JPH10303092A - 電子線描画装置 - Google Patents
電子線描画装置Info
- Publication number
- JPH10303092A JPH10303092A JP9105681A JP10568197A JPH10303092A JP H10303092 A JPH10303092 A JP H10303092A JP 9105681 A JP9105681 A JP 9105681A JP 10568197 A JP10568197 A JP 10568197A JP H10303092 A JPH10303092 A JP H10303092A
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- JP
- Japan
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- temperature
- electron beam
- sample stage
- wafer
- pallet
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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Abstract
(57)【要約】
【課題】高精度で高スループットが提供可能な電子線描
画装置用試料交換機能を提供する。 【解決手段】電子線描画装置の移動試料台を含むウエハ
搬送系の温度差を検知しウエハ搬送系を安価で効率的に
温度制御する。すなわち、ウエハ６や搬送パレット７の
温度変動をエアーロック交換機構で検知し搬送系の温度
制御や安定待ち等の描画制御を実施する。
画装置用試料交換機能を提供する。 【解決手段】電子線描画装置の移動試料台を含むウエハ
搬送系の温度差を検知しウエハ搬送系を安価で効率的に
温度制御する。すなわち、ウエハ６や搬送パレット７の
温度変動をエアーロック交換機構で検知し搬送系の温度
制御や安定待ち等の描画制御を実施する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は電子線描画装置に関
する。
する。
【０００２】
【従来の技術】近年、電子線描画装置はすぐれた微細加
工性と、一括露光法等の新技術開発により次世代のリソ
グラフィー装置として期待されている。そのため電子線
描画装置は特に露光パターンの下地への重ね合わせ等の
ビーム位置決めの高精度化が重要となる。種々の位置決
め誤差要因で考慮すべき点は描画試料の熱伸縮である。
例としてシリコンの熱膨張係数は〜４×１０~6／℃ｍで
１℃，１００mmで最悪は０.４ｕｍ の位置ずれを発生す
る。そのため高度で厳密な温度制御や管理が必要とな
る。
工性と、一括露光法等の新技術開発により次世代のリソ
グラフィー装置として期待されている。そのため電子線
描画装置は特に露光パターンの下地への重ね合わせ等の
ビーム位置決めの高精度化が重要となる。種々の位置決
め誤差要因で考慮すべき点は描画試料の熱伸縮である。
例としてシリコンの熱膨張係数は〜４×１０~6／℃ｍで
１℃，１００mmで最悪は０.４ｕｍ の位置ずれを発生す
る。そのため高度で厳密な温度制御や管理が必要とな
る。
【０００３】電子線描画装置は移動試料台が電子線通路
と同様真空内にあるため本来外気温度の変動を受けにく
くなっている。一方、試料交換を行うためのエアーロッ
ク室やウエハ搬送系は大気と接するため温度変動を受け
る。特に試料交換に重量の大きい搬送パレットを用いる
場合は移動試料台と交換室を往復するたびに温度差の影
響をうけ、重ね合わせ精度等を悪化させてしまう。その
結果位置合わせ補正が頻繁に必要となり処理速度を低下
させてしまう。
と同様真空内にあるため本来外気温度の変動を受けにく
くなっている。一方、試料交換を行うためのエアーロッ
ク室やウエハ搬送系は大気と接するため温度変動を受け
る。特に試料交換に重量の大きい搬送パレットを用いる
場合は移動試料台と交換室を往復するたびに温度差の影
響をうけ、重ね合わせ精度等を悪化させてしまう。その
結果位置合わせ補正が頻繁に必要となり処理速度を低下
させてしまう。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】本発明は電子線描画装
置の移動試料台を含むウエハ搬送系の温度差を検知しウ
エハ搬送系を安価で効率的に温度制御し、高精度で高ス
ループットが提供可能な電子線描画装置用試料交換機能
を提供することにある。
置の移動試料台を含むウエハ搬送系の温度差を検知しウ
エハ搬送系を安価で効率的に温度制御し、高精度で高ス
ループットが提供可能な電子線描画装置用試料交換機能
を提供することにある。
【０００５】
【課題を解決するための手段】上記課題はウエハや搬送
パレットの温度変動をエアーロック交換機構で検知し搬
送系の温度制御や安定待ち等の描画制御を実施すること
により達成することができる。
パレットの温度変動をエアーロック交換機構で検知し搬
送系の温度制御や安定待ち等の描画制御を実施すること
により達成することができる。
【０００６】
【発明の実施の形態】図１に本発明を実現するための電
子線描画装置の上記略図を示す。電子源１より照射され
た電子ビーム２は電子レンズ３により試料ウエハ６に結
像され偏向器４により所望の位置に照射される。偏向器
４の偏向範囲への試料移動は移動試料台５を駆動し位置
決めすることにより実現する。ウエハは搬送パレット７
に搭載され移動試料台５に精度良く位置決めされる。エ
アーロックバルブを搬送出入り口に配した試料交換室１
１は大気中のウエハストッカからウエハを真空中に搬入
搬出する。搬送パレット７は移動試料台５と交換室１１
を往復し描画ウエハ６の交換を実施する。
子線描画装置の上記略図を示す。電子源１より照射され
た電子ビーム２は電子レンズ３により試料ウエハ６に結
像され偏向器４により所望の位置に照射される。偏向器
４の偏向範囲への試料移動は移動試料台５を駆動し位置
決めすることにより実現する。ウエハは搬送パレット７
に搭載され移動試料台５に精度良く位置決めされる。エ
アーロックバルブを搬送出入り口に配した試料交換室１
１は大気中のウエハストッカからウエハを真空中に搬入
搬出する。搬送パレット７は移動試料台５と交換室１１
を往復し描画ウエハ６の交換を実施する。
【０００７】図１の実施例で、移動試料台５は真空内に
あり熱伝導が極めて小さく、通常真空外で駆動するため
発熱源が無く温度は安定である。一方、交換室１１等は
外気に接するため周辺の温度調整用エアー等の影響を受
けやすい。温度センサ８は搬送物、すなわちウエハまた
は搬送パレットに接触し温度を計測する。搬送体が無い
場合は温度センサは交換室１１内の温度を測定してい
る。温度センサ８により交換直後からの搬送物の温度変
動から、交換室１１と移動試料台５の温度差を評価する
ことができる。
あり熱伝導が極めて小さく、通常真空外で駆動するため
発熱源が無く温度は安定である。一方、交換室１１等は
外気に接するため周辺の温度調整用エアー等の影響を受
けやすい。温度センサ８は搬送物、すなわちウエハまた
は搬送パレットに接触し温度を計測する。搬送体が無い
場合は温度センサは交換室１１内の温度を測定してい
る。温度センサ８により交換直後からの搬送物の温度変
動から、交換室１１と移動試料台５の温度差を評価する
ことができる。
【０００８】図２は実際の温度変化の例である。図２で
は交換室１１の温度が低く搬送パレット７を用いた場合
である。描画中は搬送体は移動試料台５にあり温度上昇
する。試料交換時はわずかの時間であるが温度低下す
る。連続描画時はこの温度上下動を繰り返す。特に描画
処理前に搬送パレット７が交換室１１内に長時間停止し
た場合はその温度差に相当する大きな温度変動幅が発生
する。
は交換室１１の温度が低く搬送パレット７を用いた場合
である。描画中は搬送体は移動試料台５にあり温度上昇
する。試料交換時はわずかの時間であるが温度低下す
る。連続描画時はこの温度上下動を繰り返す。特に描画
処理前に搬送パレット７が交換室１１内に長時間停止し
た場合はその温度差に相当する大きな温度変動幅が発生
する。
【０００９】このような致命的な温度変動を防止するた
め、図１の実施例では熱交換器等の温度制御機構９によ
り試料の出し入れ口である交換室１１の温度制御を実施
しているが当然、移動試料台を温度制御することも可能
である。すなわち、試料交換時、特に長時間放置時の温
度変動が最小限となるように交換室の温度制御を実施し
ている。単純にこの温度変化量から移動試料台５へ転送
後、温度変化量に比例した描画待ち時間を設定したり、
移動試料台５に待避することにより最小限の無駄時間で
描画処理を実現することも可能である。
め、図１の実施例では熱交換器等の温度制御機構９によ
り試料の出し入れ口である交換室１１の温度制御を実施
しているが当然、移動試料台を温度制御することも可能
である。すなわち、試料交換時、特に長時間放置時の温
度変動が最小限となるように交換室の温度制御を実施し
ている。単純にこの温度変化量から移動試料台５へ転送
後、温度変化量に比例した描画待ち時間を設定したり、
移動試料台５に待避することにより最小限の無駄時間で
描画処理を実現することも可能である。
【００１０】
【発明の効果】本発明によれば、描画室内の移動試料台
の温度と外気温度による搬送系温度変動を実測し温度制
御や描画制御で影響を最小限とすることにより、高スル
ープットで高精度の重ね合わせ露光を実施することがで
きる電子線描画装置を提供する。
の温度と外気温度による搬送系温度変動を実測し温度制
御や描画制御で影響を最小限とすることにより、高スル
ープットで高精度の重ね合わせ露光を実施することがで
きる電子線描画装置を提供する。
【図１】本発明を実施する電子線描画装置の説明図。
【図２】本発明を説明するための温度変化例の特性図。
１…電子源、２…電子ビーム、３…電子レンズ、４…ビ
ーム偏向器、５…移動試料台、６…ウエハ、７…搬送パ
レット、８…温度センサ、９…温度制御機構、１０…ウ
エハストッカ。
ーム偏向器、５…移動試料台、６…ウエハ、７…搬送パ
レット、８…温度センサ、９…温度制御機構、１０…ウ
エハストッカ。
Claims (4)
- 【請求項１】電子線を発生させる電子源と、上記電子源
から半導体ウエハ等の試料面に至る収束ビームを照射す
る電子光学系と、所望の位置に偏向させる偏向制御系
と、上記偏向走査位置に、上記試料を移動する移動試料
台と、上記移動試料台に試料ウエハを保持固定する搬送
パレットと上記移動試料台と独立に真空排気可能なエア
ーロック交換室を具備し、ウエハを真空外のウエハスト
ッカから上記搬送パレットに搬送し、上記搬送パレット
を上記移動試料台と上記エアーロック交換室と往復させ
試料交換する交換機能を備えた電子線描画装置におい
て、上記エアーロック交換室でウエハまたは搬送パレッ
トと上記エアーロック交換室の温度測定機能を有し、上
記ウエハまたは上記搬送パレットと同一温度に上記エア
ーロック交換室の温度を制御することを特徴とする電子
線描画装置。 - 【請求項２】請求項１において、上記移動試料台の温度
を上記搬送パレットの温度が上記エアーロック交換室ま
たは上記ウエハストッカを同一になるように制御する電
子線描画装置。 - 【請求項３】請求項１において、上記搬送パレットの温
度がしきい値以上に変化した場合に警告あるいは移動試
料台に自動待避する電子線描画装置。 - 【請求項４】請求項１において、上記搬送パレットの上
記エアーロック交換室へ搬入直後から搬出直前までの温
度変動量に比例して上記移動試料台の安定待ち制御をす
る電子線描画装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9105681A JPH10303092A (ja) | 1997-04-23 | 1997-04-23 | 電子線描画装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9105681A JPH10303092A (ja) | 1997-04-23 | 1997-04-23 | 電子線描画装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10303092A true JPH10303092A (ja) | 1998-11-13 |
Family
ID=14414173
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9105681A Pending JPH10303092A (ja) | 1997-04-23 | 1997-04-23 | 電子線描画装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH10303092A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007134586A (ja) * | 2005-11-11 | 2007-05-31 | Hitachi High-Technologies Corp | 真空排気装置 |
| US9666408B2 (en) | 2013-01-21 | 2017-05-30 | Hitachi High-Technologies Corporation | Apparatus and method for processing sample, and charged particle radiation apparatus |
| JP2022095201A (ja) * | 2020-12-16 | 2022-06-28 | 日本電子株式会社 | 荷電粒子線装置 |
-
1997
- 1997-04-23 JP JP9105681A patent/JPH10303092A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007134586A (ja) * | 2005-11-11 | 2007-05-31 | Hitachi High-Technologies Corp | 真空排気装置 |
| US9666408B2 (en) | 2013-01-21 | 2017-05-30 | Hitachi High-Technologies Corporation | Apparatus and method for processing sample, and charged particle radiation apparatus |
| JP2022095201A (ja) * | 2020-12-16 | 2022-06-28 | 日本電子株式会社 | 荷電粒子線装置 |
| US11651936B2 (en) | 2020-12-16 | 2023-05-16 | Jeol Ltd. | Charged particle beam apparatus |
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