KR20090059699A - Apparatus for supplying a liquid - Google Patents

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Abstract

An apparatus for supplying a liquid is provided to suppress the outflow of the liquid with a bubble by outputting the liquid from a pump to a tank by removing the bubble through a bubble removing unit. A tank(110) receives a liquid for processing a substrate and a first valve(115) connected to the air. A pump(130) is adjacent to the tank and supplies the liquid to the substrate. A bubble removing unit is connected to the pump and removes the bubble remaining inside the pump. A circulation line(170) connects the pump and the tank mutually. A sensing member(160) is connected to the circulation line and opens or closes the first valve by sensing the fluid pressure of the liquid flowing inside the circulation line. A drain line connects a drain unit and the pump mutually.

Description

약액 공급 장치{APPARATUS FOR SUPPLYING A LIQUID}Chemical solution supply unit {APPARATUS FOR SUPPLYING A LIQUID}

본 발명은 약액 공급 장치에 관한 것이다. 보다 상세하게는 본 발명은 세정액, 식각액 또는 감광액 등과 같은 약액을 기판에 공급하는 약액 공급 장치에 관한 것이다. The present invention relates to a chemical liquid supply device. More specifically, the present invention relates to a chemical liquid supply device for supplying a chemical liquid such as a cleaning liquid, an etching liquid or a photosensitive liquid to a substrate.

일반적으로, 웨이퍼 또는 액정표시장치의 표시패널에 채용되는 표시 기판의 제조공정은 웨이퍼 또는 유리 기판에 박막을 입히는 박막 공정, 상기 박막을 원하는 패턴으로 형성하기 위한 포토리소그래피 공정 및 상기 패턴에 따라 상기 박막을 식각하기 위한 식각 공정 등으로 세분화될 수 있다. 상기 공정들이 반복적으로 수행됨으로써 반도체 기판 또는 표시패널에 채용되는 박막트랜지스터 기판 및 컬러필터 기판이 제조될 수 있다.In general, a manufacturing process of a display substrate employed in a display panel of a wafer or a liquid crystal display device includes a thin film process for coating a thin film on a wafer or a glass substrate, a photolithography process for forming the thin film in a desired pattern, and the thin film according to the pattern. It may be subdivided into an etching process for etching. By repeatedly performing the above processes, a thin film transistor substrate and a color filter substrate employed in a semiconductor substrate or a display panel may be manufactured.

상기 포토리소그래피 공정에 사용되는 포토레지스트 도포 장치는 포토레지스트 공급원에 연결된 노즐을 통해서 포토레지스트 용액을 분사하여 로딩된 웨이퍼 표면에 도포한다. 분사된 포토레지스트 용액은 일정 시간이 경과하면 경화되고, 웨이퍼는 언로딩되어 후속 공정으로 전달된다.The photoresist application apparatus used in the photolithography process sprays a photoresist solution through a nozzle connected to a photoresist source and applies it to the loaded wafer surface. The sprayed photoresist solution is cured after a certain time, and the wafer is unloaded and transferred to a subsequent process.

상기 포토리소그래피 공정 중 웨이퍼 상에 포토레지스트 약액을 코팅하는 공 정에는 포토레지스트 약액이 사용된다. 그리고, 포토레지스트 코팅 공정 보통 웨이퍼를 고속으로 회전시키면서 웨이퍼 상에 포토레지스트 약액을 분사하는 스핀 코터에 의해 진행된다. Photoresist chemicals are used in the process of coating the photoresist chemicals on the wafer during the photolithography process. The photoresist coating process is usually performed by a spin coater that sprays the photoresist chemical on the wafer while rotating the wafer at high speed.

도 1은 종래의 스핀 코터의 약액 공급 유닛에 개략적인 구성도이다. 1 is a schematic configuration diagram of a chemical liquid supply unit of a conventional spin coater.

도 1을 참조하면, 종래의 약액 공급 유닛(10)은 저장 용기(미도시), 탱크(11), 펌프(13) 및 드레인부(15)를 포함한다.Referring to FIG. 1, a conventional chemical liquid supply unit 10 includes a storage container (not shown), a tank 11, a pump 13, and a drain portion 15.

상기 저장 용기는 포토레지스트 약액을 수용한다. 탱크(11)는 상기 저장 용기에 채워진 포토레지스트 약액이 공정에 사용되도록 임시적으로 저장하고 포토레지스트 약액에 포함된 기포를 제거한다. 펌프(13)는 탱크(11)로부터 포토레지스트 약액을 기판으로 제공하기 위하여 상기 포토레지스트 약액을 펌핑한다. 드레인부(15)는 펌프와 연결되며, 펌프 내부에서 잔류하는 기포를 제거한다. 이는, 포토레지스트 약액에 기포가 발생하여 기포가 포함된 포토레지스트 약액이 기판으로 공급될 경우 포토레지스트 코팅 불량을 유발시킨다. The storage container contains a photoresist chemical liquid. The tank 11 temporarily stores the photoresist chemical liquid filled in the storage container for use in the process and removes bubbles contained in the photoresist chemical liquid. The pump 13 pumps the photoresist chemical liquid from the tank 11 to provide the photoresist chemical liquid to the substrate. The drain part 15 is connected to the pump and removes bubbles remaining in the pump. This causes bubbles in the photoresist chemical liquid and causes a photoresist coating defect when the photoresist chemical liquid containing bubbles is supplied to the substrate.

한편, 약액 공급 유닛(10)은 탱크(11)와 펌프(11)를 상호 연결시키는 공급 라인(12) 및 펌프(13)와 드레인부(15)를 상호 연결시키는 배기 라인(14)을 더 포함한다. 상기 배기 라인(14)을 통하여 펌프(13) 내부의 기포가 드레인부(15)로 이동한다.Meanwhile, the chemical liquid supply unit 10 further includes a supply line 12 interconnecting the tank 11 and the pump 11, and an exhaust line 14 interconnecting the pump 13 and the drain portion 15. do. The bubbles in the pump 13 move to the drain portion 15 through the exhaust line 14.

하지만, 펌프(13) 내부에 흐르는 포토레지스트 약액을 제거하기 위하여 배기 라인(14)을 통하여 기포가 토출될 때 포토레지스트 약액도 함께 토출되어 드레인부로 유동한다. 따라서 기포뿐만 아니라 포토레지스트 약액이 함께 드레인부로 유동 함에 따라 포토레지스트 약액의 낭비가 발생한다.However, when bubbles are discharged through the exhaust line 14 to remove the photoresist chemical liquid flowing in the pump 13, the photoresist chemical liquid is also discharged and flows to the drain portion. Therefore, as the photoresist chemical liquid as well as the bubble flows to the drain portion, waste of the photoresist chemical liquid occurs.

따라서, 본 발명은 이와 같은 문제점을 감안한 것으로써, 본 발명의 목적은 약액의 낭비를 억제하면서 동시에 약액 내부의 기포를 제거할 수 있는 약액 공급 장치를 제공하는 것이다. Accordingly, the present invention has been made in view of such a problem, and an object of the present invention is to provide a chemical liquid supply apparatus capable of suppressing waste of chemical liquid and at the same time removing bubbles in the chemical liquid.

상술한 본 발명의 목적을 달성하기 위하여, 본 발명의 일 실시예에 따른 약액 공급 장치는 기판 처리용 약액을 수용하고 대기와 연통된 제1 밸브를 갖는 탱크, 상기 탱크와 인접하며 상기 약액을 상기 기판으로 공급하는 펌프, 상기 펌프와 연결되며 상기 펌프 내부에 잔류하는 기포를 제거하는 기포 제거 유닛, 상기 펌프와 상기 탱크를 상호 연결시키며 상기 펌프와 상기 탱크 사이에 상기 약액이 순환하는 순환 라인 및 상기 순환 라인에 체결되어, 상기 순환 라인의 내부에 흐르는 상기 약액의 유체 압력을 감지하여 상기 제1 밸브를 개폐하는 감지 부재를 포함한다. In order to achieve the above object of the present invention, a chemical liquid supply apparatus according to an embodiment of the present invention is a tank for receiving a chemical liquid for substrate processing and having a first valve in communication with the atmosphere, adjacent to the tank and the chemical liquid is A pump for supplying a substrate, a bubble removing unit connected to the pump and removing bubbles remaining in the pump, a circulation line interconnecting the pump and the tank and circulating the chemical liquid between the pump and the tank; And a sensing member coupled to a circulation line to sense the fluid pressure of the chemical liquid flowing in the circulation line to open and close the first valve.

본 발명의 일 실시예에 있어서, 약액 공급 장치는 상기 감지 부재와 전기적으로 연결되며, 상기 유체 압력에 따라 상기 제1 밸브를 개폐시키기 위한 제어 신호를 발생하는 제어부를 더 포함할 수 있다.In one embodiment of the present invention, the chemical liquid supply apparatus may further include a controller electrically connected to the sensing member and generating a control signal for opening and closing the first valve according to the fluid pressure.

본 발명의 일 실시예에 있어서, 상기 감지 부재는 감압변 센서를 포함할 수 있다.In one embodiment of the present invention, the sensing member may include a pressure-sensitive valve.

본 발명의 일 실시예에 있어서, 상기 기포 제거 유닛은 상기 기포를 제거하 는 드레인부, 상기 드레인부와 상기 펌프를 상호 연결시키는 배기 라인 및 상기 배기 라인에 체결되며, 상기 기포를 주기적으로 제거하기 위하여 상기 배기 라인을 개폐하는 제2 밸브를 포함할 수 있다.In one embodiment of the present invention, the bubble removing unit is coupled to the drain line for removing the bubbles, the exhaust line for interconnecting the drain portion and the pump and the exhaust line, to periodically remove the bubbles It may include a second valve for opening and closing the exhaust line for.

이러한 본 발명의 약액 공급 장치에 따르면, 기포 제거 유닛이 기포를 제거할 경우 탱크의 내부 압력을 감소시켜 펌프로부터 탱크로 약액이 유출되도록 함으로써 기포와 함께 약액이 유출되는 것이 억제된다. 또한, 순환 라인이 펌프와 탱크 사이에 배치되어 약액이 순환하여 균일하게 혼합된 약액이 기판으로 제공될 수 있다. According to the chemical liquid supply apparatus of the present invention, when the bubble removing unit removes bubbles, the chemical liquid flows out with the bubbles by suppressing the internal pressure of the tank so that the chemical liquid flows from the pump to the tank. In addition, a circulation line may be disposed between the pump and the tank so that the chemical liquid is circulated to provide a uniformly mixed chemical liquid to the substrate.

첨부한 도면을 참조하여 본 발명의 실시예에 따른 약액 공급 장치에 대해 상세히 설명한다. 본 발명은 다양한 변경을 가할 수 있고 여러 가지 형태를 가질 수 있는 바, 특정 실시예들을 도면에 예시하고 본문에 상세하게 설명하고자 한다. 그러나, 이는 본 발명을 특정한 개시 형태에 대해 한정하려는 것이 아니며, 본 발명의 사상 및 기술 범위에 포함되는 모든 변경, 균등물 내지 대체물을 포함하는 것으로 이해되어야 한다. 각 도면을 설명하면서 유사한 참조부호를 유사한 구성요소에 대해 사용하였다. 첨부된 도면에 있어서, 구조물들의 치수는 본 발명의 명확성을 기하기 위하여 실제보다 확대하거나, 개략적인 구성을 이해하기 위하여 실제보다 축소하여 도시한 것이다. With reference to the accompanying drawings will be described in detail the chemical liquid supply apparatus according to an embodiment of the present invention. As the inventive concept allows for various changes and numerous embodiments, particular embodiments will be illustrated in the drawings and described in detail in the text. However, this is not intended to limit the present invention to the specific disclosed form, it should be understood to include all modifications, equivalents, and substitutes included in the spirit and scope of the present invention. In describing the drawings, similar reference numerals are used for similar elements. In the accompanying drawings, the dimensions of the structure is shown to be larger than the actual size for clarity of the invention, or to reduce the actual size to understand the schematic configuration.

또한, 제1 및 제2 등의 용어는 다양한 구성요소들을 설명하는데 사용될 수 있지만, 상기 구성요소들은 상기 용어들에 의해 한정되어서는 안 된다. 상기 용어들은 하나의 구성요소를 다른 구성요소로부터 구별하는 목적으로만 사용된다. 예를 들어, 본 발명의 권리 범위를 벗어나지 않으면서 제1 구성요소는 제2 구성요소로 명명될 수 있고, 유사하게 제2 구성요소도 제1 구성요소로 명명될 수 있다. In addition, terms such as first and second may be used to describe various components, but the components should not be limited by the terms. The terms are used only for the purpose of distinguishing one component from another. For example, without departing from the scope of the present invention, the first component may be referred to as the second component, and similarly, the second component may also be referred to as the first component.

한편, 다르게 정의되지 않는 한, 기술적이거나 과학적인 용어를 포함해서 여기서 사용되는 모든 용어들은 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의해 일반적으로 이해되는 것과 동일한 의미를 가지고 있다. 일반적으로 사용되는 사전에 정의되어 있는 것과 같은 용어들은 관련 기술의 문맥 상 가지는 의미와 일치하는 의미를 가지는 것으로 해석되어야 하며, 본 출원에서 명백하게 정의하지 않는 한, 이상적이거나 과도하게 형식적인 의미로 해석되지 않는다. On the other hand, unless otherwise defined, all terms used herein, including technical or scientific terms, have the same meaning as commonly understood by one of ordinary skill in the art. Terms such as those defined in the commonly used dictionaries should be construed as having meanings consistent with the meanings in the context of the related art and shall not be construed in ideal or excessively formal meanings unless expressly defined in this application. Do not.

도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 약액 공급 장치를 설명하기 위한 구성도이다.Figure 2 is a block diagram for explaining a chemical liquid supply apparatus according to an embodiment of the present invention.

도 2를 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 약액 공급 장치(100)는 탱크(110), 펌프(130), 기포 제거 유닛(150), 순환 라인(150) 및 감지 부재(170)를 포함한다. 약액 공급 장치(10)가 공급하는 약액의 예로는, 포토레지스트, 세정액, 식각액 등을 들 수 있다. 약액 공급 장치(100)는 반도체 장치를 제조하는 반도체 제조 설비 및 표시 장치를 제조하는 표시 장치 제조 설비 등에 적용될 수 있다.Referring to FIG. 2, the chemical liquid supply apparatus 100 according to an exemplary embodiment may include a tank 110, a pump 130, a bubble removing unit 150, a circulation line 150, and a sensing member 170. Include. Examples of the chemical liquid supplied by the chemical liquid supply device 10 include a photoresist, a cleaning liquid, an etching liquid, and the like. The chemical liquid supply apparatus 100 may be applied to a semiconductor manufacturing facility for manufacturing a semiconductor device and a display device manufacturing facility for manufacturing a display device.

탱크(110)는 약액을 수용한다. 탱크(110)는 약액을 일시적으로 수용하는 트랩 탱크를 포함한다. 이와 다르게, 탱크(110)는 약액을 장시간 수용하는 저장조를 포함할 수 있다. 탱크(110)는 대기와 연통된 제1 밸브(115)를 포함한다. 제1 밸 브(115)에 관한 자세한 설명은 후술하기로 한다.Tank 110 receives the chemical liquid. The tank 110 includes a trap tank for temporarily receiving the chemical liquid. Alternatively, the tank 110 may include a storage tank for storing the chemical liquid for a long time. The tank 110 includes a first valve 115 in communication with the atmosphere. Detailed description of the first valve 115 will be described later.

펌프(130)는 탱크(110)와 인접하여 배치된다. 펌프(130)는 탱크(110)에 수용된 약액을 기판 상으로 제공한다. 펌프(130)는 탱크(110)와 연결시키는 공급 라인(120)을 포함한다. 펌프(130)는 공급 라인(120)을 통하여 탱크(110)에 수용된 약액을 기판으로 제공한다. 펌프(130)는 후술하는 제어부(180)로부터 구동 신호를 인가 받아 탱크(110)에 저장된 약액을 기판으로 제공할 수 있다.The pump 130 is disposed adjacent to the tank 110. The pump 130 provides the chemical liquid contained in the tank 110 onto the substrate. The pump 130 includes a supply line 120 that connects with the tank 110. The pump 130 provides the chemical liquid contained in the tank 110 through the supply line 120 to the substrate. The pump 130 may receive a driving signal from the controller 180 to be described later and provide the chemical liquid stored in the tank 110 to the substrate.

기포 제거 유닛(150)은 펌프(130)와 연결된다. 기포 제거 유닛(150)은 펌프(130) 내부에 잔류하는 기포를 제거한다. 보다 상세하게 설명하면, 기포 제거 유닛(150)은 펌프(130) 내부에 흐르는 약액에서 발생하는 기포를 제거한다. 기포 제거 유닛(150)은 약액에 내에 기포가 잔류할 경우 약액의 순도가 악화되어 약액을 이용하여 기판을 처리하는 공정에서 불량이 발생하는 것을 억제한다.The bubble removing unit 150 is connected with the pump 130. The bubble removing unit 150 removes bubbles remaining in the pump 130. In more detail, the bubble removing unit 150 removes bubbles generated from the chemical liquid flowing inside the pump 130. When bubbles remain in the chemical liquid, the bubble removing unit 150 suppresses the occurrence of defects in the process of treating the substrate using the chemical liquid because the purity of the chemical liquid is deteriorated.

기포 제거 유닛(150)은 드레인부(151), 배출 라인(153) 및 제2 밸브(155)를 포함한다.The bubble removing unit 150 includes a drain 151, a discharge line 153, and a second valve 155.

드레인부(151)는 펌프(130)와 인접하여 배치된다. 드레인부(151)는 펌프(130) 내부에 잔류하는 기포를 수집하여 외부로 배출할 수 있다. The drain 151 is disposed adjacent to the pump 130. The drain unit 151 may collect bubbles remaining in the pump 130 and discharge them to the outside.

배출 라인(153)은 드레인부(151)와 펌프(130) 사이에 배치된다. 배출 라인(153)은 드레인부(151)와 펌프(130)를 상호 연결시킨다. 배출 라인(153)을 통하여 펌프(130) 내부에 잔류하는 기포가 유동하여 드레인부(151)로 흐른다. The discharge line 153 is disposed between the drain 151 and the pump 130. The discharge line 153 interconnects the drain 151 and the pump 130. Bubbles remaining in the pump 130 flow through the discharge line 153 and flow to the drain portion 151.

제2 밸브(155)는 배출 라인(153)의 일 단부에 배치된다. 제2 밸브(155)는 배출 라인(153)을 개폐시킨다. 예를 들면, 제2 밸브(155)가 개방될 경우, 배출 라 인(153)을 통하여 기포 제거 유닛(150)이 펌프(130) 내부의 기포를 제거한다. 한편, 제2 밸브(155)가 폐쇄될 경우 펌프(130)는 후술하는 순환 라인(160)을 통하여 펌프(130)의 내부에 있는 약액을 순환시킨다. 제2 밸브(155)의 개폐는 주기적으로 행하여 질 수 있다. 제2 밸브(155)의 개폐 주기는 약액의 종류에 따라 조절될 수 있다. 예를 들면, 제2 밸브(155)는 솔레노이드 밸브를 포함할 수 있다.The second valve 155 is disposed at one end of the discharge line 153. The second valve 155 opens and closes the discharge line 153. For example, when the second valve 155 is opened, the bubble removing unit 150 removes bubbles in the pump 130 through the discharge line 153. On the other hand, when the second valve 155 is closed, the pump 130 circulates the chemical liquid in the pump 130 through the circulation line 160 to be described later. The opening and closing of the second valve 155 may be performed periodically. The opening and closing period of the second valve 155 may be adjusted according to the type of chemical liquid. For example, the second valve 155 may include a solenoid valve.

순환 라인(160)은 펌프(130)와 탱크(110) 사이에 배치된다. 순환 라인(160)은 펌프(130)와 탱크(110)를 상호 연결시킨다. 순환 라인(160)은 펌프(130)의 공급 라인(120)과 함께 펌프(130)와 탱크(110) 사이의 약액을 순환시킨다. 펌프(130)가 기판으로 약액 공급을 중단하고 있을 경우, 펌프(130) 내부에는 약액이 잔류할 수 있다. 펌프(130) 내부에 잔류하는 약액은 순환 라인(160) 및 공급 라인(120)을 통하여 순환한다. 따라서 펌프(130) 내부에 잔류하는 약액에 침전물이 발생하는 것이 억제되어 상기 약액이 균일하게 혼합된다.The circulation line 160 is disposed between the pump 130 and the tank 110. The circulation line 160 interconnects the pump 130 and the tank 110. The circulation line 160 circulates the chemical liquid between the pump 130 and the tank 110 together with the supply line 120 of the pump 130. When the pump 130 stops supplying the chemical liquid to the substrate, the chemical liquid may remain in the pump 130. The chemical liquid remaining inside the pump 130 circulates through the circulation line 160 and the supply line 120. Therefore, generation of precipitate in the chemical liquid remaining inside the pump 130 is suppressed, and the chemical liquid is uniformly mixed.

감지 부재(170)는 순환 라인(160)의 일측에 체결된다. 감지 부재(170)는 순환 라인(160)의 내부에 흐르는 약액의 유체 압력을 감지하여 탱크(110)의 제1 밸브(115)를 개폐시킨다. 예를 들면, 감지 부재(170)는 감압변 센서를 포함할 수 있다.The sensing member 170 is fastened to one side of the circulation line 160. The sensing member 170 detects the fluid pressure of the chemical liquid flowing in the circulation line 160 to open and close the first valve 115 of the tank 110. For example, the sensing member 170 may include a pressure sensitive sensor.

기포 제거 유닛(150)의 제2 밸브(155)가 개방될 경우, 기포 제거 유닛(150)은 배출 라인(153)을 통하여 펌프(130) 내부의 기포를 배출시켜 드레인부(151)에 기포를 수집한다. 이때 순환 라인(160)을 통하여 순환 중인 약액의 유체 압력이 감소한다. 감지 부재(170)는 감소된 유체 압력을 감지하고 감지된 유체 압력이 기준 값 이하의 유체 압력일 경우 탱크(110)의 제1 밸브(115)가 개방된다. 탱크(110)의 제1 밸브(115)가 개방될 경우, 탱크(110)의 내부의 압력이 하강한다. 이어서, 상대적의 높은 내부 압력을 갖는 펌프(130)로부터 약액이 순환 라인(170)을 통하여 탱크로 유입된다. 따라서 제2 밸브(155)가 개방되어 기포 제거 유닛(150)이 펌프(130) 내부의 기포를 제거할 경우 기포와 함께 약액이 드레인부(151)로 유출되지 않고 오히려 제1 밸브(115)가 개방됨에 따라 탱크(110) 내부의 내부 압력이 감소하여 약액이 펌프(130)에서부터 순환 라인(160)을 통하여 탱크(110)로 유입된다. 결과적으로 기포 제거 유닛(150)이 기포를 제거할 때 기포와 함께 약액이 유출되어는 것을 억제하여 약액의 낭비를 억제할 수 있다.When the second valve 155 of the bubble removing unit 150 is opened, the bubble removing unit 150 discharges the bubbles inside the pump 130 through the discharge line 153 to blow bubbles into the drain portion 151. Collect. At this time, the fluid pressure of the chemical liquid being circulated through the circulation line 160 decreases. The sensing member 170 senses the reduced fluid pressure and the first valve 115 of the tank 110 is opened when the sensed fluid pressure is a fluid pressure below the reference value. When the first valve 115 of the tank 110 is opened, the pressure inside the tank 110 drops. Subsequently, chemical liquid from the pump 130 having a relatively high internal pressure flows into the tank through the circulation line 170. Therefore, when the second valve 155 is opened and the bubble removing unit 150 removes the bubbles in the pump 130, the chemical liquid does not flow out to the drain portion 151 together with the bubbles, but rather the first valve 115 is closed. As it is opened, the internal pressure inside the tank 110 decreases so that the chemical liquid flows from the pump 130 into the tank 110 through the circulation line 160. As a result, when the bubble removing unit 150 removes the bubbles, it is possible to suppress the chemical liquid from flowing out together with the bubbles to suppress waste of the chemical liquid.

본 발명의 일 실시예에 있어서, 약액 공급 장치(100)는 제어부(180)를 더 포함할 수 있다. 제어부(180)는 감지 부재(170)와 전기적으로 연결된다. 제어부(180)는 감지 부재(170)가 감지한 유체 압력에 따라 제1 밸브(115)를 개폐시키기 위한 제어 신호를 발생한다. 예를 들면, 제어부(180)는 기준 압력과 감지 부재(170)가 감지한 유체 압력을 비교하여 그 값이 기준 압력의 값보다 낮을 경우 제어부(180)는 제1 밸브(115)에 제1 밸브(115)를 개방하는 제어 신호를 발생한다. 인가된 제어 신호에 따라 제1 밸브(115)가 개방된다.In one embodiment of the present invention, the chemical liquid supply apparatus 100 may further include a controller 180. The controller 180 is electrically connected to the sensing member 170. The controller 180 generates a control signal for opening and closing the first valve 115 according to the fluid pressure sensed by the sensing member 170. For example, the controller 180 compares the reference pressure with the fluid pressure sensed by the sensing member 170, and when the value is lower than the value of the reference pressure, the controller 180 controls the first valve 115 in the first valve. A control signal for opening 115 is generated. The first valve 115 is opened in accordance with the applied control signal.

앞서 설명한 본 발명의 상세한 설명에서는 본 발명의 바람직한 실시예들을 참조하여 설명하였지만, 해당 기술 분야의 숙련된 당업자 또는 해당 기술분야에 통상의 지식을 갖는 자라면 후술될 특허청구범위에 기재된 본 발명의 사상 및 기술 영역으로부터 벗어나지 않는 범위 내에서 본 발명을 다양하게 수정 및 변경시킬 수 있음을 이해할 수 있을 것이다. Although the detailed description of the present invention has been described with reference to the preferred embodiments of the present invention, those skilled in the art or those skilled in the art will have the idea of the present invention described in the claims to be described later. It will be understood that various modifications and variations can be made in the present invention without departing from the scope of the present invention.

이와 같은 본 발명에 따르면, 약액 공급 장치는 세정액을 이용하는 세정 장치, 식각액을 이용하는 식각 장치 및 포토레지스트를 기판으로 제공하는 스핀 코터 장치들에 적용될 수 있다. 또한, 약액 공급 장치는 반도체 제조 설비에 뿐만 아니라 유리 기판을 이용하여 표시 장치를 제조하는 표시 장치의 제조 설비에도 적용될 수 있음은 당업자라면 자명할 것이다.According to the present invention, the chemical liquid supply apparatus may be applied to a cleaning apparatus using a cleaning liquid, an etching apparatus using an etching liquid, and spin coater apparatuses providing a photoresist as a substrate. In addition, it will be apparent to those skilled in the art that the chemical liquid supply device can be applied not only to a semiconductor manufacturing facility but also to a manufacturing facility of a display device that manufactures a display device using a glass substrate.

도 1은 종래의 스핀 코터의 약액 공급 유닛에 개략적인 구성도이다. 1 is a schematic configuration diagram of a chemical liquid supply unit of a conventional spin coater.

도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 약액 공급 장치를 설명하기 위한 구성도이다.Figure 2 is a block diagram for explaining a chemical liquid supply apparatus according to an embodiment of the present invention.

<도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명><Explanation of symbols for the main parts of the drawings>

100 : 약액 공급 장치 110 : 탱크100: chemical supply device 110: tank

115 : 제1 밸브 120 : 공급 라인115: first valve 120: supply line

130 : 펌프 150 : 기포 제거 유닛130 pump 150 bubble removing unit

160 : 감지 부재 170 : 순환 라인160: sensing member 170: circulation line

Claims (4)

기판 처리용 약액을 수용하고 대기와 연통된 제1 밸브를 갖는 탱크;A tank containing a first liquid for processing the substrate and having a first valve in communication with the atmosphere; 상기 탱크와 인접하며 상기 약액을 상기 기판으로 공급하는 펌프;A pump adjacent the tank and supplying the chemical liquid to the substrate; 상기 펌프와 연결되며 상기 펌프 내부에 잔류하는 기포를 제거하는 기포 제거 유닛;A bubble removing unit connected to the pump and removing bubbles remaining in the pump; 상기 펌프와 상기 탱크를 상호 연결시키며 상기 펌프와 상기 탱크 사이에 상기 약액이 순환하는 순환 라인; 및A circulation line interconnecting the pump and the tank and circulating the chemical liquid between the pump and the tank; And 상기 순환 라인에 체결되어, 상기 순환 라인의 내부에 흐르는 상기 약액의 유체 압력을 감지하여 상기 제1 밸브를 개폐하는 감지 부재를 포함하는 약액 공급 장치.And a sensing member coupled to the circulation line to sense a fluid pressure of the chemical liquid flowing in the circulation line to open and close the first valve. 제 1 항에 있어서, 상기 감지 부재와 전기적으로 연결되며, 상기 유체 압력에 따라 상기 제1 밸브를 개폐시키기 위한 제어 신호를 발생하는 제어부를 더 포함하는 약액 공급 장치.The chemical liquid supply apparatus of claim 1, further comprising a controller electrically connected to the sensing member and generating a control signal for opening and closing the first valve according to the fluid pressure. 제 1 항에 있어서, 상기 감지 부재는 감압변 센서를 포함하는 것을 특징으로 하는 약액 공급 장치.The chemical liquid supply apparatus of claim 1, wherein the sensing member comprises a pressure reducing valve sensor. 제 1 항에 있어서, 상기 기포 제거 유닛은,The method of claim 1, wherein the bubble removing unit, 상기 기포를 제거하는 드레인부;A drain part for removing the bubbles; 상기 드레인부와 상기 펌프를 상호 연결시키는 배기 라인; 및An exhaust line interconnecting the drain portion and the pump; And 상기 배기 라인에 체결되며, 상기 기포를 주기적으로 제거하기 위하여 상기 배기 라인을 개폐하는 제2 밸브를 포함하는 것을 특징으로 하는 약액 공급 장치.And a second valve which is fastened to the exhaust line and opens and closes the exhaust line to periodically remove the bubbles.
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