JPH10284538A - Icパッケージの構造 - Google Patents

Icパッケージの構造

Info

Publication number
JPH10284538A
JPH10284538A JP8373897A JP8373897A JPH10284538A JP H10284538 A JPH10284538 A JP H10284538A JP 8373897 A JP8373897 A JP 8373897A JP 8373897 A JP8373897 A JP 8373897A JP H10284538 A JPH10284538 A JP H10284538A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
chip
interposer substrate
external connection
pitch
substrate
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP8373897A
Other languages
English (en)
Other versions
JP3681855B2 (ja
Inventor
Yoshihiro Ishida
芳弘 石田
Yasushi Tsukamoto
也寸志 塚本
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Citizen Watch Co Ltd
Original Assignee
Citizen Watch Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Citizen Watch Co Ltd filed Critical Citizen Watch Co Ltd
Priority to JP8373897A priority Critical patent/JP3681855B2/ja
Publication of JPH10284538A publication Critical patent/JPH10284538A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP3681855B2 publication Critical patent/JP3681855B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/10Bump connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/15Structure, shape, material or disposition of the bump connectors after the connecting process
    • H01L2224/16Structure, shape, material or disposition of the bump connectors after the connecting process of an individual bump connector
    • H01L2224/161Disposition
    • H01L2224/16151Disposition the bump connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
    • H01L2224/16221Disposition the bump connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
    • H01L2224/16225Disposition the bump connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being non-metallic, e.g. insulating substrate with or without metallisation
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/26Layer connectors, e.g. plate connectors, solder or adhesive layers; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/31Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process
    • H01L2224/32Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process of an individual layer connector
    • H01L2224/321Disposition
    • H01L2224/32151Disposition the layer connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
    • H01L2224/32221Disposition the layer connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
    • H01L2224/32225Disposition the layer connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being non-metallic, e.g. insulating substrate with or without metallisation
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/73Means for bonding being of different types provided for in two or more of groups H01L2224/10, H01L2224/18, H01L2224/26, H01L2224/34, H01L2224/42, H01L2224/50, H01L2224/63, H01L2224/71
    • H01L2224/732Location after the connecting process
    • H01L2224/73201Location after the connecting process on the same surface
    • H01L2224/73203Bump and layer connectors
    • H01L2224/73204Bump and layer connectors the bump connector being embedded into the layer connector
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/15Details of package parts other than the semiconductor or other solid state devices to be connected
    • H01L2924/151Die mounting substrate
    • H01L2924/153Connection portion
    • H01L2924/1531Connection portion the connection portion being formed only on the surface of the substrate opposite to the die mounting surface
    • H01L2924/15311Connection portion the connection portion being formed only on the surface of the substrate opposite to the die mounting surface being a ball array, e.g. BGA

Landscapes

  • Wire Bonding (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 ICチップ801をインターポーザー基板8
21に実装し、外部接続端子834がグリッド状に配置
されたICパッケージにおいて、インターポーザー基板
821の下面の回路パターン838が緻密になり、外部
接続パッド電極834のグリッド間隔が広がり、インタ
ーポーザー基板の面積が大きくなる。 【解決手段】 ICチップ101のパッド102に形成
した半田バンプ107のグリッドピッチと、インターポ
ーザー基板121の下面の外部接続端子134のグリッ
ドピッチをほぼ等しくして、インターポーザー基板12
1の下面の回路パターンが緻密にならないように構成し
た。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、ICチップをイン
ターポーザー基板に実装したICパッケージの構造に関
する。
【0002】
【従来の技術】以下図面にもとづいて従来技術を説明す
る。図9(a)は従来のチップスケールパッケージにお
けるインターポーザー基板の上面を示す図、図9(b)
は従来のチップスケールパッケージにおけるインターポ
ーザー基板の下面を示す図である。図9(a)及び図9
(b)では説明を簡単にするため表面のレジストを省略
している。また、図8は、図9(a)、図9(b)に示
したインターポーザー基板にICチップを実装して従来
のチップスケールパッケージを構成した状態のA−A’
部分の断面図である。
【0003】図8において801はICチップであり、
802はICチップの上面に形成されたパッドである。
以降、ICチップについてはパッドが形成される面を上
面として説明する。パッド802にはICチップ801
をインターポーザー基板に接続するための半田バンプ8
07が外周位置すなわちペリフェラル位置に形成されて
いる。
【0004】821はインターポーザー基板であり、次
のように構成されている。822は基材であり、その上
面にはICチップ801のパッド802に形成された半
田バンプ807に対応してペリフェラル状に配置された
IC接続パッド電極827が形成され、このIC接続パ
ッド電極827にはICチップ801のパッド802に
形成された半田バンプ807が実装される。さらに基材
822の上面は、IC接続パッド電極827の半田バン
プ807を実装する部分を除き、表面がレジスト832
で覆われている。
【0005】基材822の下面には外部接続パッド電極
828が形成されている。この外部接続パッド電極82
8は、チップスケールパッケージ81を実装する基板に
適する位置に1mm以下のピッチで且つグリッド状に配
置されている。また、IC接続パッド電極827とそれ
に対応する外部接続パッド電極828とは、スルーホー
ル830及び図9(a)に示したインターポーザー基板
821の上面に形成された配線パターン837とインタ
ーポーザー基板821の下面に形成された配線パターン
838により接続されている。さらに基材822の下面
は、外部接続パッド電極828の外部接続端子834を
形成する部分を除き、表面がレジスト833で覆われて
いる。チップスケールパッケージ81は、外部接続パッ
ド電極828に半田バンプにより形成された外部接続端
子834によって図示しない他の基板に実装される。
【0006】ICチップ801とインターポーザー基板
821の間は封止樹脂850により封止されている。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】図9(a)、図9
(b)に示すように従来のチップスケールパッケージ8
1に使用しているインターポーザー基板821では、上
面のIC接続パッド電極827とそれに対応する下面の
外部接続パッド電極834は、上面の配線パターン83
7と下面の配線パターン838及びスルーホール830
により接続されている。外部接続パッド電極834のグ
リッドピッチは1mm以下の小さなピッチであるが、例
えば図9(b)に示すように外部接続パッド電極834
aと834b間に配線パターン838aを配線している
ため、下面の回路パターンが緻密になっている。図8、
図9は外部接続パッド電極834が1mm以下のピッチ
で、且つ5行5列のグリッド状に配置された例である
が、さらに外部接続パッド電極数が増えると、それにと
もなって上面及び下面の配線数も増え、特に下面の配線
数が増えると外部接続パッド電極間に複数の配線パター
ンを配線する必要が生じ、その結果、各グリッド間の間
隔が広がってインターポーザー基板の面積が大きくな
り、小型パッケージの効果がなくなる。
【0008】本発明の目的は上記課題を解決し、インタ
ーポーザー基板の回路パターンを簡素化して、より小型
のICパッケージを提供することである。
【0009】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
の本発明の特徴は、請求項1に記載の発明では、ICチ
ップをインターポーザー基板に実装したICパッケージ
において、前記ICチップはグリッド状に配置された接
続用の半田バンプを有し、前記インターポーザー基板は
グリッド状に配置された複数の外部接続端子を有してお
り、前記半田バンプのピッチと前記インターポーザー基
板の外部接続端子のピッチとがほぼ等しいことを特徴と
する。また、請求項2に記載の発明では、請求項1に記
載の発明において、インターポーザー基板の外部接続端
子のピッチは1mm以下であることを特徴とする。ま
た、請求項3に記載の発明では、請求項1または2に記
載の発明において、ICチップの半田バンプ用パッドは
既製の外周位置よりICチップ上で再配線されてグリッ
ド状に再配置されていることを特徴とする。また、請求
項4に記載の発明では、請求項3に記載の発明におい
て、最外周のICチップの半田バンプ用パッドは、その
中心が所定のグリッド中心位置よりも内側の隣り合うグ
リッド側にずれて再配置されていることを特徴とする。
また、請求項5に記載の発明では、請求項1から4に記
載の発明において、インターポーザー基板は片面基板で
構成されていることを特徴とする。また、請求項6に記
載の発明では、請求項5に記載の発明において、インタ
ーポーザー基板は一方の面にICチップ接続用のパッド
電極が形成され、他方の面には前記パッド電極を露出す
るとともに外部接続端子用の導電部材を埋設するための
デバイスホールが形成された片面基板であることを特徴
とする。また、請求項7に記載の発明では、請求項5に
記載の発明において、インターポーザー基板は一方の面
に外部接続端子を形成するための外部接続パッド電極を
有し、他方の面には前記パッド電極を露出するととも
に、前記ICチップを接続するためのデバイスホールが
形成された片面基板であることを特徴とする。また、請
求項8に記載の発明では、請求項1から4に記載の発明
において、インターポーザー基板は一方の面にICチッ
プ接続用のパッド電極が形成され、他方の面には外部接
続パッド電極を有し、前記ICチップ接続用のパッド電
極と前記外部接続パッド電極は穴埋めされたスルーホー
ル上にあることを特徴とする。また、請求項9に記載の
発明では、請求項1から8に記載の発明において、イン
ターポーザー基板はフレキシブル基板であることを特徴
とする。
【0010】
【発明の実施の形態】以下、図面により本発明の実施の
形態を詳述する。図1(a)は本発明の第1の実施の形
態におけるICパッケージの断面図、図1(b)は本発
明の第1の実施の形態におけるインターポーザー基板の
要部断面図、図1(c)は本発明の第1の実施の形態に
おける外部接続端子の形成状態を示した断面図、図2は
本発明の第1の実施の形態におけるICチップの平面図
である。従来技術の図8、図9と同じ構成要素には同じ
番号を付けてその説明を省略する。図1(a)におい
て、11は本発明のICパッケージであるチップスケー
ルパッケージを示している。101はICチップであ
り、その上面にはパッド102が形成されている。ま
た、パッド102には半田バンプ107が形成されてい
る。図2に示すように、半田バンプ107は1mm以下
のピッチで且つグリッド状に5行5列に配置されてい
る。図1(a)において、122はインターポーザー基
板121の基材であり、その上面にはICチップ101
のパッド102に形成された半田バンプ107とほぼ同
じピッチで配置されたIC接続パッド電極127が形成
されている。このIC接続パッド電極127にはICチ
ップ101のパッド102に形成された半田バンプ10
7が接続される。
【0011】図1(b)において、基材122にはIC
接続パッド電極127にほぼ対応した位置にデバイスホ
ール129が形成されている。デバイスホール129は
レーザー加工またはプレス加工により穴開けされてい
る。インターポーザー基板121の下面側のデバイスホ
ール129の部分では、基材122の上面に形成された
IC接続パッド電極127が露出している。
【0012】デバイスホール129には図1(a)に示
すように、外部接続用の導電部材である外部接続端子1
34を形成し、IC接続パッド電極127とは電気的に
接続されている。ここで、外部接続端子134の形成方
法について説明する。図1(c)に示すように、インタ
ーポーザー基板121のデバイスホールに半田ペースト
を印刷・溶融することにより半田135を埋設した後、
半田135に半田ボール136を溶融して接着すること
で外部接続端子134を形成する。このように半田13
5を埋設することで、デバイスホール内に不要な空間を
作らずに外部接続端子134を形成することができる。
【0013】本発明によるICパッケージは、インター
ポーザー基板123の外部接続端子134によって、図
示しない他の基板に実装される。
【0014】図1に示したICケールパッケージの構造
では、インターポーザー基板121は片面基板で構成さ
れ、しかも基材122の上面にはIC接続パッド電極1
27を形成しているだけであり、他の回路パターンは設
けられていない。従って図8、図9に示す従来のチップ
スケールパッケージ81のインターポーザー基板821
のスルーホール830、及び上面の配線パターン837
と下面の配線パターン838が不要となり、インターポ
ーザー基板の回路パターンが簡素化され、より小型のI
Cパッケージを構成することができる効果がある。
【0015】また、チップスケールパッケージを定義す
る場合、その構成要素の一つである外部接続端子のピッ
チは、1mm以下に設定される場合がある。図1に示す
ようにICケールパッケージを構成することにより、外
部接続端子間に配線パターンを設ける必要がないため、
外部接続端子の端子数が増えてもそのピッチを1mm以
下とし、且つグリッド状に配置することができる。従っ
て、外部接続端子の端子数にかかわらず外部接続端子の
ピッチが1mm以下で且つグリッド状に配置されたチッ
プスケールパッケージを構成することができる。
【0016】図3は、本発明の第1の実施の形態におい
て、インターポーザー基板を他の片面基板で構成したチ
ップスケールパッケージの要部断面図である。図3にお
いて、321はインターポーザー基板であり、下面には
外部接続パッド電極328が形成されている。この外部
接続パッド電極328には半田バンプにより外部接続端
子334が形成されている。
【0017】基材322にはICチップ101のパッド
102に形成された半田バンプ107にほぼ対応した位
置に、レーザー加工によりデバイスホールが形成され、
このデバイスホール内には半田335が埋設されてい
る。半田335が埋設されていない状態では、インター
ポーザー基板321のデバイスホールの上面では、基材
321の下面に形成された外部接続パッド電極328が
露出している。さらに半田335の上面には、半田バン
プ107が接続される。このように、第1の実施の形態
において、図3に示した片面基板のインターポーザー基
板によりチップスケールパッケージを構成することがで
きる。つまり、インターポーザー基板の電極を下面に形
成した、図1と逆の電極の構成にしてもよい。この構成
では、インターポーザー基板の上面には露出した回路パ
ターンは存在せず、下面の電極は全て半田で覆われてい
るのでインターポーザー基板にレジストを形成する必要
がないという効果がある。
【0018】図4は、本発明の第1の実施の形態におい
て、インターポーザー基板を両面基板で構成したチップ
スケールパッケージの要部断面図である。図4におい
て、421はインターポーザー基板である。インターポ
ーザー基板421の基材422の半田バンプ107にほ
ぼ対応した位置にドリルなどにより穴を開けた後、基材
422の穴の周辺部に銅箔423を形成し、その上から
第1のメッキ層424を形成し、スルーホールを形成し
ている。
【0019】また、スルーホール内は図に示すように穴
埋め材431で穴埋めしている。穴埋め材431のスル
ーホールの上面に露出している部分および第1のメッキ
層424の上面に、IC接続パッド電極となる第2のメ
ッキ層425を形成している。また、穴埋め材431の
スルーホールの下面に露出している部分および第1のメ
ッキ層424の下面には、外部接続パッド電極となる第
2のメッキ層426を形成している。第2のメッキ層4
25の半田バンプ107を実装する部分を除いて、表面
はレジスト432で覆われている。同様に、第2のメッ
キ層426の外部接続端子434を形成する部分を除い
て表面はレジスト433で覆われている。このように、
第1の実施の形態において、図4に示した両面基板のイ
ンターポーザー基板によりチップスケールパッケージを
構成することができる。
【0020】図3、図4に示したインターポーザー基板
を本発明の第1の実施の形態に適用した場合も、図8、
図9に示す従来のチップスケールパッケージ81のイン
ターポーザー基板821のスルーホール830、及び上
面の配線パターン837と下面の配線パターン838が
不要となり、インターポーザー基板の回路パターンが簡
素化され、より小型のICパッケージを構成することが
できる効果がある。
【0021】第1の実施の形態では、インターポーザー
基板の基材は図1、図3、図4のいずれの例もリジッド
基板で構成した例であるが、フレキシブル基板により構
成することもできる。
【0022】また、本発明では図1から図4に示した第
1の実施の形態に限らず、上記効果を逸脱しない範囲
で、ICチップのパッドに形成された半田バンプと外部
接続パッド電極の全てがほぼ同じピッチでなくてもかま
わない。同様に、上記効果を逸脱しない範囲で、インタ
ーポーザー基板の上面及び下面に電極や回路パターンを
設けてもかまわない。
【0023】次に図5を用いて本発明の第2の実施の形
態を説明する。図5(a)は本発明の第2の実施の形態
における、再配線構造を示す平面図であり、図5(b)
はその要部断面図である。図5(a)において、501
はICチップであり、通常パッドの再配線を行っていな
い状態での既製のICパッドであるオリジナルパッド8
02はペリフェラル位置に配置して形成されている。こ
れをICチップ501上で1mm以下のピッチで且つグ
リッド状にある新パッド503に再配線している。
【0024】図5(b)においてICチップ501の上
面にはオリジナルパッド802の部分を除いて絶縁層5
05が形成されている。絶縁層505の上面にはオリジ
ナルパッド802から新パッド503の位置に再配線し
ている回路パターン504が形成されている。さらにそ
の上から回路パターン504の新パッド503となる部
分を除いて絶縁層506が形成されている。新パッド5
03には半田バンプ807が形成され、この半田バンプ
807により図示していないインターポーザー基板に実
装される。
【0025】通常、ICチップ上で再配線せずに回路基
板に実装する場合は、オリジナルパッドは、ワイヤーボ
ンディングにより回路基板に接続している。このワイヤ
ーボンディングによる実装では、オリジナルパッドに衝
撃が加わるため、既製のパッドは外周位置に配置し、そ
の下には半導体素子は配置しないようにしている。この
ように、既製の外周位置にパッドが配置されていたIC
チップを、ICチップ上でパッドを再配線してグリッド
上に再配置することにより、第1の実施の形態に示すI
Cパッケージを構成することができる。
【0026】図7は本発明の第2の実施の形態におい
て、ICチップの半田バンプ用パッドの他の再配置を用
いて構成したチップスケールパッケージの断面図であ
る。説明を簡単にするため、ICチップの既製のパッド
や再配線パターン、絶縁層は省略している。また、図6
(a)は図7のチップスケールパッケージに用いられる
ICチップの平面図、図6(b)は図7のチップスケー
ルパッケージに用いられるインターポーザー基板の上面
を示す図であである。
【0027】図7において、601はICチップであ
り、ICチップ601の上面にはパッド602a及び6
02bが形成されている。このパッド602a及び60
2bは、前述の第2の実施の形態によって既成の外周位
置よりICチップ上で再配線されて、図6(a)に示す
ごとく、1mm以下のピッチで且つグリッド状に5行5
列に再配置されている。602bは5行5列のパッドの
うち、中心部に3行3列に形成された9個のパッドであ
り、602aは5行5列のパッドのうち、最外周に形成
された16個のパッドである。
【0028】図6(a)において、X1からX5は、中
心部の3行3列のパッド602bの列側のグリッドピッ
チと同ピッチで5列分再配置した場合のピッチを示した
線であり、Y1からY5は、中心部の3行3列のパッド
の行側のグリッドピッチと同ピッチで5行分再配置した
場合のピッチを示した線である。5行5列のパッド60
2のうち、最外周に位置する16個のパッド602aは
列側のピッチを示す線X1及びX5よりもX2及びX4
側にずれて再配置され、行側のピッチを示す線Y1及び
Y5よりもY2及びY4側にずれて再配置されている。
すなわち、最外周のICチップの半田バンプ用パッド
は、その中心が所定のグリッド中心位置よりも内側の隣
り合うグリッド側にずれて配置されている。
【0029】パッド602a、602bには、図7に示
すごとく半田バンプ607a、607bが形成され、イ
ンターポーザー基板621のIC接続パッド電極627
A及び627Bに電気的に接続される。図6(b)にお
いて、621はインターポーザー基板であり、その上面
には5行5列にIC接続パッド電極627が形成されて
いる。627Bは5行5列のIC接続パッド電極のう
ち、中心部に3行3列に形成されたIC接続パッド電極
であり、627Aは5行5列のIC接続パッド電極のう
ち最外周に形成された16個のIC接続パッド電極であ
る。実線で示した円内627b及び627aはIC接続
パッド電極627B及び627Aの、半田バンプ607
b及び半田バンプ607aを実装する部分であり、ま
た、点線で示した円内で且つ実線で示した円外はレジス
ト832で覆われている部分である。
【0030】x1からx5は、5行5列のIC接続パッ
ド電極627の列側のグリッドピッチを示した線であ
り、y1からy5は、5行5列のIC接続パッド電極の
行側のグリッドピッチを示した線である。半田バンプ6
07bを実装する部分627bは、全て627と同一の
グリッド上に配置されているが、半田バンプ607aを
実装する部分627aは、列側のピッチを示す線x1及
びx5よりもx2及びx4側にずれて配置され、同様に
行側のピッチを示す線y1及びy5よりもy2及びy4
側にずれて配置されている。また、第1の実施の形態で
説明したように、外部接続端子634a、634bが、
インターポーザー基板のデバイスホール部に1mm以下
のピッチで且つグリッド上に5行5列に形成されてい
る。
【0031】このように、インターポーザー基板のIC
接続パッド電極は全て1mm以下の同ピッチで且つグリ
ッド上に形成し、最外周のIC接続パッド電極の半田バ
ンプ実装部だけを、その中心が所定のグリッド中心位置
よりも隣り合うグリッド側にずれて配置することで、外
部接続端子を1mm以下の同ピッチで且つグリッド上に
配置することができる。
【0032】図5に示すごとく、ICチップ501の既
製の外周位置、すなわちペリフェラル位置のオリジナル
パッド802を、ICチップ501上で再配線してグリ
ッド上の新パッド503に再配置する場合、パッド数が
増えると既製のオリジナルパッド802と再配置された
新パッド503との間に回路パターン504aや504
bを形成する必要が生じる。また、さらにパッド数が増
えると、オリジナルパッドと再配置されたグリッド上の
パッドの間に配線する回路パターンも増える。一方、パ
ッドの数が増えると、ICチップの面積、再配線が可能
な回路パターンの太さやピッチ、外部接続端子のピッチ
などの条件から、ICチップのパッドの再配置するグリ
ッド位置が決定され、オリジナルパッドと再配置された
グリッド上のパッドとの距離が短いために、この間の再
配線の回路パターンが緻密になったり、また、再配線の
回路パターンを形成することが不可能な場合も生じる。
【0033】図6、図7に示したように、最外周のIC
チップの半田バンプ用パッドをその中心が所定のグリッ
ド中心位置よりも内側の隣り合うグリッド側にずれて配
置することにより、図5(a)に示した既製のパッドと
再配置された最外周のパッドとの距離LX及びLYが長
くなり、その間に再配線の回路パターンを形成すること
が容易になったり、より多くの再配線のための回路パタ
ーンを形成することができるようになる。
【0034】
【発明の効果】以上説明したように、請求項1に記載し
た発明によれば、ICパッケージのICチップの半田バ
ンプのピッチとインターポーザー基板の外部端子のピッ
チとをほぼ等しく構成しているので、インターポーザー
基板の上面と下面の配線パターン及びスルーホールが不
要となり、従ってインターポーザー基板の回路パターン
が緻密にならず、インターポーザー基板を小さくするこ
とができる効果がある。また、その結果として、インタ
ーポーザー基板がより安価になるともに、信頼性及び歩
留まりが向上する効果がある。
【0035】また、請求項1のように構成することで、
外部接続端子間に回路パターンを設ける必要がないた
め、外部接続端子の端子数にかかわらず、外部接続端子
のピッチを1mm以下にすることができる効果がある。
【0036】また、請求項2に記載した発明によれば、
外部接続端子のピッチを1mm以下にすることで、より
小さなチップスケールパッケージを構成することができ
る。
【0037】また、請求項3に記載した発明によれば、
ICチップの既製の外周位置のパッドを、ICチップ上
で再配線してグリッド上に再配置することで、インター
ポーザー基板上に緻密な回路パターンを設けずに、請求
項1に記載したICパッケージを構成することができる
という効果がある。
【0038】また、請求項4に記載した発明によれば、
ICチップの既製の外周位置のパッドを、ICチップ上
で再配線してグリッド上に再配置する場合、再配置され
た最外周のグリッド上のパッドを内側の隣り合うグリッ
ド側にずれて配置することにより、外周位置の既製のパ
ッドと再配置された最外周のグリッド上のパッドとの距
離が長くなり、その間に再配線の回路パターンを形成す
ることが容易になったり、より多くの再配線のための回
路パターンを形成することができるようになるという効
果がある。
【0039】また、請求項5に記載した発明によれば、
インターポーザー基板が片面基板で構成されているた
め、構造が簡単でより安価に構成できるという効果があ
る。
【0040】また、請求項6に記載した発明によれば、
片面基板で構成されたインターポーザー基板のデバイス
ホールをレーザー加工ではなくより安価なプレス加工で
加工することができ、インターポーザー基板がより安価
に製造できるという効果がある。
【0041】また、請求項7に記載した発明によれば、
上面は露出したパターンは存在せず、下面は電極が全て
半田で覆われているので、片面基板で構成されたインタ
ーポーザー基板にレジストを形成する必要がなく、イン
ターポーザー基板がより安価に構成できるという効果が
ある。
【0042】また、請求項8に記載した発明によれば、
片面基板で構成されたインターポーザー基板のデバイス
ホールを、レーザー加工やプレス加工ではなくドリルを
使用した一般的な方法で加工することができ、インター
ポーザー基板がより安価に製造することができるという
効果がある。
【0043】また、請求項9に記載した発明によれば、
フレキシブル基板でチップスケールパッケージを構成す
ることで、リジッド基板で構成したICパッケージに比
較して薄くできるという効果がある。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第1の実施の形態におけるICパッケ
ージの断面図及びインターポーザー基板の要部断面図と
外部接続端子の形成状態を示した断面図である。
【図2】本発明の第1の実施の形態におけるICチップ
の平面図である。
【図3】本発明の第1の実施の形態において、インター
ポーザー基板を他の片面基板で構成したチップスケール
パッケージの要部断面図である。
【図4】本発明の第1の実施の形態において、インター
ポーザー基板を両面基板で構成したチップスケールパッ
ケージの要部断面図である。
【図5】本発明の第2の実施の形態における、再配線構
造を示す平面図とその断面図である。
【図6】図7のチップスケールパッケージに用いられる
ICチップの平面図、及び図7のチップスケールパッケ
ージに用いられるインターポーザー基板の上面を示す図
である。
【図7】本発明の第2の実施の形態において、ICチッ
プの半田バンプ用パッドの他の再配置を用いて構成した
チップスケールパッケージの断面図である。
【図8】従来のチップスケールパッケージの断面図であ
る。
【図9】従来のチップスケールパッケージにおけるイン
ターポーザー基板の上面を示す図と下面を示す図であ
る。
【符号の説明】
11、71、81 チップスケールパッケージ 101、501、601、801 ICチップ 102、602a、602b パッド 802 既製パッド 503 新パッド 504 配線パターン 505 レジスト 506 レジスト 107、607、607a、607b、607a1、8
07 半田バンプ 608X、608Y ICチップの側面 121、321、421、621、821 インターポ
ーザー基板 122、322、422、622、822 基材 423 銅箔 424 第1のメッキ層 425 第2のメッキ層 426 第2のメッキ層 127、427、627、627A、627B、627
a、627b 827IC接続パッド電極 328、428、828 外部接続パッド電極 129 デバイスホール 830 スルーホール 431 穴埋め材 832、833、432、433 レジスト 134、334、434、634a、634b、83
4、834a、834b外部接続端子 135、335 半田 136 半田ボール 837 上面配線パターン 838、838a 下面配線パターン 850 封止樹脂

Claims (9)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 ICチップをインターポーザー基板に実
    装したICパッケージにおいて、前記ICチップはグリ
    ッド状に配置された接続用の半田バンプを有し、前記イ
    ンターポーザー基板はグリッド状に配置された複数の外
    部接続端子を有しており、前記半田バンプのピッチと前
    記インターポーザー基板の外部接続端子のピッチとがほ
    ぼ等しいことを特徴とするICパッケージの構造。
  2. 【請求項2】 インターポーザー基板の外部接続端子の
    ピッチは1mm以下であることを特徴とする請求項1記
    載のICパッケージの構造。
  3. 【請求項3】 ICチップの半田バンプ用パッドは、既
    製の外周位置よりICチップ上で再配線されてグリッド
    状に再配置されていることを特徴とする請求項1または
    2記載のICパッケージの構造。
  4. 【請求項4】 最外周のICチップの半田バンプ用パッ
    ドは、その中心が所定のグリッド中心位置よりも内側の
    隣り合うグリッド側にずれて再配置されていることを特
    徴とする請求項3記載のICパッケージの構造。
  5. 【請求項5】 インターポーザー基板は片面基板で構成
    されていることを特徴とする請求項1から4記載のIC
    パッケージの構造。
  6. 【請求項6】 インターポーザー基板は一方の面にIC
    チップ接続用のパッド電極が形成され、他方の面には前
    記パッド電極を露出するとともに外部接続端子用の導電
    部材を埋設するためのデバイスホールが形成された片面
    基板であることを特徴とする請求項5記載のICパッケ
    ージの構造。
  7. 【請求項7】 インターポーザー基板は一方の面に外部
    接続端子を形成するための外部接続パッド電極を有し、
    他方の面には前記パッド電極を露出するとともに、前記
    ICチップを接続するためのデバイスホールが形成され
    た片面基板であることを特徴とする請求項5記載のIC
    パッケージの構造。
  8. 【請求項8】 インターポーザー基板は一方の面にIC
    チップ接続用のパッド電極が形成され、他方の面には外
    部接続パッド電極を有し、前記ICチップ接続用のパッ
    ド電極と前記外部接続パッド電極は穴埋めされたスルー
    ホール上にあることを特徴とする請求項1から4記載の
    ICパッケージの構造。
  9. 【請求項9】 インターポーザー基板はフレキシブル基
    板であることを特徴とする請求項1から8記載のICパ
    ッケージの構造。
JP8373897A 1997-04-02 1997-04-02 Icパッケージの構造 Expired - Lifetime JP3681855B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP8373897A JP3681855B2 (ja) 1997-04-02 1997-04-02 Icパッケージの構造

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP8373897A JP3681855B2 (ja) 1997-04-02 1997-04-02 Icパッケージの構造

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH10284538A true JPH10284538A (ja) 1998-10-23
JP3681855B2 JP3681855B2 (ja) 2005-08-10

Family

ID=13810872

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP8373897A Expired - Lifetime JP3681855B2 (ja) 1997-04-02 1997-04-02 Icパッケージの構造

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP3681855B2 (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7884463B2 (en) 2008-11-25 2011-02-08 Shinko Electric Industries Co., Ltd. Wiring board, semiconductor device and semiconductor element
JP2016532302A (ja) * 2014-07-28 2016-10-13 インテル・コーポレーション 密なパッケージ配線を有するマルチチップモジュールの半導体チップパッケージ

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7884463B2 (en) 2008-11-25 2011-02-08 Shinko Electric Industries Co., Ltd. Wiring board, semiconductor device and semiconductor element
JP2016532302A (ja) * 2014-07-28 2016-10-13 インテル・コーポレーション 密なパッケージ配線を有するマルチチップモジュールの半導体チップパッケージ
US10256211B2 (en) 2014-07-28 2019-04-09 Intel Corporation Multi-chip-module semiconductor chip package having dense package wiring

Also Published As

Publication number Publication date
JP3681855B2 (ja) 2005-08-10

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US7029953B2 (en) Semiconductor package for three-dimensional mounting, fabrication method thereof, and semiconductor device
US6545366B2 (en) Multiple chip package semiconductor device
US8293574B2 (en) Semiconductor device having a plurality of semiconductor constructs
US6204559B1 (en) Ball grid assembly type semiconductor package having improved chip edge support to prevent chip cracking
US7550835B2 (en) Chip stack package utilizing a dummy pattern die between stacked chips for reducing package size
KR102517464B1 (ko) 반도체 다이와 이격된 브리지 다이를 포함하는 반도체 패키지
US6528734B2 (en) Semiconductor device and process for fabricating the same
KR102591624B1 (ko) 반도체 패키지
US6104088A (en) Complementary wiring package and method for mounting a semi-conductive IC package in a high-density board
US6677219B2 (en) Method of forming a ball grid array package
KR20120029169A (ko) 벌집형 범프 패드를 갖는 반도체 패키지 기판용 인쇄회로기판 및 이를 포함하는 반도체 패키지
KR20180004413A (ko) 반도체 패키지 및 이의 제조 방법
JP3730625B2 (ja) フリップチップボンディングのための有機基板
US6144091A (en) Semiconductor device
JP4494249B2 (ja) 半導体装置
US6591410B1 (en) Six-to-one signal/power ratio bump and trace pattern for flip chip design
JP4539396B2 (ja) 半導体装置の実装構造
JPH10284538A (ja) Icパッケージの構造
JP3330468B2 (ja) 配線基板及び半導体装置
JPS6127667A (ja) 半導体装置
JP3555828B2 (ja) 半導体実装用回路基板を備えた半導体装置
JP2002217240A (ja) フリップチップ実装構造及び配線方法
KR100218632B1 (ko) 볼 그리드 어레이 반도체 패키지용 가요성 회로 기판의 다이 플래그 구조
JP2009283811A (ja) 半導体装置、半導体装置の製造方法および分割前基板
JP3645701B2 (ja) 半導体装置

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20040218

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20041214

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20041221

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20050210

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20050308

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20050404

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20050426

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20050519

S533 Written request for registration of change of name

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100527

Year of fee payment: 5

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120527

Year of fee payment: 7

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140527

Year of fee payment: 9

S533 Written request for registration of change of name

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

EXPY Cancellation because of completion of term