KR20070048032A - Apparatus for controlling liquid and method therefor - Google Patents
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Abstract
발명은 액체 저장탱크내의 액체를 신속하게 배출시켜 작업대기시간을 단축시킬 수 있는 액체 제어장치 및 그 방법을 제공한다.The present invention provides a liquid control apparatus and method for reducing the waiting time by quickly discharging liquid in a liquid storage tank.
그 액체 제어장치는 하부에 배출관 및 드레인 밸브가 설치되며 액체를 저장하기 위한 저장탱크와, 저장탱크내의 액체를 공급하기 위해 저장탱크에 연결되며 액체의 공급을 제어하기 위한 제1밸브 및 제2밸브와 각각의 밸브 사이에 형성되는 액체 송출용 펌프가 설치되는 공급라인과, 저장탱크내의 액체를 순환시키기 위해 공급라인과 저장탱크에 연통하며 순환되는 액체를 제어하기 위한 제3밸브가 설치되는 순환라인과, 저장탱크내의 액체를 배출시키기 위해 공급라인과 저장탱크의 배출라인에 연통하며 배출되는 액체를 제어하기 위한 제4밸브가 설치되는 배출라인을 포함한다. The liquid control device is provided with a discharge pipe and a drain valve at a lower portion thereof, a storage tank for storing liquid, and a first valve and a second valve connected to the storage tank for supplying liquid in the storage tank and for controlling the supply of liquid. And a supply line in which a liquid delivery pump is formed between each valve and a circulation line in which a third valve is connected to the supply line and the storage tank to circulate the liquid in the storage tank and to control the circulated liquid. And a discharge line communicating with the supply line and the discharge line of the storage tank to discharge the liquid in the storage tank and having a fourth valve for controlling the discharged liquid.
액체, 저장탱크, 배출라인, 제어밸브, 펌프 Liquid, Storage Tank, Drain Line, Control Valve, Pump
Description
도 1은 일반적인 기판 처리장치를 보여주는 측면도.1 is a side view showing a general substrate processing apparatus.
도 2는 도 1에 적용되는 액체 제어장치의 개략적인 구성을 보여주는 구성도.2 is a block diagram showing a schematic configuration of a liquid control device applied to FIG.
도 3은 본 발명에 따른 액체 제어장치를 보여주는 구성도.3 is a block diagram showing a liquid control device according to the present invention.
도 4는 본 발명에 따른 액체 제어장치에 콘트롤러가 설치된 상태를 보여주는 구성도.Figure 4 is a block diagram showing a state in which the controller is installed in the liquid control apparatus according to the present invention.
도 5a 내지 도 5c는 본 발명에 따른 액체 제어장치에서의 액체처리 방법들을 각각 보여주는 순서도. 5a to 5c are flow charts respectively showing liquid treatment methods in the liquid control apparatus according to the present invention.
♣ 도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명 ♣ ♣ Explanation of symbols for the main parts of the drawing ♣
10: 저장탱크 12: 배출관 10: storage tank 12: discharge pipe
20: 공급라인 22: 제1밸브 20: supply line 22: first valve
24: 펌프 26: 제2밸브 24: pump 26: second valve
30: 순환라인 32: 제3밸브 30: circulation line 32: third valve
40: 배출라인 42: 제4밸브 40: discharge line 42: fourth valve
50: 콘트롤러 50: controller
본 발명은 기판 제조장치에서 다양한 약액 또는 세정액과 같은 액체를 저장, 순환, 공급 등을 행하는 액체 제어장치에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 액체의 배출을 신속하고 용이하게 행할 수 있어 대기시간을 단축시키고 생산성을 향상시킬 수 있는 액체 제어장치에 관한 것이며, 또한 그 액체를 공급, 순환 및 배출하기 위한 액체 제어방법에 관한 것이다. The present invention relates to a liquid control device for storing, circulating, and supplying liquids such as various chemical liquids or cleaning liquids in a substrate manufacturing apparatus, and more particularly, it is possible to discharge liquids quickly and easily, thereby reducing the waiting time. The present invention relates to a liquid control device capable of improving productivity, and also to a liquid control method for supplying, circulating and discharging the liquid.
일반적으로, 최근 영상을 표현하는 표시장치로서 액정디스플레이(LCD) 소자와 플라즈마 디스플레이 패널(PDP) 소자 등이 종래의 브라운관(CRT)을 빠른 속도로 대체하고 있으며, 이 같은 평판 디스플레이(FPD), 반도체 웨이퍼, LCD, 포토마스크용 글라스 등에 사용되는 기판은 일련의 공정라인을 거치면서 처리된다. 즉, 감광제 도포(Photo resist coating: P/R), 노광(Expose), 현상(Develop), 부식(Etching), 박리(Stripping), 세정(Cleaning), 건조(Dry) 등의 과정을 거치게 된다. 이러한 일련의 기판 처리공정은 통상적으로 기판을 이송시키기 위한 이송시스템과 연계됨으로써 기판의 공급, 처리, 배출의 과정이 하나의 순환 싸이클을 이루게 되며, 이러한 기판 이송시스템과 처리공정은 다양한 액체 등을 이용하여 기판을 처리하는 과정을 거치게 되며 각각의 공정들은 상호 연계되어 있다.In general, liquid crystal display (LCD) devices and plasma display panel (PDP) devices are rapidly replacing conventional CRTs as a display device for displaying a recent image, and such flat panel displays (FPD) and semiconductors are rapidly replaced. Substrates used in wafers, LCDs, and photomask glass are processed through a series of process lines. That is, photo resist coating (P / R), exposure, development, etching, stripping, cleaning, drying, and the like are performed. Such a series of substrate processing processes are typically associated with a transfer system for transferring substrates, so that the process of supplying, processing, and discharging substrates constitutes one circulation cycle. The substrate is processed, and the processes are interconnected.
이 같은 기판 제조공정 중 기판을 액체로 처리하는 공정은 도 1에 도시된 바와 같이, 기판(1)에 액체를 분사하여 처리하기 위한 챔버(2)를 구비한다. 챔버(2)의 내부에는 기판(1)을 이송 또는 반송하기 위한 반송롤러(3)가 설치되어 있다. 물 론, 반송롤러(3)의 일단은 챔버(1)의 일측부를 관통하여 외부로 돌출되어 액튜에이터(4)에 연결되어 있어, 액튜에이터가 구동되면 반송롤러(3)가 회전됨으로 인해 기판(1)이 이송 또는 반송되는 것이다.As shown in FIG. 1, a process of treating a substrate with a liquid in the substrate manufacturing process includes a chamber 2 for spraying and treating a liquid on the substrate 1. The
이와 같이 반송롤러(3)에 의해 기판(1)이 이송 또는 반송되는 중에 상부의 분사관(6) 또는 분사수단에 의해 액체가 분사되어 기판(1)을 액체 처리하게 되는 것이다. 또한, 이와 같이 분사되어 사용된 액체는 수집관(7)을 통해 저장탱크(8)로 수집되며, 다시 연속 반복적으로 분사관(6)을 통해 고급되는 과정을 거치게 된다.In this way, the liquid is ejected by the upper injection pipe 6 or the injection means while the substrate 1 is being transported or conveyed by the conveying
한편, 도 2에 도시된 바와 같이 액체 저장탱크(8)에는 그 액체 저장탱크(8)내의 액체를 안정화시키기 위해 자체적인 순환 및 이웃하는 저장탱크로의 액체의 이송 또는 분사관으로의 액체의 공급을 위해 이송라인(9)이 연통 설치되어 있다. 이송라인(9)에는 액체의 순환을 위한 펌프(9a)가 구비되어 있으며, 이송라인(9)에는 그 이송라인 전체의 액체의 배출을 제어하기 위한 제1밸브(9b)와, 이웃하는 저장탱크로의 액체의 이송 또는 분사관으로의 액체의 공급을 제어하기 위한 제2밸브(9c)와, 액체 저장탱크(8)자체로의 액체의 순환 및 공급을 제어하기 위한 제3밸브(9d)가 적소에 설치되어 있다. 물론, 액체 저장탱크(8)에는 적정량의 액체가 유지될 수 있도록 저수위 및 고수위를 감지할 수 있는 수위계(9e)가 설치되어 있다. Meanwhile, as shown in FIG. 2, the
이 같은 구성에 따라, 액체 저장탱크(8)내의 액체는 이송라인(9)에 설치된 펌프(9a) 및 각각의 밸브(9b, 9c, 9d)의 개폐작동에 의해 분사관, 이웃하는 액체 저장탱크, 저장탱크 내부로 액체를 공급하거나 순환시키는 것이다. According to such a configuration, the liquid in the
이에 본 발명은 상술된 문제점들을 해결하기 위해 발명된 것으로서, 본 발명의 목적은 액체 처리탱크내의 액체를 신속하게 배출시켜 작업대기시간을 단축시킬 수 있는 액체 제어장치를 제공하는데 있다.Accordingly, the present invention has been invented to solve the above problems, and an object of the present invention is to provide a liquid control device that can shorten the working waiting time by quickly discharging the liquid in the liquid processing tank.
본 발명의 다른 목적은 액체 저장탱크내의 액체를 자동으로 배출시킬 수 있는 액체 제어방법을 제공하는데 있다. Another object of the present invention is to provide a liquid control method capable of automatically discharging liquid in a liquid storage tank.
본 발명의 바람직한 실시예에 따른 액체 제어장치는, 하부에 배출관 및 드레인 밸브가 설치되며 액체를 저장하기 위한 저장탱크; 그 저장탱크내의 액체를 공급하기 위해 저장탱크에 연결되며, 액체의 공급을 제어하기 위한 제1밸브 및 제2밸브와 각각의 밸브 사이에 형성되는 액체 송출용 펌프가 설치되는 공급라인; 저장탱크내의 액체를 순환시키기 위해 공급라인과 저장탱크에 연통하며, 순환되는 액체를 제어하기 위한 제3밸브가 설치되는 순환라인; 및 저장탱크내의 액체를 배출시키기 위해 공급라인과 저장탱크의 배출라인에 연통하며, 배출되는 액체를 제어하기 위한 제4밸브가 설치되는 배출라인을 포함한다.Liquid control apparatus according to a preferred embodiment of the present invention, the discharge pipe and the drain valve is installed in the lower storage tank for storing the liquid; A supply line connected to the storage tank for supplying the liquid in the storage tank and having a liquid delivery pump formed between the first valve and the second valve and the respective valves for controlling the supply of the liquid; A circulation line communicating with the supply line and the storage tank to circulate the liquid in the storage tank, and having a third valve for controlling the circulated liquid; And a discharge line communicating with the supply line and the discharge line of the storage tank to discharge the liquid in the storage tank and having a fourth valve for controlling the discharged liquid.
이하, 본 발명에 따른 바람직한 실시예를 첨부도면을 참조로 하여 상세히 설명한다. Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.
도 3은 본 발명에 따른 액체 제어장치를 보여주는 구성도이며, 도 4는 본 방명에 따른 액체제어장치의 자동 및 제어구성을 보여주는 도면으로서 일부는 점선으로 도시된 구성도이다. Figure 3 is a block diagram showing a liquid control device according to the present invention, Figure 4 is a view showing the automatic and control configuration of the liquid control device according to the present invention, a part of the configuration shown in dashed lines.
도 3 및 도 4에 있어서, 본 발명에 따른 액체 제어장치는 기본적으로 세정 액, 현상액, 약액 등과 같은 다양한 액체를 저장 및 공급하기 위한 저장탱크(10)를 구비한다. 저장탱크(10)는 다양한 형태로 구상될 수 있으며, 배출관(12)이 연통 형성된다. 배출관(12)에는 드레인 밸브(12a)가 설치되며, 그 드레인 밸브(12a)는 전자식 개폐밸브로 형성되는 것이 바람직하다. 또한, 저장탱크(10)에는 적정량의 액체가 유지될 수 있도록 저수위 및 고수위를 감지할 수 있는 수위계(14)가 설치되어 있다.3 and 4, the liquid control apparatus according to the present invention basically includes a
저장탱크(10)의 대체로 하부 일측에는 저장탱크(10) 내의 액체를 이웃하는 저장탱크, 공급관 또는 자체 순환을 위해 공급하기 위한 공급라인(20)이 연통 형성된다. In general, a lower portion of the
그 공급라인(20)에는 수동 또는 자동으로 제어 또는 개폐할 수 있는 제1밸브(22)가 설치되어, 액체의 공급 또는 배출을 기본적으로 제어한다. The
그리고 공급라인(20)에는 실제로 액체를 송출시키기 위한 펌프(24)가 설치된다. 펌프(24)는 다양한 형태로 형성될 수 있으며, 특히 액체에 내성이 강한 재질로 형성된 펌프가 바람직하다.And the
또한 그 공급라인(20)에는 펌프(24)에 의해 송출되는 액체를 이웃하는 다른 하나의 액체 저장탱크 또는 분사관으로 이송되는 액체를 제어하기 위한 제2밸브(26)가 설치된다. 제2밸브(26)는 개폐밸브로 형성되며, 전자식 자동밸브로 형성되는 것이 바람직하다.In addition, the
한편, 공급라인(20)에는 저장탱크(10)내의 액체를 자체적으로 순환시키기 위한 순환라인(30)이 연결된다. 순환라인(30)의 일단부는 펌프(24) 이후의 공급라인 (20)부분에 연통하며 타단부는 저장탱크(10)의 연결되어 그 내부와 연통한다.On the other hand, the
순환라인(30)에는 그 순환라인(30)을 통해 이송되는 액체를 제어하기 위한 제3밸브(32)가 설치된다. 제3밸브(32)는 개폐밸브로 형성되며, 또한 전자식 자동밸브로 형성되는 것이 바람직하다.The
특히, 본 발명의 주요 특징에 따르면, 공급라인(20)에는 저장탱크(10)내의 액체를 교환하거나 배출시키기 위한 배출라인(40)이 연결된다. 배출라인(40)의 일단부는 펌프(24)이후의 공급라인(20) 부분에 연통하며 타단부는 저장탱크(10)의 하부에 연결된 배출관(12)에 연통한다.In particular, according to the main feature of the present invention, the
배출라인(40)에도 그 배출라인(40)을 통해 이송되는 액체를 제어하기 위한 제4밸브(42)가 설치된다. 제4밸브(42)는 개폐밸브로 형성되며, 또한 전자식 자동밸브로 형성되는 것이 바람직하다.The
한편, 전술된 바와 같은 각각의 구성요소 또는 작동요소, 즉 제1밸브(22), 펌프(24), 제2밸브(26), 제3밸브(32) 및 제4밸브(42)는 이들의 자동적인 제어를 위해 콘트롤러(50)에 연결된다.On the other hand, each component or operating element as described above, namely, the
콘트롤러(50)는 설정된 프로그램 또는 입력되는 명령에 따라 실행되어 각각의 펌프 및 각각의 밸브를 지동으로 제어하여, 액체의 공급, 순환 및 배출을 자동으로 실행할 수 있다.The
도 5a 내지 5c는 본 발명에 따른 액체 제어장치를 이용한 액체의 처리과정을 보여주는 순서도 이다.5a to 5c is a flow chart showing the process of the liquid using the liquid control device according to the present invention.
먼저, 도 5a에 의하면, 정상적인 상태에서 액체를 처리하는 공정을 보여주는 바, 먼저 저장탱크(10)에 액체가 충분히 저장되고 드레인 밸브(12a)가 폐쇄된 초기상태에서, 콘트롤러(50)는 공급라인(20)에 설치된 제1밸브(22) 및 제2밸브(26)를 개방하며, 순환라인(30)에 설치된 제3밸브(32)를 폐쇄하고, 또한 배출라인(40)에 설치된 제4밸브(42)를 폐쇄한 후, 펌프(24)를 작동시키면, 저장탱크(10)내의 액체는 공급라인(20)을 거쳐 이웃하는 다른 액체 저장탱크 또는 분사관으로 공급되는 것이다. First, according to FIG. 5A, a process of treating liquid in a normal state is shown. First, in the initial state in which the liquid is sufficiently stored in the
도 5b에 의하면, 액체의 자체적인 순환방식으로 보여주는 바, 먼저 전술된 바와 같은 액체 공급상태에서, 콘트롤러(50)는 공급라인(20)에 설치된 제1밸브(22)를 개방하는 반면 제2밸브(26)를 폐쇄하고, 순환라인(30)에 설치된 제3밸브(32)를 개방하고, 또한 배출라인(40)에 설치된 제4밸브(42)를 폐쇄상태로 유지한 상태에서, 펌프(24)를 작동시키면, 저장탱크(10)내의 액체는 순환라인(30)을 통해 이송되어 다시 저장탱크(10)의 상부로 유입되어 저장탱크(10)내의 액체가 순환되는 것이다. According to FIG. 5B, the liquid is circulated in a self-circulating manner. In the liquid supply state as described above, the
도 5c에 의하면, 액체의 교환 또는 배출을 위한 배출방식으로 보여주는 바, 먼저 전술된 바와 같은 초기상태, 액체 공급상태 또는 순환상태에서, 콘트롤러(50)는 저장탱크(10)의 배출관(12)에 설치된 드레인밸브(12a)를 개방하고, 공급라인(20)에 설치된 제1밸브(22)를 개방하는 반면 제2밸브(26)를 폐쇄하고, 순환라인(30)에 설치된 제3밸브(32)를 폐쇄하고, 특히 배출라인(40)에 설치된 제4밸브(42)를 개방한 상태에서, 펌프(24)를 작동시키면, 저장탱크(10)내의 액체는 배출라인(40)을 통해 이송되어 배출관(12)을 통해 외부로 또는 폐액체 탱크(미도시)로 배출 되어 처리되는 것이다.According to FIG. 5C, a discharge method for exchanging or discharging the liquid is shown. First, in the initial state, the liquid supply state, or the circulating state as described above, the
물론, 전술된 바와 같은 각각의 공정시 콘트롤러(50)는 수위계(14)를 통해 저장탱크(10)내의 액체의 양을 감지하여, 이에 대해 적절한 대처를 행할 수 있는 것으로서, 명확성을 위해 이에 대한 상세한 설명은 생략한다. Of course, in each process as described above, the
따라서 저장탱크내의 액체를 자동으로 공급 및 순환시킬 수 있음은 물론, 특히 신속하게 교환 및 배출시킬 수 있어 대기시간을 현저히 줄일 수 있는 것이다. Therefore, the liquid in the storage tank can be automatically supplied and circulated, as well as can be quickly exchanged and discharged in particular can significantly reduce the waiting time.
결과적으로, 본 발명에 따른 액체 제어장치에 의하면, 공급라인에 배출라인을 추가로 설치하고 이를 자동으로 제어할 수 있어 액체의 교환 및 배출을 신속하고 용이하게 행할 수 있으므로 작업 대기시간을 단축시킬 수 있어 생산성이 향상되는 효과가 있다. As a result, according to the liquid control apparatus according to the present invention, it is possible to further install the discharge line in the supply line and to control it automatically, so that it is possible to quickly and easily exchange and discharge the liquid, thereby reducing the work waiting time. There is an effect that the productivity is improved.
이상에서 본 발명에 따른 바람직한 실시예에 대해 설명하였으나, 본 기술분야의 당업자라면 첨부된 특허청구범위를 벗어남이 없이 다양한 변형예 및 수정예를 실시할 수 있을 것으로 이해된다. While a preferred embodiment according to the present invention has been described above, it will be understood by those skilled in the art that various modifications and changes can be made without departing from the scope of the appended claims.
Claims (6)
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Cited By (2)
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KR101048817B1 (en) * | 2008-11-14 | 2011-07-12 | 세메스 주식회사 | Chemical tank for substrate processing equipment |
CN102938385A (en) * | 2012-11-14 | 2013-02-20 | 北京七星华创电子股份有限公司 | Chemical liquor dispensing device |
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2005
- 2005-11-03 KR KR1020050105016A patent/KR20070048032A/en not_active Application Discontinuation
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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KR101048817B1 (en) * | 2008-11-14 | 2011-07-12 | 세메스 주식회사 | Chemical tank for substrate processing equipment |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
WITN | Withdrawal due to no request for examination |