JPH10290988A - 写真処理由来の液状残留物の処理方法 - Google Patents
写真処理由来の液状残留物の処理方法Info
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Abstract
(57)【要約】 （修正有）
【課題】法規制により、写真処理由来の液状残留物に含
まれる有害物質を除去する処理を行わずに水路又は公共
下水路中に注ぎ込むことができない液状残留物を処理す
る方法を提供する。 【解決手段】写真処理由来の液状残留物を複数の段階で
酸化させ、沈殿した固体成分をその後分離する写真処理
由来の液状残留物の処理方法であって、処理すべき残留
物に、(a)酸素酸化処理、(b)酸素支援緩和アノード酸化
処理、次いで(c)オゾン酸化処理を施し、そして(d)ｐＨ
値を設定し且つ補助物質を添加した後、沈殿した固形分
を濾別する。
まれる有害物質を除去する処理を行わずに水路又は公共
下水路中に注ぎ込むことができない液状残留物を処理す
る方法を提供する。 【解決手段】写真処理由来の液状残留物を複数の段階で
酸化させ、沈殿した固体成分をその後分離する写真処理
由来の液状残留物の処理方法であって、処理すべき残留
物に、(a)酸素酸化処理、(b)酸素支援緩和アノード酸化
処理、次いで(c)オゾン酸化処理を施し、そして(d)ｐＨ
値を設定し且つ補助物質を添加した後、沈殿した固形分
を濾別する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、法規制により、写
真処理由来の液状残留物に含まれる有害物質を除去する
処理を行わずに水路又は公共下水路中に注ぎ込むことが
できない液状残留物を処理する方法に関する。
真処理由来の液状残留物に含まれる有害物質を除去する
処理を行わずに水路又は公共下水路中に注ぎ込むことが
できない液状残留物を処理する方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】写真処理において発生し処理を要する液
状残留物は、特に現像浴、定着浴、漂白浴、漂定着浴、
停止浴、中断及び減衰浴、場合によってはリンス水であ
る。残留物中の除去されるべき有害成分は、特に、銀や
鉄などの金属、亜硫酸塩やチオ硫酸塩などの含硫黄化合
物、さらにはアンモニウム、錯生成剤並びに還元性の芳
香族有機化合物、例えば、ヒドロキノン、アミノフェノ
ール及びフェニレンジアミンである。
状残留物は、特に現像浴、定着浴、漂白浴、漂定着浴、
停止浴、中断及び減衰浴、場合によってはリンス水であ
る。残留物中の除去されるべき有害成分は、特に、銀や
鉄などの金属、亜硫酸塩やチオ硫酸塩などの含硫黄化合
物、さらにはアンモニウム、錯生成剤並びに還元性の芳
香族有機化合物、例えば、ヒドロキノン、アミノフェノ
ール及びフェニレンジアミンである。
【０００３】処理すべき液状残留物のＣＳＢ値は１０
０，０００ｇ／ｍ3 を超えることがあり、またそのＢＳ
Ｂ5 値は最大で５０，０００ｇ／ｍ3 となりうる。写真
処理由来の液状残留物を処理するための従来より知られ
ている方法は、例えば、手術室、スタジオ、レーダー及
び航空機監視施設、印刷会社、写真ラボ、病院、ステー
ト写真体(state photographic bodies) 、再生会社、Ｐ
ＣＢ製造業者、等で見ることができるが、一般に、残留
物を電解的に脱銀処理し、残留性の銀その他重金属を沈
殿剤（例、Ｈ2 Ｓ又はＮａ2 Ｓ）により沈殿させ、亜硫
酸塩及びチオ硫酸塩を酸化させ、生成した硫酸塩を硫酸
カルシウムとして沈殿させ、そしてアンモニウム窒素を
アンモニアの形態でストリッピングする工程を基本とし
ている。
０，０００ｇ／ｍ3 を超えることがあり、またそのＢＳ
Ｂ5 値は最大で５０，０００ｇ／ｍ3 となりうる。写真
処理由来の液状残留物を処理するための従来より知られ
ている方法は、例えば、手術室、スタジオ、レーダー及
び航空機監視施設、印刷会社、写真ラボ、病院、ステー
ト写真体(state photographic bodies) 、再生会社、Ｐ
ＣＢ製造業者、等で見ることができるが、一般に、残留
物を電解的に脱銀処理し、残留性の銀その他重金属を沈
殿剤（例、Ｈ2 Ｓ又はＮａ2 Ｓ）により沈殿させ、亜硫
酸塩及びチオ硫酸塩を酸化させ、生成した硫酸塩を硫酸
カルシウムとして沈殿させ、そしてアンモニウム窒素を
アンモニアの形態でストリッピングする工程を基本とし
ている。
【０００４】写真処理由来の液状残留物を処理するため
に今日まで用いられている湿式化学処理法の概要が、食
品、農業及び森林のためのBaden-Wurttemberg State Mi
nistryのワーキングペーパー（１９８６年５月）に記載
されている。このワーキングペーパーでは、亜硫酸塩及
びチオ硫酸塩を酸化して硫酸塩とするための酸化剤とし
て、また脱銀後の残留物に含まれるヒドロキノンのよう
な有害な有機物を酸化させるため、大気中の酸素及び過
酸化水素が記載されている。
に今日まで用いられている湿式化学処理法の概要が、食
品、農業及び森林のためのBaden-Wurttemberg State Mi
nistryのワーキングペーパー（１９８６年５月）に記載
されている。このワーキングペーパーでは、亜硫酸塩及
びチオ硫酸塩を酸化して硫酸塩とするための酸化剤とし
て、また脱銀後の残留物に含まれるヒドロキノンのよう
な有害な有機物を酸化させるため、大気中の酸素及び過
酸化水素が記載されている。
【０００５】さらに別の酸化剤としてオゾンが知られて
おり、例えば、Society of Photographic Scientists a
nd Engineers, Vol. 14, No. 4, June-July 1972及びVo
l. 14, No. 5, August-September 1972 の刊行物、並び
にJournal WPCF, Vol. 47, No. 8, 1975, pp. 2114-219
に掲載されているT.W. Bober及びT.J. Dagonの論文に記
載されている。従来公知の応用方法により有害物質は大
幅に削減され得るが、公衆の環境問題への意識の高まり
により、有害物質の削減に対する要求も高まりつつあ
る。このことは、液状残留物中に含まれる個々の有害物
質について法的に許容されている限界値が当局によって
抑制され続けることを意味する。
おり、例えば、Society of Photographic Scientists a
nd Engineers, Vol. 14, No. 4, June-July 1972及びVo
l. 14, No. 5, August-September 1972 の刊行物、並び
にJournal WPCF, Vol. 47, No. 8, 1975, pp. 2114-219
に掲載されているT.W. Bober及びT.J. Dagonの論文に記
載されている。従来公知の応用方法により有害物質は大
幅に削減され得るが、公衆の環境問題への意識の高まり
により、有害物質の削減に対する要求も高まりつつあ
る。このことは、液状残留物中に含まれる個々の有害物
質について法的に許容されている限界値が当局によって
抑制され続けることを意味する。
【０００６】従って、写真処理由来の液状残留物（例え
ば、フォトケミカル廃棄物）の処理の有効性を可能な限
り高めることができる方法が必要とされている。下記の
処理工程を含む方法がＤＥ−ＯＳ３９２１４３６号に記
載されている： １．連続的又は断続的に発生した廃水を保存タンクに移
す工程； ２．ここで反応し得る物質の予備還元のための補助的な
生物学的処理工程； ３．廃水の酸化され易い成分のための空気又は別の含酸
素ガスを使用した酸素通気工程； ４．二以上の反応器段階において、分解しにくい成分の
十分な残留酸化のためのオゾン添加をｐＨ値制御と同時
に行う工程；並びに ５．化学的及び／又は光化学的触媒ＯＨラジカル反応に
よる触媒的後処理。
ば、フォトケミカル廃棄物）の処理の有効性を可能な限
り高めることができる方法が必要とされている。下記の
処理工程を含む方法がＤＥ−ＯＳ３９２１４３６号に記
載されている： １．連続的又は断続的に発生した廃水を保存タンクに移
す工程； ２．ここで反応し得る物質の予備還元のための補助的な
生物学的処理工程； ３．廃水の酸化され易い成分のための空気又は別の含酸
素ガスを使用した酸素通気工程； ４．二以上の反応器段階において、分解しにくい成分の
十分な残留酸化のためのオゾン添加をｐＨ値制御と同時
に行う工程；並びに ５．化学的及び／又は光化学的触媒ＯＨラジカル反応に
よる触媒的後処理。
【０００７】この方法の中心は、生物学的処理と二つの
酸化段階との組合せにある。ＤＥ−ＯＳ３９２１４３６
号には、工程５の化学的及び／又は光化学的触媒ＯＨラ
ジカル反応による触媒的後処理についてさらに詳細には
記載されていない。さらに、有害な物質を特に有効に削
減することができる写真処理由来の液状残留物を処理す
るための方法がＤＥ４０３１６０９号に記載されてい
る。この公知方法は特に下記の工程を実施するものであ
る。 ａ）ＣＢＳ値を好ましくは９０％を上回る量低下させる
工程； ｂ）亜硫酸塩及びチオ硫酸塩を可能な限り完全に酸化し
て硫酸塩にする工程； ｃ）錯生成剤、例えば、(NH4)FeEDTA, EDTA 及びPDTA並
びに錯体、例えば、(Fe(CN)6)4- を可能な限り完全に分
解させる工程； ｄ）アンモニウム含有量を有効に減少させる工程； ｅ）鉄含分を可能な限り完全に排除する工程；並びに ｆ）ＡＯＸ（吸収可能な有機ハロゲン化物化合物）測定
法により検出可能な反応生成物を可能な限り完全に排除
する工程。
酸化段階との組合せにある。ＤＥ−ＯＳ３９２１４３６
号には、工程５の化学的及び／又は光化学的触媒ＯＨラ
ジカル反応による触媒的後処理についてさらに詳細には
記載されていない。さらに、有害な物質を特に有効に削
減することができる写真処理由来の液状残留物を処理す
るための方法がＤＥ４０３１６０９号に記載されてい
る。この公知方法は特に下記の工程を実施するものであ
る。 ａ）ＣＢＳ値を好ましくは９０％を上回る量低下させる
工程； ｂ）亜硫酸塩及びチオ硫酸塩を可能な限り完全に酸化し
て硫酸塩にする工程； ｃ）錯生成剤、例えば、(NH4)FeEDTA, EDTA 及びPDTA並
びに錯体、例えば、(Fe(CN)6)4- を可能な限り完全に分
解させる工程； ｄ）アンモニウム含有量を有効に減少させる工程； ｅ）鉄含分を可能な限り完全に排除する工程；並びに ｆ）ＡＯＸ（吸収可能な有機ハロゲン化物化合物）測定
法により検出可能な反応生成物を可能な限り完全に排除
する工程。
【０００８】ＤＥ４０３１６０９号により公知となって
いる方法は、処理すべき残留物に、 ａ）酸素酸化処理、及び ｂ）オゾン酸化処理を施し、 ｃ）酸化された残留物からハロゲン化物イオンを除去
し、 ｄ）ハロゲン化物イオンが大部分除かれた残留物にアノ
ード後酸化処理、次いで ｅ）カソード還元処理を施し、その後 ｆ）中和し、最後に ｇ）沈殿した固形分を濾別する、ことを特徴とする。
いる方法は、処理すべき残留物に、 ａ）酸素酸化処理、及び ｂ）オゾン酸化処理を施し、 ｃ）酸化された残留物からハロゲン化物イオンを除去
し、 ｄ）ハロゲン化物イオンが大部分除かれた残留物にアノ
ード後酸化処理、次いで ｅ）カソード還元処理を施し、その後 ｆ）中和し、最後に ｇ）沈殿した固形分を濾別する、ことを特徴とする。
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、ＤＥ
４０３１６０９号により公知となっている方法をさらに
改良することにある。この目的は、水路又は公共下水路
中に排出される処理廃水の水質を一層改善すると同時
に、処理コストの削減を達成することにあった。具体的
には、非生分解性物質による飲料水汚染を一段と抑制す
るために、ＥＤＴＡやＰＤＴＡのような錯生成剤を一層
大量に分解することに成功した。さらに、本発明の方法
は多様な使用法が可能であり、すなわち、写真処理由来
の多種多様な液状残留物、例えば、使用済／消耗済のＸ
線及びリプロ用現像浴、定着浴、フィルム及び印画紙用
現像浴、漂定着浴、等の処理が可能である。
４０３１６０９号により公知となっている方法をさらに
改良することにある。この目的は、水路又は公共下水路
中に排出される処理廃水の水質を一層改善すると同時
に、処理コストの削減を達成することにあった。具体的
には、非生分解性物質による飲料水汚染を一段と抑制す
るために、ＥＤＴＡやＰＤＴＡのような錯生成剤を一層
大量に分解することに成功した。さらに、本発明の方法
は多様な使用法が可能であり、すなわち、写真処理由来
の多種多様な液状残留物、例えば、使用済／消耗済のＸ
線及びリプロ用現像浴、定着浴、フィルム及び印画紙用
現像浴、漂定着浴、等の処理が可能である。
【００１０】
【課題を解決するための手段】上記目的は、処理すべき
残留物に、(a) 酸素酸化処理、(b) 酸素支援緩和アノー
ド酸化処理、次いで(c) オゾン酸化処理を施し、そして
(d) ｐＨ値を設定し且つ補助物質を添加した後、沈殿し
た固形分を濾別することを特徴とする本発明によって達
成された。
残留物に、(a) 酸素酸化処理、(b) 酸素支援緩和アノー
ド酸化処理、次いで(c) オゾン酸化処理を施し、そして
(d) ｐＨ値を設定し且つ補助物質を添加した後、沈殿し
た固形分を濾別することを特徴とする本発明によって達
成された。
【００１１】本発明の方法は、希釈された残留物、すな
わち運転中に発生した後に洗浄水や水道水によって元の
容量の１０〜２０倍に希釈された残留物の処理も、運転
中に発生する高濃度の水性残留物の処理も、どちらも可
能である。さらに、処理施設には、各種浴からの混合
物、例えば、現像浴のようなチオ硫酸塩を含まない浴の
残留物、及び定着浴や漂定着浴のようなチオ硫酸塩を含
む浴の残留物からの混合物、を代表する高濃度の及び希
釈された水性残留物を供給することができる。しかしな
がら、処理施設に、チオ硫酸塩含有残留物と、チオ硫酸
塩を含まない又はほとんど含まない残留物とを別々に供
給し、該チオ硫酸塩含有残留物に穏やかな酸素支援アノ
ード酸化処理を施してからオゾン酸化処理を施すことに
よって、本法の最適化を図ることが有利となる場合もあ
る。
わち運転中に発生した後に洗浄水や水道水によって元の
容量の１０〜２０倍に希釈された残留物の処理も、運転
中に発生する高濃度の水性残留物の処理も、どちらも可
能である。さらに、処理施設には、各種浴からの混合
物、例えば、現像浴のようなチオ硫酸塩を含まない浴の
残留物、及び定着浴や漂定着浴のようなチオ硫酸塩を含
む浴の残留物からの混合物、を代表する高濃度の及び希
釈された水性残留物を供給することができる。しかしな
がら、処理施設に、チオ硫酸塩含有残留物と、チオ硫酸
塩を含まない又はほとんど含まない残留物とを別々に供
給し、該チオ硫酸塩含有残留物に穏やかな酸素支援アノ
ード酸化処理を施してからオゾン酸化処理を施すことに
よって、本法の最適化を図ることが有利となる場合もあ
る。
【００１２】さらに、工程 (a)〜(c) により処理される
残留物に、ＵＶ及びＨ2 Ｏ2 支援アノード後酸化処理を
施すことが有利な場合もある。本発明の第一の有利な実
施態様による手順は、チオ硫酸塩を含まない残留物とチ
オ硫酸塩を含む残留物とに互いに別々に工程(a) による
酸素酸化処理を施し、得られた処理後のチオ硫酸塩を含
む方の部分流に酸素支援アノード酸化処理を施してから
部分流を合体させこれにオゾン酸化処理を施す、という
ものである。
残留物に、ＵＶ及びＨ2 Ｏ2 支援アノード後酸化処理を
施すことが有利な場合もある。本発明の第一の有利な実
施態様による手順は、チオ硫酸塩を含まない残留物とチ
オ硫酸塩を含む残留物とに互いに別々に工程(a) による
酸素酸化処理を施し、得られた処理後のチオ硫酸塩を含
む方の部分流に酸素支援アノード酸化処理を施してから
部分流を合体させこれにオゾン酸化処理を施す、という
ものである。
【００１３】本発明の第二の有利な実施態様によると、
チオ硫酸塩を含まない残留物とチオ硫酸塩を含む残留物
とに互いに別々に工程(a) による酸素酸化処理を施し、
得られた処理後のチオ硫酸塩を含む方の部分流に酸素支
援アノード酸化処理を施してから部分流を合体させこれ
にオゾン酸化処理を施し、その後、Ｈ2 Ｏ2 及びＵＶ光
支援アノード酸化（後酸化）処理を施してから固形分を
沈殿させ分離する、というものである。
チオ硫酸塩を含まない残留物とチオ硫酸塩を含む残留物
とに互いに別々に工程(a) による酸素酸化処理を施し、
得られた処理後のチオ硫酸塩を含む方の部分流に酸素支
援アノード酸化処理を施してから部分流を合体させこれ
にオゾン酸化処理を施し、その後、Ｈ2 Ｏ2 及びＵＶ光
支援アノード酸化（後酸化）処理を施してから固形分を
沈殿させ分離する、というものである。
【００１４】本発明の第三の特に有利な実施態様による
と、オゾン酸化をＨ2 Ｏ2 を添加することにより支援す
る。本発明のさらに別の有利な実施態様を後段に好まし
い実施態様として記載する。以下、個々の処理工程を詳
細に説明する。
と、オゾン酸化をＨ2 Ｏ2 を添加することにより支援す
る。本発明のさらに別の有利な実施態様を後段に好まし
い実施態様として記載する。以下、個々の処理工程を詳
細に説明する。
【００１５】ａ）酸素酸化処理 この酸素酸化処理（通気）は、比較的酸化され易い有害
物質、特に亜硫酸塩の酸化に役立つ処理である。酸素酸
化は、酸素運搬体としての空気により、好ましくは処理
すべき残留物中に空気を吹き込むことにより、最良に達
成される。空気の分配が非常に重要であることが明らか
となっている。従って、例えば、吹き込まれた空気を可
能な限り微細に展開させるガスディストリビュータを補
助装置として使用し、圧縮空気を吹き込む方法により酸
素酸化を行うことができる。しかしながら、吸引ジェッ
ト原理を使用すると一層効果的であることが立証されて
いる。この原理は、ポンプトランスファー回路中の大気
を引き込み、タンク液中に一様に分布させるものであ
る。第二のポンプトランスファー回路も空気添加に有利
となることがある。吸引ジェット原理は、チオ硫酸塩を
含まない残留物及びチオ硫酸塩を含む残留物に対し、ガ
ス分配装置を具備した従来のコンプレッサの２倍の効果
を有することがわかっている。酸素酸化の進行は、例え
ば、亜硫酸塩含有量を連続測定することによって追跡す
ることができる。残留物は、最初に存在する亜硫酸塩の
８０乃至９０％が酸化されて硫酸塩になるまで工程(a)
において空気その他の酸素含有ガスで処理されると有利
であることが立証された。
物質、特に亜硫酸塩の酸化に役立つ処理である。酸素酸
化は、酸素運搬体としての空気により、好ましくは処理
すべき残留物中に空気を吹き込むことにより、最良に達
成される。空気の分配が非常に重要であることが明らか
となっている。従って、例えば、吹き込まれた空気を可
能な限り微細に展開させるガスディストリビュータを補
助装置として使用し、圧縮空気を吹き込む方法により酸
素酸化を行うことができる。しかしながら、吸引ジェッ
ト原理を使用すると一層効果的であることが立証されて
いる。この原理は、ポンプトランスファー回路中の大気
を引き込み、タンク液中に一様に分布させるものであ
る。第二のポンプトランスファー回路も空気添加に有利
となることがある。吸引ジェット原理は、チオ硫酸塩を
含まない残留物及びチオ硫酸塩を含む残留物に対し、ガ
ス分配装置を具備した従来のコンプレッサの２倍の効果
を有することがわかっている。酸素酸化の進行は、例え
ば、亜硫酸塩含有量を連続測定することによって追跡す
ることができる。残留物は、最初に存在する亜硫酸塩の
８０乃至９０％が酸化されて硫酸塩になるまで工程(a)
において空気その他の酸素含有ガスで処理されると有利
であることが立証された。
【００１６】チオ硫酸塩を含む溶液中の溶存酸素が増加
すると、続く工程(b) におけるアノード酸化が、非常に
低い電流強度（１００〜２００Ａの代わりにわずか１０
Ａ）で且つ元素硫黄を実質的に生成させることなく実行
可能となる。このため、困難な硫黄の分離をする必要が
なくなる。その上、電流収率を１０倍増加させることが
できる。
すると、続く工程(b) におけるアノード酸化が、非常に
低い電流強度（１００〜２００Ａの代わりにわずか１０
Ａ）で且つ元素硫黄を実質的に生成させることなく実行
可能となる。このため、困難な硫黄の分離をする必要が
なくなる。その上、電流収率を１０倍増加させることが
できる。
【００１７】ｂ）アノード酸化処理 チオ硫酸塩を効果的に酸化させるためには、酸素の酸化
電位では十分ではないため、酸素酸化処理中の酸化処理
は必要とされるものではない。しかしながら、チオ硫酸
塩を高電流強度によるアノード酸化によって酸化できる
ことは明らかである。しかしながら、これは多量の望ま
しくない元素硫黄を生ぜしめる。この度、非常に低い電
流強度であっても、残留物のチオ硫酸塩を含有する部分
流における酸素濃度を可能な限り高くする条件で、チオ
硫酸塩の酸化を有効に行えることがわかった。これは、
先に記載したように、吸引ジェット原理を使用すること
で達成することができる。オゾン処理による残留酸素を
使用することにより、最高で３０ｍｇ−Ｏ2 ／Ｌという
特に高い酸素値を達成することができる。
電位では十分ではないため、酸素酸化処理中の酸化処理
は必要とされるものではない。しかしながら、チオ硫酸
塩を高電流強度によるアノード酸化によって酸化できる
ことは明らかである。しかしながら、これは多量の望ま
しくない元素硫黄を生ぜしめる。この度、非常に低い電
流強度であっても、残留物のチオ硫酸塩を含有する部分
流における酸素濃度を可能な限り高くする条件で、チオ
硫酸塩の酸化を有効に行えることがわかった。これは、
先に記載したように、吸引ジェット原理を使用すること
で達成することができる。オゾン処理による残留酸素を
使用することにより、最高で３０ｍｇ−Ｏ2 ／Ｌという
特に高い酸素値を達成することができる。
【００１８】従って、「緩和」アノード酸化処理は、低
い電流強度を使用する酸化処理として理解すべきであ
る。可能な１００〜２００Ａの代わりに、１０〜２０Ａ
の電流強度を有利に使用することができる。
い電流強度を使用する酸化処理として理解すべきであ
る。可能な１００〜２００Ａの代わりに、１０〜２０Ａ
の電流強度を有利に使用することができる。
【００１９】アノード酸化処理には、耐腐食性電極を具
備した公知の電解槽を使用することができる。本発明の
特に有利な実施態様によると、特に耐腐食性の高い貴金
属酸化物（例、白金、ロジウム及びイリジウム並びにそ
れらの特定の混合物）を被覆したチタン製アノード材料
を具備した電解槽を使用する。この種の電解槽は市販さ
れており、例えば、 enViro-Cell（商標）の商品名で同
名の会社から市販されている。後述の試験の場合には、
enViro-Cell（商標）で改変した電解槽、すなわちメン
ブランを取り外しカソードとして特別のスチール製シリ
ンダーを挿入し、その表面に薄いポリエチレンフィルム
をゆるく取り付けたものを使用した。このようにして、
残留物中のチオ硫酸塩を、弱酸性のｐＨ値で、すなわち
元素硫黄の顕著な生成をもたらすことなく、特に迅速に
且つ効果的に酸化させることができる。
備した公知の電解槽を使用することができる。本発明の
特に有利な実施態様によると、特に耐腐食性の高い貴金
属酸化物（例、白金、ロジウム及びイリジウム並びにそ
れらの特定の混合物）を被覆したチタン製アノード材料
を具備した電解槽を使用する。この種の電解槽は市販さ
れており、例えば、 enViro-Cell（商標）の商品名で同
名の会社から市販されている。後述の試験の場合には、
enViro-Cell（商標）で改変した電解槽、すなわちメン
ブランを取り外しカソードとして特別のスチール製シリ
ンダーを挿入し、その表面に薄いポリエチレンフィルム
をゆるく取り付けたものを使用した。このようにして、
残留物中のチオ硫酸塩を、弱酸性のｐＨ値で、すなわち
元素硫黄の顕著な生成をもたらすことなく、特に迅速に
且つ効果的に酸化させることができる。
【００２０】ｃ）オゾン酸化処理 処理される液状残留物中に存在し除去されるべき化合物
の多くを酸化させるには、酸素の酸化電位では不十分で
あることが知られている。特に、チオ硫酸塩、アンモニ
ウム及び有機現像剤の化合物は、酸素酸化に必要な方法
では酸化されることができない。しかしながら、工程
(a)及び(b) ではまだ酸化されない又は完全には酸化さ
れない化合物も、オゾンを使用した酸化により有効に酸
化され得ることが明らかとなっている。これは、各種の
有機化合物及びアンモニウムに特に当てはまる。オゾン
処理は、残留物のＣＳＢ値が６０〜７０％低下するまで
継続することが有用であることが立証されている。
の多くを酸化させるには、酸素の酸化電位では不十分で
あることが知られている。特に、チオ硫酸塩、アンモニ
ウム及び有機現像剤の化合物は、酸素酸化に必要な方法
では酸化されることができない。しかしながら、工程
(a)及び(b) ではまだ酸化されない又は完全には酸化さ
れない化合物も、オゾンを使用した酸化により有効に酸
化され得ることが明らかとなっている。これは、各種の
有機化合物及びアンモニウムに特に当てはまる。オゾン
処理は、残留物のＣＳＢ値が６０〜７０％低下するまで
継続することが有用であることが立証されている。
【００２１】オゾン処理は、標準的なオゾン発生器によ
り得られる酸素／オゾン混合物を、処理すべき残留物の
中に吹き込むことによって行うことができる。オゾン発
生器には、液体酸素から得られる純酸素並びに／又は圧
縮空気及びオゾン酸化処理中に発生した残留ガスの戻り
を供給することができる。本発明の有利な実施態様によ
ると、処理時間を短縮するため、多量のＨ2 Ｏ2を混入
することによりオゾン処理が増強される。このため、特
にＥＤＴＡやＰＤＴＡのような錯生成剤の酸化が一段と
迅速化される。
り得られる酸素／オゾン混合物を、処理すべき残留物の
中に吹き込むことによって行うことができる。オゾン発
生器には、液体酸素から得られる純酸素並びに／又は圧
縮空気及びオゾン酸化処理中に発生した残留ガスの戻り
を供給することができる。本発明の有利な実施態様によ
ると、処理時間を短縮するため、多量のＨ2 Ｏ2を混入
することによりオゾン処理が増強される。このため、特
にＥＤＴＡやＰＤＴＡのような錯生成剤の酸化が一段と
迅速化される。
【００２２】ｄ）アノード後酸化処理 一又は二以上の電解槽で行うアノード後酸化処理を使用
して、酸化処理を完結させ且つＣＳＢ値を処理前残留物
の初期値の約１０重量％という目標値にまでさらに低下
させる。アノード後酸化処理は、特に最初の酸化工程
(a), (b) 及び(c) に耐えた有害物質でさえも迅速に酸
化させるという目的を追求するものである。実際、対応
するアノード材料を有し比較的過電圧の高い適当な電解
槽により、残存する脂肪族化合物のような酸化されにく
い化合物を、さらには酸化工程(c)で発生した化合物を
も、酸化することが可能である。
して、酸化処理を完結させ且つＣＳＢ値を処理前残留物
の初期値の約１０重量％という目標値にまでさらに低下
させる。アノード後酸化処理は、特に最初の酸化工程
(a), (b) 及び(c) に耐えた有害物質でさえも迅速に酸
化させるという目的を追求するものである。実際、対応
するアノード材料を有し比較的過電圧の高い適当な電解
槽により、残存する脂肪族化合物のような酸化されにく
い化合物を、さらには酸化工程(c)で発生した化合物を
も、酸化することが可能である。
【００２３】アノード領域とカソード領域を分離する必
要がある。このアノード領域とカソード領域の分離はダ
イアフラムを使用すると有利に行うことができ、このダ
イアフラムの例として多孔質ポリエチレン製のものを使
用することができる。カソード領域は、生成する水酸化
物溶液のおかげで導電性となる。後述の実施例の場合で
は、蒸留水しか添加しなかった。アノード領域の体積
は、例えば、二つのポリエチレン製シリンダーを使用す
ることによって有利に減少することができる。
要がある。このアノード領域とカソード領域の分離はダ
イアフラムを使用すると有利に行うことができ、このダ
イアフラムの例として多孔質ポリエチレン製のものを使
用することができる。カソード領域は、生成する水酸化
物溶液のおかげで導電性となる。後述の実施例の場合で
は、蒸留水しか添加しなかった。アノード領域の体積
は、例えば、二つのポリエチレン製シリンダーを使用す
ることによって有利に減少することができる。
【００２４】個別具体的なケースで使用すべき最適電流
強度は導電性に、すなわちアノード領域及びカソード領
域における溶液の塩濃度に依存する。処理工程を実施す
るためには、耐腐食性電極を具備した公知の多種多様な
電解槽が適している。本発明の特に有利な実施態様によ
ると、特に耐腐食性の高い貴金属酸化物（例、白金、ロ
ジウム及びイリジウム並びにそれらの特定の混合物）を
被覆したチタン製アノード材料を具備した電解槽を使用
する。この種の電解槽は市販されており、例えば、 enV
iro-Cell（商標）の商品名で同名の会社から市販されて
いる。
強度は導電性に、すなわちアノード領域及びカソード領
域における溶液の塩濃度に依存する。処理工程を実施す
るためには、耐腐食性電極を具備した公知の多種多様な
電解槽が適している。本発明の特に有利な実施態様によ
ると、特に耐腐食性の高い貴金属酸化物（例、白金、ロ
ジウム及びイリジウム並びにそれらの特定の混合物）を
被覆したチタン製アノード材料を具備した電解槽を使用
する。この種の電解槽は市販されており、例えば、 enV
iro-Cell（商標）の商品名で同名の会社から市販されて
いる。
【００２５】本発明の特に有利な実施態様によると、Ｈ
2 Ｏ2 を連続的に添加し、そして電解ユニットのアノー
ド領域を通過して流れる残留物に、落膜式反応器（Roed
er,Jung & Partner製）を使用して高圧ＵＶ輻射線を直
接暴露する。この組合せにより、ＣＳＢを特に迅速に一
段と低下させることができ、さらにＥＤＴＡ／ＰＤＴＡ
錯体を非常に大量に分解させることができる。Ｈ2 Ｏ2
の添加と高圧ＵＶ輻射線を付帯したアノード後酸化処理
により、ＥＤＴＡ／ＰＤＴＡを検出限界にまで迅速且つ
非常に大量に排除することができると同時に、濾過後の
廃水中の鉄含有量を非常に少なくできる。
2 Ｏ2 を連続的に添加し、そして電解ユニットのアノー
ド領域を通過して流れる残留物に、落膜式反応器（Roed
er,Jung & Partner製）を使用して高圧ＵＶ輻射線を直
接暴露する。この組合せにより、ＣＳＢを特に迅速に一
段と低下させることができ、さらにＥＤＴＡ／ＰＤＴＡ
錯体を非常に大量に分解させることができる。Ｈ2 Ｏ2
の添加と高圧ＵＶ輻射線を付帯したアノード後酸化処理
により、ＥＤＴＡ／ＰＤＴＡを検出限界にまで迅速且つ
非常に大量に排除することができると同時に、濾過後の
廃水中の鉄含有量を非常に少なくできる。
【００２６】ｅ）濾過処理 アノード後酸化処理を受けた廃水は若干アルカリ性とな
る。廃水中に含まれる鉄は水酸化物として存在する。こ
の廃水を今度は酸性化すること、好ましくはｐＨ＝４に
することが有利であり、石灰ミルク及び水ガラスと混合
した後、カ性ソーダ溶液を用いて再度アルカリ性とす
る。従来より公知の凝集剤を添加した後、沈殿したスラ
ッジを容易に濾過することができ、そして固形分を廃棄
する。その後、沈殿物を除いた廃水は下水路中へ排出す
ることができる。
る。廃水中に含まれる鉄は水酸化物として存在する。こ
の廃水を今度は酸性化すること、好ましくはｐＨ＝４に
することが有利であり、石灰ミルク及び水ガラスと混合
した後、カ性ソーダ溶液を用いて再度アルカリ性とす
る。従来より公知の凝集剤を添加した後、沈殿したスラ
ッジを容易に濾過することができ、そして固形分を廃棄
する。その後、沈殿物を除いた廃水は下水路中へ排出す
ることができる。
【００２７】図面 図面は本発明をより詳細に説明するためのものである。
図示したケースは、チオ硫酸塩を含む未希釈残留物とチ
オ硫酸塩を含まない未希釈残留物とを、すなわち、一方
は現像液残留物であり、他方は定着浴／漂定着浴及び漂
白浴であるものを別々に集めて処理する場合である。図
面に示したように、収集タンク１に集められた写真処理
由来のチオ硫酸塩を含まない残留物は、管路２を通して
タンク５に移送され、そこで酸素酸化処理を、例えば、
管路７を介して供給される吸引ジェットを使用して空気
を添加すること又は空気を吹き込むことにより施され
る。
図示したケースは、チオ硫酸塩を含む未希釈残留物とチ
オ硫酸塩を含まない未希釈残留物とを、すなわち、一方
は現像液残留物であり、他方は定着浴／漂定着浴及び漂
白浴であるものを別々に集めて処理する場合である。図
面に示したように、収集タンク１に集められた写真処理
由来のチオ硫酸塩を含まない残留物は、管路２を通して
タンク５に移送され、そこで酸素酸化処理を、例えば、
管路７を介して供給される吸引ジェットを使用して空気
を添加すること又は空気を吹き込むことにより施され
る。
【００２８】写真処理由来のチオ硫酸塩を含む残留物
は、収集タンク３から管路４を介してタンク６に移送さ
れ、そこで酸素酸化処理を、例えば、管路８を介して供
給される吸引ジェットを使用して空気を添加すること又
は空気を吹き込むことにより施される。管路９及び１０
は排気のためのものである。酸素酸化処理が完了した
後、空気酸化後のチオ硫酸塩を含む残留物は、管路１２
を介して電解装置１３に移送される。電解装置１３は、
ｐＨ値が制御されるタンク、ポンプ移送装置及び電解槽
から構成されている。必要であれば、一つの電解槽の代
わりに、複数の電解槽を並列又は直列に接続したものを
使用することもできる。一又は二以上の吸引ジェットに
より、オゾン酸化処理由来の廃気１７に含まれる酸素を
管路１５を介して電解装置１３へ送り込む。電解装置１
３は管路１６を介して廃気系１７に接続されている。
は、収集タンク３から管路４を介してタンク６に移送さ
れ、そこで酸素酸化処理を、例えば、管路８を介して供
給される吸引ジェットを使用して空気を添加すること又
は空気を吹き込むことにより施される。管路９及び１０
は排気のためのものである。酸素酸化処理が完了した
後、空気酸化後のチオ硫酸塩を含む残留物は、管路１２
を介して電解装置１３に移送される。電解装置１３は、
ｐＨ値が制御されるタンク、ポンプ移送装置及び電解槽
から構成されている。必要であれば、一つの電解槽の代
わりに、複数の電解槽を並列又は直列に接続したものを
使用することもできる。一又は二以上の吸引ジェットに
より、オゾン酸化処理由来の廃気１７に含まれる酸素を
管路１５を介して電解装置１３へ送り込む。電解装置１
３は管路１６を介して廃気系１７に接続されている。
【００２９】チオ硫酸塩を含まない残留物の酸素酸化処
理とチオ硫酸塩を含む残留物の電解酸化処理とが完了し
た後、後者は適当な混合比で管路１１及び１４を介し
て、その後は一緒に管路１８を介してタンク１９に送ら
れ、そこで、酸素及び残留オゾンを含有するタンク２２
からの廃気流２０による前オゾン処理が施される。この
前オゾン処理を施された廃水は、管路２１を介してタン
ク２２に送られて、正式にオゾン処理が施される。オゾ
ン処理タンクを二つ設ける代わりに、必要に応じて数個
を使用してもよい。
理とチオ硫酸塩を含む残留物の電解酸化処理とが完了し
た後、後者は適当な混合比で管路１１及び１４を介し
て、その後は一緒に管路１８を介してタンク１９に送ら
れ、そこで、酸素及び残留オゾンを含有するタンク２２
からの廃気流２０による前オゾン処理が施される。この
前オゾン処理を施された廃水は、管路２１を介してタン
ク２２に送られて、正式にオゾン処理が施される。オゾ
ン処理タンクを二つ設ける代わりに、必要に応じて数個
を使用してもよい。
【００３０】必要なオゾンは、オゾン発生器２３で液体
酸素２３ａから得られる純酸素流において得られ、オゾ
ン／酸素混合物の形態で管路２５を介してタンク２２に
その下部から送り込み、廃水と可能な限り十分に接触さ
せるようにする。数個のタンクを前後に連結する場合に
は、各タンクにおける酸素混合物を下部から廃水に送り
込むか又はタンクの廃気を下部から前のタンクへカスケ
ード原理で送り込む。
酸素２３ａから得られる純酸素流において得られ、オゾ
ン／酸素混合物の形態で管路２５を介してタンク２２に
その下部から送り込み、廃水と可能な限り十分に接触さ
せるようにする。数個のタンクを前後に連結する場合に
は、各タンクにおける酸素混合物を下部から廃水に送り
込むか又はタンクの廃気を下部から前のタンクへカスケ
ード原理で送り込む。
【００３１】オゾンによる酸化効果を増強するため、管
路２６から過酸化水素を連続的に添加する。管路２７、
２８及び２９（オゾン発生器が別々に配置されている場
合）を介してオゾン監視装置２４を使用して廃気及び室
内空気のオゾン監視を有利に行うことができる。該装置
は、オゾン濃度が一定値を超えた場合にオゾン発生器２
３のスイッチを切る。
路２６から過酸化水素を連続的に添加する。管路２７、
２８及び２９（オゾン発生器が別々に配置されている場
合）を介してオゾン監視装置２４を使用して廃気及び室
内空気のオゾン監視を有利に行うことができる。該装置
は、オゾン濃度が一定値を超えた場合にオゾン発生器２
３のスイッチを切る。
【００３２】残留物は、オゾン処理タンク２２から管路
３０を介して後続の電解処理のための仮保存タンク３１
に送られる。残留物は、管路３３を介して電解／ＵＶ光
処理ステーション３２／３５に送られる。電解ステーシ
ョン３２において、残留物に、過酸化水素を計量装置３
４を介して連続添加しながらアノード酸化処理を施す。
残留物は、別の回路３６においてＵＶ輻射線に晒され
る。電解ステーション３２の電解槽は、チオ硫酸塩を酸
化するために使用した電解槽に対応する構造を有するこ
とができる。しかしながら、市販の enViro 電解槽を使
用すると特に有利であることが立証された。この槽は、
ポリプロピレンハウジングを変更した丸い槽であって、
ポリエチレン製シリンダーをアノードとハウジングの間
に挿入してアノード容量を減少させ、よって流量を増大
させたものである。アノードは、チタン製膨張金属シリ
ンダーの表面に貴金属酸化物（上記の白金族金属）を被
覆した従来のもので構成した。カソードは、粒状炭素で
包囲した金属ロッドの代わりに、アノードの場合と同じ
く、膨張チタンシリンダーに貴金属酸化物を被覆したも
のとした。このカソードの周囲には、ダイアフラムとし
て働く多孔質ポリエチレンのシリンダーと、アノードの
容量をさらに減少させるためのポリエチレンのオープン
シリンダーを配置した。
３０を介して後続の電解処理のための仮保存タンク３１
に送られる。残留物は、管路３３を介して電解／ＵＶ光
処理ステーション３２／３５に送られる。電解ステーシ
ョン３２において、残留物に、過酸化水素を計量装置３
４を介して連続添加しながらアノード酸化処理を施す。
残留物は、別の回路３６においてＵＶ輻射線に晒され
る。電解ステーション３２の電解槽は、チオ硫酸塩を酸
化するために使用した電解槽に対応する構造を有するこ
とができる。しかしながら、市販の enViro 電解槽を使
用すると特に有利であることが立証された。この槽は、
ポリプロピレンハウジングを変更した丸い槽であって、
ポリエチレン製シリンダーをアノードとハウジングの間
に挿入してアノード容量を減少させ、よって流量を増大
させたものである。アノードは、チタン製膨張金属シリ
ンダーの表面に貴金属酸化物（上記の白金族金属）を被
覆した従来のもので構成した。カソードは、粒状炭素で
包囲した金属ロッドの代わりに、アノードの場合と同じ
く、膨張チタンシリンダーに貴金属酸化物を被覆したも
のとした。このカソードの周囲には、ダイアフラムとし
て働く多孔質ポリエチレンのシリンダーと、アノードの
容量をさらに減少させるためのポリエチレンのオープン
シリンダーを配置した。
【００３３】高圧ＵＶからの光による照射は、落膜式反
応器に接触しないことが好ましい。電解及び照射を受け
た残留物は、管路３７を介して水酸化鉄沈殿タンク３８
へ送られる。タンク３８では、管路３９から硫酸を添加
することによりｐＨを４に設定し、次いで石灰ミルクと
水ガラスを特定の比率で手動式又は自動式で添加し、そ
の後管路４０からカ性ソーダを使用してｐＨ値を８に設
定する。ｐＨ値が８である時に凝集剤を手動式又は自動
式で添加し、フレーク状の水酸化鉄を粗大化させる。
応器に接触しないことが好ましい。電解及び照射を受け
た残留物は、管路３７を介して水酸化鉄沈殿タンク３８
へ送られる。タンク３８では、管路３９から硫酸を添加
することによりｐＨを４に設定し、次いで石灰ミルクと
水ガラスを特定の比率で手動式又は自動式で添加し、そ
の後管路４０からカ性ソーダを使用してｐＨ値を８に設
定する。ｐＨ値が８である時に凝集剤を手動式又は自動
式で添加し、フレーク状の水酸化鉄を粗大化させる。
【００３４】固形分をタンク３８の中に沈降させた後、
その上の透明な液体をコントロールタンク（採取のため
のもの）、そして管路４５を介して公共下水路へ排出す
ることができる。残留物、特に水酸化鉄を含むものは、
管路４１を介してフィルターステーション４２に送られ
る。ここで、液体部分は管路４３及び４５を介して公共
下水路に送られる。フィルターステーションの固体残留
物は可動収集タンクを介して廃棄される。残留物の系統
内の運搬はポンプで行われるが、簡略化のためこれらの
ポンプは図面中省略した。
その上の透明な液体をコントロールタンク（採取のため
のもの）、そして管路４５を介して公共下水路へ排出す
ることができる。残留物、特に水酸化鉄を含むものは、
管路４１を介してフィルターステーション４２に送られ
る。ここで、液体部分は管路４３及び４５を介して公共
下水路に送られる。フィルターステーションの固体残留
物は可動収集タンクを介して廃棄される。残留物の系統
内の運搬はポンプで行われるが、簡略化のためこれらの
ポンプは図面中省略した。
【００３５】
【実施例】以下の実施例は、本発明をさらに詳細に説明
するためのものである。実施例１ 図面に示したような処理施設において、但し、処理工程
３２、３４及び３５は含まれないものにおいて、写真ラ
ボから１日に排出される量である２．６ｍ3 の使用済現
像液（残留物部分Ａ）と、１．４ｍ3 の使用済の脱銀後
の定着浴、漂定着浴及び漂白浴を約１５％の水で希釈し
たもの（残留物部分Ｂ）とを処理した。
するためのものである。実施例１ 図面に示したような処理施設において、但し、処理工程
３２、３４及び３５は含まれないものにおいて、写真ラ
ボから１日に排出される量である２．６ｍ3 の使用済現
像液（残留物部分Ａ）と、１．４ｍ3 の使用済の脱銀後
の定着浴、漂定着浴及び漂白浴を約１５％の水で希釈し
たもの（残留物部分Ｂ）とを処理した。
【００３６】残留物部分Ａは最大３０ｋｇの亜硫酸塩を
含有し、そのＣＳＢ値は約９１ｋｇのＯ2 であった。残
留物部分Ｂの亜硫酸塩含有量は約５ｋｇであり、そのＣ
ＳＢ値は約９０ｋｇのＯ2 であった。通気ステーション
５及び６において、残留物部分Ａ及びＢを、吸引ジェッ
ト原理に従い、残留物部分Ａの亜硫酸塩含有量が約２ｋ
ｇとなり且つＣＳＢ値が約８５ｋｇのＯ2 に低下するま
で十分に時間をかけて空気中酸素で処理した。残留物部
分Ｂの場合には、亜硫酸塩含有量が実質的に０にまで減
少した。残留物部分Ｂのチオ硫酸塩含有量は、通気後で
約２０ｋｇとなり、またそのＣＳＢ値は約８６ｋｇのＯ
2 であった。
含有し、そのＣＳＢ値は約９１ｋｇのＯ2 であった。残
留物部分Ｂの亜硫酸塩含有量は約５ｋｇであり、そのＣ
ＳＢ値は約９０ｋｇのＯ2 であった。通気ステーション
５及び６において、残留物部分Ａ及びＢを、吸引ジェッ
ト原理に従い、残留物部分Ａの亜硫酸塩含有量が約２ｋ
ｇとなり且つＣＳＢ値が約８５ｋｇのＯ2 に低下するま
で十分に時間をかけて空気中酸素で処理した。残留物部
分Ｂの場合には、亜硫酸塩含有量が実質的に０にまで減
少した。残留物部分Ｂのチオ硫酸塩含有量は、通気後で
約２０ｋｇとなり、またそのＣＳＢ値は約８６ｋｇのＯ
2 であった。
【００３７】次いで、残留物部分Ｂに、電解ステーショ
ン１３で、酸素添加により増強したアノード酸化処理を
施した。この実施例では、電解ステーション１３は、市
販のenViro Cell ER/1/TC-KFタイプ（Deutsche Carbone
製）の電解槽とは以下のように設計が異なる１２の電解
槽を含むものとした。各電解槽は、内部アノード及び外
部カソードを具備した丸い槽から構成された。このアノ
ードは、上記したようにチタン膨張金属シリンダーに貴
金属酸化物を被覆したものとした。カソードは、内部槽
壁に対して密着させた特殊スチール製シリンダーを含む
ものとした。アノードとカソードの間に、多孔質ポリエ
チレンフィルムを挿入し、該カソード表面に接触させ
た。純正メンブランとは異なり、該フィルムは電解槽の
底部で開放されており、一種の「擬似メンブラン」を形
成した。このため、アノードとカソード液を真に分離さ
せることにはならなかった。しかしながら、アノード酸
化処理された液体がカソードに直接流れることはこのよ
うにしてほとんど防止されるので、バック反応としての
直後還元も防止された。電解槽は、それぞれ４つの槽を
並列に配置したものからなるグループに分けて使用し
た。各グループは、ポンプ移送系と吸引ジェットを具備
し、オゾン反応器の廃気からの酸素添加を確保した。各
電解槽は１０Ａ／２．１Ｖで運転した。ｐＨ値は約４で
保持した。
ン１３で、酸素添加により増強したアノード酸化処理を
施した。この実施例では、電解ステーション１３は、市
販のenViro Cell ER/1/TC-KFタイプ（Deutsche Carbone
製）の電解槽とは以下のように設計が異なる１２の電解
槽を含むものとした。各電解槽は、内部アノード及び外
部カソードを具備した丸い槽から構成された。このアノ
ードは、上記したようにチタン膨張金属シリンダーに貴
金属酸化物を被覆したものとした。カソードは、内部槽
壁に対して密着させた特殊スチール製シリンダーを含む
ものとした。アノードとカソードの間に、多孔質ポリエ
チレンフィルムを挿入し、該カソード表面に接触させ
た。純正メンブランとは異なり、該フィルムは電解槽の
底部で開放されており、一種の「擬似メンブラン」を形
成した。このため、アノードとカソード液を真に分離さ
せることにはならなかった。しかしながら、アノード酸
化処理された液体がカソードに直接流れることはこのよ
うにしてほとんど防止されるので、バック反応としての
直後還元も防止された。電解槽は、それぞれ４つの槽を
並列に配置したものからなるグループに分けて使用し
た。各グループは、ポンプ移送系と吸引ジェットを具備
し、オゾン反応器の廃気からの酸素添加を確保した。各
電解槽は１０Ａ／２．１Ｖで運転した。ｐＨ値は約４で
保持した。
【００３８】電解ステーション１３を出た後、残留物部
分Ｂの亜硫酸塩含有量は実質的に０であり、またチオ硫
酸塩含有量は約１ｋｇであった。ＣＳＢ含有量は約７５
ｋｇのＯ2 であった。ここで、電解ステーション１３か
ら出てきた残留物部分Ｂを、通気ステーション５から出
てきた残留物部分Ａと、約１：２の混合比で一緒にし
た。この合計４ｍ3 の残留物は、約３ｋｇの亜硫酸塩／
チオ硫酸塩を含有し、また１６０ｋｇのＯ2 というＣＤ
Ｂ値を示した。
分Ｂの亜硫酸塩含有量は実質的に０であり、またチオ硫
酸塩含有量は約１ｋｇであった。ＣＳＢ含有量は約７５
ｋｇのＯ2 であった。ここで、電解ステーション１３か
ら出てきた残留物部分Ｂを、通気ステーション５から出
てきた残留物部分Ａと、約１：２の混合比で一緒にし
た。この合計４ｍ3 の残留物は、約３ｋｇの亜硫酸塩／
チオ硫酸塩を含有し、また１６０ｋｇのＯ2 というＣＤ
Ｂ値を示した。
【００３９】オゾン処理タンク１９及び２２において残
留物にオゾン酸化処理を施し、亜硫酸塩／チオ硫酸塩の
含有量を実質的に０にまで減少させ、ＮＨ4 −Ｎ値を約
６ｋｇとし、ＣＳＢ値を８０ｋｇのＯ2 とし、そして錯
生成剤の量ＥＤＴＡ／ＰＤＴＡを１．２ｋｇ以下とし
た。使用したオゾン発生器２３の容量は１時間当たりオ
ゾン４ｋｇであった。計量したＨ2 Ｏ2 量は１時間当た
り１５リットル（３５％）であり、ｐＨは８に設定し
た。オゾン処理タンク２２から出てきた残留物を仮保存
タンク３１に供給し、そしてそこから水酸化鉄沈殿タン
ク３８に送り込んだ。
留物にオゾン酸化処理を施し、亜硫酸塩／チオ硫酸塩の
含有量を実質的に０にまで減少させ、ＮＨ4 −Ｎ値を約
６ｋｇとし、ＣＳＢ値を８０ｋｇのＯ2 とし、そして錯
生成剤の量ＥＤＴＡ／ＰＤＴＡを１．２ｋｇ以下とし
た。使用したオゾン発生器２３の容量は１時間当たりオ
ゾン４ｋｇであった。計量したＨ2 Ｏ2 量は１時間当た
り１５リットル（３５％）であり、ｐＨは８に設定し
た。オゾン処理タンク２２から出てきた残留物を仮保存
タンク３１に供給し、そしてそこから水酸化鉄沈殿タン
ク３８に送り込んだ。
【００４０】管路３９を介して２０％硫酸を添加するこ
とにより、タンク内容物のｐＨを４に設定し、そこへ石
灰ミルクと水ガラス溶液を手動式で添加した。次いで、
管路４０を介してカ性ソーダ溶液（３０％）を使用する
ことによりｐＨ値を８に設定し、そして凝集剤（BASF社
製のSedipur CF 404）を手動式で添加した。水酸化鉄を
フィルターステーション４２で沈降した後に濾別した。
上部の透明溶液は直接排出することができた。
とにより、タンク内容物のｐＨを４に設定し、そこへ石
灰ミルクと水ガラス溶液を手動式で添加した。次いで、
管路４０を介してカ性ソーダ溶液（３０％）を使用する
ことによりｐＨ値を８に設定し、そして凝集剤（BASF社
製のSedipur CF 404）を手動式で添加した。水酸化鉄を
フィルターステーション４２で沈降した後に濾別した。
上部の透明溶液は直接排出することができた。
【００４１】フィルターステーションから出てくる液体
残留物は、亜硫酸塩／チオ硫酸塩を含まず、約３ｋｇの
ＮＨ4 −Ｈと、０．６ｋｇ以下のＥＤＴＡ／ＰＤＴＡ
と、０．０４０ｋｇ未満の鉄と、０．００４ｋｇ未満の
銀とを含有するにすぎなかった。ＣＳＢ値は約６８ｋｇ
のＯ2 であった。この残留物は、その他の廃棄物（硫酸
塩含有量が比較的多いという観点で）で希釈した後に、
公共下水路に排出することができた。フィルターステー
ション４２において約６０ｋｇの含水水酸化鉄を分離し
廃棄した。乾燥工程は省略した。
残留物は、亜硫酸塩／チオ硫酸塩を含まず、約３ｋｇの
ＮＨ4 −Ｈと、０．６ｋｇ以下のＥＤＴＡ／ＰＤＴＡ
と、０．０４０ｋｇ未満の鉄と、０．００４ｋｇ未満の
銀とを含有するにすぎなかった。ＣＳＢ値は約６８ｋｇ
のＯ2 であった。この残留物は、その他の廃棄物（硫酸
塩含有量が比較的多いという観点で）で希釈した後に、
公共下水路に排出することができた。フィルターステー
ション４２において約６０ｋｇの含水水酸化鉄を分離し
廃棄した。乾燥工程は省略した。
【００４２】実施例２ 実施例１に記載した方法を処理工程３１、すなわちオゾ
ン処理後の仮保存タンクまで繰り返した。この時点で、
Ｈ2 Ｏ2 及びＵＶ光（処理工程３２、３４、３５、３６
及び３７）で支援した電解処理を統合した。この処理方
法における実施例１に対する変更は１００〜２００リッ
トル規模で実施した。
ン処理後の仮保存タンクまで繰り返した。この時点で、
Ｈ2 Ｏ2 及びＵＶ光（処理工程３２、３４、３５、３６
及び３７）で支援した電解処理を統合した。この処理方
法における実施例１に対する変更は１００〜２００リッ
トル規模で実施した。
【００４３】オゾン処理タンク２２からの残留物を仮保
存タンク３１を介して電解ステーション３２に供給し
た。電解ステーション３２には、落膜式反応器３５とＨ
2 Ｏ2計量装置３４が追加された。高圧ＵＶ輻射線及び
Ｈ2 Ｏ2 を補充したアノード酸化において、オゾン処理
後のＣＳＢ値をおよそ半分に減少させると同時に、ＥＤ
ＴＡ／ＰＤＴＡ含有量を２〜３ｍｇ／Ｌ、又は４ｍ3 当
たり０．０１０〜０．０２０ｋｇにまで減少させること
ができた。電解処理３２の際には、約５０Ａを電流密度
５０〜６０ｍＡ／ｃｍ3 で使用し、残留物１００リット
ル当たり１リットルの過酸化水素を添加し、ｐＨを７〜
８に保持し、そして落膜式反応器３５において４ｋＷの
高圧バーナーを使用した。鉄を沈殿させるためのその後
の処理工程３８〜４２は、実施例１に記載したものと同
様に実施したが、ＣＳＢ値及びＥＤＴＡ値が実施例１に
記載したものと同じパーセントレベルで一段と低下し
た。
存タンク３１を介して電解ステーション３２に供給し
た。電解ステーション３２には、落膜式反応器３５とＨ
2 Ｏ2計量装置３４が追加された。高圧ＵＶ輻射線及び
Ｈ2 Ｏ2 を補充したアノード酸化において、オゾン処理
後のＣＳＢ値をおよそ半分に減少させると同時に、ＥＤ
ＴＡ／ＰＤＴＡ含有量を２〜３ｍｇ／Ｌ、又は４ｍ3 当
たり０．０１０〜０．０２０ｋｇにまで減少させること
ができた。電解処理３２の際には、約５０Ａを電流密度
５０〜６０ｍＡ／ｃｍ3 で使用し、残留物１００リット
ル当たり１リットルの過酸化水素を添加し、ｐＨを７〜
８に保持し、そして落膜式反応器３５において４ｋＷの
高圧バーナーを使用した。鉄を沈殿させるためのその後
の処理工程３８〜４２は、実施例１に記載したものと同
様に実施したが、ＣＳＢ値及びＥＤＴＡ値が実施例１に
記載したものと同じパーセントレベルで一段と低下し
た。
【００４４】以下、好ましい実施態様を列挙する。 〔１〕写真処理由来の液状残留物を複数の段階で酸化さ
せ、沈殿した固体成分をその後分離する写真処理由来の
液状残留物の処理方法であって、処理すべき残留物に、
(a) 酸素酸化処理、(b) 酸素支援緩和アノード酸化処
理、次いで(c) オゾン酸化処理を施し、そして(d) ｐＨ
値を設定し且つ補助物質を添加した後、沈殿した固形分
を濾別することを特徴とする方法。 〔２〕前記処理すべき残留物に、工程 (a)〜(c) の後
に、好ましくはＵＶ光照射及びＨ2 Ｏ2 添加により支援
された追加のアノード後酸化処理を施すことを特徴とす
る、〔１〕項に記載の方法。 〔３〕チオ硫酸塩を含まない残留物に、未希釈形態で、
処理工程 (a)、(c) 及び(d) を施すことを特徴とする、
〔１〕項に記載の方法。 〔４〕チオ硫酸塩を含む残留物に、適当に希釈した形態
で、工程(a) による酸素酸化処理の後で且つ工程(c) に
よるオゾン酸化処理の前に、酸素支援緩和アノード酸化
処理を施すことを特徴とする、〔１〕項に記載の方法。 〔５〕一方でチオ硫酸塩を含まない残留物に、他方でチ
オ硫酸塩を含む残留物に互いに別々に工程(a) による酸
素酸化処理を施し且つ、前記チオ硫酸塩を含む残留物に
は工程(c) によるオゾン酸化処理の前にアノード酸化処
理を施すこと、並びにこれら別々に処理された残留物を
一緒にしてから工程(c) によるオゾン酸化処理を施すこ
とを特徴とする、〔４〕項に記載の方法。 〔６〕工程(a) による酸素酸化処理を二以上の工程部分
にわけて実施することを特徴とする、〔１〕〜〔５〕項
のいずれか一項に記載の方法。 〔７〕工程(a) において、最初に存在する酸素の９０％
以上が酸化されて硫酸塩になるまで、空気その他の酸素
含有気体で残留物を処理することを特徴とする、〔１〕
〜〔６〕項のいずれか一項に記載の方法。 〔８〕工程(a) による酸素酸化処理を、第一の工程部分
において、吸引ジェット原理を使用して室内空気その他
の酸素含有ガスで実施することを特徴とする、〔６〕項
に記載の方法。
せ、沈殿した固体成分をその後分離する写真処理由来の
液状残留物の処理方法であって、処理すべき残留物に、
(a) 酸素酸化処理、(b) 酸素支援緩和アノード酸化処
理、次いで(c) オゾン酸化処理を施し、そして(d) ｐＨ
値を設定し且つ補助物質を添加した後、沈殿した固形分
を濾別することを特徴とする方法。 〔２〕前記処理すべき残留物に、工程 (a)〜(c) の後
に、好ましくはＵＶ光照射及びＨ2 Ｏ2 添加により支援
された追加のアノード後酸化処理を施すことを特徴とす
る、〔１〕項に記載の方法。 〔３〕チオ硫酸塩を含まない残留物に、未希釈形態で、
処理工程 (a)、(c) 及び(d) を施すことを特徴とする、
〔１〕項に記載の方法。 〔４〕チオ硫酸塩を含む残留物に、適当に希釈した形態
で、工程(a) による酸素酸化処理の後で且つ工程(c) に
よるオゾン酸化処理の前に、酸素支援緩和アノード酸化
処理を施すことを特徴とする、〔１〕項に記載の方法。 〔５〕一方でチオ硫酸塩を含まない残留物に、他方でチ
オ硫酸塩を含む残留物に互いに別々に工程(a) による酸
素酸化処理を施し且つ、前記チオ硫酸塩を含む残留物に
は工程(c) によるオゾン酸化処理の前にアノード酸化処
理を施すこと、並びにこれら別々に処理された残留物を
一緒にしてから工程(c) によるオゾン酸化処理を施すこ
とを特徴とする、〔４〕項に記載の方法。 〔６〕工程(a) による酸素酸化処理を二以上の工程部分
にわけて実施することを特徴とする、〔１〕〜〔５〕項
のいずれか一項に記載の方法。 〔７〕工程(a) において、最初に存在する酸素の９０％
以上が酸化されて硫酸塩になるまで、空気その他の酸素
含有気体で残留物を処理することを特徴とする、〔１〕
〜〔６〕項のいずれか一項に記載の方法。 〔８〕工程(a) による酸素酸化処理を、第一の工程部分
において、吸引ジェット原理を使用して室内空気その他
の酸素含有ガスで実施することを特徴とする、〔６〕項
に記載の方法。
〔９〕チオ硫酸塩及び錯生成剤を含有する残留物に、チ
オ硫酸塩含有量が９５％減少するまでアノード酸化処理
を施すことを特徴とする、〔１〕項に記載の方法。 〔１０〕アノード酸化処理を非常に低い電流強度で行う
ことを特徴とする、
オ硫酸塩含有量が９５％減少するまでアノード酸化処理
を施すことを特徴とする、〔１〕項に記載の方法。 〔１０〕アノード酸化処理を非常に低い電流強度で行う
ことを特徴とする、
〔９〕項に記載の方法。 〔１１〕アノード酸化処理を、低い電流強度で且つ残留
物中の溶存酸素濃度が高い状態で行うことを特徴とす
る、
物中の溶存酸素濃度が高い状態で行うことを特徴とす
る、
〔９〕項に記載の方法。 〔１２〕残留物中の溶存酸素濃度を、吸引ジェットを用
いた酸素添加によって一層高めることを特徴とする、
〔１１〕項に記載の方法。 〔１３〕吸引ジェットを用いた酸素添加を、オゾン反応
器の廃気を使用することにより行うことを特徴とする、
〔１２〕項に記載の方法。 〔１４〕工程(a) 及び工程(b) からの残留物の混合物
を、ＣＳＢ値が５０％以上低下し且つＥＤＴＡ／ＰＤＴ
Ａが７５％以上低下するまでオゾンで処理することを特
徴とする、〔１２〕項に記載の方法。 〔１５〕オゾン酸化処理(c) をＨ2 Ｏ2 で支援すること
を特徴とする、〔１４〕項に記載の方法。 〔１６〕工程(c) におけるオゾン酸化処理の際に発生し
た残留酸素をアノード酸化処理(b) のために使用するこ
とを特徴とする、〔１〕〜〔１５〕項のいずれか一項に
記載の方法。 〔１７〕オゾン処理の際のＨ2 Ｏ2 添加量を、オゾン処
理時間を可能な限り短縮できる量に設定することを特徴
とする、〔１５〕項に記載の方法。 〔１８〕工程(d) を少なくとも一つの電解槽で行うこと
を特徴とする、〔２〕項に記載の方法。 〔１９〕分離したアノード領域及びカソード領域を有す
る電解槽の中を残留物が通過することを特徴とする、
〔１８〕項に記載の方法。 〔２０〕アノード領域の体積をプラスチック製シリンダ
ーにより大幅に縮小した電解槽を使用することを特徴と
する、〔１８〕項に記載の方法。 〔２１〕添加された蒸留水を使用することによりカソー
ド液が生成する電解槽を使用することを特徴とする、
〔１８〕項に記載の方法。 〔２２〕貴金属を被覆したチタン製のアノード及びカソ
ードを使用することを特徴とする、〔１８〕項に記載の
方法。 〔２３〕アノード後酸化処理をＨ2 Ｏ2 の連続添加によ
り支援することを特徴とする、〔２〕項に記載の方法。 〔２４〕アノード後酸化処理を、落膜式反応器における
高圧灯からのＵＶ光によって増強することを特徴とす
る、〔２〕項に記載の方法。 〔２５〕廃液に、ＥＤＴＡ／ＰＤＴＡが２０ｍｇ／Ｌ未
満になるまでアノード後酸化処理を施すことを特徴とす
る、〔２〕項に記載の方法。 〔２６〕工程(c) におけるオゾン酸化処理に必要なオゾ
ンを、液体酸素からの純酸素又は圧縮空気を供給したオ
ゾン発生器で発生させることを特徴とする、〔１〕項に
記載の方法。 〔２７〕ｐＨ値の低下、補助剤の添加、ｐＨ値の上昇及
び凝集剤の添加によって分離し易い固体沈殿物を生成さ
せることを特徴とする、〔１〕項に記載の方法。 〔２８〕〔１〕〜〔２７〕項に記載の方法を実施するた
めの装置であって、チオ硫酸塩を含まない液体残留物の
酸素酸化処理のための少なくとも一つの通気ステーショ
ン(5) と、チオ硫酸塩を含む液体残留物の酸素酸化処理
のための少なくとも一つの通気ステーション(6) と、ア
ノード酸化処理のための少なくとも一つの電解ステーシ
ョン(13)と、前記通気ステーション(5/6) 及び前記電解
ステーション(13)において酸化された残留物のオゾン酸
化処理のための連続している二以上のオゾン処理ステー
ション(19/22) と、必要に応じてＵＶ光(35)によるアノ
ード後酸化を実施するための少なくとも一つの電解ステ
ーション(32)と、固体沈殿物を除去するための水酸化鉄
濾過工程(42)を含む水酸化鉄沈殿ステーション(38)とを
有する装置。 〔２９〕〔３〕〜〔２７〕項に記載の方法を実施するた
めの装置であって、チオ硫酸塩を含まない残留物とチオ
硫酸塩を含む残留物との酸素酸化処理のための通気ステ
ーション(1, 3)との組み合わせでチオ硫酸塩を含まない
残留物とチオ硫酸塩を含む残留物とを集めるための収集
タンクと、前記チオ硫酸塩を含む残留物のアノード酸化
処理のための電解ステーション(13)と、前記残留物のオ
ゾン酸化処理のための少なくとも一つのオゾン処理ステ
ーション(19, 22)と、アノード酸化処理のためのＵＶ(3
2, 35)を具備した電解ステーションと、固体沈殿物を分
離するためのフィルターステーション(42)を含む水酸化
鉄沈殿ステーション(38)とを有する装置。
いた酸素添加によって一層高めることを特徴とする、
〔１１〕項に記載の方法。 〔１３〕吸引ジェットを用いた酸素添加を、オゾン反応
器の廃気を使用することにより行うことを特徴とする、
〔１２〕項に記載の方法。 〔１４〕工程(a) 及び工程(b) からの残留物の混合物
を、ＣＳＢ値が５０％以上低下し且つＥＤＴＡ／ＰＤＴ
Ａが７５％以上低下するまでオゾンで処理することを特
徴とする、〔１２〕項に記載の方法。 〔１５〕オゾン酸化処理(c) をＨ2 Ｏ2 で支援すること
を特徴とする、〔１４〕項に記載の方法。 〔１６〕工程(c) におけるオゾン酸化処理の際に発生し
た残留酸素をアノード酸化処理(b) のために使用するこ
とを特徴とする、〔１〕〜〔１５〕項のいずれか一項に
記載の方法。 〔１７〕オゾン処理の際のＨ2 Ｏ2 添加量を、オゾン処
理時間を可能な限り短縮できる量に設定することを特徴
とする、〔１５〕項に記載の方法。 〔１８〕工程(d) を少なくとも一つの電解槽で行うこと
を特徴とする、〔２〕項に記載の方法。 〔１９〕分離したアノード領域及びカソード領域を有す
る電解槽の中を残留物が通過することを特徴とする、
〔１８〕項に記載の方法。 〔２０〕アノード領域の体積をプラスチック製シリンダ
ーにより大幅に縮小した電解槽を使用することを特徴と
する、〔１８〕項に記載の方法。 〔２１〕添加された蒸留水を使用することによりカソー
ド液が生成する電解槽を使用することを特徴とする、
〔１８〕項に記載の方法。 〔２２〕貴金属を被覆したチタン製のアノード及びカソ
ードを使用することを特徴とする、〔１８〕項に記載の
方法。 〔２３〕アノード後酸化処理をＨ2 Ｏ2 の連続添加によ
り支援することを特徴とする、〔２〕項に記載の方法。 〔２４〕アノード後酸化処理を、落膜式反応器における
高圧灯からのＵＶ光によって増強することを特徴とす
る、〔２〕項に記載の方法。 〔２５〕廃液に、ＥＤＴＡ／ＰＤＴＡが２０ｍｇ／Ｌ未
満になるまでアノード後酸化処理を施すことを特徴とす
る、〔２〕項に記載の方法。 〔２６〕工程(c) におけるオゾン酸化処理に必要なオゾ
ンを、液体酸素からの純酸素又は圧縮空気を供給したオ
ゾン発生器で発生させることを特徴とする、〔１〕項に
記載の方法。 〔２７〕ｐＨ値の低下、補助剤の添加、ｐＨ値の上昇及
び凝集剤の添加によって分離し易い固体沈殿物を生成さ
せることを特徴とする、〔１〕項に記載の方法。 〔２８〕〔１〕〜〔２７〕項に記載の方法を実施するた
めの装置であって、チオ硫酸塩を含まない液体残留物の
酸素酸化処理のための少なくとも一つの通気ステーショ
ン(5) と、チオ硫酸塩を含む液体残留物の酸素酸化処理
のための少なくとも一つの通気ステーション(6) と、ア
ノード酸化処理のための少なくとも一つの電解ステーシ
ョン(13)と、前記通気ステーション(5/6) 及び前記電解
ステーション(13)において酸化された残留物のオゾン酸
化処理のための連続している二以上のオゾン処理ステー
ション(19/22) と、必要に応じてＵＶ光(35)によるアノ
ード後酸化を実施するための少なくとも一つの電解ステ
ーション(32)と、固体沈殿物を除去するための水酸化鉄
濾過工程(42)を含む水酸化鉄沈殿ステーション(38)とを
有する装置。 〔２９〕〔３〕〜〔２７〕項に記載の方法を実施するた
めの装置であって、チオ硫酸塩を含まない残留物とチオ
硫酸塩を含む残留物との酸素酸化処理のための通気ステ
ーション(1, 3)との組み合わせでチオ硫酸塩を含まない
残留物とチオ硫酸塩を含む残留物とを集めるための収集
タンクと、前記チオ硫酸塩を含む残留物のアノード酸化
処理のための電解ステーション(13)と、前記残留物のオ
ゾン酸化処理のための少なくとも一つのオゾン処理ステ
ーション(19, 22)と、アノード酸化処理のためのＵＶ(3
2, 35)を具備した電解ステーションと、固体沈殿物を分
離するためのフィルターステーション(42)を含む水酸化
鉄沈殿ステーション(38)とを有する装置。
【図１】本発明による実施態様を例示する系統図であ
る。
る。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 ＦＩ Ｃ０２Ｆ 1/78 Ｇ０３Ｃ 5/00 Ａ Ｇ０３Ｃ 5/00 Ｃ０２Ｆ 1/46 １０１Ａ
Claims (1)
- 【請求項１】 写真処理由来の液状残留物を複数の段階
で酸化させ、沈殿した固体成分をその後分離する写真処
理由来の液状残留物の処理方法であって、処理すべき残
留物に、 (a) 酸素酸化処理、 (b) 酸素支援緩和アノード酸化処理、次いで (c) オゾン酸化処理を施し、そして (d) ｐＨ値を設定し且つ補助物質を添加した後、沈殿し
た固形分を濾別することを特徴とする方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE1997108264 DE19708264A1 (de) | 1997-02-28 | 1997-02-28 | Verfahren zur Aufbereitung von flüssigen Rückständen aus photographischen Prozessen |
| DE19708264:5 | 1997-02-28 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10290988A true JPH10290988A (ja) | 1998-11-04 |
Family
ID=7821895
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4736198A Pending JPH10290988A (ja) | 1997-02-28 | 1998-02-27 | 写真処理由来の液状残留物の処理方法 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| EP (1) | EP0861807A3 (ja) |
| JP (1) | JPH10290988A (ja) |
| DE (1) | DE19708264A1 (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE102008048691A1 (de) * | 2008-07-07 | 2010-01-14 | Areva Np Gmbh | Verfahren zur Konditionierung einer bei der nasschemischen Reinigung konventioneller oder nukleartechnischer Anlagen anfallenden, organische Substanzen und Metalle in ionischer Form enthaltenden Abfalllösung |
| DE202009012539U1 (de) * | 2009-09-17 | 2011-02-10 | Venier, Thomas | Einrichtung zur Abwasserbehandlung |
Family Cites Families (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CH655711A5 (de) * | 1982-10-20 | 1986-05-15 | Rehman Process Eng | Verfahren zum entsorgen von arbeitsfluessigkeiten aus der photochemischen industrie. |
| DE3345346A1 (de) * | 1983-12-15 | 1985-06-27 | Fa. Stadler, 7963 Altshausen | Verfahren zur verwertung von verbrauchten photografischen filmen und fluessigkeiten |
| DE3440894C1 (de) * | 1984-11-09 | 1986-06-05 | Siegfried T. 6500 Mainz Gellermann | Verfahren zur gemeinsamen Aufbereitung von verbrauchten fotografischen Entwickler- und Fixierlösungen |
| US4735728A (en) * | 1985-08-29 | 1988-04-05 | Environmental Tech America, Inc. | Method for pollution control in photographic processing |
| DE3921436A1 (de) * | 1989-06-27 | 1991-01-03 | Sorbios Verfahrenstech | Verfahren zur aufbereitung photochemischer abwaesser |
| DE4031609A1 (de) * | 1990-03-16 | 1991-09-19 | Kodak Ag | Verfahren und vorrichtung zur aufbereitung von fluessigen rueckstaenden aus photographischen prozessen |
| DE4013068A1 (de) * | 1990-04-25 | 1991-10-31 | Dornier Gmbh | Entgiftung verbrauchter fotografischer prozessbaeder und waschwaesser mittels anodischer oxidation |
-
1997
- 1997-02-28 DE DE1997108264 patent/DE19708264A1/de not_active Withdrawn
-
1998
- 1998-02-20 EP EP98103002A patent/EP0861807A3/en not_active Withdrawn
- 1998-02-27 JP JP4736198A patent/JPH10290988A/ja active Pending
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| DE19708264A1 (de) | 1998-09-03 |
| EP0861807A2 (en) | 1998-09-02 |
| EP0861807A3 (en) | 1998-12-02 |
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