JPH10303163A - Substrate treating device - Google Patents
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- JPH10303163A JPH10303163A JP10973197A JP10973197A JPH10303163A JP H10303163 A JPH10303163 A JP H10303163A JP 10973197 A JP10973197 A JP 10973197A JP 10973197 A JP10973197 A JP 10973197A JP H10303163 A JPH10303163 A JP H10303163A
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体ウエハ、液
晶表示装置用ガラス基板およびPDP(プラズマディス
プレイパネル)用ガラス基板などの各被処理基板に対し
て処理を施すための基板処理装置に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a substrate processing apparatus for performing processing on substrates to be processed such as a semiconductor wafer, a glass substrate for a liquid crystal display device, and a glass substrate for a PDP (plasma display panel).
【0002】[0002]
【従来の技術】半導体装置の製造工程では、複数枚の半
導体ウエハ(以下単に「ウエハ」という。 )を一括して
処理するバッチ式のウエハ処理装置が用いられる場合が
ある。この種のウエハ処理装置は、複数枚のウエハを一
括して処理液に浸漬させ、これによりウエハ表面を洗浄
したりウエハ表面に形成された薄膜を除去したりするた
めに用いられる。2. Description of the Related Art In a semiconductor device manufacturing process, a batch-type wafer processing apparatus for processing a plurality of semiconductor wafers (hereinafter, simply referred to as "wafers") collectively is sometimes used. This type of wafer processing apparatus is used to collectively immerse a plurality of wafers in a processing liquid, thereby cleaning the wafer surface or removing a thin film formed on the wafer surface.
【0003】図4は、ウエハ処理装置の構成例を示す概
念図である。このウエハ処理装置は、薬液秤量槽100
に貯留された第1の貯留量の薬液と純水秤量槽101に
貯留された第2の貯留量の純水とを調合槽102にて混
合して処理液を調合し、この調合された処理液を処理槽
103に供給して貯留させ、当該処理槽103内におい
てウエハWを処理液に浸漬させて処理するものである。FIG. 4 is a conceptual diagram showing a configuration example of a wafer processing apparatus. The wafer processing apparatus includes a chemical solution weighing tank 100
The treatment liquid is prepared by mixing the first stored amount of chemical solution stored in the storage tank and the second stored amount of pure water stored in the pure water weighing tank 101 in a preparation tank 102, and the prepared processing liquid is prepared. The liquid is supplied to and stored in the processing tank 103, and the wafer W is immersed in the processing liquid in the processing tank 103 for processing.
【0004】純水秤量槽101には、純水供給源110
から純水が導かれてくる純水供給路111、および当該
純水秤量槽101に貯留されている純水を調合槽102
に導くための純水流出路112が接続されている。純水
供給路111および純水流出路112の途中部には、そ
れぞれ、純水供給弁113および純水流出弁114が介
装されている。A pure water supply source 110 is provided in a pure water weighing tank 101.
A pure water supply path 111 from which pure water is introduced from the tank, and pure water stored in the pure water weighing tank 101 to a mixing tank 102.
The pure water outflow channel 112 for leading to the water is connected. A pure water supply valve 113 and a pure water outflow valve 114 are provided in the middle of the pure water supply path 111 and the pure water outflow path 112, respectively.
【0005】純水秤量槽101に純水を供給する際に
は、純水流出弁114が閉成され、かつ純水供給弁11
3が開成される。その結果、純水は純水秤量槽101に
溜まっていく。純水供給弁113は、純水秤量槽101
に第2の貯留量の純水が貯留されたことを示す貯留完了
信号が純水上限センサ115から出力されたことに応答
して閉成される。これにより、純水秤量槽101には、
第2の貯留量の純水が貯留されることになる。その後、
所定のタイミングで純水流出弁114が開成され、純水
秤量槽101に貯留されている純水が調合槽102に流
出される。When supplying pure water to the pure water measuring tank 101, the pure water outflow valve 114 is closed and the pure water supply valve 11 is closed.
3 is opened. As a result, the pure water accumulates in the pure water weighing tank 101. The pure water supply valve 113 is connected to the pure water weighing tank 101.
Is closed in response to the storage completion signal indicating that the second storage amount of pure water has been stored from the pure water upper limit sensor 115. Thereby, in the pure water weighing tank 101,
A second storage amount of pure water will be stored. afterwards,
At a predetermined timing, the pure water outflow valve 114 is opened, and the pure water stored in the pure water weighing tank 101 flows out to the mixing tank 102.
【0006】その後、第2の貯留量のうち必要量だけの
純水が調合槽102に供給されたことを示す流出完了信
号が純水下限センサ116から出力される。ここで、調
合槽102に供給される純水の必要量とは、純水秤量槽
101において、純水上限センサ115の高さまで貯留
される量(すなわち、第2の貯留量)と純水下限センサ
116の高さまで貯留される量との差の量にあたる。Thereafter, a pure water lower limit sensor 116 outputs an outflow completion signal indicating that a necessary amount of pure water of the second storage amount has been supplied to the mixing tank 102. Here, the required amount of pure water supplied to the mixing tank 102 is defined as the amount stored in the pure water weighing tank 101 up to the height of the pure water upper limit sensor 115 (that is, the second storage amount) and the pure water lower limit. This corresponds to the difference from the amount stored up to the height of the sensor 116.
【0007】流出完了信号が出力されると、これに応答
して純水流出弁114が閉成され、かつ純水供給弁11
3が次に純水上限センサ115から貯留完了信号が出力
されるまで開成される。これにより、次の調合に用いる
純水が純水秤量槽101に貯留される。同様に、薬液秤
量槽100に薬液供給源120から薬液を供給する際に
は、薬液流出弁121が閉成され、かつ薬液供給弁12
2が薬液上限センサ123から貯留完了信号が出力され
るまで開成され、第1の貯留量の薬液が薬液秤量槽10
0に貯留される。その後、薬液流出弁121が開成さ
れ、薬液下限センサ124から流出完了信号が出力され
たことに応答して薬液流出弁121が閉成されることに
よって、薬液秤量槽100に貯留されている第1の貯留
量のうち必要量だけの薬液が薬液流出路125を介して
調合槽102に流出される。When the outflow completion signal is output, the pure water outflow valve 114 is closed and the pure water supply valve 11 is closed.
3 is opened until the storage completion signal is output from the pure water upper limit sensor 115 next. As a result, pure water used for the next preparation is stored in the pure water weighing tank 101. Similarly, when supplying the chemical from the chemical supply source 120 to the chemical weighing tank 100, the chemical outflow valve 121 is closed and the chemical supply valve 12 is closed.
2 is opened until a storage completion signal is output from the chemical liquid upper limit sensor 123, and the chemical liquid of the first stored amount is supplied to the chemical liquid weighing tank 10
Stored at 0. Thereafter, the chemical solution outflow valve 121 is opened, and the chemical solution outflow valve 121 is closed in response to the outflow completion signal being output from the chemical solution lower limit sensor 124, whereby the first liquid stored in the chemical solution weighing tank 100 is stored. The required amount of the chemical solution out of the stored amount is discharged to the preparation tank 102 via the chemical solution outflow passage 125.
【0008】[0008]
【発明が解決しようとする課題】ところが、純水秤量槽
101に貯留されている第2の貯留量の純水は、貯留後
すぐに調合槽102に流出されるとは限らず、処理の進
行状況や生産工程の都合によって、たとえば数十分から
数時間経過した後に流出される場合もある。すなわち、
純水が比較的長い間純水供給路111および純水秤量槽
101内において滞留したままとなる場合がある。この
場合、純水供給路111および純水秤量槽101内にバ
クテリアが発生し、純水が汚染される。純水が汚染され
れば、当該純水を用いて調合される処理液も汚染され、
ひいては、当該処理液によって処理されるウエハWが汚
染される。However, the second amount of pure water stored in the pure water weighing tank 101 does not always flow out to the mixing tank 102 immediately after storage, and the progress of the process Depending on the circumstances and production process, for example, it may be discharged after several tens of minutes to several hours. That is,
Pure water may remain in the pure water supply path 111 and the pure water weighing tank 101 for a relatively long time. In this case, bacteria are generated in the pure water supply path 111 and the pure water weighing tank 101, and the pure water is contaminated. If the pure water is contaminated, the processing liquid prepared using the pure water is also contaminated,
Consequently, the wafer W processed by the processing liquid is contaminated.
【0009】そこで、本発明の目的は、上述の技術的課
題を解決し、純水と薬液とを混合して調合された処理液
を用いて基板を処理する場合に、純水供給系統における
バクテリアの発生を防ぐことができる基板処理装置を提
供することである。Accordingly, an object of the present invention is to solve the above-mentioned technical problems and to treat bacteria in a pure water supply system when a substrate is treated using a treatment solution prepared by mixing pure water and a chemical solution. It is an object of the present invention to provide a substrate processing apparatus capable of preventing the occurrence of the generation.
【0010】[0010]
【課題を解決するための手段および発明の効果】上記目
的を達成するための請求項1記載の発明は、第1の貯留
量の薬液を貯留するための薬液秤量槽と、第2の貯留量
の純水を貯留するための純水秤量槽と、上記薬液および
純水を混合させ、基板処理に必要な処理液を調合するた
めの調合槽と、開成/閉成可能な薬液流通弁を介して上
記薬液秤量槽と上記調合槽とを接続する薬液流出路と、
開成/閉成可能な純水流通弁を介して上記純水秤量槽と
上記調合槽とを接続する純水流出路と、上記純水流出弁
が閉成されている場合に、上記純水秤量槽に純水を供給
し、上記純水秤量槽における貯留量が上記第2の貯留量
に達してもさらに供給を継続する純水供給手段と、純水
秤量槽に貯留されている純水が第2の貯留量を超えたと
きに、純水秤量槽内の純水を純水秤量槽外に排出させる
ためのオーバーフロー排出路と含むことを特徴とする基
板処理装置である。Means for Solving the Problems and Effects of the Invention According to the first aspect of the present invention, there is provided a chemical solution weighing tank for storing a first storage amount of a chemical solution, and a second storage amount. A pure water weighing tank for storing pure water, a mixing tank for mixing the chemical solution and the pure water to prepare a processing liquid necessary for substrate processing, and a chemical liquid flow valve that can be opened / closed. And a drug solution outflow path connecting the drug solution weighing tank and the preparation tank,
A pure water outflow path connecting the pure water weighing tank and the blending tank via a pure water flow valve that can be opened / closed, and the pure water weighing when the pure water outflow valve is closed. Pure water supplying means for supplying pure water to the tank, and further continuing to supply even if the storage amount in the pure water weighing tank reaches the second storage amount, and pure water stored in the pure water weighing tank. A substrate processing apparatus comprising: an overflow discharge path for discharging pure water in a pure water weighing tank to outside of the pure water weighing tank when the amount exceeds a second storage amount.
【0011】本発明によれば、純水秤量槽内に純水を供
給させつつ純水秤量槽内の純水をオーバーフローさせる
ことができるので、純水供給手段および純水秤量槽を含
む純水供給系統内の純水を滞留させることなく、常に新
鮮に保つことができる。したがって、純水供給系統内に
おけるバクテリアの発生を防止することができるから、
純水が汚染されることがない。そのため、当該純水を用
いて生成される処理液も汚染から免れるから、基板を良
好に処理できる。よって、高品質な基板を提供すること
ができる。According to the present invention, the pure water in the pure water weighing tank can overflow while the pure water is supplied into the pure water weighing tank. The pure water in the supply system can always be kept fresh without stagnation. Therefore, the generation of bacteria in the pure water supply system can be prevented,
Pure water is not contaminated. Therefore, the processing liquid generated using the pure water is also free from contamination, so that the substrate can be satisfactorily processed. Therefore, a high-quality substrate can be provided.
【0012】また、純水秤量槽内の純水をオーバーフロ
ーさせるから、このオーバーフローの途中で純水の供給
を停止させれば、純水秤量槽内の純水の貯留量は、第2
の貯留量となる。したがって、従来のような上限センサ
は不要となる。請求項2記載の発明は、上記純水供給手
段は、開成/閉成可能な純水供給弁を介して純水供給源
と上記純水秤量槽とを接続する純水供給路と、上記純水
供給源から上記純水供給路を介して上記純水秤量槽に供
給される純水の流量を、第1の流量と、この第1の流量
よりも多い第2の流量とに切り換えるための純水流量調
節手段と、上記純水秤量槽に貯留されている純水が上記
第2の貯留量に達する以前においては、上記純水の流量
が上記第2の流量になるように上記純水流量調節手段を
制御し、上記純水秤量槽に貯留されている純水が上記第
2の貯留量に達した場合には、上記純水の流量が上記第
1の流量になるように上記純水流量調節手段を制御する
制御手段とを含むものであることを特徴とする請求項1
記載の基板処理装置である。Further, since the pure water in the pure water weighing tank overflows, if the supply of the pure water is stopped during the overflow, the storage amount of the pure water in the pure water weighing tank becomes second.
Storage amount. Therefore, a conventional upper limit sensor becomes unnecessary. According to a second aspect of the present invention, the pure water supply means includes: a pure water supply path connecting a pure water supply source and the pure water weighing tank via a pure water supply valve that can be opened / closed; A switching unit configured to switch a flow rate of pure water supplied from the water supply source to the pure water weighing tank through the pure water supply path between a first flow rate and a second flow rate that is higher than the first flow rate. The pure water flow rate adjusting means, and before the pure water stored in the pure water weighing tank reaches the second storage amount, the pure water flow rate such that the pure water flow rate becomes the second flow rate. Controlling the flow rate adjusting means, when the pure water stored in the pure water weighing tank reaches the second storage amount, the pure water is adjusted so that the flow rate of the pure water becomes the first flow rate; 2. A control means for controlling a water flow rate adjusting means.
It is a substrate processing apparatus of a statement.
【0013】本発明によれば、純水秤量槽内の純水の貯
留量が第2の貯留量に達するまでは第2の流量の純水が
純水秤量槽に供給されるから、純水供給を迅速に行え
る。また、純水秤量槽内の純水の貯留量が第2の貯留量
に達した場合には、第2の流量よりも少ない第1の流量
の純水が純水秤量槽に供給されるから、たとえばオーバ
ーフローさせた後の純水を装置外に排出する場合におい
て、排出される純水の量を最小限に抑えることができ
る。そのため、純水を節約できる。According to the present invention, since the pure water at the second flow rate is supplied to the pure water weighing tank until the stored amount of pure water in the pure water weighing tank reaches the second stored amount, Supply can be done quickly. Further, when the stored amount of pure water in the pure water weighing tank reaches the second stored amount, pure water having a first flow rate smaller than the second flow rate is supplied to the pure water weighing tank. For example, when discharging the overflowed pure water out of the apparatus, the amount of the discharged pure water can be minimized. Therefore, pure water can be saved.
【0014】請求項3記載の発明は、上記純水流量調節
手段は、上記純水供給路に介装され、開成/閉成可能な
連絡弁と、この連絡弁の上流側および下流側において、
上記純水供給路に両端が接続されたバイパス路と、この
バイパス路に介装され、バイパス路を流通する純水の流
量を調節する流量調節弁とを含み、上記制御手段は、上
記連絡弁の開閉を制御することにより、上記純水秤量槽
に供給される純水の流量を上記第1の流量と上記第2の
流量とに切り換えるものでることを特徴とする請求項2
記載の基板処理装置である。According to a third aspect of the present invention, the pure water flow rate adjusting means is interposed in the pure water supply path and can be opened / closed, and an upstream side and a downstream side of the communication valve.
A bypass passage having both ends connected to the pure water supply passage, and a flow control valve interposed in the bypass passage and configured to regulate a flow rate of pure water flowing through the bypass passage; The flow rate of pure water supplied to the pure water weighing tank is switched between the first flow rate and the second flow rate by controlling the opening and closing of the water.
It is a substrate processing apparatus of a statement.
【0015】本発明によれば、純水の流量の調節を連絡
弁の開閉を制御することによって達成することができ
る。すなわち、連絡弁を閉成している場合には純水はバ
イパス路を通って純水秤量槽に供給されるから、バイパ
ス路の純水の流量が第1の流量となるように流量調節弁
を調整しておけば、純水秤量槽に供給される純水の流量
を第1の流量とすることができる。また、この状態にお
いて連絡弁を開成すれば、純水供給路およびバイパス路
の2系統で純水が流通するから、このときの流量が第2
の流量となるように純水供給路の径などを決定しておけ
ば、純水秤量槽への純水の流量を第2の流量とすること
ができる。According to the present invention, the adjustment of the flow rate of pure water can be achieved by controlling the opening and closing of the communication valve. That is, when the communication valve is closed, the pure water is supplied to the pure water weighing tank through the bypass passage, so that the flow control valve is set so that the flow of the pure water in the bypass passage becomes the first flow amount. Is adjusted, the flow rate of pure water supplied to the pure water weighing tank can be set as the first flow rate. Further, if the communication valve is opened in this state, pure water flows through the two systems of the pure water supply passage and the bypass passage.
If the diameter of the pure water supply path and the like are determined so that the flow rate of the pure water is determined, the flow rate of the pure water to the pure water weighing tank can be set as the second flow rate.
【0016】このように、純水の流量の調節を連絡弁の
開閉を制御することによって達成することができるの
で、簡単な構成で、かつ安価に、流量調節を行うことが
できる。請求項4記載の発明は、上記純水供給弁と上記
純水供給源とに接続された純水循環路をさらに含み、上
記純水供給弁は、上記純水供給源から供給される純水を
上記純水秤量槽および純水循環路に選択的に導くことが
できるものであることを特徴とする請求項2または請求
項3記載の基板処理装置である。As described above, the flow rate of the pure water can be adjusted by controlling the opening and closing of the communication valve. Therefore, the flow rate can be adjusted with a simple configuration at a low cost. The invention according to claim 4 further includes a pure water circulation path connected to the pure water supply valve and the pure water supply source, wherein the pure water supply valve supplies pure water supplied from the pure water supply source. The substrate processing apparatus according to claim 2 or 3, wherein the substrate can be selectively guided to the pure water weighing tank and the pure water circulation path.
【0017】本発明によれば、純水の純水秤量槽への供
給を禁止しつつ、当該純水を、純水供給源、純水供給路
および純水循環路内において循環させることができる。
したがって、処理液調合時のように純水秤量槽への純水
の供給を禁止する必要がある場合に、純水を循環させる
ようにしておけば、さらに純水供給路内においても、バ
クテリアの発生を防止できる。そのため、純水の汚染を
一層確実に防止することができる。According to the present invention, the pure water can be circulated in the pure water supply source, the pure water supply path, and the pure water circulation path while prohibiting the supply of the pure water to the pure water weighing tank. .
Therefore, when it is necessary to prohibit the supply of pure water to the pure water weighing tank as in the preparation of the processing liquid, if pure water is circulated, bacteria can be further circulated in the pure water supply path. Occurrence can be prevented. Therefore, contamination of pure water can be more reliably prevented.
【0018】[0018]
【発明の実施の形態】以下では、本発明の実施の形態
を、添付図面を参照して詳細に説明する。図1は、本発
明の一実施形態の基板処理装置であるウエハ処理装置を
示す概念図である。このウエハ処理装置は、薬液秤量槽
1に貯留された第1の貯留量のうち必要量だけの薬液と
純水秤量槽2に貯留された第2の貯留量のうち必要量だ
けの純水とを調合槽3にて混合して処理液を調合し、こ
の調合された処理液を処理槽4に供給して貯留させ、当
該処理槽4内においてウエハWを処理するものである。
処理槽4におけるウエハWの処理は、処理槽4において
処理液をオーバーフローさせながら行われる。Embodiments of the present invention will be described below in detail with reference to the accompanying drawings. FIG. 1 is a conceptual diagram showing a wafer processing apparatus which is a substrate processing apparatus according to an embodiment of the present invention. The wafer processing apparatus includes a required amount of a chemical solution of the first stored amount stored in the chemical solution weighing tank 1 and a required amount of pure water of the second stored amount stored in the pure water weighing tank 2. Are mixed in the preparation tank 3 to prepare a processing liquid, and the prepared processing liquid is supplied to and stored in the processing tank 4, and the wafer W is processed in the processing tank 4.
The processing of the wafer W in the processing bath 4 is performed while the processing liquid overflows in the processing bath 4.
【0019】薬液秤量槽1には、薬液供給源10から薬
液供給路11を介して薬液が供給されるようになってい
る。薬液としては、フッ酸、アンモニア、アンモニア過
水、塩酸過水などが用いられる。薬液供給路11の途中
部には開成/閉成可能な薬液供給弁VSCが介装されて
おり、これにより薬液秤量槽1への薬液の供給および供
給停止を制御できるようになっている。A chemical solution is supplied to the chemical solution weighing tank 1 from a chemical solution supply source 10 through a chemical solution supply path 11. As the chemical, hydrofluoric acid, ammonia, aqueous ammonia, aqueous hydrochloric acid, or the like is used. A chemical liquid supply valve VSC that can be opened / closed is provided at an intermediate portion of the chemical liquid supply path 11 so that the supply of the chemical liquid to the chemical liquid weighing tank 1 and the stop of the supply can be controlled.
【0020】薬液秤量槽1には、当該薬液秤量槽1に貯
留されている薬液を調合槽3に供給するための薬液流出
路12が接続されている。薬液流出路12の途中部には
開成/閉成可能な薬液流出弁VOCが介装されている。
この構成により、薬液秤量槽1に貯留されている薬液を
調合槽3に流出させることができ、また薬液秤量槽1か
らの調合槽3への薬液の流出を禁止させることができる
ようになっている。The chemical solution weighing tank 1 is connected to a chemical solution outflow path 12 for supplying the chemical solution stored in the chemical solution weighing tank 1 to the mixing tank 3. A chemical liquid outflow valve VOC that can be opened / closed is provided at an intermediate portion of the chemical liquid outflow passage 12.
With this configuration, the chemical solution stored in the chemical solution weighing tank 1 can flow out to the mixing tank 3, and the outflow of the chemical solution from the chemical solution weighing tank 1 to the mixing tank 3 can be prohibited. I have.
【0021】薬液秤量槽1の側面上方には、薬液上限セ
ンサSUCが配設されている。薬液上限センサSUC
は、薬液秤量槽1に薬液が第1の貯留量だけ貯留された
場合にオンし、貯留完了信号を出力するものである。ま
た、薬液秤量槽1の側面下方には、薬液下限センサSD
Cが配設されている。薬液下限センサSDCは、薬液秤
量槽1に貯留されている薬液のうち必要量だけの薬液の
流出が完了した場合にオンし、供給完了信号を出力する
ものである。A chemical liquid upper limit sensor SUC is arranged above the side surface of the chemical liquid measuring tank 1. Chemical liquid upper limit sensor SUC
Turns on when the chemical solution is stored in the chemical solution weighing tank 1 by the first storage amount, and outputs a storage completion signal. In addition, a chemical solution lower limit sensor SD is provided below the side surface of the chemical solution weighing tank 1.
C is provided. The chemical liquid lower limit sensor SDC is turned on when a required amount of the chemical liquid out of the chemical liquid stored in the chemical liquid weighing tank 1 is completed, and outputs a supply completion signal.
【0022】純水秤量槽2に関連して、純水供給機構2
0が設けられている。純水供給機構20は、純水供給源
21に貯留されている純水を純水秤量槽2に供給するた
めのもので、純水供給源21に接続された純水取出路2
2を備えている。純水取出路22の純水供給源20とは
反対側の端部は、三方弁である純水供給弁VSWの第1
ポートP1に接続されている。純水供給弁VSWの第2
ポートP2には、純水吐出路23の一端が接続されてい
る。純水吐出路23の他端は、純水秤量槽2に達してい
る。これにより、純水供給弁VSWのポートP1および
P2が接続されると、純水供給源21から純水取出路2
2および純水吐出路23を介して純水秤量槽2に純水が
供給されるようになっている。また、純水供給弁VSW
の第3ポートP3には、純水循環路24の一端が接続さ
れている。この構成により、純水供給弁VSWのポート
P1およびP3が接続されると、純水供給源21内の純
水を純水取出路22および純水循環路24を介して純水
供給源21に戻すことができるようになっている。In connection with the pure water weighing tank 2, the pure water supply mechanism 2
0 is provided. The pure water supply mechanism 20 is for supplying the pure water stored in the pure water supply source 21 to the pure water weighing tank 2, and is connected to the pure water supply source 21.
2 is provided. The end of the pure water outlet 22 on the side opposite to the pure water supply source 20 is the first end of a pure water supply valve VSW which is a three-way valve.
It is connected to port P1. Second pure water supply valve VSW
One end of the pure water discharge path 23 is connected to the port P2. The other end of the pure water discharge path 23 reaches the pure water weighing tank 2. As a result, when the ports P1 and P2 of the pure water supply valve VSW are connected, the pure water supply passage 21
Pure water is supplied to the pure water weighing tank 2 via the pure water discharge path 2 and the pure water discharge path 23. Also, pure water supply valve VSW
One end of the pure water circulation path 24 is connected to the third port P3. With this configuration, when the ports P1 and P3 of the pure water supply valve VSW are connected, pure water in the pure water supply source 21 is supplied to the pure water supply source 21 via the pure water extraction path 22 and the pure water circulation path 24. It can be returned.
【0023】純水取出路22の途中部には、開成/閉成
可能な連絡弁VTWが介装されている。連絡弁VTWの
上流側の純水取出路22からは、純水供給源21からの
純水を連絡弁VTWを経由しないで純水供給弁VSWに
導くためのバイパス路25が分岐しており、バイパス路
25の途中部には常時開成されている流量調整弁VVW
が介装されている。流量調整弁VVWは、予め定める第
1の流量の純水を通過させるように調整されている。純
水取出路22は、連絡弁VTWが開成されている場合
に、バイパス路25を通過する純水と合わせて、第1の
流量よりも多い第2の流量の純水を通過させることがで
きるようになっている。この構成により、純水秤量槽2
に第1の流量または第2の流量のいずれかの流量で純水
を供給することができる。A communication valve VTW that can be opened / closed is provided in the middle of the pure water discharge passage 22. A bypass passage 25 for guiding pure water from the pure water supply source 21 to the pure water supply valve VSW without passing through the communication valve VTW branches off from the pure water extraction passage 22 on the upstream side of the communication valve VTW. A flow regulating valve VVW which is always open is provided in the middle of the bypass passage 25.
Is interposed. The flow rate adjustment valve VVW is adjusted so as to allow a predetermined first flow rate of pure water to pass therethrough. When the communication valve VTW is opened, the pure water extraction passage 22 can pass pure water having a second flow rate higher than the first flow rate together with pure water passing through the bypass passage 25. It has become. With this configuration, the pure water weighing tank 2
The pure water can be supplied at either the first flow rate or the second flow rate.
【0024】純水供給機構20は、また、純水秤量槽2
内に貯留されている純水をオーバーフローさせるための
オーバーフロー排出路26を備えている。オーバーフロ
ー排出路26は、純水秤量槽2に純水が第2の貯留量に
達してもさらに供給される場合に、純水を槽外にオーバ
ーフローさせるためのもので、その反対側は純水供給源
21に接続されている。この構成により、オーバーフロ
ーされた後の純水は純水供給源21に戻されるようにな
っている。The pure water supply mechanism 20 also includes a pure water weighing tank 2
An overflow discharge path 26 is provided for overflowing the pure water stored therein. The overflow discharge path 26 is for overflowing the pure water to the outside of the pure water weighing tank 2 when the pure water reaches the second storage amount even when the pure water reaches the second storage amount. It is connected to a supply source 21. With this configuration, the pure water that has overflowed is returned to the pure water supply source 21.
【0025】また、オーバーフロー排出路26に関連し
て、オーバーフロー排出路26に純水が排出されている
場合にオンし、純水検知信号を出力する純水検知センサ
SUWが設けられている。純水秤量槽2には、当該純水
秤量槽2に貯留されている純水を調合槽3に導くための
純水流出路27が接続されている。純水流出路27の途
中部には開成/閉成可能な純水流出弁VOWが介装され
ており、これにより純水秤量槽2内の純水を調合槽3に
流出させることができ、また純水秤量槽2内の純水の調
合槽3への流出を禁止させることができるようになって
いる。In connection with the overflow discharge path 26, a pure water detection sensor SUW that is turned on when pure water is discharged to the overflow discharge path 26 and outputs a pure water detection signal is provided. The pure water weighing tank 2 is connected to a pure water outflow path 27 for guiding the pure water stored in the pure water weighing tank 2 to the mixing tank 3. A pure water outflow valve VOW which can be opened / closed is provided at an intermediate portion of the pure water outflow passage 27, whereby the pure water in the pure water weighing tank 2 can be discharged to the mixing tank 3, Further, the outflow of the pure water in the pure water weighing tank 2 to the mixing tank 3 can be prohibited.
【0026】また、純水秤量槽2の側面下方付近には、
純水秤量槽2内の純水が調合槽3に供給された結果、純
水秤量槽2内の純水のうち必要量だけの純水の流出が完
了した場合にオンし、供給完了信号を出力するための純
水下限センサSDWが配設されている。調合槽3には図
示しない温度調節手段が設けられており、調合槽3に貯
留された処理液を所定の温度、たとえば40℃〜80℃に保
っている。このため、処理槽4でのウエハWに対する処
理は常に一定の条件で適切に行われる。In the vicinity of the lower side of the pure water weighing tank 2,
When the pure water in the pure water weighing tank 2 is supplied to the mixing tank 3 and as a result, the necessary amount of pure water out of the pure water in the pure water weighing tank 2 has been flown out, and the supply completion signal is output. A pure water lower limit sensor SDW for outputting is provided. The mixing tank 3 is provided with a temperature adjusting means (not shown), and the processing liquid stored in the mixing tank 3 is maintained at a predetermined temperature, for example, 40 ° C. to 80 ° C. For this reason, the processing on the wafer W in the processing tank 4 is always performed appropriately under certain conditions.
【0027】また、調合槽3と処理槽4とは処理液供給
路28によって接続されており、その処理液供給路28
の途中部には開閉可能な処理液供給弁Vが介装されてい
る。この処理液供給弁Vを開成/閉成させることによ
り、処理槽4への処理液の供給を開始/停止できるよう
になっている。図2は、ウエハ処理装置の主要な電気的
構成を示すブロック図である。ウエハ処理装置は、当該
ウエハ処理装置の制御中枢として機能する制御部30を
備えている。制御部30は、マイクロコンピュータなど
で構成されたもので、メモリ31に格納された制御プロ
グラムに従って処理液調合処理などの各種の処理を実行
する。The mixing tank 3 and the processing tank 4 are connected by a processing liquid supply path 28.
A processing liquid supply valve V that can be opened and closed is interposed in the middle of the processing liquid supply valve V. By opening / closing the processing liquid supply valve V, the supply of the processing liquid to the processing tank 4 can be started / stopped. FIG. 2 is a block diagram showing a main electrical configuration of the wafer processing apparatus. The wafer processing apparatus includes a control unit 30 that functions as a control center of the wafer processing apparatus. The control unit 30 is configured by a microcomputer or the like, and executes various processes such as a processing liquid preparation process according to a control program stored in the memory 31.
【0028】制御部30には、入力信号として、薬液上
限センサSUCからの貯留完了信号、薬液下限センサS
DCからの供給完了信号、純水下限センサSDWからの
供給完了信号、および純水検知センサSUWからの純水
検知信号が与えられるようになっている。制御部30
は、これらの入力信号に基づいて、薬液供給弁VSC、
薬液流出弁VOC、連絡弁VTWおよび純水流出弁VO
Wの開閉、ならびに純水供給弁VSWの接続ポートの切
換えを制御するようになっている。The controller 30 receives as input signals a storage completion signal from the chemical solution upper limit sensor SUC and a chemical solution lower limit sensor SUC.
A supply completion signal from the DC, a supply completion signal from the pure water lower limit sensor SDW, and a pure water detection signal from the pure water detection sensor SUW are provided. Control unit 30
Is based on these input signals, the chemical supply valve VSC,
Chemical outflow valve VOC, communication valve VTW and pure water outflow valve VO
The opening and closing of W and the switching of the connection port of the pure water supply valve VSW are controlled.
【0029】また、制御部30は、制御プログラムに従
って、処理液供給弁Vの開閉を制御する。図3は、制御
部30において実行される処理液調合処理を説明するた
めのフローチャートである。制御部30は、所定のタイ
ミング、たとえば、薬液下限センサSDCおよび純水下
限センサSDWが供給完了信号を出力したタイミング
で、薬液および純水の各秤量槽1および2への供給を開
始する(ステップS1)。具体的には、薬液流出弁VO
Cを閉成する一方、薬液供給弁VSCを開成する。その
結果、薬液供給源10から薬液供給路11を介して薬液
が薬液秤量槽1に供給され、薬液秤量槽1に貯留されて
いく。また、純水流出弁VOWを閉成する一方、連絡弁
VTWを開成し、さらに純水供給弁VSWの接続ポート
の切り換えを制御し、ポートP1およびP2を接続させ
る。その結果、純水供給源21から純水取出路22およ
びバイパス路25を通って第2の流量の純水が純水供給
弁VSWを介して純水吐出路23に導かれ、さらに、純
水吐出路23を通って純水秤量槽2に導かれる。これに
より、純水秤量槽2に純水が一気に供給され、純水秤量
槽2に貯留されていく。The control unit 30 controls opening and closing of the processing liquid supply valve V according to a control program. FIG. 3 is a flowchart for explaining the processing liquid preparation processing executed in the control unit 30. The control unit 30 starts supplying the chemical solution and the pure water to each of the weighing tanks 1 and 2 at a predetermined timing, for example, at the timing when the chemical solution lower limit sensor SDC and the pure water lower limit sensor SDW output the supply completion signal (step). S1). Specifically, the chemical outflow valve VO
While closing C, the chemical supply valve VSC is opened. As a result, the chemical is supplied from the chemical supply source 10 to the chemical weighing tank 1 via the chemical supply path 11, and is stored in the chemical weighing tank 1. Further, the pure water outflow valve VOW is closed, the communication valve VTW is opened, and the switching of the connection port of the pure water supply valve VSW is controlled to connect the ports P1 and P2. As a result, a second flow of pure water is introduced from the pure water supply source 21 through the pure water extraction passage 22 and the bypass passage 25 to the pure water discharge passage 23 through the pure water supply valve VSW, It is guided to the pure water weighing tank 2 through the discharge path 23. Thereby, pure water is supplied to the pure water weighing tank 2 at a stretch, and is stored in the pure water weighing tank 2.
【0030】次いで、制御部30は、薬液上限センサS
UCの出力に基づいて、薬液が第1の貯留量だけ薬液秤
量槽1に貯留されたか否かを判別するとともに、純水検
知センサSUWの出力に基づいて、純水が第2の貯留量
だけ純水秤量槽2に貯留されたか否かを判別する(ステ
ップS2)。薬液上限センサSUCがオンし、貯留完了
信号が出力されれば、薬液が第1の貯留量だけ貯留され
たと考えることができるから、制御部30は、薬液上限
センサSUCからの貯留完了信号の入力に応答して、薬
液供給弁VSCを閉成する(ステップS3)。これによ
り、薬液秤量槽1内には、第1の貯留量の薬液が貯留さ
れることになる。Next, the control unit 30 controls the chemical solution upper limit sensor S
Based on the output of the UC, it is determined whether or not the chemical has been stored in the chemical weighing tank 1 by the first storage amount, and based on the output of the pure water detection sensor SUW, the pure water has only the second storage amount. It is determined whether or not the water is stored in the pure water weighing tank 2 (step S2). If the chemical liquid upper limit sensor SUC is turned on and the storage completion signal is output, it can be considered that the chemical liquid has been stored by the first storage amount, so the control unit 30 inputs the storage completion signal from the chemical liquid upper limit sensor SUC. , The chemical supply valve VSC is closed (step S3). As a result, the first stored amount of the drug solution is stored in the drug solution weighing tank 1.
【0031】また、純水検知センサSUWがオンし、純
水検知信号が出力されれば、純水秤量槽2内の純水の貯
留量が第2の貯留量に達した結果、純水がオーバーフロ
ー排出路26に排出されていると考えることができる。
したがって、制御部30は、純水検知信号の入力に応答
して、連絡弁VTWを閉成する(ステップS3)。その
結果、純水供給源21内の純水は、バイパス路25を通
って純水吐出路23に導かれ、さらに、純水秤量槽1に
導かれる。一方、純水秤量槽1には上述のとおり第2の
貯留量の純水が貯留されている。したがって、純水秤量
槽1内の純水は、その後もオーバーフロー排出路26に
排出されていく。ただし、このときには、純水秤量槽1
に供給される純水の流量は第1の流量となっているか
ら、オーバーフロー排出路26に排出される純水は少量
となっている。すなわち、純水がスローリークされる。When the pure water detection sensor SUW is turned on and a pure water detection signal is output, the pure water storage amount in the pure water weighing tank 2 reaches the second storage amount, and as a result, pure water is It can be considered that the waste gas is discharged to the overflow discharge passage 26.
Therefore, the control unit 30 closes the communication valve VTW in response to the input of the pure water detection signal (Step S3). As a result, the pure water in the pure water supply source 21 is guided to the pure water discharge path 23 through the bypass path 25 and further to the pure water weighing tank 1. On the other hand, the pure water weighing tank 1 stores the second storage amount of pure water as described above. Therefore, the pure water in the pure water weighing tank 1 is discharged to the overflow discharge path 26 thereafter. However, at this time, the pure water weighing tank 1
Since the flow rate of the pure water supplied to the hopper is the first flow rate, the pure water discharged to the overflow discharge path 26 is small. That is, pure water is slowly leaked.
【0032】その後、所定のタイミングにおいて、制御
部30は、処理液の調合を開始する。具体的には、純水
供給弁VSWの接続ポートを制御し、ポートP1および
P3を接続させる(ステップS4)。その結果、純水秤
量槽2への純水の供給が停止する。これにより、純水の
スローリークが停止するから、純水秤量槽2内の純水の
貯留量を、正確に、第2の貯留量とすることができる。
一方、純水供給源21内の純水の吐出自体を停止させる
と、純水取出路22内において純水が滞留し、バクテリ
アが発生するおそれがある。そのため、ポートP1およ
びP3を接続させることによって純水を循環させてい
る。すなわち、純水供給源21内の純水は、バイパス路
25を通って純水循環路24に導かれ、さらに、純水供
給源21に戻る。Thereafter, at a predetermined timing, the control unit 30 starts preparation of the processing liquid. Specifically, the connection port of the pure water supply valve VSW is controlled to connect the ports P1 and P3 (Step S4). As a result, the supply of pure water to the pure water weighing tank 2 is stopped. Thereby, the slow leak of the pure water is stopped, so that the stored amount of the pure water in the pure water weighing tank 2 can be accurately set to the second stored amount.
On the other hand, if the discharge of the pure water in the pure water supply source 21 is stopped, the pure water stays in the pure water outlet 22 and bacteria may be generated. Therefore, pure water is circulated by connecting ports P1 and P3. That is, the pure water in the pure water supply source 21 is guided to the pure water circulation path 24 through the bypass path 25, and further returns to the pure water supply source 21.
【0033】その後、制御部30は、薬液流出弁VOC
および純水流出弁VOWを開成する(ステップS5)。
その結果、薬液秤量槽1内の薬液および純水秤量槽2内
の純水が調合槽3に流出され、薬液と純水とが調合槽3
にて混合される。その後、制御部30は、薬液下限セン
サSDCの出力に基づいて、薬液秤量槽1に貯留されて
いた第1の貯留量の薬液のうち必要量だけの薬液が調合
槽3に流出されたか否かを判別する(ステップS6)。
また、純水下限センサSDWの出力に基づいて、純水秤
量槽2に貯留されていた第2の貯留量の純水のうち必要
量だけの純水が調合槽3に流出されたか否かを判別する
(ステップS6)。Thereafter, the control unit 30 controls the chemical outflow valve VOC.
Then, the pure water outflow valve VOW is opened (step S5).
As a result, the chemical solution in the chemical solution weighing tank 1 and the pure water in the pure water weighing tank 2 flow out to the mixing tank 3, and the chemical solution and the pure water are mixed.
And mixed. Thereafter, the control unit 30 determines whether or not only a required amount of the chemical solution out of the first stored amount of the chemical solution stored in the chemical solution weighing tank 1 has flowed out to the preparation tank 3 based on the output of the chemical solution lower limit sensor SDC. Is determined (step S6).
Further, based on the output of the pure water lower limit sensor SDW, it is determined whether or not only a necessary amount of pure water of the second stored amount of pure water stored in the pure water weighing tank 2 has flowed out to the mixing tank 3. It is determined (step S6).
【0034】薬液下限センサSDCがオンし、供給完了
信号が出力されれば、必要量だけの薬液がほぼすべて調
合槽3に流出されたと考えることができる。また、純水
下限センサSDWがオンし、供給完了信号が出力された
場合には、必要量だけの純水がほぼすべて調合槽3に流
出されたと考えることができる。この場合、調合槽3で
は、必要量の薬液と純水とが混合され、必要な濃度の処
理液が生成されたと考えることができる。When the chemical liquid lower limit sensor SDC is turned on and the supply completion signal is output, it can be considered that almost all of the required amount of chemical liquid has flowed into the mixing tank 3. When the pure water lower limit sensor SDW is turned on and the supply completion signal is output, it can be considered that almost all the necessary amount of pure water has flowed out to the preparation tank 3. In this case, it can be considered that a necessary amount of the chemical solution and pure water are mixed in the preparation tank 3 to generate a processing solution having a necessary concentration.
【0035】そこで、制御部30は、薬液下限センサS
DCおよび純水下限センサSDWから流出完了信号が出
力されたと同時に、薬液流出弁VOCおよび純水流出弁
VOWを閉成し(ステップS7)、調合槽3への薬液お
よび純水の流出を強制停止させる。その後、たとえばこ
のステップ7の直後に、次の処理に用いる薬液および純
水の供給を開始する(ステップS8)。具体的には、制
御部30は、薬液供給弁VSCを開成する。その結果、
薬液供給源10内の薬液が薬液供給路11を介して薬液
秤量槽1に供給される。また、純水供給弁VSWの接続
ポートを制御し、ポートP1およびP2を接続し、連絡
弁VTWを開成する。その結果、第2の流量の純水が純
水秤量槽2に供給される。Therefore, the control unit 30 sets the chemical liquid lower limit sensor S
At the same time that the outflow completion signal is output from the DC and the pure water lower limit sensor SDW, the chemical solution outflow valve VOC and the pure water outflow valve VOW are closed (step S7), and the outflow of the chemical solution and pure water to the mixing tank 3 is forcibly stopped. Let it. Thereafter, for example, immediately after step 7, supply of the chemical solution and pure water used for the next process is started (step S8). Specifically, the control unit 30 opens the chemical supply valve VSC. as a result,
The chemical in the chemical supply source 10 is supplied to the chemical weighing tank 1 via the chemical supply path 11. Further, the connection port of the pure water supply valve VSW is controlled, the ports P1 and P2 are connected, and the communication valve VTW is opened. As a result, the second flow of pure water is supplied to the pure water weighing tank 2.
【0036】その後、制御部30は、ステップS2に戻
って、薬液が第1の貯留量だけ薬液秤量槽1に貯留され
たか否かを判別するとともに、純水が第2の貯留量だけ
純水秤量槽2に貯留された否かを判別する処理を再度実
行する。薬液が第1の貯留量だけ薬液秤量槽1に貯留さ
れた場合には、制御部30は、薬液供給弁VSCを閉成
し、薬液供給を停止させる。また、純水秤量槽2内の純
水の貯留量が第2の貯留量に達した場合には、制御部3
0は、連絡弁VTWを閉成し、純水をスローリークさせ
る。その後、このような状態で次の処理液調合まで待機
する。Thereafter, the control unit 30 returns to step S2 to determine whether or not the chemical is stored in the chemical weighing tank 1 by the first storage amount, and determines whether the pure water is the pure water by the second storage amount. The process of determining whether or not the sample is stored in the weighing tank 2 is executed again. When the chemical is stored in the chemical weighing tank 1 by the first storage amount, the control unit 30 closes the chemical supply valve VSC and stops the chemical supply. When the storage amount of pure water in the pure water weighing tank 2 reaches the second storage amount, the control unit 3
A value of 0 closes the communication valve VTW and causes a slow leak of pure water. Thereafter, in such a state, the process waits until the next processing liquid is prepared.
【0037】一方、制御部30は、ウエハWに対する処
理を開始すべき任意のタイミングで、処理液供給路28
に介装された処理液供給弁Vを開成し、調合槽3内の処
理液の処理槽4への供給を開始する。処理槽4では、供
給された処理液が溜まっていき、やがてオーバーフロー
する。このような状態で、ウエハWに処理が施される。
その後、ウエハWに対する処理を終了すべき任意のタイ
ミングで、処理液供給路28に介装された処理液供給弁
Vを閉成し、調合槽3内の処理液の処理槽4への供給を
停止させる。On the other hand, the controller 30 controls the processing liquid supply path 28
Then, the processing liquid supply valve V interposed is opened, and the supply of the processing liquid in the mixing tank 3 to the processing tank 4 is started. In the processing tank 4, the supplied processing liquid accumulates and eventually overflows. The processing is performed on the wafer W in such a state.
Thereafter, at an arbitrary timing when the processing on the wafer W should be terminated, the processing liquid supply valve V interposed in the processing liquid supply path 28 is closed to supply the processing liquid in the mixing tank 3 to the processing tank 4. Stop.
【0038】以上のようにこの実施形態によれば、純水
秤量槽2に純水が第1の貯留量だけ溜まった後において
も、純水取出路22、純水吐出路23および純水秤量槽
2内において純水を常に循環させているから、純水取出
路22、純水吐出路23および純水秤量槽2内の純水を
新鮮に保つことができ、その結果純水秤量槽2内などに
おけるバクテリアの発生を防止できる。しかも、純水を
調合槽3に供給している間においても、純水循環路を用
いて純水取出路22内に純水が滞留するのを防止してい
るから、純水取出路22内におけるバクテリアの発生を
一層確実に防止できる。したがって、純水の汚染を防止
できるから、処理液の汚染も防止でき、ひいては、ウエ
ハWの汚染も防止できる。そのため、高品質なウエハW
を提供することができる。As described above, according to this embodiment, even after pure water has accumulated in the pure water weighing tank 2 by the first storage amount, the pure water discharge path 22, the pure water discharge path 23, and the pure water Since pure water is constantly circulated in the tank 2, the pure water in the pure water discharge path 22, the pure water discharge path 23, and the pure water in the pure water weighing tank 2 can be kept fresh. Bacteria can be prevented from being generated inside and the like. Moreover, even while pure water is being supplied to the mixing tank 3, the pure water circulation path is used to prevent the pure water from staying in the pure water extraction path 22. Can be more reliably prevented from occurring. Therefore, the contamination of the pure water can be prevented, so that the contamination of the processing liquid can be prevented, and the contamination of the wafer W can be prevented. Therefore, high quality wafer W
Can be provided.
【0039】また、純水秤量槽2に純水を貯留する場合
には、第2の流量の純水を一気に純水秤量槽2に導く一
方、純水を純水循環路24やオーバーフロー排出路26
により循環させる場合には、第2の流量よりも少ない第
1の流量の純水が流通するようにしているから、迅速な
純水供給を実現することができるとともに、純水供給源
21の駆動源に過度な負担をかけずに済む。When pure water is stored in the pure water weighing tank 2, the second flow of pure water is introduced into the pure water weighing tank 2 at once, while the pure water is introduced into the pure water circulation path 24 and the overflow discharge path. 26
In the case of circulating the pure water, since pure water having a first flow rate smaller than the second flow rate is made to flow, it is possible to realize a quick pure water supply and to drive the pure water supply source 21. The source is not overburdened.
【0040】なお、上述の説明では、純水を純水循環路
24やオーバーフロー排出路26により循環させること
によって純水の滞留を防止するようにしているが、たと
えば純水を装置外に排出するようにしてもよい。この場
合、上述のように少量の純水が流れる構成であれば、排
出される純水を最小限に抑えることができるから、純水
の節約につながる。ただし、純水を排出させずに循環さ
せる方が純水の節約につながることは言うまでもない。In the above description, the pure water is circulated through the pure water circulation path 24 and the overflow discharge path 26 to prevent the pure water from staying. For example, the pure water is discharged outside the apparatus. You may do so. In this case, if a configuration in which a small amount of pure water flows as described above, the discharged pure water can be minimized, which leads to saving of pure water. However, it goes without saying that circulating pure water without discharging it leads to saving of pure water.
【0041】本発明の実施の一形態の説明は以上のとお
りであるが、本発明は上述の実施形態に限定されるもの
ではない。たとえば上記実施形態では、連絡弁VTW、
流通調整弁VVWおよび純水供給弁VSWとしてそれぞ
れ別個の部品を用いているが、たとえば1つの弁によっ
てこれらの機能を兼用するようにしてもよい。この構成
によれば、部品点数を削減できるから、部品コストの低
減につながる。また、管の接続工数が削減されるから、
接続作業が簡単になる。The description of one embodiment of the present invention is as described above, but the present invention is not limited to the above embodiment. For example, in the above embodiment, the communication valve VTW,
Although separate components are used as the flow control valve VVW and the pure water supply valve VSW, for example, one valve may be used for these functions. According to this configuration, the number of components can be reduced, which leads to a reduction in component costs. Also, since the number of pipe connection steps is reduced,
Connection work is simplified.
【0042】また、上記実施形態では、純水を調合槽3
に供給している間においても、純水循環路24に純水を
導くことによって純水取出路22内に純水が滞留するの
を防止するようにしている。しかし、純水を調合槽3に
供給している時間はそれほど長くなく、したがって、条
件によってはバクテリアの発生が起こらない場合もあり
得る。そこで、純水循環路24を設けないようにしても
よい。この場合、純水供給弁VSWを三方弁にする必要
はなく二方弁でよいから、構成が簡単になり、部品コス
トを低減できる。In the above embodiment, pure water is supplied to the mixing tank 3.
During the supply of pure water, pure water is guided to the pure water circulation path 24 to prevent the pure water from staying in the pure water extraction path 22. However, the time during which the pure water is supplied to the preparation tank 3 is not so long, and therefore, depending on the conditions, the generation of bacteria may not occur. Therefore, the pure water circulation path 24 may not be provided. In this case, since the pure water supply valve VSW does not need to be a three-way valve and may be a two-way valve, the configuration is simplified and the cost of parts can be reduced.
【0043】さらに、上記実施形態では、純水の滞留を
防止するために供給される純水の流量を少なくしている
が、たとえば純水供給源21の駆動源として十分な性能
を有するものを用いることができる場合には、当該純水
の流量を通常の第2の流量に増加させても特に問題はな
い。したがって、このような場合には、連絡弁VTWお
よび流量調整弁VVWを設けないようにしてもよい。こ
の構成によれば、部品点数が少なくなるから、部品コス
トが低下する。Further, in the above-described embodiment, the flow rate of pure water supplied is reduced in order to prevent stagnation of pure water. If it can be used, there is no particular problem even if the flow rate of the pure water is increased to the normal second flow rate. Therefore, in such a case, the communication valve VTW and the flow control valve VVW may not be provided. According to this configuration, since the number of parts is reduced, the cost of parts is reduced.
【0044】さらにまた、上記実施形態では、純水取出
路22の途中部に連絡弁VTWを介装し、さらに連絡弁
VTWの上流側および下流側に両端が接続されたバイパ
ス路25を設け、連絡弁VTWの開閉を制御することに
よって純水秤量槽2への純水の流量を第1の流量と第2
の流量とに切り換えるようにしている。しかし、このよ
うな構成に代えて、たとえば、流量調整機能付きの弁を
純水取出路22の途中部に介装するようにしてもよい。Further, in the above-described embodiment, the communication valve VTW is interposed in the middle of the pure water discharge path 22, and the bypass path 25 having both ends connected upstream and downstream of the communication valve VTW is provided. By controlling the opening and closing of the communication valve VTW, the flow rate of pure water to the pure water weighing tank 2 can be controlled by the first flow rate and the second flow rate.
The flow rate is switched to However, instead of such a configuration, for example, a valve with a flow rate adjusting function may be interposed in the middle of the pure water discharge passage 22.
【0045】流量調整機能付きの弁としては、たとえ
ば、純水取出路22を流通する純水の流量が第1の流量
および第2の流量となるように、開度を調整することが
できるものが考えられる。また、たとえば純水取出路2
2を第2の流量の純水が流通できるものとし、この純水
取出路22に第1の流量の純水が流通できる別の経路を
接続した場合において、これらの経路を切り換える機能
を有するものが考えられる。As a valve with a flow rate adjusting function, for example, a valve whose opening degree can be adjusted so that the flow rate of pure water flowing through the pure water discharge passage 22 becomes the first flow rate and the second flow rate. Can be considered. In addition, for example, the pure water discharge path 2
2 has a function of switching these paths when another path through which pure water of the first flow rate can be connected is connected to the pure water extraction path 22. Can be considered.
【0046】さらにまた、上記実施形態では、ウエハW
を処理液に浸漬させて処理する装置に本発明を適用する
場合について説明しているが、本発明は、薬液と純水と
を混合して処理液を調合し、この調合された処理液を用
いてウエハWを処理する装置であれば適用することがで
きる。たとえばウエハWを回転チャックによってチャッ
クして高速回転させ、その一方で処理液をノズルからウ
エハWの表面に向けて処理する装置に対しても、本発明
を適用することができる。Further, in the above embodiment, the wafer W
Although the present invention is applied to an apparatus that performs treatment by immersing the processing liquid in a processing liquid, the present invention mixes a chemical liquid and pure water to prepare a processing liquid, and then prepares the prepared processing liquid. The present invention can be applied to any apparatus that processes a wafer W by using the apparatus. For example, the present invention can be applied to an apparatus that chucks a wafer W with a rotary chuck and rotates the wafer W at a high speed, and on the other hand, processes a processing liquid from a nozzle toward the surface of the wafer W.
【0047】さらに、上記実施形態では、ウエハWを処
理する装置に本発明を適用する場合について説明してい
るが、たとえば液晶表示装置用ガラス基板やPDP用ガ
ラス基板を処理する装置についても、本発明を適用する
ことができる。その他、特許請求の範囲に記載された範
囲で種々の設計変更を施すことが可能である。Further, in the above embodiment, the case where the present invention is applied to an apparatus for processing a wafer W is described. However, for example, an apparatus for processing a glass substrate for a liquid crystal display device or a PDP glass substrate is also described. The invention can be applied. In addition, it is possible to make various design changes within the scope described in the claims.
【図1】本発明の一実施形態の基板処理装置であるウエ
ハ処理装置の構成を示す概念図である。FIG. 1 is a conceptual diagram illustrating a configuration of a wafer processing apparatus that is a substrate processing apparatus according to an embodiment of the present invention.
【図2】ウエハ洗浄装置の主要な電気的構成を示すブロ
ック図である。FIG. 2 is a block diagram showing a main electrical configuration of the wafer cleaning apparatus.
【図3】処理液調合処理について説明するためのフロー
チャートである。FIG. 3 is a flowchart illustrating a processing liquid preparation process.
【図4】従来のウエハ処理装置の構成を示す概念図であ
る。FIG. 4 is a conceptual diagram showing a configuration of a conventional wafer processing apparatus.
1 薬液秤量槽 2 純水秤量槽 3 調合槽 12 薬液流出路 20 純水供給機構(純水供給手段) 21 純水供給源 22 純水取出路(純水供給路) 23 純水吐出路(純水供給路) 24 純水循環路 25 バイパス路(純水流量調節手段) 26 オーバーフロー排出路 27 純水流出路 30 制御部 VOC 薬液流出弁 VSW 純水供給弁 VTW 連絡弁(純水供給量調節手段) VVW 流量調整弁(純水流量調節手段) VOW 純水流出弁 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Chemical solution measuring tank 2 Pure water measuring tank 3 Mixing tank 12 Chemical solution outflow path 20 Pure water supply mechanism (pure water supply means) 21 Pure water supply source 22 Pure water extraction path (pure water supply path) 23 Pure water discharge path (pure (Water supply path) 24 Pure water circulation path 25 Bypass path (Pure water flow rate control means) 26 Overflow discharge path 27 Pure water outflow path 30 Control unit VOC Chemical liquid discharge valve VSW Pure water supply valve VTW Communication valve (Pure water supply amount control means) ) VVW flow control valve (pure water flow control means) VOW pure water outflow valve
Claims (4)
秤量槽と、 第2の貯留量の純水を貯留するための純水秤量槽と、 上記薬液および純水を混合させ、基板処理に必要な処理
液を調合するための調合槽と、 開成/閉成可能な薬液流通弁を介して上記薬液秤量槽と
上記調合槽とを接続する薬液流出路と、 開成/閉成可能な純水流通弁を介して上記純水秤量槽と
上記調合槽とを接続する純水流出路と、 上記純水流出弁が閉成されている場合に、上記純水秤量
槽に純水を供給し、上記純水秤量槽における貯留量が上
記第2の貯留量に達してもさらに供給を継続する純水供
給手段と、 純水秤量槽に貯留されている純水が第2の貯留量を超え
たときに、純水秤量槽内の純水を純水秤量槽外に排出さ
せるためのオーバーフロー排出路と含むことを特徴とす
る基板処理装置。1. A chemical liquid weighing tank for storing a first storage amount of a chemical liquid, a pure water weighing tank for storing a second storage amount of pure water, mixing the chemical liquid and pure water, A preparation tank for preparing a processing liquid necessary for substrate processing, a chemical solution outflow path connecting the above-mentioned chemical weighing tank and the above-mentioned preparation tank via a chemical liquid flow valve that can be opened / closed, A pure water outflow path connecting the pure water weighing tank and the mixing tank via a pure water flow valve, and when the pure water outflow valve is closed, pure water is supplied to the pure water weighing tank. A pure water supply means for supplying and continuing to supply even when the storage amount in the pure water weighing tank reaches the second storage amount, and a pure water stored in the pure water weighing tank for the second storage amount. It includes an overflow discharge path for discharging the pure water in the pure water weighing tank out of the pure water weighing tank when it exceeds The substrate processing apparatus according to.
純水秤量槽とを接続する純水供給路と、 上記純水供給源から上記純水供給路を介して上記純水秤
量槽に供給される純水の流量を、第1の流量と、この第
1の流量よりも多い第2の流量とに切り換えるための純
水流量調節手段と、 上記純水秤量槽に貯留されている純水が上記第2の貯留
量に達する以前においては、上記純水の流量が上記第2
の流量になるように上記純水流量調節手段を制御し、上
記純水秤量槽に貯留されている純水が上記第2の貯留量
に達した場合には、上記純水の流量が上記第1の流量に
なるように上記純水流量調節手段を制御する制御手段と
を含むものであることを特徴とする請求項1記載の基板
処理装置。2. The pure water supply means for connecting a pure water supply source and the pure water weighing tank via a pure water supply valve that can be opened / closed, and a pure water supply source. Pure water flow rate for switching the pure water flow rate supplied to the pure water weighing tank through the pure water supply path between a first flow rate and a second flow rate larger than the first flow rate Adjusting means, and before the pure water stored in the pure water weighing tank reaches the second storage amount, the flow rate of the pure water is the second flow rate.
Controlling the pure water flow rate adjusting means so that the pure water stored in the pure water weighing tank reaches the second storage amount. 2. A substrate processing apparatus according to claim 1, further comprising control means for controlling said pure water flow rate adjusting means so that said flow rate becomes 1.
と、 この連絡弁の上流側および下流側において、上記純水供
給路に両端が接続されたバイパス路と、 このバイパス路に介装され、バイパス路を流通する純水
の流量を調節する流量調節弁とを含み、 上記制御手段は、上記連絡弁の開閉を制御することによ
り、上記純水秤量槽に供給される純水の流量を上記第1
の流量と上記第2の流量とに切り換えるものであること
を特徴とする請求項2記載の基板処理装置。3. The pure water flow control means is interposed in the pure water supply path and can be opened / closed. The pure water supply path is connected to the pure water supply path upstream and downstream of the communication valve. A bypass passage having both ends connected thereto, and a flow control valve interposed in the bypass passage and controlling a flow rate of pure water flowing through the bypass passage, wherein the control means controls opening and closing of the communication valve. By the above, the flow rate of pure water supplied to the pure water weighing tank is controlled by the first
3. The substrate processing apparatus according to claim 2, wherein the flow rate is switched between the first flow rate and the second flow rate.
する純水循環路をさらに含み、 上記純水供給弁は、上記純水供給源から供給される純水
を上記純水秤量槽および純水循環路に選択的に導くこと
ができるものであることを特徴とする請求項2または請
求項3記載の基板処理装置。4. The pure water supply valve further includes a pure water circulation path connecting the pure water supply valve to the pure water supply source, wherein the pure water supply valve supplies pure water supplied from the pure water supply source to the pure water supply path. 4. The substrate processing apparatus according to claim 2, wherein the substrate processing apparatus can be selectively guided to a weighing tank and a pure water circulation path.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP10973197A JPH10303163A (en) | 1997-04-25 | 1997-04-25 | Substrate treating device |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP10973197A JPH10303163A (en) | 1997-04-25 | 1997-04-25 | Substrate treating device |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH10303163A true JPH10303163A (en) | 1998-11-13 |
Family
ID=14517821
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP10973197A Abandoned JPH10303163A (en) | 1997-04-25 | 1997-04-25 | Substrate treating device |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH10303163A (en) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008118026A (en) * | 2006-11-07 | 2008-05-22 | Tokyo Electron Ltd | Processing system and processing method |
JP2011035128A (en) * | 2009-07-31 | 2011-02-17 | Tokyo Electron Ltd | Liquid processing apparatus, liquid processing method, program, and program, storage medium |
US8950414B2 (en) | 2009-07-31 | 2015-02-10 | Tokyo Electron Limited | Liquid processing apparatus, liquid processing method, and storage medium |
-
1997
- 1997-04-25 JP JP10973197A patent/JPH10303163A/en not_active Abandoned
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008118026A (en) * | 2006-11-07 | 2008-05-22 | Tokyo Electron Ltd | Processing system and processing method |
JP2011035128A (en) * | 2009-07-31 | 2011-02-17 | Tokyo Electron Ltd | Liquid processing apparatus, liquid processing method, program, and program, storage medium |
US8950414B2 (en) | 2009-07-31 | 2015-02-10 | Tokyo Electron Limited | Liquid processing apparatus, liquid processing method, and storage medium |
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