JPH10264383A - インクジェット式記録ヘッド及びその製造方法 - Google Patents
インクジェット式記録ヘッド及びその製造方法Info
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- JPH10264383A JPH10264383A JP7624797A JP7624797A JPH10264383A JP H10264383 A JPH10264383 A JP H10264383A JP 7624797 A JP7624797 A JP 7624797A JP 7624797 A JP7624797 A JP 7624797A JP H10264383 A JPH10264383 A JP H10264383A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 中性インクは勿論のこと、良質な発色を有す
るアルカリ水溶性のインクを好適に利用することが可能
なインクジェット式記録ヘッド及びその製造方法を提供
する。 【解決手段】 シリコン基板１に形成され、インクが収
容されるインクキャビティ６と、インクキャビティ６内
の圧力を変化させ、インクキャビティ６内に収容された
インクを外部に吐出させる圧電体素子１０と、を備え、
インクキャビティ６の内壁表面に、親水性及び耐アルカ
リ性を備えた膜、例えば、ニッケル酸化膜７やシリコン
酸化膜を形成した。
るアルカリ水溶性のインクを好適に利用することが可能
なインクジェット式記録ヘッド及びその製造方法を提供
する。 【解決手段】 シリコン基板１に形成され、インクが収
容されるインクキャビティ６と、インクキャビティ６内
の圧力を変化させ、インクキャビティ６内に収容された
インクを外部に吐出させる圧電体素子１０と、を備え、
インクキャビティ６の内壁表面に、親水性及び耐アルカ
リ性を備えた膜、例えば、ニッケル酸化膜７やシリコン
酸化膜を形成した。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、インクジェット式
記録ヘッド及びその製造方法に係り、特に、水溶性イン
クのｐＨに係わらず、好適に使用することが可能なイン
クジェット式記録ヘッド及びその製造方法に関する。
記録ヘッド及びその製造方法に係り、特に、水溶性イン
クのｐＨに係わらず、好適に使用することが可能なイン
クジェット式記録ヘッド及びその製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来から、インク吐出用の駆動源、すな
わち、電気的エネルギーを機械的エネルギーに変換する
素子として、チタン酸ジルコン酸鉛（以下、「ＰＺＴ」
と記す）からなる素子を使用したインクジェット式記録
ヘッドがある。このインクジェット式記録ヘッドは、一
般には、多数の個別インク通路（インクキャビティやイ
ンク溜り等）を形成したヘッド基台と、全ての個別イン
ク通路を覆うように前記ヘッド基台に取り付けた振動板
と、この振動板の前記個別インク通路上に対応する各部
分に被着形成したＰＺＴ素子と、を備えて構成されてい
る。この構成のインクジェット式記録ヘッドは、前記Ｐ
ＺＴ素子に電界を加えてＰＺＴ素子を変位させることに
より、個別インク通路内に収容されているインクを、個
別インク通路に設けられたノズルプレートに形成されて
いるインク吐出口から押出すように設計されている。
わち、電気的エネルギーを機械的エネルギーに変換する
素子として、チタン酸ジルコン酸鉛（以下、「ＰＺＴ」
と記す）からなる素子を使用したインクジェット式記録
ヘッドがある。このインクジェット式記録ヘッドは、一
般には、多数の個別インク通路（インクキャビティやイ
ンク溜り等）を形成したヘッド基台と、全ての個別イン
ク通路を覆うように前記ヘッド基台に取り付けた振動板
と、この振動板の前記個別インク通路上に対応する各部
分に被着形成したＰＺＴ素子と、を備えて構成されてい
る。この構成のインクジェット式記録ヘッドは、前記Ｐ
ＺＴ素子に電界を加えてＰＺＴ素子を変位させることに
より、個別インク通路内に収容されているインクを、個
別インク通路に設けられたノズルプレートに形成されて
いるインク吐出口から押出すように設計されている。
【０００３】このインクジェット式記録ヘッドは、通
常、以下に示す工程によって製造されている。すなわ
ち、例えば、単結晶シリコン基板上に熱酸化膜を形成し
た後、この上に、所望の形状を備えた下電極、圧電体膜
及び上電極からなる圧電体素子を形成する。次に、前記
単結晶シリコン基板の圧電体素子が形成されている面と
反対側の面に熱酸化膜を形成する。次いで、この単結晶
シリコン基板の前記圧電体素子形成領域に対応する部分
を選択的にエッチングし、個別のインク通路（インクキ
ャビティやインク溜り等）を形成する。その後、インク
の吐出口が形成されたノズルプレートを所定位置に設置
する等、所望の工程を行いインクジェット式記録ヘッド
を完成する。
常、以下に示す工程によって製造されている。すなわ
ち、例えば、単結晶シリコン基板上に熱酸化膜を形成し
た後、この上に、所望の形状を備えた下電極、圧電体膜
及び上電極からなる圧電体素子を形成する。次に、前記
単結晶シリコン基板の圧電体素子が形成されている面と
反対側の面に熱酸化膜を形成する。次いで、この単結晶
シリコン基板の前記圧電体素子形成領域に対応する部分
を選択的にエッチングし、個別のインク通路（インクキ
ャビティやインク溜り等）を形成する。その後、インク
の吐出口が形成されたノズルプレートを所定位置に設置
する等、所望の工程を行いインクジェット式記録ヘッド
を完成する。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】前述した従来のインク
ジェット式記録ヘッドは、シリコン基板を加工してイン
クキャビティを形成した構成を備えている。したがっ
て、インクキャビティの内壁表面は、シリコンが露出し
た構成となっている。ここで、シリコンは、撥水性があ
り、アルカリ性溶液に腐食されやすい特性を備えてい
る。このため、前述したように、インクキャビティの内
壁表面にシリコンが露出している構造を備えた従来のイ
ンクジェット式記録ヘッドでは、良質な発色を有するア
ルカリ水溶性のインクを利用することができないという
問題があった。特に、インクキャビティの内壁表面の撥
水性が高いと、インクキャビティ内でインク水溶液中に
溶け込んでいるガスが気化して発生する気泡がシリコン
表面に密着して滞在し、圧電素子によるインクキャビテ
ィ内の圧力を吸収してしまい、インクがノズルから吐出
しないという問題があった。
ジェット式記録ヘッドは、シリコン基板を加工してイン
クキャビティを形成した構成を備えている。したがっ
て、インクキャビティの内壁表面は、シリコンが露出し
た構成となっている。ここで、シリコンは、撥水性があ
り、アルカリ性溶液に腐食されやすい特性を備えてい
る。このため、前述したように、インクキャビティの内
壁表面にシリコンが露出している構造を備えた従来のイ
ンクジェット式記録ヘッドでは、良質な発色を有するア
ルカリ水溶性のインクを利用することができないという
問題があった。特に、インクキャビティの内壁表面の撥
水性が高いと、インクキャビティ内でインク水溶液中に
溶け込んでいるガスが気化して発生する気泡がシリコン
表面に密着して滞在し、圧電素子によるインクキャビテ
ィ内の圧力を吸収してしまい、インクがノズルから吐出
しないという問題があった。
【０００５】本発明は、このような従来の問題点を解決
することを課題とするものであり、中性の水溶性インク
は勿論のこと、良質な発色を有するアルカリ水溶性のイ
ンクを好適に利用することが可能なインクジェット式記
録ヘッド及びその製造方法を提供することを目的とす
る。
することを課題とするものであり、中性の水溶性インク
は勿論のこと、良質な発色を有するアルカリ水溶性のイ
ンクを好適に利用することが可能なインクジェット式記
録ヘッド及びその製造方法を提供することを目的とす
る。
【０００６】
【課題を解決するための手段】この目的を達成するた
め、本発明は、インクが収容されるインクキャビティ
と、当該インクキャビティ内の圧力を変化させ、このイ
ンクキャビティ内に収容されたインクを外部に吐出させ
るアクチュエータと、を備えたインクジェット式記録ヘ
ッドであって、前記インクキャビティの内壁表面に、親
水性及び耐アルカリ性を備えた膜が形成されてなるイン
クジェット式記録ヘッドを提供するものである。
め、本発明は、インクが収容されるインクキャビティ
と、当該インクキャビティ内の圧力を変化させ、このイ
ンクキャビティ内に収容されたインクを外部に吐出させ
るアクチュエータと、を備えたインクジェット式記録ヘ
ッドであって、前記インクキャビティの内壁表面に、親
水性及び耐アルカリ性を備えた膜が形成されてなるイン
クジェット式記録ヘッドを提供するものである。
【０００７】この構成を備えたインクジェット式記録ヘ
ッドは、インクキャビティ内にアルカリ水溶性インクを
収容しても、インクキャビティの内壁が、このアルカリ
水溶性インクによって腐食されることを防止することが
できる。
ッドは、インクキャビティ内にアルカリ水溶性インクを
収容しても、インクキャビティの内壁が、このアルカリ
水溶性インクによって腐食されることを防止することが
できる。
【０００８】また、インクキャビティ内の親水性が向上
されるため、インクキャビティ内に気泡が滞在しないの
で安定したインク吐出が確保される。
されるため、インクキャビティ内に気泡が滞在しないの
で安定したインク吐出が確保される。
【０００９】前記アクチュエータは、基板上に形成され
た圧電体素子からなり、前記インクキャビティは、前記
基板の当該圧電体素子と対応する位置に形成することが
できる。
た圧電体素子からなり、前記インクキャビティは、前記
基板の当該圧電体素子と対応する位置に形成することが
できる。
【００１０】前記親水性及び耐アルカリ性を備えた膜
は、ニッケル酸化物、あるいはシリコン酸化物から構成
することができる。また、 前記基板は、シリコンから
構成することができる。
は、ニッケル酸化物、あるいはシリコン酸化物から構成
することができる。また、 前記基板は、シリコンから
構成することができる。
【００１１】さらに、本発明は、インクが収容されるイ
ンクキャビティと、当該インクキャビティ内の圧力を変
化させ、このインクキャビティ内に収容されたインクを
外部に吐出させるアクチュエータと、を備えたインクジ
ェット式記録ヘッドの製造方法であって、基板の所望位
置にインクキャビティを形成した後、当該インクキャビ
ティの内壁表面に、親水性及び耐アルカリ性を備えた膜
を形成する工程を備えてなるインクジェット式記録ヘッ
ドの製造方法を提供するものである。
ンクキャビティと、当該インクキャビティ内の圧力を変
化させ、このインクキャビティ内に収容されたインクを
外部に吐出させるアクチュエータと、を備えたインクジ
ェット式記録ヘッドの製造方法であって、基板の所望位
置にインクキャビティを形成した後、当該インクキャビ
ティの内壁表面に、親水性及び耐アルカリ性を備えた膜
を形成する工程を備えてなるインクジェット式記録ヘッ
ドの製造方法を提供するものである。
【００１２】この製造方法により、インクキャビティの
内壁表面に、親水性及び耐アルカリ性を備えた膜を簡単
に形成することができるため、本発明に係るインクジェ
ット式記録ヘッドを、簡単に製造することができる。
内壁表面に、親水性及び耐アルカリ性を備えた膜を簡単
に形成することができるため、本発明に係るインクジェ
ット式記録ヘッドを、簡単に製造することができる。
【００１３】前記親水性及び耐アルカリ性を備えた膜を
形成する工程は、前記インクキャビティの内壁表面にニ
ッケル膜を成膜する工程と、当該成膜したニッケル膜を
酸化する工程と、を備えてなることができる。
形成する工程は、前記インクキャビティの内壁表面にニ
ッケル膜を成膜する工程と、当該成膜したニッケル膜を
酸化する工程と、を備えてなることができる。
【００１４】また、前記親水性及び耐アルカリ性を備え
た膜を形成する工程は、前記インクキャビティが形成さ
れた基板を有機金属溶液に浸漬した後、これを乾燥し、
次いで焼成する工程を備えてなることができる。
た膜を形成する工程は、前記インクキャビティが形成さ
れた基板を有機金属溶液に浸漬した後、これを乾燥し、
次いで焼成する工程を備えてなることができる。
【００１５】さらにまた、前記親水性及び耐アルカリ性
を備えた膜を形成する工程は、前記インクキャビティの
内壁表面に、有機シランを用いた化学的気相成長法によ
りシリコン酸化膜を形成する工程を備えてなることがで
きる。
を備えた膜を形成する工程は、前記インクキャビティの
内壁表面に、有機シランを用いた化学的気相成長法によ
りシリコン酸化膜を形成する工程を備えてなることがで
きる。
【００１６】
【発明の実施の形態】次に、本発明に係る実施の形態に
ついて、図面を参照して説明する。
ついて、図面を参照して説明する。
【００１７】図１は、本発明の実施の形態に係るインク
ジェット式記録ヘッドの一部を示す断面図、図２は、図
１に示すインクジェット式記録ヘッドの製造工程を示す
断面図である。
ジェット式記録ヘッドの一部を示す断面図、図２は、図
１に示すインクジェット式記録ヘッドの製造工程を示す
断面図である。
【００１８】本実施の形態に係るインクジェット式記録
ヘッドは、図１に示すように、所望位置に所望数のイン
クキャビティ６が形成されたシリコン基板１と、シリコ
ン基板１上にシリコン酸化膜２を介して形成された圧電
体素子１０と、シリコン基板１の圧電体素子１０が形成
されている面とは反対側の面に設けられたノズルプレー
ト８と、を備えて構成されている。
ヘッドは、図１に示すように、所望位置に所望数のイン
クキャビティ６が形成されたシリコン基板１と、シリコ
ン基板１上にシリコン酸化膜２を介して形成された圧電
体素子１０と、シリコン基板１の圧電体素子１０が形成
されている面とは反対側の面に設けられたノズルプレー
ト８と、を備えて構成されている。
【００１９】前記圧電体素子１０は、シリコン酸化膜２
上に形成された下電極３と、下電極３上であって、イン
クキャビティ６が形成されている位置に対応する領域に
形成された圧電体膜４と、圧電体膜４上に形成された上
電極５と、から構成されている。
上に形成された下電極３と、下電極３上であって、イン
クキャビティ６が形成されている位置に対応する領域に
形成された圧電体膜４と、圧電体膜４上に形成された上
電極５と、から構成されている。
【００２０】インクキャビティ６の内壁表面には、優れ
た親水性及び耐アルカリ性を備えたニッケル酸化膜７が
形成されている。この構造によって、インクキャビティ
６にアルカリ水溶性インクを収容しても、インクキャビ
ティ６の内壁表面がこのアルカリ水溶性インクに侵され
ることを防止することができる。
た親水性及び耐アルカリ性を備えたニッケル酸化膜７が
形成されている。この構造によって、インクキャビティ
６にアルカリ水溶性インクを収容しても、インクキャビ
ティ６の内壁表面がこのアルカリ水溶性インクに侵され
ることを防止することができる。
【００２１】さらに、インクキャビティ６の内壁表面が
優れた親水性を有するようになるため、インクキャビテ
ィ内に発生した気泡が滞在しないので、安定したインク
吐出を確保することができる。
優れた親水性を有するようになるため、インクキャビテ
ィ内に発生した気泡が滞在しないので、安定したインク
吐出を確保することができる。
【００２２】ノズルプレート８には、インクキャビティ
６内に収容されたインクを大部に吐出するための吐出口
９が開口されている。
６内に収容されたインクを大部に吐出するための吐出口
９が開口されている。
【００２３】次に、図１に示すインクジェット式記録ヘ
ッドの製造方法について図２を参照して説明する。
ッドの製造方法について図２を参照して説明する。
【００２４】図２(1) に示す工程では、基板厚が約２２
０μｍ程度のシリコン基板１上に、熱酸化法により、膜
厚が約１μｍ程度の酸化シリコン膜２を形成する。次
に、得られた酸化シリコン膜２上に、スパッタ法により
プラチナからなる下電極形成用膜３Ａを、約０．７μｍ
程度の膜厚で形成する。次いで、得られた下電極形成用
膜３Ａ上に、ゾル・ゲル法により、ＰＺＴ膜からなる圧
電体膜形成用膜４Ａを約１μｍ程度の膜厚で形成する。
次に、得られた圧電体膜形成用膜４Ａ上に、スパッタ法
によりプラチナからなる上電極形成用膜５Ａを約０．２
μｍ程度の膜厚で形成する。
０μｍ程度のシリコン基板１上に、熱酸化法により、膜
厚が約１μｍ程度の酸化シリコン膜２を形成する。次
に、得られた酸化シリコン膜２上に、スパッタ法により
プラチナからなる下電極形成用膜３Ａを、約０．７μｍ
程度の膜厚で形成する。次いで、得られた下電極形成用
膜３Ａ上に、ゾル・ゲル法により、ＰＺＴ膜からなる圧
電体膜形成用膜４Ａを約１μｍ程度の膜厚で形成する。
次に、得られた圧電体膜形成用膜４Ａ上に、スパッタ法
によりプラチナからなる上電極形成用膜５Ａを約０．２
μｍ程度の膜厚で形成する。
【００２５】次に、図２(2) に示す工程では、図２(1)
に示す工程で得た下電極形成用膜３Ａ、圧電体膜形成用
膜４Ａ及び上電極形成用膜５Ａに、所望のパターニング
を行い、下電極３、圧電体膜４及び上電極５からなる圧
電体素子１０を形成する。
に示す工程で得た下電極形成用膜３Ａ、圧電体膜形成用
膜４Ａ及び上電極形成用膜５Ａに、所望のパターニング
を行い、下電極３、圧電体膜４及び上電極５からなる圧
電体素子１０を形成する。
【００２６】次に、シリコン基板１の、圧電体素子１０
が形成された位置に対応する領域に、圧電体素子１０が
形成された面とは反対側の面から、選択的にエッチング
を行い、インクキャビティ６を形成する。
が形成された位置に対応する領域に、圧電体素子１０が
形成された面とは反対側の面から、選択的にエッチング
を行い、インクキャビティ６を形成する。
【００２７】次いで、図２(3) に示す工程では、図２
(2) に示す工程で得たインクキャビティ６が形成された
シリコン基板１の、圧電体素子１０が形成されている面
とは反対側の面に、ＭＯＣＶＤ（有機金属化学的気相成
長法；Metal Organic ChemicalVapour Deposition）に
より、ニッケル膜を約０．１μｍ程度の膜厚で形成す
る。次いで、このニッケル膜を酸化して、膜厚が約０．
２μｍ程度のニッケル酸化膜７を形成する。この工程に
より、インクキャビティ６の内壁表面にニッケル酸化膜
７が形成される。あるいは、ＭＯＣＶＤ法により直接ニ
ッケル酸化膜を形成してもよい。
(2) に示す工程で得たインクキャビティ６が形成された
シリコン基板１の、圧電体素子１０が形成されている面
とは反対側の面に、ＭＯＣＶＤ（有機金属化学的気相成
長法；Metal Organic ChemicalVapour Deposition）に
より、ニッケル膜を約０．１μｍ程度の膜厚で形成す
る。次いで、このニッケル膜を酸化して、膜厚が約０．
２μｍ程度のニッケル酸化膜７を形成する。この工程に
より、インクキャビティ６の内壁表面にニッケル酸化膜
７が形成される。あるいは、ＭＯＣＶＤ法により直接ニ
ッケル酸化膜を形成してもよい。
【００２８】次に、図２(4) に示す工程では、図２(3)
に示す工程で得たニッケル酸化膜７が形成されたシリコ
ン基板１の、圧電体素子１０が形成されている面とは反
対側の面に、インク吐出口９が開口されたノズルプレー
ト８を設ける。
に示す工程で得たニッケル酸化膜７が形成されたシリコ
ン基板１の、圧電体素子１０が形成されている面とは反
対側の面に、インク吐出口９が開口されたノズルプレー
ト８を設ける。
【００２９】その後、所望の工程を行い、本実施の形態
に係るインクジェット式記録ヘッドを得る。
に係るインクジェット式記録ヘッドを得る。
【００３０】なお、親水性及び耐アルカリ性を備えた膜
として、インクキャビティ６の内壁表面に形成したニッ
ケル酸化膜７は、図２(3) で説明した方法により得る
他、例えば、ニッケル膜をメッキした後、これを酸化す
る方法や、ニッケル膜をスパッタ法等により形成した
後、これを酸化する方法、あるいは、シリコン基板をニ
ッケル溶液に浸した後、これを乾燥・焼成する方法等、
種々の方法を利用することができる。
として、インクキャビティ６の内壁表面に形成したニッ
ケル酸化膜７は、図２(3) で説明した方法により得る
他、例えば、ニッケル膜をメッキした後、これを酸化す
る方法や、ニッケル膜をスパッタ法等により形成した
後、これを酸化する方法、あるいは、シリコン基板をニ
ッケル溶液に浸した後、これを乾燥・焼成する方法等、
種々の方法を利用することができる。
【００３１】また、本実施の形態では、親水性及び耐ア
ルカリ性を備えた膜として、ニッケル酸化膜を形成した
場合について説明したが、これに限らず、例えば、シリ
コン酸化膜等の水素基や水酸基を含まない膜等、親水性
及び耐アルカリ性を備え、かつインクキャビティの内壁
として支障を来さない膜であれば、他の膜を形成しても
よい。
ルカリ性を備えた膜として、ニッケル酸化膜を形成した
場合について説明したが、これに限らず、例えば、シリ
コン酸化膜等の水素基や水酸基を含まない膜等、親水性
及び耐アルカリ性を備え、かつインクキャビティの内壁
として支障を来さない膜であれば、他の膜を形成しても
よい。
【００３２】そしてまた、前記親水性及び耐アルカリ性
を備えた膜として、ニッケル酸化膜７に代えてシリコン
酸化膜を形成する場合は、例えば、ＴＥＯＳ（テトラエ
トキシシラン；Tetra-Ethyl-Ortho-Silicate）ガスを用
いたＣＶＤ（化学的気相成長法；Chemical Vapour Depo
sition）による成膜、特にプラズマＴＥＯＳを用いたＣ
ＶＤを用いた成膜を利用することができる。
を備えた膜として、ニッケル酸化膜７に代えてシリコン
酸化膜を形成する場合は、例えば、ＴＥＯＳ（テトラエ
トキシシラン；Tetra-Ethyl-Ortho-Silicate）ガスを用
いたＣＶＤ（化学的気相成長法；Chemical Vapour Depo
sition）による成膜、特にプラズマＴＥＯＳを用いたＣ
ＶＤを用いた成膜を利用することができる。
【００３３】また、本実施の形態で形成した下電極３、
圧電体膜４及び上電極５は、一例であり、他の組成を備
えた下電極、圧電体膜及び上電極を形成してもよく、ま
た、これらは多層であっても単層であってもよい。
圧電体膜４及び上電極５は、一例であり、他の組成を備
えた下電極、圧電体膜及び上電極を形成してもよく、ま
た、これらは多層であっても単層であってもよい。
【００３４】
【発明の効果】以上説明したように、本発明に係るイン
クジェット式記録ヘッドは、インクキャビティの内壁表
面に、親水性及び耐アルカリ性を備えた膜が形成されて
いるため、この部分の親水性を向上することができると
ともに、アルカリ性溶剤に腐食されることを防止するこ
とができる。この結果、中性インクは勿論のこと、良質
な発色を有するアルカリ水溶性のインクを好適に利用す
ることが可能なインクジェット式記録ヘッドを提供する
ことができる。
クジェット式記録ヘッドは、インクキャビティの内壁表
面に、親水性及び耐アルカリ性を備えた膜が形成されて
いるため、この部分の親水性を向上することができると
ともに、アルカリ性溶剤に腐食されることを防止するこ
とができる。この結果、中性インクは勿論のこと、良質
な発色を有するアルカリ水溶性のインクを好適に利用す
ることが可能なインクジェット式記録ヘッドを提供する
ことができる。
【００３５】また、本発明に係るインクジェット式記録
ヘッドの製造方法によれば、本発明に係るインクジェッ
ト式記録ヘッドを簡単に製造することができる。
ヘッドの製造方法によれば、本発明に係るインクジェッ
ト式記録ヘッドを簡単に製造することができる。
【図１】本発明の実施の形態に係るインクジェット式記
録ヘッドの一部を示す断面図である。
録ヘッドの一部を示す断面図である。
【図２】図１に示すインクジェット式記録ヘッドの製造
工程を示す断面図である。
工程を示す断面図である。
１ シリコン基板 ２ シリコン酸化膜 ３ 下電極 ４ 圧電体膜 ５ 上電極 ６ インクキャビティ ７ ニッケル酸化膜 ８ ノズルプレート ９ 吐出口 １０ 圧電体素子
Claims (9)
- 【請求項１】 インクが収容されるインクキャビティ
と、当該インクキャビティ内の圧力を変化させ、該イン
クキャビティ内に収容されたインクを外部に吐出させる
アクチュエータと、を備えたインクジェット式記録ヘッ
ドであって、前記インクキャビティの内壁表面に、親水
性及び耐アルカリ性を備えた膜が形成されてなるインク
ジェット式記録ヘッド。 - 【請求項２】 前記アクチュエータは、基板上に形成さ
れた圧電体素子からなり、前記インクキャビティは、前
記基板の当該圧電体素子と対応する位置に形成されてな
る請求項１記載のインクジェット式記録ヘッド。 - 【請求項３】 前記親水性及び耐アルカリ性を備えた膜
がニッケル酸化物からなる請求項１または請求項２記載
のインクジェット式記録ヘッド。 - 【請求項４】 前記親水性及び耐アルカリ性を備えた膜
がシリコン酸化物からなる請求項１または請求項２記載
のインクジェット式記録ヘッド。 - 【請求項５】 前記基板がシリコンからなる請求項１な
いし請求項４のいずれか一項に記載のインクジェット式
記録ヘッド。 - 【請求項６】 インクが収容されるインクキャビティ
と、当該インクキャビティ内の圧力を変化させ、該イン
クキャビティ内に収容されたインクを外部に吐出させる
アクチュエータと、を備えたインクジェット式記録ヘッ
ドの製造方法であって、基板の所望位置にインクキャビ
ティを形成した後、当該インクキャビティの内壁表面
に、親水性及び耐アルカリ性を備えた膜を形成する工程
を備えてなるインクジェット式記録ヘッドの製造方法。 - 【請求項７】 前記親水性及び耐アルカリ性を備えた膜
を形成する工程は、前記インクキャビティの内壁表面に
ニッケル膜を成膜する工程と、当該成膜したニッケル膜
を酸化する工程と、を備えてなる請求項６記載のインク
ジェット式記録ヘッドの製造方法。 - 【請求項８】 前記親水性及び耐アルカリ性を備えた膜
を形成する工程は、前記インクキャビティが形成された
基板を有機金属溶液に浸漬した後、これを乾燥し、次い
で焼成する工程を備えてなる請求項６記載のインクジェ
ット式記録ヘッドの製造方法。 - 【請求項９】 前記親水性及び耐アルカリ性を備えた膜
を形成する工程は、前記インクキャビティの内壁表面
に、有機シランを用いた化学的気相成長法によりシリコ
ン酸化膜を形成する工程を備えてなる請求項６記載のイ
ンクジェット式記録ヘッド。
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| JP7624797A JPH10264383A (ja) | 1997-03-27 | 1997-03-27 | インクジェット式記録ヘッド及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
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| JP7624797A JPH10264383A (ja) | 1997-03-27 | 1997-03-27 | インクジェット式記録ヘッド及びその製造方法 |
Publications (1)
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Family
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