JPH10270304A - 露光パターンの評価方法、露光パターンの評価用マーク及び露光パターンの評価装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 ウェハ上に既に形成されている各層の影響を
あまり受けることなく、露光パターン評価の信頼性が高
い評価装置を提供する。 【解決手段】 本発明の露光パターンの評価装置は、転
写露光により形成したマーク１５を評価するものであ
る。評価マーク１５を２次元像として撮像する手段（Ｃ
ＣＤカメラ２１等）と、テンプレートの形状を入力する
手段２６と、評価マーク像とテンプレートとの相互相関
関数のピーク値を演算する手段２３を具備する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、半導体集積回路や
液晶装置の転写露光等における露光パターンの評価方法
等に関する。より一般的には、露光の主変化量（フォー
カスオフセット等）の変化に対して偶関数的な変化をす
るパターン又は長さを測定して、該露光パターンの正確
さを評価する露光パターンの評価方法等に関する。

【０００２】

【従来の技術】図１０は、従来の第一の例に係る露光パ
ターンの評価方法及び露光パターンの評価装置を説明す
るための図である。ウェハ１０７は、真空チャックや静
電チャック等のホルダ１３１上に固定されている。ホル
ダ１３１はＸＹステージ１３３上に置かれており、ウェ
ハ１０７及びホルダ１３１はウェハ１０７の面と平行な
ＸＹ面内で走査される。ウェハ１０７上には、“両くさ
びマーク”と呼ばれる、設計上では扁平な菱形のマーク
１０９が形成されている。この両くさびマーク１０９
は、マスク上の同様のマークパターンを転写することに
より、フォトレジスト又は半導体回路層（ＳｉＯ₂ やア
ルミニウム）で形成されている。このくさびマークの詳
細については特開平５−６２８８２号に説明されてい
る。

【０００３】この両くさびマーク１０９は、露光時にお
ける露光装置（ステッパー等）のフォーカス状態により
その形状（長さ）が図９のように変化する。すなわち理
想的な合焦状態では図９（Ｂ）のように設計通りのパタ
ーンとなってその長さが最大となり、フォーカスがずれ
ると図９（Ａ）や（Ｃ）のマーク１０９′や１０９″の
ようにパターンの両端部が消失して長さが短くなる。し
たがって、転写された両くさびマーク１０９の長さを測
定することにより露光のフォーカスの良否を評価するこ
とができる。

【０００４】再び図１０に戻って露光パターンの評価装
置について説明する。ウェハ１０７の上方に置かれてい
る光源１０１を発した照明光１０３は、コリメータレン
ズ１０４で平行光となり、対物レンズ１０５を経てウェ
ハ１０７上のマーク１０９にスポット状に照射される。
マーク１０９で反射された光は光電変換手段１１３に導
かれる。

【０００５】一方、ＸＹステージ１３３が、マーク１０
９の長手方向である測定方向に移動する。この移動の間
の光電変換手段１１３の出力は図１１のように変化す
る。すなわち、マークからの反射光を受ける範囲で台形
状に出力が立ち上がっている。立ち上がり及び立ち下が
り部において出力の変動が生じているのは、照射スポッ
トがマーク１０９にかかるとマーク１０９のエッジで光
が散乱し、反射光が光電変換手段の開口から外れるのが
主たる原因である。さて、このようにして得た図１１の
測定波形を処理して、一定の、あるいは波形に応じて設
定されたしきい値がよぎる間のＸＹステージ３３の移動
距離を測定し、マーク１０９の長さに対応するデータを
求める。

【０００６】図１２は、従来の第二の例に係る露光パタ
ーンの評価方法及び露光パターンの評価装置を説明する
ための図である。ここで、ウェハ２１３上の評価マーク
２１５及びウェハホルダ２３１、ＸＹステージ２３３
は、図１０の従来例と同じものである。図１２の測距装
置は、照明用の光源２０１を有する。光源２０１から発
した照明光２０３は、光源２０１と同軸上に配置されて
いるコンデンサレンズ２０５を通って、適当な照明倍率
に調整される。コンデンサレンズ２０５を出た照明光
は、同レンズの軸と、対物レンズ２１１や結像レンズ２
１９の軸とが交差する点に置かれているハーフミラー２
０７に当って下方に偏向され（照明光２０９）、ハーフ
ミラー２０７の下方に置かれている対物レンズ２１１を
通過してウェハ２１３上の評価マーク２１５を照明す
る。評価マーク２１５に当てられた光は反射して、対物
レンズ２１１及び、ハーフミラー２０７を通過し、さら
に同レンズと同軸で上方に配置された結像レンズ２１９
を通過して、さらに上方に配置されたＣＣＤカメラ２２
１の光電変換面に達する。この対物レンズ２１１及び結
像レンズ２１９によって、評価マーク２１５の拡大像が
ＣＣＤカメラ２２１に結像する。

【０００７】この結果、二次元光電変換手段であるＣＣ
Ｄカメラ２２１の像は、図９のいずれかのような形とな
る。そして、ＣＣＤカメラ２２１の画像信号は画像処理
部２２３に送られる。画像処理部２２３では、図９の画
像プロファイルを縦方向（マークの短手方向）に、各Ｃ
ＣＤカメラの各画素のセンシング信号値であるグレイス
ケールデータが加算され、その結果の波形が設定したし
きい値をよぎる点間の長さを計測してマークの長さに対
応する量の測定結果としていた。

【０００８】

【発明が解決しようとする課題】上記のごとき従来の技
術においては、しきい値の設定により測定値が大きく変
化するという問題点があった。通常この種の測定に用い
られる確認用被検物（ベアシリコンのテストウェハ）を
測定する際にはしきい値は安定であるのであまり問題に
ならない事項ではあるが、製品上の被測定マークを測定
する場合には問題となる。また、方向別の測定をしなけ
ればならないため、測定に時間がかかり、同種の画像処
理を用いる重ね合わせ測定とも独立に測定しなければな
らないため作業の効率が悪いという問題点があった。

【０００９】本発明は、このような問題点に鑑みてなさ
れたもので、ウェハ上に既に形成されている各層の影響
をあまり受けることなく、露光パターン評価の信頼性が
高い露光パターンの評価方法等を提供することを目的と
する。

【００１０】

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するた
め、本発明の露光パターンの評価方法は、 マスク上の
評価マークのパターンを被露光面上に転写露光すること
により形成した転写評価マークの露光パターンを評価す
る方法であって； 上記転写評価マークを２次元像とし
て撮像し、 設計上の評価マークのパターンをテンプレ
ートとし、転写評価マークの像とテンプレートとの相互
相関関数のピーク値又は正規化相関関数のピーク値（い
わゆるサーチスコア）を求め、 該ピーク値によって露
光パターンの正確さを評価することを特徴とする。すな
わち、被測定パターンの測定値として設計どおりのパタ
ーンをテンプレートとし、相互相関関数のピーク値又は
正規化相関関数のピーク値を測定値としたため、しきい
値等の設定の影響を受け難い安定な測定値を得ることが
できる。

【００１１】また、本発明の露光パターンの評価方法用
マークは、マスク上の評価マークのパターンを被露光面
上に転写露光することにより形成した転写評価マークで
あって、両くさび形パターンと基準となる固定パターン
とが共に形成されていることを特徴とする。このような
評価マークを用いることにより、露光時のフォーカスの
状態の測定と、重ね合わせ量の測定を同一のマークで行
える測定マークを提供できる。

【００１２】さらに、本発明の露光パターンの評価装置
は、 マスク上の評価マークのパターンを被露光面上に
転写露光することにより形成した転写評価マークを評価
する露光パターンの評価装置であって、 上記転写評価
マークを２次元像として撮像する撮像部と、 テンプレ
ートの形状を入力する入力部と、 上記転写評価マーク
像とテンプレートとの相互相関関数のピーク値又は正規
化相関関数のピーク値を演算する演算部と、 を具備す
ることを特徴とする。

【００１３】

【発明の実施の形態】本発明においては、上記評価マー
クとして、少なくとも２方向（測定方向）に延びる両く
さび形（扁平菱形）からなるマークを用い、上記転写評
価マークの像を測定方向に対して垂直方向に加算処理
し、加算して得たデータとテンプレートの加算データと
の相互相関関数のピーク値を求めることが好ましい。２
方向の測定を同一のマークで行うことができるため、迅
速な測定を行うことができる。

【００１４】また、本発明においては、測定方向以外の
くさび形の投影データが加算される範囲のデータを一定
値で置き換えた後に相互相関関数を求めるか、あるい
は、該範囲外でのみ相互相関関数を求めることが好まし
い。被測定マークのうち測定方向以外のマーク部分を相
関関数又は正規化相関関数の計算から除外することとし
たためさらに迅速かつ正確な測定が行える。

【００１５】また、本発明の一形態においては、上記評
価マークを扁平率が異なる２種以上の両くさび形として
同時に形成し、両マークの長さを求め、該マークの長さ
によって露光パターンの正確さを評価することができ
る。露光時のフォーカスに鈍感な第二の被測定マークを
設けてリファレンスとすることにより、半導体ウェハ等
の局所的な変化の影響を受けにくくすることができる。

【００１６】また、本発明の一形態においては、上記評
価マークを、デフォーカスやせが少ない参照マークと両
くさび形のマークの組み合わせとして同時に形成し、参
照マークをテンプレートとして、両くさび形とテンプレ
ートとの相互相関関数のピーク値又は正規化相関関数の
ピーク値を求め、該ピーク値によって露光パターンの正
確さを評価することができる。また、本発明の一形態に
おいては、上記評価マークを扁平率が異なる２種以上の
両くさび形として同時に形成し、各々の両くさび形の設
計上のパターンをテンプレートとして転写評価マーク像
とテンプレートとの相互相関関数のピーク値又は正規化
相関関数のピーク値を求め、該ピーク値によって露光パ
ターンの正確さを評価することができる。参照マークと
測定マークとを近接してほぼ同軸上に配置する場合には
相関シフト量がほぼ０となるので、相互相関関数のピー
ク値を求める計算量を低減することができる。

【００１７】また、上記評価マークとして両くさび形マ
ーク及び固定パターンを形成し、さらに、該両くさび形
マークの中心と固定パターンの中心との距離を測定する
ことが好ましい。これにより、露光時のフォーカスの状
態の測定と、重ね合わせ量の測定を同時に測定すること
ができる。

【００１８】さらに、上記評価マークの折り返し相関関
数のピーク値を求めることによりマークの対称性をも評
価することが好ましい。画像のプロファイルの対称性を
確認するため、露光時のフォーカス異常その他の原因で
生じ得る重ね合わせ測定の異常を防止することができ
る。

【００１９】以下、図面を参照しつつ説明する。図１
は、本発明の１実施例に係る露光パターンの評価方法及
び露光装置を説明するための模式的な図である。ウェハ
１３は、真空チャックや静電チャック等のホルダ３１上
に固定されている。ホルダ３１はＸＹステージ３３上に
置かれており、ウェハ１３及びホルダ３１はウェハ１３
の面と平行なＸＹ面内で走査される。ウェハ１３上に
は、“両くさびマーク”と呼ばれる、設計上では扁平な
菱形のマーク１５が形成されている。

【００２０】図１の測距装置は、照明用の光源１を有す
る。光源１から発した照明光３は、光源１と同軸上に配
置されているコンデンサレンズ５を通って、適当な照明
倍率に調整される。コンデンサレンズ５を出た照明光
は、同レンズの軸と、対物レンズ１１や結像レンズ１９
の軸とが交差する点に置かれているハーフミラー７に当
って下方に偏向され（照明光９）、ハーフミラー７の下
方に置かれている対物レンズ１１を通過してウェハ１３
上の評価マーク１５を照明する。評価マーク１５に当て
られた光は反射して、対物レンズ１１及び、ハーフミラ
ー７を通過し、さらに同レンズと同軸で上方に配置され
た結像レンズ１９を通過して、さらに上方に配置された
ＣＣＤカメラ２１の光電変換面に達する。つまり、対物
レンズ１１及び結像レンズ１９によって、評価マーク１
５の拡大像がＣＣＤカメラ２１に結像する。

【００２１】ＣＣＤカメラ２１で得られた画像信号は画
像処理部２３に送られる。画像処理部２３では、まず積
算部２５において、取り込まれた画像データがマーク長
手方向（測定方向）と垂直の方向に加算される。そし
て、相互相関関数演算部２７において、予めテンプレー
ト形状入力部２６から入力されて記憶されている設計上
のマークの上記加算によるデータとの相互相関関数が算
出される。さらに、ピーク値算出部２９により相互相関
関数のピーク値が算出され、ピーク値表示部３１に出力
表示される。

【００２２】図２は、図１の露光パターンの評価方法に
おける各種のデータをグラフ化したものである。図２
（Ａ）は、横軸のマーク長手方向位置に対するＣＣＤ像
の積算量を表す。実線はフォーカスが合った露光により
得られたマークのデータであり、破線はフォーカスのズ
レた露光により得られたマークのデータである。両カー
ブは、マークの中央部は幅が一番広くデフォーカス状態
でもその部分は残り、またマークの最先端は一点でデフ
ォーカスによる変化を受けないため、中央部及び両端部
で一致している。一方、中央の左右部はフォーカスの変
化を受けやすいので中央の左右部では値が異なってい
る。

【００２３】図２（Ｂ）は、横軸の相関シフトと縦軸の
相互相関関数との関係を表している。実線はフォーカス
が合った露光により得られたマークのデータであり、破
線はフォーカスのズレた露光により得られたマークのデ
ータである。デフォーカス状態では、マークの形状が設
計上の形状とは異なっているためフォーカス状態よりも
相互相関関数が低いが、相関シフト量（correlation sh
ift)が適切なカーブの中央部ではピークを見せている。

【００２４】図２（Ｃ）は、横軸の露光デフォーカス量
（focus shift when expose mark)と相互相関関数ピー
ク値との関係を表す。同ピーク値が最も高い点の露光デ
フォーカス量が最も露光フォーカスが適切な状態であ
る。このようなグラフは従来からのくさびマークの長さ
を直接測定する方法でも可能であるが、本発明によれば
ウェハ上のパターンのむらに対して安定なデータを得る
ことができる。なお、相互相関関数のピーク値の代わり
に正規化相関関数のピーク値（いわゆるサーチスコア）
を用いることもできる。両関数を用いた画像処理の詳細
については、「信号処理；森下、小畑、計測自動制御学
会」や、「PATTERN RECOGNITION;I.R. ULMANN LONDON S
UTTER WORTHS」を参照されたい。

【００２５】図３は、複数方向に延びる両くさびマーク
を有する評価パターンの例を示す図である。この例で
は、評価パターン４１は、水平・垂直及び斜め４５°の
４方向に延びる両くさびマークを有する。これらのマー
クを使用して４方向の測定を行うことができる。図１、
２の実施例と同様の手段によって取り込まれた画像デー
タは、４つの測定方向と垂直の方向に加算されて４１ａ
〜４１ｄのプロファイルを得る。次にこれらのプロファ
イルは予め記憶されたそれぞれに対応する露光時合焦点
での理想プロファイルとの相互相関関数のピーク値が演
算され、測定結果とする。

【００２６】図４は、測定方向以外のくさび形の投影デ
ータが加算される範囲のデータを一定値で置き換えた後
に相互相関関数を求めるか、あるいは、該範囲外でのみ
相互相関関数を求める露光パターンの評価方法の説明図
である。両くさびマーク４３は、図３のマーク４１と同
じ形状のものである。一点鎖線のプロファイル４３ａ
は、単に測定方向と垂直方向にマークのデータ（面積に
等しい）を積算したものである。一方、破線のプロファ
イル４３ｂは、測定方向以外の測定マークのデータが加
算されている（可能性のある）Ｘ１−Ｘ２の区間のデー
タをＸ１、Ｘ２でのプロファイルの値の平均値で置き換
えたプロファイルである。測定対象以外のマークの像は
測定方向に対してノイズ成分となるのみであるので、上
述の処理をしている。

【００２７】図５は、評価マークを扁平率が異なる２種
以上の両くさび形として同時に形成し、扁平率が低い方
の両くさび形の像をテンプレートとして、扁平率が高い
方の両くさび形とテンプレートとの相互相関関数のピー
ク値又は正規化相関関数のピーク値を求める方法の実施
例に係る評価マークの形状を示す平面図である。本実施
例の評価マークは、図５（Ａ）に示すように、露光時の
フォーカスの影響を受け難い長方形の参照マーク５１
と、通常の測定用くさび状マーク５３より構成される。
両マークの長さは等しいが両端部の幅が大いに異なるの
で、デフォーカス状態となるとくさびマーク５３は短く
なるが、参照マーク５１は短くならない。

【００２８】次にこのマークを用いて測定する実施例に
ついて説明する。図１の実施例と同様の構成で取り込ま
れた画像には同一視野に参照用マーク５１と測定用マー
ク５３が含まれている。図示の例では、マークの長手方
向である測定方向はＸ方向であって、参照用マーク５
１、測定用マーク５３の各々の範囲についてＹ方向（測
定方向と垂直方向）に加算演算が行われる。その結果得
られた２つのプロファイル（参照用マーク５１に対応す
るものと測定用マーク５３に対応するもの）間の相互相
関関数のピーク値が演算されて測定値とする。参照用マ
ークは図５（Ａ）のような矩形である必要はなく、図５
（Ｂ）のように測定マーク５３とは露光時フォーカスオ
フセットに対する感度の異なる（扁平率の低い）くさび
状マーク５５であってもよい。なお、本実施例のように
参照マークと測定マークとが近接してほぼ同軸上に配置
されている場合は、相関シフト量がほぼ０であるので、
相互相関関数のピーク値を求める計算量を低減すること
ができる。

【００２９】図６は、両くさび形パターン及び基準とな
る固定パターンが共に形成されている評価用マークの一
例を示す平面図である。固定パターン６１は、帯状のマ
ークであって露光パターンの評価方法用マーク６３の上
下左右に４個配置されている。固定パターン６１は、半
導体回路製造プロセスによって形成されたＳｉＮ、Ｓｉ
Ｏ₂ 、Ａｌ等の層である。評価パターン６３は、ほぼ正
方形の中央部６３ｂの上下左右に２本ずつくさびマーク
６３ａが角状に突出したものである。この評価パターン
６３はフォトレジストで形成されている。

【００３０】本パターンによればフォトレジスト層のく
さび長さを測定、又は理想パターンとの相関関数のピー
ク値を求めることにより露光時のフォーカス状態の監視
を行うことができる。また、同時に、固定パターン６１
の側辺６１ａと、評価パターン中央部６３ａの側辺６３
ｃとの距離を測定する等により、固定パターン層とフォ
トレジスト層とのアライメントずれの監視も行うことが
できる。

【００３１】図７は、固定パターン層とフォトレジスト
層のアライメントずれの監視を行うこともできる評価パ
ターンを示す平面図である。図７のパターンは、図６の
パターンと基本的には同一である。しかし、評価パター
ン７３の中心が左右の固定パターン７１の中心よりもや
や左に寄っている。また、評価パターン７３は、その中
心から右側が痩せている。本例においても、図１の実施
例と同様の構成により取り込まれた画像から基準パター
ンと被測定パターンの相互相関関数のピーク値を算出す
る。次いで、又は同時に、評価パターン７３プロファイ
ルの中心位置と固定パターン７１の中心位置との差を算
出する。その結果、左右の固定パターン７１の中心線７
５と、評価パターンの中心線７７にはズレＳが認められ
た。

【００３２】図８は、さらに、評価マークの折り返し相
関関数のピーク値を求めることによりマークの対称性を
も評価する方法を説明するためのグラフである。横軸
は、マークの長手方向位置（ｘ）を示し、縦軸はその位
置における光強度の積算値を示す。上の曲線８１は、図
７の評価マーク７３を示す。評価マーク７３は右側の方
が痩せているので、曲線８１の左右の落ち込みは右の方
が広い。一方、下の曲線８３は、曲線８１の左右反転パ
ターンである。なお、線８１と線８３の上下差は、表示
の便のために意図的に付けたものである。図８におい
て、両線８１と８３との相互相関関数を取れば、図７の
評価マーク７３の左右対称性をも評価できる。

【００３３】ところで、くさび状マークが露光時のフォ
ーカスにより変形する場合、左右対称に変形する性質が
ある。つまり、図７のような非対称な痩せは現実的には
あまり発生しない。しかし、プロセス（下地）側の影響
やゴミ等の付着により誤った検出をしてしまう可能性が
ある。このような誤検出を予防するために、評価マーク
形状の対称性を、自己の折り返しプロファイルとの相関
関数のピーク値を演算することにより検出し、当該測定
点を評価判定に使用しないようにして、誤差量の異常検
出を防止することができる。

【００３４】

【発明の効果】以上の説明から明らかなように、本発明
によれば、ウェハ上に既に形成されている各層の影響を
あまり受けることなく、露光パターン評価の信頼性が高
い評価方法を提供することができる。また、本発明の露
光パターンの評価方法用マークは、両くさび形パターン
と基準となる固定パターンとが共に形成されているの
で、露光時のフォーカスの状態の測定と、重ね合わせ量
の測定を同一のマークで行える。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の１実施例に係る露光パターンの評価方
法及び露光装置を説明するための模式的な図である。

【図２】図１の露光パターンの評価方法における各種の
データをグラフ化したものである。

【図３】複数方向に延びるくさびマークを有する評価パ
ターンの例を示す図である。

【図４】測定方向以外のくさび形の投影データが加算さ
れる範囲のデータを一定値で置き換えた評価方法の説明
図である。

【図５】デフォーカスやせの起こりにくいパターンをテ
ンプレートとして相互相関関数のピーク値を求める方法
に係るマークの形状を示す平面図である。

【図６】両くさび形パターンと、基準となる固定パター
ンとが共に形成されたマークを示す平面図である。

【図７】固定パターン層とフォトレジスト層のアライメ
ントずれの監視を行うこともできる評価パターンにおけ
る測定例を示す平面図である。

【図８】評価マークの折り返し相関関数のピーク値を求
めることによりマークの対称性をも評価する方法を説明
するためのグラフである。

【図９】露光時におけるフォーカス状態により評価マー
クの形状が変化する様子を示す平面図である。

【図１０】従来の第一の例に係る露光パターンの評価方
法及び露光パターンの評価装置を説明するための図であ
る。

【図１１】図１０の露光パターンの評価方法における光
電変換手段の出力の変化を示す。

【図１２】従来の第二の例に係る露光パターンの評価方
法及び露光パターンの評価装置を説明するための図であ
る。

【符号の説明】

１ 光源 ３ 照明光 ５ コンデンサレンズ ７ ハーフミラー ９ 照明光・反射光 １１ 対物レンズ １３ ウェハ １５ 両くさび形
評価マーク １７ 反射光 １９ 結像レンズ ２１ ＣＣＤカメラ ２３ 画像処理部 ３１ ウェハホルダ ３３ ＸＹステー
ジ ４１ 評価マーク

Claims (9)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 マスク上の評価マークのパターンを被露
   光面上に転写露光することにより形成した転写評価マー
   クの露光パターンを評価する方法であって；上記転写評
   価マークを２次元像として撮像し、 設計上の評価マークのパターンをテンプレートとし、転
   写評価マークの像とテンプレートとの相互相関関数のピ
   ーク値又は正規化相関関数のピーク値を求め、 該ピーク値によって露光パターンの正確さを評価するこ
   とを特徴とする露光パターンの評価方法。
2. 【請求項２】 上記評価マークとして、少なくとも二つ
   の測定方向に延びる両くさび形からなるマークを用い、 上記転写評価マークの像を測定方向に対して垂直方向に
   加算処理し、加算して得たデータとテンプレートの加算
   データとの相互相関関数のピーク値を求めることを特徴
   とする請求項１記載の露光パターンの評価方法。
3. 【請求項３】 測定対象となる測定方向以外のくさび形
   の投影データが加算される範囲のデータを一定値で置き
   換えた後に相互相関関数を求めるか、あるいは、該範囲
   外でのみ相互相関関数を求めることを特徴とする請求項
   ２記載の露光パターンの評価方法。
4. 【請求項４】 マスク上の評価マークのパターンを被露
   光面上に転写露光することにより形成した転写評価マー
   クの露光パターンを評価する方法であって；上記評価マ
   ークを扁平率が異なる２種以上の両くさび形として同時
   に形成し、上記転写評価マークを２次元像として撮像
   し、 両マークの長さを求め、 該マークの長さによって露光パターンの正確さを評価す
   ることを特徴とする露光パターンの評価方法。
5. 【請求項５】 マスク上の評価マークのパターンを被露
   光面上に転写露光することにより形成した転写評価マー
   クの露光パターンを評価する方法であって；上記評価マ
   ークを、デフォーカスやせが少ない参照マークと両くさ
   び形のマークの組み合わせとして同時に形成し、 上記転写評価マークを２次元像として撮像し、 参照マークをテンプレートとして、両くさび形とテンプ
   レートとの相互相関関数のピーク値又は正規化相関関数
   のピーク値を求め、 該ピーク値によって露光パターンの正確さを評価するこ
   とを特徴とする露光パターンの評価方法。
6. 【請求項６】 上記評価マークとして両くさび形マーク
   及び固定パターンを形成し、さらに、該両くさび形マー
   クの中心と固定パターンの中心との距離を測定すること
   を特徴とする請求項１〜５いずれか１項記載の露光パタ
   ーンの評価方法。
7. 【請求項７】 さらに、上記評価マークの折り返し相関
   関数のピーク値を求めることによりマークの対称性をも
   評価することを特徴とする請求項１〜６いずれか１項記
   載の露光パターンの評価方法。
8. 【請求項８】 マスク上の評価マークのパターンを被露
   光面上に転写露光することにより形成した転写評価マー
   クであって、両くさび形パターンと基準となる固定パタ
   ーンとが共に形成されていることを特徴とする露光パタ
   ーンの評価用マーク。
9. 【請求項９】 マスク上の評価マークのパターンを被露
   光面上に転写露光することにより形成した転写評価マー
   クを評価する露光パターンの評価装置であって、 上記転写評価マークを２次元像として撮像する撮像部
   と、 テンプレートの形状を入力する入力部と、 上記転写評価マーク像とテンプレートとの相互相関関数
   のピーク値又は正規化相関関数のピーク値を演算する演
   算部と、 を具備することを特徴とする露光パターンの評価装置。