JPH10261717A - Semiconductor integrated circuit device - Google Patents

Semiconductor integrated circuit device

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Publication number
JPH10261717A
JPH10261717A JP8329097A JP8329097A JPH10261717A JP H10261717 A JPH10261717 A JP H10261717A JP 8329097 A JP8329097 A JP 8329097A JP 8329097 A JP8329097 A JP 8329097A JP H10261717 A JPH10261717 A JP H10261717A
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JP
Japan
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logic
circuit
output
integrated circuit
cell
Prior art date
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Pending
Application number
JP8329097A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Katsuichi Tomobe
勝一 友部
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Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
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Publication date
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  • Design And Manufacture Of Integrated Circuits (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide various logic circuits even with one PLT circuit by using a plurality of pass transistor logics which have one of the source/drain channels in a transfer gate MOSFET and a gate as input side and the other channel as output side. SOLUTION: A circuit composed of MOSFETs Q3 and Q4 are connected with MOSFETs Q1 and Q2 which constitute an α cell by multistage connection, and a pass transistor logic called β cell is constituted. Namely, on the output node side of the MOSFETs Q1 and Q2, a similar logic stage composed of the MOSFETs Q3 and Q4 are connected in series, one of the source/drain channels of the MOSFET Q4 is used as an input terminal C, and the gates of the MOSFETs Q3 and Q4 are provided with a pair of complementary input terminals E and /E. Then, the other source/drain channels of the MOSFETs Q3 and Q4 is commonly connected to be a logic output node X and an output circuit is provided.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】この発明は、半導体集積回路
装置に関し、特にスタンダード・セル方式により回路機
能が決定されてなる半導体集積回路装置における論理修
正技術に利用して有効な技術に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor integrated circuit device and, more particularly, to a technology that is effective when used as a logic correction technology in a semiconductor integrated circuit device whose circuit function is determined by a standard cell system.

【0002】[0002]

【従来の技術】スタンダード・セル方式のセミカスタム
LSI(大規模集積回路装置)がある。このスタンダー
ド・セル方式は、予め設計されてなる標準セルを組み合
わせて、チップ全体の設計を行うものである。スタンダ
ード・セル方式は、ゲートアレイとは異なり、内部を自
由に設計した種々のセルを組み合わせるので、フルカス
タムLSIと同様に、チップ毎にすべてのマスクを作製
する必要がある。このため、ゲートアレイと比べて、開
発費は高くなるが、同等の機能を小さなチップ上に実現
できるために、製造コストは安くなる。このようなスタ
ンダード・セル方式に関しては、日経マグロウヒル社1
985年9月9日付「日経エレクトロニクス」第166
頁〜第192頁等がある。
2. Description of the Related Art There is a standard cell type semi-custom LSI (large-scale integrated circuit device). In the standard cell system, the entire chip is designed by combining standard cells designed in advance. Unlike the gate array, the standard cell method combines various cells whose interiors are freely designed. Therefore, like the full custom LSI, it is necessary to manufacture all the masks for each chip. Therefore, the development cost is higher than that of the gate array, but the same function can be realized on a small chip, so that the manufacturing cost is reduced. Regarding such a standard cell system, Nikkei McGraw-Hill 1
“Nikkei Electronics” No. 166, September 9, 985
Page to page 192.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】上記のようなスタンダ
ード・セル方式において、標準セルの論理修正用のため
にダミーセルが設けられる。このダミーセルは、よく使
用される数十セル程度を相互接続した論理をダミーブロ
ックとして搭載しておき、論理修正を行う必要があると
きに使用する。しかしながら、論理不良それ自体は予測
できないために、折角搭載したダミーセルでそれを修正
しようとしたとき、それに適合するような論理修正がで
きない場合が多いという問題が生じている。このため、
余裕を持ってダミーセルを設けることが考えられるが、
そのようにするとダミーセル部分での無駄が多くなり、
折角の上記のスタンダード・セル方式の高集積化が生か
されなくなってしまうという矛盾が生じる。
In the above standard cell system, dummy cells are provided for correcting the logic of the standard cells. The dummy cell is used when a logic block in which several tens of commonly used cells are interconnected is mounted as a dummy block, and the logic needs to be corrected. However, since the logic failure itself cannot be predicted, there is a problem in that when the dummy cell mounted on the corner is intended to correct it, it is often impossible to correct the logic to match it. For this reason,
It is conceivable to provide a dummy cell with some margin,
By doing so, waste in the dummy cell part increases,
There is a contradiction that the high integration of the standard cell method cannot be utilized.

【0004】この発明の目的は、小さな回路規模により
効率よく論理修正が可能なダミーセルを備えたスタンダ
ード・セル方式による半導体集積回路装置を提供するこ
とにある。この発明の前記ならびにそのほかの目的と新
規な特徴は、本明細書の記述および添付図面から明らか
になるであろう。
An object of the present invention is to provide a semiconductor integrated circuit device based on a standard cell system having dummy cells capable of efficiently modifying the logic with a small circuit scale. The above and other objects and novel features of the present invention will become apparent from the description of the present specification and the accompanying drawings.

【0005】[0005]

【課題を解決するための手段】本願において開示される
発明のうち代表的なものの概要を簡単に説明すれば、下
記の通りである。すなわち、あらかじめ特定の論理機能
が設計されてなる複数通りの標準セルを用い、その配置
と標準セル間の接続を行う配線の設計により所望のディ
ジタル信号処理を行うための信号処理回路を実現してな
るスタンダード・セル方式の半導体集積回路装置におい
て、標準セルの間に適宜に論理修正のために用いられる
ダミーセルを設け、かかるダミーセルとしてトランスフ
ァゲートMOSFETにおけるソース−ドレイン経路の
一方と、ゲートを入力とし、上記ソース−ドレイン経路
の他方を出力側とするパストランジスタロジックの複数
を用いる。
The following is a brief description of an outline of a typical invention among the inventions disclosed in the present application. That is, a signal processing circuit for performing a desired digital signal processing is realized by using a plurality of types of standard cells in which specific logic functions are designed in advance, and designing the layout and wiring for connecting the standard cells. In a standard cell type semiconductor integrated circuit device, dummy cells used for logic correction are appropriately provided between the standard cells, and one of the source-drain paths in the transfer gate MOSFET and the gate are input as such dummy cells, A plurality of pass transistor logics having the other of the source-drain paths as the output side are used.

【0006】[0006]

【発明の実施の形態】図1には、この発明に係るスタン
ダード・セル方式の半導体集積回路装置に搭載されるダ
ミーセルを構成するパストランジスタロジック(PT
L)の一実施例の回路図が示されている。同図の各回路
素子は、公知の半導体集積回路の製造技術により、図示
しない標準セルからなる他の回路素子とともに1つの半
導体基板上において形成される。
FIG. 1 shows a pass transistor logic (PT) constituting a dummy cell mounted on a standard cell type semiconductor integrated circuit device according to the present invention.
L) A circuit diagram of one embodiment is shown. Each circuit element in the figure is formed on one semiconductor substrate together with another circuit element including a standard cell (not shown) by a known semiconductor integrated circuit manufacturing technique.

【0007】同図に示されたパストランジスタロジック
は、αセルと呼ばれるものであり、2つのNチャンネル
型MOSFETQ1とQ2を並列接続し、上記MOSF
ETQ1とQ2のソース─ドレイン経路の一方を入力端
子AとBとし、上記MOSFETQ1とQ2のゲートを
入力端子Cとし、相補信号Cと/Cを供給するものであ
る。上記MOSFETQ1とQ2のゲートに供給される
相補信号Cと/Cは、Cがハイレベルを有意レベルと
し、/Cがロウレベルを有意レベルとする相補信号であ
る。上記MOSFETQ1とQ2のソース−ドレイン経
路の他方は共通接続されて論理出力ノードXとされる。
The pass transistor logic shown in FIG. 1 is called an α cell, and connects two N-channel MOSFETs Q1 and Q2 in parallel to each other,
One of the source-drain paths of ETQ1 and Q2 is set as input terminals A and B, the gates of the MOSFETs Q1 and Q2 are set as input terminals C, and complementary signals C and / C are supplied. The complementary signals C and / C supplied to the gates of the MOSFETs Q1 and Q2 are complementary signals in which C has a high level as a significant level and / C has a low level as a significant level. The other of the source-drain paths of the MOSFETs Q1 and Q2 is commonly connected to be a logical output node X.

【0008】特に制限されないが、上記のようにトラン
スファゲートMOSFETを用いてて論理を構成した場
合、上記MOSFETQ1又Q2のゲートとソース間の
しきい値電圧により、上記MOSFETQ1とQ2のソ
ース−ドレイン経路の他方における論理出力ノードXで
は、ハイレベル側がレベル低下してしまう。そこで、出
力部にプルアップ機能を持つ出力回路が設けられる。
Although not particularly limited, when the logic is formed using the transfer gate MOSFET as described above, the source-drain path of the MOSFETs Q1 and Q2 is determined by the threshold voltage between the gate and the source of the MOSFET Q1 or Q2. In the other logic output node X, the level on the high level side drops. Therefore, an output circuit having a pull-up function is provided in the output unit.

【0009】出力回路は、例示的に示されたMOSFE
TQ10〜Q14からなる。Pチャンネル型MOSFE
TQ10とNチャンネル型MOSFETQ11は、CM
OSインバータ回路を構成し、上記出力ノードXが入力
端子INに接続され、その出力端子OUTから出力信号
を形成する。上記MOSFETQ10とQ11からなる
出力用CMOSインバータ回路の入力部には、次のよう
なプルアップ回路が設けられる。上記入力端子INの信
号は、Pチャンネル型MOSFETQ12とNチャンネ
ル型MOSFETQ13からなる駆動用CMOSインバ
ータ回路に入力され、その出力信号によりプルアップM
OSFETQ14を駆動する。このプルアップMOSF
ETQ14は、Pチャンネル型MOSFETからなり、
上記入力端子IN(出力ノードX)と電源電圧(ハイレ
ベル側)との間に設けらる。
The output circuit is a MOSFE shown by way of example.
It consists of TQ10 to Q14. P-channel type MOSFE
TQ10 and N-channel MOSFET Q11 are CM
The output node X is connected to an input terminal IN, and an output signal is formed from an output terminal OUT of the OS inverter circuit. The following pull-up circuit is provided at the input portion of the output CMOS inverter circuit including the MOSFETs Q10 and Q11. The signal at the input terminal IN is input to a driving CMOS inverter circuit composed of a P-channel MOSFET Q12 and an N-channel MOSFET Q13.
Drive OSFET Q14. This pull-up MOSF
ETQ14 is composed of a P-channel type MOSFET,
It is provided between the input terminal IN (output node X) and the power supply voltage (high level side).

【0010】上記出力回路の動作は、次の通りである。
上記論理出力ノードXがロウレベルとき、上記出力用イ
ンバータ回路(Q10,Q11)はこれに対応してハイ
レベルの出力信号を形成する。このとき、駆動用のCM
OSインバータ回路(Q12,Q13)も、ハイレベル
の駆動信号を形成するので上記プルアップ用のPチャン
ネル型MOSFETQ14はオフ状態となる。これに対
して、上記論理出力ノードXがハイレベルとき、かかる
ハイレベルは上記のようにNチャンネル型MOSFET
のゲート,ソース間のしきい値電圧だけレベル低下した
ものとなる。上記出力用インバータ回路(Q10,Q1
1)はこれに対応してロウレベルの出力信号を形成す
る。このとき、駆動用のCMOSインバータ回路(Q1
2,Q13)は、ロウレベルの駆動信号を形成するので
上記プルアップ用のPチャンネル型MOSFETQ14
をオン状態にして、上記入力端子INのレベルを電源電
圧(ハイレベル側)までプルアップする。これにより、
上記2つのCMOSインバータ回路では、Pチャンネル
型MOSFETQ10とQ12がオフ状態となり、そこ
でのリーク電流を最小に抑えつつ、次段回路に入力され
る信号をCMOSレベルにするものである。
The operation of the output circuit is as follows.
When the logical output node X is at a low level, the output inverter circuits (Q10, Q11) correspondingly generate a high-level output signal. At this time, the driving CM
Since the OS inverter circuits (Q12, Q13) also generate high-level drive signals, the pull-up P-channel MOSFET Q14 is turned off. On the other hand, when the logic output node X is at the high level, the high level is set to the N-channel MOSFET as described above.
Is lowered by the threshold voltage between the gate and the source. The output inverter circuit (Q10, Q1
1) correspondingly forms a low-level output signal. At this time, the driving CMOS inverter circuit (Q1
2, Q13) form a low-level drive signal, so that the pull-up P-channel MOSFET Q14
Is turned on, and the level of the input terminal IN is pulled up to the power supply voltage (high level side). This allows
In the two CMOS inverter circuits, the P-channel MOSFETs Q10 and Q12 are turned off, and the signal input to the next-stage circuit is set to the CMOS level while minimizing the leakage current there.

【0011】上記αセルで実現できる論理は、次の通り
である。入力端子Aと入力端子Cを用い、入力端子Bを
ロウレベル(論理0)に固定すると、NAND(ナン
ド)論理となる。つまり、入力端子Aがハイレベルで入
力端子CがハイレベルでMOSFETQ1がオン状態の
ときのみ、論理出力ノードXがハイレベルとなり、それ
以外の組み合わせ、つまり、入力端子Cがハイレベルで
MOSFETQ1がオン状態のときに入力端子Aがロウ
レベルならロウレベルが出力され、入力端子Cがロウレ
ベルならMOSFETQ1がオフ状態となり、入力端子
/CのハイレベルによってMOSFETQ2がオン状態
となって上記入力端子Aには無関係に入力端子Bの固定
ロウレベルが出力される。上記出力回路により反転信号
が出力されるので、論理出力ノードXが反転されるので
上記のようなNAND論理になる。
The logic which can be realized by the α cell is as follows. When the input terminal A and the input terminal C are used and the input terminal B is fixed at a low level (logic 0), the logic becomes NAND (Nand) logic. That is, only when the input terminal A is at the high level, the input terminal C is at the high level, and the MOSFET Q1 is in the ON state, the logical output node X is at the high level. In other combinations, that is, the input terminal C is at the high level and the MOSFET Q1 is turned on. In this state, if the input terminal A is at a low level, a low level is output. If the input terminal C is at a low level, the MOSFET Q1 is turned off, and the high level of the input terminal / C turns on the MOSFET Q2 irrespective of the input terminal A. The fixed low level of the input terminal B is output. Since the inverted signal is output from the output circuit, the logical output node X is inverted, so that the NAND logic becomes as described above.

【0012】入力端子Bと入力端子Cを用い、入力端子
Aをハイレベル(論理1)に固定すると、NOR(ノ
ア)論理となる。つまり、入力端子Bがロウレベルで入
力端子CがロウレベルでMOSFETQ1がオフ状態と
なり、入力端子/CのハイレベルによりMOSFETQ
2がオン状態のときのみ、論理出力ノードXがロウレベ
ルとなり、それ以外の組み合わせ、つまり、入力端子C
がハイレベルでMOSFETQ1がオン状態のときに入
力端子Bには無関係に入力端子Aの固定ハイレベルが出
力され、入力端子/CのハイレベルによってMOSFE
TQ2がオン状態のときに上記入力端子Bがハイレベル
ならハイレベルが出力される。上記出力回路により反転
信号が出力されるので、論理出力ノードXが反転される
ので上記のようなNOR論理になる。
When the input terminal A is fixed to a high level (logic 1) using the input terminals B and C, the logic becomes NOR (Nor). That is, when the input terminal B is at a low level and the input terminal C is at a low level, the MOSFET Q1 is turned off, and when the input terminal / C is at a high level, the MOSFET Q1 is turned off.
2 is only in the ON state, the logic output node X is at the low level, and other combinations, that is, the input terminal C
Is high level and the MOSFET Q1 is on, the fixed high level of the input terminal A is output irrespective of the input terminal B, and the MOSFE is determined by the high level of the input terminal / C.
If the input terminal B is at a high level when TQ2 is on, a high level is output. Since the inverted signal is output from the output circuit, the logic output node X is inverted, so that the above NOR logic is obtained.

【0013】そして、入力端子Bに入力端子Aの反転信
号/Aを供給すると、排他的論理和回路となる。つま
り、2つの入力信号Aと/AとCと/Cとが一致したと
き、言い換えるならば、入力信号Aがハイレベルで入力
信号Cがハイレベルのときには、MOSFETQ1のオ
ン状態により入力信号Aのハイレベルが論理出力ノード
Xに出力され、入力信号Aがロウレベルで入力信号Cが
ロウレベルのときには、MOSFETQ2のオン状態に
より入力信号/Aのハイレベルが論理出力ノードXに出
力され、上記入力信号AとCが不一致のときには入力信
号Cがハイレベルので入力信号AがロウレベルならMO
SFETQ1のオン状態により入力信号Aのロウレベル
が出力され、入力信号Cがロウレベルので入力信号Aが
ハイレベルならMOSFETQ2のオン状態により入力
信号/Aのロウレベルが出力されるからである。上記出
力回路により反転信号が出力されるので、論理出力ノー
ドXが反転されるので上記のような排他的論理和回路に
なる。
When the inverted signal / A of the input terminal A is supplied to the input terminal B, an exclusive OR circuit is formed. That is, when the two input signals A, / A, C, and / C match, in other words, when the input signal A is at a high level and the input signal C is at a high level, the input signal A is turned on by the ON state of the MOSFET Q1. When the high level is output to the logical output node X, the input signal A is low and the input signal C is low, the high level of the input signal / A is output to the logical output node X by the ON state of the MOSFET Q2, and the input signal A When C and C do not match, the input signal C is at a high level.
This is because the low level of the input signal A is output according to the ON state of the SFET Q1, and the low level of the input signal / A is output according to the ON state of the MOSFET Q2 if the input signal A is at the high level because the input signal C is at the low level. Since the inverted signal is output from the output circuit, the logical output node X is inverted, so that an exclusive OR circuit as described above is obtained.

【0014】この他に、入力信号Cと/Cを固定レベル
にすると、入力信号A又はBを反転させるインバータ回
路を構成することはいうまでもない。このように、上記
のαセルにより、4通りの論理を採ることができる。つ
まり、パストランジスタロジックでは、上記のように入
力端子A、B及びCと/Cに供給する信号又は電位レベ
ルの設定により上記多数の論理を決定できるために、少
ない素子素数により応用範囲の広い論理修正に用いるこ
とができる。
In addition, if the input signals C and / C are set to a fixed level, it goes without saying that an inverter circuit for inverting the input signal A or B is formed. As described above, four types of logic can be adopted by the α cell. In other words, in the pass transistor logic, since a large number of logics can be determined by setting signals or potential levels supplied to the input terminals A, B and C and / C as described above, a logic having a wide application range with a small number of element primes is used. Can be used for correction.

【0015】図2には、この発明に係るスタンダード・
セル方式の半導体集積回路装置に搭載されるダミーセル
を構成するパストランジスタロジック(PTL)の他の
一実施例の回路図が示されている。同図に示されたパス
トランジスタロジックは、βセルと呼ばれるものであ
り、上記αセルを構成するMOSFETQ1とQ2に、
MOSFETQ3とQ4からなる回路を多段接続したも
のである。つまり、上記MOSFETQ1とQ2の出力
ノード側にMOSFETQ3とQ4からなる同様な論理
段を直列形態に接続し、MOSFETQ4のソース−ド
レイン経路の一方を入力端子Cとし、MOSFETQ3
とQ4のゲートには、一対の相補入力端子Eと/Eにす
るものである。そして、この上記MOSFETQ3とQ
4のソース−ドレイン経路の他方を共通接続して論理出
力ノードXとし、前記同様な出力回路を設けるものであ
る。
FIG. 2 shows a standard according to the present invention.
A circuit diagram of another embodiment of a pass transistor logic (PTL) constituting a dummy cell mounted on a cell type semiconductor integrated circuit device is shown. The pass transistor logic shown in FIG. 1 is called a β cell, and MOSFETs Q1 and Q2 constituting the α cell are:
A circuit comprising MOSFETs Q3 and Q4 is connected in multiple stages. That is, a similar logic stage composed of MOSFETs Q3 and Q4 is connected in series to the output nodes of the MOSFETs Q1 and Q2, and one of the source-drain paths of the MOSFET Q4 is used as the input terminal C.
And Q4 have a pair of complementary input terminals E and / E. The MOSFETs Q3 and Q3
The other of the four source-drain paths is commonly connected to form a logical output node X, and an output circuit similar to the above is provided.

【0016】図3には、上記図2に示したβセルにより
実現できる論理回路の回路図が示されている。上記βセ
ルでは、上記αセルの2段構成の組み合わせで構成され
るものであるので、MOSFETQ1とQ2による上記
のような3通りの論理、MOSFETQ3とQ4による
3通りの論理とが組み合わされて、同図(A)に示すよ
うに排他的論理和回路EXの出力部にナンドゲート回路
NANDを配置した論理回路を得るものと、同図(B)
に示すように排他的論理和回路EXの出力部にノアゲー
ト回路NORを配置した論理回路を得るものと、同図
(C)に示すように2入力のアンドゲート回路AND
と、3入力のアンドゲート回路の出力部にノアゲート回
路NORを配置した論理回路を得るものと、同図(D)
に示すように、ANDゲート回路、オアゲート回路OR
及びノアゲート回路NORを多段配置した論理回路を得
るものの4通りが実現できるものである。
FIG. 3 is a circuit diagram of a logic circuit which can be realized by the β cell shown in FIG. Since the β cell is configured by a combination of the two-stage configuration of the α cell, the above three types of logic by the MOSFETs Q1 and Q2 and the three types of logic by the MOSFETs Q3 and Q4 are combined, One obtains a logic circuit in which a NAND gate circuit NAND is arranged at the output of the exclusive OR circuit EX as shown in FIG.
(C) to obtain a logic circuit in which a NOR gate circuit NOR is arranged at the output of the exclusive OR circuit EX, and (2) a two-input AND gate circuit AND as shown in FIG.
(D) in which a logic circuit in which a NOR gate NOR is arranged at the output of a three-input AND gate circuit is obtained.
As shown in the figure, an AND gate circuit, an OR gate circuit OR
And a logic circuit in which NOR gates NOR are arranged in multiple stages to achieve a logic circuit.

【0017】図4には、この発明に係るスタンダード・
セル方式の半導体集積回路装置に搭載されるダミーセル
を構成するパストランジスタロジック(PTL)の更に
他の一実施例の回路図が示されている。同図に示された
パストランジスタロジックは、γセルと呼ばれるもので
あり、上記αセルを構成する2つのMOSFETQ1と
Q2及びQ5、Q6に、上記βセルと同様なMOSFE
TQ3とQ4からなる回路を多段接続したものである。
つまり、上記MOSFETQ1とQ2及びQ5とQ6の
出力ノード側にMOSFETQ3とQ4からなる同様な
論理段を直列形態に接続したものである。言い換えるな
らば、αセルの論理部を3個組み合わせて信号伝達経路
方向に対して対称的に多段配置したものである。この構
成では、上記αセル、βセルにより実現できる論理回路
を含めて、さらに複雑な論理回路を実現できるものであ
る。
FIG. 4 shows a standard according to the present invention.
A circuit diagram of still another embodiment of a pass transistor logic (PTL) constituting a dummy cell mounted on a cell type semiconductor integrated circuit device is shown. The pass transistor logic shown in the figure is called a γ cell, and two MOSFETs Q1, Q2 and Q5, Q6 constituting the α cell are provided with the same MOSFET as the β cell.
The circuit composed of TQ3 and Q4 is connected in multiple stages.
In other words, similar logic stages comprising MOSFETs Q3 and Q4 are connected in series to the output nodes of the MOSFETs Q1 and Q2 and Q5 and Q6. In other words, three logic parts of α cells are combined and arranged in multiple stages symmetrically with respect to the signal transmission path direction. In this configuration, a more complicated logic circuit can be realized, including a logic circuit realized by the α cells and β cells.

【0018】図5には、この発明に係る半導体集積回路
装置の一実施例の概略ブロック図が示されている。同図
(A)には、ポリセル型の例が示され、同図(B)には
ビルディング・ブロック型の例が示されている。同図の
各回路ブロックは、実際の半導体基板上に形成される幾
何学的な配置に合わせて描かれている。
FIG. 5 is a schematic block diagram showing one embodiment of the semiconductor integrated circuit device according to the present invention. FIG. 1A shows an example of a polycell type, and FIG. 1B shows an example of a building block type. Each circuit block in the figure is drawn according to a geometrical arrangement formed on an actual semiconductor substrate.

【0019】同図(A)のポリセル型においては、セル
の高さが同じで、セルの幅が各標準セルで異なるものを
組み合わせて配置し、その標準セル間を配線により接続
することにより所望のディジタル信号処理回路を得るも
のである。この場合の標準セルは、SSIやMSI程度
の回路規模からなるCMOS論理回路から構成され、そ
の上下にのみ信号端子が設けられる。それ故、セルの高
さ方向に配線チャンネルが設けられ、ここに標準セル間
を接続する配線が形成される。
In the polycell type shown in FIG. 1A, cells having the same cell height and different cell widths in each standard cell are arranged in combination, and the standard cells are connected to each other by wiring. To obtain a digital signal processing circuit. In this case, the standard cell is constituted by a CMOS logic circuit having a circuit scale of about SSI or MSI, and signal terminals are provided only above and below it. Therefore, a wiring channel is provided in the height direction of the cell, and a wiring for connecting the standard cells is formed here.

【0020】上記標準セルは、内部論理回路を構成する
ものであり、半導体集積回路装置としての入力バッファ
や出力バッファを構成する入出力バッファセルについて
は、通常論理機能が設けられなく、その論理修正の必要
が無いから同図では省略されている。図示しない入出力
バッファは、一般に上記標準セルよりも高さが高く、そ
の大きさも大きく形成される。また、アナログ回路やデ
ィジタル回路でもメモリ回路の標準セルは、上記ポリ・
セル型のものにおいても、上記論理用の標準セルに対し
て高さも異なり、大きい標準セルとして用意されるもの
である。
The standard cells constitute an internal logic circuit, and input / output buffer cells constituting an input buffer and an output buffer as a semiconductor integrated circuit device are not usually provided with a logical function, and the logic modification thereof is performed. Are omitted in FIG. The input / output buffer (not shown) is generally higher than the standard cell, and is formed to have a larger size. In analog circuits and digital circuits, standard cells for memory circuits are
The cell type also has a different height from the logic standard cell and is prepared as a large standard cell.

【0021】この実施例では、上記のような論理回路を
構成する標準セルにおいて、基本的な論理設計が終了し
た後において、その後の回路解析等の結果等に基づいて
論理修正を行うために予めダミーセルが適宜に配置され
る。同図においては、上記標準セルに隣接して、幅の狭
く斜線を付した部分がダミーセルである。このダミーセ
ルは、前記パストランジスタロジックにより構成された
αセル、βセルあるいはγセルの複数個が搭載されて構
成される。
In this embodiment, after the basic logic design is completed in the standard cell constituting the above-described logic circuit, the logic is corrected in advance based on the result of the subsequent circuit analysis and the like. Dummy cells are appropriately arranged. In the figure, a narrow hatched portion adjacent to the standard cell is a dummy cell. The dummy cell is configured by mounting a plurality of α cells, β cells, or γ cells configured by the pass transistor logic.

【0022】上記ダミーセル(PTL)に対する入出力
端子の接続は、最上層の配線層により接続できるように
決められている。このため、最終的な論理修正や変更を
行うことの他、開発品での回路解析の結果に基づいて回
路変更を行う場合にも利用できるようにされている。つ
まり、回路動作の検証による論理デバッグを行うように
するため、上記のようなPTLに対する接続を最上層の
配線層を用いるようにすることによって標準セルで形成
された論理出力信号に対する論理修正を上記PTLに対
する配線層をFIB(フォーカスド・イオン・ビーム)
技術により変更できるようにするものである。
The connection of the input / output terminals to the dummy cell (PTL) is determined so that it can be connected by the uppermost wiring layer. For this reason, it can be used not only for making final logical corrections and changes, but also for making circuit changes based on the results of circuit analysis on a developed product. In other words, in order to perform logic debugging by verifying the circuit operation, the above-described connection to the PTL is performed using the uppermost wiring layer, and thus the logic modification to the logic output signal formed by the standard cell is performed. FIB (focused ion beam) wiring layer for PTL
It can be changed by technology.

【0023】すなわち、上記FIB技術によりダミーセ
ルとして用意されているPTLに対して最上層の配線層
の切断や配線相互の接続を行うようにすることによっ
て、標準セルに対する論理修正を行い、上記論理修正の
確認を行うようにすることができる。このようなFIB
技術による論理デバッグを取り入れることにより、上記
スタンダード・セル方式の半導体集積回路装置の開発設
計の短縮化を図ることができるものである。なお、最終
製品には、最上層の配線設計の変更により、言い換える
ならば、最上層の配線マスクの変更のみで半導体集積回
路装置を完成させることができるものとなる。
In other words, by cutting the uppermost wiring layer and connecting the wiring to each other in the PTL prepared as a dummy cell by the FIB technique, the logical correction is performed on the standard cell, and the logical correction is performed. Confirmation can be performed. FIB like this
By incorporating logic debugging by technology, development and design of the standard cell type semiconductor integrated circuit device can be shortened. In the final product, the semiconductor integrated circuit device can be completed only by changing the wiring design of the uppermost layer, in other words, only by changing the wiring mask of the uppermost layer.

【0024】上記のようなPTLを用いたダミーセル
と、上記FIB技術との組み合わせにより、小さな回路
規模により効率よく論理修正が可能なダミーセルを備え
たスタンダード・セル方式による半導体集積回路装置を
得ることができる。
By combining the above-described dummy cell using PTL and the above-mentioned FIB technique, it is possible to obtain a semiconductor integrated circuit device of a standard cell type having a dummy cell capable of efficiently modifying the logic with a small circuit scale. it can.

【0025】同図(B)のビルディング・ブロック型
(又はジェネラル・セル型)においては、セルの高さも
幅もソース異なってよい。信号の入力端子は、各セルの
四辺に設けられる。このビルディング・ブロック型の標
準セルは、上記のようなポリ・セル型の標準セルより回
路規模が大きく、LSI程度までの回路を含み、例えば
マイクロプロセッサなども標準セルとして含むものであ
る。
In the building block type (or general cell type) shown in FIG. 2B, the height and width of the cell may differ from the source. Signal input terminals are provided on four sides of each cell. The standard cell of the building block type has a circuit size larger than that of the standard cell of the poly cell type described above, includes circuits up to about LSI, and includes, for example, a microprocessor as a standard cell.

【0026】このようなビルディング・ブロック型の半
導体集積回路装置においても、上記のような論理回路を
構成する標準セルにおいて、基本的な論理設計が終了し
た後において、その後の回路解析等の結果等に基づいて
論理修正を行うために予めダミーセルが適宜に配置され
る。同図においては、各標準セルに隣接して、幅の狭く
斜線を付した部分がダミーセルである。このダミーセル
は、前記パストランジスタロジックにより構成されたα
セル、βセルあるいはγセルの複数個が搭載されて構成
される。
In such a building block type semiconductor integrated circuit device as well, after the basic logic design is completed in a standard cell constituting the above logic circuit, the result of subsequent circuit analysis and the like is obtained. Dummy cells are appropriately arranged in advance in order to perform the logic correction based on. In the figure, a narrow hatched portion adjacent to each standard cell is a dummy cell. This dummy cell is composed of the α formed by the pass transistor logic.
A plurality of cells, β cells or γ cells are mounted.

【0027】上記マイクロプロセッサ等やメモリ等のよ
うな回路ブロックのような汎用的な回路ブロックでは、
その論理修正を行う必要性が少ない。そのため、かかる
汎用的な回路ブロックに対してはダミーセルを省略して
もよい。つまり、カスタムLSIとしての特殊動作を行
わせる部分は、上記マイクロプロセッサやメモリの周辺
回路を構成する論理回路で実現されるものであり、かか
る論理回路は小さな回路規模の標準セルで、それぞれ特
有の論理処理を行うことが一般的であるからである。そ
れ故、論理修正や変更には、かかる周辺論理回路部分で
の論理変更で行われることが多いから、上記ポリ・セル
型と同様にSSIやMSIに相当する標準セルに隣接し
てダミーセルを配置しても実際上は対応できるものとな
る。
In general-purpose circuit blocks such as the above-described circuit blocks such as a microprocessor or a memory,
There is little need to make that logical modification. Therefore, the dummy cell may be omitted for such a general-purpose circuit block. In other words, the part that performs the special operation as the custom LSI is realized by a logic circuit that constitutes the peripheral circuits of the microprocessor and the memory. The logic circuit is a standard cell having a small circuit scale, and each of the logic cells has its own unique function. This is because it is common to perform logical processing. Therefore, the logic modification or change is often performed by the logic change in the peripheral logic circuit portion. Therefore, a dummy cell is arranged adjacent to the standard cell corresponding to the SSI or MSI similarly to the above poly cell type. In practice, however, it can be handled.

【0028】このようなビルディング・ブロック型の半
導体集積回路装置においても上記のようなPTLを用い
たダミーセルと、上記FIB技術との組み合わせによ
り、小さな回路規模により効率よく論理修正が可能なダ
ミーセルを備えたスタンダード・セル方式による半導体
集積回路装置を得ることができる。
Such a building block type semiconductor integrated circuit device also includes a dummy cell using the above-described PTL and a dummy cell capable of efficiently modifying the logic with a small circuit scale by combining the above-mentioned FIB technology. A semiconductor integrated circuit device using the standard cell method can be obtained.

【0029】上記標準セルは、CMOS回路により構成
される。このように標準セルとしてCMOS回路を用い
た場合には、既存の回路設計資産を有効に活用すること
ができる。つまり、スタンダード・セル方式は、フルカ
スタムLSIを設計・製造する際においても、予め設計
してあるセルを組み合わせて回路設計を行うものであ
り、そのセルをそのまま不特定多数のユーザーが利用で
きるように整備・標準化したという経過があり、標準セ
ルとしての豊富な実績があるからである。
The standard cell is constituted by a CMOS circuit. When a CMOS circuit is used as a standard cell as described above, existing circuit design resources can be effectively used. In other words, in the standard cell system, even when designing and manufacturing a full custom LSI, a circuit is designed by combining previously designed cells, and the cells can be used as is by an unspecified number of users. This is because they have been developed and standardized, and have a wealth of experience as standard cells.

【0030】上記の実施例から得られる作用効果は、下
記の通りである。すなわち、 (1) あらかじめ特定の論理機能が設計されてなる複
数通りの標準セルを用い、その配置と標準セル間の接続
を行う配線の設計により所望のディジタル信号処理を行
うための信号処理回路を実現してなるスタンダード・セ
ル方式の半導体集積回路装置において、標準セルの間に
適宜に論理修正のために用いられるダミーセルを設け、
かかるダミーセルとしてトランスファゲートMOSFE
Tにおけるソース−ドレイン経路の一方と、ゲートを入
力とし、上記ソース−ドレイン経路の他方を出力側とす
るパストランジスタロジック(PTL)の複数を用いる
ことにより、1つのPTL回路でも多様な論理回路を実
現できるため、小さな回路規模により効率よく、しかも
適用範囲の広い論理修正が可能になるという効果が得ら
れる。
The functions and effects obtained from the above embodiment are as follows. (1) A signal processing circuit for performing a desired digital signal processing by using a plurality of types of standard cells in which specific logic functions are designed in advance, and by designing the layout and wiring for connecting the standard cells. In a standard cell type semiconductor integrated circuit device to be realized, dummy cells used for logic correction are appropriately provided between the standard cells,
The transfer gate MOSFE is used as such a dummy cell.
By using a plurality of pass-transistor logics (PTLs) having one of the source-drain paths and the gate as an input and the other of the source-drain paths as an output at T, a single PTL circuit can realize various logic circuits. Since it can be realized, there is obtained an effect that a logical modification with a small circuit scale and a wide application range can be efficiently performed.

【0031】(2) 上記パストランジスタロジックを
構成する基本単位論理を直列に多段構成に接続してなる
複数のNチャンネル型MOSFETと、かかるNチャン
ネル型MOSFETによる回路網の出力部に、上記Nチ
ャンネル型MOSFETのゲート,ソース間のしきい値
電圧によるレベル低下を補うPチャンネル型MOSFE
Tと、かかるPチャンネル型MOSFETのゲートに出
力端子が結合され、上記出力部の信号が入力に供給され
た第1のCMOSインバータ回路と、上記信号部の信号
が入力に供給され、その出力端子から出力信号を送出す
る第2のCMOSインバータ回路からなる出力回路を設
けることにより、CMOSレベルでの信号処理が行われ
るので低消費電力化を図ることができるという効果が得
られる。
(2) A plurality of N-channel MOSFETs in which basic unit logics constituting the pass transistor logic are connected in series and in a multistage configuration, and the N-channel MOSFET is connected to an output portion of a circuit network including the N-channel MOSFETs. P-channel type MOSFET that compensates for level drop due to threshold voltage between gate and source of MOSFET
T, a first CMOS inverter circuit having an output terminal coupled to the gate of the P-channel type MOSFET and having the input of the signal of the output unit supplied thereto, and an output terminal of the first CMOS inverter circuit having the signal of the signal unit supplied thereto. By providing an output circuit composed of a second CMOS inverter circuit for transmitting an output signal from the CMOS, signal processing at the CMOS level is performed, so that the effect of reducing power consumption can be obtained.

【0032】(3) 上記ダミーセルのパストランジス
タロジックを構成するMOSFETに対する接続を行う
配線層を最上部の配線層により形成することにより、開
発過程ではFIB技術による論理修正の検証が可能とな
り、最終製品では最上層の配線マスクの変更のみで上記
論理修正を行った半導体集積回路装置を得ることがで
き、設計製造の時間短縮化が可能になるという効果が得
られる。
(3) By forming a wiring layer for connecting to the MOSFET constituting the pass transistor logic of the dummy cell with the uppermost wiring layer, it is possible to verify the logic correction by the FIB technique in the development process, and to obtain a final product. Thus, a semiconductor integrated circuit device in which the above-described logic correction is performed can be obtained only by changing the wiring mask of the uppermost layer, and the effect of shortening the time for designing and manufacturing can be obtained.

【0033】(4) 上記標準セルとしてCMOS回路
を用いことにより、標準セルとして豊富な実勢のある回
路を有効に利用できるという効果が得られる。
(4) By using a CMOS circuit as the standard cell, it is possible to effectively use a wide variety of circuits as standard cells.

【0034】以上本発明者よりなされた発明を実施例に
基づき具体的に説明したが、本願発明は前記実施例に限
定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種
々変更可能であることはいうまでもない。例えば、パス
トランジスタロジックの出力部には、CMOSインバー
タ回路のみを配置するものであってもよい。この場合、
かかるCMOSインバータ回路の入力ハイレベルに上記
レベル低下があることによってPチャンネル型MOSF
ETがウィークリィにオン状態となり、CMOSインバ
ータ回路の消費電流が大きくなるが、ダミーセルが使用
される個所は、それほど多くはならないから全体として
は問題ない。
Although the invention made by the inventor has been specifically described based on the embodiments, the invention of the present application is not limited to the above embodiments, and various modifications can be made without departing from the gist of the invention. Needless to say. For example, only the CMOS inverter circuit may be arranged at the output part of the pass transistor logic. in this case,
Due to the above-mentioned level drop in the input high level of the CMOS inverter circuit, the P-channel type MOSF
ET is turned on weekly, and the current consumption of the CMOS inverter circuit increases. However, the number of places where the dummy cells are used is not so large, so there is no problem as a whole.

【0035】そして、上記Pチャンネル型MOSFET
のサイズを小さく形成すれば上記電流を最小に抑えるこ
とができるからである。上記標準セル間に適宜に設けら
れるダミーセルは、その全てが常に使用されるというも
のではなく、使用しないダミーセルに設けられた上記C
MOSインバータ回路に対して、ロウレベルが入力され
るように入力端子の配線を接続しておけば、そこでの上
記のような電流が流れることを防止できる。この発明
は、スタンダード・セル方式の半導体集積回路装置に広
く利用できるものである。
Then, the P-channel MOSFET
This is because the above current can be suppressed to a minimum if the size is reduced. The dummy cells appropriately provided between the standard cells are not always used, and the C cells provided in unused dummy cells are not always used.
If the wiring of the input terminal is connected to the MOS inverter circuit so that a low level is input, it is possible to prevent the above-described current from flowing there. The present invention can be widely used for a standard cell type semiconductor integrated circuit device.

【0036】[0036]

【発明の効果】本願において開示される発明のうち代表
的なものによって得られる効果を簡単に説明すれば、下
記の通りである。すなわち、あらかじめ特定の論理機能
が設計されてなる複数通りの標準セルを用い、その配置
と標準セル間の接続を行う配線の設計により所望のディ
ジタル信号処理を行うための信号処理回路を実現してな
るスタンダード・セル方式の半導体集積回路装置におい
て、標準セルの間に適宜に論理修正のために用いられる
ダミーセルを設け、かかるダミーセルとしてトランスフ
ァゲートMOSFETにおけるソース−ドレイン経路の
一方と、ゲートを入力とし、上記ソース−ドレイン経路
の他方を出力側とするパストランジスタロジック(PT
L)の複数を用いることにより、1つのPTL回路でも
多様な論理回路を実現できるため、小さな回路規模によ
り効率よく、しかも適用範囲の広い論理修正が可能にな
る。
The effects obtained by typical ones of the inventions disclosed in the present application will be briefly described as follows. That is, a signal processing circuit for performing a desired digital signal processing is realized by using a plurality of types of standard cells in which specific logic functions are designed in advance, and designing the layout and wiring for connecting the standard cells. In a standard cell type semiconductor integrated circuit device, dummy cells used for logic correction are appropriately provided between the standard cells, and one of the source-drain paths in the transfer gate MOSFET and the gate are input as such dummy cells, A pass transistor logic (PT) having the other of the source-drain paths as the output side
By using a plurality of L), various logic circuits can be realized even with one PTL circuit, so that a small circuit scale can be used more efficiently and a wide range of logic correction is possible.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】この発明に係るスタンダード・セル方式の半導
体集積回路装置に搭載されるダミーセルを構成するパス
トランジスタロジックの一実施例を示す回路図である。
FIG. 1 is a circuit diagram showing one embodiment of a pass transistor logic constituting a dummy cell mounted on a standard cell type semiconductor integrated circuit device according to the present invention.

【図2】この発明に係るスタンダード・セル方式の半導
体集積回路装置に搭載されるダミーセルを構成するパス
トランジスタロジックの他の一実施例を示す回路図であ
る。
FIG. 2 is a circuit diagram showing another embodiment of the pass transistor logic constituting the dummy cell mounted on the standard cell type semiconductor integrated circuit device according to the present invention.

【図3】上記図2に示されたβセルにより実現できる論
理回路を説明するための回路図である。
FIG. 3 is a circuit diagram for explaining a logic circuit that can be realized by the β cell shown in FIG. 2;

【図4】この発明に係るスタンダード・セル方式の半導
体集積回路装置に搭載されるダミーセルを構成するパス
トランジスタロジックの更に他の一実施例を示す回路図
である。
FIG. 4 is a circuit diagram showing still another embodiment of the pass transistor logic constituting the dummy cell mounted on the standard cell type semiconductor integrated circuit device according to the present invention.

【図5】この発明に係る半導体集積回路装置の一実施例
を示す概略ブロック図である。
FIG. 5 is a schematic block diagram showing one embodiment of a semiconductor integrated circuit device according to the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

Q1〜Q14…MOSFET、EX…排他的論理和回
路、AND…アンドゲート回路、OR…オアゲート回
路、NAND…ナンドゲート回路、NOR…ノアゲート
回路。
Q1 to Q14: MOSFET, EX: Exclusive OR circuit, AND: AND gate circuit, OR: OR gate circuit, NAND: NAND gate circuit, NOR: NOR gate circuit.

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 あらかじめ特定の論理機能が設計されて
なる複数通りの標準セルを用い、かかる標準セルの配置
と及びその接続を行う配線の設計により所望のディジタ
ル信号処理を行うための信号処理回路を実現してなるス
タンダード・セル方式の半導体集積回路装置において、 上記標準セルの論理修正のために用いられるダミーセル
を上記標準セルの間に適宜に設けるとともに、かかるダ
ミーセルとして並列形態にされた一対のトランスファゲ
ートMOSFETにおけるソース−ドレイン経路のそれ
ぞれ一方を第11、第2の入力とし、ゲートを第3の入
力として相補信号を供給し、上記ソース−ドレイン経路
の他方を共通接続して出力信号を得るという基本単位論
理を含むパストランジスタロジックの複数で構成してな
ることを特徴とする半導体集積回路装置。
1. A signal processing circuit for performing desired digital signal processing by using a plurality of types of standard cells in which specific logic functions are designed in advance, and arranging the standard cells and designing wiring for connecting the standard cells. In a standard cell type semiconductor integrated circuit device, a dummy cell used for correcting the logic of the standard cell is appropriately provided between the standard cells, and a pair of the dummy cells are arranged in parallel. One of the source-drain paths in the transfer gate MOSFET is used as the eleventh and second inputs, the gate is used as the third input to supply a complementary signal, and the other of the source-drain paths is commonly connected to obtain an output signal. It consists of a plurality of pass transistor logics including the basic unit logic The semiconductor integrated circuit device.
【請求項2】 上記パストランジスタロジックは、上記
基本単位論理を直列に多段構成に接続してなる複数のN
チャンネル型MOSFETと、かかるNチャンネル型M
OSFETによる回路網の出力部に設けられ、上記Nチ
ャンネル型MOSFETのゲート,ソース間のしきい値
電圧によるレベル低下を補うPチャンネル型MOSFE
Tと、かかるPチャンネル型MOSFETのゲートに出
力端子が結合され、上記出力部の信号が入力に供給され
た第1のCMOSインバータ回路と、上記信号部の信号
が入力に供給され、その出力端子から出力信号を送出す
る第2のCMOSインバータ回路からなる出力回路が設
けられるものであることを特徴とする請求項1の半導体
集積回路装置。
2. The pass transistor logic according to claim 1, wherein said basic unit logic is connected in series in a multistage configuration.
Channel MOSFET and such an N-channel M
A P-channel MOSFET, which is provided at an output of an OSFET circuit network and compensates for a level drop caused by a threshold voltage between the gate and the source of the N-channel MOSFET.
T, a first CMOS inverter circuit having an output terminal coupled to the gate of the P-channel type MOSFET and having the input of the signal of the output unit supplied thereto, and an output terminal of the first CMOS inverter circuit having the signal of the signal unit supplied thereto. 2. The semiconductor integrated circuit device according to claim 1, further comprising an output circuit including a second CMOS inverter circuit for transmitting an output signal from the second integrated circuit.
【請求項3】 上記ダミーセルのパストランジスタロジ
ックを構成するMOSFETに対する接続を行う配線層
は、最上部の配線層により形成されるものであることを
特徴とする請求項1又は請求項2の半導体集積回路装
置。
3. The semiconductor integrated circuit according to claim 1, wherein a wiring layer for connecting the dummy cell to a MOSFET constituting a pass transistor logic is formed by an uppermost wiring layer. Circuit device.
【請求項4】 上記標準セルは、CMOS集積回路によ
り構成されてなるものであることを特徴とする請求項
1、請求項2又は請求項3の半導体集積回路装置。
4. The semiconductor integrated circuit device according to claim 1, wherein said standard cell is constituted by a CMOS integrated circuit.
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