JPH10281303A - 気密運動伝達装置およびその製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 簡単な構造で耐久性が大きく、回転運動と直
線運動の双方を伝達することができ、駆動に伴って発生
する塵埃が少なく、半導体装置等の電子部品の製造装置
に用いて好適な気密運動伝達装置を提供する。 【解決手段】 装置全体をチャンバーに固定するための
軸受１２と、この軸受１２の中心孔１２ａに挿通され、
これに対して摺動しつつ自身が回転および前後進運動す
るシャフト１３を有し、これら軸受、シャフトがともに
アルミナ、ジルコニア、窒化アルミニウム、窒化珪素、
炭化珪素等のいずれかを主成分とするセラミックス材料
で形成されている。また、軸受とシャフトの摺動面の表
面粗さはともにＲａ＝１．５μｍ以下、より好ましくは
Ｒａ＝０．５μｍ以下とし、軸受とシャフトの間のギャ
ップは３０μｍ以下、より好ましくは２０μｍ以下とす
る。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、例えば差圧容器の
内部に容器外部から回転運動および直線運動（前後進運
動）を伝達するための気密運動伝達装置およびその製造
方法に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】例えば、チャンバー内を真空状態または
減圧状態とし、各種ガスを用いて半導体ウェハ等を処理
する半導体製造装置において、チャンバー内の真空また
は減圧状態を維持しつつチャンバー外部の動力をチャン
バー内部に伝達するには、次に示すような運動伝達装置
が従来から用いられていた。

【０００３】この種の運動伝達装置の第１の例は、図９
に示すように、固定壁１の孔に対して回転および直線運
動をなす可動軸２が挿通され、固定壁１と可動軸２の間
に弾性を持つパッキング、例えば合成樹脂製のＯリング
３が介装されたものである。運動伝達装置の第２の例
は、図１０に示すように、固定壁４と可動軸５との間隙
に給気孔６を設け、部分的に高圧の気体を流入させるこ
とで可動軸５を固定壁４から浮かし、一方で複数の排気
孔７ａ〜７ｄから数段の差圧吸引を行ってチャンバー内
の圧力を維持する、いわゆるエアシリンダ方式である。
運動伝達装置の第３の例は、図１１に示すように、可動
軸８と固定壁９の間に磁性流体１０を介在させて数段の
差圧を作り、これによってチャンバー内外の圧力差を維
持するというものである。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記従
来の運動伝達装置には、以下のような問題点があった。
図９に示した第１の例の場合、構造が比較的簡単である
が、チャンバー内の圧力を維持するには固定壁１と可動
軸２の間にＯリング３が堅固に挿入されて大きく変形
し、チャンバー内外の気体の流通を遮断する必要があ
る。したがって、可動軸を動かすために大きな力を要
し、しかも可動軸を高速駆動させることが困難である。
また、駆動に伴って半導体製造装置では最も問題となる
塵埃の発生も大きい。さらに、Ｏリングの劣化が激しい
という問題もある。

【０００５】次に、図１０、図１１に示した第２、第３
の例の場合、装置が複雑な構造となり、コスト高になる
という問題がある。特に、第２の装置においては、多量
の高圧気体を給気孔６から導入し、排気孔７ａ〜７ｄか
ら差圧的に排気する必要があるため、給気装置および排
気装置をも備える必要があり、この設備コストが極めて
大きくなるばかりでなく、給排気のための運転コストも
大きくなる。

【０００６】また、第３の装置では、回転運動の伝達は
可能であるが、直線運動伝達用として使用することがで
きない。また、回転運動の伝達においても、力の損失が
比較的大きいという問題がある。

【０００７】本発明は、上記の課題を解決するためにな
されたものであって、簡単な構造で耐久性が大きく、し
かも、回転運動と直線運動の双方を小さい駆動力で差圧
容器内に無駄なく伝達することができ、さらに、駆動に
伴って発生する塵埃が少なく、半導体装置等の電子部品
の製造装置に用いて好適な気密運動伝達装置、およびそ
の製造方法を提供することを目的とする。

【０００８】

【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
めに、本発明の気密運動伝達装置は、壁部によって隔て
られた圧力の異なる領域間で気密状態を維持しつつ回転
および前後進運動を伝達する気密運動伝達装置であっ
て、装置全体を壁部に固定するための固定部と、この固
定部に対して摺動しつつ自身が回転および前後進運動す
る可動部を有し、これら固定部および可動部の少なくと
も摺動面がともにセラミックス材料で形成されたことを
特徴とするものである。

【０００９】具体的には、上記の気密運動伝達装置を、
固定部に孔を設けるとともに、可動部を固定部の孔に微
小な間隙をもって挿通する構成とした上で、好ましくは
これら固定部、可動部の摺動面の表面粗さをともにＲａ
＝１．５μｍ以下とし、固定部と可動部の間のギャップ
を３０μｍ以下とするのがよい。さらに好ましくは、前
記表面粗さをともにＲａ＝０．５μｍ以下とし、前記ギ
ャップを２０μｍ以下とするのがよい。なお、Ｒａと
は、ＩＳＯ（国際標準化機構）規格／Ｒ468-1966によっ
て規定された表面粗さの表示方法であり、中心線平均粗
さのことである。

【００１０】また、固定部に、前記間隙に通じる差圧排
気または差圧給気のための開口部を少なくとも１箇所設
ける構成としてもよい。さらに、固定部と可動部の間に
前記間隙より大きいギャップを有する排気用間隙を設
け、この排気用間隙に通じる排気孔から差圧排気をなす
構成としてもよい。そして、前記セラミックス材料とし
ては、アルミナ、ジルコニア、窒化アルミニウム、窒化
珪素、炭化珪素のいずれかを主成分とした材料が用いら
れ、固定部、可動部に各々同種のセラミックス材料また
は異種のセラミックス材料を用いることができる。

【００１１】また、本発明の気密運動伝達装置の製造方
法は、円形の孔を有する固定部と、この固定部の孔に挿
通され摺動しながら自身が回転および前後進運動する円
柱状の可動部を有し、壁部によって隔てられた圧力の異
なる領域間で気密状態を維持しつつ回転および前後進運
動を伝達する気密運動伝達装置の製造方法であって、可
動部を作成する際に、固定部の孔の径より大きい径を有
するセラミックス材料からなる円柱体を作成し、その
後、このセラミックス材料と同等の硬度、またはセラミ
ックス材料より大きな硬度を有する微粒子粉を含む砥粒
材を収容した円筒状の容器の中に円柱体を入れ、その状
態で容器を回転させることによって円柱体の表面を研削
し、可動部とすることを特徴とするものである。

【００１２】すなわち、本発明の特徴点は、固定部およ
びそれに摺動しつつ動作する可動部の材料にセラミック
スを使用することにある。近年注目されている、いわゆ
るファインセラミックスが摺動性、耐磨耗性に優れてい
ることは周知のことであり、一部の特殊、高級な機械装
置に使用され始めている。そこで、特に精密、高精度に
加工されたファインセラミックスを用いて実験的に気密
運動伝達装置を試作し、差圧容器内に外部から回転運動
や直線運動を伝達させたところ、上記の解決しようとす
る課題が極めて効果的に解決できることが判り、本発明
に至った。また、軸受（固定部）とこれに所望の精度で
嵌合するシャフト（可動部）を効率良く製造する方法を
見い出したことによって、上記の気密運動伝達装置を工
業的に製造することが可能になった。

【００１３】

【発明の実施の形態】以下、本発明の一実施の形態を図
１を参照して説明する。図１は本実施の形態の気密運動
伝達装置を示す図であり、この気密運動伝達装置１１
は、例えば半導体製造装置等のチャンバーに取り付けら
れ、チャンバー内の所望の部材を駆動するためにチャン
バー外部の回転運動および直線運動をチャンバー内部に
伝達するためのものである。図中符号１２は軸受（固定
部）、１３はシャフト（可動部）、である。

【００１４】図１に示すように、本実施の形態の気密運
動伝達装置１１は、円筒状の軸受１２の中心孔１２ａの
内部にごく僅かな間隙をもって断面円状のシャフト１３
が挿通されており、軸受１２の周囲には装置１１全体を
チャンバーに取り付けるための金属製のケーシング１４
が設けられている。そして、例えばフランジ部（図示せ
ず）をネジ止めする等の任意の方法によってケーシング
１４がチャンバーに固定されるとともに、シャフト１３
の一端はチャンバー外部で回転および直線運動する任意
の部材に、シャフト１３の他端は前記回転および直線運
動を伝達すべきチャンバー内の任意の部材に連結され
る。したがって、チャンバーに固定された軸受１２の中
心孔１２ａの内面（摺動面）に対してシャフト１３の外
面（摺動面）が摺動しつつシャフト１３が回転、前後進
運動することで運動が伝達されるようになっている。

【００１５】これら軸受１２とシャフト１３はともにセ
ラミックス材料で形成されている。ここで用いるセラミ
ックス材料とは、アルミナ、ジルコニア、窒化アルミニ
ウム、窒化珪素、炭化珪素等のいずれかを主成分とした
ものである。軸受１２、シャフト１３には、これらの中
から各々同種のセラミックス材料を用いてもよいし、異
種のセラミックス材料を用いてもよい。そして、軸受１
２、シャフト１３の表面粗さをともに、Ｒａ＝１．５μ
ｍ以下、より好ましくは０．５μｍ以下とし、軸受１
２、シャフト１３間の間隙（ギャップ）を３０μｍ以
下、より好ましくは２０μｍ以下とする。

【００１６】上記構成の気密運動伝達装置１１によれ
ば、軸受１２とシャフト１３にセラミックス材料を用
い、これらの表面粗さやギャップの値を最適化したこと
で、軸受１２にシャフト１３を挿通しただけの簡単な構
造でありながら、チャンバー内圧力を充分に維持しつつ
回転運動と直線運動の双方をチャンバー内に無駄なく伝
達することができ、耐久性が大きく、さらに、駆動の際
にほとんど塵埃が発生することのない気密運動伝達装置
を実現することができる。

【００１７】なお、軸受１２に、軸受１２とシャフト１
３の間の間隙に通じる差圧排気または差圧給気のための
孔（開口部）を少なくとも１箇所設ける構成としてもよ
い。さらに、軸受１２とシャフト１３の間にその間隙よ
り大きいギャップを有する排気用間隙を設けておき、こ
の排気用間隙に通じる排気孔から差圧排気をなす構成と
してもよい。これらの構成とした場合には、チャンバー
内の到達真空度をより高める効果や、軸受とシャフトの
摺動部から塵埃を除去する効果を得ることができる。

【００１８】次に、本実施の形態の気密運動伝達装置の
製造方法について説明する。まず、軸受１２の中心孔１
２ａに関しては、従来のセラミックス焼結加工技術を用
いることにより、極めて真円度が高く、表面粗さが制御
されたものが得られる。例えば、粗いダイヤモンドドリ
ルで孔を形成し、順次、ダイヤモンドの粉径の小さなも
ので仕上げていくことにより、所望の中心孔を有する軸
受が得られる。また、静水圧で形成したグリーン体に孔
を形成して焼結し、その後、機械仕上げを行うことによ
ってより短い作業時間で所望の孔を有する軸受を容易に
作成することができる。

【００１９】ここでは、特にシャフト１３の製造方法に
関して詳細に説明する。図２に示すように、目的の径よ
りわずかに大きな径としたセラミックス材料からなるシ
ャフト構成体１３ａ（円柱体）を一般的な機械加工を用
いて作成するとともに、複数個のシャフト構成体１３ａ
を収納し得る大きさの樹脂筒１５（円筒状容器）を準備
する。そして、上で作成したシャフト構成体１３ａと極
めて微細な砥粒のペースト１６の双方を樹脂筒１５の中
に入れ、その両端を閉じる。次に、この樹脂筒１５を一
般のボールミルを回転させるような装置１７を用いて数
時間〜数日間回転させ、シャフト構成体１３ａの表面を
砥粒によって研削する。この場合、砥粒は、セラミック
ス材料と同等か、あるいはセラミックス材料より大きな
硬度を有する微粒子粉、例えばダイヤモンド粉等を含む
ものである。そして、その粒度を選ぶことによってシャ
フト構成体１３ａ周囲の研削量と表面粗さ（Ｒａ）を自
由に制御することができる。

【００２０】本発明のシャフトに求められる要件の第一
は、軸受との合致性である。つまり、従来一般のセラミ
ックスの円筒加工に使用されているようなセンターレス
砥石による同筒研削を用いて軸受を作成し、この軸受と
シャフトを従来一般の合わせ作業によって組み合わせた
のでは、本発明のような気密運動伝達装置を得ることは
困難であった。

【００２１】そこで、本実施の形態の場合、シャフト構
成体１３ａを収納した樹脂筒１５を回転させ、研削を行
っている間、数時間毎に樹脂筒１５からシャフト構成体
１３ａを取り出し、そのシャフト構成体１３ａ（シャフ
ト１３）を複数の軸受１２に挿入してその嵌合性を調
べ、最適なシャフト１３と軸受１２の組み合わせを選別
使用する。そして、最適な軸受１２がなかった残りのシ
ャフト１３は、再度樹脂筒１５内に戻して研削を行い、
以下、同様の作業を繰り返す。

【００２２】このような方法を採ることにより、軸受に
合致したシャフトを歩留り良く製造することが可能にな
り、本実施の形態の気密運動伝達装置を工業的に生産す
ることが可能になる。

【００２３】

【実施例】以下、上述したような本発明の気密運動伝達
装置の効果を実証した実験結果について報告する。 ［第１実施例］本実施例は、請求項２に記載の気密運動
伝達装置に対応するものである。図３に示すような軸受
３２とシャフト３３を有する気密運動伝達装置３１を試
作し、図４に示すような実験装置１８を準備した上で、
以下の評価を行った。ここでは、軸受３２とシャフト３
３の材料として、最も一般的に使用されている９６％ア
ルミナセラミックスを用いた。また、図３中、摺動部の
径Ｒが１０ｍｍ、摺動部の長さｌが１０ｍｍ、５０ｍ
ｍ、１００ｍｍの３種のものを準備した。図４に示すチ
ャンバー１９の内容積は約５リットルであり、排気ポン
プ２０は、排気速度が１５ｍｌ／分、到達真空度が約１
Ｐａという小さな油回転ポンプである。そして、軸受３
２とシャフト３３の表面粗さをともにＲａ＝０．２μｍ
とし、軸受３２とシャフト３３のギャップを変えた試料
を図４の実験装置１８に取り付けて排気ポンプ２０を作
動させ、平衡状態になった時のチャンバー内圧力を圧力
測定孔１９ａから測定した。その結果を図５に示す。

【００２４】図５から明らかなように、軸受とシャフト
の表面粗さをＲａ＝０．２μｍとした場合、ギャップを
２０μｍ、３０μｍと大きくするとチャンバー内の気密
性が悪化し、３０μｍ以上ではもはや気密状態の維持は
不可能になる。これに対して、ギャップを２０μｍ以
下、特に１０μｍ以下に抑えた場合、摺動部の長さｌに
かかわらず良い気密性を示すことが判った。

【００２５】次に、摺動部の径Ｒを１０ｍｍ、摺動部の
長さｌを５０ｍｍ、軸受３２とシャフト３３のギャップ
を１０μｍで固定し、軸受３２とシャフト３３の摺動面
の表面粗さＲａを変えた試料を図４の実験装置１８に取
り付けてシャフト３３を実際に動作させ、回転方向（回
転運動）および軸方向（直線運動）における静摩擦価を
測定した。その結果を図６に示す。

【００２６】図６から明らかなように、摺動面の表面粗
さがＲａ＝１．４μｍ以上になると回転方向、軸方向の
静摩擦価がともに急激に増加する傾向にあるが、それ以
下では静摩擦価が小さく、特にＲａ＝０．５μｍ以下の
場合、充分にスムーズなシャフトの動作が得られること
が判った。

【００２７】［第２実施例］本実施例は、請求項４に記
載の気密運動伝達装置に対応する、すなわち、軸受とシ
ャフトの間の間隙に通じる差圧排気または差圧給気のた
めの孔（開口部）を設けたものである。

【００２８】図７に示すような軸受４２とシャフト４３
を有する気密運動伝達装置４１を試作し、既に図４に示
した実験装置１８を用いて以下の評価を行った。ここで
も第１実施例と同様、軸受４２とシャフト４３に９６％
アルミナセラミックスを用い、軸受４２とシャフト４３
のギャップを５μｍ、摺動面の表面粗さＲａを０．２μ
ｍ、摺動部の径Ｒを１０ｍｍ、摺動部の長さｌ₁、ｌ₂を
それぞれ１０ｍｍ、５０ｍｍ、とした。

【００２９】まず、図４に示す実験装置１８の排気ポン
プ２０として油の逆流をコールドトラップで防いだ油拡
散ポンプを使用した場合、図７の気密運動伝達装置４１
を実験装置１８に設置せずにその設置個所を封止する
と、チャンバー１９内が１×１０^-5Ｐａの真空度にまで
到達することを確認した。次に、本実施例の気密運動伝
達装置４１をチャンバー１９に設置し、気密運動伝達装
置４１の排気孔４２ａを閉じた状態で、チャンバー１９
の排気孔より排気を行った。この際、平衡状態に達した
ときのチャンバー内圧力は０．２Ｐａであった。その
後、チャンバー内を排気するための排気ラインから分岐
した配管（図示せず）を気密運動伝達装置４１の排気孔
４２ａに接続し、排気を行ったところ、５×１０^-5Ｐａ
に達した。

【００３０】このように、軸受４２とシャフト４３のギ
ャップに通じる排気孔４２ａを設け、ここから排気を行
った本実施例の場合、軸受とシャフト間に間隙があるこ
とによって低下するチャンバー内の真空度を気密運動伝
達装置がない場合に近いレベルの真空度にまで高め、チ
ャンバー内の真空、低圧状態を充分に維持できることが
実証された。

【００３１】以上、気密運動伝達装置の排気孔からの排
気圧がチャンバー内圧と同等の場合について述べたが、
さらに、気密運動伝達装置の排気孔からの排気圧をチャ
ンバー内圧よりも低圧に保つ手段を講じた場合、チャン
バー内の低圧状態が維持されるのと同時に、シャフトの
駆動によって僅かに発生する塵埃がチャンバー内に侵入
することなく、気密運動伝達装置の排気孔から除去でき
ることが判った。したがって、このような構成とするこ
とによって、半導体製造装置のような塵埃の存在を問題
とする装置に使用するのに好適なものとなる。

【００３２】［第３実施例］本実施例は、請求項４に記
載の気密運動伝達装置に対応する、すなわち、軸受とシ
ャフトの間にその間隙より大きいギャップを有する排気
用間隙を設け、この排気用間隙に通じる排気孔から差圧
排気をなす構成としたものである。

【００３３】図８に示すような軸受５２とシャフト５３
を有する気密運動伝達装置５１を試作し、図４に示した
実験装置１８を用いて以下の評価を行った。ここでも前
の実施例と同様、軸受５２とシャフト５３に９６％アル
ミナセラミックスを用い、軸受５２とシャフト５３のギ
ャップを５μｍ、摺動面の表面粗さＲａを０．２μｍ、
摺動部の径Ｒを１０ｍｍ、とした。

【００３４】そして、チャンバー１９の排気孔と図８に
示す気密運動伝達装置５１の第１の排気孔５２ａの双方
から、１×１０^-5Ｐａの真空到達圧を有する第１のポン
プ（図示せず）を用いて排気を行い、同様の真空到達圧
を有する排気量の小さい第２のポンプ（図示せず）を用
いて気密運動伝達装置５１の第２の排気孔５２ｂから排
気を行った。

【００３５】その結果、チャンバー内の圧力は１×１０
^-5〜２×１０^-5Ｐａを示し、シャフトの回転運動および
直線運動を試みても、チャンバー内の圧力変化はほとん
ど見られず、チャンバー内の塵埃の増加も見られなかっ
た。

【００３６】このように、気密運動伝達装置５１の２つ
の排気孔５２ａ、５２ｂから２段で排気を行った本実施
例の場合、１段の排気を行った第２実施例と比べてチャ
ンバー内の真空度をより高めることができ、チャンバー
内への塵埃の侵入も抑えることができた。

【００３７】なお、本発明の技術範囲は、上記実施の形
態や実施例に限定されるものではなく、本発明の趣旨を
逸脱しない範囲において種々の変更を加えることが可能
である。例えば上記実施例においては、軸受とシャフト
の間の間隙に通じる排気孔を設けた例を説明したが、こ
の排気孔に加えて給気孔を設ける構成としてもよい。そ
の場合、軸受とシャフトの間の間隙に対して給排気を行
うことにより、チャンバー内の真空度の維持と塵埃の侵
入防止に加えて、シャフトのより円滑な動作を実現する
ことができる。また、実施例においては、軸受やシャフ
トの材料として一般的によく用いられる９６％アルミナ
セラミックスの例を挙げたが、この他、ジルコニア、窒
化アルミニウム、窒化珪素、炭化珪素等の各種セラミッ
クスを用いても上記実施例と全く同様の効果を奏するこ
とができる。

【００３８】また、上記実施の形態や実施例に係わる記
載、図面等は、本発明の本質的な事項を説明するための
ものである。例えば、軸受をチャンバーに固定するため
の手段、シャフトの回転、直線運動のために気密用のＯ
リング、Ｏリングを設置するための溝等を有する金属構
造物等が実際には必要である。しかしながら、これらの
点については従来からの技術で既に確立されているた
め、具体的な説明を省略した。また、軸受に設ける排気
孔の数や位置等についても、適宜設計することができ
る。

【００３９】

【発明の効果】以上、詳細に説明したように、本発明に
よれば、差圧部に対して回転運動、直線運動の双方を伝
達することができる軽量、小型で耐久性の大きい気密運
動伝達装置を実現することができる。そして、半導体デ
バイス等の電子部品の製造装置に適用するにあたって
は、いわゆるファインセラミックスを使用していること
により極めて発塵性が少なく、チャンバー内の塵埃を低
減することができる。また、可動部を固定部から浮かす
ための給気装置や差圧のための排気装置も根本的には必
要としない。仮に高真空状態を維持するために差圧排気
が必要であっても、わずかな差圧排気で充分な効果が得
られるため、給排気装置が不要、または従来装置に比べ
て小さなもので充分となり、装置全体が小型化できると
ともに運転コスト、維持コストを低減することができ
る。さらに、従来の流体磁気シール等と比較した場合、
構造が極めて簡単であると同時に、シャフトの直線運動
も可能であり、上記のような電子部品製造装置の他に
も、化学反応装置、生化学関連装置、スペース関連装置
等に適用して産業的に多大な効果を得ることができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】 本発明の一実施の形態である気密運動伝達装
置の概略構成を示す斜視図である。

【図２】 同、気密運動伝達装置のシャフトを製造する
方法を説明するための図である。

【図３】 本発明の第１実施例の気密運動伝達装置を示
す図である。

【図４】 同、気密運動伝達装置を設置する実験装置を
示す図である。

【図５】 同、実施例の気密運動伝達装置において、軸
受とシャフトの間のギャップとチャンバー内圧力の関係
を調査した結果を示すグラフである。

【図６】 同、実施例の気密運動伝達装置において、摺
動面の表面粗さと回転方向および軸方向の静摩擦価の関
係を調査した結果を示すグラフである。

【図７】 本発明の第２実施例の気密運動伝達装置を示
す図である。

【図８】 本発明の第３実施例の気密運動伝達装置を示
す図である。

【図９】 従来の気密運動伝達装置の第１の例を示す図
である。

【図１０】 従来の気密運動伝達装置の第２の例を示す
図である。

【図１１】 従来の気密運動伝達装置の第３の例を示す
図である。

【符号の説明】

１１，３１，４１，５１ 気密運動伝達装置 １２，３２，４２，５２ 軸受（固定部） １２ａ （軸受の）中心孔 １３，３３，４３，５３ シャフト（可動部） １３ａ シャフト構成体（円柱体） １４ ケーシング １５ 樹脂筒（円筒状容器） １６ 砥粒入りペースト １７ 樹脂筒回転装置 １８ 実験装置 １９ チャンバー １９ａ 圧力測定孔 ２０ 排気ポンプ ４２ａ，５２ａ，５２ｂ 排気孔

Claims (7)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 壁部によって隔てられた圧力の異なる領
   域間で気密状態を維持しつつ回転および前後進運動を伝
   達する気密運動伝達装置であって、 装置全体を前記壁部に固定するための固定部と、この固
   定部に対して摺動しながら自身が回転および前後進運動
   する可動部を有し、 これら固定部および可動部の少なくとも摺動面がともに
   セラミックス材料で形成されたことを特徴とする気密運
   動伝達装置。
2. 【請求項２】 請求項１に記載の気密運動伝達装置にお
   いて、 前記固定部に孔が設けられるとともに、前記可動部が前
   記固定部の孔に微小な間隙をもって挿通され、 これら固定部および可動部の摺動面の表面粗さがともに
   Ｒａ＝１．５μｍ以下であり、固定部と可動部の間のギ
   ャップが３０μｍ以下であることを特徴とする気密運動
   伝達装置。
3. 【請求項３】 請求項１に記載の気密運動伝達装置にお
   いて、 前記固定部に孔が設けられるとともに、前記可動部が前
   記固定部の孔に微小な間隙をもって挿通され、 これら固定部および可動部の摺動面の表面粗さがともに
   Ｒａ＝０．５μｍ以下であり、固定部と可動部の間のギ
   ャップが２０μｍ以下であることを特徴とする気密運動
   伝達装置。
4. 【請求項４】 請求項２または３に記載の気密運動伝達
   装置において、 前記固定部に、前記間隙に通じる差圧排気または差圧給
   気のための開口部が少なくとも１箇所設けられたことを
   特徴とする気密運動伝達装置。
5. 【請求項５】 請求項２ないし４のいずれかに記載の気
   密運動伝達装置において、 前記固定部と可動部の間に前記間隙より大きいギャップ
   を有する排気用間隙が設けられ、この排気用間隙に通じ
   る排気孔から差圧排気がなされる構成とされたことを特
   徴とする気密運動伝達装置。
6. 【請求項６】 請求項１ないし５のいずれかに記載の気
   密運動伝達装置において、 前記セラミックス材料は、アルミナ、ジルコニア、窒化
   アルミニウム、窒化珪素、炭化珪素のいずれかを主成分
   とするものであり、前記固定部および可動部に各々同種
   のセラミックス材料または異種のセラミックス材料が用
   いられたことを特徴とする気密運動伝達装置。
7. 【請求項７】 円形の孔を有する固定部と、この固定部
   の孔に挿通され摺動しながら自身が回転および前後進運
   動する円柱状の可動部を有し、壁部によって隔てられた
   圧力の異なる領域間で気密状態を維持しつつ回転および
   前後進運動を伝達する気密運動伝達装置の製造方法であ
   って、 前記可動部を作成する際に、前記固定部の孔の径より大
   きい径を有するセラミックス材料からなる円柱体を作成
   し、その後、このセラミックス材料と同等の硬度、また
   はセラミックス材料より大きな硬度を有する微粒子粉を
   含む砥粒材を収容した円筒状の容器の中に前記円柱体を
   入れ、その状態で前記容器を回転させることによって前
   記円柱体の表面を研削し、可動部とすることを特徴とす
   る気密運動伝達装置の製造方法。