JPH10264311A - セラミックス−金属傾斜機能材およびその製造方法 - Google Patents
セラミックス−金属傾斜機能材およびその製造方法Info
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- JPH10264311A JPH10264311A JP7208397A JP7208397A JPH10264311A JP H10264311 A JPH10264311 A JP H10264311A JP 7208397 A JP7208397 A JP 7208397A JP 7208397 A JP7208397 A JP 7208397A JP H10264311 A JPH10264311 A JP H10264311A
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Abstract
く一体化するとともに、接合信頼性が高く、しかも高熱
伝導性を有する。 【解決手段】焼結体10は、所望の絶縁性および熱伝導
性を有するセラミックス組成層12と、所望の熱伝導性
および電気伝導性を有する金属組成層14と、前記セラ
ミックス組成層12と前記金属組成層14との境界部位
に設けられ、その組成および物性が傾斜的に変化する複
合組成層16とを一体的に備えている。
Description
と金属組成とから一体的に構成されるセラミックス−金
属傾斜機能材およびその製造方法に関する。
の安定化のために、前記半導体回路をセラミックス基板
に搭載し、該半導体回路に発生する熱を外部に効率よく
排出する工夫が施されている。
的大きい場合には、セラミックス基板のみでは十分に対
応することができず、前記セラミックス基板に銅やアル
ミニウムのヒートシンクをろう付けや半田付けすること
が行われている。さらに、MPUや大容量電力IGBT
等では、放熱フィンを設けて熱を強制的に放出する工夫
が施されている。
の特性を高く維持するために、高熱伝導性が必要とされ
るとともに、絶縁性、遮光性および低誘電性等が要求さ
れている。一方、ヒートシンクにも高熱伝導性が要求さ
れており、通常、セラミックス基板および前記ヒートシ
ンクは、ともに150W/mK以上の熱伝導性を有し、
さらに熱膨張係数も半導体チップの熱膨張係数に近似す
るように設定されている。
ックス基板とヒートシンクを結合するためのろう材や半
田材は、熱膨張係数がセラミックス基板やヒートシンク
の2倍以上であるとともに、熱伝導率が20W/mK〜
70W/mK以下であって、前記セラミックス基板およ
び前記ヒートシンクの1/2〜1/7という低い値とな
っている。このため、ろう材や半田材が設けられた接合
部は、熱伝導率が低く、他の部分に比べて熱膨張係数が
大きくなり、この接合部に相当に大きな応力が発生して
接合信頼性が低下するという問題が指摘されている。
シンクの機能を有効に発揮させることができないという
おそれもある。これにより、回路の動作性能が温度上昇
に伴って劣化し、例えば、スイッチング速度の遅延、電
流および電圧倍率の低下等のトランジスタ機能の劣化が
発生するとともに、熱暴走による回路の破壊の他、熱に
よる接合部の剥離や実装チップの剥離等が惹起されると
いう問題がある。
あり、金属とセラミックスとを接合部を設けることなく
一体化するとともに、接合信頼性が高く、しかも高熱伝
導性を有するセラミックス−金属傾斜機能材およびその
製造方法を提供することを目的とする。
めに、本発明に係るセラミックス−金属傾斜機能材およ
びその製造方法では、先ず、金属を主成分とする第1粉
末の上に、セラミックス窒化物、炭素および金属を主成
分とする第2粉末が積層され、同時成形処理により成形
体が得られた後、この成形体には、熱焼成時あるいは熱
焼結時に窒化が平行して行われる。
を同一化し、添加する元素をセラミックス側および金属
側の双方に拡散させることにより、前記金属側から前記
セラミックス側あるいは前記セラミックス側から前記金
属側に向かって組成および物性が円滑に変化することに
なる。
る応力を極小化することができ、信頼性の向上が図られ
るとともに、ろう付けや半田付け等の接合層がなく、熱
伝導率が急激に変化する部位が存在しない。従って、セ
ラミックス基板表面の回路で発生する熱は、効率よく金
属組成層側に向かって伝達され、回路の熱的安定性およ
び信頼性が有効に向上することになる。
金属アルミニウムが用いられる。金属アルミニウムの融
点は、660℃程度であり、この温度以下では窒化が行
われず、絶縁性および高熱伝導性を有する窒化アルミニ
ウム層の形成が不可能となる。このため、金属アルミニ
ウムの融点を、窒化領域乃至窒化アルミニウムの焼結温
度域まで高める必要があり、この目的を達成するために
所定の添加剤が使用される。
(W)、バナジウム(V)、モリブデン(Mo)、ジル
コニウム(Zr)、クロム(Cr)、鉄(Fe)、ニッ
ケル(Ni)およびコバルト(Co)等が該当する。さ
らに、補助的に、少量の銀(Ag)、マグネシウム(M
g)、シリコン(Si)、マンガン(Mn)およびリチ
ウム(Li)等を加えてもよい。
を添加した場合、この金属アルミニウムの融点以上で固
相と液相の共存領域が生じ始め、WAl2 、WAl5 お
よびWAl4 の金属間化合物が、それぞれ1160℃、
1320℃および1420℃以上乃至はその近傍で生じ
る。
%に設定された際には、融点が1700℃以上となっ
て、例えば、セラミックス側に窒化アルミニウムを選択
した場合にも、同時焼結し得る温度となる。しかしなが
ら、金属アルミニウムは、高温蒸発し易いために安定し
た生産が難しい。従って、この種の問題を解決するため
に、他の添加剤が必要となる。例えば、リチウム、マグ
ネシウム、シリコン、マンガン、クロム、鉄、ニッケル
およびコバルト等を添加することにより、金属アルミニ
ウムの高温蒸発を緩和し、あるいは防止する。なお、こ
れらの添加剤は、金属アルミニウムとタングステンの反
応を効率よく行うためにも必要とされる。
スの焼結温度域まで温度を上げても溶融しないため、窒
化アルミニウム原料粉末に通常の焼結用添加剤である酸
化イットリウム、酸化カルシウム、または炭酸バリウム
等を添加して焼結することが考えられる。しかしなが
ら、この場合には、緻密化過程の温度域が異なるため、
焼結体に割れや変形等が顕著に現れてしまう。すなわ
ち、金属側は、前記の温度、例えば、1160℃や13
20℃で収縮するのに対し、セラミックス側は、緻密化
や収縮開始が1450℃以上であるために前記セラミッ
クス側の収縮が殆ど起こらず、発生する界面の応力によ
ってセラミックス組成層が破壊するからである。
時の温度域や反応温度域を同一化する必要がある。従っ
て、セラミックス側では、始めからセラミックスとして
添加するのではなく、雰囲気や添加剤を利用してセラミ
ックス化させることにより、反応温度域や収縮温度域を
同一化させ、焼結中に発生する応力を極小化させる工夫
が採用される。
ミニウム製造法における窒化温度は、金属アルミニウム
の直接窒化で1400℃〜1700℃であり、酸化アル
ミニウム(Al2 O3 )の還元窒化で1450℃〜17
50℃であり、いずれも高温となって実質的に同時焼成
しながら窒化することは難しい。例えば、金属アルミニ
ウムの窒化は、自己燃焼反応的であり、反応温度さえ制
御できないおそれがある。
ず、生成物である窒化アルミニウムより生成エネルギの
安定度が低い窒化物を少なくとも一種と、前記窒化アル
ミニウムより生成エネルギの安定度が高い金属を少なく
とも一種とを含有させる。これにより、窒化の反応温度
開始点を低くするとともに、自己燃焼的に急激にではな
く、ある程度制御しながら窒化を遂行することが可能に
なる。具体的には、エリンハム ダイヤグラム(Elling
ham diagram )の標準生成エネルギと温度との関係にお
いて、窒化アルミニウムラインより高いエネルギの物質
が窒化物として加えられる一方、低いエネルギの物質が
金属として添加される。
Mn、Si、Mg、La、Ta(タンタル)、V、B、
Cr、Fe、Co、NiおよびBa(バリウム)等が該
当し、金属としては、Ti、Zr、Hf(ハフニウム)
およびTh(トリウム)等が該当する。この他、上記の
窒化物に代わる略全ての炭化物が該当し、上記金属の代
わりにZrおよびTi等の他、ランタノイド元素酸化物
が該当する。
は、絶縁性の他、低誘電性および〜200MPa程度の
曲げ強度等が挙げられる。ここで、添加乃至セラミック
ス化した窒化物および炭化物は、殆どが導電性を有する
ため、その値を、例えば、100MΩとすると、導電性
のあるセラミックスの総量は40%以下に設定する必要
がある。これ以上のセラミックスが存在すると、抵抗が
小さくなって電気が流れてしまい、回路構成が達成でき
ないからである。
他、Fe、CoおよびNi等の遷移金属が誘電性を有す
るため、誘電定数を1MHzで〜10以下にするため
に、その総量を20%以下に設定する必要がある。
の熱力学的安定度が低いため、セラミックス側への添加
を1%以下、あるいは無添加とすべきである。但し、金
属アルミニウムの窒化の観点からは、FeやNiの元素
が窒素のキャリアとしての挙動を示し、粒子内部まで確
実に窒化を行うことができる。従って、鉄属元素の添加
は窒化には必要であるが、最終的には不要となるもので
あり、最小量で最大効率が引き出せるように、溶液形
態、例えば、硝酸ニッケルやコバルトエトキシド等の形
態で数十ppm〜数百ppmの添加が望ましい。
素および添加物としては、マグネシウム、リチウム、タ
ングステン、ニオブ(Nb)、マンガン、クロム、タン
タル、珪素の窒化物、炭化物、ハフニウム、ジルコニウ
ム、またはランタノイド元素の炭化物から選択される少
なくとも一種と、セリウム(Ce)を含むランタノイド
元素、ジルコニウム、チタニウムまたはタリウム(T
l)から選択される少なくとも一種とを含む。
する際、それぞれの成形密度にばらつきがある。例え
ば、金属側として金属アルミニウムが添加されている
と、一般的な粉末の成形圧力が80MPa〜250MP
aにおいて、アルミニウム分の剛性や強度が小さく、成
形中に組成変形してしまう。このため、窒化アルミニウ
ムを全て金属アルミニウムを窒化して得るのではなく、
使用する金属やセラミックス粒子の粒度やその分布によ
り予め窒化アルミニウムを添加し、反応時に緻密化させ
ていく手法が採用される。
の金属アルミニウム粉と、平均粒径が1μmの金属タン
グステン粉と、平均粒径が0.6μmの金属コバルト粉
とを、それぞれ26.5wt%、73wt%および0.
5wt%ずつ混合した後、アルコールを粉末100に対
して10wt%になるように添加し、第1混合粉末Aが
得られた。
3μmの金属アルミニウム粉と、エリンハム ダイヤグ
ラムで窒化アルミニウムラインより上方に存在するもの
として、平均粒径が0.6μmの炭化タングステン粉
と、平均粒径が1.2μmの窒化モリブデン(Mo
2 N)粉と、同様に窒化アルミニウムラインより下方に
存在する金属として、平均粒径が2.4μmの金属ジル
コニウム粉と、その他として、カーボンブラック、平均
粒径が1.2μmの窒化アルミニウム粉および平均粒径
が0.1μmの金属ニッケル粉とを、それぞれ60wt
%、3.0wt%、2.0wt%、3.0wt%、1.
9wt%、30wt%および0.1wt%ずつ混合した
後、アルコールを粉末100に対して15wt%になる
ように添加し、第2混合粉末Bが得られた。
寸法が50×50mmになるように、第1混合粉末Aが
計量された後、加圧成形用金型内にこの第1混合粉末A
が充填されて、パンチの重みのみによって該第1混合粉
末Aが平滑化された。さらに、第2混合粉末Bが、焼結
後の全体厚さが6mmになるように計量され、平滑化さ
れた第1混合粉末A上に積層された。
れ、第1および第2混合粉末A、Bが金型内静水圧加圧
成形法により成形処理されて成形体が得られた。その
際、成形のために過剰となったアルコールが金型の隙間
から排出され、成形体内に残存するアルコールが極小化
され、実質的に、このアルコール残量が5wt%となっ
た。
0℃で2時間乾燥処理され、次に、この成形体が雰囲気
炉内に移されて窒素雰囲気化で昇温されて焼結された。
この焼結時に反りが発生することを阻止するため、成形
体の上に15g程度のh−BNの板を載せて焼成処理を
施した。焼結パターンは、図1Aおよび図1Bに示す条
件で行われた。さらに、金属側の緻密化および結晶構造
の変化に伴う変化点乃至はその近傍で、定温保持が行わ
れた。また、窒化を連続的かつ効果的に行うため、窒素
圧の制御も行った。
(セラミックス−金属傾斜機能材)10が得られた。こ
の焼結体10は、セラミックス組成層12と、金属組成
層14と、このセラミックス組成層12と前記金属組成
層14との境界部位に設けられる複合組成層16とから
一体的に構成された。
物であり、金属組成層14の表面は完全に金属状態であ
った。さらに、複合組成層16は、セラミックスと金属
の界面が識別不能であり、所望の傾斜機能材が得られ
た。この焼結体10では、セラミックス組成と金属組成
との収縮量や収縮温度等の違いによる割れやクラック等
の欠陥は全く現れなかった。セラミックス組成層12の
表面の絶縁耐圧が1GV以上であり、反対側の金属組成
層14側の抵抗は殆ど測定不能な値であった。熱伝導率
については、全体として、170W/mK以上の値であ
った。
ス−金属傾斜機能材およびその製造方法では、金属側お
よびセラミックス側の収縮やそれぞれの成分を制御する
ことにより、セラミックス組成と金属組成との境界部位
が存在することがない。これにより、組成および物性が
傾斜的に変化する複合組成層を介在したセラミックス組
成層と金属組成層とが一体化された傾斜機能材が確実に
得られる。従って、熱伝導性や接合信頼性が向上すると
ともに、簡単な工程で所望の特性を有したセラミックス
−金属機能材が製造可能となる。
温度パターンの説明図であり、図1Bは、焼結の圧力パ
ターンの説明図である。
図である。
クス組成層 14…金属組成層 16…複合組成
層
Claims (5)
- 【請求項1】一方の面側に設けられ、所望の絶縁性およ
び熱伝導性を有するセラミックス組成層と、 他方の面側に設けられ、所望の熱伝導性および電気伝導
性を有する金属組成層と、 前記セラミックス組成層と前記金属組成層との境界部位
に設けられ、その組成および物性が傾斜的に変化する複
合組成層と、 を一体的に備えることを特徴とするセラミックス−金属
傾斜機能材。 - 【請求項2】請求項1記載のセラミックス−金属傾斜機
能材において、前記セラミックス組成層の熱伝導率が、
150W/mK以上であることを特徴とするセラミック
ス−金属傾斜機能材。 - 【請求項3】金属を主成分とする第1粉末を成形型に充
填する工程と、 セラミックス窒化物、炭素および金属を主成分とする第
2粉末を、前記第1粉末に積層して前記成形型に充填す
る工程と、 前記積層された第1および第2粉末を、加圧手段を介し
て加圧成形することにより、成形体を成形する工程と、 前記成形体を焼成することにより、セラミックスと金属
とが一体化した傾斜機能材を得る工程と、 を有することを特徴とするセラミックス−金属傾斜機能
材の製造方法。 - 【請求項4】請求項3記載の製造方法において、前記第
1粉末は、金属アルミニウム、タングステン、モリブデ
ン、バナジウム、クロム、ニッケル、鉄またはコバルト
から選択される少なくとも一種を含有することを特徴と
するセラミックス−金属傾斜機能材の製造方法。 - 【請求項5】請求項3記載の製造方法において、前記第
2粉末は、金属アルミニウムと、 マグネシウム、サマリウム、セリウム、ジスプロシウ
ム、ネオジウム、ランタンまたはリチウムから選択され
る少なくとも一種と、 タングステン、チタン、クロム、モリブデン、バナジウ
ム、タンタル、ニオブ、ハフニウムまたはジルコニウム
から選択される少なくとも一種の炭化物、窒化物、炭窒
化物または酸化物と、 を含有することを特徴とするセラミックス−金属傾斜機
能材の製造方法。
Priority Applications (3)
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---|---|---|---|
JP07208397A JP3946298B2 (ja) | 1997-03-25 | 1997-03-25 | セラミックス−金属傾斜機能材およびその製造方法 |
US09/042,650 US6124635A (en) | 1997-03-21 | 1998-03-17 | Functionally gradient integrated metal-ceramic member and semiconductor circuit substrate application thereof |
CA002232425A CA2232425C (en) | 1997-03-21 | 1998-03-18 | Functionally gradient material and its use in a semiconductor circuit substrate |
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JPH10264311A true JPH10264311A (ja) | 1998-10-06 |
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-
1997
- 1997-03-25 JP JP07208397A patent/JP3946298B2/ja not_active Expired - Fee Related
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