲット自身の磁気特性がばらつくと、
漏洩磁束が乱れスパッタリングの進行が乱れる原因にな
る。これは、エロージョン不良と呼ばれる現象で、想定
した寿命以前にターゲットが使用不能になる一因とな
り、高価なCo系ターゲットにおいては、大きな問題と
なった。本発明の目的は、ターゲット自身の磁気特性の
ばらつきを抑え、かつ安価で製造が容易なCo系鋳造タ
ーゲットおよびその製造方法を提供することである。
As described above, in magnetron sputtering, it is necessary to concentrate plasma due to magnetic flux leakage, but if the magnetic characteristics of the target itself vary,
The leakage magnetic flux is disturbed, which causes the sputtering to be disturbed. This is a phenomenon called erosion failure, which causes the target to become unusable before the expected life, and has become a major problem in expensive Co-based targets. SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a Co-based cast target which suppresses variations in magnetic properties of the target itself, is inexpensive and easy to manufacture, and a method of manufacturing the same.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】本発明者は、製造の容易
性において鋳造法の改良を検討した。そしてターゲット
自身の磁気特性のばらつきは、4Aおよび5A族、すな
わちTi,Zr,Hf,V,Nb,Taの増量したター
ゲットにおいて、生成したCoとの金属間化合物が、凝
固時に偏析することに起因することを見いだした。そし
て、さらなる検討の結果、精密鋳造法の適用により、4
A,5A族とCoとの金属間化合物を組織中に均一微細
に分散させることができ、結果としてターゲット自身の
磁気特性のばらつきを抑えることができることを見いだ
し本発明に到達した。
SUMMARY OF THE INVENTION The present inventor has studied an improvement in the casting method in terms of ease of manufacture. The variation in the magnetic properties of the target itself is due to the segregation of the generated intermetallic compound with Co during solidification in the 4A and 5A groups, that is, in targets with increased amounts of Ti, Zr, Hf, V, Nb, and Ta. I found something to do. And as a result of further study, by applying the precision casting method, 4
The present inventors have found that an intermetallic compound of a group A, 5A and Co can be uniformly and finely dispersed in a structure, and as a result, a variation in magnetic properties of a target itself can be suppressed.

【0008】すなわち本発明は、Coを主体とするター
ゲットであって、Coと金属間化合物を形成する4A族
もしくは5A族の元素が固溶限を越えて含有され、実質
的にターゲット形状に精密鋳造されてなるCo系鋳造タ
ーゲットである。
That is, the present invention relates to a target mainly composed of Co, which contains a Group 4A or Group 5A element which forms an intermetallic compound with Co beyond its solid solubility limit, and has a substantially precise target shape. This is a Co-based casting target that is cast.

【0009】本発明においては、特にPtを含有するタ
ーゲットに適用することが好ましい。また、本発明のタ
ーゲットのスパッタリング面で測定した漏洩磁束密度の
ばらつきを2%以内とすることが望ましい。
In the present invention, it is particularly preferable to apply to a target containing Pt. Further, it is desirable that the variation of the leakage magnetic flux density measured on the sputtering surface of the target of the present invention be within 2%.

【0010】上述したターゲットは、たとえばCoを主
体とし、Coと金属間化合物を形成する4A族もしくは
5A族の元素が凝固状態における固溶限を越えた量を含
有させた合金溶湯を、溶湯温度1350〜1500℃
で、500〜1100℃に予熱したキャビティとしてタ
ーゲット外形状を有する精密鋳造鋳型に注湯することに
よって得ることができる。
The above-mentioned target is made of, for example, an alloy melt mainly containing Co and containing an amount of a Group 4A or Group 5A element which forms an intermetallic compound with Co in an amount exceeding the solid solubility limit in a solidified state. 1350-1500 ° C
Then, it can be obtained by pouring into a precision casting mold having a target outer shape as a cavity preheated to 500 to 1100 ° C.

【0011】[0011]

【発明の実施の形態】上述したように、本発明の重要な
特徴は、精密鋳造を適用して4A族もしくは5A族の元
素が固溶限を越えて含有されたCo系ターゲットを得た
ことにある。本発明でいう精密鋳造とは、実質的にター
ゲット形状に鋳造されるものを意味する。従来の鋳造法
では押し湯部等の必要性において凝固体積が大きくなら
ざる得ず、また加熱されていない鋳型に鋳造することで
結果として凝固速度がばらつき、金属間化合物の偏析を
助長するものであった。本発明においては、直接ターゲ
ット形状に鋳造する精密鋳造技術により、凝固体積を最
小化し、また鋳型を予熱することによって、金属間化合
物の偏析を抑え、磁気特性のばらつきを押さえることが
できたものである。本発明のターゲットは精密鋳造法の
適用により、好ましくは漏洩磁束密度のばらつきで評価
した時、2%以内、より好ましくは1%以内のばらつき
に抑えることが可能である。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS As described above, an important feature of the present invention is that precision casting is used to obtain a Co-based target containing elements of the 4A or 5A group beyond the solid solubility limit. It is in. The precision casting referred to in the present invention means a material that is substantially cast into a target shape. In the conventional casting method, the solidification volume has to be increased due to the necessity of a feeder, etc., and casting in an unheated mold results in a variation in solidification rate, which promotes segregation of intermetallic compounds. there were. In the present invention, the precision casting technique of casting directly into the target shape minimizes the solidification volume, and by preheating the mold, suppresses segregation of intermetallic compounds and suppresses variations in magnetic properties. is there. The target of the present invention can be suppressed to within 2%, more preferably within 1%, preferably by the application of the precision casting method, when evaluated by the variation of the leakage magnetic flux density.

【0012】本発明において、精密鋳造法を適用するこ
とによるもう一つ利点は、高価なCo、4A,5A族あ
るいはその他の添加元素の使用量を最小化できることで
ある。すなわち、精密鋳造法においては、実質的にター
ゲット形状を有するように鋳造するため、表面の変質層
等の除去程度の加工で製品とすることができる。つま
り、インゴットから切り出す従来の鋳造ターゲットで
は、残材が多量に発生していたが、これがなくなるので
ある。特に、最近はPtを多量に含むターゲットが利用
されるようになってきたが、Ptは特に高価であり、残
材の発生がほとんどない本発明は、コストの点で有利で
ある。また、特にドーナツ形状のような異形状のターゲ
ットのようなくり抜き加工を必須としていたターゲット
においても、残材低減の点で有利である。
In the present invention, another advantage of applying the precision casting method is that the amount of expensive Co, 4A, 5A or other additive element can be minimized. That is, in the precision casting method, since the product is cast so as to have substantially the target shape, the product can be obtained by processing to the extent of removing the deteriorated layer on the surface. That is, in the conventional casting target cut out from the ingot, a large amount of residual material is generated, but this is eliminated. In particular, although a target containing a large amount of Pt has recently been used, Pt is particularly expensive, and the present invention, which hardly generates residual material, is advantageous in terms of cost. In addition, in the case of a target which needs to be hollowed out, such as a target having a different shape such as a donut shape, it is advantageous in terms of reducing residual material.

【0013】本発明において、4A族もしくは5A族の
元素のCoに対する固溶限は、元素によって個々に異な
るため組成範囲は規定しない。たとえばTa、V、Ti
の固溶限はそれぞれおよそ4.5at%、22.4at
%、14at%である。また、より本発明の効果が明確
に得られるのは、上述した固溶限よりも0.5at%以
上多く4A族もしくは5A族を含有する場合である。ま
た、本発明のターゲットの組成は保磁力、ヒステリシス
の角形比等の性能向上のためCrを15at%以下、N
iを20at%以下、Ptを30at%以下含有するこ
とが望ましい。
In the present invention, the compositional range is not specified because the solid solubility limit of Co of the group 4A or 5A element to Co differs depending on the element. For example, Ta, V, Ti
Are approximately 4.5 at% and 22.4 at%, respectively.
% And 14 at%. Further, the effect of the present invention can be more clearly obtained when the group 4A or group 5A is contained by 0.5 at% or more than the solid solubility limit described above. Further, the composition of the target of the present invention contains Cr at 15 at% or less and N
It is desirable to contain i at 20 at% or less and Pt at 30 at% or less.

【0014】本発明のターゲットを得るために、具体的
にはCoを主体とし、Coと金属間化合物を形成する4
A族もしくは5A族の元素が凝固状態における固溶限を
越えた量を含有させた合金溶湯を、500〜1100℃
に予熱したキャビティとしてターゲット外形状を有する
精密鋳造鋳型に注湯する。このようにあらかじめ、予熱
した鋳型に鋳造することは、注湯時の湯廻性を向上させ
るとともに、注湯後の凝固速度のばらつきを押さえるた
め、より均一な組織を得ることができる。鋳型としては
セラミック鋳型が使用できる。予熱温度としては、50
0℃未満では、効果が少なく、1100℃を越えると凝
固時間が長くなり偏析が発生しやすくなるため、500
〜1100℃とする。
In order to obtain the target of the present invention, specifically, Co is mainly used and forms an intermetallic compound with Co.
An alloy melt containing an element of group A or group 5A exceeding the solid solubility limit in the solidified state is prepared at 500 to 1100 ° C.
The molten metal is poured into a precision casting mold having a target outer shape as a preheated cavity. Casting into a preheated mold in advance in this way improves the flowability of the molten metal during pouring and suppresses the variation in the solidification rate after pouring, so that a more uniform structure can be obtained. A ceramic mold can be used as the mold. The preheating temperature is 50
If the temperature is lower than 0 ° C., the effect is small.
11100 ° C.

【0015】また、注湯する溶湯の温度としては、13
50℃以上が好ましい。これ以下だと、溶湯に流動性が
なくなり、鋳造しにくくなるためである。また1500
℃を越えると凝固に時間がかかり、偏析が発生しやすく
なるため、1500℃以下が望ましい。
The temperature of the molten metal to be poured is 13
50 ° C. or higher is preferred. If it is less than this, fluidity of the molten metal is lost and casting becomes difficult. Also 1500
If the temperature exceeds ℃, it takes a long time to solidify and segregation easily occurs.

【0016】[0016]

【実施例】図1の概略図に示す様に、湯口カップ4から
延びる湯道3を幹とし、枝状に形成した複数の湯口2に
ターゲット外形状のキャビティ1を形成したセラミック
シェルを有する精密鋳造鋳型を用いて、表1に示すター
ゲットへの鋳造を行った。ターゲット部のキャビティ寸
法は、φ130×8t(mm)で中央に47(mm)の円
筒の貫通穴を設けた形状である。鋳造条件は、注湯開始
時における溶湯温度1420℃、セラミックシェルの加
熱温度1000℃である。鋳造後、湯口を切断し、表面
の変質層を取り除きφ127×6.35t(mm)、中央
に50mmの円筒穴を有するドーナツ形状のターゲット
に仕上げた。比較例として、φ160×40の鋳型部と
φ100×30(mm)の押湯部を設けた鉄鋳型を用い
て鋳造を行い機械加工により、本発明例と同様のターゲ
ット寸法に仕上げた。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS As shown in the schematic view of FIG. 1, a precision shell having a runner 3 extending from a sprue cup 4 as a trunk, and having a plurality of branch gates 2 having a cavity 1 having a target external shape formed in a plurality of spouts 2. Using the casting mold, casting to the targets shown in Table 1 was performed. The cavity size of the target portion is φ130 × 8 t (mm) and a shape having a cylindrical through hole of 47 (mm) in the center. The casting conditions are a molten metal temperature of 1420 ° C. at the start of pouring and a ceramic shell heating temperature of 1000 ° C. After casting, the sprue was cut, and the altered layer on the surface was removed to obtain a doughnut-shaped target having a diameter of 127 x 6.35 t (mm) and a cylindrical hole of 50 mm in the center. As a comparative example, casting was performed using an iron mold provided with a mold part of φ160 × 40 and a feeder part of φ100 × 30 (mm), and finished to the same target dimensions as in the present invention example by machining.

【0017】ターゲットの磁気特性を測定するためにU
字型磁石に対向してガウスメーターのプローブを配置
し、磁石とプローブとの間隙にターゲットを挿入するこ
とにより、ターゲット材の漏洩磁束密度を測定した。U
字型磁石とガウスメーターの間隔はターゲットを挿入し
ない状態での磁束密度が30mTとなるよう調整した。漏
洩磁束の測定は直径90mmの円周位置で30度間隔毎に
行った。結果を表1に付記する。
In order to measure the magnetic properties of the target, U
The leakage magnetic flux density of the target material was measured by placing a Gauss meter probe facing the U-shaped magnet and inserting the target into the gap between the magnet and the probe. U
The distance between the U-shaped magnet and the Gauss meter was adjusted so that the magnetic flux density without a target inserted was 30 mT. The measurement of the leakage magnetic flux was performed at intervals of 30 degrees at a circumferential position having a diameter of 90 mm. The results are shown in Table 1.

【0018】[0018]

【表1】 [Table 1]

【0019】表1に示すように、本発明のターゲット材
は、通常の鋳造ターゲットに比べて漏洩磁束密度のばら
つきが少ない。この原因は、通常の鋳造ターゲットで
は、鋳型が加熱されていないため、凝固時に温度分布が
発生したためと考えられる。実際の漏洩磁束の分布のば
らつきに対する、マグネトロンスパッタリング時のター
ゲットのエロージョンの進行への影響を評価するため、
背面に円形磁石を配置したマグネトロンスパッタリング
装置でスパッタリングを行った。その結果、本発明例の
ターゲットにおけるエロージョン領域5は、図2に示す
ように磁石の形状に沿った円形のエロージョン領域を示
したが、比較例のターゲットは、図3に示すようにエロ
ージョン領域5が円形から最大で3mm程度ずれており、
エロージョンが異常進行していた。比較例で確認された
エージョンの異常進行は、スパッタリング中の異常放電
の増加、ターゲット寿命の短命化につながるため、好ま
しくないものである。
As shown in Table 1, the target material of the present invention has less variation in leakage magnetic flux density as compared with a normal casting target. This is considered to be because the temperature distribution occurred during solidification because the mold was not heated in a normal casting target. In order to evaluate the effect on the erosion of the target during magnetron sputtering with respect to the dispersion of the actual leakage magnetic flux distribution,
Sputtering was performed with a magnetron sputtering apparatus having a circular magnet disposed on the back. As a result, the erosion region 5 in the target of the present invention showed a circular erosion region along the shape of the magnet as shown in FIG. 2, but the target of the comparative example showed the erosion region 5 as shown in FIG. Is shifted up to about 3mm from the circle,
Erosion was progressing abnormally. The abnormal progression of the ash confirmed in the comparative example is undesirable because it leads to an increase in abnormal discharge during sputtering and a shortened life of the target.

【0020】[0020]

【発明の効果】本発明によれば、化合物の生成に起因し
たターゲット自身の磁気特性のばらつきを抑えることが
でき、高価なCo系ターゲットの寿命を延ばすことがで
きる。また、精密鋳造法の適用により、残材の発生が少
なく、コストを大幅に低減することが可能となる。した
がって、本発明は、特にPt等の効果な添加元素を添加
する場合が多いCo系ターゲットにおいて、不可欠な技
術となりうるものである。
According to the present invention, variations in the magnetic properties of the target itself due to the formation of the compound can be suppressed, and the life of the expensive Co-based target can be extended. Further, by applying the precision casting method, the generation of residual material is small, and the cost can be significantly reduced. Therefore, the present invention can be an indispensable technique particularly for a Co-based target that often adds an effective additive element such as Pt.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明のターゲットの製造に使用する精密鋳造
鋳型の一例を示す図である。
FIG. 1 is a view showing an example of a precision casting mold used for manufacturing a target of the present invention.

【図2】本発明のターゲットのエロージョン状態を示す
図である。
FIG. 2 is a diagram showing an erosion state of a target of the present invention.

【図3】比較例のターゲットのエロージョン状態を示す
図である。
FIG. 3 is a diagram showing an erosion state of a target of a comparative example.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1.キャビティ、2.湯口、3.湯道、4.湯口カッ
プ、5.エロージョン領域
1. Cavity, 2. Gate, 3 Runner, 4. Gate cup, 5. Erosion area

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 川上 章 島根県安来市安来町2107番地2 日立金属 株式会社安来工場内 (72)発明者 来海 順治 島根県安来市飯島町1240−2 株式会社安 来製作所日立メタルプレシジョン内 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continuing on the front page (72) Inventor Akira Kawakami 2107-2 Yasugi-cho, Yasugi City, Shimane Prefecture Inside the Yasugi Plant, Hitachi Metals, Ltd. (72) Inventor Junji Kurumi 1240-2 Iijimacho, Yasugi City, Shimane Prefecture Yasu Corporation Inside Hitachi Metals Precision

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 Coを主体とするターゲットであって、
Coと金属間化合物を形成する4A族もしくは5A族の
元素が固溶限を越えて含有され、実質的にターゲット形
状に精密鋳造されてなることを特徴とするCo系鋳造タ
ーゲット。
1. A target mainly composed of Co,
A Co-based casting target comprising an element of Group 4A or Group 5A forming an intermetallic compound with Co in excess of the solid solubility limit and being substantially precision-cast into a target shape.
【請求項2】 Ptを含有することを特徴とする請求項
1に記載のCo系鋳造ターゲット。
2. The Co-based casting target according to claim 1, comprising Pt.
【請求項3】 ターゲットのスパッタリング面で測定し
た漏洩磁束密度のばらつきが2%以内であることを特徴
とする請求項1ないし2のいずれかに記載のCo系鋳造
ターゲット。
3. The Co-based casting target according to claim 1, wherein the variation of the leakage magnetic flux density measured on the sputtering surface of the target is within 2%.
【請求項4】 Coを主体とし、Coと金属間化合物を
形成する4A族もしくは5A族の元素が凝固状態におけ
る固溶限を越えた量を含有させた合金溶湯を、溶湯温度
1350〜1500℃で、500〜1100℃に予熱し
たキャビティとしてターゲット外形状を有する精密鋳造
鋳型に注湯することを特徴とするCo系鋳造ターゲット
の製造方法。
4. An alloy melt containing Co as a main component and containing an amount of a Group 4A or Group 5A element that forms an intermetallic compound with Co in an amount exceeding the solid solubility limit in a solidified state, at a melt temperature of 1350 to 1500 ° C. A method of manufacturing a Co-based casting target, comprising pouring into a precision casting mold having a target external shape as a cavity preheated to 500 to 1100 ° C.
JP11225797A 1997-04-30 1997-04-30 Co series cast target and its production Pending JPH10306368A (en)

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2000031316A1 (en) * 1998-11-20 2000-06-02 Japan Energy Corporation Co-Ti ALLOY SPUTTERING TARGET AND MANUFACTURING METHOD THEREOF

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