JPH10298509A - Tape for loc - Google Patents

Tape for loc

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JPH10298509A
JPH10298509A JP9104325A JP10432597A JPH10298509A JP H10298509 A JPH10298509 A JP H10298509A JP 9104325 A JP9104325 A JP 9104325A JP 10432597 A JP10432597 A JP 10432597A JP H10298509 A JPH10298509 A JP H10298509A
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JP
Japan
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polyimide film
loc
aromatic polyimide
tape
film
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Application number
JP9104325A
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Japanese (ja)
Inventor
Hiroshi Inoue
浩 井上
Akinori Otani
明範 大谷
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Ube Corp
Original Assignee
Ube Industries Ltd
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Filing date
Publication date
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Priority to JP9104325A priority Critical patent/JPH10298509A/en
Publication of JPH10298509A publication Critical patent/JPH10298509A/en
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  • Laminated Bodies (AREA)
  • Adhesive Tapes (AREA)
  • Adhesives Or Adhesive Processes (AREA)
  • Macromolecular Compounds Obtained By Forming Nitrogen-Containing Linkages In General (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To obtain a tape for lead on chip(LOC) having good punching property and dimensional stability and capable of precisely processing by slitting a sheet providing an adhesive layer on both sides of a specific aromatic polyimide film composed of a tetracarboxylic acid component and an aromatic diamine component. SOLUTION: A polyimide sheet having an adhesive, providing an adhesive layer on both sides of an aromatic polyimide film comprising a polyimide obtained by reaction of a tetracarboxylic acid component containing at least 15 mol.% biphenyltetracarboxylic acid or its dianhydride or ester with an aromatic diamine component containing at least 5 mol.% phenylene diamine and having 20-80 μm thickness, 11-22 kg/20 mm/10 μm specific shear resistance and <=0.4 wt.% residual volatile matter content is slit to provide the objective tape for LOC.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】この発明は、少なくとも15
モル%のビフェニルテトラカルボン酸類を含むテトラカ
ルボン酸成分と、少なくとも5モル%のフェニレンジア
ミンを含む芳香族ジアミン成分との反応によって製造さ
れたポリイミドからなり、厚みが20〜80μmで、1
1〜22kg/20mm/10μmの比端裂抵抗値を持
ち、かつ残揮発物量が0.4重量%以下である打ち抜き
性の良好な芳香族ポリイミドフィルムの両面に接着剤層
を設けた接着剤付きポリイミドシ−トをスリットしてな
るLOC用テ−プに関する。
The present invention relates to at least 15
A polyimide produced by reacting a tetracarboxylic acid component containing at least 5 mol% of a biphenyltetracarboxylic acid with an aromatic diamine component containing at least 5 mol% of a phenylenediamine;
With an adhesive having an adhesive layer provided on both surfaces of an aromatic polyimide film having a specific end resistance of 1 to 22 kg / 20 mm / 10 μm and a good punching property with a residual volatile matter content of 0.4% by weight or less. The present invention relates to a tape for LOC formed by slitting a polyimide sheet.

【0002】[0002]

【従来の技術】半導体メモリ−の記憶容量が増大するに
従い、DIP(デュアル・インライン・パッケ−ジ)か
らLOC(リ−ド・オン・チップ)方式にパッケ−ジが
変わってきている。LOC方式ではICチップの上にリ
−ドフレ−ムがあり、その間をLOC用テ−プ(接着剤
/絶縁テ−プ/接着剤の構成)で接着される。このLO
Cに使用される芳香族ポリイミドは、テトラカルボン酸
成分と芳香族ジアミン成分とから製造されるポリアミッ
ク酸を高温に加熱して脱水環化することにより得られる
耐熱性や機械的特性の優れたポリマ−である。しかしな
がら、LOC用テ−プに用いられる芳香族ポリイミドフ
ィルムには、更なる高精度化および高生産性の要求から
より高い打ち抜き性が要求される。
2. Description of the Related Art As the storage capacity of a semiconductor memory has increased, the package has been changed from a DIP (dual in-line package) to a LOC (lead-on-chip) system. In the LOC system, there is a lead frame on the IC chip, and the space between them is bonded with a LOC tape (adhesive / insulating tape / adhesive). This LO
The aromatic polyimide used for C is a polymer having excellent heat resistance and mechanical properties obtained by heating and dehydrating a polyamic acid produced from a tetracarboxylic acid component and an aromatic diamine component to a high temperature. -. However, the aromatic polyimide film used for the tape for LOC is required to have higher punchability in order to achieve higher precision and higher productivity.

【0003】特開平6−334110号公報には、端裂
抵抗が50〜70kgf/20mmのポリイミドフィル
ムは打ち抜き性が優れていることを明らかにしている。
そして更に、そのポリイミドフィルムは何%程度の吸湿
性溶媒が残存していなければならない旨述べられてい
る。
Japanese Patent Application Laid-Open No. 6-334110 discloses that a polyimide film having an edge crack resistance of 50 to 70 kgf / 20 mm has excellent punching properties.
Further, it is stated that the polyimide film must have some% of a hygroscopic solvent remaining.

【0004】LOCテ−プのような電子部品としての耐
熱性、電気絶縁性とともに機械的強度、特に引張弾性率
等への高い要求を考慮し、芳香族ポリイミドフィルムと
しては、テトラカルボン酸成分としてビフェニルテトラ
カルボン酸成分を含み、また芳香族ジアミン成分として
フェニレンジアミン成分を含むものが好ましい。またリ
−ドフレ−ムとLOC用テ−プを貼り合わせてLOCを
形成するためには、芳香族ポリイミドフィルムは、その
公知のポリアミド系接着剤、ポリイミド系接着剤、エポ
キシ樹脂系接着剤、アクリル樹脂系接着剤などの接着剤
に対して高い接着性を示す必要がある。
In consideration of the heat resistance and electrical insulation properties of electronic parts such as LOC tapes, as well as the high requirements for mechanical strength, especially tensile modulus, etc., the aromatic polyimide film is used as a tetracarboxylic acid component. Those containing a biphenyltetracarboxylic acid component and a phenylenediamine component as an aromatic diamine component are preferred. In order to form a LOC by bonding a lead frame and a tape for LOC, an aromatic polyimide film is formed by a known polyamide adhesive, polyimide adhesive, epoxy resin adhesive, acrylic resin, or the like. It is necessary to exhibit high adhesiveness to an adhesive such as a resin adhesive.

【0005】しかしながら本発明者の研究によると、上
記の特開平6−334110号公報に記載の技術は、テ
トラカルボン酸成分としてビフェニルテトラカルボン酸
成分を含むものを利用し、また芳香族ジアミン成分とし
てフェニレンジアミン成分を含むものを利用して製造す
る芳香族ポリイミドフィルムに対しては充分満足できる
特性を付与することができないことが判明した。
However, according to the study of the present inventors, the technique described in the above-mentioned Japanese Patent Application Laid-Open No. 6-334110 utilizes a component containing a biphenyltetracarboxylic acid component as a tetracarboxylic acid component, and uses an aromatic diamine component as a component. It has been found that it is not possible to impart satisfactory properties to an aromatic polyimide film produced using a material containing a phenylenediamine component.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】この発明の目的は、基
板フィルムとして、打ち抜き性が良好でしかも接着性お
よび寸法安定性を保持した芳香族ポリイミドフィルムを
使用したLOC用テ−プを提供することである。
SUMMARY OF THE INVENTION It is an object of the present invention to provide a tape for LOC using an aromatic polyimide film which has good punching properties and maintains adhesiveness and dimensional stability as a substrate film. It is.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】この発明は、少なくとも
15モル%のビフェニルテトラカルボン酸もしくはその
二無水物またはエステルを含むテトラカルボン酸成分
と、少なくとも5モル%のフェニレンジアミンを含む芳
香族ジアミン成分との反応によって製造されたポリイミ
ドからなる、厚みが20〜80μmの芳香族ポリイミド
フィルムであって、該芳香族ポリイミドフィルムが11
〜22kg/20mm/10μmの比端裂抵抗値を持
ち、かつ残揮発物量が0.4重量%以下である芳香族ポ
リイミドフィルムの両面に接着剤層を設けた接着剤付き
ポリイミドシ−トをスリットしてなるLOC用テ−プに
関する。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention provides a tetracarboxylic acid component containing at least 15 mol% of biphenyltetracarboxylic acid or a dianhydride or an ester thereof, and an aromatic diamine component containing at least 5 mol% of phenylenediamine. Is an aromatic polyimide film having a thickness of 20 to 80 μm, which is made of polyimide produced by the reaction with
A slit polyimide sheet with an adhesive layer provided on both surfaces of an aromatic polyimide film having a specific crack resistance of about 22 kg / 20 mm / 10 μm and a residual volatile matter content of 0.4% by weight or less. The present invention relates to a tape for LOC.

【0008】この明細書において、端裂抵抗値(あるい
は比端裂抵抗値)はJIS C2318に従って測定し
た試料(5個)の端裂抵抗(あるいは比端裂抵抗)の平
均値を意味する。具体的には、定速緊張形引張試験機の
上部厚さ1.00±0.05mmのV字形切り込み板試
験金具の中心線を上部つかみの中心線に一致させ、切り
込み頂点と下部つかみとの間隔を約30mmになるよう
に柄を取りつける。幅約20mm、長さ約200mmの
試験片を金具の穴部に通して二つに折り合わせて試験機
の下部のつかみにはさみ、1分間につき約200mmの
速さで引張り、引き裂けたときの力を端裂抵抗という。
試験片を縦方向及び横方向からそれぞれ全幅にわたって
5枚とり、端裂抵抗の平均値を求め、端裂抵抗値として
示す。比端裂抵抗値はフィルム厚み当たり(10mm換
算)の端裂抵抗値を示す。
[0008] In this specification, the crack resistance (or specific crack resistance) means the average value of the crack resistance (or specific crack resistance) of samples (5 pieces) measured according to JIS C2318. Specifically, the center line of the V-shaped notch plate test bracket having the upper thickness of 1.00 ± 0.05 mm of the constant-speed tension-type tensile tester was made to coincide with the center line of the upper grip, and the top of the cut and the lower grip were Attach the handle so that the interval is about 30 mm. A test piece with a width of about 20 mm and a length of about 200 mm is passed through the hole of the bracket, folded into two parts, clamped at the lower part of the tester, pulled at a speed of about 200 mm per minute, and pulled apart. Is called end tear resistance.
Five test pieces were taken from the longitudinal direction and the lateral direction over the entire width, respectively, and the average value of the end crack resistance was determined and shown as the end crack resistance value. The specific tear resistance is a tear resistance per film thickness (converted to 10 mm).

【0009】[0009]

【発明の実施の形態】以下に本発明の好ましい態様を列
記する。 1)芳香族ポリイミドフィルムの比端裂抵抗値が11〜
15kg/20mm/10μmの範囲にある上記のLO
C用テ−プ。 2)芳香族ポリイミドフィルムの残揮発物量が0.35
重量%以下である上記のLOC用テ−プ。 3)芳香族ポリイミドフィルムの残揮発物量が0.3重
量%以下である上記のLOC用テ−プ。 4)芳香族ポリイミドフィルムの残揮発物量が0.2重
量%以下である上記のLOC用テ−プ。 5)芳香族ポリイミドフィルムの少なくとも片方の表面
を含む層が無機フィラ−を、芳香族ポリイミドに対する
割合で0.02〜6重量%含有している上記のLOC用
テ−プ。 6)芳香族ポリイミドフィルムの両面が表面処理剤処
理、コロナ放電処理、火炎処理、紫外線照射、グロ−放
電処理、プラズマ処理のいずれか1つ以上の表面処理が
されている上記のLOC用テ−プ。 7)芳香族ポリイミドフィルムの吸水率が1.8%以
下、引張弾性率が450Kg/mm2 以上そして線膨張
係数(50〜200℃)が2.5×10-5cm/cm/
℃以下である上記のLOC用テ−プ。 8)芳香族ポリイミドフィルムの絶縁破壊電圧が3KV
以上であって、体積抵抗率(25℃)が1×1015Ω・
cm以上である上記のLOC用テ−プ。 9)接着剤が、熱可塑性接着剤もしくは熱硬化性接着剤
である上記のLOC用テ−プ。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Preferred embodiments of the present invention will be listed below. 1) The specific crack resistance of the aromatic polyimide film is 11 to 11
The above LO in the range of 15 kg / 20 mm / 10 μm
Tape for C. 2) The residual volatile matter content of the aromatic polyimide film is 0.35
The above-mentioned tape for LOC which is not more than weight%. 3) The above-mentioned tape for LOC, wherein the residual volatile matter content of the aromatic polyimide film is 0.3% by weight or less. 4) The above-mentioned tape for LOC, in which the residual volatile matter content of the aromatic polyimide film is 0.2% by weight or less. 5) The LOC tape described above, wherein the layer containing at least one surface of the aromatic polyimide film contains 0.02 to 6% by weight of the inorganic filler relative to the aromatic polyimide. 6) The above-mentioned LOC tape in which both surfaces of the aromatic polyimide film are subjected to any one or more of surface treatment agent treatment, corona discharge treatment, flame treatment, ultraviolet irradiation, glow discharge treatment, and plasma treatment. H. 7) The aromatic polyimide film has a water absorption of 1.8% or less, a tensile modulus of 450 kg / mm 2 or more, and a coefficient of linear expansion (50 to 200 ° C.) of 2.5 × 10 −5 cm / cm / cm.
The above LOC tape having a temperature of not more than ° C. 8) Dielectric breakdown voltage of aromatic polyimide film is 3KV
The volume resistivity (25 ° C.) is 1 × 10 15 Ω ·
cm or more for LOC tape. 9) The above-mentioned LOC tape, wherein the adhesive is a thermoplastic adhesive or a thermosetting adhesive.

【0010】この発明におけるビフェニルテトラカルボ
ン酸成分としては、2,3,3’,4’−ビフェニルテ
トラカルボン酸、3,3’,4,4’−ビフェニルテト
ラカルボン酸、それらの二無水物、またはそれらのエス
テルが使用できるが、なかでも3,3’,4,4’−ビ
フェニルテトラカルボン酸二無水物が好適に用いられ
る。
The biphenyltetracarboxylic acid component in the present invention includes 2,3,3 ', 4'-biphenyltetracarboxylic acid, 3,3', 4,4'-biphenyltetracarboxylic acid, dianhydrides thereof, Alternatively, esters thereof can be used, and among them, 3,3 ′, 4,4′-biphenyltetracarboxylic dianhydride is preferably used.

【0011】この発明におけるビフェニルテトラカルボ
ン酸成分と併用が可能な芳香族テトラカルボン酸成分と
しては、ピロメリット酸二無水物、3,3’,4,4’
−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、2,
2’,3,3’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無
水物、2、2−ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)
プロパン二無水物、2,2−ビス(2,3−ジカルボキ
シフェニル)プロパン二無水物、ビス(3,4−ジカル
ボキシフェニル)エ−テル二無水物、ビス(2,3−ジ
カルボキシフェニル)エ−テル二無水物、2,3,6,
7−ナフタレンテトラカルボン酸二無水物、1,4,
5,8−ナフタレンテトラカルボン酸二無水物、1,
2,5,6−ナフタレンテトラカルボン酸二無水物、
2,2−ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)−1,
1,1,3,3,3−ヘキサフルオロプロパン二無水
物、2,2−ビス(2,3−ジカルボキシフェニル)−
1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロプロパン二無
水物などが挙げられる。
The aromatic tetracarboxylic acid component which can be used in combination with the biphenyltetracarboxylic acid component in the present invention includes pyromellitic dianhydride, 3,3 ', 4,4'
-Benzophenonetetracarboxylic dianhydride, 2,
2 ', 3,3'-benzophenonetetracarboxylic dianhydride, 2,2-bis (3,4-dicarboxyphenyl)
Propane dianhydride, 2,2-bis (2,3-dicarboxyphenyl) propane dianhydride, bis (3,4-dicarboxyphenyl) ether dianhydride, bis (2,3-dicarboxyphenyl) ) Ether dianhydride, 2,3,6
7-naphthalenetetracarboxylic dianhydride, 1,4
5,8-naphthalenetetracarboxylic dianhydride, 1,
2,5,6-naphthalenetetracarboxylic dianhydride,
2,2-bis (3,4-dicarboxyphenyl) -1,
1,1,3,3,3-hexafluoropropane dianhydride, 2,2-bis (2,3-dicarboxyphenyl)-
Examples thereof include 1,1,1,3,3,3-hexafluoropropane dianhydride.

【0012】この発明におけるフェニレンジアミンは、
p−フェニレンジアミン、m−フェニレンジアミン、そ
してo−フェニレンジアミンのいずれであってもよい
が、なかでもp−フェニレンジアミンが好適に用いられ
る。フェニレンジアミンと併用可能な芳香族ジアミン成
分としては、ジアミノジフェニルエ−テル、4,4’−
ジアミノジフェニルプロパン、4,4’−ジアミノジフ
ェニルエタン、4,4’−ジアミノジフェニルメタン、
4,4’−ジアミノジフェニルスルフィド、ビス〔4−
(4−アミノフェノキシ)フェニル〕メタン、2,2−
ビス〔4−(4−アミノフェノキシ)フェニル〕プロパ
ン、2,2’−ビス〔4−(アミノフェノキシ)フェニ
ル〕−1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロプロパ
ン、ビス〔4−(4−アミノフェノキシ)フェニル〕エ
−テルなどが挙げられる。
The phenylenediamine in the present invention is
Although any of p-phenylenediamine, m-phenylenediamine and o-phenylenediamine may be used, p-phenylenediamine is particularly preferably used. Aromatic diamine components that can be used in combination with phenylenediamine include diaminodiphenyl ether, 4,4′-
Diaminodiphenylpropane, 4,4′-diaminodiphenylethane, 4,4′-diaminodiphenylmethane,
4,4'-diaminodiphenyl sulfide, bis [4-
(4-aminophenoxy) phenyl] methane, 2,2-
Bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] propane, 2,2'-bis [4- (aminophenoxy) phenyl] -1,1,1,3,3,3-hexafluoropropane, bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] ether and the like.

【0013】この発明において、芳香族ポリイミドフィ
ルム(あるいは表面処理されたフィルム)は、厚みが2
0〜80μm、その中でも特に25〜55μmであるこ
とが好ましい。芳香族ポリイミドフィルムの厚みがこの
下限より小さいと自己支持性の特性が低く、また上限よ
り大きくても効果がなくコンパクト化に反する。また、
前記の残揮発物量が0.4重量%より多いと接着性およ
び寸法安定性に問題が発生する。芳香族ポリイミドフィ
ルムの比端裂抵抗値が前記範囲外であると、この発明の
目的を達成することができない。
In the present invention, the aromatic polyimide film (or surface-treated film) has a thickness of 2
It is preferably from 0 to 80 μm, and particularly preferably from 25 to 55 μm. When the thickness of the aromatic polyimide film is smaller than the lower limit, the self-supporting property is low. Also,
When the amount of the remaining volatiles is more than 0.4% by weight, problems occur in the adhesiveness and dimensional stability. If the specific crack resistance of the aromatic polyimide film is outside the above range, the object of the present invention cannot be achieved.

【0014】また、(1)吸水率および(2)線膨張係
数(50〜200℃)が前記範囲内であると、種々の環
境下(高温、エッチング等)においた場合の寸法安定性
が良好である。さらに、(3)引張弾性率が前記範囲内
であると、基板フィルムとしてハンドリングが良好であ
る。
When (1) the water absorption and (2) the coefficient of linear expansion (50 to 200 ° C.) are within the above ranges, the dimensional stability under various environments (high temperature, etching, etc.) is good. It is. Further, (3) when the tensile modulus is in the above range, the handling is good as a substrate film.

【0015】この発明における芳香族ポリイミドフィル
ムは、例えば以下のようにして製造することができる。
好適には先ず前記テトラカルボン酸二無水物、好適には
ビフェニルテトラカルボン酸類とフェニレンジアミン、
好適にはパラフェニレンジアミンとをN,N−ジメチル
アセトアミドやN−メチル−2−ピロリドンなどのポリ
イミドの製造に通常使用される有機極性溶媒中で、好ま
しくは10〜80℃で1〜30時間重合して、ポリマ−
の対数粘度(測定温度:30℃、濃度:0.5g/10
0ml溶媒、溶媒:N−メチル−2−ピロリドン)が
0.1〜5 、ポリマ−濃度が15〜25重量%であ
り、回転粘度(30℃)が500〜4500ポイズであ
るポリアミック酸(イミド化率:5%以下)溶液を得
る。
The aromatic polyimide film according to the present invention can be manufactured, for example, as follows.
Preferably first the tetracarboxylic dianhydride, preferably biphenyltetracarboxylic acids and phenylenediamine,
Preferably, paraphenylenediamine is polymerized in an organic polar solvent usually used for the production of a polyimide such as N, N-dimethylacetamide or N-methyl-2-pyrrolidone, preferably at 10 to 80 ° C. for 1 to 30 hours. And the polymer
Logarithmic viscosity (measuring temperature: 30 ° C., concentration: 0.5 g / 10
0 ml solvent, solvent: N-methyl-2-pyrrolidone) 0.1-5, polymer concentration 15-25% by weight, rotational viscosity (30 ° C.) 500-4500 poise polyamic acid (imidization) (Rate: 5% or less) to obtain a solution.

【0016】次いで、好適にはこのポリアミック酸10
0重量部に対して0.01〜1重量%のリン化合物、例
えば(ポリ)リン酸エステルおよび/またはリン酸エス
テルのアミン塩などの有機系リン化合物あるいは無機リ
ン化合物および、好適にはさらにポリアミック酸100
重量部に対して0.02〜6重量部のコロイダルシリ
カ、窒化珪素、タルク、、酸化チタン、燐酸カルシウム
などの無機フィラ−(好適には平均粒径0.005〜5
μm、特に0.005〜2μm)を添加してポリアミッ
ク酸溶液組成物を調製する。これらのリン化合物及び/
又は無機フィラ−はフィルム層全体に均一に存在させる
か、あるいは2〜3層構造のフィルムを形成する場合に
は少なくとも片方の表面を含む層に前記の割合で含有さ
せることが好ましく、これにより少なくとも片方の表面
に微細突起を形成させる。
Next, preferably, the polyamic acid 10
0.01 to 1% by weight, based on 0 parts by weight, of a phosphorus compound, for example, an organic phosphorus compound or an inorganic phosphorus compound such as a (poly) phosphate ester and / or an amine salt of a phosphate ester, and preferably further a polyamic acid Acid 100
0.02 to 6 parts by weight of an inorganic filler such as colloidal silica, silicon nitride, talc, titanium oxide and calcium phosphate (preferably 0.005 to 5 parts by weight)
μm, particularly 0.005 to 2 μm) to prepare a polyamic acid solution composition. These phosphorus compounds and / or
Or, the inorganic filler is preferably present uniformly in the entire film layer, or when a film having a two- or three-layer structure is formed, the inorganic filler is preferably contained in the layer containing at least one surface in the above-described ratio. Fine projections are formed on one surface.

【0017】このポリアミック酸溶液組成物を平滑な表
面を有するガラスあるいは金属製の支持体表面に流延し
て前記溶液の薄膜を形成し、その薄膜を乾燥する際に、
乾燥条件を調整して(好適な条件は温度:100〜16
0℃、時間:1〜60分間)乾燥することにより、固化
フィルム中、前記溶媒及び生成水分からなる揮発分含有
量が30〜50重量%、イミド化率が10〜60%であ
る長尺状固化フィルムを形成し、上記固化フィルムを支
持体表面から剥離する。
The polyamic acid solution composition is cast on a glass or metal support having a smooth surface to form a thin film of the solution, and when the thin film is dried,
Adjust the drying conditions (preferable temperature: 100 to 16
(0 ° C., time: 1 to 60 minutes) By drying, the solidified film has a volatile content of 30 to 50% by weight and an imidization rate of 10 to 60% in the solidified film. A solidified film is formed, and the solidified film is peeled from the support surface.

【0018】次いで、固化フィルムの片面または両面に
アミノシラン系、エポキシシラン系あるいはチタネ−ト
系の表面処理剤を含有する表面処理液を塗布した後、さ
らに乾燥することもできる。表面処理剤としては、γ−
アミノプロピル−トリエトキシシラン、N−β−(アミ
ノエチル)−γ−アミノプロピル−トリエトキシシラ
ン、N−(アミノカルボニル)−γ−アミノプロピル−
トリエトキシシラン、N−〔β−(フェニルアミノ)−
エチル〕−γ−アミノプロピル−トリエトキシシラン、
N−フェニル−γ−アミノプロピル−トリエトキシシラ
ン、γ−フェニルアミノプロピルトリメトキシシランな
どのアミノシラン系や、β−(3,4−エポキシシクロ
ヘキシル)−エチル−トリメトキシシラン、γ−グリシ
リドキシプロピル−トリメトキシシランなどのエポキシ
シラン系や、イソプロピル−トリクミルフェニル−チタ
ネ−ト、ジクミルフェニル−オキシアセテ−ト−チタネ
−トなどのチタネ−ト系などの耐熱性表面処理剤が使用
できる。表面処理液は前記の表面処理剤を0.5〜50
重量%含む低級アルコ−ル、アミド系溶媒などの有機極
性溶媒溶液として使用できる。表面処理液はグラビアコ
−ト法、シルクスクリ−ン、浸漬法などを使用して均一
に塗布して薄層を形成することが好ましい。
Next, after one or both surfaces of the solidified film are coated with a surface treating solution containing an aminosilane-based, epoxysilane-based or titanate-based surface treating agent, the film can be further dried. As the surface treatment agent, γ-
Aminopropyl-triethoxysilane, N-β- (aminoethyl) -γ-aminopropyl-triethoxysilane, N- (aminocarbonyl) -γ-aminopropyl-
Triethoxysilane, N- [β- (phenylamino)-
Ethyl] -γ-aminopropyl-triethoxysilane,
Aminosilanes such as N-phenyl-γ-aminopropyl-triethoxysilane, γ-phenylaminopropyltrimethoxysilane, β- (3,4-epoxycyclohexyl) -ethyl-trimethoxysilane, γ-glycidyloxypropyl And heat-resistant surface treatment agents such as epoxysilanes such as trimethoxysilane and titanates such as isopropyl-tricumylphenyl-titanate and dicumylphenyl-oxyacetate-titanate. The surface treatment solution is prepared by adding the above surface treatment agent to 0.5 to 50.
It can be used as a solution of an organic polar solvent such as a lower alcohol or an amide-based solvent containing 1 wt%. The surface treatment liquid is preferably applied uniformly using a gravure coating method, a silk screen, a dipping method or the like to form a thin layer.

【0019】この発明における芳香族ポリイミドフィル
ムの製造法の一例の、キュア炉内におけるキュア前の好
適な加熱条件を示す図1を使用して以下に示す。すなわ
ち、前記のようにして得られた固化フィルムを必要であ
ればさらに乾燥して、好ましくは乾燥フィルムの揮発分
含有量が10〜45重量%となるように調整した後、該
乾燥フィルムの幅方向の両端縁を把持した状態で、図1
に示すキュア炉内におけるキュア炉入口における温度
(℃)(好適には100〜250℃)×滞留時間(分)
が斜線の範囲内になるように乾燥後、最高加熱温度:4
00〜500℃の温度が0.5〜30分間となる条件で
該乾燥フィルムを加熱して乾燥およびイミド化して、残
揮発物量0.4重量%以下で、イミド化を完了すること
によって芳香族ポリイミドフィルムとして好適に製造す
ることができる。また、前記キュアリング工程の後、芳
香族ポリイミドフィルムの片面あるいは両面をアルカリ
処理した(例えば水酸化ナトリウム等のアルカリ水溶液
浸漬後、水洗・乾燥)後、前記の表面処理液を塗布し乾
燥することによっても、同様にフィルム表面を表面処理
することができる。
One example of the method for producing an aromatic polyimide film according to the present invention will be described below with reference to FIG. 1, which shows preferable heating conditions before curing in a curing furnace. That is, the solidified film obtained as described above is further dried if necessary, and preferably the volatile content of the dried film is adjusted to 10 to 45% by weight, and then the width of the dried film is adjusted. Fig. 1
Temperature (° C) (preferably 100 to 250 ° C) at the entrance of the curing furnace in the curing furnace shown in (1) x residence time (minutes)
After drying so that is within the range of the oblique line, the maximum heating temperature: 4
The dried film is heated and dried and imidized under the condition that the temperature is from 00 to 500 ° C. for 0.5 to 30 minutes. It can be suitably manufactured as a polyimide film. Further, after the curing step, one or both sides of the aromatic polyimide film are alkali-treated (for example, after immersion in an aqueous alkali solution such as sodium hydroxide, and then washed and dried), and then the surface treatment liquid is applied and dried. , The film surface can be similarly surface-treated.

【0020】上記のようにして得られた芳香族ポリイミ
ドフィルムを、好適には低張力下あるいは無張力下に2
00〜400℃程度の温度で加熱して応力緩和処理し、
巻き取る。
The aromatic polyimide film obtained as described above is preferably used under low tension or no tension.
Heat at a temperature of about 00 to 400 ° C. to perform stress relaxation treatment,
Take up.

【0021】前記の芳香族ポリイミドフィルムは、前述
の製造時のキュア炉内のキュア前の加熱条件を前記の図
1に示す範囲内にコントロ−ルすること及びキュア条件
を前記の温度および時間の範囲内にすることによって厚
みが20〜75μmのものであって、残揮発物量が0.
4重量%以下で、かつ比端裂抵抗値がこの発明で規定し
た値をとるようにすることができる。
In the above-mentioned aromatic polyimide film, the heating conditions before curing in the curing furnace during the above-mentioned production are controlled within the range shown in FIG. 1 and the curing conditions are adjusted to the above-mentioned temperature and time. When the thickness is within the range, the thickness is 20 to 75 μm, and the amount of residual volatiles is 0.
The specific crack resistance can be set to a value specified in the present invention when the content is not more than 4% by weight.

【0022】この発明における芳香族ポリイミドフィル
ムは、好適にはテトラカルボン酸二無水物として3,
3’,4,4’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物
と芳香族ジアミンとしてパラフェニレンジアミンとを重
合する方法によって容易に得ることができるが、ポリア
ミック酸としては、前記フィルムの物性値を満足する範
囲内であれば、3,3’,4,4’−ビフェニルテトラ
カルボン酸二無水物とパラフェニレンジアミンとともに
他の成分を重合してもよく、また、結合の種類はランダ
ム重合、ブロック重合のいずれであってもよい。また、
最終的に得られるポリイミドフィルム中の各成分の合計
量が前記の範囲内であれば、3,3’,4,4’−ビフ
ェニルテトラカルボン酸二無水物を含むポリアミック酸
とパラフェニレンジアミンを含むポリアミック酸に他の
成分からなるポリアミック酸成分を混合して使用しても
よい。いずれの場合も高温加熱時に高分子の切断および
再結合が生じ、前記と同様に目的とする芳香族ポリイミ
ドフィルムを得ることができる。また、この発明におけ
る芳香族ポリイミドフィルムは、上述の熱イミド化に限
定されず、前記条件の範囲内であれば化学イミド化によ
っても同様に行うことができる。
The aromatic polyimide film according to the present invention preferably has 3,3 as a tetracarboxylic dianhydride.
It can be easily obtained by a method of polymerizing 3 ′, 4,4′-biphenyltetracarboxylic dianhydride and paraphenylenediamine as an aromatic diamine, but as a polyamic acid, it satisfies the physical properties of the film. Within the range, other components may be polymerized together with 3,3 ′, 4,4′-biphenyltetracarboxylic dianhydride and paraphenylenediamine, and the type of bond may be random polymerization or block polymerization. Any of them may be used. Also,
If the total amount of each component in the finally obtained polyimide film is within the above range, polyamic acid containing 3,3 ′, 4,4′-biphenyltetracarboxylic dianhydride and paraphenylenediamine are included. You may mix and use the polyamic acid component which consists of another component with polyamic acid. In either case, the polymer is cut and recombined at the time of heating at a high temperature, and the target aromatic polyimide film can be obtained in the same manner as described above. Further, the aromatic polyimide film in the present invention is not limited to the above-mentioned thermal imidization, and can be similarly performed by chemical imidization within the above-mentioned conditions.

【0023】この発明における芳香族ポリイミドフィル
ムは、そのままあるいは表面処理剤で処理していない場
合は、好適にはコロナ放電処理、プラズマ処理、紫外線
照射、グロ−放電処理、火炎処理で表面処理を施した
後、接着性を改良した芳香族ポリイミドフィルムの両面
に熱可塑性接着剤溶液あるいは熱硬化性接着剤溶液を塗
布・乾燥してあるいはこれら接着剤シ−ト(未硬化状
態)を積層して接着剤層を設け、この接着剤付きポリイ
ミドシ−トをスリットし、LOC用テ−プを得ることが
できる。接着剤付きポリイミドシ−トの接着剤層の面に
カバ−フィルムを積層し、テ−プ状にスリットすること
によって両面をカバ−フィルムで覆ったLOC用テ−プ
を得ることもできる。
The aromatic polyimide film in the present invention is preferably subjected to a surface treatment by a corona discharge treatment, a plasma treatment, an ultraviolet irradiation, a glow discharge treatment, and a flame treatment, as it is or when it is not treated with a surface treatment agent. Then, apply and dry a thermoplastic adhesive solution or a thermosetting adhesive solution on both sides of the aromatic polyimide film with improved adhesiveness, or laminate these adhesive sheets (uncured state) to adhere. An adhesive layer is provided, and the polyimide sheet with the adhesive is slit to obtain a tape for LOC. A LOC tape having both surfaces covered with a cover film can be obtained by laminating a cover film on the surface of the adhesive layer of a polyimide sheet with an adhesive and slitting the cover film.

【0024】前記の接着剤としては、ポリアミド系接着
剤、ポリイミド系接着剤、エポキシ樹脂系接着剤、アク
リル樹脂系接着剤などを挙げることができる。これらの
接着剤は電子部品用の接着剤として知られたものが適用
できる。前記接着剤層の厚みは、通常5〜35μm程度
であることが好ましい。接着剤には無機フィラ−(好適
には微細な無機フィラ−)を含有させてもよい。無機フ
ィラ−を含有させると剥離強度が大きくなる傾向にあ
る。接着剤フィルムを使用する場合には、耐熱性のフィ
ルム、例えば耐溶剤性と比較的高い融点とを合わせ持つ
熱可塑性フィルム、例えばポリエステルフィルムを支持
フィルムとして使用し、支持フィルム上に接着剤溶液を
所定幅に塗布・乾燥後、接着剤層の両面を保護フィルム
(一方は支持フィルム)で積層し、片方の保護フィルム
を引き剥がしながら所定幅のポリイミドフィルムと積層
する。次いで保護フィルムで覆った接着剤付きポリイミ
ドシ−トをスリットしてLOC用テ−プを得ることがで
きる。
Examples of the adhesive include a polyamide adhesive, a polyimide adhesive, an epoxy resin adhesive, and an acrylic resin adhesive. As these adhesives, those known as adhesives for electronic components can be applied. The thickness of the adhesive layer is usually preferably about 5 to 35 μm. The adhesive may contain an inorganic filler (preferably a fine inorganic filler). When an inorganic filler is contained, the peel strength tends to increase. When using an adhesive film, a heat-resistant film, for example, a thermoplastic film having both solvent resistance and a relatively high melting point, for example, a polyester film is used as a support film, and the adhesive solution is applied on the support film. After coating and drying to a predetermined width, both surfaces of the adhesive layer are laminated with a protective film (one is a support film), and the adhesive film is laminated with a polyimide film of a predetermined width while peeling off one protective film. Then, the polyimide sheet with the adhesive covered with the protective film is slit to obtain a tape for LOC.

【0025】前記のスリッして得たLOC用テ−プをパ
ンチングで短冊形に打ち抜いて、ICチップとリ−ドフ
レ−ムとの間に挟み、150〜300℃、0.3〜40
kg/cm2 で0.4〜200秒間プレスし、リ−ドフ
レ−ムをICチップの上に固定する。固定したリ−ドフ
レ−ムとICチップとの間をワイヤ−ボンディングでつ
なぎ、トランスファ−モ−ルディングで、パッケ−ジし
て半導体チップを製造することができる。
The tape for LOC obtained by the above-mentioned slipping is punched into a strip shape by punching, and is sandwiched between an IC chip and a lead frame.
Press for 0.4 to 200 seconds at kg / cm 2 to fix the lead frame on the IC chip. A semiconductor chip can be manufactured by connecting the fixed lead frame and the IC chip by wire bonding and packaging by transfer molding.

【0026】[0026]

【実施例】以下にこの発明の実施例を示す。以下の各例
において、ポリイミドフィルムの物性測定は以下の方法
によって行った。 吸水率:ASTM D570−63に従って測定(23
℃×24時間) 引張弾性率:ASTM D882−64Tに従って測定
(MD) 線膨張係数(50〜200℃):300℃で30分加熱
して応力緩和したサンプルをTMA装置(引張りモ−
ド、2g荷重、試料長10mm、20℃/分)で測定
Embodiments of the present invention will be described below. In each of the following examples, the physical properties of the polyimide film were measured by the following methods. Water absorption: measured according to ASTM D570-63 (23
° C × 24 hours) Tensile modulus: Measured according to ASTM D882-64T (MD) Coefficient of linear expansion (50 to 200 ° C): A sample that has been heated at 300 ° C for 30 minutes and stress-relaxed is subjected to a TMA apparatus (tensile module).
(2g load, sample length 10mm, 20 ° C / min)

【0027】イミド化率:FI−IR(ATR法)によ
り1780cm-1と1510cm-1の吸光度の比から求
めた。測定はフィルムのA面について行った。 残揮発物量(固化フィルム):下記式により求めた。 残揮発物量(固化フィルム)=〔(A−B)/A〕×1
00 A:加熱前のフィルム重量 B:420℃、20分加熱後のフィルム重量 残揮発物量(ポリイミドフィルム):下記式により求め
た。 残揮発物量(ポリイミドフィルム)=〔(A−B)/
A〕×100 A:150℃×10分乾燥後の重量 B:450℃×20分乾燥後の重量 (測定は通常、空気中で行われるが、窒素中で行っても
よい。)
Imidation ratio: Determined by FI-IR (ATR method) from the ratio of absorbance at 1780 cm -1 to 1510 cm -1 . The measurement was performed on the A side of the film. Residual volatile amount (solidified film): determined by the following equation. Residual volatile matter amount (solidified film) = [(AB) / A] x 1
00 A: Film weight before heating B: Film weight after heating at 420 ° C. for 20 minutes Remaining volatile matter (polyimide film): Determined by the following formula. Amount of residual volatile matter (polyimide film) = [(AB) /
A] × 100 A: Weight after drying at 150 ° C. × 10 minutes B: Weight after drying at 450 ° C. × 20 minutes (Measurement is usually performed in air, but may be performed in nitrogen.)

【0028】絶縁破壊電圧:ASTM D149−64
に従って測定(25℃) 体積抵抗率:ASTM D257−61に従って測定
(25℃) 誘電率:ASTM D150−64Tに従って測定(2
5℃、1KHz) 剥離強度:90°剥離強度を測定
Dielectric breakdown voltage: ASTM D149-64
(25 ° C.) Volume resistivity: measured according to ASTM D257-61 (25 ° C.) Dielectric constant: measured according to ASTM D150-64T (2
Peel strength: Measure 90 ° peel strength

【0029】実施例1 内容積100リットルの重合槽に、N,N−ジメチルア
セトアミド54.6kgを加え、次いで,3,3’,
4,4’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物8.8
26kgとパラフェニレンジアミン3.243kgとを
加え、30℃で10時間重合反応させてポリマ−の対数
粘度(測定温度:30℃、濃度:0.5g/100ミリ
リットル溶媒、溶媒:N,N−ジメチルアセトアミド)
が1.60、ポリマ−濃度が18重量%であるポリアミ
ック酸(イミド化率:5%以下)溶液を得た。このポリ
アミック酸溶液に、ポリアミック酸100重量部に対し
て0.1重量部の割合でモノステアリルリン酸エステル
トリエタノ−ルアミン塩および0.5重量部の割合(固
形分基準)で平均粒径0.08μmのコロイダルシリカ
を添加して均一に混合してポリアミック酸溶液組成物を
得た。このポリアミック酸溶液組成物の回転粘度は30
00ポイズであった。このポリアミック酸溶液組成物を
Tダイ金型のスリットから連続的に、キャスティング・
乾燥炉の平滑な支持体に押出して前記溶液の薄膜を形成
し、平均温度:141℃で乾燥して長尺状固化フィルム
を形成した。この支持体表面から剥離して長尺状固化フ
ィルムを得た。次いで、N,N−ジメチルアセトアミド
のアミノシラン表面処理液を長尺状固化フィルムの両面
に均一に塗布した後乾燥して、表面処理した乾燥フィル
ムを得た。この乾燥フィルムは溶媒および生成水分から
なる残揮発分量は27重量%であった。次いで、該表面
処理した乾燥フィルムの幅方向を把持した状態で、キュ
ア炉内でキュアして(入口における温度×滞留時間=2
40℃×2分、最高温度×最高温度滞留時間=480℃
×1分)、両面を表面処理剤で処理した厚み25μmの
長尺状の芳香族ポリイミドフィルムを連続的に製造し
た。この芳香族ポリイミドフィルムについて測定、評価
した結果を表1に示す。
Example 1 54.6 kg of N, N-dimethylacetamide was added to a polymerization tank having an internal volume of 100 liters.
4,4'-biphenyltetracarboxylic dianhydride 8.8
26 kg and 3.243 kg of paraphenylenediamine are added and polymerized at 30 ° C. for 10 hours, and the logarithmic viscosity of the polymer (measuring temperature: 30 ° C., concentration: 0.5 g / 100 ml solvent, solvent: N, N-dimethyl) Acetamide)
Was 1.60, and a polyamic acid (imidization ratio: 5% or less) solution having a polymer concentration of 18% by weight was obtained. In this polyamic acid solution, monostearyl phosphate triethanolamine salt at a ratio of 0.1 part by weight to 100 parts by weight of the polyamic acid and an average particle diameter of 0 part by weight (based on solid content) of 0.5 part by weight. 0.08 μm of colloidal silica was added and uniformly mixed to obtain a polyamic acid solution composition. The rotational viscosity of this polyamic acid solution composition was 30.
It was 00 poise. This polyamic acid solution composition was continuously cast from a slit of a T-die mold.
The solution was extruded on a smooth support in a drying furnace to form a thin film of the solution, and dried at an average temperature of 141 ° C. to form a long solidified film. By peeling from the surface of the support, a long solidified film was obtained. Next, an aminosilane surface treatment solution of N, N-dimethylacetamide was uniformly applied to both surfaces of the long solidified film, and then dried to obtain a dried film having a surface treated. This dried film had a residual volatile content of 27% by weight consisting of the solvent and the produced water. Next, while holding the surface-treated dry film in the width direction, it is cured in a curing furnace (temperature at entrance × residence time = 2).
40 ° C × 2 minutes, maximum temperature × maximum temperature residence time = 480 ° C
× 1 minute), and a long aromatic polyimide film having a thickness of 25 μm, both surfaces of which were treated with a surface treating agent, was continuously produced. Table 1 shows the results of measurement and evaluation of this aromatic polyimide film.

【0030】得られたポリイミドフィルムの片面に熱可
塑性ポリイミド系接着剤(シロキサン変性ポリイミド)
を乾燥後の厚みが20μmになるように塗布し、200
℃で乾燥し、もう一方の面にも同様の熱可塑性接着剤を
塗布、乾燥して、両面に接着剤を設けた接着剤付きポリ
イミドシ−トを得た。このシ−トを20μm幅にスリッ
トして、LOC用テ−プを得た。
A thermoplastic polyimide adhesive (siloxane-modified polyimide) is applied on one side of the obtained polyimide film.
Is applied so that the thickness after drying is 20 μm,
C., and the same thermoplastic adhesive was applied to the other surface and dried to obtain a polyimide sheet with an adhesive provided with an adhesive on both surfaces. This sheet was slit to a width of 20 μm to obtain a tape for LOC.

【0031】実施例2 Tダイ金型のスリット巾を変えた他は実施例1と同様に
して長尺状固化フィルムを得た。長尺状固化フィルムの
両表面に表面処理液を塗布せず、実施例1と同様に加熱
・乾燥して乾燥フィルムを得た。このフィルムは残揮発
物量が27重量%であった。次いで、該乾燥フィルムの
幅方向を把持した状態で、キュア炉内でキュアして(入
口における温度×滞留時間=200℃×4分、最高温度
×最高温度滞留時間=480℃×3分)、厚み50μm
の長尺状の芳香族ポリイミドフィルムを連続的に製造し
た。この芳香族ポリイミドフィルムについて測定・評価
した結果を表1に示す。この芳香族ポリイミドフィルム
を常法によって低温プラズマ処理して使用した後、実施
例1と同様にしてLOC用テ−プを製造した。
Example 2 An elongated solidified film was obtained in the same manner as in Example 1, except that the slit width of the T-die was changed. The dried film was obtained by heating and drying in the same manner as in Example 1 without applying the surface treatment liquid to both surfaces of the long solidified film. This film had a residual volatile matter content of 27% by weight. Then, while holding the dried film in the width direction, it is cured in a curing furnace (temperature at the entrance × residence time = 200 ° C. × 4 minutes, maximum temperature × maximum temperature residence time = 480 ° C. × 3 minutes), Thickness 50μm
Was continuously produced. Table 1 shows the results of measurement and evaluation of the aromatic polyimide film. After using this aromatic polyimide film by subjecting it to low-temperature plasma treatment by a conventional method, a tape for LOC was manufactured in the same manner as in Example 1.

【0032】実施例3 実施例2と同様にして長尺固化フィルムを製造した。次
いで、実施例1と同様にして表面処理した乾燥フィルム
を得た。このフィルムは残揮発分量が28重量%であっ
た。次いで、該乾燥フィルムの幅方向を把持した状態
で、キュア炉内でキュアして(入口における温度×滞留
時間=200℃×2.5分、最高温度×最高温度滞留時
間=480℃×3分)、両面を表面処理剤で処理した厚
み50μmの長尺状の芳香族ポリイミドフィルムを連続
的に製造した。この芳香族ポリイミドフィルムについて
測定・評価した結果を表1に示す。この芳香族ポリイミ
ドフィルムを使用し、実施例1と同様にしてLOC用テ
−プを製造した。
Example 3 A long solidified film was produced in the same manner as in Example 2. Next, a dried film surface-treated in the same manner as in Example 1 was obtained. This film had a residual volatile content of 28% by weight. Next, while holding the dried film in the width direction, it is cured in a curing furnace (temperature at the inlet × residence time = 200 ° C. × 2.5 minutes, maximum temperature × maximum temperature residence time = 480 ° C. × 3 minutes) ), A long aromatic polyimide film having a thickness of 50 µm and having both surfaces treated with a surface treating agent was continuously produced. Table 1 shows the results of measurement and evaluation of the aromatic polyimide film. Using this aromatic polyimide film, a tape for LOC was manufactured in the same manner as in Example 1.

【0033】実施例4 Tダイ金型のスリット巾を変えた他は実施例2と同様に
して長尺状固化フィルムを得た。次いで、実施例2と同
様にして表面処理しない乾燥フィルムを得た。このフィ
ルムは残揮発分量が30重量%であった。次いで、該乾
燥フィルムの幅方向を把持した状態で、キュア炉内でキ
ュアして(入口における温度×滞留時間=140℃×5
分、最高温度×最高温度滞留時間=480℃×3分)、
厚み75μmの長尺状の芳香族ポリイミドフィルムを連
続的に製造した。この芳香族ポリイミドフィルムの両面
をアルカリ処理(水酸化カリウム/抱水ヒドラジン/水
からなる溶液に3分間浸漬)し、酸洗浄・水洗・乾燥し
た後、実施例1と同様の表面処理剤を塗布・加熱して表
面処理し、両面を表面処理剤で処理した厚み75μmの
長尺状の芳香族ポリイミドフィルムを連続的に製造し
た。この芳香族ポリイミドフィルムについて測定・評価
した結果を表1に示す。この芳香族ポリイミドフィルム
を使用し、実施例1と同様にしてLOC用テ−プを製造
した。
Example 4 An elongated solidified film was obtained in the same manner as in Example 2 except that the slit width of the T-die was changed. Next, a dried film without surface treatment was obtained in the same manner as in Example 2. This film had a residual volatile content of 30% by weight. Next, while holding the dried film in the width direction, it is cured in a curing furnace (temperature at the inlet × residence time = 140 ° C. × 5).
Min, maximum temperature x maximum temperature residence time = 480 ° C x 3 minutes),
A long aromatic polyimide film having a thickness of 75 μm was continuously manufactured. Both surfaces of the aromatic polyimide film are alkali-treated (immersed in a solution of potassium hydroxide / hydrazine hydrate / water for 3 minutes), washed with acid, washed with water and dried, and then coated with the same surface treating agent as in Example 1. Surface treatment was performed by heating, and a long aromatic polyimide film having a thickness of 75 μm, both surfaces of which were treated with a surface treating agent, was continuously produced. Table 1 shows the results of measurement and evaluation of the aromatic polyimide film. Using this aromatic polyimide film, a tape for LOC was manufactured in the same manner as in Example 1.

【0034】実施例5 Tダイ金型のスリット巾を変えた他は実施例2と同様に
して長尺状固化フィルムを得た。長尺状固化フィルムの
両表面に表面処理液を塗布せず、実施例2と同様に加熱
・乾燥して乾燥フィルムを得た。このフィルムは残揮発
物量が30重量%であった。次いで、該乾燥フィルムの
幅方向を把持した状態で、キュア炉内でキュアして(入
口における温度×滞留時間=105℃×9分、最高温度
×最高温度滞留時間=450℃×15分)、厚み75μ
mの長尺状の芳香族ポリイミドフィルムを連続的に製造
した。この芳香族ポリイミドフィルムについて測定・評
価した結果を表1に示す。この芳香族ポリイミドフィル
ムを使用し、ポリイミド系接着剤(シロキサン変性ポリ
イミド)を塗布・乾燥した後、同様にしてLOC用テ−
プを得た。
Example 5 An elongated solidified film was obtained in the same manner as in Example 2 except that the slit width of the T-die was changed. A dried film was obtained by heating and drying in the same manner as in Example 2 without applying the surface treatment liquid to both surfaces of the long solidified film. This film had a residual volatile matter content of 30% by weight. Then, while holding the dried film in the width direction, the film is cured in a curing furnace (temperature at the inlet × residence time = 105 ° C. × 9 minutes, maximum temperature × maximum temperature residence time = 450 ° C. × 15 minutes), Thickness 75μ
m long aromatic polyimide film was continuously produced. Table 1 shows the results of measurement and evaluation of the aromatic polyimide film. Using this aromatic polyimide film, a polyimide adhesive (siloxane-modified polyimide) is applied and dried, and then the LOC tape is similarly formed.
Got

【0035】実施例6 実施例1〜5で得られたLOC用テ−プの、パンチング
で短冊形に打ち抜いた切断面を観察した。直線性が保た
れ、ひげやくずの発生が認められなかった場合を○、直
線性が劣り、ひげやくずの発生が認められる場合を×で
示す。このLOC用テ−プをパンチングで打ち抜いた短
冊とリ−ドフレ−ム(42アロイ)とを220℃、10
kg/cm2 、2秒の加熱圧着条件で積層し積層体を得
た。次いで、積層体の剥離強度を測定した。さらに、実
施例1〜5における芳香族ポリイミドフィルムとアクリ
リル系接着剤(デュポン社製 パイララックス)を用い
た他は同様にしてLOC用テ−プを得た。これを用い
て、220℃、20kg/cm2 、40分間の加熱圧着
条件で積層し積層体を得た。パンチング時の切断面の観
測、剥離強度の測定からポリイミド系接着剤と同等の結
果が得られた。また、実施例1〜5における芳香族ポリ
イミドフィルムの加熱収縮(250℃、2時間、JIS
C2318)は、いずれも0.3%以下であった。結
果をまとめて表1に示す。
Example 6 A cut section of the tape for LOC obtained in Examples 1 to 5 punched into a strip shape by punching was observed. The case where the linearity was maintained and generation of beards and debris was not observed is indicated by ○, and the case where linearity was poor and generation of beards and debris was observed is indicated by ×. A strip obtained by punching out this LOC tape and a lead frame (42 alloy) were placed at 220 ° C. for 10 minutes.
The laminate was obtained by laminating under a pressure of 2 kg / cm 2 for 2 seconds to obtain a laminate. Next, the peel strength of the laminate was measured. Further, tapes for LOC were obtained in the same manner as in Examples 1 to 5, except that the aromatic polyimide film and an acrylyl-based adhesive (Pilalux manufactured by DuPont) were used. Using this, lamination was performed under heating and pressure bonding conditions of 220 ° C., 20 kg / cm 2 and 40 minutes to obtain a laminate. From the observation of the cut surface during punching and the measurement of the peel strength, the same results as those of the polyimide adhesive were obtained. Further, the heat shrinkage of the aromatic polyimide film in Examples 1 to 5 (250 ° C., 2 hours, JIS
C2318) was 0.3% or less. The results are summarized in Table 1.

【0036】[0036]

【表1】 [Table 1]

【0037】[0037]

【発明の効果】この発明は以上説明したように構成され
ているので、以下に記載のような効果を奏する。この発
明のLOC用テ−プは、打ち抜き性が良好であり、しか
も接着性を有しており、高精度の加工が可能である。
Since the present invention is configured as described above, the following effects can be obtained. INDUSTRIAL APPLICABILITY The tape for LOC of the present invention has good punching properties and adhesiveness, and can be processed with high precision.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】この発明における芳香族ポリイミドフィルムの
製造法の一例の、キュア炉内におけるキュア前の好適な
加熱条件の範囲を示す。 縦軸 キュア炉入口における温度(℃)×滞留時間
(分) 横軸 フィルムの厚み(μm) 斜線 好ましい範囲
FIG. 1 shows a range of suitable heating conditions before curing in a curing furnace in an example of a method for producing an aromatic polyimide film according to the present invention. Vertical axis Temperature at the entrance of cure furnace (° C) × Residence time (minutes) Horizontal axis Film thickness (μm) Oblique line Preferred range

Claims (10)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 少なくとも15モル%のビフェニルテト
ラカルボン酸もしくはその二無水物またはエステルを含
むテトラカルボン酸成分と、少なくとも5モル%のフェ
ニレンジアミンを含む芳香族ジアミン成分との反応によ
って製造されたポリイミドからなる、厚みが20〜80
μmであって、11〜22kg/20mm/10μmの
比端裂抵抗値を持ち、かつ残揮発物量が0.4重量%以
下である芳香族ポリイミドフィルムの両面に接着剤層を
設けた接着剤付きポリイミドシ−トをスリットしてなる
LOC用テ−プ。
1. A polyimide prepared by reacting a tetracarboxylic acid component containing at least 15 mol% of biphenyltetracarboxylic acid or a dianhydride or ester thereof with an aromatic diamine component containing at least 5 mol% of phenylenediamine. Consisting of a thickness of 20 to 80
With an adhesive having an adhesive layer provided on both surfaces of an aromatic polyimide film having a specific edge resistance of 11 to 22 kg / 20 mm / 10 μm and a residual volatile matter amount of 0.4% by weight or less. LOC tape formed by slitting a polyimide sheet.
【請求項2】 芳香族ポリイミドフィルムの比端裂抵抗
値が11〜15kg/20mm/10μmの範囲にある
請求項1記載のLOC用テ−プ。
2. The LOC tape according to claim 1, wherein the specific tear resistance of the aromatic polyimide film is in the range of 11 to 15 kg / 20 mm / 10 μm.
【請求項3】 芳香族ポリイミドフィルムの残揮発物量
が0.35重量%以下である請求項1もしくは2記載の
LOC用テ−プ。
3. The tape for LOC according to claim 1, wherein the residual volatile matter content of the aromatic polyimide film is 0.35% by weight or less.
【請求項4】 芳香族ポリイミドフィルムの残揮発物量
が0.3重量%以下である請求項1もしくは2記載のL
OC用テ−プ。
4. The L according to claim 1, wherein the amount of residual volatile matter in the aromatic polyimide film is 0.3% by weight or less.
Tape for OC.
【請求項5】 芳香族ポリイミドフィルムの残揮発物量
が0.2重量%以下である請求項1もしくは2記載のL
OC用テ−プ。
5. The L according to claim 1, wherein the amount of residual volatile matter in the aromatic polyimide film is 0.2% by weight or less.
Tape for OC.
【請求項6】 芳香族ポリイミドフィルムの少なくとも
片方の表面を含む層が無機フィラ−を、芳香族ポリイミ
ドに対する割合で0.02〜6重量%含有している請求
項1乃至5のうちのいずれかの項に記載のLOC用テ−
プ。
6. The method according to claim 1, wherein the layer containing at least one surface of the aromatic polyimide film contains 0.02 to 6% by weight of the inorganic filler relative to the aromatic polyimide. Of LOC described in the section
H.
【請求項7】 芳香族ポリイミドフィルムの両面が表面
処理剤処理、コロナ放電処理、火炎処理、紫外線照射、
グロ−放電処理、プラズマ処理のいずれか1つ以上の表
面処理がされている請求項1乃至6のうちのいずれかの
項に記載のLOC用テ−プ。
7. Both surfaces of the aromatic polyimide film are treated with a surface treatment agent, corona discharge treatment, flame treatment, ultraviolet irradiation,
The LOC tape according to any one of claims 1 to 6, wherein at least one of a glow discharge treatment and a plasma treatment is subjected to a surface treatment.
【請求項8】 芳香族ポリイミドフィルムの吸水率が
1.8%以下、引張弾性率が450Kg/mm2 以上そ
して線膨張係数(50〜200℃)が0.5×10-5
2.5×10-5cm/cm/℃で請求項1乃至7のうち
のいずれかの項に記載のLOC用テ−プ。
8. The aromatic polyimide film has a water absorption of 1.8% or less, a tensile modulus of 450 kg / mm 2 or more, and a coefficient of linear expansion (50 to 200 ° C.) of 0.5 × 10 −5 or less.
The LOC tape according to any one of claims 1 to 7, wherein the tape is at 2.5 x 10 -5 cm / cm / ° C.
【請求項9】 芳香族ポリイミドフィルムの絶縁破壊電
圧が3KV以上であって、体積抵抗率(25℃)が1 ×
1015Ω・cm以上である請求項1乃至8のうちのいず
れかの項に記載のLOC用テ−プ。
9. The aromatic polyimide film has a dielectric breakdown voltage of 3 KV or more and a volume resistivity (25 ° C.) of 1 ×.
10 15 Ω · cm or more in which one of claims to Te for LOC according to one of claims 1 to 8 - flop.
【請求項10】 接着剤が、熱可塑性接着剤もしくは熱
硬化性接着剤からなる請求項9に記載のLOC用テ−
プ。
10. The LOC tape according to claim 9, wherein the adhesive comprises a thermoplastic adhesive or a thermosetting adhesive.
H.
JP9104325A 1997-04-22 1997-04-22 Tape for loc Pending JPH10298509A (en)

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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002080623A (en) * 2000-09-06 2002-03-19 Du Pont Toray Co Ltd Polyimide film and use thereof
JP2003082306A (en) * 2001-09-17 2003-03-19 Hitachi Chem Co Ltd Adhesive film for semiconductor and its application
JP2006160957A (en) * 2004-12-09 2006-06-22 Kaneka Corp Adhesive film

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