JPH10256479A - 半導体装置 - Google Patents

半導体装置

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JPH10256479A
JPH10256479A JP9057730A JP5773097A JPH10256479A JP H10256479 A JPH10256479 A JP H10256479A JP 9057730 A JP9057730 A JP 9057730A JP 5773097 A JP5773097 A JP 5773097A JP H10256479 A JPH10256479 A JP H10256479A
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    • G01RMEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
    • G01R31/00Arrangements for testing electric properties; Arrangements for locating electric faults; Arrangements for electrical testing characterised by what is being tested not provided for elsewhere
    • G01R31/28Testing of electronic circuits, e.g. by signal tracer
    • G01R31/2851Testing of integrated circuits [IC]
    • G01R31/2884Testing of integrated circuits [IC] using dedicated test connectors, test elements or test circuits on the IC under test
    • GPHYSICS
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    • G01RMEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
    • G01R31/00Arrangements for testing electric properties; Arrangements for locating electric faults; Arrangements for electrical testing characterised by what is being tested not provided for elsewhere
    • G01R31/28Testing of electronic circuits, e.g. by signal tracer
    • G01R31/282Testing of electronic circuits specially adapted for particular applications not provided for elsewhere
    • G01R31/2831Testing of materials or semi-finished products, e.g. semiconductor wafers or substrates

Abstract

(57)【要約】 【課題】 サイズの異なる複数種類のICチップを、そ
れぞれ複数個同一ウェハー上に配置し、これらチップ測
定用の治具の電源供給位置を変えずに治具を共用化する
ことを可能にする。 【解決手段】 同一基板上に形成されたチップサイズの
異なる各ICチップ内に複数個の外部回路接続用ランド
が、ウェハ上のダイシングライン以外で、マトリックス
状に、または正三角形状に配置されており、各ICチッ
プ内の電源供給用ランドはそれぞれチップの中心からの
位置関係が統一されている。また、各チップを個片に切
断するための、ダイシングラインを挟んだ部分では、ラ
ンド間のピッチを通常の整数倍としている。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体装置に関
し、特に単一の半導体基板上に複数のサイズのICチッ
プを形成した高密度実装用ICウェハを有する半導体装
置に関する。
【0002】
【従来の技術】図4は、従来の一実施形態例を説明する
平面図、図5は、従来の第2の実施形態例を説明する平
面図である。
【0003】従来のICチップは、特開平4−3731
31号公報に示されているように、図4に示す外部回路
接続用ランド(以下、ランドと略称する)がICチップ
の周辺部にのみ設けられたものと、図5に示すICチッ
プのほぼ全面にわたって所定のピッチ寸法でマトリック
ス状に配置されたもの等が知られている。
【0004】図4に示すものは、ICチップ101の表
面に複数個のランド102が配設されているが、各ラン
ド102は、ICチップ101の周辺部に設けられてい
る。このタイプでは、ICチップが複数のチップサイズ
を有する場合、各ランドのチップ中心からの位置関係は
統一されていない。
【0005】また、図5に示すものは、ランドの配置が
規格化されているので、各ランドのチップ中心からの位
置関係は統一されている。したがって、複数のチップサ
イズを有するウェハを製造しようとする場合、マスクや
プローブカードの共用化を考慮すると、図5の方式が優
れていることになる。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】従来技術における第1
の問題点は、複数のチップサイズを単一のウェハに形成
し、機能検査を行う際に、検査治具の完全な共有化が困
難であったことである。その理由は、検査治具(以下、
プローブカードという。)の電源供給位置はハードで決
定されることが多く、処理装置側の設定で簡単には変更
できないので、電源供給位置が隣接する他のチップにプ
ローブが及んだ場合、隣接チップにも電流が流れてしま
うことによる。この場合正しい検査結果が得られない。
【0007】第2の問題点は、チップを個片に切断する
場合において、ランドのピッチが、小さい場合、ダイシ
ングラインの形成が困難となることである。その理由
は、ダイシングの切り代分、例えばダインシングソーの
刃の厚さプラスずれ分または、レーザーカットの場合、
レーザービームの直径が、ランド間隔を制限するからで
ある。特に複数の種類のチップを同一ウェハ上に配置す
る場合、通常よりもダイシングが困難であるため、十分
な切り代が必要とされる。
【0008】近年、半導体集積回路の製造に使用される
半導体基板は、大型化が進み、量産で12インチ程度ま
で使用されるようになってきている。一方で、特に論理
回路用のLSIでは、多品種少量生産化が進んでおり、
生産量の少ないものは半導体基板1枚分でも生産過剰と
なって大半を廃棄せざるを得ないこともある。
【0009】この対策として図1に示すように、1枚の
半導体基板にチップサイズの異なるチップを複数の種類
形成することができれば、無駄のない生産が可能となる
わけであるが、チップの無駄が出ない反面、ウェハー状
態での機能試験時には、各ICチップのランド配置に合
わせた検査治具を用意したり、治具を何度も交換する等
生産性が悪くなるので、その対策が必要であった。
【0010】
【課題を解決するための手段】本発明の半導体装置は、
複数の種類のチップサイズを有するICチップを単一の
ウェハ基板上に配列し、かつ各ICチップ内に複数個の
外部回路接続用ランドが前記ICチップのほぼ全面にわ
たって統一されたピッチでマトリックス状または、隣り
合うランドが正三角形状に配置されたウェハにおいて、
各ICチップ内の電源供給用ランドのチップ中心からの
位置関係が統一されていることを特徴とする。
【0011】さらに、チップを個片に切断するためのダ
イシングラインを挟んだ部分では、ランドのピッチを通
常の整数倍としたことを特徴とする。
【0012】本発明の半導体装置では、電源供給用のラ
ンドのチップ中心からの位置関係がチップサイズによら
ず統一化されているので、チップ中心と測定治具の中心
を合わせることにより、どのチップでも正しく電源供給
が可能となる。
【0013】測定治具の電源供給位置は、処理装置側の
設定で簡単には、変更できないが、本発明では、変更の
必要がない。
【0014】また、ダイシングライン部分でランドのピ
ッチを通常のピッチの整数倍にとることでランドのピッ
チが密になっても安定なダイシングラインの形成が可能
となる。
【0015】
【発明の実施の形態】次に、本発明の半導体装置の一実
施形態例について図面を参照して説明する。図1は、本
発明の半導体装置の一実施形態例を説明するための、
小,大,中3種のICチップを搭載したウェーハの平面
図、図2は、図1のICチップの部分拡大平面図であ
る。
【0016】図1を参照すると、本発明の最良の実施の
形態は、ウェハ11上に、3種の異なるチップサイズを
有するICチップ(小)12,(大)13,(中)14
が各々複数個形成されている。
【0017】図2に示すように、各ICチップ12,1
3,14の表面には、所要の素子が形成され、かつ全面
を絶縁膜で被覆した上で、この絶縁膜の一部に導電膜を
露呈させて複数個の外部回路接続用の信号用ランド15
が配設されている。また同時に各ICチップのチップ中
心から同じ位置関係に、十文字状に、例えば、最小のチ
ップ12の場合その中心に合わせた十文字状の電源供給
用ランド16を複数個配設する。なお、最小のチップ1
2のランド15,16についてのみ参照番号を付し、他
のチップのランドには付すのを省略した。これらのラン
ド15,16には、半田等を鍍金してバンプを形成する
が、各ランドはICチップの表面のほぼ全面にわたって
等ピッチでマトリックス状に配列されている。このラン
ドの配置は、ウェハの段階において個々のチップを区画
するダイシングライン部17以外では、等ピッチとなる
よう形成されている。ダイシングライン部17では、ラ
ンド間のピッチを他の部分の整数倍に拡げて配置してい
る。
【0018】図1、図2を参照してさらに詳細に説明す
る。
【0019】本例では、1枚の半導体基板11上に小チ
ップ12、大チップ13、中チップ14が配置されてい
る。ICチップ12〜14は、矩形の個片として形成さ
れている。その表面部には所要の素子が形成され、かつ
全面を絶縁膜で被覆した上で、この絶縁膜の一部に導電
膜を露呈させて複数個(本例の小チップの場合72個)
の外部回路接続用ランド15と、各ICチップ12〜1
4のチップ中心から統一された位置関係で複数個(本例
の場合は、中心に1個と十文字に8個の計9個)の電源
供給用ランド16とを配設する。これらのランド15,
16には、半田等を鍍金してバンプを形成するが、各ラ
ンド15,16は個々のチップを区画するダイシングラ
イン部17以外では、マトリックス状で等ピッチとなる
ように、またダイシングライン部分17では、ランド間
のピッチを他の部分の整数倍に拡げて配置している。
【0020】本例では、小チップ12は前述72個+9
個計、81個のランドを、大チップ13は225個(2
16個+9個)のランドを、中チップ14は169個
(160個+9個)のランドを有しており、ランド間の
ピッチを200μm(=0.2mm)とし、ダイシング
ライン部では、2ピッチ分に拡大しているとすると小チ
ップ12の寸法は、2×2mm角、大チップ13の寸法
は、3.2×3.2mm角、中チップ14の寸法は、
2.8×2.8mm角となる。
【0021】機能検査用のプローブカードは、大チップ
13に合わせて形成すれば、電源端子は3種のチップと
も同じであるので、その位置は、同じにすることができ
る。その他の端子が隣接する他のチップにまでプローブ
が及ぶ場合、処理装置側の設定でオープンまたはハイイ
ンピーダンス状態にしておくこととする。ダイシングラ
イン17上にプローブが来る場合には、その部分にラン
ドはないので、特に処理装置側の設定で、オープンまた
はハイインピーダンス状態にする必要はない。
【0022】次に、第2の実施形態例について説明す
る。
【0023】図3は、第2の実施形態例の、ICチップ
の部分拡大平面図である。
【0024】本形態例については、第1実施形態例の場
合の図1に相当する図は、同様となるので省略されてい
る。本実施形態においても同様に、ウェハ上に、3種の
異なるチップサイズを有するICチップ(小)22,
(大)23,(中)24が各々複数個形成されている。
【0025】各ICチップ22,23,24の表面に
は、所要の素子が形成され、かつ全面を絶縁膜で被覆し
た上で、この絶縁膜の一部に導電膜を露呈させて複数個
(本例の最小チップ22の場合、124個)の外部回路
接続用の信号用ランド25を配設する。また同時に各I
Cチップ22,23,24のチップ中心から同じ位置関
係に複数個(本例の各チップ22,23,24いずれの
場合もその中心に合わせた十文字状に12個)の電源供
給用ランド26を配設する。これらのランド25,26
には、半田等を鍍金してバンプを形成するが、各ランド
はICチップの表面のほぼ全面にわたって等ピッチで、
隣り合うランドが、正三角形状に配列されている。この
ランドの配置は、図3に示すように、ウェハの段階にお
いて個々のチップを区画するダイシングライン部27以
外では、等ピッチとなるよう形成されている。ダイシン
グライン部27では、ランド間のピッチを他の部分の整
数倍に拡げて配置している。
【0026】第1の実施形態例と同様、小,大,中の3
種類のチップ22,23,24を同一基板上に配置して
いるわけであるが、本例では、端子間の密度を第1の実
施形態例よりも大きくする目的で、隣接ランドを正三角
形となる配置としている。この配置の場合、ランド間隔
を第1の実施形態例と同じ200μm(=0.2mm)
とすると、 0.2×0.2 : 0.2×√3×0.2×0.5 =0.04 : 0.0346 =1.156 : 1 の比率で1ランドの占める面積が小さくできるので、第
1の実施形態例に比べ、15%程度チップサイズを小さ
くすることができる。
【0027】
【発明の効果】第1の効果は、複数の種類のチップサイ
ズのチップを単一のウェハ上に配置した場合でも、検査
治具の共用化が可能となり、連続測定が可能となる。そ
の理由は、検査装置の電源供給位置を変更しなくても、
各チップに、正しく電源供給が可能であるからである。
【0028】第2の効果は、複数の種類のチップサイズ
のチップを単一のウェハ上に配置した場合でも、第1の
効果を維持しつつ、安定なダイシングが可能となる。そ
の理由は、ダイシングライン部でランド間のピッチを整
数倍に拡大しているので、必要なダイシング幅をランド
間のピッチが狭くなってもとることができるからであ
る。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の半導体装置の一実施形態例を説明する
ための、小,大,中3種のICチップを搭載したウェー
ハの平面図である。
【図2】図1のICチップの部分拡大平面図である。
【図3】第2の実施形態例の、ICチップの部分拡大平
面図である。
【図4】従来の一実施形態例を説明する平面図である。
【図5】従来の第2の実施形態例を説明する平面図であ
る。
【符号の説明】
11 ウェハ 12,22 ICチップ(小) 13,23 ICチップ(大) 14,24 ICチップ(中) 15,25 信号用ランド 16,26 電源供給用ランド 17,27 ダイシングライン 101,201 ICチップ 102,202 外部回路接続用ランド

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 複数の種類のチップサイズを有するIC
    チップが単一のウェハ基板上に配列され、かつ前記各I
    Cチップ内に複数個の外部回路接続用ランドが前記IC
    チップのほぼ全面にわたって統一されたピッチで、マト
    リックス状に配置された高密度実装用ICウェハを有す
    る半導体装置において、 前記各ICチップ内の電源供給用ランドのチップ中心か
    らの位置関係が統一されていることを特徴とする半導体
    装置。
  2. 【請求項2】 さらに、チップを個片に切断するための
    ダイシングラインを挟んだ部分では、ランドのピッチ
    が、通常の整数倍であることを特徴とする請求項1記載
    の半導体装置。
  3. 【請求項3】 複数の種類のチップサイズを有するIC
    チップが単一のウェハ基板上に配列され、かつ前記各I
    Cチップ内に複数個の外部回路接続用ランドが前記IC
    チップのほぼ全面にわたって統一されたピッチで、隣り
    合うランドが正三角形状に配置された高密度実装用IC
    ウェハを有する半導体装置において、 前記各ICチップ内の電源供給用ランドのチップ中心か
    らの位置関係が統一されていることを特徴とする半導体
    装置。
  4. 【請求項4】 さらに、チップを個片に切断するための
    ダイシングラインを挟んだ部分では、ランドのピッチ
    が、通常の整数倍であることを特徴とする請求項3記載
    の半導体装置。
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