JPH10266831A - 排ガス浄化システム - Google Patents
排ガス浄化システムInfo
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- JPH10266831A JPH10266831A JP9088801A JP8880197A JPH10266831A JP H10266831 A JPH10266831 A JP H10266831A JP 9088801 A JP9088801 A JP 9088801A JP 8880197 A JP8880197 A JP 8880197A JP H10266831 A JPH10266831 A JP H10266831A
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- titanium oxide
- catalyst layer
- oxide catalyst
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- Catalysts (AREA)
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 排ガス浄化システムにおいて、燃焼室内で生
成された生成物の一酸化窒素（ＮＯ）を除去して窒素酸
化物（ＮＯｘ）の発生を低減させることにある。 【構成】 排気管途中には酸化チタンを層状にした酸化
チタン触媒層を設け、この酸化チタン触媒層の上流側に
過酸化水素水を噴射する水噴射手段を設けたり、また、
放電によって排ガス中の水分を解離させる放電発生手段
を設けている。
成された生成物の一酸化窒素（ＮＯ）を除去して窒素酸
化物（ＮＯｘ）の発生を低減させることにある。 【構成】 排気管途中には酸化チタンを層状にした酸化
チタン触媒層を設け、この酸化チタン触媒層の上流側に
過酸化水素水を噴射する水噴射手段を設けたり、また、
放電によって排ガス中の水分を解離させる放電発生手段
を設けている。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】この発明は、排ガス浄化シス
テムに係り、特にディーゼルエンジン等の燃焼室で生成
された生成物である一酸化窒素（ＮＯ）を除去して窒素
酸化物（ＮＯｘ）の発生を低減し得る排ガス浄化システ
ムに関する。
テムに係り、特にディーゼルエンジン等の燃焼室で生成
された生成物である一酸化窒素（ＮＯ）を除去して窒素
酸化物（ＮＯｘ）の発生を低減し得る排ガス浄化システ
ムに関する。
【０００２】
【従来の技術】車両のディーゼルエンジン等において
は、燃焼室内で生成物としての一酸化窒素（ＮＯ）が多
量に生成され、この一酸化窒素（ＮＯ）が大気に排出さ
れることによって酸化され、これにより、窒素酸化物
（ＮＯｘ）を多量に発生させてしまう問題があった。こ
のため、窒素酸化物（ＮＯｘ）の発生を低減させる方策
として、例えば、触媒と流体であるアンモニアの噴射と
による、いわゆる選択触媒還元方式により、一酸化窒素
（ＮＯ）を除去させて窒素酸化物（ＮＯｘ）の発生を低
減する排ガス浄化システムがある。
は、燃焼室内で生成物としての一酸化窒素（ＮＯ）が多
量に生成され、この一酸化窒素（ＮＯ）が大気に排出さ
れることによって酸化され、これにより、窒素酸化物
（ＮＯｘ）を多量に発生させてしまう問題があった。こ
のため、窒素酸化物（ＮＯｘ）の発生を低減させる方策
として、例えば、触媒と流体であるアンモニアの噴射と
による、いわゆる選択触媒還元方式により、一酸化窒素
（ＮＯ）を除去させて窒素酸化物（ＮＯｘ）の発生を低
減する排ガス浄化システムがある。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】ところが、従来、排ガ
ス浄化システムにあっては、酸素濃度が高い排ガスや温
度の低い排ガスの場合に、一酸化窒素（ＮＯ）の分解能
力が低くなる等の理由で、結果的に窒素酸化物（ＮＯ
ｘ）の発生を十分に低減させることができず、新しい排
ガス規制に対処することが困難になるという不都合があ
った。
ス浄化システムにあっては、酸素濃度が高い排ガスや温
度の低い排ガスの場合に、一酸化窒素（ＮＯ）の分解能
力が低くなる等の理由で、結果的に窒素酸化物（ＮＯ
ｘ）の発生を十分に低減させることができず、新しい排
ガス規制に対処することが困難になるという不都合があ
った。
【０００４】また、パルス放電プラズマや電子ビーム照
射プラズマ等による排ガスの浄化も考えられるが、エネ
ルギ効率が低い等の不都合がある。
射プラズマ等による排ガスの浄化も考えられるが、エネ
ルギ効率が低い等の不都合がある。
【０００５】
【課題を解決するための手段】そこで、この発明は、上
述の不都合を除去するために、排気管内を流れる排ガス
に流体を噴射して排ガス中の生成物を除去する排ガス浄
化システムにおいて、前記排気管途中には酸化チタンを
層状にした酸化チタン触媒層を設け、この酸化チタン触
媒層の上流側に過酸化水素水を噴射する水噴射手段を設
けたことを特徴とする。
述の不都合を除去するために、排気管内を流れる排ガス
に流体を噴射して排ガス中の生成物を除去する排ガス浄
化システムにおいて、前記排気管途中には酸化チタンを
層状にした酸化チタン触媒層を設け、この酸化チタン触
媒層の上流側に過酸化水素水を噴射する水噴射手段を設
けたことを特徴とする。
【０００６】また、排気管内を流れる排ガスに流体を噴
射して排ガス中の生成物を除去する排ガス浄化システム
において、前記排気管途中には酸化チタンを層状にした
酸化チタン触媒層を設け、この酸化チタン触媒層の上流
側で放電によって排ガス中の水分を解離する放電発生手
段を設けたことを特徴とする。
射して排ガス中の生成物を除去する排ガス浄化システム
において、前記排気管途中には酸化チタンを層状にした
酸化チタン触媒層を設け、この酸化チタン触媒層の上流
側で放電によって排ガス中の水分を解離する放電発生手
段を設けたことを特徴とする。
【０００７】更に、排気管内を流れる排ガスに流体を噴
射して排ガス中の生成物を除去する排ガス浄化システム
において、前記排気管途中には酸化チタンを層状にした
酸化チタン触媒層を設け、この酸化チタン触媒層には該
酸化チタン触媒層中で放電によって排ガス中の水分を解
離する放電発生手段を設けたことを特徴とする。
射して排ガス中の生成物を除去する排ガス浄化システム
において、前記排気管途中には酸化チタンを層状にした
酸化チタン触媒層を設け、この酸化チタン触媒層には該
酸化チタン触媒層中で放電によって排ガス中の水分を解
離する放電発生手段を設けたことを特徴とする。
【０００８】
【発明の実施の形態】この発明は、酸化チタン触媒層の
上流側に過酸化水素水を噴射したり、放電プラズマを酸
化チタン触媒層の上流側又は内部に発生させることによ
り、ＯＨラジカル（遊離基）による一酸化窒素（ＮＯ）
の除去反応を効率良く行わせ、排ガスが低温度でも、一
酸化窒素（ＮＯ）を除去させて窒素酸化物（ＮＯｘ）の
発生を十分に低減させ、新しい排ガス規制に対処させる
ことができる。
上流側に過酸化水素水を噴射したり、放電プラズマを酸
化チタン触媒層の上流側又は内部に発生させることによ
り、ＯＨラジカル（遊離基）による一酸化窒素（ＮＯ）
の除去反応を効率良く行わせ、排ガスが低温度でも、一
酸化窒素（ＮＯ）を除去させて窒素酸化物（ＮＯｘ）の
発生を十分に低減させ、新しい排ガス規制に対処させる
ことができる。
【０００９】
【実施例】以下図面に基づいてこの発明の実施例を詳細
且つ具体的に説明する。図１、２は、この発明の第１実
施例を示すものである。図１において、２は例えばディ
ーゼルエンジン（図示せず）に設けられる排気管であ
る。
且つ具体的に説明する。図１、２は、この発明の第１実
施例を示すものである。図１において、２は例えばディ
ーゼルエンジン（図示せず）に設けられる排気管であ
る。
【００１０】この排気管２途中には、酸化チタン触媒層
４が設けられる。この酸化チタン触媒層４は、触媒とし
ての球状又はペレット状の酸化チタン６をメッシュ体８
内に層状に入れて構成されたものである。
４が設けられる。この酸化チタン触媒層４は、触媒とし
ての球状又はペレット状の酸化チタン６をメッシュ体８
内に層状に入れて構成されたものである。
【００１１】この酸化チタン触媒層４の上流側には、水
噴射手段１０が設けられる。この水噴射手段１０は、流
体である過酸化水素水（Ｈ2 Ｏ2 ）を貯留する貯留タン
ク１２と、この貯留タンク１２に一端側が連結された供
給管１４と、この供給管１４の他端側に設けられて酸化
チタン触媒層４の上流側に位置するノズル１６と、供給
管１４途中に設けられたポンプ部１８と、このポンプ部
１８を作動制御する制御部２０とからなる。
噴射手段１０が設けられる。この水噴射手段１０は、流
体である過酸化水素水（Ｈ2 Ｏ2 ）を貯留する貯留タン
ク１２と、この貯留タンク１２に一端側が連結された供
給管１４と、この供給管１４の他端側に設けられて酸化
チタン触媒層４の上流側に位置するノズル１６と、供給
管１４途中に設けられたポンプ部１８と、このポンプ部
１８を作動制御する制御部２０とからなる。
【００１２】次に、この第１実施例の作用を説明する。
【００１３】図２に示す如く、気体試料として、初期の
窒素酸化物（ＮＯｘ）の濃度を４００ｐｐｍとし、排ガ
スの温度を１００℃又は１０℃とし、酸素の濃度を１５
％とし、排ガスの酸化チタン触媒層４内の滞留時間を
０．５秒とし、更に、排ガス流量を２リットル／ｍｉｎ
とする。
窒素酸化物（ＮＯｘ）の濃度を４００ｐｐｍとし、排ガ
スの温度を１００℃又は１０℃とし、酸素の濃度を１５
％とし、排ガスの酸化チタン触媒層４内の滞留時間を
０．５秒とし、更に、排ガス流量を２リットル／ｍｉｎ
とする。
【００１４】そして、所定の時間になった時に、水噴射
手段１０によって酸化チタン触媒層４の上流側に過酸化
水素水（Ｈ2 Ｏ2 ）を噴射すると、ＯＨラジカル（遊離
基）による反応によって排ガス中の一酸化窒素（ＮＯ）
が分解されて除去され、もって、排ガスの温度が通常の
触媒の動作温度よりもはるかに低い場合でも、窒素酸化
物（ＮＯｘ）が還元作用等により、効果的に低減され
る。
手段１０によって酸化チタン触媒層４の上流側に過酸化
水素水（Ｈ2 Ｏ2 ）を噴射すると、ＯＨラジカル（遊離
基）による反応によって排ガス中の一酸化窒素（ＮＯ）
が分解されて除去され、もって、排ガスの温度が通常の
触媒の動作温度よりもはるかに低い場合でも、窒素酸化
物（ＮＯｘ）が還元作用等により、効果的に低減され
る。
【００１５】これにより、排ガス規制の厳しいディーゼ
ルエンジンにおいても、簡単な構成で、新しい排ガス規
制に対処させることができる。
ルエンジンにおいても、簡単な構成で、新しい排ガス規
制に対処させることができる。
【００１６】図３〜５は、この発明の第２実施例を示す
ものである。
ものである。
【００１７】以下の実施例にあっては、上述の第１実施
例と同一機能を果す箇所には同一符号を付して説明す
る。
例と同一機能を果す箇所には同一符号を付して説明す
る。
【００１８】この第２実施例の特徴とするところは、以
下の点にある。即ち、排気管２内の酸化チタン触媒層４
の上流側には、放電によって排ガス中の水分を解離する
放電発生手段１０２を設ける。この放電発生手段１０２
は、排気管２途中に設けたセラミック製で筒状の円筒体
１０４と、この円筒体１０４に外装したシールド電極１
０６と、円筒体１０６の略軸心上に配置した放電電極１
０８と、これらシールド電極１０６と放電電極１０８と
に連絡した電源供給部１１０とからなる。
下の点にある。即ち、排気管２内の酸化チタン触媒層４
の上流側には、放電によって排ガス中の水分を解離する
放電発生手段１０２を設ける。この放電発生手段１０２
は、排気管２途中に設けたセラミック製で筒状の円筒体
１０４と、この円筒体１０４に外装したシールド電極１
０６と、円筒体１０６の略軸心上に配置した放電電極１
０８と、これらシールド電極１０６と放電電極１０８と
に連絡した電源供給部１１０とからなる。
【００１９】この第２実施例の構成によれば、電源供給
部１１０からパルス高電圧又は交番高電圧を印加する
と、円筒部１１０内での放電によって排ガス中の水分が
解離され、ＯＨラジカル（遊離基）が生成され、もっ
て、一酸化窒素（ＮＯ）が除去され、これにより、窒素
酸化物（ＮＯｘ）の発生を低減することができる。
部１１０からパルス高電圧又は交番高電圧を印加する
と、円筒部１１０内での放電によって排ガス中の水分が
解離され、ＯＨラジカル（遊離基）が生成され、もっ
て、一酸化窒素（ＮＯ）が除去され、これにより、窒素
酸化物（ＮＯｘ）の発生を低減することができる。
【００２０】即ち、図５に示す如く、気体試料として、
初期の窒素酸化物（ＮＯｘ）の濃度を４００ｐｐｍと
し、排ガスの温度を１００℃又は１０℃とし、酸素濃度
を１５％とし、排ガスの酸化チタン触媒層４内の滞留時
間を０．５秒とし、排ガス流量を２リットル／ｍｉｎと
し、そして、供給電源を１５ＫＶとすると、生成物を、
放電によってプラズマ状態とし、排ガス中の水分を解離
させてＯＨラジカル（遊離基）を生成させ、そして、一
酸化窒素（ＮＯ）の除去反応を効率良く行わせ、これに
より、窒素酸化物（ＮＯｘ）の発生を低減させることが
できる。
初期の窒素酸化物（ＮＯｘ）の濃度を４００ｐｐｍと
し、排ガスの温度を１００℃又は１０℃とし、酸素濃度
を１５％とし、排ガスの酸化チタン触媒層４内の滞留時
間を０．５秒とし、排ガス流量を２リットル／ｍｉｎと
し、そして、供給電源を１５ＫＶとすると、生成物を、
放電によってプラズマ状態とし、排ガス中の水分を解離
させてＯＨラジカル（遊離基）を生成させ、そして、一
酸化窒素（ＮＯ）の除去反応を効率良く行わせ、これに
より、窒素酸化物（ＮＯｘ）の発生を低減させることが
できる。
【００２１】図６は、この発明の第３実施例を示すもの
である。
である。
【００２２】この第３実施例の特徴とするところは、以
下の点にある。即ち、放電発生手段２０２は、酸化チタ
ン触媒層４の上流側と下流側とに網状の上流側電極２０
４と下流側電極２０６とを設け、この上流側電極２０４
と下流側電極２０６とに電源供給部２０８を連絡して構
成される。
下の点にある。即ち、放電発生手段２０２は、酸化チタ
ン触媒層４の上流側と下流側とに網状の上流側電極２０
４と下流側電極２０６とを設け、この上流側電極２０４
と下流側電極２０６とに電源供給部２０８を連絡して構
成される。
【００２３】この第３実施例の構成によれば、上流側電
極２０２と下流側電極２０４とに電源供給部２０８から
パルス高電圧又は交番高電圧を印加すると、酸化チタン
触媒層４内での放電によって排ガス中の水分が解離され
てＯＨラジカル（遊離基）が生成され、上述の第２実施
例の図５と同様に、窒素酸化物（ＮＯｘ）の発生が低減
される。
極２０２と下流側電極２０４とに電源供給部２０８から
パルス高電圧又は交番高電圧を印加すると、酸化チタン
触媒層４内での放電によって排ガス中の水分が解離され
てＯＨラジカル（遊離基）が生成され、上述の第２実施
例の図５と同様に、窒素酸化物（ＮＯｘ）の発生が低減
される。
【００２４】図７は、この発明の第４実施例を示すもの
である。この第４実施例の特徴とするところは、以下の
点にある。即ち、酸化チタン触媒層４をセラミックス製
の円筒体３０２内に設け、酸化チタン触媒層４内に放電
する放電発生手段３０４を設ける。この放電発生手段３
０４は、円筒体３０２にシールド電極３０６を外装して
設け、また、酸化チタン触媒層４内には円筒体３０２の
略軸心上で放電電極３０８を設け、シールド電極３０６
と放電電極３０８とに電源供給部３１０を連絡して構成
される。
である。この第４実施例の特徴とするところは、以下の
点にある。即ち、酸化チタン触媒層４をセラミックス製
の円筒体３０２内に設け、酸化チタン触媒層４内に放電
する放電発生手段３０４を設ける。この放電発生手段３
０４は、円筒体３０２にシールド電極３０６を外装して
設け、また、酸化チタン触媒層４内には円筒体３０２の
略軸心上で放電電極３０８を設け、シールド電極３０６
と放電電極３０８とに電源供給部３１０を連絡して構成
される。
【００２５】この第４実施例の構成によれば、シールド
電極３０６と放電電極３０８とに電源供給部３１０から
パルス高電圧又は交番高電圧を印加すると、円筒体３０
２内の酸化チタン触媒層４中での放電によって排ガス中
の水分が解離されてＯＨラジカル（遊離基）が生成さ
れ、上述の第２実施例の図５と同様に、窒素酸化物（Ｎ
Ｏｘ）の発生が低減される。
電極３０６と放電電極３０８とに電源供給部３１０から
パルス高電圧又は交番高電圧を印加すると、円筒体３０
２内の酸化チタン触媒層４中での放電によって排ガス中
の水分が解離されてＯＨラジカル（遊離基）が生成さ
れ、上述の第２実施例の図５と同様に、窒素酸化物（Ｎ
Ｏｘ）の発生が低減される。
【００２６】図８は、この発明の第５実施例を示すもの
である。
である。
【００２７】この第５実施例の特徴とするところは、以
下の点にある。即ち、放電発生手段４０２は、円筒体４
０４の内面に酸化チタン触媒４０６を担持させて設け、
円筒体４０４にシールド電極４０８を外装して設け、円
筒体４０４の略軸心上に放電電極４１０を配設し、シー
ルド電極４０８と放電電極４１０とに電源供給部４１２
を連絡して構成される。
下の点にある。即ち、放電発生手段４０２は、円筒体４
０４の内面に酸化チタン触媒４０６を担持させて設け、
円筒体４０４にシールド電極４０８を外装して設け、円
筒体４０４の略軸心上に放電電極４１０を配設し、シー
ルド電極４０８と放電電極４１０とに電源供給部４１２
を連絡して構成される。
【００２８】この第５実施例の構成によれば、シールド
電極４０８と放電電極４１０とに電源供給部４１２から
パルス高電圧又は交番高電圧を印加すると、円筒体４０
４内の放電によって排ガス中の水分が解離されてＯＨラ
ジカル（遊離基）が生成され、上述の第２実施例の図５
と同様に、窒素酸化物（ＮＯｘ）の発生が低減される。
電極４０８と放電電極４１０とに電源供給部４１２から
パルス高電圧又は交番高電圧を印加すると、円筒体４０
４内の放電によって排ガス中の水分が解離されてＯＨラ
ジカル（遊離基）が生成され、上述の第２実施例の図５
と同様に、窒素酸化物（ＮＯｘ）の発生が低減される。
【００２９】図９は、この発明の第６実施例を示すもの
である。
である。
【００３０】この第６実施例の特徴とするところは、以
下の点にある。即ち、ハニカム状の触媒担体として、酸
化チタンを担持した酸化チタン触媒層５０２を使用し、
そして、放電発生手段５０４として、この酸化チタン触
媒層５０２を隔てて複数の電極５０６を相対して配設
し、これら電極５０６に電源供給部５０８を連絡して設
ける。
下の点にある。即ち、ハニカム状の触媒担体として、酸
化チタンを担持した酸化チタン触媒層５０２を使用し、
そして、放電発生手段５０４として、この酸化チタン触
媒層５０２を隔てて複数の電極５０６を相対して配設
し、これら電極５０６に電源供給部５０８を連絡して設
ける。
【００３１】この第６実施例の構成によれば、相対する
電極５０６間に電源供給部５０２からパルス高電圧又は
交番高電圧を印加すると、放電によって排ガス中の水分
が解離されてＯＨラジカル（遊離基）が発生され、上述
の第２実施例の図５と同様に、窒素酸化物（ＮＯｘ）の
発生が低減される。
電極５０６間に電源供給部５０２からパルス高電圧又は
交番高電圧を印加すると、放電によって排ガス中の水分
が解離されてＯＨラジカル（遊離基）が発生され、上述
の第２実施例の図５と同様に、窒素酸化物（ＮＯｘ）の
発生が低減される。
【００３２】なお、この発明は、上述の実施例に限定さ
れず、種々応用改変が可能であること勿論である。
れず、種々応用改変が可能であること勿論である。
【００３３】例えば、第１実施例においては、酸化チタ
ン触媒層として、ハニカム状の担体に酸化チタンを担持
させた触媒層を設けることも可能である。
ン触媒層として、ハニカム状の担体に酸化チタンを担持
させた触媒層を設けることも可能である。
【００３４】また、第２〜６実施例においては、第１実
施例と同じように、過酸化水素水（Ｈ2 Ｏ2 ）を噴射さ
せて、一酸化窒素（ＮＯ）を効率良く除去し、また、放
電として、オゾンの発生に利用されている無声放電又は
沿面放電を利用することも可能である。
施例と同じように、過酸化水素水（Ｈ2 Ｏ2 ）を噴射さ
せて、一酸化窒素（ＮＯ）を効率良く除去し、また、放
電として、オゾンの発生に利用されている無声放電又は
沿面放電を利用することも可能である。
【００３５】
【発明の効果】以上詳細な説明から明らかなようにこの
発明によれば、排気管途中には酸化チタンを層状にした
酸化チタン触媒層を設け、酸化チタン触媒層の上流側に
過酸化水素水を噴射する水噴射手段を設けたり、酸化チ
タン触媒層の上流側又は内部に放電発生手段を設けたこ
とにより、一酸化窒素の除去反応を効率良く行わせ、排
ガスが低温度でも、一酸化窒素を除去させて窒素酸化物
の発生を十分に低減させ得る。
発明によれば、排気管途中には酸化チタンを層状にした
酸化チタン触媒層を設け、酸化チタン触媒層の上流側に
過酸化水素水を噴射する水噴射手段を設けたり、酸化チ
タン触媒層の上流側又は内部に放電発生手段を設けたこ
とにより、一酸化窒素の除去反応を効率良く行わせ、排
ガスが低温度でも、一酸化窒素を除去させて窒素酸化物
の発生を十分に低減させ得る。
【図１】第１実施例における排ガス浄化システムの構成
図である。
図である。
【図２】第１実施例におけるＮＯｘの低減状態を示す図
である。
である。
【図３】第２実施例における排ガス浄化システムの構成
図である。
図である。
【図４】第２実施例における放電発生手段の一部斜視図
である。
である。
【図５】第２実施例におけるＮＯｘの低減状態を示す図
である。
である。
【図６】第３実施例における排ガス浄化システムの構成
図である。
図である。
【図７】第４実施例における排ガス浄化システムの構成
図である。
図である。
【図８】第５実施例における排ガス浄化システムの構成
図である。
図である。
【図９】第６実施例における排ガス浄化システムの構成
図である。
図である。
２ 排気管 ４ 酸化チタン触媒層 ６ 酸化チタン １０ 水噴射手段 ２０ 制御部
─────────────────────────────────────────────────────
【手続補正書】
【提出日】平成９年４月１７日
【手続補正１】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】全図
【補正方法】変更
【補正内容】
【図 １】
【図 ２】
【図 ３】
【図 ４】
【図 ５】
【図 ６】
【図 ７】
【図 ８】
【図 ９】
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 ＦＩ Ｆ０１Ｎ 3/28 ３０１ Ｂ０１Ｄ 53/36 １０２Ｃ (72)発明者 金 賢夏 愛知県豊橋市天伯町字雲雀ケ丘１−１ 豊 橋技術科学国際交流会館Ａ−206 (72)発明者 田中 三郎 愛知県豊橋市北山町字東浦２番地の１−２ −401
Claims (3)
- 【請求項１】 排気管内を流れる排ガスに流体を噴射し
て排ガス中の生成物を除去する排ガス浄化システムにお
いて、前記排気管途中には酸化チタンを層状にした酸化
チタン触媒層を設け、この酸化チタン触媒層の上流側に
過酸化水素水を噴射する水噴射手段を設けたことを特徴
とする排ガス浄化システム。 - 【請求項２】 排気管内を流れる排ガスに流体を噴射し
て排ガス中の生成物を除去する排ガス浄化システムにお
いて、前記排気管途中には酸化チタンを層状にした酸化
チタン触媒層を設け、この酸化チタン触媒層の上流側で
放電によって排ガス中の水分を解離する放電発生手段を
設けたことを特徴とする排ガス浄化システム。 - 【請求項３】 排気管内を流れる排ガスに流体を噴射し
て排ガス中の生成物を除去する排ガス浄化システムにお
いて、前記排気管途中には酸化チタンを層状にした酸化
チタン触媒層を設け、この酸化チタン触媒層には該酸化
チタン触媒層中で放電によって排ガス中の水分を解離す
る放電発生手段を設けたことを特徴とする排ガス浄化シ
ステム。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9088801A JPH10266831A (ja) | 1997-03-24 | 1997-03-24 | 排ガス浄化システム |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9088801A JPH10266831A (ja) | 1997-03-24 | 1997-03-24 | 排ガス浄化システム |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10266831A true JPH10266831A (ja) | 1998-10-06 |
Family
ID=13952982
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9088801A Pending JPH10266831A (ja) | 1997-03-24 | 1997-03-24 | 排ガス浄化システム |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH10266831A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6558637B2 (en) | 2000-04-12 | 2003-05-06 | Mitsubishi Jidosha Kogyo Kabushiki Kaisha | Exhaust emission purifier |
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| WO2010132563A3 (en) * | 2009-05-15 | 2011-03-24 | Fmc Corporation | Combustion flue gas nox treatment |
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| CN106861392A (zh) * | 2017-02-21 | 2017-06-20 | 华北电力大学 | 一种基于过氧化氢催化氧化的氮氧化物脱除工艺 |
-
1997
- 1997-03-24 JP JP9088801A patent/JPH10266831A/ja active Pending
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